JP2003217846A - 有機積層部材、色変換部材およびその製造方法 - Google Patents
有機積層部材、色変換部材およびその製造方法Info
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Abstract
スプレイ等に用いられる色変換部材の製造工程数を減ら
し、安定的に微細なパターンを形成でき、生産性を向上
できる製造方法を提供する。 【解決手段】 基材と、前記基材上に少なくとも第1有
機物層と第2有機物層とが順次積層された有機物層とか
らなる有機積層部材の製造方法であって、前記第1有機
物層と第2有機物層とを単一のフォトリソグラフィー工
程によってパターニングする。
Description
の製造方法、特に好適には有機ELカラーディスプレイ
に使用される色変換部材とその製造方法に関する。
る有機積層部材は様々な分野で用いられているが、その
うちの1つに有機ELディスプレイなどのカラーディス
プレイに用いられる蛍光体層と外光遮断層(カラーフィ
ルター)を積層した色変換部材がある。このような色変
換部材(外光遮断層および蛍光体層)は、例えば特開平
9−115668号公報や1998 SID International Sym
posium Digest of Technical Papers/Vol XXIX、p.7-10
に開示されている。
ィスプレイは、典型的には、青色発光有機EL素子を、
任意の蛍光変換材料(CCM材料)を用いることにより
緑色および赤色に変換し、RGBの3色を取り出すこと
によりフルカラー化を行う。現在既に青色発光EL素子
が実用化レベルの性能を有しており、これを光源にした
G、Rの蛍光発光に関しても、高効率なものが得られて
いる。この方式による有機ELカラーディスプレイは、
EL素子が単色で済み、一般的なフォトリソグラフィー
法により色変換部材が形成できるので、EL材料の利用
効率が高く、高精細化が容易で、生産性も高いという長
所がある。そして、蛍光体層に入り込む外光により蛍光
体層が励起され、EL素子の非発光状態においても蛍光
体層が蛍光を発生して、コントラストが低下してしまう
問題を解消するため、前記文献に開示されているよう
に、蛍光体層の外側(外光の入射側)に、蛍光体層の励
起波長を遮断し、かつ、蛍光波長を透過する外光遮断層
を配置して、コントラストの向上を図り、発光色の色純
度を向上させることが行われている。
いて用いられる色変換部材において、積層された外光遮
断層と蛍光体層が混ざり込み、外光遮断層成分が、EL
素子の発光または蛍光を吸収して、色変換性能を著しく
低下させる場合があった。また、外光遮断層内に蛍光体
層成分が混ざり込むと、外光により蛍光体層成分が蛍光
を発するため、コントラストを低下させる場合があっ
た。さらに、このような色変換方式において用いられる
色変換部材を一般的なフォトリソグラフィー法により作
製する際には、外光遮断層については、少なくともR,
Gの2回、ならびに蛍光体層についてR,Gの2回、計
4回(パターンの数だけ)のフォトリソグラフィーを行
なうことになる。このフォトリソグラフィー工程は、感
材塗布、乾燥、露光、現像、焼成を行なうものであるの
で、蛍光体層と外光遮断層を併用した色変換部材を作製
するとき、結果的に製造工程数が非常に多くなる。した
がって、工程数、歩留まり、生産性、コストの面での問
題が生じ、フォトリソグラフィー工程数の減少が望まれ
ている。
解決するものであり、本発明の目的は、有機積層部材、
特にフルカラー有機ELディスプレイ等に用いられる色
変換部材に関し、高性能な色変換性能を有する色変換部
材を提供することである。
安定的に微細なパターンを形成でき、有機積層部材、特
にフルカラー有機ELディスプレイ等に用いられる色変
換部材の生産性を著しく向上できる製造方法を提供する
ことである。
部材を用いたフルカラー有機ELディスプレイを提供す
ることである。
が、互いの機能を妨げず、高性能な機能を発揮する有機
積層部材の構成、および、その効率的な製造法を見出し
