JP2003221557A - Adhesive composition, adhesive composition for connecting circuit and method for connecting circuit - Google Patents

Adhesive composition, adhesive composition for connecting circuit and method for connecting circuit

Info

Publication number
JP2003221557A
JP2003221557A JP2002023798A JP2002023798A JP2003221557A JP 2003221557 A JP2003221557 A JP 2003221557A JP 2002023798 A JP2002023798 A JP 2002023798A JP 2002023798 A JP2002023798 A JP 2002023798A JP 2003221557 A JP2003221557 A JP 2003221557A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive composition
circuit
chain transfer
meth
transfer agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002023798A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5111711B2 (en
Inventor
Tomoko Sudo
朋子 須藤
Toshiyuki Yanagawa
俊之 柳川
Shigeki Katogi
茂樹 加藤木
Masami Yusa
正己 湯佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2002023798A priority Critical patent/JP5111711B2/en
Publication of JP2003221557A publication Critical patent/JP2003221557A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5111711B2 publication Critical patent/JP5111711B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an adhesive composition which exhibits high bond strength to a substrate constituted of a metal and an inorganic material, has excellent storage stability at a room temperature (20-30°C) and sufficient performances even after a reliability test, an adhesive composition for connecting a circuit and to provide a method for connecting a circuit. <P>SOLUTION: This adhesive composition comprises (a) a radically polymerizable compound, (b) a radical generator and (c) a chain transfer agent. The chain transfer agent (c) is preferably a mercapto compound of alcohol. In this method for connecting a circuit in which an adhesive composition is laid between substrates having mutually opposing circuit electrodes, the substrates having the mutually opposing circuit electrodes are pressurized and the electrodes in the pressure direction are electrically connected, the adhesive composition for connecting a circuit is obtained by using this adhesive composition. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接着剤組成物、回
路接続用接着剤組成物及び回路接続方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an adhesive composition, an adhesive composition for circuit connection, and a circuit connection method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子及び液晶表示素子において、
素子中の種々の部材を結合させる目的で従来から種々の
接着剤が使用されている。接着剤に対する要求は、接着
性をはじめとして、耐熱性、高温高湿状態における信頼
性等多岐に渡る特性が要求されている。また、接着に使
用される被着体は、プリント配線板やポリイミド等の有
機基材をはじめ、銅、アルミニウム等の金属やITO、
SiN、SiO等の多種多様な表面状態を有する基材
が用いられ、各被着体にあわせた分子設計が必要であ
る。従来から、前記半導体素子や液晶表示素子用の接着
剤としては、高接着性でかつ高信頼性を示すエポキシ樹
脂を用いた熱硬化性樹脂が用いられてきた。樹脂の構成
成分としては、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂と反応性を
有するフェノール樹脂等の硬化剤、エポキシ樹脂と硬化
剤の反応を促進する熱潜在性触媒が一般に用いられてい
る。熱潜在性触媒は硬化温度及び硬化速度を決定する重
要な因子となっており、室温での貯蔵安定性と加熱時の
硬化速度の観点から種々の化合物が用いられており、一
般的には、170〜250℃の温度で1〜3時間硬化す
ることにより、所望の接着を得ていた。しかしながら、
最近の半導体素子の高集積化、液晶素子の高精細化に伴
い、素子間及び配線間ピッチが狭小化し、硬化時の加熱
によって、周辺部材に悪影響を及ぼす恐れが出てきた。
さらに低コスト化のためには、スループットを向上させ
る必要性があり、低温(100〜170℃)、短時間(1
時間以内)、換言すれば低温速硬化での接着が要求され
ている。この低温速硬化を達成するためには、活性化エ
ネルギーの低い熱潜在性触媒を使用する必要があるが、
室温付近での貯蔵安定性を兼備することは非常に難しい
ことが知られている。最近、(メタ)アクリレート誘導体
とラジカル開始剤である過酸化物を併用した、ラジカル
硬化型接着剤が注目されている。ラジカル硬化は、反応
活性種であるラジカルが非常に反応性に富むため、短時
間硬化が可能であり、かつラジカル開始剤の分解温度以
下では、安定に存在することから、低温速硬化と室温付
近での貯蔵安定性を両立した硬化系の設計が可能であ
る。
2. Description of the Related Art In semiconductor elements and liquid crystal display elements,
Conventionally, various adhesives have been used for the purpose of bonding various members in the device. The adhesives are required to have various properties such as adhesiveness, heat resistance, and reliability under high temperature and high humidity conditions. The adherends used for adhesion include printed wiring boards, organic base materials such as polyimide, copper, aluminum and other metals, ITO,
Substrates having various surface states such as SiN and SiO 2 are used, and it is necessary to design a molecule according to each adherend. Conventionally, a thermosetting resin using an epoxy resin having high adhesiveness and high reliability has been used as an adhesive for the semiconductor element and the liquid crystal display element. As a constituent component of the resin, an epoxy resin, a curing agent such as a phenol resin having reactivity with the epoxy resin, and a thermal latent catalyst that accelerates the reaction between the epoxy resin and the curing agent are generally used. The thermal latent catalyst is an important factor that determines the curing temperature and the curing rate, and various compounds are used from the viewpoint of the storage stability at room temperature and the curing rate during heating, and generally, The desired adhesion was obtained by curing for 1 to 3 hours at a temperature of 170 to 250 ° C. However,
With the recent trend toward higher integration of semiconductor elements and higher definition of liquid crystal elements, the pitch between elements and wiring has become narrower, and heating during curing may adversely affect peripheral members.
In order to further reduce costs, it is necessary to improve throughput, low temperature (100-170 ℃), short time (1
Within a time), in other words, low temperature and fast curing adhesion is required. To achieve this low temperature fast cure, it is necessary to use a thermal latent catalyst with low activation energy,
It is known that it is extremely difficult to combine storage stability near room temperature. Recently, radical curable adhesives using a combination of a (meth) acrylate derivative and a peroxide which is a radical initiator have been attracting attention. In radical curing, radicals, which are reactive species, are extremely reactive and can be cured for a short time.Because they remain stable below the decomposition temperature of the radical initiator, low-temperature rapid curing and around room temperature are possible. It is possible to design a curing system that is compatible with storage stability at room temperature.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ラジカ
ル硬化系の接着剤は、硬化時の硬化収縮が大きいため
に、エポキシ樹脂を用いた場合と比較して、接着強度に
劣ることが分かっており、特に無機材質や金属材質の基
材に対する接着強度が低下することが分かっている。こ
のため、半導体素子や液晶表示素子の接着剤に使用した
場合、85℃/85%RH等の高温多湿条件に放置する
信頼性試験で、十分な性能(接着強度等)が得られない
ことが分かっている。
However, it has been found that the radical-curing type adhesive has inferior adhesive strength as compared with the case where an epoxy resin is used, because the curing shrinkage during curing is large, In particular, it has been found that the adhesive strength to a substrate of an inorganic material or a metal material is reduced. Therefore, when it is used as an adhesive for semiconductor elements or liquid crystal display elements, sufficient performance (adhesive strength, etc.) may not be obtained in a reliability test of leaving it under high temperature and high humidity conditions such as 85 ° C./85% RH. I know it.

