JP2003205008A - 美容処理用チップとそれを用いた美容処理装置 - Google Patents
美容処理用チップとそれを用いた美容処理装置Info
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Abstract
への浸透効率や浸透量の制御性などを高めると共に、低
コストで簡易的に使用することが可能な美容処理装置が
求められている。 【解決手段】 美容処理装置は、偏心ロータ2を有する
モータ3のような振動発生手段が内蔵された装置本体1
を具備する。装置本体1の先端部分には、振動発生手段
からの振動が伝達されるように、美容処理用チップ10
が固定されている。美容処理用チップ10は、利用者の
身体に美容処理剤を浸透させるように、振動させた状態
で利用者の皮膚表面に当接されるものである。このよう
な美容処理用チップ10は多孔質基材を有し、この多孔
質基材内に美容処理剤を含浸、保持させることにより構
成されている。
Description
適用される美容処理用チップと、それを用いた美容処理
装置に関する。
ミ、くすみ、しわ、ニキビなどの除去もしくは抑制、さ
らには肌の保護などを目的として、身体の対象部位に美
容液、化粧液、皮膚保護液、薬剤などを浸透させること
が行われている。これら美容液や化粧液などの美容処理
剤を皮膚に浸透させる際には、美容処理剤をコットンな
どに染み込ませ、これを処理対象部位の皮膚表面に押し
当てたり、さらには連続的に押し当てる(以下パッティ
ングと称する)ことが一般的である。
動や超音波振動、また電界の印加などを利用することも
行われている(特許文献1、2参照)。例えば、特許文
献1には偏心ロータ付きモータを内蔵した装置本体に、
美容液を浸透させるための滑らかな被膜(例えば金メッ
キやハードクロムメッキ)を有する処理部を固定した美
容処理装置が記載されている。美容液の浸透は、予め身
体の対象部位に美容液を塗布し、その部位に振動させた
処理部を押し当てることにより実施される。
プローブの先端に円盤状の電極を配置することによっ
て、プローブ先端の円盤状電極で利用者の皮膚に振動と
直流電圧による電界を同時に印加することを可能にした
美容器具が記載されている。ここでは、まず身体の対象
部位に美容処理剤を塗布し、この美容処理剤の塗布面に
対して上記した円盤状電極を押し付けることによって、
美容処理剤の皮膚への浸透を促進している。
透には、人為的なパッティングのみならず、機械的振
動、超音波振動、電界の印加などを利用した美容処理装
置が用いられている。しかしながら、従来の美容処理装
置はいずれも身体の対象部位に予め美容処理剤を塗布す
る必要があることから、必ずしも十分な美容処理剤の浸
透効率を得るまでには至っていない。さらに、美容処理
剤の浸透量は、予め皮膚に塗布する美容処理剤の量(塗
布量)に影響されることから、使用者により浸透量に差
が生じることがある。
置を身体に振動を加えて美容処理を行う装置としても利
用することが記載されている。すなわち、偏心ロータ付
きモータを内蔵した装置本体に、粗い表面を有するセラ
ミックス材料からなる処理チップを連結固定し、この処
理チップに機械的振動を印加しつつ皮膚に当接すること
によって、老化した角質を除去する処理(いわゆるピー
リング処理)を行うものである。ここでは、処理チップ
にアルミナ、ジルコニア、マグネシアなどのセラミック
ス焼結体が使用されている。
再生機能を促進して、シミやくすみの原因を取り除いた
り、またしわやストレッチマークなどの除去に有効であ
り、主として美顔処理などの美肌処理を目的として実施
されている。すなわち、表皮最上部に位置する角質は、
表皮最下部の基底細胞で新生された細胞が上部に押し上
げられ、この細胞が融解して内部のケラトヒアリンが転
化(ケラトヒアリン代謝)することで順次生成される。
表皮最上部の角質は、次第にウロコ状となって最後には
角片(あか)となって表皮から脱落する。
おり、表皮細胞が新生してから剥がれ落ちるまでの周期
は表皮のターンオーバーと呼ばれている。ターンオーバ
ーが加齢、紫外線照射、乾燥、ストレスなどにより正常
に行われなくなると、シミ、くすみ、しわ、ストレッチ
マークなどが生じやすくなる。そこで、表皮最上部の老