本発明を完成させた。
法は、基材と、前記基材上に少なくとも第1有機物層と
第2有機物層とが順次積層された有機物層とからなる有
機積層部材の製造方法であって、前記第1有機物層と第
2有機物層とを単一のフォトリソグラフィー工程によっ
てパターニングすることを特徴とする方法である。
前記基材上に少なくとも第1有機物層と第2有機物層と
が順次積層された有機物層とからなる有機積層部材であ
って、前記第1有機物層と第2有機物層とが作成時に互
いに混ざり合わない材料から構成されていることを特徴
とするものである。
上に少なくとも第1有機物層と第2有機物層とが順次積
層された有機物層とからなる有機積層部材の製造方法で
あって、前記第1有機物層と第2有機物層とを単一のフ
ォトリソグラフィー工程によってパターニングすること
を特徴としている。この方法においては、積層される有
機物層は2層以上あれば何層でもよく、有機物層の間
に、保護層など任意の層が積層されていてもよい。さら
に単一のフォトリソグラフィー工程によってパターニン
グされる有機物層は、これらの積層された有機物層の全
てでも一部でもよく、2層以上あれば何層でもよく、単
一のフォトリソグラフィー工程でパターニングされる有
機物層の間に、無機化合物等、任意の層が積層されてい
てもよい。
は、塗布、乾燥、露光、現像および/またはエッチング
の工程を含む一連の工程を意味する。この工程内には、
適宜、焼成工程が含まれていてもよい。なお、単一とは
いっても、例えば、層毎に異なる薬液を用いて現像する
ことも含まれる。具体的には例えば、第1液を塗布、乾
燥後、続いて第2液を塗布、乾燥して、以後の露光、現
像、エッチング、焼成工程について再度塗布、乾燥工程
に戻ることなく工程を進められることを含む。より具体
的には例えば、塗布→乾燥→塗布→乾燥→露光
→現像(→現像)→エッチング(→エッチング
)→焼成という工程が挙げられる。
基材上に少なくとも第1有機物層と第2有機物層とが順
次積層された有機物層とからなる有機積層部材の製造方
法であって、前記第1有機物層と第2有機物層とを単一
のフォトリソグラフィー工程によってパターニングする
ことを特徴とする方法において、前記第1有機物層が蛍
光体層であり、前記第2有機物層が前記蛍光体層の励起
波長を遮断し、かつ、蛍光体層の蛍光波長を透過する外
光遮断層である、または、 前記第2有機物層が蛍光体
層であり、前記第1有機物層が外光遮断層である方法で
ある。
外光遮断層/蛍光体層または基材/蛍光体層/外光遮断
層の積層順であれば、その他に任意の層がいずれの位置
に積層されていてもよい。また、この任意の層は上記の
単一のフォトリソグラフィー工程によってパターニング
される層であってもされない層であってもよい。
例を説明する図である。図1(a)の透明基材1上に、
図1(b)のようにブラックマトリクス2を形成する。
その後、図1(c)のように青色外光遮断層3を塗布
し、さらに、図1(d)のように青色蛍光体層4を塗布
し、図1(e)のようにパターン露光・現像を行う。同
様に緑色外光遮断層3’、緑色蛍光体層4’、赤色外光
遮断層3”、赤色蛍光体層4”を形成すると図1(f)
のようになり、さらに図1(g)のようにオーバーコー
ト5を形成して色変換部材が完成する。
工程の例を説明する図である。図2(a)の透明基材1
上に、図2(b)のようにブラックマトリクス2を形成
する。その後、図2(c)のように青色外光遮断層3を
パターニングし、ついで図2(d)のように緑色外光遮
断層3’をパターニングし、さらに、図2(e)のよう
に赤色外光遮断層3”をパターニングする。その後、図
2(f)のように青色蛍光体層4をパターニングし、つ
いで図2(g)のように緑色蛍光体層4’をパターニン
グし、さらに図2(h)のように赤色蛍光体層4”をパ
ターニングする。そして図2(i)のようにオーバーコ
ート5を形成して色変換部材が完成する。
従来の製造法では、露光・現像によるパターニングの回
数が、3色の外光遮断層毎に3回と3色の蛍光体層毎の