【0004】本発明は、ラジカル硬化系でありながら、
金属及び無機材質で構成される基材への高い接着強度を
示し、室温(20〜30℃)での貯蔵安定性に優れ、か
つ信頼性試験後も十分な性能を有する接着剤組成物、回
路接続用接着剤組成物及び回路接続方法を提供するもの
である。
Although the present invention is a radical curing system,
Adhesive composition and circuit showing high adhesive strength to a base material composed of metal and inorganic material, excellent storage stability at room temperature (20 to 30 ° C.), and having sufficient performance even after reliability test An adhesive composition for connection and a method for connecting a circuit are provided.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の接着剤組成物
は、[1](a)ラジカル重合性化合物、(b)ラジカ
ル発生剤、(c)連鎖移動剤を含有することを特徴とす
る接着剤組成物である。また、本発明は、[2](b)
ラジカル発生剤が、150〜750nmの光照射また
は、80℃〜200℃の加熱、または光照射と熱を併用
することでラジカルを発生する硬化剤である上記[1]
に記載の接着剤組成物である。また、本発明は、[3]
(c)連鎖移動剤が、99℃におけるスチレンモノマー
に対する連鎖移動定数0.001〜30である上記
[1]または上記[2]に記載の接着剤組成物である。
また、本発明は、[4](c)連鎖移動剤が、メルカプ
ト化合物またはアルコールから選ばれる少なくとも1種
類の化合物である上記[1]ないし上記[3]のいずれ
かに記載の接着剤組成物である。また、本発明は、
[5](a)ラジカル重合性化合物100重量部に対し
て、(b)ラジカル発生剤0.5〜30重量部、(c)
連鎖移動剤0.05〜20重量部を含有してなる上記
[1]ないし上記[4]のいずれかに記載の接着剤組成
物である。また、本発明は、[6]接着剤組成物100
体積に対して導電粒子0.1〜30体積%をさらに含有
する上記[1]ないし上記[5]のいずれかに記載の接
着剤組成物である。さらに、本発明は、[7]相対向す
る回路電極を有する基板間に接着剤組成物を介在させ、
相対向する回路電極を有する基板を加圧して加圧方向の
電極間を電気的に接続する回路接続において、接着剤組
成物が、上記[1]ないし上記[6]のいずれかに記載
の接着剤組成物である回路接続用接着剤組成物である。
また、本発明は、[8]相対向する回路電極を有する基
板間に、上記[7]に記載の回路接続用接着剤組成物を
介在させ、相対向する回路電極を有する基板を加圧して
加圧方向の電極間を電気的に接続する回路接続方法であ
る。
The adhesive composition of the present invention is characterized by containing [1] (a) a radically polymerizable compound, (b) a radical generator, and (c) a chain transfer agent. It is an adhesive composition. The present invention also relates to [2] (b).
The radical generator is a curing agent that generates radicals by irradiation with light having a wavelength of 150 to 750 nm, heating at 80 ° C. to 200 ° C., or combined use of light irradiation and heat [1].
The adhesive composition described in 1. The present invention also provides [3]
(C) The adhesive composition according to the above [1] or [2], wherein the chain transfer agent has a chain transfer constant of 0.001 to 30 for a styrene monomer at 99 ° C.
The present invention also provides the adhesive composition according to any one of the above [1] to [3], wherein the [4] (c) chain transfer agent is at least one compound selected from mercapto compounds and alcohols. Is. Further, the present invention is
[5] (b) 0.5 to 30 parts by weight of radical generator, (c) to 100 parts by weight of radically polymerizable compound (a)
The adhesive composition according to any one of the above [1] to [4], which comprises 0.05 to 20 parts by weight of a chain transfer agent. Further, the present invention provides [6] adhesive composition 100.
The adhesive composition according to any one of the above [1] to [5], further containing 0.1 to 30% by volume of conductive particles with respect to the volume. Furthermore, in the present invention, [7] an adhesive composition is interposed between substrates having circuit electrodes facing each other,
In the circuit connection in which the substrates having the circuit electrodes facing each other are pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction, the adhesive composition comprises the adhesive according to any one of the above [1] to [6]. It is an adhesive composition for circuit connection which is an agent composition.
[8] The circuit composition adhesive composition according to the above [7] is interposed between substrates having circuit electrodes facing each other [8], and the substrates having circuit electrodes facing each other are pressurized. This is a circuit connection method for electrically connecting the electrodes in the pressing direction.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明における(a)ラジカル重
合性化合物としては、活性ラジカルによって重合する官
能基を有する化合物であれば、特に制限なく公知のもの
を使用することができる。このような官能基としては例
えば、分子内にアクリロイル基、メタクリロイル基、ア
リル基、マレイミド基、ビニル基等が挙げられるが、選
択の容易さからアクリロイル基およびメタクリロイル基
(以下、両者を総称して(メタ)アクリロイルと呼ぶ)を
分子内に一つ以上有する樹脂が好ましく、さらに、分子
内に(メタ)アクリロイル基を二つ以上有する樹脂が、
硬化によって高硬化密度が得られるため、より好まし
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the radically polymerizable compound (a) in the present invention, known compounds can be used without particular limitation as long as they are compounds having a functional group capable of being polymerized by an active radical. Examples of such a functional group include an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group, a maleimide group, a vinyl group and the like in the molecule, but an acryloyl group and a methacryloyl group are included because of ease of selection.
(Hereinafter, both are collectively referred to as (meth) acryloyl) is preferably a resin having one or more in the molecule, and further, a resin having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule,
It is more preferable because a high cured density can be obtained by curing.

【0007】具体的には、エポキシ(メタ)アクリレー
トオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ
ー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー、ポ
リエステル(メタ)アクリレートオリゴマー等のオリゴ
マー、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトール(メタ)アクリレート、2−シアノ
エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−(2−エトキシエトキシ)エチル(メタ)アク
リレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、
2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ヘキシ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
レート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシ
ル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリ
レート、n−ラウリル(メタ)アクリレート、2−メト
キシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチ
ル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、イソシアヌル酸変性2官能(メタ)
アクリレート、イソシアヌル酸変性3官能(メタ)アク
リレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフ
ェート、2,2'−ジ(メタ)アクリロイロキシジエチ
ルホスフェート等の単官能および多官能(メタ)アクリ
レート化合物が挙げられる。これらの化合物は、必要に
応じて単独あるいは混合して用いてもよい。
Specifically, oligomers such as epoxy (meth) acrylate oligomer, urethane (meth) acrylate oligomer, polyether (meth) acrylate oligomer, polyester (meth) acrylate oligomer, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethylene. Glycol di (meth) acrylate,
Polyalkylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth)
Acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate,
2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) ) Acrylate, isocyanuric acid modified bifunctional (meth)
Monofunctional and polyfunctional (meth) acrylate compounds such as acrylate, isocyanuric acid-modified trifunctional (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and 2,2′-di (meth) acryloyloxydiethyl phosphate are available. Can be mentioned. These compounds may be used alone or as a mixture, if necessary.

