JP2003207602A - 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】反射防止機能と防眩機能とを有し、長期にわた
る使用、特に高温高湿の過酷な環境下においても防眩性
の変化がほとんど無い反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】 支持基板上に少なくとも１層の反射防止
層を有し、反射防止層の表面をエンボス加工した反射防
止フィルムにおいて、式（Ｉ）で定義される算術平均粗
さの残存率Ｒが３０％以上である反射防止フィルム。 （Ｉ） Ｒ＝Ｒ_A/Ｒ_B Ｒ_A：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下で１
０００時間保持した後の反射防止層表面の算術平均粗
さ、Ｒ_B：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下
に保持する前の反射防止層表面の算術平均粗さ

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィルム
およびその製造方法、並びにそれを用いた偏光板および
液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは、液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレ
クトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管
表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設け
られている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィル
ムが設けられている。反射防止フィルムとしては、金属
酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に
用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な
波長の光の反射を防止するためである。金属酸化物の透
明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）
法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成
されている。金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィル
ムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着による
形成方法は、生産性が低く大量生産に適していない。Ｐ
ＶＤ法による反射防止フィルムは、用途に応じて表面凹
凸による防眩性を有する支持体上に形成される場合があ
る。平滑な支持体上に形成されたものより平行光線透過
率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散
乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果と
あいまって、画像形成装置に適用するとその表示品位は
著しく改善される。

【０００３】蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により
反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。特
公昭６０−５９２５０号公報は、微細空孔と微粒子状無
機物とを有する反射防止層を開示している。反射防止層
は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に
活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することに
よって形成される。特開昭５９−５０４０１号公報は、
支持体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反
射防止フィルムを開示している。同公報は、支持体と高
屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止フィルムも
開示している。低屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒
子の塗布により形成されている。

【０００４】特開平２−２４５７０２号公報は、二種類
以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ₂とＳｉＯ₂ ）を混在
させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止フ
ィルムを開示している。混合比を変化させることにより
屈折率を変化させ、上記特開昭５９−５０４０１号公報
に記載されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射
防止フィルムと同様の光学的性質を得ている。超微粒子
は、エチルシリケートの熱分解で生じたＳｉＯ₂ により
接着している。エチルシリケートの熱分解では、エチル
部分の燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。
特開平２−２４５７０２号公報の第１図に示されている
ように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱することによ
り、超微粒子の間に間隙が生じている。特開平５−１３
０２１号公報は、上記特開平２−２４５７０２号公報記
載の反射防止フィルムに存在する超微粒子間隙をバイン
ダーで充填することを開示している。特開平７−４８５
２７号公報は、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバイ
ンダーとを含有する反射防止フィルムを開示している。

【０００５】上述したような塗布による反射防止フィル
ムに防眩性を付与する手段として、表面凹凸を有する支
持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成
するためのマット粒子を反射防止層を形成する塗布液に
添加する方法等が検討されてきた。しかし、前者の方法
では、反射防止層の塗布液が凸の部分から凹の部分へ流
動することにより面内での膜厚ムラが生じ、平滑面への
塗布膜と比較して著しく反射防止性能が悪化してしまう
問題がある。また、後者の方法では、十分な防眩性を発
現するために必要な１ミクロン前後からそれ以上の粒径
を有するマット粒子を０．１から０．３ミクロン程度の
膜厚の薄膜中に埋め込むことになるため、マット粒子の
粉落ちの問題が生じる。これらの問題に対処する方法と
して特開2000−329905号公報には反射防止フィルムを形
成したあとに防眩性を付与する方法を開示している。具
体的には反射防止層を塗布した後、反射防止フィルムを
エンボスロールでプレスし、反射防止性を損なうことな
く反射防止層面に凹凸を形成する方法を提案している。
しかしながらこのような反射防止フィルムは長期にわた
る使用により次第に防眩性が低下するという問題が生じ
る。以上の理由により、長期的に防眩性と反射防止性と
膜強度を同時に満足する実用的な塗布型反射防止フィル
ムは存在しなかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗布
層である低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反
射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを
有し、その後の長期にわたる使用、特に高温高湿の過酷
な環境下においても防眩性の変化がほとんど無く、した
がって初期の性能を低下させることの無い反射防止フィ
ルムを提供することである。また、本発明の目的は、反
射防止フィルムの塗布層表面に、長期にわたる使用、特
に高温高湿の過酷な環境下においても反射防止機能を低
下させることの無い表面凹凸を形成することができる製
造方法を提供することでもある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
手段により達成された。 （１）支持基板上に少なくとも１層の反射防止層を有
し、反射防止層の表面をエンボス加工した反射防止フィ
ルムにおいて、式（Ｉ）で定義される算術平均粗さの残
存率Ｒが３０％以上であることを特徴とする反射防止フ
ィルム。 （Ｉ） Ｒ＝Ｒ_A/Ｒ_B Ｒ_A：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下で１
０００時間保持した後の反射防止層表面の算術平均粗さ Ｒ_B：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下に保
持する前の反射防止層表面の算術平均粗さ