3回、合計6回必要であるのに対し、本発明の製造方法
では、外光遮断層と蛍光体層を一括して、さらに保護層
を設けるときには保護層も一括してパターニングするた
め、露光・現像の回数が合計でも3回と少なくすること
ができ優れている。
1有機物層と第2有機物層とが順次積層された有機物層
とからなる有機積層部材であって、第1有機物層と第2
有機物層とが作成時に互いに混ざり合わない材料から構
成されている。好ましくは第1有機物層と第2有機物層
との間に作成時に第1有機物層と第2有機物層とが混ざ
り合うことを防止する保護層を設けることができる。ま
た、本発明の有機積層部材の製造方法により製造された
ものであれば本発明の有機積層部材である。また、好ま
しくは有機物層が、基材上に平面的に分離配置されてい
るものとすることができる。
とができる。
いて、第1有機物層が蛍光体層であり、第2有機物層が
蛍光体層の励起波長を遮断し、かつ、蛍光体層の蛍光波
長を透過する外光遮断層とする、または、第2有機物層
が蛍光体層であり、第1有機物層を外光遮断層とするこ
とで得ることができる。
れたEL素子などの光源からの光を吸収し、より長波長
の光に蛍光変換する層である。
体励起波長を吸収し、かつ、蛍光体層からの蛍光を透過
させることにより、コントラスト特性を向上させる層で
ある。外光遮断層は、必要に応じて、蛍光色の色純度を
向上させる役割も行う。
遮断層と蛍光体層との界面において、両者の材料が混ざ
り合っている場合、外光遮断層成分が、EL素子の発光
または蛍光体層の蛍光を吸収して、色変換性能を著しく
低下させてしまう。また、外光遮断層内に蛍光体層成分
が混ざり込むと、外光により蛍光体層成分が蛍光を発す
るため、著しくコントラストを低下させてしまう。
と蛍光体層は、前述の有機物層と同様に、作成時に互い
に混ざり合わない材料から形成する。好ましくは例え
ば、外光遮断層を水溶液から形成し、色変換フィルター
を有機溶媒の溶液から形成することや、外光遮断層を有
機溶媒の溶液から形成し、色変換フィルターを水溶液か
ら形成することができる。
わせて、カラーディスプレイとすることもできる。
特に限定されることはなく、基材上に形成された第1有
機物層と第1有機物層上に形成する第2有機物層から少
なくともなることができる。そして、第1有機物層と第
2有機物層とを、作成時に互いに混ざり合わない材料か
ら形成する。
わない」とは、第1有機物層形成時、第2有機物層形成
時およびパターニング時、焼成時を含め最終工程終了ま
で互いに混ざり合わず、作成終了後に機能が損なわれて
いないことを意味する。
機物層と第2有機物層との間に、互いが混ざり合うこと
を防止するための保護層が設けられている。
えば固形化された第1有機物層が第2有機物層を形成す
るための塗液にこの製造方法において溶出し、その結果
両層の界面を不均一に著しく乱さないことを意味する。
と第2有機物層の組み合わせとしては、例えば表面張力
の差が大きな材料の組合わせや、水に可溶な材料と有機
溶媒に可溶な材料との組合わせを挙げることができる。
表面張力の大小関係は、簡易的には水接触角の大小関係
で判断することができる。
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキ
シエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート重合体、ポリアク
リル酸等)のような極性基を有する樹脂膜表面の水接触
角は20〜30°程度の値を示し、アクリル酸エステル
樹脂膜表面の水接触角は50〜70°程度の値を示す。
このように、水接触角が好ましくは20°以上異なる材
料の組合わせを選定することにより、互いに混ざり合わ
ないようにすることができる。
り合わない材料としては、ポリアミック酸樹脂、ポリイ
ミド樹脂、ポリアミド樹脂と、アクリル酸エステル樹
脂、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、ポリケ
イ皮酸ビニル、環化ゴム、環状ポリオレフィン、ノボラ