【0008】本発明において用いる(b)150〜75
0nmの光照射または80〜200℃の加熱または光照
射と加熱を併用することでラジカルを発生するラジカル
発生剤(硬化剤)としては、α−アセトアミノフェノン
誘導体や過酸化物、アゾ化合物等、特に制限なく公知の
ものを使用することができる。これらの化合物として
は、特に硬化温度の設計の容易さ等の点から、過酸化物
がより好ましい。使用可能な過酸化物としては、過酸化
物の分解の尺度を示す1分間半減期温度の参照が簡便で
あり、1分間半減期温度が、40℃以上かつ200℃以
下が好ましく、その中でも1分間の半減期温度が60℃
以上かつ170℃以下がより好ましい。具体的には、ジ
アシルパーオキサイド誘導体、パーオキシジカーボネー
ト誘導体、パーオキシエステル誘導体、パーオキシケタ
ール誘導体、ジアルキルパーオキサイド誘導体、ハイド
ロパーオキサイド誘導体が挙げられる。
(B) 150-75 used in the present invention
Radical generators (curing agents) that generate radicals by 0 nm light irradiation, heating at 80 to 200 ° C., or light irradiation and heating in combination include α-acetaminophenone derivatives, peroxides, azo compounds, and the like. Any known material can be used without particular limitation. As these compounds, peroxides are more preferable from the viewpoint of ease of designing the curing temperature. As the usable peroxide, it is easy to refer to the one-minute half-life temperature which indicates the scale of peroxide decomposition, and the one-minute half-life temperature is preferably 40 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and among them, 1 Half-life temperature of 60 minutes
More preferably, it is 170 ° C. or lower. Specific examples include diacyl peroxide derivatives, peroxydicarbonate derivatives, peroxyester derivatives, peroxyketal derivatives, dialkyl peroxide derivatives, and hydroperoxide derivatives.

【0009】ジアシルパーオキサイド誘導体としては、
2,4―ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリ
メチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパー
オキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイル
パーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾ
イルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等
が挙げられる。
As the diacyl peroxide derivative,
2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoylperoxytoluene, benzoyl peroxide, etc. To be

【0010】パーオキシジカーボネート誘導体として
は、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイ
ソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−
ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ
−2−エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ
(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジ
メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メ
チル−3−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート
等が挙げられる。
Examples of peroxydicarbonate derivatives include di-n-propylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate and bis (4-t-
Butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di (2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) Dicarbonate etc. are mentioned.

【0011】パーオキシエステル誘導体としては、1,1,
3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエー
ト、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ
ノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノ
エート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−
テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネ
ート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノ
イルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス
(2−ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘ
キシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノネート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1
−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ヘ
キシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−
ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノネー
ト、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−
ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−
ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネー
ト、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパ
ーオキシアセテート等が挙げられる。
As the peroxy ester derivative, 1,1,
3,3-Tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-Cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1 , 3,3-
Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanonate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-benzoyl) Peroxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanonate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanonate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1
-Bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-
Butyl peroxy-3,5,5-trimethyl hexanonate, t-butyl peroxy laurate, 2,5-dimethyl-
2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-
Butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-
Butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxy benzoate, t-butyl peroxy acetate, etc. are mentioned.

【0012】パーオキシケタール誘導体としては、1,1
−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−(t−ブチ
ルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(4,4−ジ−
t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−
ビス(t−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。
As the peroxyketal derivative, 1,1
-Bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy)
-3,3,5-Trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (4,4-di-
t-Butylperoxycyclohexyl) propane, 2,2-
Examples thereof include bis (t-butylperoxy) decane.

【0013】ジアルキルパーオキサイド誘導体として
は、α,α'ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピ
ルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル
−2,5−ジ(t−ブチルオキシ)ヘキサン、t−ブチルク
ミルパーオキサイド等が挙げられる。
As the dialkyl peroxide derivative, α, α'bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyloxy) hexane, t- Butyl cumyl peroxide and the like can be mentioned.

【0014】ハイドロパーオキサイド誘導体としては、
ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。これらの化
合物は、単独で用いる他に、2種以上の化合物を混合し
て用いても良い。
As the hydroperoxide derivative,
Examples include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide. These compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0015】(b)ラジカル発生剤の配合量は、(a)
ラジカル重合性化合物100部に対して、0.5〜30
重量部であり、好ましくは1〜20重量部である。添加
量が0.5重量部未満の場合、硬化不足が懸念され、ま
た、30重量部以上の場合には、放置安定性(保存安定
性)が低下する恐れがある。
(B) The amount of the radical generator compounded is (a)
0.5 to 30 with respect to 100 parts of the radically polymerizable compound
Parts by weight, preferably 1 to 20 parts by weight. If the addition amount is less than 0.5 parts by weight, insufficient curing may occur, and if it is 30 parts by weight or more, leaving stability (storage stability) may decrease.

【0016】本発明における(c)連鎖移動剤として
は、特に制限なく公知の化合物を使用でき、99℃にお
いてのスチレンモノマーに対する連鎖移動定数0.00
1〜30である化合物が特に好ましい。このような化合
物としては、例えばメルカプト化合物、アルコール等が
挙げられ、その中でもメルカプト化合物がより好まし
い。メルカプト化合物としては、ジチオ二酢酸、ジチオ
二酢酸メチルエステル、メルカプト酢酸、メルカプト酢
酸メチルエステル、チオ酢酸、α,α’−ジチオビス−p
−メチルアニゾール、アリルベンゼンチオールスルホネ
ート、ベンゼンチオール、o−(又はp−)エトキシベン
ゼンチオール、2−ベンズイミダゾールチオール、2,2'
−ジチオ二安息香酸ジメチルエステル、o−メルカプト
安息香酸、o−メルカプト安息香酸メチルエステル、チ
オ安息香酸、2,2'−ジチオビスベンゾチアゾール、2,2'
−チオビスベンゾチアゾール、2−ベンゾチアゾールチ
オール、ベンゾイルジスルフィド、ベンジルジスルフィ
ド、ブタンチオール、ビス(ジメチルチオカルボニル)
ジスルフィド、ドデカンチオール、o,o'−ジチオビスチ
オギ酸ジイソプロピルエステル、ヘプタンチオール、ヘ
キサンチオール、ナフタレンメタンチオール、メルカプ
トベンゾオキサゾール、ナフタレンチオール、オクタデ
カンチオール、オクタンチオール、2,2'−ジチオジフェ
ネトール、4,4'−ジチオジフェネトール、2−メチル−2
−プロパンチオール、トルエンチオール、チオビスベン
ゼンチオール、p−メトキシ−トルエンチオール等が挙
げられる。
As the chain transfer agent (c) in the present invention, known compounds can be used without particular limitation, and the chain transfer constant at 99 ° C. with respect to the styrene monomer is 0.00.
Compounds which are 1 to 30 are particularly preferred. Examples of such compounds include mercapto compounds and alcohols, and among them, mercapto compounds are more preferable. As the mercapto compound, dithiodiacetic acid, dithiodiacetic acid methyl ester, mercaptoacetic acid, mercaptoacetic acid methyl ester, thioacetic acid, α, α′-dithiobis-p
-Methylanisole, allylbenzenethiol sulfonate, benzenethiol, o- (or p-) ethoxybenzenethiol, 2-benzimidazole thiol, 2,2 '
-Dithiodibenzoic acid dimethyl ester, o-mercaptobenzoic acid, o-mercaptobenzoic acid methyl ester, thiobenzoic acid, 2,2'-dithiobisbenzothiazole, 2,2 '
-Thiobisbenzothiazole, 2-benzothiazolethiol, benzoyl disulfide, benzyl disulfide, butanethiol, bis (dimethylthiocarbonyl)
Disulfide, dodecanethiol, o, o'-dithiobisthioformate diisopropyl ester, heptanethiol, hexanethiol, naphthalenemethanethiol, mercaptobenzoxazole, naphthalenethiol, octadecanethiol, octanethiol, 2,2'-dithiodiphenetol, 4, 4'-dithiodiphenetol, 2-methyl-2
-Propanethiol, toluenethiol, thiobisbenzenethiol, p-methoxy-toluenethiol and the like.