化した角質に機械的振動を与え、老化した角質の一部を
除去するなどによって、皮膚の再生機能(ターンオーバ
ー)を促進する処理が行われている。
わ、ストレッチマークなどの除去に対して効果を示し、
さらに皮膚の老化防止や老化予防などに対しても有効に
作用する。特に、機械的な振動による皮膚の再生促進処
理は、皮膚に対するダメージが小さいと共に、局部的な
処理が可能であるというような特徴を有する。ただし、
皮膚に直接当接する処理チップの表面粗さが大きすぎた
り、また硬度が高すぎると、例えば老化した角質の除去
が不均一となったり、皮膚へのダメージが大きくなるこ
とが懸念される。処理チップの表面を単に平滑にしただ
けでは、皮膚の再生促進処理の効果そのものが低減して
しまうため、皮膚の再生機能の促進効果を高めた上で、
皮膚へのダメージを極力少なくすることが求められてい
る。
装置に関しては、特許文献3、特許文献4、特許文献5
などにも記載されている。ただし、特許文献3や特許文
献4に記載されている装置は、身体に振動を加えてマッ
サージ効果を得る装置である。特許文献5に記載されて
いる美容処理装置は、皮膚に交流電圧などによる電気的
な刺激に加えると共に、超音波振動を印加する装置であ
る。これらの装置は美容処理剤の浸透処理や皮膚の再生
促進処理について考慮されていない。
処理剤の皮膚への浸透については、機械的振動や超音波
振動などを利用した美容処理装置を用いて、美容処理剤
の浸透を効率化することが行われているが、従来の美容
処理装置では必ずしも十分な浸透効率を得るまでには至
っていない。さらに、美容処理剤の浸透量は、予め皮膚
に塗布する美容処理剤の量(塗布量)に影響されること
から、使用者により浸透量に差が生じることがある。こ
のようなことから、美容処理剤の皮膚への浸透をより効
率化すると共に、美容処理剤の浸透量の制御性などを向
上させた美容処理装置の実現が望まれている。さらに、
このような美容処理装置の利便性を高めるためには低コ
スト化が必須であり、これにより個人での使用を可能に
することが求められている。
促進処理は、皮膚に対するダメージが一般的に小さいと
共に、局部的な処理が可能であるというような特徴を有
する反面、従来の処理チップでは表面粗さが大きすぎた
り、また硬度が高すぎるなどによって、例えば老化した
角質の除去が不均一となったり、皮膚へのダメージが大
きくなることが懸念されている。このようなことから、
皮膚の再生機能の促進効果を高めた上で、皮膚へのダメ
ージを極力少なくすることを可能にした美容処理装置が
求められている。
なされたもので、美容液や化粧液などの美容処理剤の皮
膚への浸透効率や浸透量の制御性などを高めると共に、
低コストで簡易的に使用することを可能にした美容処理
装置、およびそれに用いる美容処理用チップを提供する
ことを目的としている。また、美容処理剤の皮膚への浸
透を図りつつ、老化した角質や皮膚表面に付着した汚れ
などを効率よく除去することを可能にした美容処理装
置、さらに皮膚へのダメージを大幅に軽減した上で、老
化した角質や皮膚表面に付着した汚れなどを効率よく除
去することを可能にした美容処理装置を提供することを
目的としている。
プは、請求項1に記載したように、身体に美容処理剤を
浸透させるように、前記身体の皮膚表面に当接される美
容処理用チップであって、多孔質基材と、前記多孔質基
材内に含浸された前記美容処理剤とを具備することを特
徴としている。
処理剤は、特に限定されるものではなく、目的とする美
容処理に応じた各種の美容処理剤を適用することができ
る。例えば、請求項3に記載したように、美容成分、化
粧成分、皮膚保護成分などから選ばれる少なくとも1種
を主目的成分として含む美容処理剤、また請求項4に記
載したように、さらに副成分として香料、顔料などから
選ばれる少なくとも1種を含む美容処理剤などが例示さ
れる。
は、特に限定されるものではなく、例えば請求項6に記
載したように平面状の皮膚当接面を有するチップや、請
求項7に記載したように曲面状の皮膚当接面を有するチ
ップなどを用いることができる。平面状の皮膚当接面を
有する美容処理用チップとしては、直方体形状のチップ
が例示される。また、曲面状の皮膚当接面を有する美容
処理用チップとしては、例えば請求項8に記載したよう
