JP2003204671A - 負電圧生成回路及びこれを備えた強誘電体メモリ回路並びに集積回路装置 - Google Patents
負電圧生成回路及びこれを備えた強誘電体メモリ回路並びに集積回路装置Info
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Abstract
O及びPMOSトランジスタスイッチSW1を介してグ
ランド電位に接続され、キャパシタC1の第2電極がノ
ードN1を介し、一方では切換回路11の出力端に接続
され、他方ではキャパシタC2及びノードN2を介し切
換回路12の出力端に接続されている。制御回路13
は、第1段階において、スイッチSW1をオンにして出
力ノードNOをグランド電位にし切換回路11及び12
の出力端をそれぞれ電源電位VDD及びグランド電位に
し、第2段階において切換回路11の出力端をハイイン
ピーダンス状態にした状態で切換回路12の出力端を電
源電位VDDし、第3段階において、スイッチSW1を
オフにし切換回路12の出力端をハイインピーダンス状
態にした状態で切換回路11の出力端をグランド電位に
する。
Description
係り、特に強誘電体メモリ回路に適用して好適な、電源
電圧VDDに対し−VDDより深い負電圧を生成する回
路に関する。
(文献1:TECHNICAL REPORT OF IECE, ICD2001-68(200
1-08); 文献2:2001 Symposium on VLSI circuit, C12
-3)。図8は、図7の回路の動作を示す電圧波形図であ
る。
S1及びS2を生成して、出力ノードNOを負電位にす
る。以下、この動作を詳説する。
0V、制御信号S2が電源電位VDDで、PMOSトラ
ンジスタスイッチSW1及びSW3がオフ、NMOSト
ランジスタスイッチSW2がオンになっている。
NMOSトランジスタスイッチSW2がオフ、PMOS
トランジスタスイッチSW3がオンになり、ノードN1
が電源電位VDDまで上昇する。
PMOSトランジスタスイッチSW1がオンになる。
MOSトランジスタスイッチSW1がオフになり、出力
ノードNOがフローティング状態になる。
遷移してPMOSトランジスタスイッチSW3がオフ、
NMOSトランジスタスイッチSW2がオンになり、ノ
ードN1が0Vまで低下する。理想的な場合、この低下
に追従して出力ノードNOが−VDDまで低下する。実
際には主に出力ノードNOの配線容量により、−(VD
D−α)となり、ここにα>0である。
ポンプを用いたものでは、繰り返し動作を行って出力を
規定の負電圧に到達させるので、その時間が長いと共
に、消費電力が大きい。さらに他の負電圧生成回路とし
てスイッチトキャパシタを用いたものでは、切換スイッ
チングトランジスタをツインウエルで構成しても、オフ
状態でPN接合に順方向電流が流れるので実現困難であ
り、この問題を解決するためには回路が複雑となる。
ような問題点に鑑み、簡単な構成でより深い負電圧を発
生させることが可能な負電圧生成回路及びこれを備えた
強誘電体メモリ回路並びに集積回路装置を提供すること
にある。
による負電圧生成回路の一態様では、対向する第1及び
第2電極を有し該第1電極が出力ノードに接続された第
1キャパシタと、該出力ノードと第1電源電位との間に
接続された第1スイッチ素子と、出力端が第1ノードを
介し該第2電極に接続され、該出力端を選択的に該第1
電源電位、該第1電源電位より高い第2電源電位又はハ
イインピーダンス状態にする第1切換回路と、対向する
第1及び第2電極を有しこの第1電極が該第1ノードに
接続された第2キャパシタと、出力端が第2ノードを介
し該第2キャパシタの第2電極に接続され、この出力端
を選択的に該第1電源電位、該第1電源電位より高い第
3電源電位又はハイインピーダンス状態にする第2切換
回路とを有する。
1段階において、該第1スイッチ素子をオンにし該第1