ック樹脂、または、アクリル酸エステル樹脂と、環化ゴ
ム、環状ポリオレフィンとの組み合せのように、有機溶
媒に対する溶解性が異なる樹脂を挙げることができる。
溶媒(例えば溶媒100gに対する溶質の溶解量の百分
率である溶解度が1%以上)にて、第1有機物層が溶解
しない、または溶解しにくい(例えば溶解度が1%未
満)という有機物層の組合わせが好ましい。例えば、第
1有機物層にポリアミック酸樹脂を用い、第2有機物層
にアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体を用いた場
合、ポリアミック酸樹脂は、アクリル酸−アクリル酸エ
ステル共重合体を溶解するエステル系溶媒には溶解しな
い。また、第1有機物層にアクリル酸エステル樹脂を用
い、第2有機物層に環状ポリオレフィンを用いた場合、
アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体は、環状ポリ
オレフィンを溶解する炭化水素系溶媒には溶解しない。
このような組み合わせにより、第1有機物層と第2有機
物層は混ざり合わないことになる。
余りない場合、例えば両者の水接触角差が20°未満の
場合や、第1有機物層と第2有機物層のある特定の溶媒
に対する溶解性が類似している場合には、好適には第1
有機物層と第2有機物層との間に保護層を設けることに
より、二つの有機物層を混ざり合わないようにすること
ができる。二つの有機物層が混ざり合いにくい場合であ
っても、保護層を設けることは構わない。
よび/もしくは第2有機物層表面の水接触角との差が好
ましくは20°以上あること、または、第1および/も
しくは第2有機物層の溶媒に溶解しないことが望まし
い。20°未満の場合、または、第1および第2有機物
層の溶媒に溶解する場合には、第1有機物層と保護層、
または保護層と第2有機物層とが互いに混ざり合い、所
望の特性が発現することを妨げるからである。また、保
護層は、好ましくは第1有機物層および/または第2有
機物層で用いるパターニング液(現像液)でパターニン
グされるものとすることができる。
有機物層および第2有機物層として、有機溶媒に可溶な
アクリル系樹脂を用いる場合には、水溶性ポリマー層を
用いることにより、各層が互いに混ざり合うことを防止
することができる。
合物も挙げることができる。例えば、金等の金属、酸化
錫、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、
酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ゲルマニウム、酸
化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、ホウ酸、
酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化鉛、ジルコニ
ア、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素、フッ化カルシウム等
の1種または2種以上の無機酸化物、無機窒化物が挙げ
られる。
部材の機能を有してもよく、さらには色変換部材の特性
を向上させる機能を有してもよい。具体的には、顔料分
散系外光遮断膜の分光特性を補正するものとして、染料
系色素を含有する保護層を設けてもよい。色変換部材の
特性を向上させない場合には、可視光領域において透過
率が高い方(50%以上)が望ましい。
るか否かは、積層した層の断面を観察するか、それぞれ
の層成分を分光的または化学的に分析することにより判
定することができる。具体的には、層断面の光学顕微鏡
観察や、SEM(Scanning Electron Microscopy)観察
にて、層界面が明確なこと、または、層の成分をAES
(Auger Electron Microscopy)、EPMA、XPS、
ダイナミックシムス、トフシムス等の分光分析、層材料
をIR、NMR、UV−Vis、ICP等の化学分析に
より膜界面に層成分が混在しない場合に有機物層が混ざ