【０００８】（２）反射防止フィルムの反射防止層側の
表面をエンボス加工して表面に凹凸を形成する工程、６
０乃至２００℃の温度にて１乃至１０万秒の時間、水を
１０質量％以上含む溶液中または該溶液の蒸気中にて処
理する工程からなる反射防止フィルムの製造方法。 （３）反射防止層が支持基板の屈折率より低い屈折率を
有する低屈折率層からなり、該支持基板と該反射防止膜
との間にさらに高屈折率層が積層されており、支持基板
の屈折率よりも高屈折率層の屈折率が高く、そして高屈
折率層の厚さが実質的に均一である（１）に記載の反射
防止フィルム。

【０００９】（４）支持基板と高屈折率層との間に、さ
らに中屈折率層が積層されており、支持基板の屈折率よ
りも中屈折率層の屈折率が高く、高屈折率層の屈折率よ
りも中屈折率層の屈折率が低く、そして中屈折率層の厚
さが実質的に均一である（３）に記載の反射防止フィル
ム。 （５）５°入射における４５０〜６５０ｎｍ波長の鏡面
反射率の平均値が０．５％以下であることを特徴とする
（３）乃至（４）に記載の反射防止フィルム。 （６）５°入射における４５０〜６５０ｎｍ波長の鏡面
反射率の平均値が０．３％以下であることを特徴とする
（３）乃至（４）に記載の反射防止フィルム。 （７）それぞれの層が膜形成性の溶質と少なくとも１種
類の溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱
および／または電離放射線による硬化により形成された
ものであることを特徴とする（１）および（３）乃至
（６）に記載の反射防止フィルム。

【００１０】（８）該反射防止フィルムにおいて、設計
波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式
（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が
下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することを特徴とする
（４）乃至（７）に記載の反射防止フィルム。 λ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜λ／４×１．００ （Ｉ） λ／２×０．７５＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．９５ （ＩＩ） λ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜λ／４×１．０５ （ＩＩＩ） （但し、式中ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は
中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の
屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であ
り、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈折率
層の層厚（ｎｍ）である） （９）該反射防止フィルムの低屈折率層が、熱または電
離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂からなることを特
徴とする、（１）および（３）乃至（８）に記載の反射
防止フィルム。

【００１１】（１０）該反射防止フィルムの高屈折率層
が Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から
選ばれた少なくとも１種の金属酸化物を含有する超微粒
子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有する
硬化性樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物を塗布、
溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化に
より形成されたものであることを特徴とする、（３）乃
至（９）に記載の反射防止フィルム。 （１１）該反射防止フィルムの低屈折率層が、純水の接
触角が１００゜以上であることを特徴とする、（１）お
よび（３）乃至（１０）に記載の反射防止フィルム。 （１２）該反射防止フィルムと支持基板との間に少なく
とも１層のハードコート層を有することを特徴とする、
（１）および（３）乃至（１１）に記載の反射防止フィ
ルム。 （１３）該反射防止層と支持基板との間に少なくとも１
層の前方散乱層を有することを特徴とする、（１）およ
び（３）乃至（１２）に記載の反射防止フィルム。

【００１２】（１４） ２枚の表面保護フィルムを偏光
子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板において、片面の
表面保護フィルムが（１）および（３）乃至（１３）に
記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光
板。 （１５）（１）および（３）乃至（１３）に記載の反射
防止フィルムの反射防止層を形成後に、アルカリ液中に
少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸
化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保
護フィルムに用いたことを特徴とする（１４）に記載の
偏光板。

【００１３】（１６）（１）および（３）乃至（１３）
に記載の反射防止フィルムの反射防止層の形成前または
後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィ
ルムを形成する面の反対側の面に塗布し、加熱、水洗お
よび／または中和することで、該フィルムの裏面だけを
鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面
保護フィルムに用いたことを特徴とする（１４）に記載
の偏光板。

