JP2003222881A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置及びその製造方法

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JP2003222881A JP2002364403A JP2002364403A JP2003222881A JP 2003222881 A JP2003222881 A JP 2003222881A JP 2002364403 A JP2002364403 A JP 2002364403A JP 2002364403 A JP2002364403 A JP 2002364403A JP 2003222881 A JP2003222881 A JP 2003222881A
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台 圭 朴
Sung Hun Song
省 勳 宋
Sung Woon Kim
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 支柱スペーサ付カラーフィルタの構造または
材料を変更することによって画面品質を向上させること
ができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 透明性の絶縁基板を提供する段階と、前
記基板上にブラックマトリックスを形成した後に、前記
ブラックマトリックスの全面上にカラーフィルタ層を形
成する段階と、前記カラーフィルタ層上にITO層また
はオーバーコーティング層を形成する段階と、前記IT
O層またはオーバーコーティング層上に支柱スペーサパ
ターンを形成する段階と、前記基板の全面上にポリマー
分散液晶で液晶層を形成する段階とを含むことを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関するものであり、より詳細には支柱ス
ペーサ付カラーフィルタの構造または材料を変更するこ
とによって画面品質を向上させることができる液晶表示
装置及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般的に現在使用されている支柱スペー
サカラーフィルタを具備した従来技術による液晶表示装
置及びその製造方法は、図1に示すように、グラス基板
1上にブラックマトリックス3を形成してR、G、B顔
料樹脂でカラーフィルタ5を形成した後に、TNモード
などのように垂直電界を利用するモードではITO層
(図示せず)を、FFSまたはIPSなどのように水平
電界を利用するモードではオーバーコーティング層(図
示せず)を形成する。その次に、ITO層やオーバーコ
ーティング層上にフォトレジストを塗布してパターニン
グされたマスクを使用して露光させて支柱スペーサ7を
形成した(例えば、特許文献1参照。)。
【0003】このように製造された従来技術による支柱
スペーサを有するカラーフィルタを具備した液晶表示装
置においては、パターニングされた支柱スペーサの間隔
があまりに広く、大きさがあまりに小さいので、一定部
分で支柱スペーサの破損や欠陥が生じるとその部分のセ
ルギャップ(cell gap)が他の部分のセルギャ
ップと相違してしまう。このようなセルギャップの差が
パネル上ではむらになったように見える不良が発生する
という問題点があった。
【0004】従来では上記の解決のために、図2の
(A)に示したように、基板10上のブラックマトリッ
クス13上の全体領域上に支柱スペーサ17を形成する
方案が提案されたことがあった。またこの時、図2の
(B)及び(C)に示したように、ラビング方向と液晶
注入口の方向を考慮して支柱スペーサ17の形成位置を
変更することができた。
【0005】しかし、上記のような従来技術による液晶
表示装置及びその製造方法においては次のような問題点
があった。従来技術においては、PIコーティングやラ
ビング工程で工程進行方向によって支柱スペーサを一側
方向に設計するとしても支柱スペーサの面積が非常に大
きいために工程進行時に段差によるスクラッチやコーテ
ィング不良が生じることがあり得るという問題点があっ
た。また、液晶注入時に少なくとも一側方向には支柱ス
ペーサによりふさがっているために液晶の流入での流れ
が容易でないという問題点もあった。
【0006】
【特許文献1】特開2001−159707号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上記
従来の液晶表示装置及びその製造方法における問題点に
鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、液晶の
流動を円滑にすることができるように四つの辺に溝があ
る支柱スペーサを適用した液晶表示装置及びその製造方
法を提供することにある。
【0008】また、本発明の他の目的は、ポリマーと液
晶が混合されたポリマー分散型液晶(PDLC)を適用
してPIコーティング不良とスクラッチとを防止するこ
とができ、製造工程数を縮小することができる液晶表示
装置及びその製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
になされた本発明による液晶表示装置の製造方法は、透