及び第2切換回路の出力端をそれぞれ該第2電源電位及
び該第1電源電位にし、第2段階において、該第1切換
回路の出力端をハイインピーダンス状態にした状態で該
第2切換回路の出力端を該第3電源電位にし、第3段階
において、該第1スイッチ素子をオフにし該第2切換回
路の出力端をハイインピーダンス状態にした状態で該第
1切換回路の出力端を該第1電源電位にする。
タは第1〜3段階の動作によりそれぞれ例えば図3
(A)〜(C)に示す状態になり、電源電位VDDに対
し−VDDより深い負電圧を簡単な構成で発生させるこ
とが可能となる。
説明から明らかになる。
実施形態を説明する。
回路10を示す回路図である。
れぞれ出力ノードNO及びノードN1に接続されてい
る。出力ノードNOは、PMOSトランジスタスイッチ
SW1を介してグランド電位に接続されている。ノード
N1は、キャパシタC2の一方の電極及び切換回路11
の出力端に接続されている。
V、電源電位VDD又はハイインピーダンス状態にする
ためのものである。切換回路11は、ノードN1とグラ
ンド電位との間に接続されたNMOSトランジスタスイ
ッチSW2と、ソースがノードN1に接続されたNMO
SトランジスタスイッチSW3Aと、SW3Aのドレイ
ンを選択的に電源電位VDD又はグランド電位にする切
換スイッチSW4、例えばCMOSインバータと、一端
がノードN3を介してNMOSトランジスタスイッチS
W3Aのゲートに接続されたNMOSトランジスタスイ
ッチSW5と、SW5の他端を選択的に電源電位VDD
又はグランド電位にする切換スイッチSW6、例えばC
MOSインバータとを備えている。
2を介して切換回路12の出力端に接続されている。切
換回路12は、ノードN2を選択的に0V、電源電位V
DD又はハイインピーダンス状態にするためのものであ
り、ノードN2とグランド電位との間に接続されたNM
OSトランジスタスイッチSW7と、ノードN2と電源
電位VDDとの間に接続されたPMOSトランジスタス
イッチSW8とを備えている。
1、NMOSトランジスタスイッチSW2、SW7及び
PMOSトランジスタスイッチSW8はそれぞれ、制御
回路13からの制御信号S1、S2、S7及びS8によ
りオン/オフ制御される。切換スイッチSW4及びSW
6はそれぞれ、制御回路13からの制御信号S4及びS
6により切換制御される。
及びスイッチの状態を示す。図2では、電源電位VDD
が1.5Vである場合を示している。図2で時刻tiの
iの値が間欠的であるのは、後述の図5と対応させるた
めである。図1の回路の動作は段階A〜Cに分けられ、
それぞれ図3(A)〜(C)に対応している。
S2及びS7が0V、制御信号S8が電源電位VDD、
切換スイッチSW4及びSW6が0V側であるとする。
このとき、PMOSトランジスタスイッチSW1及びS
W8並びにNMOSトランジスタスイッチSW2、SW
3A、SW5及びSW7がオフである。
源電位VDDに遷移してPMOSトランジスタスイッチ
SW1及びNMOSトランジスタスイッチSW7がオン
になる。また、切換スイッチSW6が電源電位VDD側
に切り換えられて、NMOSトランジスタスイッチSW
5がオンになり、NMOSトランジスタスイッチSW5
のゲートとノードN3との電位差がNMOSトランジス
タスイッチSW5の閾値電圧Vthnに等しくなるまで
ノードN3の電位が上昇する。Vthn=0.5Vであ
るとする。この場合、ノードN3は1.0Vまで上昇
し、NMOSトランジスタスイッチSW5がオフになっ
てノードN3がフローティング状態になる。
DD側に切り換えられる。NMOSトランジスタスイッ
チSW3Aのドレイン・ゲート間の寄生容量により、フ
ローティング状態のノードN3の電位がNMOSトラン
ジスタスイッチSW3Aのドレイン電位上昇に追従して
約2Vまで上昇する。これによりNMOSトランジスタ
スイッチSW3Aがオンになり、ノードN1が電源電位