【００１４】（１７）前記表面保護フィルムのうちの反
射防止フィルム以外のフィルムが、該表面保護フィルム
の偏光子と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補
償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層
がディスコティック構造単位を有する化合物からなる負
の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構造単
位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いてお
り、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面
保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向
において変化していることを特徴とする（１４）乃至
（１６）に記載の偏光板。

【００１５】（１８）（１）および（３）乃至（１３）
の反射防止フィルム、または（１４）乃至（１７）に記
載の偏光板を少なくとも１枚有する液晶表示装置。 （１９）液晶表示装置がＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、
ＯＣＢのモードの透過型、反射型または半透過型である
（１８）に記載の液晶表示装置。 （２０）（１４）乃至（１７）に記載の偏光板を少なく
とも１枚有する透過型または半透過型の液晶表示装置で
あり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間
に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置するこ
とを特徴とする液晶表示装置。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明者は、まず反射防止フィル
ムの長期経時による防眩性の低下について鋭意研究した
ところ、エンボス処理により形成した凹凸が次第に小さ
くなっていくことが原因であることを見いだした。その
点を更に研究を進めた結果、比較的吸水率の高いプラス
チック材料、例えば本発明の反射防止フィルムのプラス
チック透明支持体として好ましい材料であるセルロース
エステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセ
ルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）では大気中の水分と熱の相乗効果にによって凹凸の
減少が著しく加速されることを見出した。さらに、反射
防止フィルムにエンボス加工を施し反射防止層側に凹凸
をつけた後に熱水或いは水蒸気処理を施すことで、一時
的に表面凹凸が減少するのものの、その後の長期にわた
る使用や高温高湿の過酷な環境下においても凹凸の変化
が著しく減少することを見いだした。最終的な製品とし
て所望の表面凹凸、したがって所望の防眩性を有する反
射防止フィルムを得る好ましい方法として、処理を施す
ことで減少する凹凸の減少量を見越して熱水或いは水蒸
気処理前の表面凹凸をやや大きく設計し、熱水或いは水
蒸気処理後の表面凹凸を最適値にする方法を見出した。
本発明の防眩性を有する反射防止フィルムの基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。

【００１７】［防眩性の付与］図１に、塗布型反射防止
フィルムへの防眩性の付与法の一例を示す。図中、反射
防止フィルム（１）の反射防止層（３）側の表面をエン
ボスロール（４）とバックアップロール（５）によりプ
レスして少なくとも一方の表面に凹凸を形成することに
よって、反射防止性を損なうことなく防眩性を発現す
る。反射防止性を損なわないために必要な実質的な膜の
均一性は、光干渉層の層数や設計によって異なる。例え
ば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気界面側
より、この順序に各層ともλ／４ｎの厚みで積層された
３層型設計の場合、各層の膜厚の均一性は±３％が上限
であって、それ以上になると著しく反射防止性能が低下
してしまう。防眩性の程度は、エンボス加工における膜
面温度、プレス圧力、処理速度等の工程条件および反射
防止フィルムを有する透明支持体の力学物性によって制
御することができるが、より温和な条件での実施が、フ
ィルムの平面性、工程の安定性、コスト等の観点から好
ましい。

【００１８】［熱水処理］長期使用によるエンボス面の
凹凸の低下を防ぐためのエンボス処理を施した反射防止
フィルムの熱水処理は、エンボス処理後連続した工程で
実施することがエンボスの性能維持および経済性の両面
において望ましい。熱水処理はエンボス加工した反射防
止フィルムを、一定の温度範囲に保持した湯浴中に通し
て実施することが最も簡単でかつ効果的であるが、水を
含有する溶液またはその水蒸気中を通すことでも同じ効
果を得ることが出来る。水を含有する溶液の例として
は、低級１価アルコール（メタノール、エタノール
等）、低級２価アルコール（エチレングリコール等）ま
たは低級３価アルコール（グリセリン等）等水と任意の
割合で混ざりあう溶媒と水との混合溶液を挙げることが
出来る。溶液の水の含有量は１０質量％以上が好まし
く、２０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が
さらに好ましいが、経済性、環境汚染性、毒性等を考慮
すると純水が最も好ましい。熱水処理の温度は６０℃以
上２００℃以下が好ましく、７０℃以上１９０℃以下が
より好ましく、８０℃以上１８０℃以下が最も好まし
い。熱水処理温度はエンボス加工時の温度以下であるこ
とが好ましい。熱水処理温度がエンボス加工温度を越え
るとエンボスの凹凸が低下しやすく、処理時間の制御が
困難である。熱水処理時間は熱水処理温度と密接に関係
し、１秒以上１０万秒以下が好ましいが、生産性等を考
慮すると２秒以上１万秒以下がより好ましく、４秒以上
１０００秒以下が最も好ましい。