【0017】アルコール類としては、アリルアルコー
ル、1,4−ブタンジオール、ブチルアルコール、エチル
アルコール、エチレングリコール、イソブチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、メタノール、1,2−プロ
パンジオール、プロピルアルコール、2−プロピン−1−
オール等があげられる。これらの化合物は単独で用いる
他に、2種以上の化合物を混合して用いても良い。
Alcohols include allyl alcohol, 1,4-butanediol, butyl alcohol, ethyl alcohol, ethylene glycol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, methanol, 1,2-propanediol, propyl alcohol, 2-propyne-1. −
All can be given. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0018】本発明における(c)連鎖移動剤の添加量
は、(a)ラジカル重合性化合物100重量部に対し
て、0.05〜20重量物することが好ましく、0.1
〜10重量部とすることが特に好ましい。添加量が0.
05重量部未満の場合、高接着強度が得られにくく、ま
た、20重量部以上の場合には、過度に連鎖移動がおこ
り、低架橋密度となる恐れがある。
The amount of the chain transfer agent (c) added in the present invention is preferably 0.05 to 20 parts by weight, and is 0.1 to 100 parts by weight of the radically polymerizable compound (a).
It is particularly preferable to use 10 to 10 parts by weight. Addition amount is 0.
If it is less than 05 parts by weight, it is difficult to obtain high adhesive strength, and if it is 20 parts by weight or more, excessive chain transfer may occur, resulting in low crosslink density.

【0019】本発明に用いる導電粒子としては、Au、
Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属粒子やカーボン等が
挙げられる。また、非導電性のガラス、セラミック、プ
ラスチック等を核とし、この核に前記金属、金属粒子や
カーボンを被覆したものでもよい。導電粒子が、プラス
チックを核とし、この核に前記金属、金属粒子やカーボ
ンを被覆したものや熱溶融金属粒子の場合、加熱加圧に
より変形性を有するので接続時に回路電極の高さバラツ
キを吸収したり、電極との接触面積が増加し信頼性が向
上するので好ましい。またこれらの導電粒子の表面を、
さらに高分子樹脂などで被覆した微粒子は、導電粒子の
配合量を増加した場合の粒子同士の接触による短絡を抑
制し、電極回路間の絶縁性が向上できることから、適宜
これを単独あるいは導電性粒子と混合して用いてもよ
い。
The conductive particles used in the present invention include Au,
Examples thereof include metal particles such as Ag, Ni, Cu, and solder, carbon, and the like. Alternatively, a non-conductive glass, ceramic, plastic or the like may be used as a core, and the core may be coated with the metal, metal particles or carbon. When the conductive particles have a core of plastic and the core is coated with the above metal, metal particles or carbon, or heat-melted metal particles, they are deformable by heating and pressurization, so the height variations of the circuit electrodes are absorbed during connection. Or the contact area with the electrode is increased and the reliability is improved, which is preferable. In addition, the surface of these conductive particles,
Further, fine particles coated with a polymer resin or the like can suppress short-circuiting due to contact between particles when the blending amount of conductive particles is increased, and can improve the insulating property between electrode circuits. You may mix and use with.

【0020】この導電粒子の平均粒径は、分散性、導電
性の点から1〜18μmであることが好ましい。導電粒
子の使用量は、特に制限は受けないが、接着剤組成物ト
ータル100体積に対して0.1〜30体積%とするこ
とが好ましく、0.1〜10体積%とすることがより好
ましい。この値が、0.1体積%未満であると導電性が
劣る傾向があり、30体積%を超えると回路の短絡が起
こる傾向がある。なお、体積%は23℃の硬化前の各成
分の体積をもとに決定されるが、各成分の体積は、比重
を利用して重量から体積に換算することができる。ま
た、メスシリンダー等にその成分を溶解したり膨潤させ
たりせず、その成分をよくぬらす適当な溶媒(水、アル
コール等)を入れたものに、その成分を投入し増加した
体積をその体積として求めることもできる。
The average particle size of the conductive particles is preferably 1 to 18 μm from the viewpoint of dispersibility and conductivity. The amount of the conductive particles used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 30% by volume, and more preferably 0.1 to 10% by volume with respect to 100% by volume of the total amount of the adhesive composition. . If this value is less than 0.1% by volume, the conductivity tends to be poor, and if it exceeds 30% by volume, a circuit short circuit tends to occur. The volume% is determined based on the volume of each component before curing at 23 ° C., but the volume of each component can be converted from the weight to the volume by utilizing the specific gravity. Also, add the appropriate solvent (water, alcohol, etc.) that does not dissolve or swell the component into the graduated cylinder, but wet the component well, and add the increased volume as the volume. You can also ask.

【0021】本発明の接着剤組成物には、カップリング
剤等の密着向上剤、レベリング剤、着色剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、充填材などの添加剤を適宜添
加してもよい。
The adhesive composition of the present invention may be appropriately added with additives such as an adhesion improver such as a coupling agent, a leveling agent, a colorant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a lubricant and a filler. Good.