VDDまで上昇する。この際、NMOSトランジスタス
イッチSW5はオフである。
びC2は図3(A)に示す状態になる。
て、NMOSトランジスタスイッチSW5がオンにな
り、ノードN3が0Vに遷移する。これにより、NMO
SトランジスタSW3AがオフになってノードN1がフ
ローティング状態になる。また、制御信号S7が0Vに
遷移してNMOSトランジスタスイッチSW7がオフに
なり、ノードN2がフローティング状態になる。
PMOSトランジスタスイッチSW8がオンになり、ノ
ードN2が電源電位VDDまで上昇する。これによりノ
ードN1の電位が、キャパシタC1とC2の容量比によ
り定まる電位、例えば2.0Vまで上昇する。
びC2は図3(B)に示す状態になる。
DD及び0Vに遷移してPMOSトランジスタスイッチ
SW8及びSW1が共にオフになり、ノードN2及びN
Oがフローティング状態になる。
に遷移してNMOSトランジスタスイッチSW2がオン
になり、ノードN1が0Vまで低下する。フローティン
グ状態のノードN2及びNOはこの低下に追従してそれ
ぞれ−0.5V(ノードN2の寄生容量は無視できると
する。)及び−(2−α)Vとなる。ここにαは、図8
で説明したものと同じであり、C1の容量と、出力ノー
ドNOとグランド線との間及びPMOSトランジスタス
イッチSW1の電極間の寄生容量とに依存し、該寄生容
量が無視できる場合には0Vである。αは例えば、0.
1Vである。また、制御信号S1が0Vであるので、出
力ノードNOが−(2−α)Vまで低下してもPMOS
トランジスタスイッチSW1はオフを維持する。
びC2は図3(C)に示す状態になる。
な構成で−VDDよりも低い負電圧を生成することがで
きる。
メモリ回路を示す。このメモリ回路は、集積回路装置の
半導体チップに形成されている。図5は、図4の回路の
動作を示すタイムチャートである。負電圧生成回路10
に関する図5中の信号のタイミングは図2のそれに類似
しており、例えば図2中の時点t2は図5中の時点t2
に対応している。図6は、図5の動作における図4中の
ノードNO、NG及びビット線BLの電圧波形を示す。
それぞれ、NMOSトランジスタスイッチSWA及びS
WBを介してビット線BL及び/BLに接続されてお
り、メモリセルからの読出電位差を大きくするために、
相補的な強誘電体キャパシタCA及びCBにはそれぞ
れ、例えば図示矢印のように、残留分極が互いに逆方向
になるように書き込まれる。NMOSトランジスタスイ
ッチSWA及びSWBのゲートは共に、ワード線WLに
接続されている。
ージされた状態でワード線WLを高レベルにしてNMO
SトランジスタスイッチSWA及びSWBをオンにし
(t1)、プレート線PLを0Vから電源電位VDDに
立ち上げると(t18)、強誘電体キャパシタCA及び
CBの電荷がそれぞれビット線BL及び/BLへ移動す
る。移動電荷量は、強誘電体キャパシタCAの残留分極
の方向により異なる。図4の場合、プレート線PLの立
ち上げにより強誘電体キャパシタCAの分極は反転する
が、強誘電体キャパシタCBのそれは反転しない。この
ため、ビット線BLへの電荷移動量はビット線/BLの
それよりも大きい。
送回路21で増幅して記憶内容を判定することは可能で
ある。しかしながら、ビット線BL及び/BLへの電荷
移動によりこれらの電位が上昇して強誘電体キャパシタ
CA及びCBの電極間電圧が低下するので、消費電力低
減のために電源電位VDDが例えば1.5Vと低くなる
と、この電極間電圧低下の影響が大きくなり、ビット線
BL及び/BLへの電荷移動量が少なくなってビット線
BLと/BLとの間の電位差が減少する。この減少に、
インプリント効果による電荷移動量減少が加わって、誤
読出しが生ずる可能性が増加する。
介して読出値判定回路30に接続されている。読出回路
20Aは、ノードNOを負電位にして(図6のt15〜
t18)ビット線BL上の電荷をノードNOへ移動させ