【００１９】本発明の反射防止フィルムは、式（Ｉ）で
定義される算術平均粗さの残存率Ｒが３０％以上であ
る。 （Ｉ） Ｒ＝Ｒ_A/Ｒ_B Ｒ_A：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下で１
０００時間保持した後の反射防止層表面の算術平均粗さ Ｒ_B：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下に保
持する前の反射防止層表面の算術平均粗さ 本発明の反射防止フィルムにおいてはこの残存率Ｒは４
０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、８０
％以上が更に好ましく、９０％以上が特に好ましい。

【００２０】［表面粗さ］反射防止フィルムの表面粗さ
は、防眩性を付与したサンプルの凹凸表面を走査型顕微
鏡で観察して得られたデータを解析することにより評価
できる。算術平均粗さ（Ｒａ）の評価方法は、ＪＩＳ−
Ｂ−０６０１に従う。本発明では、反射防止フィルム表
面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．０５乃至２μｍの範
囲とする。Ｒａは、０．０７乃至１．５μｍの範囲であ
ることが好ましく、０．０９乃至１．２μｍの範囲であ
ることがさらに好ましく、０．１乃至１μｍの範囲であ
ることが最も好ましい。Ｒａが０．０５μｍ未満である
と、充分な防眩機能を得ることができない。Ｒａが２μ
ｍを越えると、解像度が低下したり、外光が当たった際
に像が白く光ったりする。

【００２１】また、本発明では、全表面凹凸強度のうち
周期が１乃至１０μｍである凹凸強度の割合は１５％以
上であることが好ましく、２０％以上であることがより
好ましく、２５％以上であることがさらに好ましく、３
０％以上であることが最も好ましい。この割合が高い
程、キメの細かな質感の高い防眩性が得られる。周期が
１乃至１０μｍである凹凸強度の割合は、パワー・スペ
クトラル密度（Power Spectral Density）解析により求
める。パワー・スペクトラル密度（ＰＳＤ）は、下記式
（２）で定義される。

【００２２】

【数１】

【００２３】式中、Ａは、スキャン領域であり、ｐ、ｑ
は、それぞれ、水平方向の頻度であり、そして、ｚ
（ｘ，ｙ）は、イメージデータである。周期が１乃至１
０μｍである凹凸強度および全表面凹凸強度のそれぞれ
について、二乗平均粗さ（ＲＭＳ）を求める。二乗平均
粗さ（ＲＭＳ）は、下記式（３）で定義される。

【００２４】

【数２】

【００２５】周期が１乃至１０μｍである凹凸強度の割
合は、周期が１乃至１０μｍである凹凸強度の二乗平均
粗さ（ＲＭＳ1-10）と、全表面凹凸強度の二乗平均粗さ
（ＲＭＳtotal ）との比（ＲＭＳ1-10／ＲＭＳtotal ）
に相当する。

【００２６】表面の凸部から隣接する凸部までの平均ピ
ッチは、１０乃至６０μｍであることが好ましく、１５
乃至４０μｍであることがさらに好ましく、１５乃至２
０μmであることが最も好ましい。凸部の先端から凹部
の底までの平均深さは、０．０５乃至２μｍであること
が好ましく、０．１乃至１μｍであることがさらに好ま
しい。反射防止フィルム全体のヘイズ値は、１５％以下
であることが好ましい。また、反射防止フィルム全体の
反射率は、２．５％以下であることが好ましい。

【００２７】［反射防止フィルムの形成］図２は、本発
明に用いられる反射防止フィルムの基本的な層構成を示
す断面模式図である。透明支持体（１１）、ハードコー
ト層（１２）、中屈折率層（１３）、高屈折率層（１
４）、そして低屈折率層（１５）の順序の層構成を有す
る。このような３層構成の反射防止フィルムは、中屈折
率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜
厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してλ
／４前後、またはその倍数であることが好ましいことが
特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。しか
しながら、本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減さ
れた反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ
（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、
高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩ
Ｉ）をそれぞれ満足する必要がある。