に、球状や円柱状の処理部を有するチップが挙げられ
る。
したように、装置本体と、前記装置本体に内蔵された振
動発生手段と、多孔質基材と、前記多孔質基材内に含浸
された美容処理剤とを有し、かつ前記振動発生手段から
振動が伝達されると共に、美容処理を施す身体の皮膚表
面に前記振動を印加するように当接される美容処理用チ
ップとを具備することを特徴としている。
1に記載したように、美容処理を施す身体に美容処理剤
を浸透させるように、美容処理用チップを皮膚表面に当
接させる美容処理に用いられるものである。本発明の美
容処理装置は、さらには請求項12に記載したように、
美容処理を施す身体に美容処理剤を浸透させつつ、身体
の皮膚表面に付着した汚れおよび/または老化した角質
を除去するように、美容処理用チップを皮膚表面に当接
させる美容処理に用いることもできる。
処理剤を予め多孔質基材内に含浸させた美容処理用チッ
プが用いられる。このように、美容処理剤を予め含ませ
た美容処理用チップに、例えば微振動を加えて各種の美
容処理を実施することによって、美容処理剤を効率よく
身体に浸透させることができる。さらに、美容処理剤の
浸透量は、美容処理用チップへの美容処理剤の含浸量、
美容処理用チップに加える振動数、美容処理用チップの
硬度や強度(チップ自体の磨耗量)などにより制御され
るため、従来の予め美容処理剤を皮膚に塗布する装置に
比べて、美容処理剤の浸透量およびそれに基づく美容処
理効果の制御性を高めることができる。
は、美容処理を施す身体に美容処理剤を浸透させつつ、
老化した角質や身体の皮膚表面に付着した汚れを除去す
ることができる。このように、美容処理を施す身体に美
容処理剤を浸透させつつ、老化した角質や汚れを除去す
ることによって、美容処理の処理効率の向上や処理時間
の短縮化などを図ることができるだけでなく、皮膚の再
生促進処理などを実施する際の皮膚へのダメージを大幅
に軽減することが可能となる。
態について説明する。図1、図2および図3は本発明の
美容処理用チップを適用した美容処理装置の一実施形態
の構成を示す図であり、図1は美容処理装置の外観を示
す正面図、図2はその側面図、図3は美容処理装置の断
面図である。これらの図において、1はプラスチック材
料などの非導電性材料からなる装置本体であり、この装
置本体1は振動発生手段として偏心ロータ2を有するモ
ータ3を内蔵している。
収容部4が一体的に設けられており、このモータ収容部
4に小型直流モータ3が設置されている。小型直流モー
タ3の回転軸3aには偏心ロータ2が固着されている。
さらに、装置本体1の内部には電源部5が設けられてお
り、この電源部5内に直流電源として例えば2本の電池
6、6が収納されている。これら小型直流モータ3と電
源部5とは、装置本体1の外表面に切換スイッチ7aを
設けたスイッチ部7を介して電気的に接続されている。
図中8は配線である。
2を有する小型直流モータ3は、このモータ3を駆動し
て偏心ロータ2を回転させることで装置本体1を振動さ
せるものである。すなわち、小型直流モータ3を駆動す
ると偏心ロータ2が回転し、この偏心ロータ16の回転
に基づいて装置本体1自体に振動が発生する。このよう
な振動発生機構に基づいて、装置本体1は所望の方向に
微振動する。
て偏心ロータ2を有する小型直流モータ3を用いた美容
処理装置を示したが、本発明で用いられる振動発生手段
はこれに限定されるものではなく、例えば超音波振動子
や圧電素子などの種々の振動発生手段を適用することが
できる。このように、本発明では種々の振動発生手段を
使用することが可能である。
する小型直流モータ3は、モータ3の回転数により振動
数を、また偏心ロータ2の大きさや質量などにより振幅
を容易に制御することができ、微振動を種々の振動数で
発生させることが可能であるため、本発明に好適な振動
発生手段ということができる。偏心ロータ2を回転させ
るモータ3は電池駆動方式に限られるものではなく、外
部電源から供給された交流または直流電力で駆動するモ
ータを使用してもよいが、電池駆動方式の小型直流モー
タ3は美容処理装置の携帯性などを高める上で有効であ
る。
構9が設けられている。美容処理用チップ10はチップ
保持機構9により装置本体1に着脱自在に保持されてい
