JP2003197705A - Apparatus for attaching/detaching cassette cover - Google Patents

Apparatus for attaching/detaching cassette cover

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JP2003197705A
JP2003197705A JP2001392316A JP2001392316A JP2003197705A JP 2003197705 A JP2003197705 A JP 2003197705A JP 2001392316 A JP2001392316 A JP 2001392316A JP 2001392316 A JP2001392316 A JP 2001392316A JP 2003197705 A JP2003197705 A JP 2003197705A
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optical sensor
cassette
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opening
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田 哲 慶 豊
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent damage to a wafer when it is popped out from a cassette due to a positional shift by detecting it in an apparatus for attaching/detaching a cover of the cassette for accommodating the wafer. <P>SOLUTION: The apparatus for attaching/detaching the cassette cover comprises a shielding door 30, capable of opening/closing an opening 11 faced by the cover 3 of the cassette 1 for accommodating the wafer, and capable of holding the cover, and driving mechanisms 40, 80 for moving the shielding door 30, while it holds the cover 3, forward/backward and upward/downward to attach/detach the cover 3 and the shielding door 30. A reflection type optical sensor 90 for projecting light in the direction nearly orthogonal to the main surface of the wafer is provided in the region of the opening 11. Thus, even if the wafer is transparent, the positional shift thereof can surely be detected so that the damage, etc., thereto can be prevented. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体用のウェー
ハを密閉した状態で収納するカセットの蓋を着脱するカ
セット蓋着脱装置に関し、特に、収納されたウェーハの
状態を検出する機能を備えたカセット蓋着脱装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cassette lid attaching / detaching device for attaching / detaching a lid of a cassette for accommodating semiconductor wafers in a hermetically sealed state, and more particularly to a cassette having a function of detecting the state of the accommodated wafers. The present invention relates to a lid attaching / detaching device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体用の複数のウェーハを密閉した状
態で持ち運ぶためのカセットとして、FOUP(Front
Open Unified Pod)カセットが知られている。このカセ
ット1は、図7に示すように、ケース本体2と、前面の
開口2aを密閉し得る蓋3とにより形成されている。蓋
3には、ケース本体2を密閉した状態でロックするため
のロック機構3aが設けられ、又、その内側には、密閉
した状態でウェーハWを押圧して固定するための弾性変
形可能な付勢アーム4が設けられている。
2. Description of the Related Art As a cassette for carrying a plurality of semiconductor wafers in a sealed state, a FOUP (Front
Open Unified Pod) cassettes are known. As shown in FIG. 7, the cassette 1 is formed of a case body 2 and a lid 3 that can seal the opening 2a on the front surface. The lid 3 is provided with a lock mechanism 3a for locking the case body 2 in a sealed state, and an elastically deformable attachment inside the lid 3 for pressing and fixing the wafer W in the sealed state. A bias arm 4 is provided.

【0003】このようなカセット1を、半導体を製造す
る内部空間を画定する隔壁に隣接させて配置し、隔壁に
着脱自在に設けられた遮蔽ドアを開け、内部空間に向け
てウェーハWを取り出すための装置として、遮蔽ドアと
共に蓋3を着脱するカセット蓋着脱装置が知られてい
る。このタイプのカセット蓋着脱装置としては、例え
ば、特開平11−145244号公報、特開平11−2
14483号公報等に記載されたものが知られている。
これらの公報に開示の装置においては、収納されたウェ
ーハWの外周縁を検出し得る反射型の光センサが設けら
れている。この反射型光センサは、カセット1内に所定
枚数のウェーハWが収納されているか否か、すなわちウ
ェーハWの有無を検出するものである。
In order to take out the wafer W toward the internal space, such a cassette 1 is arranged adjacent to a partition for defining an internal space for manufacturing a semiconductor, a shield door detachably attached to the partition is opened. There is known a cassette lid attaching / detaching device for attaching / detaching the lid 3 together with the shielding door. Examples of this type of cassette lid attaching / detaching device include, for example, JP-A-11-145244 and JP-A-11-2.
Those described in Japanese Patent No. 14483 and the like are known.
In the devices disclosed in these publications, a reflection type optical sensor capable of detecting the outer peripheral edge of the housed wafer W is provided. The reflective optical sensor detects whether or not a predetermined number of wafers W are stored in the cassette 1, that is, the presence or absence of the wafers W.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記装置に
より蓋3を後退させて開ける際に、付勢アーム4に密着
した状態でウェーハWが引っ張り出される場合がある。
したがって、ウェーハWがカセット1から飛び出した状
態で、移送ロボットの移送動作あるいは遮蔽ドアの昇降
動作等が行なわれると、ウェーハWを破損させる虞があ
る。
By the way, when the lid 3 is retracted and opened by the above apparatus, the wafer W may be pulled out in a state of being in close contact with the biasing arm 4.
Therefore, if the transfer operation of the transfer robot or the raising / lowering operation of the shield door is performed while the wafer W is ejected from the cassette 1, the wafer W may be damaged.