ると共に、ビット線BLの電位を0Vに維持することに
より、ノードNOの電位を、電荷移動量に比例した値Δ
Vだけ上昇させる。
と同一構成の読出回路20Bを介して読出値判定回路3
0に接続されている。読出値判定回路30は、読出回路
20Aと20Bの出力の電位差をセンスアンプで増幅し
て‘0’又は‘1’と判定する。
る。
択的にオンにされるコラムスイッチSW10の一端に接
続されている。コラムスイッチSW10は、NMOSト
ランジスタとPMOSトランジスタとが並列接続された
構成であり、これらNMOSトランジスタ及びPMOS
トランジスタのゲートにそれぞれ制御信号S10及びこ
れをインバータで反転した信号が供給され、制御信号S
10が電源電位VDDのときオン、0Vのときオフにな
る。コラムスイッチSW10の他端は、一方では、NM
OSトランジスタスイッチSW11を介してグランド電
位に接続され、他方ではバス接続用NMOSトランジス
タスイッチSW12及び電荷転送回路21を介してノー
ド(バス)NOに接続されている。NMOSトランジス
タスイッチSW11は、NMOSトランジスタスイッチ
SW12がオンの間トランジスタS12のトランジスタ
22側のノードを0Vにプリチャージするとともに、コ
ラムスイッチSW10がオンになってからプレート線P
Lが立ち上げられる前まで(t2〜t16)ビット線B
Lを0Vにプリチャージするためのものである。
の出力端に接続されており、ビット線BLからの電荷は
ノードNOを介しキャパシタC1へ移動する。キャパシ
タC1の容量値が小さいほど、移動電荷量に対するノー
ドNOの電位上昇が大きいので、読出回路20Aと20
Bの出力電位差が大きくなって誤読出しが生ずる可能性
をより低減することが可能となる。低消費電力化のため
に電源電位VDDが低くなると、ノードNOの電位上昇
を大きくすると共にノードNOを負電位に保つために
は、負電圧生成回路10により生成される負電圧をより
深くする必要がある。上述のような図1の負電圧生成回
路10は、この要求を満たす。
タスイッチSW12とノードNOとの間に接続された電
荷転送用PMOSトランジスタ22と、トランジスタ2
2のソース・ゲート間に直列接続されたキャパシタC
3、インバータアンプ23及びキャパシタC4と、イン
バータアンプ23に並列接続されたリセットスイッチS
W13とを備えている。キャパシタC3及びC4は直流
成分カット用である。リセットスイッチSW13は、ビ
ット線BLからノードNOへの電荷転送前に制御信号S
13を電源電位VDDにしてこれをオンにし次いでプレ
ート線PLの立ち上げ(t18)前にオフにすることに
より(t3〜t13)、インバータアンプ23の入出力
の動作点を同電位VDD/2にして、アンプ感度を最大
にすると共に、アンプの入出力特性を線形にするための
ものである。
により強誘電体キャパシタCA上の電荷がビット線BL
へ移動してその電位が0Vから上昇しようとすると、イ
ンバータアンプ23によりPMOSトランジスタ22の
ゲート電位が低下してビット線BLからノードNOへの
移動電荷量が増加する。逆にビット線BLの電位が0V
より低下しようとすると、インバータアンプ23により
PMOSトランジスタ22のゲート電位が上昇してビッ
ト線BLからノードNOへの電界移動量が減少又は停止
して、ビット線BLの電位が上昇しようとする。これに
より、ビット線BLの電位が0Vに維持されると共に、
ビット線BLからノードNOへの電荷移動により、ノー
ドNOの電位がΔVだけ上昇する。
ードNGを介し、第1及び第2のバイアス電位を順に生
成するゲートバイアス生成回路24の出力端に接続され
ている。第1のバイアス電圧は、スイッチSW10〜S
W12が共にオンでノードNOがリセット前の負電位、
例えば−1.0Vである時にPMOSトランジスタ22
をオンにさせて(t6〜t13)ノードNOを0Vにリ
セットするためのものである。第2のバイアス電圧は、