る。すなわち、チップ保持機構9は挟持部9a、9bを
有しており、これらの間に挿入された美容処理用チップ
10を挟持部9a、9で締付けることで、美容処理用チ
ップ10が装置本体1に固定されている。ここでは、平
面状の皮膚当接面を有する直方体形状の美容処理用チッ
プ10を示したが、チップ形状は特に限定されるもので
はなく、例えば皮膚当接面を曲面状としたチップなど、
各種の形状を有する美容処理用チップ10を使用するこ
とができる。なお、美容処理用チップ10の形状とその
効果などについては後に詳述する。
用チップ10には、偏心ロータ2を有する小型直流モー
タ3により発生させた振動が装置本体1を介して伝達さ
れ、これにより美容処理用チップ10を各種の美容処理
条件などに応じた振動数や振幅で振動させる。偏心ロー
タ2を有する小型直流モータ3は、例えば美容処理用チ
ップ10に主として図中矢印方向の往復振動を印加する
ように設置場所や設置方向などが設定されている。
伝達機構には、図3に示した機構に限らず、各種の機構
を採用することができる。例えば、図4に示す美容処理
装置は、装置本体1の先端の空洞部内に振動伝達部材1
1が充填されており、偏心ロータ2が装着された回転軸
3aの他端は振動伝達部材11に固定された軸受12に
より支持されている。言い換えると、偏心ロータ2と美
容処理用チップ10との間には振動伝達部材11が介在
されている。このような装置構成によれば、偏心ロータ
2の回転に基づく振動をより有効に美容処理用チップ1
0に伝達することができる。さらに、偏心ロータ2を有
する小型直流モータ3で発生させた振動は、装置本体1
を介さずに、美容処理用チップ10に直接伝達してもよ
い。
美容処理用チップ10は、チップ形状を維持する多孔質
基材を有し、かつこの多孔質基材内に美容処理剤を含浸
させることにより構成されている。このような美容処理
用チップ10を目的とする美容処理条件に応じた振動数
や振幅で振動させ、この振動が加えられた状態の美容処
理用チップ10を利用者の皮膚表面に当接させることに
よって、美容処理用チップ10に含ませた美容処理剤を
身体に浸透させる美容処理が実施される。具体的には、
振動と皮膚への当接(パッティング)時の衝撃などによ
り美容処理剤が美容処理用チップ10からしみ出し、こ
のしみ出した美容処理剤をチップ10の振動で効率的に
皮膚に浸透させる。
多孔質体には、美容処理剤を保持し得ると共に、人体に
対する安全性を有するものであれば種々の材料からなる
多孔質基材を使用することができる。なお、ここで言う
美容処理剤の保持とは、多孔質基材内に美容処理剤を完
全に閉じ込める状態を示すものではなく、美容処理用チ
ップ10の利用形態に応じて、美容処理剤の一部が自然
にしみ出すような状態や湧出するような状態を含むもの
である。また、多孔質基材はその空孔部に美容処理剤を
保持する材料に限らず、空孔部での保持に加えて美容処
理剤を吸収するような材料であってもよい。
は、取り扱い上の強度を有していれば美容処理剤の種類
や目的とする美容処理条件などに応じて適宜に設定する
ことができる。美容処理剤の含浸量は多孔質基材の材質
によっても異なるため、これらの条件を考慮した上で多
孔質度を設定することが好ましい。さらに、多孔質基材
の硬度や強度についても、美容処理条件や美容処理の対
象部位などに応じて適宜に設定することができる。例え
ば、美容処理剤のしみ出し量(身体への浸透量)を高め
る上で、多孔質基材が徐々に磨耗するような硬度や強度
としてもよいし、また逆に多孔質基材は損耗しないよう
な硬度や強度とすることもできる。
は、例えば多孔質セラミックス、多孔質樹脂(例えば発
泡樹脂)、多孔質ゴム(例えば発泡ゴム)などが挙げら
れる。これら以外についても美容処理条件に応じた安全
性や美容処理剤の保持性並びにしみ出し性などを有する
ものであれば、各種材料の多孔質体を使用することがで
きる。多孔質セラミックスとしては、セラミックス材料
の多孔質焼結体やセラミックス材料の多孔質結合体など
が例示される。これらは焼結条件や結合剤の種類、さら
にはその他の条件を制御することで、種々の多孔質度
(空孔量)、硬度、強度などを有する多孔質基材を比較
的容易に得ることができる。多孔質セラミックスは美容
処理用チップ10の多孔質基材として好適である。
