JP2003215308A - 転写用反射防止フィルム、その製造方法及び反射防止処理された物体 - Google Patents
転写用反射防止フィルム、その製造方法及び反射防止処理された物体Info
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- JP2003215308A JP2003215308A JP2002016462A JP2002016462A JP2003215308A JP 2003215308 A JP2003215308 A JP 2003215308A JP 2002016462 A JP2002016462 A JP 2002016462A JP 2002016462 A JP2002016462 A JP 2002016462A JP 2003215308 A JP2003215308 A JP 2003215308A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止層を構成する低屈折率層及び高屈折
率層を塗布により均一に形成でき、しかも生産効率の高
い、転写用反射防止フィルムの製造方法を提供する。 【解決手段】 支持体１と、支持体１上に設けられた低
屈折率層２ａ及び低屈折率層２ａ上に設けられた低屈折
率層の屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層２ｂを
含む反射防止層２と、反射防止層２上に設けられた接着
剤層３とを有し、前記低屈折率層２ａは紫外線硬化型ハ
ードコート層であり、かつ前記支持体１は前記反射防止
層２から剥離可能である転写用反射防止フィルム。
率層を塗布により均一に形成でき、しかも生産効率の高
い、転写用反射防止フィルムの製造方法を提供する。 【解決手段】 支持体１と、支持体１上に設けられた低
屈折率層２ａ及び低屈折率層２ａ上に設けられた低屈折
率層の屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層２ｂを
含む反射防止層２と、反射防止層２上に設けられた接着
剤層３とを有し、前記低屈折率層２ａは紫外線硬化型ハ
ードコート層であり、かつ前記支持体１は前記反射防止
層２から剥離可能である転写用反射防止フィルム。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、転写用反射防止フ
ィルム及びその製造方法に関する。本発明の転写用反射
防止フィルムは、反射防止処理すべき対象物体表面へ反
射防止層を転写により形成する際に用いられる。また、
本発明は、前記転写用反射防止フィルムを用いて反射防
止処理された物体にも関する。
ィルム及びその製造方法に関する。本発明の転写用反射
防止フィルムは、反射防止処理すべき対象物体表面へ反
射防止層を転写により形成する際に用いられる。また、
本発明は、前記転写用反射防止フィルムを用いて反射防
止処理された物体にも関する。
【０００２】反射防止処理すべき対象物体としては、均
一厚みの塗布層を形成しにくい板材のような可撓性に乏
しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミックスのよう
な物体、樹脂フィルム、シート、プレート等が含まれ
る。例えば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、リアプロジェクター用ス
クリーン、エレクトロルミネッセンスディスプレーに代
表される表示素子の表面は、反射防止処理が求められて
おり、対象物体の具体例として挙げられる。
一厚みの塗布層を形成しにくい板材のような可撓性に乏
しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミックスのよう
な物体、樹脂フィルム、シート、プレート等が含まれ
る。例えば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、リアプロジェクター用ス
クリーン、エレクトロルミネッセンスディスプレーに代
表される表示素子の表面は、反射防止処理が求められて
おり、対象物体の具体例として挙げられる。
【０００３】
【従来の技術】従来より、ＣＲＴ表面等への反射防止処
理は、スパッタリング、スピンコート等によって行われ
ているが、これらは枚葉式で行われるため生産性に乏し
い。このため、ＣＲＴ表面等へ直接的に反射防止処理す
るのではなく、可撓性フィルムを支持体として用いて、
ロールトゥロールで効率よく反射防止フィルムを連続生
産し、反射防止フィルムを用いてＣＲＴ表面等への反射
防止処理が行われるようになってきている。
理は、スパッタリング、スピンコート等によって行われ
ているが、これらは枚葉式で行われるため生産性に乏し
い。このため、ＣＲＴ表面等へ直接的に反射防止処理す
るのではなく、可撓性フィルムを支持体として用いて、
ロールトゥロールで効率よく反射防止フィルムを連続生
産し、反射防止フィルムを用いてＣＲＴ表面等への反射
防止処理が行われるようになってきている。
【０００４】特開平７−２２５３０２号公報には、反射
防止フィルムを対象物表面にラミネートすることが開示
されている。しかしながら、同号公報によれば、対象物
表面には、反射防止フィルムの支持体フィルムが存在
し、その支持体上に反射防止層が存在する。支持体フィ
ルムの存在によって、表面の硬度低下、ヘイズの上昇、
光線透過率の低下、表面被覆の全膜厚の増加といった弊
害が生じる。これらの弊害は、ＣＲＴに代表される表示
素子の表面においては、重要な問題である。
防止フィルムを対象物表面にラミネートすることが開示
されている。しかしながら、同号公報によれば、対象物
表面には、反射防止フィルムの支持体フィルムが存在
し、その支持体上に反射防止層が存在する。支持体フィ
ルムの存在によって、表面の硬度低下、ヘイズの上昇、
光線透過率の低下、表面被覆の全膜厚の増加といった弊
害が生じる。これらの弊害は、ＣＲＴに代表される表示
素子の表面においては、重要な問題である。
【０００５】特開２０００−３３８３０６号公報には、
離型性を有するベースフィルム面上に、低屈折率層とし
てのシロキサン系樹脂層と、その上の高屈折率層として
の金属酸化物含有層と、さらにその上の接着層とを有す
る反射防止制電板用転写材が開示されている。しかし、
その製造方法について詳しく検討されていない。
離型性を有するベースフィルム面上に、低屈折率層とし
てのシロキサン系樹脂層と、その上の高屈折率層として
の金属酸化物含有層と、さらにその上の接着層とを有す
る反射防止制電板用転写材が開示されている。しかし、
その製造方法について詳しく検討されていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような背景から、
物体表面に均一厚みの反射防止層を転写によって簡便に
且つ密着性良く形成でき、板材のように可撓性に乏しい
物体表面、とりわけ表示素子表面に付与でき、更には、
反射防止層を構成する低屈折率層及び高屈折率層を塗布
により均一に形成でき、しかも生産効率の高い、転写用
反射防止フィルム及びその製造方法を提供することにあ
る。
物体表面に均一厚みの反射防止層を転写によって簡便に
且つ密着性良く形成でき、板材のように可撓性に乏しい
物体表面、とりわけ表示素子表面に付与でき、更には、
反射防止層を構成する低屈折率層及び高屈折率層を塗布
により均一に形成でき、しかも生産効率の高い、転写用
反射防止フィルム及びその製造方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、低屈折率層を紫外線硬化型ハードコート剤を塗
布、硬化して設けることにより、上記目的が達成される
ことを見いだし、本発明に到達した。
結果、低屈折率層を紫外線硬化型ハードコート剤を塗
布、硬化して設けることにより、上記目的が達成される
ことを見いだし、本発明に到達した。
【０００８】本発明は、支持体と、支持体上に設けられ
た１層又は２層以上の層を含む反射防止層と、反射防止
層上に設けられた接着剤層とを有し、反射防止層を構成
する層のうちの少なくとも１層は、紫外線硬化型ハード
コート層であり、かつ前記支持体は前記反射防止層から
剥離可能である転写用反射防止フィルムである。
た１層又は２層以上の層を含む反射防止層と、反射防止
層上に設けられた接着剤層とを有し、反射防止層を構成
する層のうちの少なくとも１層は、紫外線硬化型ハード
コート層であり、かつ前記支持体は前記反射防止層から
剥離可能である転写用反射防止フィルムである。
【０００９】本発明は、支持体と、支持体上に設けられ
た低屈折率層及び低屈折率層上に設けられた低屈折率層
の屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層を含む反射
防止層と、反射防止層上に設けられた接着剤層とを有
し、前記低屈折率層は紫外線硬化型ハードコート層であ
り、かつ前記支持体は前記反射防止層から剥離可能であ
る転写用反射防止フィルムである。
た低屈折率層及び低屈折率層上に設けられた低屈折率層
の屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層を含む反射
防止層と、反射防止層上に設けられた接着剤層とを有
し、前記低屈折率層は紫外線硬化型ハードコート層であ
り、かつ前記支持体は前記反射防止層から剥離可能であ
る転写用反射防止フィルムである。
【００１０】本発明は、前記高屈折率層は、金属酸化物
微粒子を含む層である、前記の転写用反射防止フィルム
である。
微粒子を含む層である、前記の転写用反射防止フィルム
である。
【００１１】本発明は、前記接着剤層上にセパレーター
が設けられている、前記の転写用反射防止フィルムであ
る。
が設けられている、前記の転写用反射防止フィルムであ
る。
【００１２】また、本発明は、支持体上に紫外線硬化型
ハードコート剤塗布液を塗布、乾燥し、紫外線照射によ
り硬化させて、低屈折率層を前記支持体とは剥離可能に
形成する工程と、前記低屈折率層上に高屈折率層用塗布
液を塗布、乾燥して、低屈折率層の屈折率より高い屈折
率を有する高屈折率層を形成する工程と、前記高屈折率
層上に接着剤層を形成する工程とを含む、転写用反射防
止フィルムの製造方法である。
ハードコート剤塗布液を塗布、乾燥し、紫外線照射によ
り硬化させて、低屈折率層を前記支持体とは剥離可能に
形成する工程と、前記低屈折率層上に高屈折率層用塗布
液を塗布、乾燥して、低屈折率層の屈折率より高い屈折
率を有する高屈折率層を形成する工程と、前記高屈折率
層上に接着剤層を形成する工程とを含む、転写用反射防
止フィルムの製造方法である。
【００１３】本発明は、前記高屈折率層用塗布液は、金
属酸化物微粒子を含有する、前記の転写用反射防止フィ
ルムの製造方法である。
属酸化物微粒子を含有する、前記の転写用反射防止フィ
ルムの製造方法である。
【００１４】本発明は、低屈折率層の形成工程の後、巻
き取ることなく連続して高屈折率層の形成工程を行う、
前記の転写用反射防止フィルムの製造方法である。
き取ることなく連続して高屈折率層の形成工程を行う、
前記の転写用反射防止フィルムの製造方法である。
【００１５】本発明は、接着剤層の形成工程において、
高屈折率層上に接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤層
を形成し、その後必要に応じて、接着剤層上にセパレー
ターを設ける、前記の転写用反射防止フィルムの製造方
法である。
高屈折率層上に接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤層
を形成し、その後必要に応じて、接着剤層上にセパレー
ターを設ける、前記の転写用反射防止フィルムの製造方
法である。
【００１６】本発明は、接着剤層の形成工程において、
セパレーター上に接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤
層として、その後、高屈折率層上に接着剤層をラミネー
トして接着剤層を形成する、前記の転写用反射防止フィ
ルムの製造方法である。
セパレーター上に接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤
層として、その後、高屈折率層上に接着剤層をラミネー
トして接着剤層を形成する、前記の転写用反射防止フィ
ルムの製造方法である。
【００１７】さらに、本発明は、前記いずれかの転写用
反射防止フィルムの反射防止層が、接着剤層を介して転
写により表面に設けられている、反射防止処理された物
体である。
反射防止フィルムの反射防止層が、接着剤層を介して転
写により表面に設けられている、反射防止処理された物
体である。
【００１８】
【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明を説明す
る。図１は、本発明の転写用反射防止フィルムの層構成
例を示す断面図である。図２は、本発明の転写用反射防
止フィルムの他の層構成例を示す断面図である。図３
は、本発明の転写用反射防止フィルムの反射防止層が転
写により表面に設けられた反射防止処理された物体の層
構成例を示す断面図である。なお、上記の転写とは、支
持体上の反射防止層を接着剤層を介して他の物体へ貼り
付けることを意味する。
る。図１は、本発明の転写用反射防止フィルムの層構成
例を示す断面図である。図２は、本発明の転写用反射防
止フィルムの他の層構成例を示す断面図である。図３
は、本発明の転写用反射防止フィルムの反射防止層が転
写により表面に設けられた反射防止処理された物体の層
構成例を示す断面図である。なお、上記の転写とは、支
持体上の反射防止層を接着剤層を介して他の物体へ貼り
付けることを意味する。
【００１９】図１の転写用反射防止フィルムにおいて、
支持体(1) 上に反射防止層(2) が設けられ、反射防止層
(2) 上に接着剤層(3) が設けられている。反射防止層
(2) は、支持体(1) 上の低屈折率層(2a)と低屈折率層(2
a)上の高屈折率層(2b)とから構成され、低屈折率層(2a)
と高屈折率層(2b)とは互いに屈折率が異なっている。支
持体(1) から反射防止すべき対象物体表面へ反射防止層
(2) を転写する際、支持体(1) は反射防止層(2) から剥
離可能である。図２の転写用反射防止フィルムにおいて
は、接着剤層(3) 上にさらにセパレーター(5) が設けら
れている。
支持体(1) 上に反射防止層(2) が設けられ、反射防止層
(2) 上に接着剤層(3) が設けられている。反射防止層
(2) は、支持体(1) 上の低屈折率層(2a)と低屈折率層(2
a)上の高屈折率層(2b)とから構成され、低屈折率層(2a)
と高屈折率層(2b)とは互いに屈折率が異なっている。支
持体(1) から反射防止すべき対象物体表面へ反射防止層
(2) を転写する際、支持体(1) は反射防止層(2) から剥
離可能である。図２の転写用反射防止フィルムにおいて
は、接着剤層(3) 上にさらにセパレーター(5) が設けら
れている。
【００２０】なお、セパレーター(5) と接着剤層(3) と
の密着力は、その他の層間における密着力よりも小さ
い。このような構成とすることにより、セパレーター
(5) を剥がす時にセパレーター(5) のみを剥がすことが
できる。また、後述のように、セパレーター(5) を剥が
して反射防止処理すべき対象物体表面に接着剤層(3) を
介して貼り付け更に接着剤層を硬化させた後は、支持体
(1) と低屈折率層(2a)との密着力は、その他の層間にお
ける密着力よりも小さい。このような構成とすることに
より、支持体(1) のみを剥がすことができ、対象物体表
面に反射防止層(2)を転写することができる。
の密着力は、その他の層間における密着力よりも小さ
い。このような構成とすることにより、セパレーター
(5) を剥がす時にセパレーター(5) のみを剥がすことが
できる。また、後述のように、セパレーター(5) を剥が
して反射防止処理すべき対象物体表面に接着剤層(3) を
介して貼り付け更に接着剤層を硬化させた後は、支持体
(1) と低屈折率層(2a)との密着力は、その他の層間にお
ける密着力よりも小さい。このような構成とすることに
より、支持体(1) のみを剥がすことができ、対象物体表
面に反射防止層(2)を転写することができる。
【００２１】屈折率が高いか低いかは、高屈折率層と低
屈折率層の屈折率を比べた場合の相対的なものである。
このような反射防止層(2) の層構成とすることによっ
て、支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転
写された場合、支持体(1) が剥離され、低屈折率層(2a)
が対象物体表面の最も外側に位置し、反射防止効果が向
上する。
屈折率層の屈折率を比べた場合の相対的なものである。
このような反射防止層(2) の層構成とすることによっ
て、支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転
写された場合、支持体(1) が剥離され、低屈折率層(2a)
が対象物体表面の最も外側に位置し、反射防止効果が向
上する。
【００２２】図１及び図２においては、反射防止層(2)
が低屈折率層(2a)と高屈折率層(2b)の２層から構成され
