JP2003218502A - Circuit board manufacturing/processing device - Google Patents

Circuit board manufacturing/processing device

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JP2003218502A
JP2003218502A JP2002013187A JP2002013187A JP2003218502A JP 2003218502 A JP2003218502 A JP 2003218502A JP 2002013187 A JP2002013187 A JP 2002013187A JP 2002013187 A JP2002013187 A JP 2002013187A JP 2003218502 A JP2003218502 A JP 2003218502A
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JP
Japan
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circuit board
tank
processing apparatus
board manufacturing
defoaming
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Application number
JP2002013187A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Okada
淳 岡田
Hideo Tsubaki
秀夫 椿
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KAMERIA KK
Fujikura Ltd
Original Assignee
KAMERIA KK
Fujikura Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board manufacturing/processing device, which is capable of eliminating troubles caused by bubbles generated by chemicals used in a wet line of a developing unit, etc. <P>SOLUTION: A chemical tank (9) is provided in a developing unit (1) which develops and cleans a circuit board (3), and an antifoaming tank (13) which draws in bubbles (11) generated in the chemical tank (9) to eliminate them is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント回路基板
等の製造において薬液を使用する製造処理装置に関し、
特に、現像装置等のウエットラインにおいて使用される
薬液によって発生される泡による不具合を解消すること
ができる回路基板製造処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a manufacturing processing apparatus using a chemical solution in manufacturing a printed circuit board or the like,
In particular, the present invention relates to a circuit board manufacturing / processing apparatus capable of eliminating problems caused by bubbles generated by a chemical solution used in a wet line of a developing device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、プリント回路基板等の製造ライ
ンには有機溶剤やアルカリ水溶液等の現像液である薬液
を使用する現像装置等のウェットラインが含まれてい
る。
2. Description of the Related Art Generally, a production line for a printed circuit board or the like includes a wet line for a developing device or the like which uses a chemical solution such as an organic solvent or an alkaline aqueous solution.

【0003】従来の現像装置においては、スプレーチャ
ンバーのように現像液(薬液)を製造する回路基板にス
プレーして現像洗浄処理を行うようにしていたが、スプ
レーされた現像液がスプレーチャンバースプレー内に設
けられた薬液漕に溜まった現像液の表面に当たり泡が発
生するものであった。
In a conventional developing device, a developing solution (chemical solution) is sprayed on a circuit board for manufacturing to perform a developing and cleaning process like a spray chamber. However, the sprayed developing solution is sprayed in a spray chamber sprayer. The surface of the developing solution stored in the chemical bath provided in the above-mentioned developer was liable to generate bubbles.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、現像液
の表面に泡が発生し続けると上記回路基板にまで達し現
像洗浄処理に支障をきたすものであった。そのため、上
記泡を取り除く処理が必要となり作業性を悪化させてい
た。
As described above, when bubbles continue to be generated on the surface of the developing solution, the bubbles reach the circuit board and hinder the developing and cleaning process. Therefore, a process for removing the bubbles is required, which deteriorates workability.

【0005】そこで、上記問題を解決するために、第一
の提案として、従来の現像装置では同一チャンバー内に
設置されていたスプレー部分と薬液漕とを、図5の平面
図に示すように、スプレーチャンバー101と薬液漕1
03とに分割し、スプレーされた現像液が薬液漕におけ
る現像液の表面に直接あたることの無いようにした装置
が提案されている。
Therefore, in order to solve the above problem, as a first proposal, as shown in the plan view of FIG. 5, a spray portion and a chemical solution tank, which are installed in the same chamber in a conventional developing device, are provided. Spray chamber 101 and chemical tank 1
There is proposed a device which is divided into 03 and so that the sprayed developer does not directly contact the surface of the developer in the chemical bath.

【0006】しかしながら、上記第一の提案では、確か
に、スプレーされた現像液が薬液漕における現像液の表
面に直接あたることは無いが、現像液が、スプレーチャ
ンバー101から薬液漕103へ戻る際に薬液漕におけ
る現像液の表面に直接あたり泡を生じてしまうものであ
った。
However, according to the first proposal, although the sprayed developing solution does not directly contact the surface of the developing solution in the chemical solution tank, when the developing solution returns from the spray chamber 101 to the chemical solution tank 103. In addition, the surface of the developer in the chemical bath directly hits to generate bubbles.