ビット線BL上の電荷をノードNOへ転送する時(t1
8〜t19)にPMOSトランジスタ22のゲート・ソ
ース間に閾値電圧Vthp=−0.5Vを印加するため
のものである。
NGが、ダイオードD1及びPMOSトランジスタスイ
ッチSW14を介してグランド電位に接続されている。
図4のダイオードD1は、ダイオード接続されたPMO
Sトランジスタで構成されている。PMOSトランジス
タスイッチSW14がオンのとき、ノードNGの電位は
グランド電位よりダイオードD1の順方向電圧(=−V
thp)0.5Vだけ低い−0.5Vになる。上記第1
バイアス電圧−1.0Vを生成するために、ノードNG
がキャパシタC5の一方の電極に接続され、キャパシタ
C5の他方の電極が、一方ではNMOSトランジスタス
イッチSW15を介してグランド電位に接続され、他方
ではPMOSトランジスタスイッチSW16を介して電
源電位VDDに接続されている。トランジスタスイッチ
SW15及びSW16のゲートにはそれぞれ制御信号S
15及びS16が供給される。
オン状態(〜t5)でPMOSトランジスタスイッチS
W14がオン(t2〜t4)にされてノードNGが−V
thp=0.5Vになり、次にPMOSトランジスタス
イッチSW14がオフ(t4〜t13)にされてノード
NGがフローティング状態となる。この状態でPMOS
トランジスタスイッチSW16をオフ(t5〜t20)
にし、NMOSトランジスタスイッチSW15をオン
(t6〜t13)にすることにより、ノードNGが0.
5Vから−1.0Vに変化する。
PMOSトランジスタスイッチSW14のゲートが、一
方ではダイオードD2を介してクランド電位に接続さ
れ、他方ではキャパシタC6を介してインバータ25の
出力端に接続され、インバータ25の入力端に制御信号
S14が供給される。制御信号S14が0Vの時(t4
〜t13)、キャパシタC6が充電される。この時、P
MOSトランジスタスイッチSW14のゲート電位は、
ダイオードD2の順方向電圧0.5Vに等しくなる。こ
の状態から制御信号S14が電源電位VDDに遷移する
と(t13)、PMOSトランジスタスイッチSW14
のゲートが、−1Vまで低下しフローティング状態にな
り、PMOSトランジスタスイッチSW14がオンにな
り、ノードNGの電位が−1Vから上昇する。ノードN
Gの電位が0.5Vだけ上昇して第2バイアス電位−
0.5Vになると、PMOSトランジスタD1がオフに
なるので、ノードNGの電位は−0.5Vより高くなら
ない。
は、上記文献1及び2に開示された回路より構成が簡単
であり、また、キャパシタの数も少ないので、消費電力
を低減することができる。
まれる。
1〜C6として強誘電体キャパシタを用いることによ
り、チップ上専有面積を低減させてもよい。
これに接続されたメモリセルを備える替わりに、参照電
位を判定回路30に供給する構成であってもよい。
である。
の状態を示す図である。
C1及びC2に関する3状態説明図である。
示す図である。
る。
及びビット線BLの電圧波形図である。
Sトランジスタスイッチ SW2、SW3A、SW5、SW7、SW11、SW1
2、SW15、SWA、SWB NMOSトランジスタ
スイッチ SW4、SW6 切換スイッチ SW10 コラムスイッチ SW13 リセットスイッチ D1、D2 ダイオード S1〜S16 制御信号 NO 出力ノード
Claims (10)
- 【請求項1】 対向する第1及び第2電極を有し該第1
電極が出力ノードに接続された第1キャパシタと、 該出力ノードと第1電源電位との間に接続された第1ス
イッチ素子と、 出力端が第1ノードを介し該第2電極に接続され、該出
力端を選択的に該第1電源電位、該第1電源電位より高
い第2電源電位又はハイインピーダンス状態にする第1
切換回路と、 対向する第1及び第2電極を有しこの第1電極が該第1
ノードに接続された第2キャパシタと、 出力端が第2ノードを介し該第2キャパシタの第2電極