【００２８】 λ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜λ／４×１．００ （Ｉ）

【００２９】 λ／２×０．７５＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．９５ （ＩＩ）

【００３０】 λ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜λ／４×１．０５ （ＩＩＩ）

【００３１】式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、
ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折
率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）
であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈
折率層の層厚（ｎｍ）である。さらに、例えばトリアセ
チルセルロース（屈折率：１．４９）からなる透明支持
体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．
８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率で
ある必要があり、ポリエチレンテレフタレート（屈折
率：１．６６）からなる透明支持体に対しては、 ｎ１
は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ
３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。上
記のような屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素
材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折
率を有する層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わ
せた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈
折率層あるいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成で
きることは公知であり、本発明の反射率特性を実現する
ためにも用いることができる。本発明の「実質的に３
層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の反射
防止層も含むものである。

【００３２】上記のような層構成とすることで達成され
る本特許の反射率特性は、低反射と反射光の色味の低減
を両立することができるため、例えば液晶表示装置の最
表面に適用した場合、これまでにない視認性の高さを有
する表示装置が得られ、入射角５゜における出射角−５
゜の鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長
領域での平均値が０．５％以下、好ましくは０．３％以
下であることによって、表示装置表面での外光の反射に
よる視認性の低下が充分なレベルまで防止できる。ま
た、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のよう
な、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニ
ュートラルで、気にならない。

【００３３】本発明の反射防止フィルムに用いる透明支
持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好
ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロ
ースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチ
ルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセル
ロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセル
ロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステ
ル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレン
テレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシ
エタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレン
テレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチ
ックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピ
レン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスル
ホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエ
ーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエ
ーテルケトンが含まれる。特に液晶表示装置や有機ＥＬ
表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを
偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合には
トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリア
セチルセルロースフィルムの作成法は、公開技報番号２
００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いら
れる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等のガラス基板等に張
り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレー
ト、あるいははポリエチレンナフタレートが好ましい。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ま
しく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支
持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、
１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体
の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好ましい。

【００３４】中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の
高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマ
ー、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶
媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によ
って形成される。無機微粒子としては、 Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくと
も１種の金属酸化物からなるものが好ましい。このよう
にして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈
折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較
して、耐傷性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化
後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７
０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１等に記載
されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマ
ーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが
塗布組成物中に含まれることが好ましい。特に高屈折率
層としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸
化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物を含有す
る超微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基
を有する硬化性樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物
を塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線によ
る硬化により形成されたものであることが好ましい。

【００３５】無機微粒子の平均粒径は、コールターカウ
ンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍ
であることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大
きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好まし
くない。１００ｎｍ以上では、バインダとの屈折率差に
起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折
率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であること
が好ましく、１％以下であることがより好ましい。

【００３６】低屈折率層には、熱または電離放射線によ
り硬化する含フッ素化合物が好ましく用いられる。該硬
化物の動摩擦係数は好ましくは０．０３〜０．１５、純
水に対する接触角は好ましくは１００度以上、より好ま
しくは１００〜１２０度である。動摩擦係数が０．１５
より高いと、表面を擦った時に傷つきやすくなり、好ま
しくない。また、純水に対する接触角が１００度未満で
は指紋や油汚れ等が付着しやすくなるため、防汚性の観
点で好ましくない。該硬化性の含フッ素高分子化合物と
してはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例え
ば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシ
ル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと
架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ
素共重合体が挙げられる。

【００３７】含フッ素モノマー単位の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
り、これらのなかでも低屈折率、モノマーの扱いやすさ
の観点で特にヘキサフルオロプロピレンが好ましい。

【００３８】架橋性基付与のためのモノマーとしてはグ
リシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架
橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの
他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スル
ホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例
えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレ
ート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリ
ルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、
架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号
公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示
されており、特に好ましい。

【００３９】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ-ブチルアクリルアミド、Ｎ−
シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特
開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７
７３９号公報により開示されている。

【００４０】さらに耐傷性を付与するために動摩擦係数
を低下させる手段として、滑り性を良化できる共重合単
位を導入することができる。主鎖中にポリジメチルシロ
キサンセグメントを導入する方法が特開平１１−２２８
６３１号公報に開示されており、特に好ましい。

【００４１】低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂に
は、耐傷性を付与するためにＳｉの酸化物超微粒子を添
加して用いるのが好ましい。反射防止性の観点からは屈
折率が低いほど好ましいが、含フッ素樹脂の屈折率を下
げていくと耐傷性が悪化する。そこで、含フッ素樹脂の
屈折率とＳｉの酸化物超微粒子の添加量を最適化するこ
とにより、耐傷性と低屈折率のバランスの最も良い点を
見出すことができる。Ｓｉの酸化物超微粒子としては、
市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布
組成物に添加しても良いし、市販の各種シリカ紛体を有
機溶剤に分散して使用してもよい。

