JP2003222880A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2003222880A
JP2003222880A JP2002024300A JP2002024300A JP2003222880A JP 2003222880 A JP2003222880 A JP 2003222880A JP 2002024300 A JP2002024300 A JP 2002024300A JP 2002024300 A JP2002024300 A JP 2002024300A JP 2003222880 A JP2003222880 A JP 2003222880A
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典弘 吉田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device having excellent uniformity of inter-substrate spacing. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device 1 is furnished with color filter layers 18 having first to third color regions 15a to 15c, a plurality of spacers 17 and peripheral edge light shielding layers 16, in which the third color regions 15c are formed backward of the first and second color regions 15a and 15b; each of a plurality of the spacers 17 has a structure successively laminated with an intermediate layer consisting of the same material as the material of the color region 15c on the lowermost layer with at least either of the color regions 15a and 15b as the lowermost layer; and the uppermost layer consisting of the same material as the material of the light shielding layers 16 and the intermediate layers are all spaced from the color regions 15c. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特にはカラーフィルタ層と周縁遮光層とを備えた液
晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device including a color filter layer and a peripheral light shielding layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、一般的に用いられている液晶表示
装置は、画素電極が設けられたガラス基板と共通電極が
設けられたガラス基板とをそれらの電極が設けられた面
が対向するように配置し、これらガラス基板間に液晶層
を挟持させた構造を有している。このような液晶表示装
置では、通常、カラー表示を可能とするために、それら
ガラス基板のいずれかの対向面にカラーフィルタ層が設
けられている。このカラーフィルタ層は、ガラス基板上
に、互いに吸収波長域の異なる複数の着色層を並置した
構造を有するものである。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device which is generally used at present has a glass substrate provided with pixel electrodes and a glass substrate provided with a common electrode such that the surfaces provided with these electrodes face each other. And a liquid crystal layer is sandwiched between these glass substrates. In such a liquid crystal display device, a color filter layer is usually provided on one of the facing surfaces of the glass substrates in order to enable color display. This color filter layer has a structure in which a plurality of colored layers having different absorption wavelength regions are juxtaposed on a glass substrate.

【0003】このような液晶表示装置に関しては、カラ
ーフィルタ層を構成する複数の着色層を部分的に重ね合
わせ、それらの重ね合わされた部分をスペーサとして利
用することが提案されている。この方法によれば、簡略
化された製造プロセスで所望の位置にスペーサを設ける
ことができる。したがって、例えば、隣り合う画素電極
間の領域のように表示には直接的に寄与していない非画
素領域に規則的にスペーサを配列させることができる。
Regarding such a liquid crystal display device, it has been proposed to partially overlap a plurality of colored layers constituting a color filter layer and use the overlapped portions as a spacer. According to this method, the spacer can be provided at a desired position with a simplified manufacturing process. Therefore, for example, spacers can be regularly arranged in a non-pixel region that does not directly contribute to display, such as a region between adjacent pixel electrodes.

【0004】しかしながら、この方法には以下に説明す
る問題が残されている。すなわち、カラーフィルタ層に
は高い膜厚均一性を有していることが要求されるため、
着色層の材料は良好なレベリング性を実現し得るもので
なければならない。換言すれば、着色層は低粘度の材料
を用いて形成されている。そのため、複数の着色層を部
分的に重ね合わせて積層構造を形成した場合、タレに起
因してスペーサの高さにばらつきを生じ、その結果、基
板間隔(セルギャップ)の均一性が損なわれることがあ
った。
However, this method still has the following problems. That is, since the color filter layer is required to have high film thickness uniformity,
The material for the colored layer must be capable of achieving good leveling properties. In other words, the colored layer is formed using a low-viscosity material. Therefore, when a plurality of colored layers are partially overlapped to form a laminated structure, the height of the spacer varies due to sagging, and as a result, the uniformity of the substrate gap (cell gap) is impaired. was there.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ層を構成
する着色層を部分的に重ね合わせて、それらの重ね合わ
された部分をスペーサとして利用しながらも、基板間隔
の均一性に優れた液晶表示装置を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, in which colored layers constituting a color filter layer are partially overlapped with each other and the overlapped portions are used as spacers. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which is excellent in the uniformity of the substrate spacing while being used.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、互いに対向した第1及び第2基板と、前
記第1基板の前記第2基板との対向面上に並置され且つ
互いに吸収波長域が異なる第1乃至第3色領域を備えた
カラーフィルタ層と、前記第1及び第2基板間に介在し
て前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数のス
ペーサと、前記第1基板の前記第2基板との対向面の周
縁に設けられた周縁遮光層と、前記第1及び第2基板間
に介在した液晶層とを具備し、前記第3色領域は前記第
1及び第2色領域よりも後に形成され、前記複数のスペ
ーサのそれぞれは、前記第1及び第2色領域の少なくと
も一方を最下層として、前記最下層上に前記第3色領域
と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層と材料が同一な
最上層とを順次積層した構造を有し、前記中間層はいず
れも前記第3色領域から離間していることを特徴とする
液晶表示装置を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a first substrate and a second substrate which are opposed to each other, and a first substrate and a second substrate which are arranged side by side. A color filter layer having first to third color regions having different absorption wavelength ranges, and a plurality of spacers interposed between the first and second substrates to keep the distance between the first and second substrates constant. And a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates, the peripheral light-shielding layer being provided on the periphery of the surface of the first substrate facing the second substrate, and the third color region The spacers are formed after the first and second color regions, and each of the plurality of spacers has at least one of the first and second color regions as a lowermost layer, and the third color region and a material on the lowermost layer. Of the same material and the peripheral light shielding layer and the uppermost layer of the same material are sequentially stacked. It has a structure to provide a liquid crystal display device, characterized in that both the intermediate layer is separated from the third color regions.

【0007】また、本発明は、互いに対向した第1及び
第2基板と、前記第1基板の前記第2基板との対向面上
に並置され且つ互いに吸収波長域が異なる第1乃至第3
色領域を備えたカラーフィルタ層と、前記第1及び第2
基板間に介在して前記第1及び第2基板間の距離を一定
に保つ複数のスペーサと、前記第1基板の前記第2基板
との対向面の周縁に設けられた周縁遮光層と、前記第1
及び第2基板間に介在した液晶層とを具備し、前記複数
のスペーサのそれぞれは、前記第1及び第2色領域の少
なくとも一方を最下層として、前記最下層上に前記第3
色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層と材料が
同一な最上層とを順次積層した構造を有し、前記中間層
と前記第3色領域との間の最短距離は、前記中間層と前
記第1色領域との間の最短距離及び前記中間層と前記第
2色領域との間の最短距離のいずれよりも長いことを特
徴とする液晶表示装置を提供する。
Further, according to the present invention, the first and second substrates which are opposed to each other and the first and third substrates which are arranged side by side on the surface of the first substrate which faces the second substrate and which have different absorption wavelength ranges from each other.
A color filter layer having a color region, and the first and second
A plurality of spacers interposed between the substrates to keep the distance between the first and second substrates constant, a peripheral light-shielding layer provided on a peripheral edge of a surface of the first substrate facing the second substrate, First
And a liquid crystal layer interposed between the second substrate, and each of the plurality of spacers has at least one of the first and second color regions as a lowermost layer, and the third layer on the lowermost layer.
It has a structure in which an intermediate layer made of the same material as the color region and an uppermost layer made of the same material as the peripheral light shielding layer are sequentially stacked, and the shortest distance between the intermediate layer and the third color region is A liquid crystal display device is provided which is longer than both the shortest distance between a layer and the first color region and the shortest distance between the intermediate layer and the second color region.