明性の絶縁基板を提供する段階と、前記基板上にブラッ
クマトリックスを形成した後に、前記ブラックマトリッ
クスの全面上にカラーフィルタ層を形成する段階と、前
記カラーフィルタ層上にITO層またはオーバーコーテ
ィング層を形成する段階と、前記ITO層またはオーバ
ーコーティング層上に支柱スペーサパターンを形成する
段階と、前記基板の全面上にポリマー分散液晶で液晶層
を形成する段階とを含むことを特徴とする。
【0010】また、上記目的を達成するためになされた
本発明による液晶表示装置は、透明性の絶縁基板と、前
記基板上に順に形成されたブラックマトリックスとカラ
ーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に形成された
ITO層またはオーバーコーティング層と、前記ITO
層またはオーバーコーティング層上に形成された支柱ス
ペーサパターンと、前記基板の全面上に形成された液晶
層とを含んで構成されることを特徴とする。
【0011】また、上記目的を達成するためになされた
本発明による液晶表示装置の製造方法は、透明性の絶縁
基板を提供する段階と、前記基板上に複数個のブラック
マトリックスを形成した後に、前記複数個のブラックマ
トリックスの間の同一平面上に複数個のカラーフィルタ
層を形成する段階と、前記ブラックマトリックス及びカ
ラーフィルタ層上に支柱スペーサパターンを形成する段
階と、前記基板の全面上にポリマー分散液晶で液晶層を
形成する段階とを含むことを特徴とする。
【0012】また、上記目的を達成するためになされた
本発明による液晶表示装置は、透明性の絶縁基板と、前
記基板上に、同一平面上に形成されたブラックマトリッ
クス及びカラーフィルタ層と、前記ブラックマトリック
ス及びカラーフィルタ層上に形成された支柱スペーサパ
ターンと、前記基板の全面上にポリマー分散液晶で形成
された液晶層とを含んで構成されることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
及びその製造方法を添付した図面を参照して詳細に説明
する。本発明の第1の実施例による液晶表示装置の製造
方法は、図3に示すように、ガラス材質のような透明性
の絶縁基板100上に樹脂またはクロム(Cr)等でブ
ラックマトリックス110(Black Matri
x)を形成した後に、ブラックマトリックス110上に
レッド120aとグリーン120b及びブルー120c
樹脂で構成されたカラーフィルタ層120を形成する。
【0014】その次に、カラーフィルタ層120の上面
上にITO層またはオーバーコーティング層130を形
成する。この時、カラーフィルタ層120上にITO層
130を形成する場合は、垂直電界を使用するモード
(例;TNモード)であり、オーバーコーティング層1
30を形成する場合は、水平電界を使用するモード
(例;FFSまたはIPSモード)である。
【0015】次いで、ITO層/オーバーコーティング
層130上にフォトレジストを形成した後に、フォトレ
ジストをパターニングされたマスクを使用して露光工程
を実施して支柱スペーサ140を形成する。この時、支
柱スペーサ140の厚さは約2〜10μmの厚さで形成
する。
【0016】この時、支柱スペーサ140は、図4に示
すように、レッド120a、グリーン120b、及びブ
ルー120c樹脂のカラーフィルタ層の各々をサブピク
セル(sub pixel)であるとする時、サブピク
セルの四つの辺の周囲を囲むような形態で形成する。
【0017】上記のように形成された絶縁基板100の
上面構造は、まるで一つのサブピクセルの四つの辺の中
央部に一定の大きさの溝111が掘られた形状のように
形成し、各辺の溝111が掘られた部分は、支柱スペー
サ140が形成されなかった部分であり、溝111の長
さは1μmからサブピクセルの大きさを越えない範囲ま
でで形成するようにする。
【0018】そして、図面には示さなかったが、絶縁基
板100の全体構造の全面上に液晶を注入して液晶層を
形成した後に、他の別の基板、すなわちスイッチング素
子であるTFTを含む基板と合着する。この時、TFT
を含む基板上にオーバーコーティング層を形成して基板
全体を平坦にすることにより、支柱スペーサの面積が大
きいカラーフィルタにも容易に対応するようにすること
が望ましい。
【0019】また、液晶層としては、ポリマーと液晶が
分散混合されたポリマー分散液晶(PDLC;poly
mer dispersed liquid crys
tal)を使用することが、後続するPI(ポリイミ
ド)コーティング工程やラビング工程時にて発生するか
もしれない段差により生じるPIコーティング不良やス
クラッチを予防することができるために望ましい。ポリ
マー分散液晶(PDLC)はポリマーと液晶が一定割合
で混合されていてPIコーティング及び配向処理をしな
くても液晶を配向及び駆動させることができるためであ
る。
【0020】また、液晶層の形成時にワンドロップフィ
リング(ODF;one dropfilling)方
式を使用することが液晶の流動を円滑にすることがで
き、均一なセルギャップを形成するのに望ましい。
【0021】本発明による液晶表示装置は、透明性の絶
縁基板上にブラックマトリックスと、カラーフィルタ層
と、ITO層またはオーバーコーティング層と、支柱ス
ペーサを含んで構成されている。また、液晶層はワンド