【0005】また、ウェーハWとしては、一般には不透
明体のシリコンウェーハが用いられるため、光センサと
して透過型光センサを用いることができるものの、透明
体の石英ウェーハが用いられる場合は、殆んどの光が石
英ウェーハを透過するため、透過型光センサで石英ウェ
ーハを検出するのは困難である。
Further, since an opaque silicon wafer is generally used as the wafer W, a transmissive optical sensor can be used as the optical sensor, but in most cases when a transparent quartz wafer is used. Since light passes through the quartz wafer, it is difficult to detect the quartz wafer with a transmissive optical sensor.

【0006】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
成されたものであり、その目的とするところは、カセッ
ト内に収納されたウェーハの飛び出し等の位置ずれを、
簡単な構造にて、高精度に検出でき、ウェーハの破損等
を防止できるカセット蓋着脱装置を提供することにあ
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and its object is to prevent misalignment such as popping-out of wafers stored in a cassette.
It is an object of the present invention to provide a cassette lid attaching / detaching device that can detect wafers with high precision with a simple structure and prevent damage to the wafer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のカセット蓋着脱
装置は、ウェーハを収納するカセットの蓋を対面させる
開口部を開閉すると共に蓋を保持し得る遮蔽ドアと、蓋
を保持した状態で蓋及び遮蔽ドアの着脱を行なうべく遮
蔽ドアを進退させると共に昇降させる駆動機構とを備え
たカセット蓋着脱装置であって、上記開口部の領域に、
ウェーハの主面と略直交する方向に投光する反射型の光
センサを設けた、ことを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION A cassette lid attaching / detaching device according to the present invention includes a shield door capable of opening and closing an opening facing a lid of a cassette for storing wafers and holding the lid, and a lid with the lid held. And a cassette lid attaching / detaching device including a drive mechanism for moving the shielding door forward / backward and lifting the shielding door in order to attach / detach the shielding door, in the area of the opening.
It is characterized in that a reflection type optical sensor for projecting light in a direction substantially orthogonal to the main surface of the wafer is provided.

【0008】この構成によれば、駆動機構が蓋を保持し
た状態にある遮蔽ドアを後退させて、蓋及び遮蔽ドアを
離脱させる行程において、カセット内に収納されたウェ
ーハが、例えば蓋に密着して引っ張り出されると、反射
型の光センサが、所定の収納位置から飛び出したウェー
ハを検出する。特に、反射型の光センサで検出するた
め、ウェーハが不透明体又は透明体のいずれであって
も、ウェーハが光路上にあれば確実に検出される。ま
た、反射型の光センサによる投光は、ウェーハの外周縁
ではなく平坦な主面に対して行なわれるため、より高精
度な検出が行なえる。このように、ウェーハの位置ずれ
が検出されることで、移送ロボットその他の移動体等
が、飛び出したウェーハに衝突するのを未然に防止で
き、ウェーハの破損等を防止できる。
According to this structure, in the process of retracting the cover door in the state where the drive mechanism holds the cover and separating the cover and the cover door, the wafers housed in the cassette adhere to the cover, for example. When pulled out, the reflective optical sensor detects the wafer that has jumped out from the predetermined storage position. In particular, since it is detected by the reflection type optical sensor, whether the wafer is an opaque body or a transparent body can be surely detected if the wafer is on the optical path. Further, since light is projected by the reflection type optical sensor not on the outer peripheral edge of the wafer but on the flat main surface, more accurate detection can be performed. In this way, by detecting the displacement of the wafer, it is possible to prevent the transfer robot and other moving bodies from colliding with the jumped-out wafer, and prevent the wafer from being damaged.