【0022】本発明の接着剤組成物は、増粘化やフィル
ム化を目的として、種々のポリマを適宜添加してもよ
い。使用するポリマは特に制限を受けないが、(a)ラ
ジカル重合性化合物、(b)ラジカル発生剤、(c)連
鎖移動剤及び導電粒子に悪影響を及ぼさないことが必須
である。このようなポリマとしては、ポリイミド、ポリ
アミド、フェノキシ樹脂類、ポリメタクリレート類、ポ
リアクリレート類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポ
リエステル類、ポリビニルブチラール類、SBS及びそ
のエポキシ変性体、SEBS及びその変性体などを用い
ることができる。これらは単独あるいは2種類以上を混
合して用いることができる。さらに、これらポリマ中に
はシロキサン結合やフッ素置換基が含まれていても良
い。これらは、混合する樹脂同士が完全に相溶するか、
もしくはミクロ相分離が生じて白濁する状態であれば接
着剤組成物としては好適に用いることができる。上記ポ
リマの分子量は大きいほどフィルム形成性が容易に得ら
れ、また接着剤としての流動性に影響する溶融粘度を広
範囲に設定できる。分子量は特に制限を受けるものでは
ないが、一般的な重量平均分子量としては5,000〜
150,000が好ましく、10,000〜80,00
0が特に好ましい。この値が、5,000未満ではフィ
ルム形成性が劣る傾向があり、また150,000を超
えると他の成分との相溶性が悪くなる傾向がある。使用
量としてはラジカル重合性化合物100重量部に対して
20〜320重量部とすることが好ましい。この使用量
が、20重量部未満又は320重量部を超える場合は、
流動性や接着性が低下する傾向がある。
Various polymers may be appropriately added to the adhesive composition of the present invention for the purpose of thickening or forming a film. The polymer used is not particularly limited, but it is essential that it does not adversely affect the (a) radically polymerizable compound, the (b) radical generator, the (c) chain transfer agent, and the conductive particles. Examples of such polymers include polyimide, polyamide, phenoxy resins, polymethacrylates, polyacrylates, polyimides, polyurethanes, polyesters, polyvinyl butyral, SBS and epoxy modified products thereof, and SEBS and modified products thereof. Can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, these polymers may contain a siloxane bond or a fluorine substituent. These are completely compatible with each other,
Alternatively, it can be preferably used as an adhesive composition in the state where microphase separation occurs and it becomes cloudy. The larger the molecular weight of the polymer, the easier it is to obtain a film-forming property, and the melt viscosity that affects the fluidity as an adhesive can be set in a wide range. The molecular weight is not particularly limited, but a general weight average molecular weight is 5,000-
150,000 is preferable and 10,000 to 80,000
0 is particularly preferred. If this value is less than 5,000, the film formability tends to be poor, and if it exceeds 150,000, the compatibility with other components tends to be poor. The amount used is preferably 20 to 320 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the radically polymerizable compound. If the amount used is less than 20 parts by weight or more than 320 parts by weight,
Flowability and adhesiveness tend to decrease.

【0023】本発明の接着剤組成物は、常温で液状であ
る場合にはペースト状で使用することができる。室温で
固体の場合には、加熱して使用する他、溶剤を使用して
ペースト化してもよい。使用できる溶剤としては、接着
剤組成物及び添加剤と反応性がなく、かつ十分な溶解性
を示すものであれば、特に制限は受けないが、常圧での
沸点が50〜150℃であるものが好ましい。沸点が5
0℃以下の場合、室温で放置すると揮発する恐れがあ
り、開放系での使用が制限される。また、沸点が150
℃以上だと、溶剤を揮発させることが難しく、接着後の
信頼性に悪影響を及ぼす恐れがある。
The adhesive composition of the present invention can be used in a paste form when it is liquid at room temperature. When it is solid at room temperature, it may be used by heating, or may be made into a paste by using a solvent. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it has no reactivity with the adhesive composition and the additive and exhibits sufficient solubility, but the boiling point at normal pressure is 50 to 150 ° C. Those are preferable. Boiling point is 5
If the temperature is 0 ° C. or lower, there is a risk of volatilization when left at room temperature, which limits use in an open system. Also, the boiling point is 150
If the temperature is higher than ℃, it is difficult to volatilize the solvent, which may adversely affect the reliability after adhesion.

【0024】本発明の接着剤組成物はフィルム状にして
用いることもできる。接着剤組成物に必要により溶剤等
を加えるなどした溶液を、フッ素樹脂フィルム、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム、離形紙等の剥離性基材
上に塗布し、あるいは不織布等の基材に前記溶液を含浸
させて剥離性基材上に載置し、溶剤等を除去してフィル
ムとして使用することができる。フィルムの形状で使用
すると取扱性等の点から一層便利である。
The adhesive composition of the present invention can also be used in the form of a film. A solution obtained by adding a solvent or the like to the adhesive composition as necessary is applied on a releasable substrate such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, a release paper, or a substrate such as a non-woven fabric is impregnated with the solution. It can be used as a film by removing the solvent and the like by placing it on a peelable substrate. When used in the form of a film, it is even more convenient in terms of handleability.

【0025】本発明の接着剤組成物は光照射、加熱、ま
たは光照射と同時に加熱及び加圧を併用して接着させる
ことができる。これらを併用することにより、より低温
短時間での接着が可能となる。光照射は、150〜75
0nmの波長域の照射光が好ましく、低圧水銀灯、中圧
水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、
メタルハライドランプを使用して0.1〜10J/cm2
の照射量で硬化することができる。加熱温度は、特に制
限は受けないが、80〜200℃の温度が好ましい。圧
力は、被着体に損傷を与えない範囲であれば、特に制限
は受けないが、一般的には0.1〜10MPaが好まし
い。これらの加熱及び加圧は、0.5秒〜3時間の範囲
で行うことが好ましい。
The adhesive composition of the present invention can be adhered by light irradiation, heating, or simultaneous use of heat and pressure simultaneously with light irradiation. By using these in combination, it becomes possible to bond at a lower temperature and in a shorter time. Light irradiation is 150-75
Irradiation light in the wavelength range of 0 nm is preferable, and low-pressure mercury lamp, medium-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultra-high-pressure mercury lamp, xenon lamp,
0.1 to 10 J / cm 2 using a metal halide lamp
It can be cured at an irradiation dose of. The heating temperature is not particularly limited, but a temperature of 80 to 200 ° C. is preferable. The pressure is not particularly limited as long as it does not damage the adherend, but is generally preferably 0.1 to 10 MPa. It is preferable that these heating and pressurization be performed within a range of 0.5 seconds to 3 hours.

【0026】本発明の接着剤組成物は、熱膨張係数の異
なる異種の被着体の接着剤として使用することができ
る。具体的には、異方導電接着剤、銀ペースト、銀フィ
ルム等に代表される回路接続材料、CSP用エラストマ
ー、CSP用アンダーフィル材、LOCテープ等に代表
される半導体素子接着材料として使用することができ
る。
The adhesive composition of the present invention can be used as an adhesive for different kinds of adherends having different thermal expansion coefficients. Specifically, use as an anisotropic conductive adhesive, a silver paste, a circuit connecting material typified by silver film, an elastomer for CSP, an underfill material for CSP, a semiconductor element adhesive material typified by LOC tape, etc. You can

【0027】以下に、本発明の接着剤組成物及び導電粒
子を使用して作製した異方導電フィルムと電極の接続の
一例について説明する。異方導電フィルムを、基板上の
相対時する電極間に存在させ、加熱加圧することにより
両電極の接触と基板間の接着を得、電極との接続を行え
る。電極を形成する基板としては、半導体、ガラス、セ
ラミック等の無機質、ポリイミド、ポリカーボネート等
の有機物、ガラス/エポキシ等のこれら複合の各組み合
わせが適用できる。
An example of the connection between the anisotropic conductive film produced by using the adhesive composition of the present invention and the conductive particles and the electrode will be described below. The anisotropic conductive film is provided between the electrodes on the substrate facing each other, and is heated and pressed to obtain contact between both electrodes and adhesion between the substrates so that the electrodes can be connected. As the substrate for forming the electrodes, semiconductors, inorganic substances such as glass and ceramics, organic substances such as polyimide and polycarbonate, and combinations of these compounds such as glass / epoxy can be applied.

【0028】[0028]

【実施例】以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited thereto.