に接続され、この出力端を選択的に該第1電源電位、該
第1電源電位より高い第3電源電位又はハイインピーダ
ンス状態にする第2切換回路と、 第1段階において、該第1スイッチ素子をオンにし該第
1及び第2切換回路の出力端をそれぞれ該第2電源電位
及び該第1電源電位にし、第2段階において、該第1切
換回路の出力端をハイインピーダンス状態にした状態で
該第2切換回路の出力端を該第3電源電位にし、第3段
階において、該第1スイッチ素子をオフにし該第2切換
回路の出力端をハイインピーダンス状態にした状態で該
第1切換回路の出力端を該第1電源電位にするように、
該第1スイッチ素子、該第1切換回路及び該第2切換回
路を制御する制御回路と、 を有することを特徴とする負電圧生成回路。 - 【請求項2】 上記第1切換回路は、 上記第1ノードと上記第1電源電位との間に接続された
第2スイッチ素子と、 電流路の第1端が該第1ノードに接続された第3スイッ
チ素子と、 該第3スイッチ素子の電流路の第2端を選択的に上記第
1又は第2電源電位に切り換える第4スイッチ素子と、 を有することを特徴とする請求項1記載の負電圧生成回
路。 - 【請求項3】 上記第1切換回路において、上記第2及
び第3スイッチ素子はいずれもNMOSトランジスタで
あり、該第1切換回路はさらに、 電流路の第1端が該第3スイッチ素子のゲートに接続さ
れゲートが上記第2電源電位に接続された第5スイッチ
素子としてのNMOSトランジスタと、 該第5スイッチ素子の電流路の第2端を選択的に上記第
1又は第2電源電位に切り換える第6スイッチ素子と、 を有することを特徴とする請求項2記載の負電圧生成回
路。 - 【請求項4】 上記第2切換回路は、 上記第2ノードと上記第1電源電位との間に接続された
第7スイッチ素子と、 該第2ノードと上記第2電源電位との間に接続された第
8スイッチ素子と、 を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1
つに記載の負電圧生成回路。 - 【請求項5】 上記第2切換回路において、上記第7及
び第8スイッチ素子はそれぞれNMOSトランジスタ及
びPMOSトランジスタであることを特徴とする請求項
1乃至4のいずれか1つに記載の負電圧生成回路。 - 【請求項6】 上記第1スイッチ素子はPMOSトラン
ジスタであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれ
か1つに記載の負電圧生成回路。 - 【請求項7】 上記第3電源電位は上記第2電源電位に
等しいことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1つ
に記載の負電圧生成回路。 - 【請求項8】 メモリセルを構成する強誘電体キャパシ
タの残留分極に応じた電荷量を、第1電源電位にリセッ
トされたビット線に転送してリードする負電圧生成回路
及びこれを備えた強誘電体メモリ回路並びに集積回路装
置において、 請求項1乃至7のいずれか1つに記載の負電圧生成回路
と、 該ビット線と該負電圧生成回路の出力ノードとの間に接
続され、該負電圧生成回路の制御回路が上記第3段階の
動作を行った後に、該ビット線が該第1電源電位を維持
するように該ビット線上の電荷を該出力ノードに転送す
る電荷転送回路と、 該出力ノードへの電荷転送後の該出力ノードの電位に基
づいて該メモリセルから読み出した値を判定する読出値
判定回路と、 を有することを特徴とする強誘電体メモリ回路。 - 【請求項9】 請求項1乃至7のいずれか1つに記載の
負電圧生成回路が形成された半導体チップを有すること
を特徴とする集積回路装置。 - 【請求項10】 請求項8の強誘電体メモリ回路が形成
された半導体チップを有することを特徴とする集積回路
装置。
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