ている例を示した。本発明には、反射防止層(2) が次の
ように構成されている転写用反射防止フィルムも含まれ
る。 ・反射防止層(2) が低屈折率層(2a)の１層からなるフィ
ルム。 ・反射防止層(2) が低屈折率層(2a)と高屈折率層(2b)と
の間に、低屈折率層(2a)の屈折率よりは高く、且つ高屈
折率層(2b)の屈折率よりは低い屈折率を有する中屈折率
層を有するフィルム。 ・反射防止層(2) が、図１又は図２に示された低屈折率
層(2a)上の高屈折率層(2b)の上にさらに、この高屈折率
層(2b)の屈折率よりは低い屈折率を有する中屈折率層な
いしは低屈折率層を有するフィルム。
が低屈折率層(2a)と高屈折率層(2b)の２層から構成され
ている例を示した。本発明には、反射防止層(2) が次の
ように構成されている転写用反射防止フィルムも含まれ
る。 ・反射防止層(2) が低屈折率層(2a)の１層からなるフィ
ルム。 ・反射防止層(2) が低屈折率層(2a)と高屈折率層(2b)と
の間に、低屈折率層(2a)の屈折率よりは高く、且つ高屈
折率層(2b)の屈折率よりは低い屈折率を有する中屈折率
層を有するフィルム。 ・反射防止層(2) が、図１又は図２に示された低屈折率
層(2a)上の高屈折率層(2b)の上にさらに、この高屈折率
層(2b)の屈折率よりは低い屈折率を有する中屈折率層な
いしは低屈折率層を有するフィルム。
【００２３】支持体(1) として、特に限定されることな
く、可撓性樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムは
軽量であり、取扱いも容易である。樹脂フィルムとして
は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等
のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレ
ン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム（ＪＳ
Ｒ（株）製、アートンなど）等が挙げられる。樹脂フィ
ルムの他に、支持体として、布、紙等を用いることもで
きる。また、剥離剤で表面が処理された樹脂フィルム、
布、紙等を用いることが好ましい。
く、可撓性樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムは
軽量であり、取扱いも容易である。樹脂フィルムとして
は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等
のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレ
ン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム（ＪＳ
Ｒ（株）製、アートンなど）等が挙げられる。樹脂フィ
ルムの他に、支持体として、布、紙等を用いることもで
きる。また、剥離剤で表面が処理された樹脂フィルム、
布、紙等を用いることが好ましい。
【００２４】本発明において、まず、長尺の支持体(1)
上に紫外線硬化型ハードコート剤塗布液を塗布、乾燥
し、紫外線照射により硬化させて、低屈折率層(2a)を支
持体(1) とは剥離可能に形成する。すなわち、低屈折率
層(2a)は、紫外線硬化型ハードコート層である。支持体
(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転写された場
合、このハードコート層が対象物体表面の最も外側に位
置し、反射防止効果と共に耐傷性効果が得られる。
上に紫外線硬化型ハードコート剤塗布液を塗布、乾燥
し、紫外線照射により硬化させて、低屈折率層(2a)を支
持体(1) とは剥離可能に形成する。すなわち、低屈折率
層(2a)は、紫外線硬化型ハードコート層である。支持体
(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転写された場
合、このハードコート層が対象物体表面の最も外側に位
置し、反射防止効果と共に耐傷性効果が得られる。
【００２５】紫外線硬化型ハードコート剤塗布液は、紫
外線硬化型ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解し
た液である。ハードコート剤としては、特に制限される
ことなく、公知の各種紫外線硬化型ハードコート剤を用
いることができる。例えば、不飽和ポリエステル樹脂
系、アクリル系等のラジカル重合性ハードコート剤、エ
ポキシ系、ビニルエーテル系等のカチオン重合性ハード
コート剤等の紫外線硬化型ハードコート剤が用いられ
る。これらの中でも、硬化反応性、表面硬度を考慮する
と、アクリル系のラジカル重合性ハードコート剤が望ま
しい。
外線硬化型ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解し
た液である。ハードコート剤としては、特に制限される
ことなく、公知の各種紫外線硬化型ハードコート剤を用
いることができる。例えば、不飽和ポリエステル樹脂
系、アクリル系等のラジカル重合性ハードコート剤、エ
ポキシ系、ビニルエーテル系等のカチオン重合性ハード
コート剤等の紫外線硬化型ハードコート剤が用いられ
る。これらの中でも、硬化反応性、表面硬度を考慮する
と、アクリル系のラジカル重合性ハードコート剤が望ま
しい。
【００２６】支持体(1) 上へのハードコート剤塗布液の
塗布は、グラビア、リバースロール等のロールコータ
ー、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法
で行うとよい。塗布後、乾燥し、その後、紫外線照射を
行い硬化させる。乾燥は、例えば、４０〜１００℃程度
の適切な温度範囲で１０秒〜５分間行うとよい。紫外線
照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カー
ボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用い
て、紫外線を２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2 程度照射す
るとよい。
塗布は、グラビア、リバースロール等のロールコータ
ー、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法
で行うとよい。塗布後、乾燥し、その後、紫外線照射を
行い硬化させる。乾燥は、例えば、４０〜１００℃程度
の適切な温度範囲で１０秒〜５分間行うとよい。紫外線
照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カー
ボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用い
て、紫外線を２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2 程度照射す
るとよい。
【００２７】紫外線硬化型ハードコート剤は、製造性の
点から好ましい。すなわち、低屈折率層(2a)として紫外
線硬化型ハードコート剤を用いると、塗布、乾燥から硬
化までを巻き取ることなく行うことができ、硬化反応性
が良く、高い生産効率が得られる。低屈折率層として熱
硬化型ハードコート剤を用いると、塗布、乾燥後に一旦
巻き取って、ロール状態において熱硬化反応（例えば、
７０℃、４８時間程度）を行う必要があり、生産効率が
低くなる。また、ロール状態において熱硬化を行うの
で、熱によりロールの両サイド部の平面性が損なわれる
ことがあり、低屈折率層上への高屈折率層を均一膜厚で
形成できなくなることがある。さらに、ロール状態にお
いて熱硬化を行うと、巻き芯に近い部分では、低屈折率
層表面に支持体の裏面の微小凹凸が転写されてしまうこ
とがある。低屈折率層(2a)として紫外線硬化型ハードコ
ート剤を用いると、熱硬化型ハードコート剤を用いた場
合のこのような弊害がない。
点から好ましい。すなわち、低屈折率層(2a)として紫外
線硬化型ハードコート剤を用いると、塗布、乾燥から硬
化までを巻き取ることなく行うことができ、硬化反応性
が良く、高い生産効率が得られる。低屈折率層として熱
硬化型ハードコート剤を用いると、塗布、乾燥後に一旦
巻き取って、ロール状態において熱硬化反応（例えば、
７０℃、４８時間程度）を行う必要があり、生産効率が
低くなる。また、ロール状態において熱硬化を行うの
で、熱によりロールの両サイド部の平面性が損なわれる
ことがあり、低屈折率層上への高屈折率層を均一膜厚で