ロップフィリング方式で形成されてポリマーと液晶が一
定割合で混合されているポリマー分散液晶で構成されて
いる。
【0022】また、カラーフィルタ層が具備された基板
(上部基板)は、液晶層を間に置いて、スイッチング素
子とITOまたは透明性の導電膜が形成されている基板
(下部基板)と合着される。特に下部基板の最上層には
平坦化の目的でオーバーコーティング層が形成されてい
て、支柱スペーサの面積が大きいカラーフィルタ層と容
易に対応することができる。
【0023】上記のように構成された液晶表示装置は、
図5に示すように、上部基板100と下部基板90間に
電圧が印加されない場合(A)では、光が散乱して画像
を提示することができないが、電圧が印加された場合
(B)では、ポリマー80内の液晶82らが電界によっ
て特定方向に秩序整然に配列して光を上向きに透過させ
て一定の画像を提示することができるようになる。
【0024】一方、本発明の第2の実施例による液晶表
示装置の製造方法は、図6に示すように、ガラスのよう
な透明性の絶縁基板200上に樹脂またはクロム(C
r)などを使用してブラックマトリックス210を形成
し、ブラックマトリックス210を間に置いてレッド2
20aとグリーン220b及びブルー220c樹脂で構
成されたカラーフィルタ層220をブラックマトリック
ス210と同一平面上に形成する。
【0025】次いで、垂直電界を利用するモードでは、
ブラックマトリックス210及びカラーフィルタ層22
0の上面上にITOなどのような透明性の導電膜230
を形成する。しかし、水平電界を利用するモードでは前
記のような透明性の導電膜230を形成しない。
【0026】次に、透明性の導電膜230上に配向膜の
機能を兼備した感光性ポリマーを塗布した後に、ハーフ
トーンマスク250(half tone mask)
で露光工程を実施して支柱スペーサ240を形成する。
支柱スペーサ240は材料の特性上、配向膜とオーバー
コーティング層との役割を兼ねるようになる。
【0027】その他の工程は第1の実施例による液晶表
示装置の製造方法と同一であるために詳細な説明は省略
する。
【0028】また、本発明の第2の実施例による液晶表
示装置は本発明の第1の実施例による液晶表示装置とブ
ラックマトリックスとカラーフィルタ層との位置のみが
相異するだけであり、その他の構造及び作用は同一であ
るためにここでの詳細な説明は省略する。
【0029】尚、本発明は、上述の実施例に限られるも
のではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内
で多様に変更実施することが可能である。
【0030】
【発明の効果】上述したようになされた本発明による液
晶表示装置及びその製造方法において、セルギャップが
均一な支柱スペーサ付カラーフィルタを適用してポリマ
ー分散液晶(PDLC)を利用してPIコーティング及
びラビング工程を省略することができ、ワンドロップフ
ィリング(ODF)技術を利用して液晶注入時間を減ら
すことができる。したがって、液晶表示装置の画面品位
の向上と製造工程の段階数の減少及び原価節減の効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術による液晶表示装置及びその製造方法
を説明するための平面図である。
【図2】従来技術による液晶表示装置及びその製造方法
を説明するための平面図である。
【図3】本発明の第1の実施例による液晶表示装置及び
その製造方法を説明するための断面図である。
【図4】本発明の第1の実施例による液晶表示装置及び
その製造方法を説明するための平面図である。
【図5】本発明の第1の実施例による液晶表示装置及び
その製造方法において、PDLCの駆動原理を説明する
ための断面図である。
【図6】本発明の第2の実施例による液晶表示装置及び
その製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
90 下部基板 100、200 絶縁基板(上部基板) 110、210 ブラックマトリックス 111 溝 120a、220a レッド樹脂 120b、220b グリーン樹脂 120c、220c ブルー樹脂 120、220 カラーフィルタ層 130 ITO層又はオーバーコーティング層 140、240 支柱スペーサ 230 透明性の導電膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宋 省 勳 大韓民國 京畿道 利川市 高潭洞 高潭 寄宿舍 102−1008 (72)発明者 金 成 雲 大韓民國 京畿道 利川市 高潭洞 高潭 寄宿舍 102−1108 Fターム(参考) 2H089 HA04 JA04 LA09 LA11 LA16 LA20 MA03 QA12 QA14 SA17 TA12 TA13 2H091 FA04Y FA35Y FB02 FC23 GA08 GA16 JA02 KA10 LA12 LA16

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明性の絶縁基板を提供する段階と、 前記基板上にブラックマトリックスを形成した後に、前
    記ブラックマトリックスの全面上にカラーフィルタ層を
    形成する段階と、 前記カラーフィルタ層上にITO層またはオーバーコー