するセラミックス材料としては、アルミナ、ジルコニ
ア、マグネシア、スピネル、炭化ケイ素、窒化ケイ素、
窒化ホウ素などが挙げられる。これらのうちでも、人体
に対する安全性が高い酸化物系セラミックス材料、すな
わちアルミナ、ジルコニア、マグネシア、スピネルなど
を使用することが好ましい。特に、アルミナは安全性に
優れると共に、人体に対する攻撃性が低く、その上で適
度なマッサージ効果などが得られることから、美容処理
用チップ10の多孔質基材の構成材料として好適であ
る。
体を作製する際のバインダ成分の配合量や焼結条件など
を適宜選択することで得ることができ、さらには多孔質
焼結体自体の条件(硬度や多孔質度)などを制御するこ
とも可能である。また、セラミックス材料の多孔質結合
体としては、セラミックス粒子(粉末)をビトリファイ
ド結合剤などにより結合した多孔質体が挙げられる。こ
のような多孔質結合体は、セラミックス粉末をビトリフ
ァイド結合剤と共に混合し、この混合物を所望のチップ
形状に成形した後、例えば1200〜1350℃程度の温度で焼
成することにより作製される。ビトリファイド結合剤の
種類や混合量を適宜設定することで、各種の多孔質度や
硬度を有する多孔質結合体を得ることができる。
質結合体を作製するにあたって、セラミックス粒子に予
め塩酸、硫酸、硝酸、フッ酸、これらの混酸などの酸液
を用いて酸処理を施しておくことも効果的である。セラ
ミックス粒子に酸処理を施すことによって、粒子自体の
安全性(消毒効果)を高めることができると共に、粒子
表面の鋭利な突起などがある程度まで滑らかになるた
め、皮膚に対する攻撃性をより一層低下させることがで
きる。セラミックス粒子の結合・保持には、例えばゴム
系結合剤、レジン系結合剤、ガラス系結合剤、メタル系
結合剤などの種々の結合剤を使用することができる。
多孔質基材内に液状の美容処理剤を含浸させることによ
り構成される。液状美容処理剤の含浸・保持は、多孔質
基材を美容処理剤(液)中に浸漬することで実施しても
よいが、例えば真空含浸などを適用することによって、
美容処理剤を多孔質基材内に高密度に充填することがで
きる。また、多孔質基材内に含浸させる美容処理剤につ
いては、目的とする美容処理に応じて各種の美容液、化
粧液、皮膚保護液、洗顔液などを適宜に選択することが
でき、特に限定されるものではない。さらに、美容処理
剤は液状のものに限らず、粉体状や粒子状の処理剤を含
んでいてもよい。これらは予め液体(美容処理液や溶剤
など)に溶解もしくは分散させておくことによって、多
孔質基材に含浸、保持させることができる。
ては、具体的には各種のビタミンやセラミド、またコラ
ーゲン(コラーゲンビーズなどを含む)や美白剤のよう
な美容成分、各種化粧品として用いられている化粧成
分、紫外線吸収(もしくは反射)剤(日焼け抑制)、保
湿剤、油分補給剤、炎症抑制剤のような皮膚保護成分な
どを含むもの、また場合によっては洗顔成分などを含む
ものが用いられる。これら各成分は1種または2種以上の
混合物として使用することができる。さらに、これら美
容処理剤の主目的成分に加えて、抗炎症作用や抗酸化作
用などを有する成分を配合したり、また香料や顔料など
を副成分として添加してもよい。
には、ビタミンA油(ビタミンAパルミテート)、ビタ
ミンE油(d1-α-トコフェロール)、ビタミンC(テト
ラ2-ヘキシルデカン酸アスコルビル)などが効果的に用
いられる。例えば、ビタミンAは角質化した皮膚をやわ
らげ、また肥厚した皮膚や毛孔壁を柔軟にして、ニキビ
などのできやすい油漏性角化肌の解消などに効果を発揮
する。ビタミンEは細胞の若さを保つ働きを有し、肌荒
れ、しわなどの原因となるターンオーバーの改善などに
効果を発揮し、さらにシミの原因となる褐色の色素の沈
着が抑制される。ビタミンCはシミ、ソバカスの発生原
因となるメラニン色素の形成を阻害すると共に、シミの
要因となる活性酸素を阻害する抗酸化作用を有する。ま
た、バイオ技術で作られたセラミドは、肌の保湿機能を
高めるなどの効果を有する。
美容処理剤の具体例としては、上述した各種ビタミンや
セラミドなどの主目的成分に、抗炎症作用を有する成分
(例えばグリチルレチン酸ステアリル)をオリーブスク
ワランや吸着精製オリーブ油などの植物性油に溶かした