形成できなくなることがある。さらに、ロール状態にお
いて熱硬化を行うと、巻き芯に近い部分では、低屈折率
層表面に支持体の裏面の微小凹凸が転写されてしまうこ
とがある。低屈折率層(2a)として紫外線硬化型ハードコ
ート剤を用いると、熱硬化型ハードコート剤を用いた場
合のこのような弊害がない。
【００２８】さらに、低屈折率層(2a)として紫外線硬化
型ハードコート剤を用いると、低屈折率層の硬化の後、
巻き取ることなく連続して、次工程の高屈折率層の形成
工程を行うこともでき、より高い生産効率が得られる。
型ハードコート剤を用いると、低屈折率層の硬化の後、
巻き取ることなく連続して、次工程の高屈折率層の形成
工程を行うこともでき、より高い生産効率が得られる。
【００２９】低屈折率層(2a)の屈折率は、例えば、１．
３５以上１．６未満である。低屈折率層(2a)の物理的な
膜厚は、好ましくは０．０５μｍ以上０．５μｍ未満、
更に好ましくは０．０７μｍ以上０．２μｍ以下であ
る。このようにして、低屈折率層(2a)が形成される。
３５以上１．６未満である。低屈折率層(2a)の物理的な
膜厚は、好ましくは０．０５μｍ以上０．５μｍ未満、
更に好ましくは０．０７μｍ以上０．２μｍ以下であ
る。このようにして、低屈折率層(2a)が形成される。
【００３０】本発明において、次に、形成された低屈折
率層(2a)上に高屈折率層用塗布液を塗布、乾燥して、低
屈折率層の屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層を
形成する。
率層(2a)上に高屈折率層用塗布液を塗布、乾燥して、低
屈折率層の屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層を
形成する。
【００３１】高屈折率層用塗布液は、低屈折率層(2a)の
屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層が形成される
ものであればよいが、金属酸化物微粒子を含有すること
が好ましい。金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化
錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の高屈
折率を有する微粒子や、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴ
Ｏ）、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の高屈折率
を有する導電性微粒子が挙げられる。高屈折率とは、例
えば、１．６０以上の屈折率である。これら微粒子の平
均粒径は１０〜３０ｎｍであることが好ましい。又、こ
れらの材料を複数用いて屈折率を調整しても良い。
屈折率より高い屈折率を有する高屈折率層が形成される
ものであればよいが、金属酸化物微粒子を含有すること
が好ましい。金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化
錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の高屈
折率を有する微粒子や、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴ
Ｏ）、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の高屈折率
を有する導電性微粒子が挙げられる。高屈折率とは、例
えば、１．６０以上の屈折率である。これら微粒子の平
均粒径は１０〜３０ｎｍであることが好ましい。又、こ
れらの材料を複数用いて屈折率を調整しても良い。
【００３２】前記高屈折率層用の金属酸化物微粒子は、
架橋可能な官能基を有する化合物で表面処理されたもの
であることも好ましい。架橋可能な官能基は、特に限定
されることなく、ビニル基、アクリル基、メタクリル基
などの不飽和二重結合、エポキシ基又は水酸基である。
ビニル基、（メタ）アクリル基などの不飽和二重結合を
有する化合物としては、例えば、このような不飽和二重
結合を有するシランカップリング剤が挙げられる。より
具体的には、例えば、ジビニルジメトキシシラン、ジビ
ニルジ−β−メトキシエトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス−β−メトキシエトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエ
トキシシラン等が挙げられる。
架橋可能な官能基を有する化合物で表面処理されたもの
であることも好ましい。架橋可能な官能基は、特に限定
されることなく、ビニル基、アクリル基、メタクリル基
などの不飽和二重結合、エポキシ基又は水酸基である。
ビニル基、（メタ）アクリル基などの不飽和二重結合を
有する化合物としては、例えば、このような不飽和二重
結合を有するシランカップリング剤が挙げられる。より
具体的には、例えば、ジビニルジメトキシシラン、ジビ
ニルジ−β−メトキシエトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス−β−メトキシエトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエ
トキシシラン等が挙げられる。
【００３３】このようなシランカップリング剤による金
属酸化物微粒子の表面処理は、例えば、メタノール等の
アルコール中、室温で両者を攪拌して行うことができ
る。シランカップリング剤のアルコキシ基が加水分解
し、金属酸化物微粒子表面の水酸残基とＳｉとの結合が
形成されると考えられる。
属酸化物微粒子の表面処理は、例えば、メタノール等の
アルコール中、室温で両者を攪拌して行うことができ
る。シランカップリング剤のアルコキシ基が加水分解
し、金属酸化物微粒子表面の水酸残基とＳｉとの結合が
形成されると考えられる。
【００３４】また、（メタ）アクリル基などの不飽和二
重結合を有する化合物としては、例えば、（メタ）アク
リル酸やそのエステル化合物が挙げられる。より具体的
には、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）ア
クリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。
重結合を有する化合物としては、例えば、（メタ）アク
リル酸やそのエステル化合物が挙げられる。より具体的
には、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）ア
クリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。
【００３５】このような（メタ）アクリル酸や（メタ）
アクリレートによる金属酸化物微粒子の表面処理は、例
えば、メタノール等のアルコール中、室温で両者を攪拌
して行うことができる。金属酸化物表面の水酸残基に
（メタ）アクリロイル基が導入されると考えられる。ま
た、金属酸化物微粒子に（メタ）アクリル酸クロライド
などの酸ハロゲン化物を作用させても、金属酸化物表面
に（メタ）アクリロイル基が導入されると考えられる。
アクリレートによる金属酸化物微粒子の表面処理は、例
えば、メタノール等のアルコール中、室温で両者を攪拌
して行うことができる。金属酸化物表面の水酸残基に
（メタ）アクリロイル基が導入されると考えられる。ま
た、金属酸化物微粒子に（メタ）アクリル酸クロライド
などの酸ハロゲン化物を作用させても、金属酸化物表面
に（メタ）アクリロイル基が導入されると考えられる。
【００３６】金属酸化物微粒子が表面処理され、微粒子
表面に架橋可能な官能基が存在すると、接着剤層(3) に
紫外線硬化性アクリル系接着剤又は紫外線硬化性エポキ
シ系接着剤を用いた場合には、接着剤層(3) に含まれる
紫外線硬化性モノマー成分が高屈折率層(2b)中に含浸
し、紫外線照射によって前記架橋可能な官能基と架橋反
応を起こす。また、接着剤層(3) に熱硬化性接着剤を用
いた場合には、接着剤層(3) に含まれる熱硬化性接着剤
成分が高屈折率層(2b)中に含浸し、加熱によって前記架
橋可能な官能基と架橋反応を起こす。そのため、強い膜
強度と高い密着性が得られる。
表面に架橋可能な官能基が存在すると、接着剤層(3) に
紫外線硬化性アクリル系接着剤又は紫外線硬化性エポキ
シ系接着剤を用いた場合には、接着剤層(3) に含まれる
紫外線硬化性モノマー成分が高屈折率層(2b)中に含浸
し、紫外線照射によって前記架橋可能な官能基と架橋反