【００４２】反射防止フィルムには、さらに、ハードコ
ート層、前方散乱層、帯電防止層、下塗り層や保護層を
設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐傷性
を付与するために好ましく設けられる。ハードコート層
は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も
有する。ハードコート層は、多官能アクリルモノマー、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等のオリ
ゴマー、各種重合開始剤を溶媒に溶解した組成物に、必
要に応じてシリカ、アルミナ等の無機フィラーを添加し
て得られた塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／
または電離放射線により硬化することで好ましく形成さ
れる。本発明の反射防止フィルムにおいて、前方散乱層
は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視
角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために
好ましく設けられる。上記ハードコート層中に屈折率の
異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼
ねることもできる。

【００４３】反射防止フィルムの各層は、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコー
ト、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法
（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布によ
り形成することができる。ウエット塗布量を最小化する
ことで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およ
びグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で
特にグラビア法が好ましい。２層以上の層を同時に塗布
してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７
６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７
号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、
コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に
記載がある。

【００４４】本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面
保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体
の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリ
によって鹸化処理することが必要である。アルカリ鹸化
処理の具体的手段としては、以下の２つから選択するこ
とができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと
同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反
射防止フィルム面まで鹸化処理されるため、表面がアル
カリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残る
と汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別
な工程となるが、（２）が優れる。 （１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ
液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏
面を鹸化処理する （２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後
に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィル
ムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗お
よび／または中和することで、該フィルムの裏面だけを
鹸化処理する

【００４５】本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表
面保護フィルムの片側として用いた場合、 ツイステッ
トネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチッ
ク（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、イ
ンプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコ
ンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透
過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好まし
く用いることができる。特にＴＮモードやＯＣＢモード
の液晶表示装置に対しては、表面保護フィルムのうちの
反射防止フィルム以外のフィルムが、該表面保護フィル
ムの偏光子と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学
補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性
層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる
負の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構造
単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いてお
り、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面
保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向
において変化している場合に好ましく、特にＴＮモード
やＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開2001-1
00043等に記載されているように、視野角拡大効果を有
する光学補償フィルムを偏光子の裏表２枚の保護フィル
ムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用
いることにより、１枚の偏光板の厚みで反射防止効果と
視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に
好ましい。また、透過型または半透過型の液晶表示装置
に用いる場合には、視認側とは反対側の偏光板とバック
ライトとの間に、輝度向上フィルム（偏光選択層を有す
る偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−Ｂ
ＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の
高い表示装置を得ることができる。また、λ／４板と組
み合わせることで、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板
として表面および内部からの反射光を低減するのに用い
ることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持
体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）の
ような画像表示装置に適用できる。

【００４６】

【実施例】以下に実施例をもって本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。 （ハードコート層用塗布液Ａの調整）ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトン
と２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解し
た。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解する
まで攪拌した後に、４５０質量部の ＭＥＫ−ＳＴ（平
均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ
₂ ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）
製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリ
プロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハ
ードコート層用塗布液Ａを調製した。

【００４７】（ハードコート層用塗布液Ｂの調整）上記
ハードコート層用塗布液Ａ（溶剤乾燥し、紫外線硬化後
の屈折率：１．５１）１０００質量部に、平均粒径１．
３μｍの架橋ポリスチレンからなる前方散乱性付与粒子
（ＳＸ−１３０Ｈ、屈折率：１．６１、綜研化学（株）
製）１５０質量部を追添加し、エアディスパーにて１０
分間攪拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン
製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、前方散乱性
を付与した、ハードコート層用塗布液Ｂを調製した。

【００４８】（ハードコート層用塗布液Ｃの調整）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）９１質量部、粒径約３０ｎｍの酸化ジ
ルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デ
ソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２１８質量部
を、５２質量部のメチルエチルケトン／シクロヘキサノ
ン＝５４／４６質量％の混合溶剤に溶解した。得られた
溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファ
インケミカルズ（株）製）１０質量部を加え、撹拌して
混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター
（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液C
を調製した。

【００４９】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原テクノ（株）製）３
０質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡ
ＥＡ、興人（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン
性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ−２１、日本化薬
（株）製）６質量部およびシクロヘキサノン６３質量部
を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定
した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタ
ン分散物を調製した。

【００５０】（中屈折率層用塗布液Ａの調製）シクロヘ
キサノン７５質量部およびメチルエチルケトン１９質量
部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）０．１１質量部および光増感剤（カヤキュアー
ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解し
た。さらに、二酸化チタン分散物３．１質量部およびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）２．１質量部を加え、室温で３０分
間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルタ
ー（ＰＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層用塗布液を
調製した。