【0009】上記構成において、反射型の光センサは、
開口部の上縁部側に配置された上側光センサと、開口部
の下縁部側に配置された下側光センサと、を含む構成を
採用できる。この構成によれば、上側光センサと下側光
センサとでそれぞれセンシングを行なうことで、より高
精度な検出が行なえる。特に、カセットに収納された複
数のウェーハのうち、主に上側半分のウェーハを上側光
センサに検出させ、主に下側半分のウェーハを下側光セ
ンサに検出させることができる。したがって、検出距離
も略半分の領域となり、より高精度で安定した検出が可
能となる。
In the above structure, the reflection type optical sensor is
A configuration including an upper side optical sensor arranged on the upper edge side of the opening and a lower side optical sensor arranged on the lower edge side of the opening can be adopted. According to this configuration, the upper light sensor and the lower light sensor respectively perform sensing, so that more accurate detection can be performed. In particular, among the plurality of wafers stored in the cassette, the upper half of the wafer can be detected mainly by the upper photosensor, and the lower half of the wafer can be mainly detected by the lower photosensor. Therefore, the detection distance is also approximately half the area, which enables more accurate and stable detection.

【0010】上記構成において、上側光センサ及び下側
光センサは、各々の光軸がウェーハの主面に沿う方向に
おいて離隔する位置に配置されている、構成を採用でき
る。この構成によれば、上側光センサの光軸と下側光セ
ンサの光軸とがお互いにずれた位置にあるため、相互の
干渉が防止され、高精度な検出が行なえる。特に、光セ
ンサとして相互干渉防止機能の無いものを用いる場合に
好適である。
In the above structure, it is possible to adopt a structure in which the upper optical sensor and the lower optical sensor are arranged at positions where their optical axes are separated from each other in the direction along the main surface of the wafer. According to this configuration, since the optical axis of the upper optical sensor and the optical axis of the lower optical sensor are displaced from each other, mutual interference is prevented and highly accurate detection can be performed. In particular, it is suitable when an optical sensor having no mutual interference preventing function is used.

【0011】上記構成において、反射型の光センサは、
光の透過を許容する導電性の樹脂カバーにより覆われて
いる、構成を採用できる。この構成によれば、装置の洗
浄を行なう際の洗浄剤あるいはごみ等が光センサに直接
付着するのを防止でき、安定した検出機能を確保でき
る。
In the above structure, the reflection type optical sensor is
It is possible to adopt a configuration in which it is covered with a conductive resin cover that allows transmission of light. With this configuration, it is possible to prevent the cleaning agent, dust, or the like from directly adhering to the optical sensor when the device is cleaned, and to secure a stable detection function.

【0012】上記構成において、反射型の光センサによ
る検出タイミングは、駆動機構により蓋及び遮蔽ドアが
昇降動作を行なう前に設定されている、構成を採用でき
る。この構成によれば、蓋及び遮蔽ドアが昇降動作を開
始する前に、検出動作が行なわれるため、光センサから
出射された光が蓋の外縁部等により反射されるのを防止
でき、これにより誤検出を防止できる。
In the above structure, the detection timing of the reflection type optical sensor can be set before the lid and the shield door are moved up and down by the drive mechanism. According to this configuration, since the detection operation is performed before the lid and the shield door start the ascending / descending operation, it is possible to prevent the light emitted from the optical sensor from being reflected by the outer edge portion of the lid and the like. False detection can be prevented.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付図面に基づき説明する。図1ないし図5は、本
発明に係るカセット蓋着脱装置の一実施形態を示すもの
であり、図1は斜視外観図、図2は縦断面図、図3は開
口部の近傍を示す縦断面図、図4は半導体の製造を行な
う内部空間側から見た背面図、図5は開口部の近傍を示
す横断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. 1 to 5 show an embodiment of a cassette lid attaching / detaching device according to the present invention. FIG. 1 is a perspective external view, FIG. 2 is a vertical sectional view, and FIG. 3 is a vertical sectional view showing the vicinity of an opening. 4 is a rear view seen from the internal space side for manufacturing a semiconductor, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing the vicinity of the opening.