【0008】本発明において、第1乃至第3色領域の形
成順は、それらの断面構造を観察することにより観察す
ることができる。例えば、第3色領域と1色領域との間
の界面が第1基板と第3色領域との間に第1色領域が部
分的に介在するように傾斜しており、第3色領域と2色
領域との間の界面が第1基板と第3色領域との間に第2
色領域が部分的に介在するように傾斜している場合、第
3色領域は、第1及び第2色領域を形成した後に形成さ
れたものと判断することができる。
In the present invention, the order of formation of the first to third color regions can be observed by observing their sectional structure. For example, the interface between the third color region and the first color region is inclined so that the first color region is partially interposed between the first substrate and the third color region, The interface between the two color regions is the second between the first substrate and the third color region.
When the color regions are inclined so as to partially intervene, it can be determined that the third color regions are formed after forming the first and second color regions.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図に
おいて同様の構成部材には同一の参照符号を付し、重複
する説明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, each embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each drawing, the same constituent members are designated by the same reference numerals, and duplicated description will be omitted.

【0010】図1は、本発明の第1の実施形態に係る液
晶表示装置を概略的に示す断面図である。図1に示す液
晶表示装置1は、TN駆動方式のカラー型液晶表示装置
であって、アクティブマトリクス基板2と対向基板3と
を対向させ、それら基板2,3間に液晶層4を介在させ
た構造を有している。これら基板2,3間の周縁部に
は、液晶材料を注入するための注入口(図示せず)を除
いて接着剤層25が設けられており、その注入口は封止
剤を用いて封止されている。また、この液晶表示装置1
の両面には偏光板5がそれぞれ貼り付けられており、そ
の背面側には図示しない光源が配置されている。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 1 shown in FIG. 1 is a TN driving type color liquid crystal display device, in which an active matrix substrate 2 and a counter substrate 3 are opposed to each other, and a liquid crystal layer 4 is interposed between the substrates 2 and 3. It has a structure. An adhesive layer 25 is provided on the peripheral portion between the substrates 2 and 3 except for an injection port (not shown) for injecting a liquid crystal material, and the injection port is sealed with a sealant. It has been stopped. In addition, this liquid crystal display device 1
Polarizing plates 5 are attached to both surfaces of the above, and a light source (not shown) is arranged on the back side thereof.

【0011】図1に示す液晶表示装置1において、アク
ティブマトリクス基板2は、ガラス基板のような透明基
板6を有している。透明基板6上には配線及びスイッチ
ング素子7が形成されており、その上には、絶縁膜8、
画素電極10、及び配向膜11が順次積層されている。
一方、対向基板3は、ガラス基板のような透明基板13
を有している。透明基板13上には、カラーフィルタ層
18、周縁遮光層16、及び柱状スペーサ17が形成さ
れており、カラーフィルタ層18上には共通電極20及
び配向膜21が順次積層されている。
In the liquid crystal display device 1 shown in FIG. 1, the active matrix substrate 2 has a transparent substrate 6 such as a glass substrate. Wiring and a switching element 7 are formed on the transparent substrate 6, and an insulating film 8,
The pixel electrode 10 and the alignment film 11 are sequentially stacked.
On the other hand, the counter substrate 3 is a transparent substrate 13 such as a glass substrate.
have. A color filter layer 18, a peripheral light shielding layer 16 and a columnar spacer 17 are formed on the transparent substrate 13, and a common electrode 20 and an alignment film 21 are sequentially stacked on the color filter layer 18.

【0012】アクティブマトリクス基板2に形成する配
線は、透明基板6上で格子状に配列した走査線及び信号
線などで構成されている。スイッチング素子7は、例え
ば、アモルファスシリコンやポリシリコンを半導体層と
した薄膜トランジスタ(以下、TFTという)である。
このスイッチング素子7は、走査線及び信号線などの配
線並びに画素電極10と接続されており、それにより、
所望の画素電極10に対して選択的に電圧を印加するこ
とが可能とされている。
The wiring formed on the active matrix substrate 2 is composed of scanning lines and signal lines arranged in a grid on the transparent substrate 6. The switching element 7 is, for example, a thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT) having a semiconductor layer of amorphous silicon or polysilicon.
The switching element 7 is connected to wirings such as a scanning line and a signal line and the pixel electrode 10, and thereby,
It is possible to selectively apply a voltage to a desired pixel electrode 10.

【0013】絶縁膜8は、例えば、感光性樹脂などを用
いて形成することができる。絶縁膜8にはコンタクトホ
ールが設けられており、スイッチング素子7と画素電極
10との間の電気的接続は、このコンタクトホールを介
して為される。
The insulating film 8 can be formed by using, for example, a photosensitive resin. A contact hole is provided in the insulating film 8, and the electrical connection between the switching element 7 and the pixel electrode 10 is made through this contact hole.

【0014】画素電極10及び共通電極20は、ITO
のような透明導電材料で構成されている。電極10,2
0は、例えばスパッタリング法などにより形成すること
ができる。配向膜11,21は、ポリイミドなどの透明
樹脂からなる薄膜にラビング処理等の配向処理を施すこ
とにより形成され得る。
The pixel electrode 10 and the common electrode 20 are made of ITO.
It is composed of a transparent conductive material such as. Electrodes 10, 2
0 can be formed by, for example, a sputtering method. The alignment films 11 and 21 can be formed by subjecting a thin film made of a transparent resin such as polyimide to an alignment treatment such as a rubbing treatment.

【0015】周縁遮光層16は、一般には額縁層などと
呼ばれ、画面の周縁部に形成される。周縁遮光層は、例
えば、カーボン微粒子のような黒色顔料や黒色染料と感
光性樹脂との混合物を用いて形成することができる。
The peripheral light shielding layer 16 is generally called a frame layer or the like and is formed on the peripheral portion of the screen. The peripheral light-shielding layer can be formed using, for example, a mixture of a black pigment such as carbon fine particles or a black dye and a photosensitive resin.

【0016】カラーフィルタ層18は、画素電極10に
対応して設けられた赤色の着色層15aと緑色の着色層
15bと青色の着色層15cとで構成されている。着色
層15a〜15cは、感光性樹脂とそれぞれの色に対応
した着色顔料或いは着色染料とを含有する混合物を用い
て形成することができる。
The color filter layer 18 is composed of a red colored layer 15a, a green colored layer 15b, and a blue colored layer 15c which are provided corresponding to the pixel electrodes 10. The colored layers 15a to 15c can be formed by using a mixture containing a photosensitive resin and a coloring pigment or coloring dye corresponding to each color.

【0017】着色層15a〜15c及び遮光層16は部
分的に重ね合わされており、それらの非積層部がカラー
フィルタ層18の赤色領域、緑色領域、及び青色領域
(例えば、赤、緑、青のストライプパターン)と周縁遮
光層16を構成し、それらの積層部が柱状スペーサ17
を構成している。
The colored layers 15a to 15c and the light shielding layer 16 are partially overlapped with each other, and their non-laminated portions are the red region, the green region, and the blue region (for example, red, green, and blue) of the color filter layer 18. Stripe pattern) and the peripheral light-shielding layer 16 and the laminated portion thereof is the columnar spacer 17
Are configured.