りあっていないと判断できる。また、色変換部材の特性
を乱さない閾値としては、白色または青色などの特定光
源を用いた透過率測定や放射輝度測定において、特性を
50%以上低下させないものとすることもできる。
に強度を付与するために設けられるものであり、材料は
特に限定されるものではない。色変換部材に用いる場合
であって、基材が光取り出し側に設けられる場合では、
少なくとも可視光線のうち取り出される光が透過するも
のであれば限定されず、光源光を受けて蛍光体層に光を
透過させるべき部位に設けられる場合は、少なくとも光
源光を透過すれば限定されず、光源からみて光取り出し
側と反対面に基材が設けられる場合には、基材にAlやAg
などの薄膜を設け反射率の高い基材とすることができ
る。
の焼成温度において、変形を伴う軟化をせず、溶融しな
いものとする。さらにこの温度において変質したり、光
取り出し効率が低下しない基材が望ましい。例えば、ア
ルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどのガ
ラス基板や、ポリエーテルサルフォンフィルムなとの1
50℃以上のガラス転移温度を有するフィルム基材が好
ましい。
合、水分および酸素による有機EL素子発光部の非発光
領域(ダークスポット)の成長に伴う発光特性の低下を
抑制するため、基材は水蒸気バリア性および酸素バリア
性に優れた基材が好ましい。具体的には、水蒸気透過率
が40℃/100%RH測定下で、10−3g/(m2
・day・atom)以下、酸素透過率が25℃/90
%RH測定下で、10− 2cc/(m2・day・at
om)以下であることが望ましい。
ラス基板(日本電気硝子株式会社製OA−10)を準備
した。
外光遮断層として、赤色カラーフィルター材料(新日鉄
化学株式会社製V259R:30%アントラキノン系顔
料含有アクリル酸エステル系光硬化型レジスト)をスピ
ンコート塗布し、クリーンオーブン中80℃で15分間
プリベイク(PB)を行なった。
水溶液(大日本印刷株式会社製:ポリビニルアルコール
系光硬化型レジスト)をスピンコート塗布し、真空クリ
ーンオーブン中80℃で15分間プリベイク(PB)を
行なった。
0.03mol/kg(固形分中)、ローダミン6G:
1重量%(固形分中)、ローダミンB:1重量%(固形
分中)になるように、それぞれをアクリル酸エステル系
光硬化型レジスト(新日鉄化学株式会社製V259PA
/PH5、50%固形分濃度)中に混合して、赤色蛍光
材料(固形分45%、溶媒:プロピレングルコールメチ
ルエーテルアセテート)を調製した。
ピンコート塗布し、同様にプリベイクを行なった。
光機(光源:高圧水銀灯)を用いて、L/S=50μm
/100μmのストライプパターンが得られる石英製ク
ロムマスクを介して、露光量が1500mJ/cm
2(波長365nmにおける積算量)となる条件でパタ
ーン露光し、0.5重量%水酸化カリウム水溶液を用い
て室温で1分間揺動現像した。
中180℃で30分間焼成(POB)を行うことによ
り、外光遮断層/保護層/蛍光体層のパターン基板を得
た。このときの積層膜の膜厚は約12μmであった。
外光遮断層として、赤色カラーフィルター材料(30%
アントラキノン系顔料含有PVA−sbq水系分散液
(PVA−sbq:大日本印刷株式会社製ポリビニルア
ルコール系光硬化型レジスト)をスピンコート塗布し、
クリーンオーブン中80℃で15分間プリベイク(P
B)を行なった。
た。
中180℃で30分間焼成(POB)を行うことによ
り、外光遮断層/蛍光体層のパターン基板を得た。この
ときの積層膜の膜厚は約10μmであった。
外光遮断層として、赤色カラーフィルター材料(30%
アントラキノン系顔料含有ポリアミック酸分散液(ポリ
アミック酸:東レ株式会社製SP910)をスピンコー
ト塗布し、クリーンオーブン中140℃で15分間プリ
ベイク(PB)を行なった。
た。
光機(光源:高圧水銀灯)を用いて、L/S=50μm
/100μmのストライプパターンが得られる石英製ク