応を起こす。また、接着剤層(3) に熱硬化性接着剤を用
いた場合には、接着剤層(3) に含まれる熱硬化性接着剤
成分が高屈折率層(2b)中に含浸し、加熱によって前記架
橋可能な官能基と架橋反応を起こす。そのため、強い膜
強度と高い密着性が得られる。
【００３７】架橋可能な官能基が、ビニル基、アクリル
基、メタクリル基などの不飽和二重結合であれば、紫外
線硬化性アクリル系接着剤に含まれるアクリル系モノマ
ー成分が前記不飽和二重結合とラジカル反応により架橋
する。架橋可能な官能基がエポキシ基であれば、紫外線
硬化性エポキシ系接着剤成分とカチオン重合により結合
する。
基、メタクリル基などの不飽和二重結合であれば、紫外
線硬化性アクリル系接着剤に含まれるアクリル系モノマ
ー成分が前記不飽和二重結合とラジカル反応により架橋
する。架橋可能な官能基がエポキシ基であれば、紫外線
硬化性エポキシ系接着剤成分とカチオン重合により結合
する。
【００３８】架橋可能な官能基が水酸基であれば、イソ
シアネート系接着剤のイソシアネート成分と熱硬化反応
によるウレタン結合により架橋する。また、シリコーン
系接着剤のシラノール基と熱硬化反応によるシロキサン
結合により架橋する。
シアネート系接着剤のイソシアネート成分と熱硬化反応
によるウレタン結合により架橋する。また、シリコーン
系接着剤のシラノール基と熱硬化反応によるシロキサン
結合により架橋する。
【００３９】高屈折率層用塗布液は、前記金属酸化物微
粒子を有機溶剤などの溶剤に分散して調製される。この
際、バインダー樹脂を用いても良いが、用いない方が好
ましい。バインダー樹脂を用いる場合には、バインダー
樹脂の量は、バインダー樹脂と前記微粒子の合計に対し
て、２５重量％以下とすることが適切であり、２０重量
％以下とすることが好ましい。
粒子を有機溶剤などの溶剤に分散して調製される。この
際、バインダー樹脂を用いても良いが、用いない方が好
ましい。バインダー樹脂を用いる場合には、バインダー
樹脂の量は、バインダー樹脂と前記微粒子の合計に対し
て、２５重量％以下とすることが適切であり、２０重量
％以下とすることが好ましい。
【００４０】低屈折率層(2a)上への高屈折率層用塗布液
の塗布は、グラビア、リバースロール等のロールコータ
ー、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法
で行うとよい。塗布後の乾燥は、例えば、４０〜１２０
℃程度の適切な温度範囲で１０秒〜５分間行うとよい。
の塗布は、グラビア、リバースロール等のロールコータ
ー、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法
で行うとよい。塗布後の乾燥は、例えば、４０〜１２０
℃程度の適切な温度範囲で１０秒〜５分間行うとよい。
【００４１】また、本発明において、低屈折率層(2a)の
形成の後、巻き取ることなく連続して、低屈折率層(2a)
上へ高屈折率層を塗布形成することもできる。この場合
には、より高い生産効率が得られる。
形成の後、巻き取ることなく連続して、低屈折率層(2a)
上へ高屈折率層を塗布形成することもできる。この場合
には、より高い生産効率が得られる。
【００４２】また、塗布、乾燥後、高屈折率層(2b)を圧
縮することも好ましい。例えば、金属酸化物微粒子とし
てＡＴＯ等の導電性微粒子を用いた場合に、圧縮するこ
とにより、高屈折率層(2b)の導電性が向上される。
縮することも好ましい。例えば、金属酸化物微粒子とし
てＡＴＯ等の導電性微粒子を用いた場合に、圧縮するこ
とにより、高屈折率層(2b)の導電性が向上される。
【００４３】高屈折率層(2b)の屈折率は、例えば、１．
６以上２．５以下である。高屈折率層(2b)の物理的な膜
厚は、２μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上
０．５μｍ未満、更に好ましくは０．０６μｍ以上０．
２μｍ以下である。このようにして、高屈折率層(2b)が
形成される。
６以上２．５以下である。高屈折率層(2b)の物理的な膜
厚は、２μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上
０．５μｍ未満、更に好ましくは０．０６μｍ以上０．
２μｍ以下である。このようにして、高屈折率層(2b)が
形成される。
【００４４】本発明において、次に、形成された高屈折
率層(2b)上に接着剤層(3) を形成する。接着剤層(3) の
形成は、高屈折率層(2b)上に接着剤塗布液を塗布、乾燥
して行うことができ、その後必要に応じて、接着剤層
(3) 上にセパレーター(5) を設けて、使用時まで接着剤
層表面を保護してもよい。また、セパレーター(5) 上に
接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤層として、その
後、高屈折率層(2b)上に接着剤層をラミネートして接着
剤層(3) を形成してもよい。
率層(2b)上に接着剤層(3) を形成する。接着剤層(3) の
形成は、高屈折率層(2b)上に接着剤塗布液を塗布、乾燥
して行うことができ、その後必要に応じて、接着剤層
(3) 上にセパレーター(5) を設けて、使用時まで接着剤
層表面を保護してもよい。また、セパレーター(5) 上に
接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤層として、その
後、高屈折率層(2b)上に接着剤層をラミネートして接着
剤層(3) を形成してもよい。
【００４５】接着剤層(3) を形成しておくことによっ
て、この接着剤層を介して、対象物体上に反射防止層
(2) を容易に転写できる。接着剤層(3) の厚みは１〜１
００μｍ、好ましくは３〜２０μｍである。
て、この接着剤層を介して、対象物体上に反射防止層
(2) を容易に転写できる。接着剤層(3) の厚みは１〜１
００μｍ、好ましくは３〜２０μｍである。
【００４６】接着剤層(3) には、紫外線硬化性モノマー
成分を含む紫外線硬化性接着剤及び／又は熱硬化性接着
剤層を用いる。反射防止フィルムの反射防止層(2) と転
写対象物体の表面の双方に対して親和性があり、両者を
強力に接着できる接着剤であれば、特に限定されること
なく、公知の種々の接着剤を用いることができる。例え
ば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、イソシアネ
ート系接着剤、シリコーン系接着剤等が挙げられる。こ
れらのうち、紫外線硬化性接着剤は硬化反応性、硬度、
コストの面で好ましい。
成分を含む紫外線硬化性接着剤及び／又は熱硬化性接着
剤層を用いる。反射防止フィルムの反射防止層(2) と転
写対象物体の表面の双方に対して親和性があり、両者を
強力に接着できる接着剤であれば、特に限定されること
なく、公知の種々の接着剤を用いることができる。例え
ば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、イソシアネ
ート系接着剤、シリコーン系接着剤等が挙げられる。こ
れらのうち、紫外線硬化性接着剤は硬化反応性、硬度、
コストの面で好ましい。
【００４７】接着剤層(3) に用いる紫外線硬化性接着剤
としては、接着剤溶液を塗布し乾燥しただけでタック感
があり、しかも流動性の非常に少ない接着剤層が得ら
れ、転写対象物体上に貼り付けた後に接着剤層を紫外線
硬化することによって硬い硬化層が得られるような接着
剤が好ましい。転写対象物体上に貼り付け硬化させた後
の接着剤層の軟化や劣化は好ましくない。タック感があ
ることで転写対象物体への貼り付けが容易となる。又、
流動性が非常に少ないことで、接着剤層を設けた後貼り
付けまでの間、接着剤層を保護するためのセパレーター
フィルムを付与することが可能となる。
としては、接着剤溶液を塗布し乾燥しただけでタック感
があり、しかも流動性の非常に少ない接着剤層が得ら
れ、転写対象物体上に貼り付けた後に接着剤層を紫外線
硬化することによって硬い硬化層が得られるような接着
剤が好ましい。転写対象物体上に貼り付け硬化させた後
の接着剤層の軟化や劣化は好ましくない。タック感があ
ることで転写対象物体への貼り付けが容易となる。又、
流動性が非常に少ないことで、接着剤層を設けた後貼り
付けまでの間、接着剤層を保護するためのセパレーター
フィルムを付与することが可能となる。
【００４８】このような観点から、反射防止フィルムの
接着剤層(3) に用いる接着剤として、次の紫外線硬化性
アクリル系接着剤組成物が好ましい。 １．ガラス転移温度Ｔｇが３０℃以上のアクリル系樹脂
成分（Ｐ）と、硬化性アクリル系モノマー成分（Ｍ）と
を、重量比率Ｐ／Ｍ＝８／２〜２／８で含む接着剤組成