【0014】この装置は、図1及び図2に示すように、
半導体の製造を行なう内部空間と外部空間とを仕切る隔
壁Sの一部をなす隔壁部10、隔壁部10に形成されウ
ェーハWの出し入れを行なう略矩形の開口部11、外部
空間に位置するテーブル20、テーブル20において往
復動自在に支持されカセット1を載置する載置プレート
21、載置プレート21を水平方向Hに往復動させる駆
動機構22、開口部11を開閉し得る遮蔽ドア30、遮
蔽ドア30を水平方向Hに進退させる進退駆動機構4
0、カセット1の開口2a近傍を上下方向Vに走査して
ウェーハWの有無を検出するマッピングセンサ50及び
その駆動機構60、進退駆動機構40及び駆動機構60
を保持する昇降部材70、昇降部材70を上下方向Vに
昇降させる昇降駆動機構80、開口部11の縁部に配置
された反射型光センサ90(91,92)等を備えてい
る。
This device, as shown in FIGS. 1 and 2,
A partition 10 that forms a part of a partition S that separates an internal space for manufacturing a semiconductor from an external space, a substantially rectangular opening 11 that is formed in the partition 10 for loading and unloading the wafer W, and a table 20 located in the external space. A mounting plate 21 on which the cassette 1 is mounted, which is reciprocally supported on the table 20, a drive mechanism 22 for reciprocating the mounting plate 21 in the horizontal direction H, a shielding door 30 capable of opening and closing the opening 11, a shielding door An advancing / retreating drive mechanism 4 for advancing / retreating 30 in the horizontal direction H
0, a mapping sensor 50 for scanning the vicinity of the opening 2a of the cassette 1 in the vertical direction V to detect the presence or absence of the wafer W and its driving mechanism 60, an advance / retreat driving mechanism 40, and a driving mechanism 60.
And an elevating and lowering member 70 for holding the elevating and lowering member 70, an elevating and lowering drive mechanism 80 for elevating and lowering the elevating and lowering member 70 in the vertical direction V, a reflection type optical sensor 90 (91, 92) arranged at the edge of the opening 11, and the like.

【0015】載置プレート21は、載置されたカセット
1を位置決めして水平方向Hに搬送し、蓋3が開口部1
1(遮蔽ドア30)に対面するように、隔壁部10の前
面にカセット1を密接させるものである。駆動機構22
は、図2に示すよに、サーボモータ22a、載置プレー
ト21の雌ネジ部21aに螺合するリードスクリュー2
2b、載置プレート21のガイド孔21bに挿入された
ガイドシャフト22c等により形成されている。
The loading plate 21 positions the loaded cassette 1 and conveys it in the horizontal direction H, and the lid 3 opens the opening 1.
The cassette 1 is brought into close contact with the front surface of the partition wall portion 10 so as to face 1 (shielding door 30). Drive mechanism 22
As shown in FIG. 2, the lead screw 2 that is screwed into the servomotor 22a and the female screw portion 21a of the mounting plate 21 is used.
2b, a guide shaft 22c inserted into the guide hole 21b of the mounting plate 21 and the like.

【0016】遮蔽ドア30は、開口部11を開閉するも
のであり、又、蓋3を保持する保持機構(不図示)が設
けられている。進退駆動機構40は、図2に示すよう
に、遮蔽ドア30を支持する支持部材41、サーボモー
タ42、支持部材41の雌ネジ部に螺合するリードスク
リュー43、支持部材41を水平方向Hに案内するガイ
ドレール44等により形成されている。
The shield door 30 is for opening and closing the opening 11, and is provided with a holding mechanism (not shown) for holding the lid 3. As shown in FIG. 2, the advancing / retreating drive mechanism 40 includes a support member 41 that supports the shield door 30, a servo motor 42, a lead screw 43 that is screwed into a female screw portion of the support member 41, and the support member 41 in the horizontal direction H. It is formed by a guide rail 44 for guiding.