ロムマスクを介して、露光量が1500mJ/cm
2(波長365nmにおける積算量)となる条件でパタ
ーン露光し、0.5重量%水酸化カリウム水溶液を用い
て室温で1分間揺動現像した。
中180℃で30分間焼成(POB)を行うことによ
り、外光遮断層/蛍光体層のパターン基板を得た。この
ときの積層膜の膜厚は約10μmであった。
て、外光遮断層/蛍光体層パターン基板を得た。このと
きの積層膜の膜厚は約10μmであった。
遮断層として、赤色カラーフィルター材料(新日鉄化学
株式会社製V259R:30%アントラキノン系顔料含
有アクリル酸エステル系光硬化型レジスト)をスピンコ
ート塗布し、クリーンオーブン中80℃で15分間プリ
ベイク(PB)を行なった。次に、これを露光機(光
源:高圧水銀灯)を用いて、L/S=50μm/100
μmのストライプパターンが得られる石英製クロムマス
クを介して、露光量が1500mJ/cm2(波長36
5nmにおける積算量)となる条件でパターン露光し、
0.5重量%水酸化カリウム水溶液を用いて室温で1分
間揺動現像した。
分間焼成(POB)を行うことにより、外光遮断層パタ
ーン基板を得た。このときの外光遮断層の膜厚は約1μ
mであった。
クマリン6:0.03mol/:kg(固形分中)、ロ
ーダミン6G:1重量%(固形分中)、ローダミンB:
1重量%(固形分中)になるように、それぞれをアクリ
ル酸エステル系光硬化型レジスト(新日鉄化学株式会社
製V259PA/PH5.50%固形分濃度)中に混合
して、赤色蛍光材料(固形分45%、溶媒:プロピレン
グルコールメチルエーテルアセテート)を調製した。
蛍光材料をスピンコート塗布し、同様にプリベイクを行
なった。
を有する露光機(光源:高圧水銀灯)を用いて、L/S
=50μm/100μmのストライプパターンが得られ
る石英製クロムマスクを介して、露光量が1500mJ
/cm2(波長365nmにおける積算量)となる条件
で、先の外光遮断層パターンに重ねるように位置合わせ
を行い、パターン露光し、0.5重量%水酸化カリウム
水溶液を用いて室温で1分間揺動現像した。
分間焼成(POB)を行うことにより、外光遮断層/蛍
光体層のパターン基板を得た。このときの積層膜の膜厚
は約10μmであった。
ーン基板を得るのに、2回のフォトリソ工程を行う必要
があるのに対し、実施例は1回の工程でよく、工程数が
実施例に比べて多いのは明らかである。
に示す。
った。
板の蛍光体層面を下にして、青色励起光源(ピーク波長
470nm、半値幅50nmの青色LED)に重ね、1
00μmのライン部分から基板の外光遮断層側に取り出
される赤色光のスペクトルを顕微分光測定装置(顕微
鏡:ニコン株式会社製、分光器:大塚電子株式会社製M
CPD−2000)により測定した。
源自体の発光スペクトルを測定した。
との演算から輝度および色度(CIE1931)を算出
した。
従い、輝度変換効率を算出した。
度)/(青色LEDの輝度) なお、青色LEDを青色有機EL素子に置き換えても、
同等の色変換部材の評価ができた。
た基板の断面形状を光学顕微鏡および走査型電子顕微鏡
(SEM)により観察した。
プロセスにおける色変換部材と比較して、実施例の色変
換部材は輝度変換効率が向上した。
/蛍光体層を含む色変換部材の製造が可能であることが
実証された。
を行なうことによりフルカラーディスプレイに適用する
ことが可能である。
ルカラー有機ELディスプレイ等に用いられる色変換部
材の性能を向上できる。また、製造工程数を減らし、安
定的に微細なパターンを形成でき、著しく生産性を向上
できる製造方法を提供でき、その結果、歩留まり、生産
性、コストの面での改善ができる。さらにそのような色
変換部材を用いたフルカラー有機ELディスプレイを提
供できる。
である。
ある。
Claims (15)
- 【請求項1】基材と、前記基材上に少なくとも第1有機
物層と第2有機物層とが順次積層された有機物層とから
なる有機積層部材の製造方法であって、 前記第1有機物層と第2有機物層とを単一のフォトリソ
グラフィー工程によってパターニングすることを特徴と