【0018】さて、本実施形態では、着色層15cのス
ペーサ17の中間層を構成する部分を所定の位置に設け
ることにより、スペーサ17の高さのばらつきを抑制し
ている。これについては、図2を参照しながら説明す
る。
In the present embodiment, the height variation of the spacer 17 is suppressed by providing the portion of the colored layer 15c which constitutes the intermediate layer of the spacer 17 at a predetermined position. This will be described with reference to FIG.

【0019】図2(a−1)〜(a−7),(b−1)
〜(b−7),及び(c−1)〜(c−7)は、それぞ
れ、スペーサの形成方法を概略的に示す断面図である。
2 (a-1) to (a-7), (b-1)
To (b-7) and (c-1) to (c-7) are cross-sectional views schematically showing a spacer forming method, respectively.

【0020】図2に示す方法では、スペーサ17を形成
するに当り、まず、図2(a−1),(b−1),(c
−1)に示すように、基板6上に赤色の着色層15aを
形成する。この着色層15aは、例えば、以下の方法に
より形成する。すなわち、まず、基板6上に感光性樹脂
と赤色の顔料或いは染料とを含有した塗工液を塗布して
赤色の連続膜を形成する。このとき、基板6の表面に大
きな凹凸はないので、均一な厚さの連続膜が得られる。
次に、この連続膜を、カラーフィルタ層18のストライ
プ状赤色領域とスペーサ17の最下層として利用される
領域とが残されるようにフォトリソグラフィ技術を用い
てパターニングする。これにより、図2(a−1),
(b−1),(c−1)に示す赤色の着色層15aが得
られる。
According to the method shown in FIG. 2, in forming the spacer 17, first, the spacers 17 shown in FIGS.
As shown in -1), a red colored layer 15a is formed on the substrate 6. The colored layer 15a is formed, for example, by the following method. That is, first, a coating liquid containing a photosensitive resin and a red pigment or dye is applied onto the substrate 6 to form a red continuous film. At this time, since there is no large unevenness on the surface of the substrate 6, a continuous film having a uniform thickness can be obtained.
Next, this continuous film is patterned using a photolithography technique so that the striped red region of the color filter layer 18 and the region used as the lowermost layer of the spacer 17 are left. As a result, as shown in FIG.
The red colored layer 15a shown in (b-1) and (c-1) is obtained.

【0021】次に、図2(a−2),(b−2),(c
−2)に示すように、基板6の着色層15aを形成した
面に、感光性樹脂と緑色の顔料或いは染料とを含有した
塗工液を塗布して緑色の連続膜15bを形成する。続い
て、この連続膜15bを、カラーフィルタ層18のスト
ライプ状緑色領域が残されるようにフォトリソグラフィ
技術を用いてパターニングする。これにより、図2(a
−3),(b−3),(c−3)に示す緑色の着色層1
5bが得られる。
Next, FIGS. 2 (a-2), (b-2), and (c)
As shown in -2), a coating liquid containing a photosensitive resin and a green pigment or dye is applied to the surface of the substrate 6 on which the colored layer 15a is formed to form a green continuous film 15b. Subsequently, the continuous film 15b is patterned by using a photolithography technique so that the striped green region of the color filter layer 18 is left. As a result, FIG.
-3), (b-3), (c-3) green colored layer 1
5b is obtained.

【0022】次いで、図2(a−4),(b−4),
(c−4)に示すように、基板6の着色層15a,15
bを形成した面に、感光性樹脂と青色の顔料或いは染料
とを含有した塗工液を塗布して青色の連続膜15cを形
成する。さらに、この連続膜15cを、カラーフィルタ
層18のストライプ状青色領域とスペーサ17の中間層
として利用される領域とが残されるようにフォトリソグ
ラフィ技術を用いてパターニングする。これにより、図
2(a−5),(b−5),(c−5)に示す青色の着
色層15cが得られる。
2 (a-4), (b-4),
As shown in (c-4), the colored layers 15 a, 15 of the substrate 6 are
A coating liquid containing a photosensitive resin and a blue pigment or dye is applied to the surface where b is formed to form a blue continuous film 15c. Further, the continuous film 15c is patterned by using a photolithography technique so that the stripe blue region of the color filter layer 18 and the region used as the intermediate layer of the spacer 17 are left. Thereby, the blue colored layer 15c shown in FIGS. 2 (a-5), (b-5), and (c-5) is obtained.

【0023】その後、図2(a−6),(b−6),
(c−6)に示すように、基板6の着色層15a〜15
cを形成した面に、感光性樹脂と黒色の顔料或いは染料
とを含有した塗工液を塗布して黒色の連続膜16を形成
する。さらに、この連続膜16cを、周縁遮光層とスペ
ーサ17の最上層として利用される領域とが残されるよ
うにフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングす
る。これにより、図2(a−7),(b−7),(c−
7)に示す遮光層16cが得られる。以上のようにし
て、三層構造のスペーサ17を得ることができる。
Then, as shown in FIGS. 2 (a-6), (b-6),
As shown in (c-6), the colored layers 15a to 15 of the substrate 6 are formed.
A coating liquid containing a photosensitive resin and a black pigment or dye is applied to the surface having c formed thereon to form a black continuous film 16. Further, the continuous film 16c is patterned using a photolithography technique so that the peripheral light shielding layer and the region used as the uppermost layer of the spacer 17 are left. As a result, FIGS. 2 (a-7), (b-7), (c-
The light shielding layer 16c shown in 7) is obtained. As described above, the spacer 17 having a three-layer structure can be obtained.

【0024】上述した方法では、連続膜15cを形成す
る際、基板6の表面には着色層15a,15bによる凹
凸が存在している。そのため、図2(a−4),(b−
4),(c−4)に示すように、連続膜15cの着色層
15a,15b上に位置している部分は、基板6上に位
置する部分からの張力と重力との作用により、より低い
位置へと部分的に移動して薄くなる。
In the method described above, when the continuous film 15c is formed, the surface of the substrate 6 has irregularities due to the colored layers 15a and 15b. Therefore, FIGS. 2 (a-4) and (b-
4) and (c-4), the portions of the continuous film 15c located on the colored layers 15a and 15b are lower due to the action of tension and gravity from the portions located on the substrate 6. Partially moves into position and becomes thinner.

【0025】このような作用は、着色層15a,15b
が形成する凹部からの距離が近い位置でより大きい。ま
た、連続膜15cの一部が移動することに伴って生じる
膜厚のばらつきは、その移動量が大きいほど顕著とな
る。そのため、連続膜15cの着色層15a,15b上
に位置している部分の膜厚のばらつきは、着色層15
a,15bが形成する凹部からの距離が近いほど大きく
なる。
Such an effect is obtained by the colored layers 15a and 15b.
Is larger at a position closer to the concave portion formed by. Further, the variation in the film thickness caused by the movement of a part of the continuous film 15c becomes more remarkable as the movement amount increases. Therefore, the variation in the film thickness of the portion of the continuous film 15c located on the colored layers 15a and 15b is caused by the colored layer 15
The larger the distance from the recess formed by a and 15b, the larger the distance.