【0007】それに対し、第二の提案として、図6
(a),(b)の平面図、断面図に示すように、現像液
が、スプレーチャンバー101から薬液漕103へ戻る
際に薬液漕103における現像液の表面に直接あたらな
いように、上記スプレーチャンバー101から薬液漕1
03への戻り口105を薬液漕103の薬液中、すなわ
ち通常管理する液面レベル107の下にくるように構成
していた。
On the other hand, as a second proposal, FIG.
As shown in the plan views and cross-sectional views of (a) and (b), the above spray is applied so that the developer does not directly contact the surface of the developer in the chemical bath 103 when returning from the spray chamber 101 to the chemical bath 103. Chemical chamber 1 from chamber 101
The return port 105 to 03 is located in the chemical solution in the chemical solution tank 103, that is, below the liquid level 107 normally managed.

【0008】しかしながら、上記第二の提案では、上記
スプレーチャンバー101内の液面も薬液漕103の通
常管理する液面レベル107と同じ高さとなってしまい
スプレーされた現像液がその液面に直接あたって泡を生
じてしまう可能性があった。
However, according to the second proposal, the liquid level in the spray chamber 101 becomes the same level as the liquid level 107 normally managed by the chemical bath 103, and the sprayed developing solution is directly applied to the liquid level. There was a possibility of hitting and creating bubbles.

【0009】また、第三の提案として、現像液そのもの
に発砲を抑制する消泡剤を添加する方法が提案されてい
る。
As a third proposal, a method has been proposed in which an antifoaming agent that suppresses foaming is added to the developer itself.

【0010】しかしながら、上記第三の提案では、現像
液に消泡剤を加えることにより、プリント回路基板を汚
染する可能性があるだけではなく、十分に泡の発生を抑
えることができない問題があった。
However, in the above third proposal, there is a possibility that the addition of the defoaming agent to the developer not only contaminates the printed circuit board, but also cannot sufficiently suppress the generation of bubbles. It was

【0011】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、現像装置等のウエットラインにお
いて使用される薬液によって発生される泡による不具合
を解消することができる製造処理装置を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a manufacturing processing apparatus capable of solving a problem caused by bubbles generated by a chemical used in a wet line of a developing device or the like. To provide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る回路基板製
造処理装置は、回路基板を製造するための回路基板製造
処理装置であって、回路基板製造処理において使用され
る薬液により発生された泡を引き込んで消泡するための
消泡手段を具備することを特徴とする。
A circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention is a circuit board manufacturing / processing apparatus for manufacturing a circuit board, wherein bubbles generated by a chemical solution used in the circuit board manufacturing processing. Is provided with a defoaming means for drawing in and defoaming.

【0013】本発明に係る回路基板製造処理装置は、上
記薬液により上記回路基板の現像洗浄を行う現像装置を
有し、上記消泡手段が、上記現像装置において発生した
泡を消泡することを特徴とする。
The circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention has a developing device for developing and cleaning the circuit board with the chemical solution, and the defoaming means defoams bubbles generated in the developing device. Characterize.

【0014】本発明に係る回路基板製造処理装置は、上
記現像装置が、上記回路基板に薬液をスプレーするスプ
レーチャンバーと、上記スプレーチャンバーよりの薬液
を溜めておくため上記スプレーチェンバー外に設けられ
た薬液漕からなり、上記消泡手段が、上記薬液漕で発生
した泡を引き込んで消泡するべく上記薬液漕に取り付け
られた消泡漕からなることを特徴とする。
In the circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention, the developing device is provided outside the spray chamber for spraying a chemical solution onto the circuit board and for accumulating the chemical solution from the spray chamber. It is characterized in that it comprises a chemical solution tank, and the defoaming means comprises an antifoaming tank attached to the chemical solution tank so as to draw in and defoam the foam generated in the chemical solution tank.