【００５１】（中屈折率層用塗布液Ｂの調製）シクロヘ
キサノン７５０質量部、メチルエチルケトン１９０質量
部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）１．２質量部および光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。
さらに、二酸化チタン分散物１０５質量部およびジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）２１質量部を加え、室温で３０分間撹拌
した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（Ｐ
ＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層用塗布液Ｂを調製
した。

【００５２】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解し
た。さらに、二酸化チタン分散物２６．４質量部および
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３
０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィ
ルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布
液を調製した。

【００５３】（低屈折率層用塗布液の調製）屈折率１．
４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６質量パーセ
ントのメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳ
Ｒ（株）製）を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン
８５質量％、２−ブタノール１５質量％からなる混合溶
媒中に固形分１０質量％を含有するポリマー溶液を得
た。このポリマー溶液７０質量部にＭＥＫ−ＳＴ（平均
粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ₂
ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）
１０質量部、およびメチルイソブチルケトン４２質量部
およびシクロヘキサノン２８質量部を添加、攪拌の後、
孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０
３）でろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００５４】［実施例１〜１０、比較例１〜５］ （反射防止フィルムの作成）８０μｍの厚さのトリアセ
チルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写
真フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布
液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で
２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化
させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：６μ
ｍ）を形成した。続いて、上記の中屈折率層用塗布液Ａ
をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥し
た後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層
（屈折率：１．６３、膜厚：６７ｎｍ）を設けた。

【００５５】中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗
布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾
燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折
率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ ）を設け
た。さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布
液をグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で８分
間、塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４
３、膜厚：８６ｎｍ ）を設けた。このようにして反射
防止フィルムを作成した。

【００５６】（防眩性の付与）得られた反射防止フィル
ムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール
（株）製）を用いて、プレス圧力１０００Ｋｇ／ｃｍ、
プレヒートロール温度１００℃、エンボスロール温度１
６０℃、処理速度２ｍ／分の条件下で、スチール製エン
ボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアッ
プロールをセットし、算術平均粗さ（Ｒａ）が４μｍの
エンボスロールを用いてエンボス処理を行った。得られ
た防眩性反射防止フィルムについて、走査型プローブ顕
微鏡により表面粗さＲａおよび１〜１０μｍの凹凸強度
の割合を測定した結果、それぞれ０．１６μｍ、４３％
で質感の高いものであった。

【００５７】（反射防止フィルムの評価）得られたフィ
ルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）鏡面反射率 分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプタ
ーＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波
長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡
面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を
算出し、反射防止性を評価した。

【００５８】（２）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿
度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ６００６
に規定する２Ｈ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇ
の荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる
最も高い硬度を評価値とした。 ｎ＝５の評価において傷なし〜傷２つ ：ＯＫ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：ＮＧ

【００５９】（３）接触角測定 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、純水の接触角を測
定し、指紋付着性の指標とした。結果は 鏡面反射率：０．２７％ 鉛筆硬度評価：３Ｈ 接触角測定：１０３° であった。

【００６０】（熱水処理）得られたフィルムについて、
表１に示した種々条件にてフィルムを熱水に浸漬するこ
とで熱水処理を施した。熱水処理を施したフィルムを６
５℃、９５％ＲＨの高温高湿条件に曝し、反射防止フィ
ルムの長期使用に伴なうエンボス表面の凹凸の平坦化に
対する加速試験を実施し、種々条件間および未処理品と
比較した。結果を表１に示した。

【００６１】

【表１】

【００６２】実施例１〜１０、比較例１〜５の反射防止
フィルムの初期性能は非常に好ましい反射特性を有する
だけでなく、耐傷性に優れ、純水の接触角が高いことか
ら、撥水、撥油性に優れるため、防汚性に優れ、さら
に、鉛筆硬度が高く、傷がつき難い。本発明の熱水処理
を施した実施例１〜１０の反射防止フィルムは、６５
℃、９５％ＲＨの高温高湿条件に１０００時間曝した後
も、表面算術平均粗さの残存率百分率は３０％以上あ
り、優れた耐久性を有していた。一方、比較例１〜５の
反射防止フィルムは、６５℃、９５％ＲＨの高温高湿条
件に１０００時間曝した後の表面算術平均粗さの残存率
百分率は３〜５％と極めて小さく、耐久性に劣ってい
た。