ものを加え、またアロマ効果などを有する各種香料や香
油、さらには顔料などを配合した混合処理剤が挙げられ
る。これらは主目的成分の種類に応じて各種の美容処理
用途に用いられる。顔料は美容処理用チップ10を使用
目的毎に着色し、美容処理用チップ10の利便性を高め
る上で効果的である。なお、上記した美容処理剤はあく
までも一例であり、美容処理用チップ10に含ませる美
容処理剤は目的とする処理内容や処理対象部位などに応
じて適宜に選択して使用することができる。
処理用チップ10は、例えば往復方向、特に皮膚への当
接方向に対して主に前後方向に振動される。その際の振
動数や振幅は処理内容に応じて適宜に設定され、例えば
振動数は100〜20000回/min程度、往復振動の振幅は0.01
〜100μm程度とされる。このような微振動を美容処理用
チップ10に加えることによって、皮膚自体にダメージ
を与えることなく、皮膚表面から美容処理剤を効率的に
浸透されることができる。さらに、このような微振動は
マッサージ効果や後に詳述する老化した角質の除去効果
なども有するため、美容処理効果をより一層高めること
ができる。
処理剤を含ませた美容処理用チップ10を用い、これを
目的とする美容処理条件に応じた振動数や振幅で振動さ
せつつ利用者の皮膚表面に押し当てることによって、美
容処理用チップ10に含ませた美容処理剤を身体に浸透
させるものである。従って、従来の美容処理剤を皮膚に
塗布した後に振動などを加える装置に比べて、利用者の
身体に美容処理剤をより効率よく浸透させることができ
る。また、美容処理用チップ10自体の安全性が高く、
かつ肌への攻撃性などを美容処理剤中の成分により和ら
げることができるため、皮膚の負担やダメージなどをよ
り一層抑えることが可能となる。
ニキビ傾向肌、脂漏性肌、肥厚角化肌、乾燥傾向肌、荒
れ肌、シミ・ソバカス傾向肌、くすみ傾向肌、弱肌傾向
肌などの改善のための美容処理、肌の老化や乾燥などを
防ぐための美容処理、さらには日常の美容、化粧、肌の
保護のための各種処理などを、効果的にかつ安全に実施
することが可能となる。なお、本発明の美容処理装置は
このような用途への使用に限られるものではなく、各種
の美容処理に適用することができるものである。具体的
には、後に詳述する皮膚表面に付着した汚れや老化した
角質の除去に対しても効果的に用いられるものである。
用チップ10への美容処理剤の含浸量、美容処理用チッ
プ10に加える振動数や振幅、美容処理用チップ10の
硬度や強度(チップ自体の磨耗量)などにより制御する
ことができる。これは美容処理剤の浸透量やそれに基づ
く美容処理効果の向上などに対して有効に作用する。そ
の上で、本発明の美容処理装置は低コストで提供するこ
とができるため、商業用途に限らず個人での使用が可能
となる。これによって、美容処理剤を浸透させるための
美容処理装置の利便性を大幅に高めることができる。
美容処理用チップ10の振動を利用して美容処理剤を効
率的に浸透させるものであるため、美容処理剤の浸透効
率の向上効果だけでなく、美容処理用チップ10の振動
に基づくマッサージ効果や皮膚の再生促進効果などを得
ることもできる。すなわち、各種の美容処理剤を含ませ
た美容処理用チップ10を振動させつつ皮膚に押し当て
ることで、美容処理剤の浸透処理(パッティング処理)
と同時に、老化した角質や皮膚表面に付着した汚れなど
の除去処理(ピーリング処理)を実施することができ
る。
理用チップ10を振動させつつ皮膚に押し当て、さらに
皮膚表面に沿って美容処理用チップ10を移動させるこ
とによって、美容処理用チップ10の移動経路に沿って
美容処理剤を浸透させつつ、老化した角質や皮膚表面に
付着した汚れなどを除去することができる。このよう
に、本発明の美容処理装置によれば、パッティング処理
とピーリング処理を同時に実施することが可能となる。
さらに、美容処理チップ20の微振動により毛細血管が
拡張されることから、血流の促進(栄養補給)やリンパ
流の促進(老廃物の排出)などを図ることができる。
オーバー機能)を活性化することができる。すなわち、
皮膚の再生サイクルを促進して、例えば古い角質の滞留
が原因となる肌のシミやくすみを取り除くことができ
る。さらに、しわやストレッチマークの部分の表皮には