【0015】本発明に係る回路基板製造処理装置は、上
記消泡漕が、上記薬液漕内の泡を取り込むために上記薬
液漕と連通した穴を有すると共に、上記消泡漕に取り込
まれた泡に水をかけて消泡するための複数の小さな穴の
開いた配管を有していることを特徴とする。
In the circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention, the defoaming tank has a hole communicating with the chemical solution tank for taking in the foam in the chemical solution tank, and the foam taken into the defoaming tank. It is characterized by having a plurality of pipes with small holes for defoaming by pouring water on it.

【0016】本発明に係る回路基板製造処理装置は、上
記消泡漕の配管が、上記回路基板製造処理装置内の排水
配管に接続されていることを特徴とする。
The circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention is characterized in that the piping of the defoaming tank is connected to the drainage piping in the circuit board manufacturing / processing apparatus.

【0017】本発明に係る回路基板製造処理装置は、上
記消泡漕が、上記薬液漕内の泡を取り込むために上記泡
を吸引するための吸引手段を有することを特徴とする。
The circuit board manufacturing processing apparatus according to the present invention is characterized in that the defoaming tank has a suction means for sucking the bubbles in order to take in the bubbles in the chemical solution tank.

【0018】本発明に係る回路基板製造処理装置は、上
記吸引手段が、上記消泡漕内を排気するための排気装置
であることを特徴とする。
The circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention is characterized in that the suction means is an exhaust device for exhausting the inside of the defoaming tank.

【0019】本発明に係る回路基板製造処理装置は、回
路基板の現像洗浄を行う現像装置を有する回路基板製造
処理装置であって、上記現像洗浄に使用する薬液を溜め
ておく薬液漕に発生した泡を引き込んで消泡するための
消泡漕を具備することを特徴とする。
The circuit board manufacturing / processing apparatus according to the present invention is a circuit board manufacturing / processing apparatus having a developing device for developing and cleaning the circuit board, and is generated in the chemical solution tank for storing the chemical solution used for the development cleaning. It is characterized by comprising a defoaming tank for drawing in and defoaming bubbles.

【0020】本発明に係る回路基板製造処理装置によれ
ば、現像装置等のウエットラインにおいて使用される薬
液によって発生される泡を確実に消泡するので泡による
不具合を解消することができる。
According to the circuit board manufacturing / processing apparatus of the present invention, the bubbles generated by the chemical liquid used in the wet line of the developing device or the like are surely defoamed, so that the problem caused by the bubbles can be eliminated.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図4を参照して、本
発明の一実施形態となる現像装置としての回路基板製造
処理装置について詳しく説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A circuit board manufacturing / processing apparatus as a developing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS.

【0022】図1は、本発明の実施の形態となる現像装
置の構成を示す平面図であり、図2は、図1に示したス
プレーチャンバーのA−A’線に沿った断面図であり、
図3は、図1に示した薬液漕および消泡漕のB−B’線
に沿った断面図であり、図4は、図1に示した消泡漕の
内部構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a plan view showing the structure of a developing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA 'of the spray chamber shown in FIG. ,
3 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the chemical solution tank and the defoaming tank shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a perspective view showing the internal structure of the defoaming tank shown in FIG. 1. .

【0023】この実施の形態の現像装置1は、図1、図
2、図3に示すように、その内部を通過する回路基板3
に現像液5をスプレーして上記回路基板3の現像および
洗浄を行うためのスプレーチャンバー7と、上記スプレ
ーチャンバー7よりの現像液を溜めておくため上記スプ
レーチェンバー7外に設けられた薬液漕9と、上記薬液
漕9内の泡11を引き込んで消滅させるために上記薬液
漕9の側面に接続して設けられた消泡漕13とを有して
おり、上記スプレーチャンバー7と薬液漕9とは薬液戻
り通路15を介して接続されており、上記薬液漕9と消
泡漕13とは泡の通路となる横長の穴17を介して接続
されている(図4参照)。また、上記薬液漕9は、吸気
を行うための吸気口18を有している。
As shown in FIGS. 1, 2, and 3, the developing device 1 of this embodiment has a circuit board 3 passing through the inside thereof.
Spray chamber 7 for developing and cleaning the circuit board 3 by spraying the developing solution 5 on it, and a chemical solution tank 9 provided outside the spray chamber 7 for storing the developing solution from the spray chamber 7. And a defoaming tank 13 connected to the side surface of the chemical solution tank 9 in order to pull in and eliminate the bubbles 11 in the chemical solution tank 9, and the spray chamber 7 and the chemical solution tank 9 are provided. Are connected via a chemical liquid return passage 15, and the chemical liquid tank 9 and the defoaming tank 13 are connected via a laterally long hole 17 which serves as a foam passage (see FIG. 4). Further, the chemical liquid tank 9 has an intake port 18 for performing intake.