【0026】したがって、図2(b−5),(c−5)
に示すように、着色層15a,15bが形成する凹部に
着色層15cのスペーサ17の中間層として用いられる
部分が隣接している場合、その部分の膜厚のばらつきは
大きくなる。すなわち、スペーサ17の高さのばらつき
が大きくなる。
Therefore, FIGS. 2 (b-5) and 2 (c-5)
As shown in FIG. 7, when the portion used as the intermediate layer of the spacer 17 of the colored layer 15c is adjacent to the recess formed by the colored layers 15a and 15b, the variation in the film thickness of that portion becomes large. That is, the height variation of the spacer 17 becomes large.

【0027】これに対し、図2(a−5)に示すよう
に、着色層15a,15bが形成する凹部から着色層1
5cのスペーサ17の中間層として用いられる部分を離
間させた場合、その部分で膜厚が大きくばらつくことは
ない。すなわち、スペーサ17の高さのばらつきを十分
に小さくすることができ、それゆえ、基板間隔の均一性
を向上させることができる。
On the other hand, as shown in FIG. 2 (a-5), from the concave portions formed by the colored layers 15a and 15b to the colored layer 1
When the portion used as the intermediate layer of the spacer 17 of 5c is separated, the film thickness does not greatly vary in that portion. That is, the variation in the height of the spacers 17 can be sufficiently reduced, and thus the uniformity of the substrate spacing can be improved.

【0028】本実施形態において、着色層15cのスペ
ーサ17の中間層を構成している部分とカラーフィルタ
層18の色領域を構成している部分との間の最短距離
は、5μm以上であることが好ましく、10μm以上で
あることがより好ましい。同様に、本実施形態におい
て、スペーサ17の中間層と着色層15cのカラーフィ
ルタ層18の色領域を構成している部分との間の最短距
離は、スペーサ17の中間層と着色層15aとの間の最
短距離及びスペーサ17の中間層と着色層15bとの間
の最短距離のいずれよりも長いことが好ましい。着色層
15cのスペーサ17の中間層を構成している部分とカ
ラーフィルタ層18の色領域を構成している部分との間
の最短距離が長いほど、より効果的にスペーサ17の高
さのばらつきを抑制することができる。
In the present embodiment, the shortest distance between the portion of the colored layer 15c forming the intermediate layer of the spacer 17 and the portion of the color filter layer 18 forming the color region is 5 μm or more. Is preferable, and more preferably 10 μm or more. Similarly, in the present embodiment, the shortest distance between the intermediate layer of the spacer 17 and the portion of the colored layer 15c forming the color region of the color filter layer 18 is the distance between the intermediate layer of the spacer 17 and the colored layer 15a. It is preferable to be longer than both the shortest distance between them and the shortest distance between the intermediate layer of the spacer 17 and the colored layer 15b. The longer the shortest distance between the portion of the colored layer 15c forming the intermediate layer of the spacer 17 and the portion of the color filter layer 18 forming the color region, the more effectively the height variation of the spacer 17 becomes. Can be suppressed.

【0029】本実施形態において、スペーサ17の中間
層は、着色層15a,15bの境界上にまたはそれに隣
接して設けることが好ましい。この場合、さらに効果的
にスペーサ17の高さのばらつきを抑制することができ
るのに加え、コントラスト比の観点からも有利である。
In the present embodiment, the intermediate layer of the spacer 17 is preferably provided on or adjacent to the boundary between the colored layers 15a and 15b. In this case, the height variation of the spacers 17 can be suppressed more effectively, and it is also advantageous from the viewpoint of the contrast ratio.

【0030】次に、本発明の第2の実施形態について説
明する。図3は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表
示装置を概略的に示す断面図である。図3に示す液晶表
示装置1は、カラーフィルタ層18、周縁遮光層16、
及びスペーサ17が、対向基板3ではなくアクティブマ
トリクス基板2に設けられていること以外は、図1に示
した液晶表示装置1とほぼ同様の構造を有している。こ
のような構造を採用した場合、図1に示す構造ほど、ア
クティブマトリクス基板2と対向基板2との間の位置合
わせに高い精度を要求されることはない。すなわち、本
実施形態によると、第1の実施形態で説明した効果が得
られるのに加え、製造プロセスの簡略化や開口率及び歩
留まりの向上などが可能となる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 1 shown in FIG. 3 includes a color filter layer 18, a peripheral light shielding layer 16,
The liquid crystal display device 1 has substantially the same structure as the liquid crystal display device 1 shown in FIG. 1, except that the spacers 17 are provided not on the counter substrate 3 but on the active matrix substrate 2. When such a structure is adopted, the alignment between the active matrix substrate 2 and the counter substrate 2 is not required to be as highly accurate as the structure shown in FIG. That is, according to this embodiment, in addition to the effects described in the first embodiment, the manufacturing process can be simplified and the aperture ratio and the yield can be improved.

【0031】以上説明した第1及び第2の実施形態で
は、スペーサ17として柱状スペーサを形成したが、ス
ペーサ17は他の形状を有していてもよい。例えば、ス
ペーサ17は壁状であってもよい。
In the first and second embodiments described above, the columnar spacer is formed as the spacer 17, but the spacer 17 may have another shape. For example, the spacer 17 may have a wall shape.

【0032】また、第1及び第2の実施形態では、スイ
ッチング素子7を用いた液晶表示装置1について説明し
たが、単純マトリクス駆動方式を採用してカラー型ドッ
トマトリクス表示を行うこともできる。さらに、上記実
施形態では、TN型の液晶表示装置1について説明した
が、表示方式は、STN型、GH型、ECB型、或いは
強誘電性液晶を利用したタイプ等であってもよい。
In the first and second embodiments, the liquid crystal display device 1 using the switching element 7 has been described, but a simple matrix drive system may be adopted to perform color dot matrix display. Further, although the TN type liquid crystal display device 1 has been described in the above embodiment, the display system may be an STN type, a GH type, an ECB type, a type using a ferroelectric liquid crystal, or the like.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.

【0034】(実施例1)図1に示す液晶表示装置1を
以下に示す方法により製造した。なお、本実施例では、
スペーサ17は、図2(a−1)〜(a−7)を参照し
て説明した方法により形成した。
Example 1 The liquid crystal display device 1 shown in FIG. 1 was manufactured by the following method. In this example,
The spacer 17 was formed by the method described with reference to FIGS. 2 (a-1) to (a-7).