物。 ２．前記アクリル系樹脂成分（Ｐ）が常温で固体であ
り、硬化性アクリル系モノマー成分（Ｍ）が常温で液体
である、前記１の接着剤組成物。 ３．さらに、光重合開始剤を含む、前記１又は２の接着
剤組成物。
接着剤層(3) に用いる接着剤として、次の紫外線硬化性
アクリル系接着剤組成物が好ましい。 １．ガラス転移温度Ｔｇが３０℃以上のアクリル系樹脂
成分（Ｐ）と、硬化性アクリル系モノマー成分（Ｍ）と
を、重量比率Ｐ／Ｍ＝８／２〜２／８で含む接着剤組成
物。 ２．前記アクリル系樹脂成分（Ｐ）が常温で固体であ
り、硬化性アクリル系モノマー成分（Ｍ）が常温で液体
である、前記１の接着剤組成物。 ３．さらに、光重合開始剤を含む、前記１又は２の接着
剤組成物。
【００４９】アクリル系成分としては、例えばアクリル
樹脂１０３Ｂや１ＢＲ−３０５（大成化工（株）製）が
挙げられる。硬化性アクリル系モノマー成分としては、
例えば、KAYARAD GPO-303 、KAYARAD TMPTA 、KAYARAD
THE-330 （いずれも日本化薬（株）製）等の３官能以上
のアクリル系モノマーが挙げられる。光重合開始剤とし
ては、種々のものを用いることができ、例えば、 KAYAC
URE DETX-S（日本化薬（株）製）が挙げられる。また、
硬化性アクリル系モノマー成分と光重合開始剤成分を含
むものとして、ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業
製）が挙げられる。可視光線で硬化させる場合には、光
増感剤を加えれば良い。
樹脂１０３Ｂや１ＢＲ−３０５（大成化工（株）製）が
挙げられる。硬化性アクリル系モノマー成分としては、
例えば、KAYARAD GPO-303 、KAYARAD TMPTA 、KAYARAD
THE-330 （いずれも日本化薬（株）製）等の３官能以上
のアクリル系モノマーが挙げられる。光重合開始剤とし
ては、種々のものを用いることができ、例えば、 KAYAC
URE DETX-S（日本化薬（株）製）が挙げられる。また、
硬化性アクリル系モノマー成分と光重合開始剤成分を含
むものとして、ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業
製）が挙げられる。可視光線で硬化させる場合には、光
増感剤を加えれば良い。
【００５０】転写用反射防止フィルムが高屈折率層(2b)
上に紫外線硬化性接着剤層(3) を有すると、紫外線硬化
性接着剤に含まれる少なくとも紫外線硬化性モノマー成
分が高屈折率層(2b)中に含浸される。そして、高屈折率
層(2b)に含有される金属酸化物微粒子が架橋可能な官能
基を有する化合物で表面処理されたものであると、含浸
された紫外線硬化性モノマー成分が、紫外線照射によっ
て、金属酸化物微粒子の表面に存在する架橋可能な官能
基と反応し結合する。その結果、高屈折率層(2b)におい
て、この結合が架橋点として作用し架橋密度が増すた
め、紫外線照射後の高屈折率層(2b)の硬度が高くなると
共に、高屈折率層(2b)と接着剤層(3) との密着性も向上
する。本発明においては、高屈折率層(2b)の形成におい
て用いる金属酸化物微粒子の分散液が、少ないバインダ
ー樹脂量であっても、あるいはバインダー樹脂が存在し
ない場合であっても、このように、高屈折率層(2b)の高
い硬度、高屈折率層(2b)と接着剤層(3) との高い密着性
が得られる。
上に紫外線硬化性接着剤層(3) を有すると、紫外線硬化
性接着剤に含まれる少なくとも紫外線硬化性モノマー成
分が高屈折率層(2b)中に含浸される。そして、高屈折率
層(2b)に含有される金属酸化物微粒子が架橋可能な官能
基を有する化合物で表面処理されたものであると、含浸
された紫外線硬化性モノマー成分が、紫外線照射によっ
て、金属酸化物微粒子の表面に存在する架橋可能な官能
基と反応し結合する。その結果、高屈折率層(2b)におい
て、この結合が架橋点として作用し架橋密度が増すた
め、紫外線照射後の高屈折率層(2b)の硬度が高くなると
共に、高屈折率層(2b)と接着剤層(3) との密着性も向上
する。本発明においては、高屈折率層(2b)の形成におい
て用いる金属酸化物微粒子の分散液が、少ないバインダ
ー樹脂量であっても、あるいはバインダー樹脂が存在し
ない場合であっても、このように、高屈折率層(2b)の高
い硬度、高屈折率層(2b)と接着剤層(3) との高い密着性
が得られる。
【００５１】さらに、前記接着剤が、高屈折率層(2b)中
に含浸されると共に、低屈折率層(2a)にまで達している
と、高屈折率層(2b)と低屈折率層(2a)との密着性も向上
し、転写後の接着剤層及び反射防止層の全体の硬度、密
着性が向上する。この効果は、高屈折率層(2b)がバイン
ダー樹脂を含まない場合、その膜厚が２μｍ以下であれ
ば得られる。また、前記のようにバインダー樹脂を含む
場合は、その膜厚が０．５μｍ未満と薄い場合に得られ
やすく、高屈折率層(2b)の膜厚が０．２μｍ以下の場合
には、より大きくなる。
に含浸されると共に、低屈折率層(2a)にまで達している
と、高屈折率層(2b)と低屈折率層(2a)との密着性も向上
し、転写後の接着剤層及び反射防止層の全体の硬度、密
着性が向上する。この効果は、高屈折率層(2b)がバイン
ダー樹脂を含まない場合、その膜厚が２μｍ以下であれ
ば得られる。また、前記のようにバインダー樹脂を含む
場合は、その膜厚が０．５μｍ未満と薄い場合に得られ
やすく、高屈折率層(2b)の膜厚が０．２μｍ以下の場合
には、より大きくなる。
【００５２】転写硬化後の接着剤層(3) の屈折率は、転
写対象物体の屈折率に近いことが好ましい。両者の屈折
率の差が大きいと、両者間の界面で新たに反射光が生じ
ることがある。
写対象物体の屈折率に近いことが好ましい。両者の屈折
率の差が大きいと、両者間の界面で新たに反射光が生じ
ることがある。
【００５３】さらに接着剤層には、顔料、色素等を分散
あるいは溶解して添加してもよい。顔料としてはシリカ
等の公知の耐すり傷性の材料や彩色のための無機材料か
ら選択すればよい。
あるいは溶解して添加してもよい。顔料としてはシリカ
等の公知の耐すり傷性の材料や彩色のための無機材料か
ら選択すればよい。
【００５４】以上のようにして、本発明の転写用反射防
止フィルムが得られる。次に、図３を参照して、本発明
の転写用反射防止フィルムを用いて、反射防止処理すべ
き対象物体を反射防止処理する方法について説明する。
止フィルムが得られる。次に、図３を参照して、本発明
の転写用反射防止フィルムを用いて、反射防止処理すべ
き対象物体を反射防止処理する方法について説明する。
【００５５】図３は、図１又は図２の転写用反射防止フ
ィルムを用いて得られた反射防止処理された物体の層構
成例であり、反射防止処理すべき対象物体(4) 表面に接
着剤層(3C)を介して反射防止層(2) が付与された層構成
例を示す断面図である。接着剤層(3C)は、硬化されたも
のである。
ィルムを用いて得られた反射防止処理された物体の層構
成例であり、反射防止処理すべき対象物体(4) 表面に接
着剤層(3C)を介して反射防止層(2) が付与された層構成
例を示す断面図である。接着剤層(3C)は、硬化されたも
のである。
【００５６】反射防止処理すべき対象となる物体(4) に
は、特に限定されることなく、種々のものが含まれる。
例えば、均一厚みの塗布層を形成しにくい板材のような
可撓性に乏しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミッ
クスのような物体、樹脂フィルム、シート、プレート等
が含まれる。例えば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、リアプロジェク
ター用スクリーン、エレクトロルミネッセンスディスプ
レーに代表される表示素子の表面は、反射防止処理が求
められており、対象物体の具体例として挙げられる。
は、特に限定されることなく、種々のものが含まれる。
例えば、均一厚みの塗布層を形成しにくい板材のような
可撓性に乏しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミッ
クスのような物体、樹脂フィルム、シート、プレート等
が含まれる。例えば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、リアプロジェク
ター用スクリーン、エレクトロルミネッセンスディスプ
レーに代表される表示素子の表面は、反射防止処理が求
められており、対象物体の具体例として挙げられる。
【００５７】本発明の転写用反射防止フィルムを、反射