【0024】また、上記薬液戻り通路15、横長の穴1
7,及び吸気口18は、薬液20の液面20a(通常管
理する液面レベル)より高い位置に設けられている。
Further, the chemical liquid return passage 15 and the horizontally long hole 1
7 and the intake port 18 are provided at a position higher than the liquid surface 20a of the chemical liquid 20 (normally managed liquid surface level).

【0025】また、上記スプレーチャンバー7より薬液
漕9へ戻った現像液は、再びスプレーチャンバー7へ送
られスプレーされる。
The developer returned from the spray chamber 7 to the chemical bath 9 is again sent to the spray chamber 7 and sprayed.

【0026】次に、図3および図4を参照して、上記消
泡漕13について詳しく説明する。
Next, the defoaming tank 13 will be described in detail with reference to FIGS. 3 and 4.

【0027】上記消泡漕13は、上記薬液漕9内の泡1
1を引き込むために、横長の穴17と消泡漕13内の気
圧を下げるように排気するための排気口21を有してい
ると共に、消泡漕13内部に引き込まれた泡11aを破
泡させて消滅させるために、上記泡11aに水洗排水を
シャワー23させる複数の小さな穴の開いた2本の配管
19と上記シャワー23により生じた水と泡の混合液を
排出するための排水口25とを有している。
The defoaming tank 13 is the foam 1 in the chemical solution tank 9.
In order to draw 1 in, it has a horizontally long hole 17 and an exhaust port 21 for exhausting so as to lower the air pressure in the defoaming tank 13 and breaks the foam 11a drawn inside the defoaming tank 13. In order to make the bubbles 11a disappear, the two pipes 19 having a plurality of small holes for causing the washing and draining of the bubbles 11a to the shower 23 and the drain port 25 for discharging the mixed liquid of water and bubbles generated by the shower 23 are discharged. And have.

【0028】なお、上記配管19よりの水洗排水のシャ
ワー23は、スプレーとした方がより消泡効果があが
る。すなわち、上記配管19の穴の部分にスプレーノズ
ルを取り付け水洗排水を噴霧するようにすると、水の噴
霧範囲が大きくなり、単位時間あたりの消泡能力が向上
すると共に、泡に噴霧させる水の粒径が小さくなり流速
が上がり破泡能力が向上する。なお、上記スプレーノズ
ルから噴霧されるスプレーの角度は、頂点の角度が60
度の充円錐の噴霧形状が望ましい。
If the shower 23 for washing and draining water from the pipe 19 is sprayed, the defoaming effect is more enhanced. That is, when a spray nozzle is attached to the hole portion of the pipe 19 to spray the washing and drainage, the spray range of the water is increased, the defoaming ability per unit time is improved, and the water particles to be sprayed on the foam are increased. The diameter is reduced, the flow rate is increased, and the bubble breaking ability is improved. The angle of the spray sprayed from the spray nozzle is 60
A full cone spray shape is desirable.

【0029】なお、上記排気口21は、図示省略した排
気源に接続され排気装置を形成している。
The exhaust port 21 is connected to an exhaust source (not shown) to form an exhaust device.

【0030】また、上記配管19は、後段にあたる水洗
漕における水洗排水配管(図示省略)に接続されてい
る。
Further, the pipe 19 is connected to a flush drainage pipe (not shown) in the flush tank which is the latter stage.

【0031】次に、上記消泡漕13の動作について説明
する。
Next, the operation of the defoaming tank 13 will be described.