古い角質が詰まっているため、古い角質を取り除いて周
囲の細胞を刺激することによって、しわやストレッチマ
ークを緩和することができる。このような処理を繰り返
すことで、滑らかな肌を再生することが可能となる。ま
た、皮膚の再生機能を高めることによって、皮膚の老化
を防止ないしは予防することができる。このように、本
発明の美容処理装置は美肌処理などの美容処理に対して
も多大な効果をもたらすものである。
た汚れなどの除去処理(ピーリング処理)は、処理条件
によっては皮膚にダメージを与えるおそれがあるが、本
発明では美容処理用チップ10自体の肌への攻撃性を低
下させていることに加えて、美容処理用チップ10に含
浸させた美容処理剤、例えば炎症抑制剤のような皮膚保
護成分によって、皮膚のダメージをより効果的に防止も
しくは軽減することができる。このように、美容処理を
施す身体に美容処理剤を浸透させつつ、老化した角質や
汚れを除去することによって、美容処理の処理効率の向
上や処理時間の短縮化などを図ることができるだけでな
く、皮膚の再生促進処理などを実施する際の皮膚へのダ
メージを大幅に軽減することが可能となる。
リング処理を同時に実施する際に、美容処理用チップ1
0が例えば図1に示したような角部を有する形状(例え
ば直方体形状)であると、美容処理用チップ10を皮膚
に押し当てる圧力や肌質などによっては皮膚への刺激が
強くなりすぎるおそれがある。このような場合には、例
えば図5や図6に示すように、曲面状の皮膚当接面を有
する美容処理用チップ20を用いることが好ましい。さ
らに、曲面状の皮膚当接面を有する美容処理用チップ2
0は、パッティング処理の処理効率の向上、すなわち美
容処理剤の浸透効率や浸透量の向上に対しても効果を発
揮する。
柱状の処理部21と、この円柱状処理部21の上方に突
設された取付け部22とを有しており、円柱状処理部2
1の表面が曲面状皮膚当接面23を構成している。ま
た、図6に示す美容処理用チップ20は、略球状の処理
部24と、この球状処理部24の上方に突設された取付
け部22とを有しており、球状処理部24の表面が曲面
状皮膚当接面23を構成している。なお、図5および図
6において、(a)は美容処理用チップ20の正面図、
(b)は側面図である。
面23を有する美容処理用チップ20を用いることによ
って、老化した角質や皮膚表面に付着した汚れなどを除
去する際に、老化した角質の部分的な削りすぎや不均一
化などをより有効に抑制することができ、均一にかつ適
度に老化した角質などを除去することが可能となる。こ
のような効果を得る上で、曲面状皮膚当接面23の曲率
半径Rは例えば1〜30mm程度であることが好ましい。曲
率半径Rがあまり小さすぎると皮膚当接面を曲面とした
効果が得られず、逆に曲率半径Rがあまり大きすぎると
皮膚当接面の大面積化や装置の大型化などを招くためで
ある。
処理用チップ20の形状は、図5に示した円柱状や図6
に示した球状に限られるものではなく、例えば図7に示
すような半球状処理部25を有する美容処理用チップ2
0や、半円柱状処理部を有する美容処理用チップなど、
円弧状の皮膚当接面を有するチップであれば種々の形状
を有する美容処理用チップを適用することができる。さ
らに、美容処理用チップの曲面状皮膚当接面23の形状
は円弧状に限られるものではなく、例えば図8に示すよ
うに直方体状チップ26の角部のみを曲面状(曲面状皮
膚当接面23)としたものなど、種々の曲面状皮膚当接
面を利用することができる。このように、曲面状皮膚当
接面を有する美容処理用チップには、種々の形状並びに
種々の曲面を適用することが可能である。
用チップおよび美容処理装置によれば、安価で利用者の
利便性を高めた装置で、各種の美容処理剤の皮膚への浸
透効率や浸透量の制御性などを向上させることができ
る。また、美容処理剤の皮膚への浸透処理と同時に、老
化した角質や皮膚表面に付着した汚れなどの除去処理を
実施することもできる。従って、このような美容処理装
置を用いることによって、各種の美容処理をより効果的
および効率的に実施することが可能となる。
装置の一実施形態の外観を示す正面図である。
である。
図である。
プの構成を示す図であって、(a)は正面図、(b)は
側面図である。
用チップの構成を示す図であって、(a)は正面図、