【0017】マッピングセンサ50は、透過型の光セン
サであり、水平方向においてウェーハWを挟むように配
置された発光素子及び受光素子を有する。駆動機構60
は、図2に示すように、マッピングセンサ50を保持す
る保持アーム61、サーボモータ62、保持アーム61
の雌ネジ部に螺合するリードスクリュー63、保持アー
ム61を水平方向Hに案内するガイドレール64等によ
り形成されている。
The mapping sensor 50 is a transmissive optical sensor and has a light emitting element and a light receiving element which are arranged so as to sandwich the wafer W in the horizontal direction. Drive mechanism 60
2, the holding arm 61 that holds the mapping sensor 50, the servomotor 62, and the holding arm 61
It is formed by a lead screw 63 that is screwed into the female screw portion of No. 3, a guide rail 64 that guides the holding arm 61 in the horizontal direction H, and the like.

【0018】昇降部材70は、遮蔽ドア30、駆動機構
40、マッピングセンサ50、駆動機構60等を一体的
に保持し、上下方向Vに昇降させられる。昇降駆動機構
80は、図2に示すように、サーボモータ81、昇降部
材70の雌ネジ部に螺合するリードスクリュー82、昇
降部材70のガイド孔に挿入されるガイドシャフト83
等により形成されている。
The elevating member 70 integrally holds the shield door 30, the drive mechanism 40, the mapping sensor 50, the drive mechanism 60 and the like, and is moved up and down in the vertical direction V. As shown in FIG. 2, the elevating / lowering drive mechanism 80 includes a servo motor 81, a lead screw 82 screwed into a female screw portion of the elevating / lowering member 70, and a guide shaft 83 inserted into a guide hole of the elevating / lowering member 70.
And the like.

【0019】反射型光センサ90は、図1ないし図3に
示すように、開口部11の上縁部11a側に配置された
上側光センサ91と、開口部11の下縁部11b側に配
置された下側光センサ92と、により構成されている。
上側光センサ91及び下側光センサ92は、図3に示す
ように、検出光を発光する発光素子91a,92aと、
ウェーハWの主面WSにより反射された反射光を受光す
る受光素子91b,92bとが、それぞれユニットとし
て一体的に形成されたものであり、カセット1内におい
て上下方向に配列されたウェーハWの主面WSに対して
略直交する方向に検出光を投光する。このように、検出
光を投光する部分が、ウェーハWの外周縁ではなく平坦
な幅広い面積をもつ主面WSであるため、反射面が広く
確保される。したがって、誤検出等が防止され、安定し
た検出が行なえる。
As shown in FIGS. 1 to 3, the reflection type optical sensor 90 has an upper side optical sensor 91 arranged on the upper edge 11a side of the opening 11 and a lower side edge 11b side of the opening 11. And the lower side optical sensor 92.
As shown in FIG. 3, the upper optical sensor 91 and the lower optical sensor 92 include light emitting elements 91a and 92a that emit detection light,
The light receiving elements 91b and 92b for receiving the reflected light reflected by the main surface WS of the wafer W are integrally formed as a unit, respectively, and the main parts of the wafer W arranged vertically in the cassette 1 are arranged. The detection light is projected in a direction substantially orthogonal to the surface WS. As described above, since the portion for projecting the detection light is not the outer peripheral edge of the wafer W but the main surface WS having a flat and wide area, a wide reflecting surface is secured. Therefore, erroneous detection is prevented and stable detection can be performed.

【0020】上側光センサ91と下側光センサ92と
は、図4及び図5に示すように、ウェーハWの中心C
(開口部11の中心)を通る中央垂直面VSから水平方
向に等しい距離Dだけ離れた位置に配置されている。す
なわち、上側光センサ91と下側光センサ92とは、各
々の光軸が、ウェーハWの主面WSに沿う方向において
距離2Dだけ離隔する位置に配置されている。このよう
に離隔した位置に配置されることで、上側光センサ91
及び下側光センサ92の相互の干渉を防止でき、高精度
な検出が可能となる。
As shown in FIGS. 4 and 5, the upper photosensor 91 and the lower photosensor 92 are located at the center C of the wafer W.
It is arranged at a position separated from the central vertical plane VS passing through (the center of the opening 11) in the horizontal direction by an equal distance D. That is, the upper optical sensor 91 and the lower optical sensor 92 are arranged such that their optical axes are separated from each other by a distance 2D in the direction along the main surface WS of the wafer W. By arranging in such a separated position, the upper side optical sensor 91
Further, it is possible to prevent mutual interference between the lower optical sensor 92 and the lower optical sensor 92, which enables highly accurate detection.