    ティング層を形成する段階と、 前記ITO層またはオーバーコーティング層上に支柱ス
    ペーサパターンを形成する段階と、 前記基板の全面上にポリマー分散液晶で液晶層を形成す
    る段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 前記支柱スペーサパターンは、前記カラ
    ーフィルタ層を形成する各々のサブピクセルの四つの辺
    の周囲を囲むように形成し、なおかつそれは、前記各々
    のサブピクセル間の対向する辺の中央部間に一定の大き
    さの溝がなされたような形態にて形成することを特徴と
    する請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記溝の大きさは、1μm以上前記サブ
    ピクセルの大きさ未満で形成することを特徴とする請求
    項2に記載の液晶表示装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記支柱スペーサパターンは、2〜10
    μmの高さで形成することを特徴とする請求項1に記載
    の液晶表示装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記液晶層は、ワンドロップフィリング
    (one−dropfilling)方式で形成するこ
    とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 透明性の絶縁基板と、 前記基板上に順に形成されたブラックマトリックスとカ
    ラーフィルタ層と、 前記カラーフィルタ層上に形成されたITO層またはオ
    ーバーコーティング層と、 前記ITO層またはオーバーコーティング層上に形成さ
    れた支柱スペーサパターンと、 前記基板の全面上に形成された液晶層とを含んで構成さ
    れることを特徴とする液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 前記支柱スペーサパターンは、前記カラ
    ーフィルタ層を形成する各々のサブピクセルの四つの辺
    の周囲を囲むような形態であり、なおかつそれは、前記
    各々のサブピクセル間の対向する辺の中央部間に一定の
    大きさの溝がなされたような形態であることを特徴とす
    る請求項6に記載の液晶表示装置。
  8. 【請求項8】 前記溝の大きさは、1μm以上前記サブ
    ピクセルの大きさ未満であることを特徴とする請求項7
    に記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項9】 前記支柱スペーサパターンは、2〜10
    μmの高さであることを特徴とする請求項6に記載の液
    晶表示装置。
  10. 【請求項10】 透明性の絶縁基板を提供する段階と、 前記基板上に複数個のブラックマトリックスを形成した
    後に、前記複数個のブラックマトリックスの間の同一平
    面上に複数個のカラーフィルタ層を形成する段階と、 前記ブラックマトリックス及びカラーフィルタ層上に支
    柱スペーサパターンを形成する段階と、 前記基板の全面上にポリマー分散液晶で液晶層を形成す
    る段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
  11. 【請求項11】 前記ブラックマトリックス及びカラー
    フィルタ層上に透明性の導電膜を形成する段階をさらに
    含むことを特徴とする請求項10に記載の液晶表示装置
    の製造方法。
  12. 【請求項12】 前記支柱スペーサパターンは、配向機
    能を有する感光性ポリマーで形成することを特徴とする
    請求項10に記載の液晶表示装置の製造方法。
  13. 【請求項13】 前記支柱スペーサパターンは、2〜1
    0μmの高さで形成することを特徴とする請求項10に
    記載の液晶表示装置の製造方法。
  14. 【請求項14】 前記液晶層は、ワンドロップフィリン
    グ方式で形成することを特徴とする請求項10に記載の
    液晶表示装置の製造方法。
  15. 【請求項15】 透明性の絶縁基板と、 前記基板上に、同一平面上に形成されたブラックマトリ
    ックス及びカラーフィルタ層と、 前記ブラックマトリックス及びカラーフィルタ層上に形
    成された支柱スペーサパターンと、 前記基板の全面上にポリマー分散液晶で形成された液晶
    層とを含んで構成されることを特徴とする液晶表示装
    置。
  16. 【請求項16】 前記ブラックマトリックス及びカラー
    フィルタ層上に透明性の導電膜がさらに形成されている
    ことを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置。
  17. 【請求項17】 前記支柱スペーサパターンは、2〜1
    0μmの高さであることを特徴とする請求項15に記載
    の液晶表示装置。
  18. 【請求項18】 前記支柱スペーサパターンは、配向機
    能を有する感光性ポリマーで構成されていることを特徴
    とする請求項15に記載の液晶表示装置。
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