【0035】まず、ガラス基板6上に、通常の方法によ
り、TFT7及び配線を形成した。次いで、基板6のT
FT7などを形成した面に紫外線硬化型樹脂を塗布し、
得られた塗膜をフォトリソグラフィ技術を用いてパター
ニングすることにより、コンタクトホールが設けられた
絶縁膜8を形成した。その後、絶縁膜8上に、スパッタ
リング法を用いて厚さ1500ÅのITO膜を形成し
た。これをフォトリソグラフィ技術とエッチング技術と
を用いてパターニングすることにより画素電極10を得
た。なお、これら画素電極10は、それぞれコンタクト
ホールを介してTFT7のソース電極と接続されるよう
に形成した。さらに、基板6の画素電極10を形成した
面に、配向膜材料であるAL−3046(JSR社製)
を500Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処
理を施して配向膜11を形成した。以上のようにして、
アクティブマトリクス基板2を完成した。
First, the TFT 7 and the wiring were formed on the glass substrate 6 by a usual method. Then, the T of the substrate 6
Apply UV curable resin on the surface where FT7 etc. are formed,
The obtained coating film was patterned by using a photolithography technique to form an insulating film 8 having a contact hole. Then, an ITO film having a thickness of 1500 Å was formed on the insulating film 8 by the sputtering method. The pixel electrode 10 was obtained by patterning this using a photolithography technique and an etching technique. The pixel electrodes 10 were formed so as to be connected to the source electrodes of the TFTs 7 via the contact holes. Further, AL-3046 (manufactured by JSR), which is an alignment film material, is formed on the surface of the substrate 6 on which the pixel electrodes 10 are formed.
Was applied in a thickness of 500Å, and the obtained coating film was rubbed to form an alignment film 11. As described above,
The active matrix substrate 2 is completed.

【0036】上述した方法でアクティブマトリクス基板
2を作製する一方で、以下の方法により対向基板3を作
製した。すなわち、まず、ガラス基板13上に、赤色の
顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストC
R−2000(富士フィルムオーリン社製)をスピナー
等を用いて塗布した。このようにして形成した塗膜の上
方にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して
上記塗膜に露光量が100mJ/cm2となるように波
長365nmの紫外線を照射した。なお、ここで使用し
たフォトマスクは、赤色の着色層15aを形成する部分
のみに紫外線が照射されるように形成されたものであ
る。上述した条件で露光を終えた後、1%のKOH水溶
液を用いて上記塗膜を20秒間現像し、さらに、仮焼成
を行うことにより赤色の着色層15aを形成した。
While the active matrix substrate 2 was produced by the method described above, the counter substrate 3 was produced by the following method. That is, first, an ultraviolet curable acrylic resin resist C in which a red pigment is dispersed on the glass substrate 13
R-2000 (manufactured by Fuji Film Olin Co., Ltd.) was applied using a spinner or the like. A photomask was arranged above the coating film thus formed, and the coating film was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm through the photomask so that the exposure amount was 100 mJ / cm 2 . The photomask used here is formed such that only the portion where the red colored layer 15a is formed is irradiated with ultraviolet rays. After the exposure was completed under the above-mentioned conditions, the coating film was developed for 20 seconds by using a 1% KOH aqueous solution, and further, pre-baked to form the red colored layer 15a.

【0037】次に、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化
型アクリル樹脂レジストCG−2000(富士フィルム
オーリン社製)及び青色の顔料を分散させた紫外線硬化
型アクリル樹脂レジストCB−2000(富士フィルム
オーリン社製)を用いて、赤色の着色層15aに関して
説明したのと同様の方法により、緑色の着色層15b及
び青色の着色層15cを順次形成し、その後、本焼成を
行った。以上のようにしてRGBカラーフィルタ層18
を形成した。なお、ここでは、RGBカラーフィルタ層
18を構成しているそれぞれの色領域はストライプ状と
し、それぞれの幅は60μmとした。また、着色層15
cの着色層15a上に形成した部分(スペーサ17の中
間層を構成する部分)と着色層15cのカラーフィルタ
層18の色領域を構成している部分との間の最短距離は
30μmとし、その縦横のサイズは30μm×30μm
とし、厚さは3μmとした。
Next, a UV-curable acrylic resin resist CG-2000 (manufactured by Fuji Film Orin Co.) in which a green pigment is dispersed and a UV-curable acrylic resin resist CB-2000 (Fuji Film Aurin in which a blue pigment is dispersed) are dispersed. (Manufactured by the same company) was used to sequentially form the green colored layer 15b and the blue colored layer 15c by the same method as described for the red colored layer 15a, and then the main baking was performed. As described above, the RGB color filter layer 18
Was formed. In addition, here, the respective color regions forming the RGB color filter layer 18 have a stripe shape and the width thereof is 60 μm. In addition, the coloring layer 15
The shortest distance between the portion of the colored layer 15c formed on the colored layer 15a (the portion forming the intermediate layer of the spacer 17) and the portion of the colored layer 15c forming the color region of the color filter layer 18 is 30 μm. Vertical and horizontal size is 30μm × 30μm
And the thickness was 3 μm.

【0038】次に、基板13の着色層15a〜15cを
形成した面にスパッタリング法を用いて厚さ1500Å
のITO膜を形成して共通電極20を得た。その後、基
板13の共通電極20を形成した面の全面に、感光性ア
クリル系黒色樹脂NN700(JSR社製)をスピナー
を用いて塗布した。これにより得られた塗膜を90℃で
10分間乾燥させた後、塗膜の上方にフォトマスクを配
置し、このフォトマスクを介して上記塗膜に露光量が3
00mJ/cm2となるように波長365nmの紫外線
を照射した。上述した条件で露光を終えた後、pH1
1.5のアルカリ水溶液を用いて現像し、さらに、20
0℃で60分間の焼成を行うことにより、スペーサ17
の最上層と周縁遮光層16とを同時に形成した。なお、
遮光層16のスペーサ17の最上層を構成する部分の厚
さは2μmとした。また、上述した方法で得られたスペ
ーサ17のカラーフィルタ層18からの高さは4.92
±0.20μmであった。
Next, the surface of the substrate 13 on which the colored layers 15a to 15c are formed has a thickness of 1500Å by a sputtering method.
The ITO film was formed to obtain the common electrode 20. Then, a photosensitive acrylic black resin NN700 (manufactured by JSR Corporation) was applied to the entire surface of the substrate 13 on which the common electrode 20 was formed using a spinner. The coating film thus obtained was dried at 90 ° C. for 10 minutes, a photomask was placed above the coating film, and the coating film was exposed through the photomask at an exposure dose of 3
Ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm were irradiated so as to have a dose of 00 mJ / cm 2 . After completing the exposure under the above conditions, pH1
Develop with an alkaline aqueous solution of 1.5, and
By performing baking at 0 ° C. for 60 minutes, the spacer 17
And the peripheral light shielding layer 16 were simultaneously formed. In addition,
The thickness of the portion forming the uppermost layer of the spacer 17 of the light shielding layer 16 was 2 μm. Further, the height of the spacer 17 obtained by the above-mentioned method from the color filter layer 18 is 4.92.
It was ± 0.20 μm.

【0039】以上のようにしてスペーサ17などを形成
した後、基板13の共通電極20を形成した面に、配向
膜材料であるAL−3046(JSR社製)を500Å
の厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して
配向膜21を形成した。以上のようにして、対向基板3
を完成した。
After forming the spacers 17 etc. as described above, 500 Å of alignment film material AL-3046 (manufactured by JSR Corporation) is formed on the surface of the substrate 13 on which the common electrode 20 is formed.
Was applied, and the obtained coating film was rubbed to form an alignment film 21. As described above, the counter substrate 3
Was completed.

【0040】次いで、対向基板3の配向膜21を形成し
た面の周縁部に接着剤25を注入口が残されるように印
刷した。さらに、アクティブマトリクス基板2から共通
電極20に電圧を印加するための電極転移材(図示せ
ず)を接着剤25の周辺部の電極転移電極(図示せず)
上に形成した。
Next, the adhesive 25 was printed on the peripheral portion of the surface of the counter substrate 3 on which the alignment film 21 was formed so that the injection port was left. Further, an electrode transfer material (not shown) for applying a voltage from the active matrix substrate 2 to the common electrode 20 is provided on the periphery of the adhesive 25 as an electrode transfer electrode (not shown).
Formed on.