(b)は側面図である。
用チップの変形例を示す正面図である。
用チップの他の変形例を示す図であって、(a)は正面
図、(b)は側面図である。
……電源部,7……スイッチ部,9……チップ固定機
構,10……美容処理用チップ,20……曲面状皮膚当
接面を有する美容処理用チップ,21……円柱状処理
部,23……曲面状皮膚当接面,24……球状処理部
Claims (13)
- 【請求項1】 身体に美容処理剤を浸透させるように、
前記身体の皮膚表面に当接される美容処理用チップであ
って、 多孔質基材と、前記多孔質基材内に含浸された前記美容
処理剤とを具備することを特徴とする美容処理用チッ
プ。 - 【請求項2】 請求項1記載の美容処理用チップにおい
て、 前記美容処理剤は、美容成分、化粧成分および皮膚保護
成分から選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とす
る美容処理用チップ。 - 【請求項3】 請求項2記載の美容処理用チップにおい
て、 前記美容処理剤は、さらに香料および顔料から選ばれる
少なくとも1種を含むことを特徴とする美容処理用チッ
プ。 - 【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれか1項
記載の美容処理用チップにおいて、 前記多孔質基材は、多孔質セラミックス、多孔質樹脂、
または多孔質ゴムからなることを特徴とする美容処理用
チップ。 - 【請求項5】 請求項4記載の美容処理用チップにおい
て、 前記多孔質基材は、セラミックス材料の多孔質結合体ま
たは多孔質焼結体からなることを特徴とする美容処理用
チップ。 - 【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれか1項
記載の美容処理用チップにおいて、 平面状の皮膚当接面を有することを特徴とする美容処理
用チップ。 - 【請求項7】 請求項1ないし請求項5のいずれか1項
記載の美容処理用チップにおいて、 曲面状の皮膚当接面を有することを特徴とする美容処理
用チップ。 - 【請求項8】 請求項7記載の美容処理用チップにおい
て、 球状または円柱状の処理部を有することを特徴とする美
容処理用チップ。 - 【請求項9】 装置本体と、 前記装置本体に内蔵された振動発生手段と、 多孔質基材と、前記多孔質基材内に含浸された美容処理
剤とを有し、かつ前記振動発生手段から振動が伝達され
ると共に、美容処理を施す身体の皮膚表面に前記振動を
印加するように当接される美容処理用チップとを具備す
ることを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項10】 請求項9記載の美容処理装置におい
て、 前記振動発生手段は前記美容処理用チップに主として往
復振動を印加することを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項11】 請求項9または請求項10記載の美容
処理装置において、 前記美容処理用チップは、前記美容処理を施す身体に前
記美容処理剤を浸透させるように、前記皮膚表面に当接
されることを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項12】 請求項9または請求項10記載の美容
処理装置において、 前記美容処理用チップは、前記美容処理を施す身体に前
記美容処理剤を浸透させつつ、前記身体の皮膚表面に付
着した汚れおよび/または老化した角質を除去するよう
に、前記皮膚表面に当接されることを特徴とする美容処
理装置。 - 【請求項13】 請求項9または請求項10記載の美容
処理装置において、 前記美容処理用チップは、平面状または曲面状の皮膚当
接面を有することを特徴とする美容処理装置。
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- 2002-11-08 JP JP2002324849A patent/JP4145628B2/ja not_active Expired - Fee Related
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