防止処理すべき対象物体(4) 表面に支持体(1) が外側と
なるように接着剤層(3) を介して貼り付ける。接着剤層
(3)が紫外線硬化性接着剤の場合には、貼り付け後、紫
外線照射によって前記接着剤層(3) を硬化させ(3C)、支
持体(1) を剥離して対象物体(4) 表面に反射防止層(2)
を形成する。露光光線としては、紫外線が有効である。
露光時間は、用いた紫外線硬化型樹脂組成物の感光特性
や、光線の種類により、適宜選択される。
防止処理すべき対象物体(4) 表面に支持体(1) が外側と
なるように接着剤層(3) を介して貼り付ける。接着剤層
(3)が紫外線硬化性接着剤の場合には、貼り付け後、紫
外線照射によって前記接着剤層(3) を硬化させ(3C)、支
持体(1) を剥離して対象物体(4) 表面に反射防止層(2)
を形成する。露光光線としては、紫外線が有効である。
露光時間は、用いた紫外線硬化型樹脂組成物の感光特性
や、光線の種類により、適宜選択される。
【００５８】接着剤層(3) が熱硬化性接着剤の場合に
は、貼り付け後、加熱によって前記接着剤層(3) を硬化
させ(3C)、支持体(1) を剥離して対象物体(4) 表面に反
射防止層(2) を形成する。
は、貼り付け後、加熱によって前記接着剤層(3) を硬化
させ(3C)、支持体(1) を剥離して対象物体(4) 表面に反
射防止層(2) を形成する。
【００５９】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではな
い。
【００６０】［実施例１］図２に示すように、支持体
(1) 上に低屈折率層(2a)、高屈折率層(2b)、紫外線硬化
性接着剤層(3) 及びセパレーター(5) をこの順で有する
転写用反射防止フィルムを作製した。
(1) 上に低屈折率層(2a)、高屈折率層(2b)、紫外線硬化
性接着剤層(3) 及びセパレーター(5) をこの順で有する
転写用反射防止フィルムを作製した。
【００６１】（低屈折率層の形成）日本化薬製アクリル
系紫外線硬化樹脂ＫＡＹＡＮＯＶＡ ＦＯＰ１７００
（固形分濃度８０重量％）を溶剤（メチルエチルケトン
／トルエン＝２／１）で希釈し、固形分濃度４０重量％
として、低屈折率層塗布液とした。この塗布液を３８μ
ｍ厚の長尺剥離ＰＥＴフィルム(1) ＃４３（帝人デュポ
ンフィルム製）上に塗布、７０℃、１分間で乾燥し、紫
外線を照射して（照射量５００ｍＪ／ｃｍ2 ）硬化さ
せ、０．０９μｍ厚の低屈折率層(2a)を形成した。
系紫外線硬化樹脂ＫＡＹＡＮＯＶＡ ＦＯＰ１７００
（固形分濃度８０重量％）を溶剤（メチルエチルケトン
／トルエン＝２／１）で希釈し、固形分濃度４０重量％
として、低屈折率層塗布液とした。この塗布液を３８μ
ｍ厚の長尺剥離ＰＥＴフィルム(1) ＃４３（帝人デュポ
ンフィルム製）上に塗布、７０℃、１分間で乾燥し、紫
外線を照射して（照射量５００ｍＪ／ｃｍ2 ）硬化さ
せ、０．０９μｍ厚の低屈折率層(2a)を形成した。
【００６２】（高屈折率層の形成）平均一次粒径が約１
０ｎｍのアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）超微粒子を
ビニル基を含むシランカップリング剤で表面処理した微
粒子のエタノール分散液（触媒化成（株）製、固形分濃
度２０重量％）９０重量部と、平均一次粒径が約１０ｎ
ｍの酸化チタン超微粒子をビニル基を含むシランカップ
リング剤で表面処理した微粒子のエタノール分散液（触
媒化成（株）製、固形分濃度１５重量％）４０重量部と
の混合液に、エタノール３５０重量部を加え、高屈折率
層塗布液とした。得られた塗布液を前記低屈折率層(2a)
上に塗布、乾燥し、０．０９μｍ厚の高屈折率層(2b)を
形成した。
０ｎｍのアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）超微粒子を
ビニル基を含むシランカップリング剤で表面処理した微
粒子のエタノール分散液（触媒化成（株）製、固形分濃
度２０重量％）９０重量部と、平均一次粒径が約１０ｎ
ｍの酸化チタン超微粒子をビニル基を含むシランカップ
リング剤で表面処理した微粒子のエタノール分散液（触
媒化成（株）製、固形分濃度１５重量％）４０重量部と
の混合液に、エタノール３５０重量部を加え、高屈折率
層塗布液とした。得られた塗布液を前記低屈折率層(2a)
上に塗布、乾燥し、０．０９μｍ厚の高屈折率層(2b)を
形成した。
【００６３】（接着剤層の形成）紫外線硬化型ハードコ
ート剤（主成分：アクリル系モノマー）ＵＶＨＣ−１１
０５（ＧＥ東芝シリコーン（株）製）１００重量部に、
アクリル系樹脂１ＢＲ−３０５（大成化工（株）製、固
形分濃度３９．５重量％）８４重量部と、メチルエチル
ケトン（ＭＥＫ）１４９重量部とを加えて、接着剤層塗
布液とした。この塗布液をセパレーター(5) Ｓ３１４
（帝人デュポンフィルム製）上に塗布、乾燥して接着剤
層として、これをラミネーターにて前記高屈折率層(2b)
とラミネートした。高屈折率層(2b)とセパレーター(5)
との接着力は、剥離ＰＥＴフィルム(1) ＃４３と低屈折
率層(2a)との接着力よりも弱いため、セパレーター(5)
の一部を剥がすとセパレーター(5) のみが剥がれ、高屈
折率層(2b)上に５μｍ厚の接着剤層(3) が形成されてお
り、接着剤層を指で触ったところ、タック感があった。
以上のようにして転写用反射防止フィルムを得た。
ート剤（主成分：アクリル系モノマー）ＵＶＨＣ−１１
０５（ＧＥ東芝シリコーン（株）製）１００重量部に、
アクリル系樹脂１ＢＲ−３０５（大成化工（株）製、固
形分濃度３９．５重量％）８４重量部と、メチルエチル
ケトン（ＭＥＫ）１４９重量部とを加えて、接着剤層塗
布液とした。この塗布液をセパレーター(5) Ｓ３１４
（帝人デュポンフィルム製）上に塗布、乾燥して接着剤
層として、これをラミネーターにて前記高屈折率層(2b)
とラミネートした。高屈折率層(2b)とセパレーター(5)
との接着力は、剥離ＰＥＴフィルム(1) ＃４３と低屈折
率層(2a)との接着力よりも弱いため、セパレーター(5)
の一部を剥がすとセパレーター(5) のみが剥がれ、高屈
折率層(2b)上に５μｍ厚の接着剤層(3) が形成されてお
り、接着剤層を指で触ったところ、タック感があった。
以上のようにして転写用反射防止フィルムを得た。
【００６４】［実施例２］低屈折率層(2a)の形成後に巻
き取ることなく連続して、低屈折率層(2a)上に高屈折率
層塗布液を塗布、乾燥した以外は、実施例１と同様にし
て、転写用反射防止フィルムを得た。
き取ることなく連続して、低屈折率層(2a)上に高屈折率
層塗布液を塗布、乾燥した以外は、実施例１と同様にし
て、転写用反射防止フィルムを得た。
【００６５】実施例１では、低屈折率層の形成後、熱硬
化を行わないので、ロールの巻き芯に近い部分において
も微小凹凸の転写や、ロール両サイド部の変形がなく、
高屈折率層を良好に形成することができた。また、実施
例２では、低屈折率層の形成後、巻き取りを行わないの
で、同様の効果があった。
化を行わないので、ロールの巻き芯に近い部分において
も微小凹凸の転写や、ロール両サイド部の変形がなく、
高屈折率層を良好に形成することができた。また、実施
例２では、低屈折率層の形成後、巻き取りを行わないの
で、同様の効果があった。
【００６６】
【発明の効果】本発明によれば、均一厚みの反射防止層
を転写により板材のように可撓性に乏しい物体表面、と
りわけ表示素子表面に付与でき、可視光領域の光の反射
防止効果に優れる転写用反射防止フィルム、及びその製
造方法が提供される。
を転写により板材のように可撓性に乏しい物体表面、と
りわけ表示素子表面に付与でき、可視光領域の光の反射
防止効果に優れる転写用反射防止フィルム、及びその製
造方法が提供される。
【００６７】特に、本発明によれば、低屈折率層として
紫外線硬化型ハードコート剤を用いるので、硬化反応性
が良く、高い生産効率で且つ安定した品質で転写用反射
防止フィルムが製造される。
紫外線硬化型ハードコート剤を用いるので、硬化反応性
が良く、高い生産効率で且つ安定した品質で転写用反射
防止フィルムが製造される。
【図１】 本発明の転写用反射防止フィルムの層構成例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】 本発明の転写用反射防止フィルムの他の層構
成例を示す断面図である。
成例を示す断面図である。
【図３】 本発明の転写用反射防止フィルムの反射防止
層が転写により表面に設けられた反射防止処理された物
体の層構成例を示す断面図である。
層が転写により表面に設けられた反射防止処理された物
体の層構成例を示す断面図である。