【0041】その後、アクティブマトリクス基板2と対
向基板3とを、配向膜11,21同士が対向するように
及びそれらのラビング方向が直交するように貼り合わ
せ、さらに加熱して接着剤25を硬化させることにより
セルを形成した。このセル中に液晶材料としてZLI−
4792(MERCK社製)を通常の方法により注入し
て液晶層4を形成した。なお、この注入には約2時間を
要した。さらに、注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、ガ
ラス基板6,13のそれぞれに偏光板5を貼り付けた。
After that, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3 are bonded so that the alignment films 11 and 21 face each other and their rubbing directions are orthogonal to each other, and further heated to cure the adhesive 25. This formed a cell. In this cell, as a liquid crystal material, ZLI-
Liquid crystal layer 4 was formed by injecting 4792 (manufactured by MERCK) by a usual method. This injection took about 2 hours. Further, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin, and the polarizing plate 5 was attached to each of the glass substrates 6 and 13.

【0042】以上のようにして得られた液晶表示装置1
のセルギャップは4.85±0.20μmと非常に良好
な値であった。また、上記方法で得られた液晶表示装置
1では、セルギャップのばらつきに起因した輝度ムラな
ども視認されず、高い表示品位を実現することができ
た。
Liquid crystal display device 1 obtained as described above
Cell gap was 4.85 ± 0.20 μm, which was a very good value. Further, in the liquid crystal display device 1 obtained by the above method, the unevenness in brightness due to the variation in the cell gap was not visually recognized, and high display quality could be realized.

【0043】(実施例2)図3に示す液晶表示装置1を
以下に示す方法により製造した。なお、本実施例でも、
スペーサ17は、図2(a−1)〜(a−7)を参照し
て説明した方法により形成した。
Example 2 The liquid crystal display device 1 shown in FIG. 3 was manufactured by the following method. In addition, also in this embodiment,
The spacer 17 was formed by the method described with reference to FIGS. 2 (a-1) to (a-7).

【0044】まず、ガラス基板6上に、通常の方法によ
り、TFT7及び配線を形成した。次いで、基板6のT
FT7などを形成した面に、実施例1で説明したのと同
様の方法により、着色層15a〜15cを順次形成し
た。
First, the TFT 7 and the wiring were formed on the glass substrate 6 by a usual method. Then, the T of the substrate 6
Colored layers 15a to 15c were sequentially formed on the surface on which FT7 and the like were formed by the same method as described in Example 1.

【0045】次に、基板6の着色層15a〜15cを形
成した面に、スパッタリング法を用いて厚さ1500Å
のITO膜を形成した。これをフォトリソグラフィ技術
とエッチング技術とを用いてパターニングすることによ
り画素電極10を得た。なお、これら画素電極10は、
それぞれコンタクトホールを介してTFT7のソース電
極と接続されるように形成した。その後、実施例1で説
明したのと同様の方法により周縁遮光層16を形成し、
さらに、基板6の画素電極10を形成した面に、配向膜
材料であるAL−3046(JSR社製)を500Åの
厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配
向膜11を形成した。以上のようにして、アクティブマ
トリクス基板2を完成した。なお、各種寸法は、実施例
1と同様とした。
Next, on the surface of the substrate 6 on which the colored layers 15a to 15c are formed, a thickness of 1500Å is formed by a sputtering method.
The ITO film of was formed. The pixel electrode 10 was obtained by patterning this using a photolithography technique and an etching technique. These pixel electrodes 10 are
It was formed so as to be connected to the source electrode of the TFT 7 through the contact holes. After that, the peripheral light shielding layer 16 is formed by the same method as described in Example 1,
Further, on the surface of the substrate 6 on which the pixel electrode 10 is formed, an alignment film material AL-3046 (manufactured by JSR Corporation) is applied in a thickness of 500Å, and the obtained coating film is subjected to a rubbing treatment to obtain an alignment film 11 Was formed. The active matrix substrate 2 is completed as described above. The various dimensions were the same as in Example 1.

【0046】上述した方法でアクティブマトリクス基板
2を作製する一方で、以下の方法により対向基板を作製
した。すなわち、まず、ガラス基板13上に、スパッタ
リング法を用いて厚さ1500ÅのITO膜を形成する
ことにより共通電極20を得た。さらに、基板13の共
通電極20を形成した面に、配向膜材料であるAL−3
046(JSR社製)を500Åの厚さで塗布し、得ら
れた塗膜にラビング処理を施して配向膜21を形成し
た。以上のようにして、対向基板3を完成した。
While the active matrix substrate 2 was produced by the method described above, the counter substrate was produced by the following method. That is, first, the common electrode 20 was obtained by forming an ITO film having a thickness of 1500 Å on the glass substrate 13 by using the sputtering method. Further, on the surface of the substrate 13 on which the common electrode 20 is formed, the alignment film material AL-3 is used.
046 (manufactured by JSR) was applied to a thickness of 500Å, and the obtained coating film was rubbed to form an alignment film 21. The counter substrate 3 was completed as described above.

【0047】次いで、対向基板3の配向膜21を形成し
た面の周縁部に接着剤25を注入口が残されるように印
刷した。さらに、アクティブマトリクス基板2から共通
電極20に電圧を印加するための電極転移材(図示せ
ず)を接着剤25の周辺部の電極転移電極(図示せず)
上に形成した。
Next, the adhesive 25 was printed on the peripheral portion of the surface of the counter substrate 3 on which the alignment film 21 was formed so that the injection port was left. Further, an electrode transfer material (not shown) for applying a voltage from the active matrix substrate 2 to the common electrode 20 is provided on the periphery of the adhesive 25 as an electrode transfer electrode (not shown).
Formed on.

【0048】その後、アクティブマトリクス基板2と対
向基板3とを、配向膜11,21同士が対向するように
及びそれらのラビング方向が直交するように貼り合わ
せ、さらに加熱して接着剤25を硬化させることにより
セルを形成した。このセル中に液晶材料としてZLI−
4792(MERCK社製)を通常の方法により注入し
て液晶層4を形成した。さらに、注入口を紫外線硬化樹
脂で封止し、ガラス基板6,13のそれぞれに偏光板5
を貼り付けた。
After that, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3 are bonded so that the alignment films 11 and 21 face each other and their rubbing directions are orthogonal to each other, and further heated to cure the adhesive 25. This formed a cell. In this cell, as a liquid crystal material, ZLI-
Liquid crystal layer 4 was formed by injecting 4792 (manufactured by MERCK) by a usual method. Further, the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin, and the polarizing plate 5 is provided on each of the glass substrates 6 and 13.
Pasted.

【0049】以上のようにして得られた図3に示す液晶
表示装置1のセルギャップは4.82±0.25μmと
非常に良好な値であった。また、上記方法で得られた液
晶表示装置1では、セルギャップのばらつきに起因した
輝度ムラなども視認されず、高い表示品位を実現するこ
とができた。
The cell gap of the liquid crystal display device 1 shown in FIG. 3 obtained as described above was a very good value of 4.82 ± 0.25 μm. Further, in the liquid crystal display device 1 obtained by the above method, the unevenness in brightness due to the variation in the cell gap was not visually recognized, and high display quality could be realized.