する、有機積層部材の製造方法。 - 【請求項2】前記第1有機物層と前記第2有機物層と
を、作成時に互いに混ざり合わない材料から形成する、
請求項1に記載の有機積層部材の製造方法。 - 【請求項3】前記第1有機物層を水溶液から形成し、前
記第2有機物層を有機溶媒の溶液から形成する、請求項
2に記載の有機積層部材の製造方法。 - 【請求項4】前記第1有機物層を有機溶媒の溶液から形
成し、前記第2有機物層を水溶液から形成する、請求項
2に記載の有機積層部材の製造方法。 - 【請求項5】前記第1有機物層と前記第2有機物層との
間に、作成時に前記第1有機物層および/または前記第
2有機物層と混ざり合わない材料からなる保護層を設
け、前記第1有機物層と前記第2有機物層とが作成時に
互いに混ざり合うことを防止する、請求項1に記載の有
機積層部材の製造方法。 - 【請求項6】前記保護層を水溶液から形成する、請求項
5に記載の有機積層部材の製造方法。 - 【請求項7】前記保護層を水溶性ポリマーを含む水溶液
から形成する、請求項6に記載の有機積層部材の製造方
法。 - 【請求項8】請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機
積層部材の製造方法であって、 前記第1有機物層が蛍光体層であり、前記第2有機物層
が前記蛍光体層の励起波長を遮断し、かつ、蛍光体層の
蛍光波長を透過する外光遮断層である、または、 前記
第2有機物層が蛍光体層であり、前記第1有機物層が外
光遮断層である、色変換部材の製造方法。 - 【請求項9】基材と、前記基材上に少なくとも第1有機
物層と第2有機物層とが順次積層された有機物層とから
なる有機積層部材であって、 前記第1有機物層と第2有機物層とが作成時に互いに混
ざり合わない材料から構成されていることを特徴とす
る、有機積層部材。 - 【請求項10】基材と、前記基材上に少なくとも第1有
機物層と第2有機物層とが順次積層された有機物層とか
らなる有機積層部材であって、 前記第1有機物層と前記第2有機物層との間に作成時に
前記第1有機物層と前記第2有機物層とが混ざり合うこ
とを防止する保護層が設けられていることを特徴とす
る、有機積層部材。 - 【請求項11】前記保護層が、水溶性ポリマーから作成
された層である、請求項10に記載の有機積層部材。 - 【請求項12】請求項1〜7のいずれか1項に記載の方
法によって製造された、有機積層部材。 - 【請求項13】前記有機物層が、基材上に平面的に分離
配置されている請求項9〜12のいずれか1項に記載の
有機積層部材。 - 【請求項14】請求項9〜13のいずれか1項に記載の
有機積層部材であって、 前記第1有機物層が蛍光体層であり、前記第2有機物層
が前記蛍光体層の励起波長を遮断し、かつ、蛍光体層の
蛍光波長を透過する外光遮断層である、または、 前記
第2有機物層が蛍光体層であり、前記第1有機物層が外
光遮断層である、色変換部材。 - 【請求項15】請求項14に記載の色変換部材とEL素
子とを組み合わせてなるカラーディスプレイ。
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JP2008098106A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
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JP2021533404A (ja) * | 2018-07-31 | 2021-12-02 | 東レ先端素材株式会社Toray Advanced Materials Korea, Inc. | 色変換シート及びこれを含むバックライトユニット |
JP7055956B2 (ja) | 2018-07-31 | 2022-04-19 | 東レ先端素材株式会社 | 色変換シート及びこれを含むバックライトユニット |
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