【００６３】［実施例１１］実施例７の熱水処理を施し
た反射防止フィルムを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ
水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチ
ルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリア
セチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士
写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィル
ムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸
して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作
成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止フ
ィルム側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置
搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有
する偏光分離フィルムである住友３M（株）製のＤ−Ｂ
ＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認
側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極め
て少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。

【００６４】［実施例１２］実施例１１の鹸化処理を、
１．０規定のＫＯＨ水溶液を＃３バーにて反射防止フィ
ルムの裏面に塗布し、膜面温度６０℃にて１０秒間処理
した後に水洗、乾燥して行った以外は実施例１１と同様
にして、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例１１
と同様の表示品位の高い表示装置が得られた。

【００６５】［実施例１３］実施例１２の反射防止フィ
ルムを貼り付けた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板
の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側の偏
光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック
構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、
且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体
面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化
している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイ
ドビューフィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム
（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優
れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認
性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。

【００６６】［実施例１４］実施例７のハードコート用
塗布液Ａの代わりにハードコート層用塗布液Ｂを用いた
以外は実施例７と同様にして、前方散乱機能を有する反
射防止フィルムを作成し、実施例１３と同様にして、最
表面側にこの前方散乱性反射防止フィルムを、液晶セル
側に視野角拡大フィルムワイドビューフィルム（ＷＶ−
１２Ａ、富士写真フイルム（株）製）を有する偏光板を
配置した透過型ＴＮ液晶表示装置を作成した。このよう
にして作成した液晶表示装置は、実施例１３と比較し
て、下方向に視角を倒した時の階調反転が起こる限界角
が４０度から６０度まで改善され、視認性、表示品位に
おいて大変優れたものであった。

【００６７】［実施例１５］実施例７で作成、熱水処理
を施した反射防止フィルムを有機ＥＬ表示装置の表面の
ガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス
表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得ら
れえた。

【００６８】［実施例１６］実施例１２で作成した片面
反射防止フィルム付き偏光板の反射防止フィルムを有し
ている側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表
示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射
および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極
めて視認性の高い表示が得られた。

【００６９】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、塗布層で
ある低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反射防
止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有
し、その後の長期にわたる使用、特に高温高湿の過酷な
環境下においても初期の性能を低下させることが無い。
本発明の反射防止フィルムは、塗布とエンボス加工と熱
水或いは水蒸気処理の簡単な工程により製造することが
できる。従って、蒸着層からなる反射防止フィルムとは
異なり、大量生産に適している。以上のような反射防止
フィルムを用いることで、画像表示装置の画像表示面に
おける外光の反射を有効に防止すると同時に、背景の映
り込みを減少することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止フィルムへの防眩性の付与法を示す模
式図である。

【図２】本発明の反射防止フィルムの断面模式図であ
る。

【符号の説明】

１ 反射防止フィルム ２ 透明支持体 ３ 反射防止層 ４ エンボスロール ５ バックアップロール １１ 透明支持体 １２ ハードコート層 １３ 中屈折率層 １４ 高屈折率層 １５ 低屈折率層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BB33 BB65 BC22 2K009 AA02 AA06 AA12 AA15 BB28 CC03 CC09 CC24 CC26 DD15 4F100 AA21 AJ06 AK12 AK25 AK27 AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10B CA18 CA30 DE01 EH46 EJ01 EJ40 EJ54 EJ86 GB41 HB21B JN06B JN30 YY00B

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持基板上に少なくとも１層の反射防止
   層を有し、反射防止層の表面をエンボス加工した反射防
   止フィルムにおいて、式（Ｉ）で定義される算術平均粗
   さの残存率Ｒが３０％以上であることを特徴とする反射
   防止フィルム。 （Ｉ） Ｒ＝Ｒ_A/Ｒ_B Ｒ_A：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下で１
   ０００時間保持した後の反射防止層表面の算術平均粗さ Ｒ_B：６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下に保
   持する前の反射防止層表面の算術平均粗さ
2. 【請求項２】 反射防止フィルムの反射防止層側の表面
   をエンボス加工して表面に凹凸を形成する工程、６０乃
   至２００℃の温度にて１乃至１０万秒の時間、水を１０
   質量％以上含む溶液中または該溶液の蒸気中にて処理す
   る工程からなる反射防止フィルムの製造方法。
3. 【請求項３】 ２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面
   と裏面に貼り合わせた偏光板において、片面の表面保護
   フィルムが請求項１に記載の反射防止フィルムであるこ
   とを特徴とする偏光板。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の反射防止フィルム、又
   は請求項３に記載の偏光板を少なくとも１枚有する液晶
   表示装置。