【0050】(比較例)本比較例では、図2(b−1)
〜(b−7),(c−1)〜(c−7)を参照して説明
した方法によりスペーサ17を形成したこと以外は実施
例1で説明したのと同様の方法により液晶表示装置を作
製した。
Comparative Example In this comparative example, FIG.
To (b-7), (c-1) to (c-7), the liquid crystal display device is manufactured by the same method as described in Example 1 except that the spacer 17 is formed by the method described above. It was made.

【0051】本比較例でも、アクティブマトリクス基板
2と対向基板3とを貼り合せる前にスペーサ17の高さ
を測定したところ、スペーサ17のカラーフィルタ層1
8からの高さは4.78±0.90μmであった。ま
た、上記方法で得られた液晶表示装置1のセルギャップ
は4.68±0.70であった。すなわち、上記の実施
例1及び2に比べて、スペーサ17の高さやセルギャッ
プのばらつきが3.5〜4.5倍にまで増大した。さら
に、本比較例に係る液晶表示装置1では、セルギャップ
のばらつきに起因した輝度ムラが視認された。
Also in this comparative example, when the height of the spacer 17 was measured before the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3 were bonded together, the color filter layer 1 of the spacer 17 was measured.
The height from 8 was 4.78 ± 0.90 μm. The cell gap of the liquid crystal display device 1 obtained by the above method was 4.68 ± 0.70. That is, the height of the spacer 17 and the variation in the cell gap were increased to 3.5 to 4.5 times as compared with the above-described first and second embodiments. Further, in the liquid crystal display device 1 according to this comparative example, the uneven brightness due to the variation in the cell gap was visually recognized.

【0052】(実施例3)着色層15cの着色層15a
上に形成した部分(スペーサ17の中間層を構成する部
分)と着色層15cのカラーフィルタ層18の色領域を
構成している部分との間の最短距離を0〜30μmの範
囲内で変化させて、実施例1で説明したのと同様の方法
により図1に示す液晶表示装置1を複数作製した。次
に、このようにして得られた液晶表示装置1のそれぞれ
について、スペーサ17のカラーフィルタ層18からの
高さとセルギャップとを測定した。それら結果を以下の
表並びに図4及び図5に纏める。なお、下記表におい
て、「スペーサ高さ」は、スペーサ17のカラーフィル
タ層18からの高さを示している。
(Example 3) Colored layer 15a of colored layer 15c
The shortest distance between the portion formed above (the portion forming the intermediate layer of the spacer 17) and the portion forming the color region of the color filter layer 18 of the colored layer 15c is changed within the range of 0 to 30 μm. Then, a plurality of liquid crystal display devices 1 shown in FIG. 1 were manufactured by the same method as described in Example 1. Next, for each of the liquid crystal display devices 1 thus obtained, the height of the spacer 17 from the color filter layer 18 and the cell gap were measured. The results are summarized in the table below and FIGS. 4 and 5. In the table below, the “spacer height” indicates the height of the spacer 17 from the color filter layer 18.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】図4は、スペーサの中間層とカラーフィル
タ層18の色領域との相対位置が、スペーサ17の高さ
及びそのばらつきに与える影響を示すグラフである。図
中、横軸は、着色層15cのスペーサ17の中間層を構
成している部分と着色層15cのカラーフィルタ層18
の色領域を構成している部分との間の最短距離を示し、
縦軸はスペーサ17のカラーフィルタ層18からの高さ
(実効的な高さ)及びそのばらつき(3σ)を示してい
る。また、図中、曲線41,42はスペーサ17の実効
的な高さ及びそのばらつきに関するデータをそれぞれ示
している。
FIG. 4 is a graph showing the influence of the relative position of the intermediate layer of the spacer and the color region of the color filter layer 18 on the height of the spacer 17 and its variation. In the figure, the horizontal axis represents the portion of the colored layer 15c forming the intermediate layer of the spacer 17 and the color filter layer 18 of the colored layer 15c.
Shows the shortest distance to the part that constitutes the color area of
The vertical axis represents the height of the spacer 17 from the color filter layer 18 (effective height) and its variation (3σ). In addition, in the figure, curves 41 and 42 represent data on the effective height of the spacer 17 and its variation, respectively.

【0055】図5は、スペーサの中間層とカラーフィル
タ層18の色領域との相対位置が、液晶表示装置1のセ
ルギャップ及びそのばらつきに与える影響を示すグラフ
である。図中、横軸は、着色層15cのスペーサ17の
中間層を構成している部分と着色層15cのカラーフィ
ルタ層18の色領域を構成している部分との間の最短距
離を示し、縦軸は液晶表示装置1のセルギャップ及びそ
のばらつき(3σ)を示している。また、図中、曲線5
1,52はセルギャップ及びそのばらつきに関するデー
タをそれぞれ示している。
FIG. 5 is a graph showing the influence of the relative position between the intermediate layer of the spacer and the color region of the color filter layer 18 on the cell gap of the liquid crystal display device 1 and its variation. In the figure, the horizontal axis represents the shortest distance between the portion of the colored layer 15c forming the intermediate layer of the spacer 17 and the portion of the colored layer 15c forming the color region of the color filter layer 18, and the vertical axis indicates The axis indicates the cell gap of the liquid crystal display device 1 and its variation (3σ). Also, in the figure, curve 5
Reference numerals 1 and 52 represent data on the cell gap and its variation, respectively.

【0056】上記表並びに図4及び図5から明らかなよ
うに、上記の最短距離を5μm以上とすることにより、
スペーサの高さやセルギャップのばらつきを低減するこ
とができた。また、上記の最短距離を10μm以上とす
ることにより、スペーサの高さやセルギャップのばらつ
きを著しく低減することができ、輝度ムラも防止するこ
とができた。
As is clear from the above table and FIGS. 4 and 5, by setting the shortest distance to be 5 μm or more,
It was possible to reduce variations in spacer height and cell gap. Further, by setting the above-mentioned shortest distance to 10 μm or more, it is possible to remarkably reduce variations in the height of the spacer and the cell gap, and it is possible to prevent uneven brightness.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、カラ
ーフィルタ層を構成する第1乃至第3色領域のうち第1
及び第2色領域よりも後に形成する第3色領域と同一の
材料でスペーサの中間層を構成するとともに、スペーサ
の中間層と第3色領域とを離間させる。このような構造
によると、スペーサの中間層の厚さのばらつきを低減す
ることができ、したがって、基板間隔のばらつきを抑制
することができる。すなわち、本発明によると、カラー
フィルタ層を構成する着色層を部分的に重ね合わせて、
それらの重ね合わされた部分をスペーサとして利用しな
がらも、基板間隔の均一性に優れた液晶表示装置が提供
される。
As described above, according to the present invention, the first of the first to third color regions forming the color filter layer is used.
The spacer intermediate layer is made of the same material as the third color region formed after the second color region, and the spacer intermediate layer and the third color region are separated from each other. With such a structure, it is possible to reduce the variation in the thickness of the intermediate layer of the spacer, and thus to suppress the variation in the distance between the substrates. That is, according to the present invention, by partially overlapping the colored layers constituting the color filter layer,
There is provided a liquid crystal display device which is excellent in the uniformity of the substrate spacing while using the overlapped portion as a spacer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置を
概略的に示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(a−1)〜(a−7),(b−1)〜(b−
7),及び(c−1)〜(c−7)は、それぞれ、スペ
ーサの形成方法を概略的に示す断面図。
2 (a-1) to (a-7), (b-1) to (b-
7) and (c-1) to (c-7) are cross-sectional views schematically showing a spacer forming method.