【0029】(実施例1〜3、比較例1)フェノキシ樹
脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHC、
平均分子量45,000)50gを、重量比でトルエン
(沸点110.6℃)/酢酸エチル(沸点77.1℃)
=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分40%の溶
液とした。ラジカル重合性化合物として、ヒドロキシエ
チルグリコールジメタクリレート(共栄社化学株式会社
製、商品名80MFA)および、リン酸エステルジメタ
クリレート(共栄社化学株式会社製、商品名ライトエス
テルP−2M)を用いた。連鎖移動剤として、メルカプ
トベンゾチアゾール(東京化成工業株式会社製)、メル
カプトベンゾオキサゾール(東京化成工業株式会社製)
及びチオビスベンゼンチオール(東京化成工業株式会社
製)を用いた。ラジカル発生剤として、1,1−ビス(t−
ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキ
サン(日本油脂株式会社製、商品名パーヘキサTMH)
を用いた。ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み
0.2μmのニッケル層を設け、このニッケル層の外側
に、厚み0.04μmの金層を設け、平均粒径5μmの
導電粒子を作製した。固形重量比で表1に示すように配
合し、さらに導電粒子を1.5体積%配合分散させ、厚
み80μmのフッ素樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗
布し、70℃、10分の熱風乾燥により、接着剤層の厚
みが20μmのフィルム状接着剤を得た。得られたフィ
ルム状接着剤は、室温(25℃)での十分な柔軟性を示
し、また40℃で10時間放置してもフィルムの性質に
はほとんど変化がなく、良好な保存性を示した。
Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 Phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., trade name PKHC,
50 g of average molecular weight of 45,000, in weight ratio, toluene (boiling point 110.6 ° C) / ethyl acetate (boiling point 77.1 ° C)
It was dissolved in a mixed solvent of 50/50 to obtain a solution having a solid content of 40%. Hydroxyethyl glycol dimethacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name 80MFA) and phosphoric acid ester dimethacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name Light Ester P-2M) were used as the radically polymerizable compounds. As a chain transfer agent, mercaptobenzothiazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), mercaptobenzoxazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
And thiobisbenzenethiol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were used. As a radical generator, 1,1-bis (t-
Hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane (Nippon Yushi Co., Ltd., trade name Perhexa TMH)
Was used. A 0.2 μm thick nickel layer was provided on the surface of polystyrene-based particles, and a 0.04 μm thick gold layer was provided outside the nickel layer to prepare conductive particles having an average particle size of 5 μm. Blended as shown in Table 1 in solid weight ratio, further blended and dispersed 1.5% by volume of conductive particles, applied to a fluororesin film having a thickness of 80 μm using a coating device, and dried at 70 ° C. for 10 minutes with hot air. Thus, a film-like adhesive having an adhesive layer thickness of 20 μm was obtained. The obtained film adhesive showed sufficient flexibility at room temperature (25 ° C.), and even when left at 40 ° C. for 10 hours, there was almost no change in the properties of the film and good storage stability was exhibited. .

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】〔接着強度、接続抵抗の測定〕上記製法に
よって得たフィルム状接着剤を用いて、ライン幅50μ
m、ピッチ100μm、厚み18μmの銅回路を500
本有するフレキシブル回路板(FPC)と、0.2μm
の酸化インジウム(ITO)の薄層を形成したガラス
(厚み1.1mm、表面抵抗20Ω/□)とを、熱圧着
装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニ
アリング株式会社製)を用いて160℃、3MPaで1
5秒間の加熱加圧を行って幅2mmにわたり接続し、接
続体を作製した。この接続体の隣接回路間の抵抗値をマ
ルチメータで測定し、抵抗値は隣接回路間の抵抗150
点の平均で示した。
[Measurement of Adhesive Strength and Connection Resistance] Using the film-like adhesive obtained by the above-mentioned manufacturing method, the line width was 50 μm.
m, pitch 100 μm, thickness 18 μm copper circuit 500
Flexible circuit board (FPC) with a book, 0.2 μm
Glass (thickness 1.1 mm, surface resistance 20 Ω / □) on which a thin layer of indium oxide (ITO) was formed using a thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.) 1 at 3 MPa
Heating and pressurization was performed for 5 seconds to connect over a width of 2 mm to prepare a connected body. The resistance value between the adjacent circuits of this connection body is measured with a multimeter, and the resistance value is 150
The average of points is shown.

【0032】また、この接続体の接着強度をJIS−Z
0237に準じて90度剥離法で測定し、評価した。こ
こで、接着強度の測定装置は東洋ボールドウィン株式会
社製テンシロンUTM−4(剥離速度50mm/mi
n、25℃)を使用した。
Further, the adhesive strength of this connector is determined by JIS-Z.
According to 0237, it was measured by the 90 degree peeling method and evaluated. Here, the measuring device of the adhesive strength is Tensilon UTM-4 (Peeling speed 50 mm / mi manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd.
n, 25 ° C.) was used.

【0033】〔硬化率の測定〕上述の回路接続材料を、
150℃、10秒間加熱し硬化させた後、DSC(示差
走査熱量測定)を用いて発熱量を測定し、これを用いて
硬化率の算出を行った。硬化率の算出法を以下に示す。 硬化率(%)=(Q0−Q)/Q0 ここで、Q0=硬化前の発熱量、Q=硬化後の発熱量、で
ある。以上のようにして行った接続体の接着強度、接続
抵抗、硬化率の測定の結果を表2に示した。
[Measurement of Curing Rate]
After heating and curing at 150 ° C. for 10 seconds, the calorific value was measured using DSC (differential scanning calorimetry), and the curing rate was calculated using this. The method of calculating the curing rate is shown below. Curing rate (%) = (Q 0 −Q) / Q 0 Here, Q 0 is the calorific value before curing, and Q is the calorific value after curing. Table 2 shows the results of the measurement of the adhesive strength, the connection resistance, and the curing rate of the connected body performed as described above.

【0034】[0034]

【表2】 [Table 2]

【0035】実施例1で得られた接着剤組成物(回路接
続用接着剤組成物)は、160℃、15秒間の低温短時
間の接続でも、接着直後、良好な接続抵抗及び接着力
(接着強度)を示した。これらに対して、本発明におけ
る連鎖移動剤を使用しない比較例1では、接続抵抗は良
好な値を示したが接着力は低い値を示し、接続信頼性に
劣り満足な接続体は得られなかった。また、反応率も低
く実施例のように硬化させるには、さらに長時間加熱す
るか、より高い温度で接続する必要がある。
The adhesive composition (adhesive composition for circuit connection) obtained in Example 1 has good connection resistance and adhesive strength (adhesion) immediately after bonding even at 160 ° C. for 15 seconds at a low temperature. Strength). On the other hand, in Comparative Example 1 in which the chain transfer agent in the present invention was not used, the connection resistance showed a good value, but the adhesive strength showed a low value, and the connection reliability was poor and a satisfactory connection product could not be obtained. It was Further, the reaction rate is low, and it is necessary to heat for a longer period of time or to connect at a higher temperature in order to cure as in Examples.