【0032】まず、上記薬液戻し通路15を通して薬液
漕9へ薬液が戻されることにより、薬液漕9の液面20
aに直接当たり泡11が発生すると、上記消泡漕13に
おいて排気口21より排気されると共に、上記薬液漕9
において吸気口18より吸気されるので、上記薬液漕9
内の泡11は、上記横長の穴17を通して消泡漕13内
に引き込まれる。上記消泡漕13内に引き込まれた泡1
1aは、上記配管19よりの水洗排水のシャワー23に
より表面張力が失われて破泡され、水と泡の混合液とな
り上記排水口25より排出される。
First, by returning the chemical liquid to the chemical liquid tank 9 through the chemical liquid returning passage 15, the liquid surface 20 of the chemical liquid tank 9 is shown.
When the bubbles 11 directly hit a, the bubbles are exhausted from the exhaust port 21 in the defoaming tank 13 and the chemical solution tank 9 is discharged.
Since it is sucked from the suction port 18 at
The bubbles 11 therein are drawn into the defoaming tank 13 through the laterally elongated holes 17. Bubbles 1 drawn into the defoaming tank 13
The surface tension of 1a is lost by the shower 23 for washing and draining water from the pipe 19 and the bubbles are broken to form a mixed liquid of water and bubbles, which is discharged from the drain port 25.

【0033】以上の動作が連続して行われることによ
り、上記薬液漕9内の泡11は自然に減少し、泡が薬液
漕9及びスプレーチャンバー7に溜まることによる従来
の問題点(現像液の表面に泡が発生し続けると上記回路
基板にまで達し現像洗浄処理に支障をきたす)が解消さ
れる。
By continuously performing the above operation, the bubbles 11 in the chemical solution tank 9 are naturally reduced, and the conventional problem that the bubbles are accumulated in the chemical solution tank 9 and the spray chamber 7 (developing solution If bubbles continue to be generated on the surface, the bubbles reach the circuit board and interfere with the developing and cleaning process).

【0034】なお、上記薬液漕9内における泡11の横
長の穴17への移動は、上記排気口21よりの排気処理
だけではなく、上記薬液漕9内における循環ポンプによ
る液循環に伴う薬液の流動あるいはエアーブロー等によ
る強制移動を併用しても良い。
The movement of the bubbles 11 into the oblong holes 17 in the chemical solution tank 9 is not limited to the exhaust treatment from the exhaust port 21, and the chemical solution associated with the circulation of the liquid by the circulation pump in the chemical solution tank 9 is also moved. You may use together the forced movement by flow or an air blow.

【0035】また、上記実施形態では、消泡漕を現像装
置の薬液漕に設け、薬液漕内の泡を消泡するようにした
が、泡を生ずる場面であればどの様な物にも応用できる
ことは言うまでもない。
Further, in the above embodiment, the defoaming tank is provided in the chemical solution tank of the developing device so that the foam in the chemical solution tank is defoamed. However, it can be applied to any object as long as the foam is generated. It goes without saying that you can do it.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明に係る回路基板製造処理装置によ
れば、薬液漕内の泡を確実に引き込んで消泡する消泡漕
を薬液漕に設けたので、薬液によって発生される泡によ
る不具合を確実に解消することができる。
According to the circuit board manufacturing / processing apparatus of the present invention, since the chemical solution tank is provided with the defoaming tank for surely drawing in and defoaming the bubbles in the chemical solution tank, a problem caused by the foam generated by the chemical solution is provided. Can be reliably solved.

【0037】また、本発明に係る回路基板製造処理装置
によれば、薬液漕内に泡が発生しても自然消泡処理され
るので、泡の除去のために作業者を煩わせることがな
い。
Further, according to the circuit board manufacturing / processing apparatus of the present invention, even if bubbles are generated in the chemical bath, the defoaming process is performed naturally, so that the operator is not bothered to remove the bubbles. .

【0038】さらに、本発明に係る回路基板製造処理装
置によれば、従来の装置に消泡漕を取り付けシャワー配
管を繋ぎ込めば良いだけなので簡単な取り付け工事で達
成できる。
Further, according to the circuit board manufacturing / processing apparatus of the present invention, it is sufficient to attach the defoaming tank to the conventional apparatus and connect the shower pipe, so that it can be achieved by a simple installation work.