(1) ：支持体
(2) ：反射防止層
(2a)：低屈折率層
(2b)：高屈折率層
(3) ：接着剤層
(3C)：硬化した接着剤層
(4) ：対象物体
(5) ：セパレーター
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
Ｆターム(参考） 2H091 FA37X FB02 LA02
2K009 AA03 AA15 BB24 CC24 DD02
DD05
4F100 AA17D AA17H AR00C AR00E
AT00A BA03 BA04 BA05
BA07 BA10A BA10C BA10E
BA26 CC00B CC00D DE01D
DE01H EG001 EH461 EH462
EJ081 EJ541 EJ861 EJ862
GB41 JB14B JB14D JK12B
JK12D JL02 JL11C JL14A
JL14E JN06B JN06D JN18B
JN18D
5G435 AA02 FF02 FF03 FF14 HH02
Claims (10)
- 【請求項１】 支持体と、支持体上に設けられた１層又
は２層以上の層を含む反射防止層と、反射防止層上に設
けられた接着剤層とを有し、反射防止層を構成する層の
うちの少なくとも１層は、紫外線硬化型ハードコート層
であり、かつ前記支持体は前記反射防止層から剥離可能
である転写用反射防止フィルム。 - 【請求項２】 支持体と、支持体上に設けられた低屈折
率層及び低屈折率層上に設けられた低屈折率層の屈折率
より高い屈折率を有する高屈折率層を含む反射防止層
と、反射防止層上に設けられた接着剤層とを有し、前記
低屈折率層は紫外線硬化型ハードコート層であり、かつ
前記支持体は前記反射防止層から剥離可能である転写用
反射防止フィルム。 - 【請求項３】 前記高屈折率層は、金属酸化物微粒子を
含む層である、請求項２に記載の転写用反射防止フィル
ム。 - 【請求項４】 前記接着剤層上にセパレーターが設けら
れている、請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の
転写用反射防止フィルム。 - 【請求項５】 支持体上に紫外線硬化型ハードコート剤
塗布液を塗布、乾燥し、紫外線照射により硬化させて、
低屈折率層を前記支持体とは剥離可能に形成する工程
と、 前記低屈折率層上に高屈折率層用塗布液を塗布、乾燥し
て、低屈折率層の屈折率より高い屈折率を有する高屈折
率層を形成する工程と、 前記高屈折率層上に接着剤層を形成する工程とを含む、
転写用反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項６】 前記高屈折率層用塗布液は、金属酸化物
微粒子を含有する、請求項５に記載の転写用反射防止フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項７】 低屈折率層の形成工程の後、巻き取るこ
となく連続して高屈折率層の形成工程を行う、請求項５
又は６に記載の転写用反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項８】 接着剤層の形成工程において、高屈折率
層上に接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤層を形成
し、その後必要に応じて、接着剤層上にセパレーターを
設ける、請求項５〜７のうちのいずれか１項に記載の転
写用反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項９】 接着剤層の形成工程において、セパレー
ター上に接着剤塗布液を塗布、乾燥して接着剤層とし
て、その後、高屈折率層上に接着剤層をラミネートして
接着剤層を形成する、請求項５〜７のうちのいずれか１
項に記載の転写用反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項１０】 請求項１〜４のうちのいずれか１項に
記載の転写用反射防止フィルムの反射防止層が、接着剤
層を介して転写により表面に設けられている、反射防止
処理された物体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002016462A JP4074096B2 (ja) | 2002-01-25 | 2002-01-25 | 転写用反射防止フィルム、その製造方法及び反射防止処理された物体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002016462A JP4074096B2 (ja) | 2002-01-25 | 2002-01-25 | 転写用反射防止フィルム、その製造方法及び反射防止処理された物体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003215308A true JP2003215308A (ja) | 2003-07-30 |
| JP4074096B2 JP4074096B2 (ja) | 2008-04-09 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002016462A Expired - Fee Related JP4074096B2 (ja) | 2002-01-25 | 2002-01-25 | 転写用反射防止フィルム、その製造方法及び反射防止処理された物体 |
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| JP (1) | JP4074096B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009113476A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 無機薄膜転写材及びその製造方法並びに無機薄膜付き成形品及びその製造方法 |
| WO2010024274A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 三菱レイヨン株式会社 | 樹脂積層体の製造方法 |
| WO2014084112A1 (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 |
| JP2014524596A (ja) * | 2011-08-19 | 2014-09-22 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光板 |
| JP2016505403A (ja) * | 2012-11-16 | 2016-02-25 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 導電性配線隠蔽材料、物品、及び方法 |
| JP2016155384A (ja) * | 2016-04-13 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 |
| KR101868563B1 (ko) * | 2017-05-11 | 2018-06-19 | 권대한 | 유모차 커버 |
| KR20190128991A (ko) * | 2018-05-08 | 2019-11-19 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 적층체 및 그 제조 방법 |
| JP2020073326A (ja) * | 2020-01-09 | 2020-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 |
-
2002
- 2002-01-25 JP JP2002016462A patent/JP4074096B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN107031222A (zh) * | 2012-11-30 | 2017-08-11 | 富士胶片株式会社 | 转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置 |
| CN107031222B (zh) * | 2012-11-30 | 2019-02-19 | 富士胶片株式会社 | 转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置 |
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