【0036】(実施例4)実施例1で得られたフィルム
状接着剤を、40℃で5日間放置した後、FPCとIT
Oとの加熱圧着を上記の方法と同様に行ったところ、接
着直後の接続抵抗2.3Ω、接着強度1050N/mで
あり、放置前と同様の良好な値を示し、放置安定性に優
れていた。
Example 4 The film adhesive obtained in Example 1 was allowed to stand at 40 ° C. for 5 days, after which it was subjected to FPC and IT.
When thermocompression bonding with O was performed in the same manner as in the above method, the connection resistance immediately after adhesion was 2.3Ω, and the adhesive strength was 1050 N / m, showing the same good values as before being left and having excellent leaving stability. It was

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明によれば、低温短時間硬化が可能
で、かつ保存安定性に優れる接着剤組成物、回路接続用
接着剤組成物を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an adhesive composition capable of being cured at a low temperature for a short time and excellent in storage stability, and an adhesive composition for circuit connection.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湯佐 正己 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J040 FA131 FA261 FA271 FA281 FA291 HB07 HB41 HD02 JB07 5F044 KK01 LL09 LL11    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masami Yusa             48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd.             Company Research Institute F-term (reference) 4J040 FA131 FA261 FA271 FA281                       FA291 HB07 HB41 HD02                       JB07                 5F044 KK01 LL09 LL11

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)ラジカル重合性化合物、(b)ラ
ジカル発生剤、(c)連鎖移動剤を含有することを特徴
とする接着剤組成物。
1. An adhesive composition containing (a) a radically polymerizable compound, (b) a radical generator, and (c) a chain transfer agent.
【請求項2】 (b)ラジカル発生剤が、150〜75
0nmの光照射、または80℃〜200℃の加熱、また
は光照射と熱を併用することでラジカルを発生する硬化
剤である請求項1に記載の接着剤組成物。
2. The (b) radical generator is 150 to 75.
The adhesive composition according to claim 1, which is a curing agent that generates radicals by irradiation with 0 nm light, heating at 80 ° C to 200 ° C, or combined use of light irradiation and heat.
【請求項3】 (c)連鎖移動剤が、99℃におけるス
チレンモノマーに対する連鎖移動定数0.001〜30
である請求項1または請求項2に記載の接着剤組成物。
3. The chain transfer agent (c) has a chain transfer constant of 0.001 to 30 with respect to a styrene monomer at 99 ° C.
The adhesive composition according to claim 1 or 2, which is
【請求項4】 (c)連鎖移動剤が、メルカプト化合物
またはアルコールから選ばれる少なくとも1種類の化合
物である請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の接
着剤組成物。
4. The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the chain transfer agent (c) is at least one compound selected from mercapto compounds and alcohols.
【請求項5】 (a)ラジカル重合性化合物100重量
部に対して、(b)ラジカル発生剤0.5〜30重量
部、(c)連鎖移動剤0.05〜20重量部を含有して
なる請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の接着剤
組成物。
5. Based on 100 parts by weight of the radically polymerizable compound (a), 0.5 to 30 parts by weight of the radical generator (b) and 0.05 to 20 parts by weight of the chain transfer agent (c) are contained. The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 接着剤組成物100体積に対して導電粒
子0.1〜30体積%をさらに含有する請求項1ないし
請求項5のいずれかに記載の接着剤組成物。
6. The adhesive composition according to claim 1, further comprising 0.1 to 30% by volume of conductive particles with respect to 100 volumes of the adhesive composition.
【請求項7】 相対向する回路電極を有する基板間に接
着剤組成物を介在させ、相対向する回路電極を有する基
板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続する回路
接続において、接着剤組成物が、請求項1ないし請求項
6のいずれかに記載の接着剤組成物である回路接続用接
着剤組成物。
7. A circuit connection in which an adhesive composition is interposed between substrates having circuit electrodes facing each other, and the substrates having circuit electrodes facing each other are pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction. An adhesive composition for circuit connection, wherein the adhesive composition is the adhesive composition according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 相対向する回路電極を有する基板間に、
請求項7に記載の回路接続用接着剤組成物を介在させ、
相対向する回路電極を有する基板を加圧して加圧方向の
電極間を電気的に接続する回路接続方法。
8. A substrate having circuit electrodes facing each other,
Interposing the adhesive composition for circuit connection according to claim 7,
A circuit connecting method in which a substrate having circuit electrodes facing each other is pressed to electrically connect electrodes in a pressing direction.
JP2002023798A 2002-01-31 2002-01-31 Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection, and circuit connection method Expired - Lifetime JP5111711B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002023798A JP5111711B2 (en) 2002-01-31 2002-01-31 Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection, and circuit connection method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002023798A JP5111711B2 (en) 2002-01-31 2002-01-31 Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection, and circuit connection method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003221557A true JP2003221557A (en) 2003-08-08
JP5111711B2 JP5111711B2 (en) 2013-01-09

Family

ID=27746405

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002023798A Expired - Lifetime JP5111711B2 (en) 2002-01-31 2002-01-31 Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection, and circuit connection method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5111711B2 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005121266A1 (en) * 2004-06-09 2005-12-22 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive composition, circuit connecting material, connecting structure for circuit member, and semiconductor device
WO2009057376A1 (en) * 2007-10-29 2009-05-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit connecting material, connection structure and method for producing the same
WO2010058643A1 (en) * 2008-11-18 2010-05-27 住友電気工業株式会社 Anisotropic conductive film
WO2013035871A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン Sealant composition for electronic device
WO2013154203A1 (en) * 2012-04-13 2013-10-17 日立化成株式会社 Circuit connection material, connection structure, and fabrication method for same
JP2014160546A (en) * 2013-02-19 2014-09-04 Dexerials Corp Anisotropic conductive film, connection method and joined body
JP2015167223A (en) * 2014-02-14 2015-09-24 デクセリアルズ株式会社 Method for manufacturing connection structure, and circuit connecting material
KR20240029034A (en) 2021-07-01 2024-03-05 가부시끼가이샤 레조낙 Adhesive film for circuit connection, circuit connection structure, and method of manufacturing the same

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58109531A (en) * 1981-12-21 1983-06-29 モンサント・カンパニ− Radiation and heat settable composition
JPS6032870A (en) * 1983-08-01 1985-02-20 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Adhesive composition
JPS62106974A (en) * 1985-11-01 1987-05-18 Sunstar Giken Kk Adhesive composition
JPH10273630A (en) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-connecting material and production of circuit board
JP2000509425A (en) * 1996-05-16 2000-07-25 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Adhesive composition and method of use
JP2001156430A (en) * 1999-11-26 2001-06-08 Hitachi Chem Co Ltd Method of manufacturing circuit board and circuit connection material
JP2001262094A (en) * 2000-03-17 2001-09-26 Takashi Onoda Multilayer adhesive film for protecting surface of articles and manufacturing method thereof
JP2001323224A (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, method for connecting circuit terminal using the same and connection structure of the circuit terminal
JP2003129006A (en) * 2001-10-30 2003-05-08 Sumitomo Chem Co Ltd Adhesive for resin and resin laminate