【0039】さらに、本発明に係る回路基板製造処理装
置によれば、消泡漕内のシャワーに使用する水として同
じ設備内の水洗水オーバーフローよりの水を用いている
ので低ランニングコストで動作させることができる。
Further, according to the circuit board manufacturing / processing apparatus of the present invention, since the water used for the shower in the defoaming tank is the water from the flush water overflow in the same equipment, it can be operated at a low running cost. be able to.

【0040】さらに、本発明に係る回路基板製造処理装
置によれば、消泡剤を添加する必要がなくなるので、プ
リント基板を汚染する心配がない。
Furthermore, according to the circuit board manufacturing / processing apparatus of the present invention, there is no need to add an antifoaming agent, so there is no concern of contaminating the printed circuit board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態となる現像装置の構成を示
す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a developing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したスプレーチャンバーのA−A’線
に沿った断面図である。
2 is a cross-sectional view of the spray chamber shown in FIG. 1, taken along the line AA ′.

【図3】図1に示した薬液漕および消泡漕のB−B’線
に沿った断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the chemical liquid tank and the defoaming tank shown in FIG.

【図4】図1に示した消泡漕の内部構成を示す斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view showing an internal configuration of the defoaming tank shown in FIG.

【図5】従来の現像装置の構成を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a conventional developing device.

【図6】従来の現像装置の他の例の構成を示す平面図お
よび断面図である。
FIG. 6 is a plan view and a cross-sectional view showing the configuration of another example of a conventional developing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…現像装置、3…回路基板、5…現像液、7、101
…スプレーチャンバー、9、103…薬液漕、11…
泡、13…消泡漕、15、105…薬液戻り通路、17
…横長の穴、18…吸気口、20…薬液、21…排気
口、23…シャワー、25…排水
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Developing device, 3 ... Circuit board, 5 ... Developer, 7, 101
... Spray chamber, 9, 103 ... Chemical liquid tank, 11 ...
Bubble, 13 ... Defoaming tank, 15, 105 ... Chemical liquid return passage, 17
... Horizontal holes, 18 ... Intake port, 20 ... Chemical solution, 21 ... Exhaust port, 23 ... Shower, 25 ... Drainage

フロントページの続き (72)発明者 椿 秀夫 千葉県松戸市松飛台227 株式会社カメリ ア内 Fターム(参考) 2H096 AA26 GA02 GA21 5E343 EE02 EE15 EE20 ER18 FF23 FF30 GG11 5F046 LA06 LA07 Continued front page    (72) Inventor Hideo Tsubaki             227 Matsuhidai, Matsudo City, Chiba Prefecture Cameri Co., Ltd.             A F-term (reference) 2H096 AA26 GA02 GA21                 5E343 EE02 EE15 EE20 ER18 FF23                       FF30 GG11                 5F046 LA06 LA07