【図3】本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置を
概略的に示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】スペーサの中間層とカラーフィルタ層の色領域
との相対位置が、スペーサの高さ及びそのばらつきに与
える影響を示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing the influence of the relative position between the intermediate layer of the spacer and the color region of the color filter layer on the height of the spacer and its variation.

【図5】スペーサの中間層とカラーフィルタ層の色領域
との相対位置が、液晶表示装置のセルギャップ及びその
ばらつきに与える影響を示すグラフ。
FIG. 5 is a graph showing the influence of the relative position between the intermediate layer of the spacer and the color region of the color filter layer on the cell gap of the liquid crystal display device and its variation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…液晶表示装置 2…アクティブマトリクス基板 3…対向基板 4…液晶層 5…偏光板 6…透明基板 7…スイッチング素子 8…絶縁膜 10…画素電極 11…配向膜 13…透明基板 15a〜15c…着色層 16…周縁遮光層 17…スペーサ 18…カラーフィルタ層 20…共通電極 21…配向膜 25…接着剤層 41,42,51,52…曲線 1 ... Liquid crystal display device 2 ... Active matrix substrate 3 ... Counter substrate 4 ... Liquid crystal layer 5 ... Polarizing plate 6 ... Transparent substrate 7 ... Switching element 8 ... Insulating film 10 ... Pixel electrode 11 ... Alignment film 13 ... Transparent substrate 15a to 15c ... Colored layer 16 ... Edge light-shielding layer 17 ... Spacer 18 ... Color filter layer 20 ... Common electrode 21 ... Alignment film 25 ... Adhesive layer 41, 42, 51, 52 ... Curve

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA11 BA45 BA47 BA48 BB02 BB03 BB07 BB08 BB44 2H089 LA04 LA09 LA12 LA16 LA19 LA20 MA03X MA04X NA14 NA17 NA24 NA32 NA41 NA43 QA03 QA05 QA11 QA12 QA13 QA14 TA12 TA13 2H091 FA02Y FB04 FB13 FC10 FC26 FC29 FD04 FD14 FD24 GA08 GA13 GA17 LA03 LA15   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H048 BA11 BA45 BA47 BA48 BB02                       BB03 BB07 BB08 BB44                 2H089 LA04 LA09 LA12 LA16 LA19                       LA20 MA03X MA04X NA14                       NA17 NA24 NA32 NA41 NA43                       QA03 QA05 QA11 QA12 QA13                       QA14 TA12 TA13                 2H091 FA02Y FB04 FB13 FC10                       FC26 FC29 FD04 FD14 FD24                       GA08 GA13 GA17 LA03 LA15

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向した第1及び第2基板と、前
記第1基板の前記第2基板との対向面上に並置され且つ
互いに吸収波長域が異なる第1乃至第3色領域を備えた
カラーフィルタ層と、前記第1及び第2基板間に介在し
て前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数のス
ペーサと、前記第1基板の前記第2基板との対向面の周
縁に設けられた周縁遮光層と、前記第1及び第2基板間
に介在した液晶層とを具備し、 前記第3色領域は前記第1及び第2色領域よりも後に形
成され、 前記複数のスペーサのそれぞれは、前記第1及び第2色
領域の少なくとも一方を最下層として、前記最下層上に
前記第3色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層
と材料が同一な最上層とを順次積層した構造を有し、 前記中間層はいずれも前記第3色領域から離間している
ことを特徴とする液晶表示装置。
1. A first and a second substrate, which are opposed to each other, and first to third color regions, which are juxtaposed on a surface of the first substrate facing the second substrate and have different absorption wavelength ranges from each other. A color filter layer; a plurality of spacers interposed between the first and second substrates to keep the distance between the first and second substrates constant; and a surface of the first substrate facing the second substrate. A peripheral light-shielding layer provided on a peripheral edge and a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates, wherein the third color region is formed after the first and second color regions. Each of the spacers has a lowermost layer of at least one of the first and second color regions, and an intermediate layer of the same material as that of the third color region and a lowermost layer of the same material as that of the peripheral light shielding layer on the lowermost layer. The intermediate layer has a structure in which an upper layer is sequentially laminated, and each of the intermediate layers has the third color region. A liquid crystal display device characterized by being separated from the area.
【請求項2】 互いに対向した第1及び第2基板と、前
記第1基板の前記第2基板との対向面上に並置され且つ
互いに吸収波長域が異なる第1乃至第3色領域を備えた
カラーフィルタ層と、前記第1及び第2基板間に介在し
て前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数のス
ペーサと、前記第1基板の前記第2基板との対向面の周
縁に設けられた周縁遮光層と、前記第1及び第2基板間
に介在した液晶層とを具備し、 前記複数のスペーサのそれぞれは、前記第1及び第2色
領域の少なくとも一方を最下層として、前記最下層上に
前記第3色領域と材料が同一な中間層と前記周縁遮光層
と材料が同一な最上層とを順次積層した構造を有し、 前記中間層と前記第3色領域との間の最短距離は、前記
中間層と前記第1色領域との間の最短距離及び前記中間
層と前記第2色領域との間の最短距離のいずれよりも長
いことを特徴とする液晶表示装置。
2. A first and a second substrate, which are opposed to each other, and first to third color regions, which are juxtaposed on the surface of the first substrate facing the second substrate and have different absorption wavelength ranges from each other. A color filter layer; a plurality of spacers interposed between the first and second substrates to keep the distance between the first and second substrates constant; and a surface of the first substrate facing the second substrate. A peripheral light-shielding layer provided at a peripheral edge and a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates, wherein each of the plurality of spacers has at least one of the first and second color regions as a lowermost layer. As the third color region, the intermediate layer having the same material as the third color region and the uppermost layer having the same material as the peripheral light shielding layer are sequentially stacked on the lowermost layer. Is the shortest distance between the intermediate layer and the first color region. A liquid crystal display device comprising longer than any shortest distance between the intermediate layer and the second color region.
【請求項3】 前記中間層と前記第3色領域との間の最
短距離は10μm以上であることを特徴とする請求項1
または請求項2に記載の液晶表示装置。
3. The shortest distance between the intermediate layer and the third color region is 10 μm or more.
Alternatively, the liquid crystal display device according to claim 2.
【請求項4】 前記中間層は前記第1色領域と前記第2
色領域との境界上にまたはそれに隣接して設けられたこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶表
示装置。
4. The intermediate layer includes the first color region and the second color region.
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is provided on or adjacent to a boundary with the color region.
【請求項5】 前記第1基板の前記第2基板との対向面
に、走査線、信号線、スイッチング素子、及び画素電極
をさらに具備したことを特徴とする請求項1または請求
項2に記載の液晶表示装置。
5. The scan line, the signal line, the switching element, and the pixel electrode are further provided on the surface of the first substrate facing the second substrate, as claimed in claim 1 or 2. Liquid crystal display device.
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