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58109531A (en) * 1981-12-21 1983-06-29 モンサント・カンパニ− Radiation and heat settable composition
JPS6032870A (en) * 1983-08-01 1985-02-20 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Adhesive composition
JPS62106974A (en) * 1985-11-01 1987-05-18 Sunstar Giken Kk Adhesive composition
JP2000509425A (en) * 1996-05-16 2000-07-25 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Adhesive composition and method of use
JPH10273630A (en) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-connecting material and production of circuit board
JP2001156430A (en) * 1999-11-26 2001-06-08 Hitachi Chem Co Ltd Method of manufacturing circuit board and circuit connection material
JP2001262094A (en) * 2000-03-17 2001-09-26 Takashi Onoda Multilayer adhesive film for protecting surface of articles and manufacturing method thereof
JP2001323224A (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, method for connecting circuit terminal using the same and connection structure of the circuit terminal
JP2003129006A (en) * 2001-10-30 2003-05-08 Sumitomo Chem Co Ltd Adhesive for resin and resin laminate

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101013260B1 (en) * 2004-06-09 2011-02-09 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Circuit connecting material and connecting structure for circuit member
WO2005121266A1 (en) * 2004-06-09 2005-12-22 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive composition, circuit connecting material, connecting structure for circuit member, and semiconductor device
JP2010007083A (en) * 2004-06-09 2010-01-14 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting material, film-like circuit connecting material and connecting structure for circuit member
JP2010013661A (en) * 2004-06-09 2010-01-21 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, circuit connecting material, connecting structure for circuit member, and semiconductor device
US8309658B2 (en) 2004-06-09 2012-11-13 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, circuit connecting material, connecting structure for circuit member, and semiconductor device
JP4535202B2 (en) * 2004-06-09 2010-09-01 日立化成工業株式会社 Circuit connection material, film-like circuit connection material, and circuit member connection structure
US8138268B2 (en) 2004-06-09 2012-03-20 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, circuit connecting material, connecting structure for circuit member, and semiconductor device
JP5152191B2 (en) * 2007-10-29 2013-02-27 日立化成工業株式会社 Circuit connection material, connection structure and manufacturing method thereof
CN101835859A (en) * 2007-10-29 2010-09-15 日立化成工业株式会社 Circuit connecting material, connection structure and method for producing the same
KR101145605B1 (en) * 2007-10-29 2012-05-16 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Circuit connecting material, connection structure and method for producing the same
JP2012146988A (en) * 2007-10-29 2012-08-02 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connection material, connection structure and manufacturing method therefor
TWI391465B (en) * 2007-10-29 2013-04-01 A circuit connecting material, a connecting structure, and a method of manufacturing the same
KR101238178B1 (en) 2007-10-29 2013-02-28 히타치가세이가부시끼가이샤 Circuit connecting material, connection structure and method for producing the same
WO2009057376A1 (en) * 2007-10-29 2009-05-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit connecting material, connection structure and method for producing the same
TWI480356B (en) * 2007-10-29 2015-04-11 Hitachi Chemical Co Ltd A circuit connecting material, a connecting structure, and a method of manufacturing the same
WO2010058643A1 (en) * 2008-11-18 2010-05-27 住友電気工業株式会社 Anisotropic conductive film
WO2013035871A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン Sealant composition for electronic device
WO2013035206A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン Sealant composition for electronic device
US20140187714A1 (en) * 2011-09-09 2014-07-03 Henkel Ag & Co. Kgaa Sealant composition for electronic device
US9771500B2 (en) * 2011-09-09 2017-09-26 Henkel Ag & Co. Kgaa Sealant composition for electronic device
US20160177148A1 (en) * 2011-09-09 2016-06-23 Henkel Ag & Co. Kgaa Sealant composition for electronic device
EP2755232A4 (en) * 2011-09-09 2015-09-30 Henkel Ag & Co Kgaa Sealant composition for electronic device
JPWO2013035871A1 (en) * 2011-09-09 2015-03-23 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co.KGaA Sealant composition for electronic device
CN104093799A (en) * 2012-04-13 2014-10-08 日立化成株式会社 Circuit connection material, connection structure, and fabrication method for same
KR20140146059A (en) 2012-04-13 2014-12-24 히타치가세이가부시끼가이샤 Circuit connection material, connection structure, and fabrication method for same
JPWO2013154203A1 (en) * 2012-04-13 2015-12-21 日立化成株式会社 Circuit connection material, connection structure and manufacturing method thereof
WO2013154203A1 (en) * 2012-04-13 2013-10-17 日立化成株式会社 Circuit connection material, connection structure, and fabrication method for same
JP2014160546A (en) * 2013-02-19 2014-09-04 Dexerials Corp Anisotropic conductive film, connection method and joined body
JP2015167223A (en) * 2014-02-14 2015-09-24 デクセリアルズ株式会社 Method for manufacturing connection structure, and circuit connecting material
KR20240029034A (en) 2021-07-01 2024-03-05 가부시끼가이샤 레조낙 Adhesive film for circuit connection, circuit connection structure, and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP5111711B2 (en) 2013-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7795325B2 (en) Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection, connected body semiconductor device
KR101552759B1 (en) Adhesive composition, film-like adhesive, and connection structure for circuit member
JP5140996B2 (en) Adhesive composition, circuit connection material, circuit member connection structure, and semiconductor device
KR100698916B1 (en) Adhesive composition, circuit connecting material, structure of connecting circuit terminal and semiconductor device
JP4466650B2 (en) Film adhesive, film circuit connecting material, circuit member connecting method, and semiconductor device
JP4998468B2 (en) Adhesive composition and circuit member connection structure
JP4967276B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure and connection method
JP2006257208A (en) Adhesive, adhesive for connecting circuit, connecting body and semiconductor device
JP5251393B2 (en) Adhesive composition, adhesive for circuit connection, and connection body using the same
JPWO2009031472A1 (en) Adhesive and connection structure using the same
KR20150005516A (en) Circuit connection material, circuit connection structure, adhesive film, and wound body
JP2008195852A (en) Film adhesive composition and joined structure in circuit terminal using the same composition
JP2014122353A (en) Adhesive composition, circuit connecting adhesive, and connection body
JP2020109173A (en) Adhesive composition and connection body
JP5560544B2 (en) Adhesive composition, film adhesive, circuit connecting adhesive, connector, and semiconductor device
JP2011037953A (en) Adhesive agent composition, circuit-connecting structure and semiconductor device
JP4720073B2 (en) Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection, connector and semiconductor device
JP5070748B2 (en) Adhesive composition, circuit connection material, connection body and semiconductor device
JP2003221557A (en) Adhesive composition, adhesive composition for connecting circuit and method for connecting circuit
JP5298977B2 (en) Adhesive composition, adhesive for circuit connection, connector and semiconductor device
JP2003282637A (en) Adhesive composite for circuit connection and circuit connection structure empolying it
JP2006045459A (en) Adhesive composition, circuit-connected structure and semiconductor device
JP5034494B2 (en) Adhesive composition, adhesive for circuit connection, connector and semiconductor device
JP2017145382A (en) Conductive adhesive and method for producing the same, cured product and electronic component
JP5002876B2 (en) Anisotropic conductive film, connector and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050126

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20071213

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081015

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081021

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100205

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100810

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101006

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20101019

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20101224

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120919

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121010

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5111711

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term