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路基板を製造するための回路基板製造
処理装置であって、回路基板製造処理において使用され
る薬液により発生された泡を引き込んで消泡するための
消泡手段を具備することを特徴とする回路基板製造処理
装置。
1. A circuit board manufacturing processing apparatus for manufacturing a circuit board, comprising defoaming means for drawing in and defoaming bubbles generated by a chemical used in the circuit board manufacturing process. A circuit board manufacturing and processing apparatus characterized by the above.
【請求項2】 上記回路基板製造処理装置が、上記薬液
により上記回路基板の現像洗浄を行う現像装置を有し、
上記消泡手段が、上記現像装置において発生した泡を消
泡することを特徴とする請求項1に記載の回路基板製造
処理装置。
2. The circuit board manufacturing and processing apparatus includes a developing device for developing and cleaning the circuit board with the chemical solution.
The circuit board manufacturing / processing apparatus according to claim 1, wherein the defoaming unit defoams bubbles generated in the developing device.
【請求項3】 上記現像装置が、上記回路基板に薬液を
スプレーするスプレーチャンバーと、上記スプレーチャ
ンバーよりの薬液を溜めておくため上記スプレーチャン
バー外に設けられた薬液漕からなり、上記消泡手段が、
上記薬液漕で発生した泡を引き込んで消泡するべく上記
薬液漕に取り付けられた消泡漕からなることを特徴とす
る請求項2に記載の回路基板製造処理装置。
3. The developing device comprises a spray chamber for spraying a chemical solution onto the circuit board, and a chemical solution tank provided outside the spray chamber for accumulating the chemical solution from the spray chamber. But,
The circuit board manufacturing / processing apparatus according to claim 2, wherein the circuit board manufacturing / processing apparatus comprises a defoaming tank attached to the chemical solution tank so as to draw in and defoam bubbles generated in the chemical solution tank.
【請求項4】 上記消泡漕が、上記薬液漕内の泡を取り
込むために上記薬液漕と連通した穴を有すると共に、上
記消泡漕に取り込まれた泡に水をかけて消泡するための
複数の小さな穴の開いた配管を有していることを特徴と
する請求項3に記載の回路基板製造処理装置。
4. The defoaming tank has a hole communicating with the chemical solution tank for taking in the foam in the chemical solution tank, and the foam taken in the defoaming tank is defoamed by applying water thereto. 4. The circuit board manufacturing / processing apparatus according to claim 3, further comprising: a plurality of pipes having small holes.
【請求項5】 上記消泡漕の配管が、上記回路基板製造
処理装置内の排水配管に接続されていることを特徴とす
る請求項4に記載の回路基板製造処理装置。
5. The circuit board manufacturing / processing apparatus according to claim 4, wherein the defoaming tank piping is connected to drainage piping in the circuit board manufacturing / processing apparatus.
【請求項6】 上記消泡漕が、上記薬液漕内の泡を取り
込むために上記泡を吸引するための吸引手段を有するこ
とを特徴とする請求項3に記載の回路基板製造処理装
置。
6. The circuit board manufacturing / processing apparatus according to claim 3, wherein the defoaming tank has a suction means for sucking the bubbles in order to take in the bubbles in the chemical liquid tank.
【請求項7】 上記吸引手段が、上記消泡漕内を排気す
るための排気装置であることを特徴とする請求項6に記
載の回路基板製造処理装置。
7. The circuit board manufacturing / processing apparatus according to claim 6, wherein the suction means is an exhaust device for exhausting the inside of the defoaming tank.
【請求項8】 回路基板の現像洗浄を行う現像装置を有
する回路基板製造処理装置であって、上記現像洗浄に使
用する薬液を溜めておく薬液漕に発生した泡を引き込ん
で消泡するための消泡漕を具備することを特徴とする回
路基板製造処理装置。
8. A circuit board manufacturing / processing apparatus having a developing device for developing and cleaning a circuit board, for drawing bubbles generated in a chemical liquid tank for storing the chemical liquid used for the development cleaning to eliminate the bubbles. A circuit board manufacturing / processing apparatus comprising a defoaming tank.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006301024A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Fujikura Ltd Method and device for removing scum in developing machine
JP2010212660A (en) * 2009-02-16 2010-09-24 Tokyo Kakoki Kk Foam processing apparatus
KR101154548B1 (en) 2010-01-05 2012-06-13 도쿄 가코키 컴퍼니 리미티드 Foams treatment apparatus
JP2012532471A (en) * 2009-07-06 2012-12-13 ゲブリューダー シュミット ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Method and apparatus for processing a substrate

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006301024A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Fujikura Ltd Method and device for removing scum in developing machine
JP4481865B2 (en) * 2005-04-15 2010-06-16 株式会社フジクラ Method and apparatus for removing scum in developing machine
JP2010212660A (en) * 2009-02-16 2010-09-24 Tokyo Kakoki Kk Foam processing apparatus
JP4673430B2 (en) * 2009-02-16 2011-04-20 東京化工機株式会社 Foam processing equipment
JP2012532471A (en) * 2009-07-06 2012-12-13 ゲブリューダー シュミット ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Method and apparatus for processing a substrate
KR101154548B1 (en) 2010-01-05 2012-06-13 도쿄 가코키 컴퍼니 리미티드 Foams treatment apparatus

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