【0021】また、図4に示すように、上側光センサ9
1には、主として中央水平面HSよりも上側領域Uにあ
るウェーハWを検出させ、下側光センサ92には、主と
して中央水平面HSよりも下側領域LにあるウェーハW
を検出させることができる。したがって、センシングも
略半分の領域を行なえばよいため、より高精度で安定し
た検出が可能となる。尚、上記の構造においては、セン
サの能力が許す限り、上側光センサ91が上側半分の領
域に限らず下側半分の領域までも検出することは可能で
あり、一方、下側光センサ92が下側半分の領域に限ら
ず上側半分の領域までも検出することは可能である。
Further, as shown in FIG. 4, the upper side optical sensor 9
1, the wafer W mainly in the upper region U above the central horizontal plane HS is detected, and the lower optical sensor 92 mainly detects the wafer W in the lower region L below the central horizontal plane HS.
Can be detected. Therefore, since it is sufficient to perform sensing in almost half the area, more accurate and stable detection can be performed. In the above structure, the upper photosensor 91 can detect not only the upper half region but also the lower half region as long as the capability of the sensor allows, while the lower photosensor 92 can detect it. It is possible to detect not only the lower half region but also the upper half region.

【0022】ここで、上側光センサ91と下側光センサ
92との間隔については、距離Dの値が小さくなるに連
れて、ウェーハWを検出できるポイントがウェーハWの
中央寄りで取り出し方向前方側になる、すなわち、ウェ
ーハWの飛び出し量が僅かでも位置ずれを検出できるよ
うになる。一方、ウェーハWの破損等を生じないような
僅かの位置ずれ(飛び出し)でも検出するようにする
と、その度に装置の動作を止めて確認作業が必要にな
り、スループットが低下する。したがって、距離Dの設
定に際しては、上側光センサ91と下側光センサ92と
の相互干渉が生じない範囲で、かつ、支障のない程度の
位置ずれ(飛び出し)は検出しないような値に設定する
のが好ましい。
Here, regarding the distance between the upper photosensor 91 and the lower photosensor 92, as the value of the distance D becomes smaller, the point at which the wafer W can be detected is closer to the center of the wafer W, and the front side in the take-out direction. That is, even if the protrusion amount of the wafer W is small, the positional deviation can be detected. On the other hand, if even a slight positional deviation (protrusion) that does not cause damage to the wafer W is detected, it is necessary to stop the operation of the apparatus each time and perform a confirmation work, which lowers the throughput. Therefore, when the distance D is set, a value is set within a range in which mutual interference between the upper optical sensor 91 and the lower optical sensor 92 does not occur, and a position deviation (protrusion) that does not hinder is detected. Is preferred.

【0023】テーブル20及び開口部11を含む隔壁部
10の上半分は、図1及び図3に示すように、樹脂材料
の型成形からなる樹脂カバー100により覆われてい
る。樹脂カバー100は、イソプロピルアルコール等の
洗浄剤による清掃(拭き取り)に対しても劣化すること
なく、半永久的に帯電防止性能が確保される導電性のポ
リマーアロイ(多成分系高分子)型の樹脂材料、例え
ば、リサイクル性、着色性、耐衝撃性に優れたABS樹
脂(アルキルベンゼンスルホン酸塩樹脂)等により形成
されている。ここで、帯電を防止するために、電気抵抗
値が1010Ω〜1013Ωの範囲、より好ましくは1
05Ω以下の抵抗値をもつ導電性材料が好ましい。尚、
火災防止の観点から、さらに好ましくは難燃性の樹脂材
料が用いられる。
As shown in FIGS. 1 and 3, the upper half of the partition 10 including the table 20 and the opening 11 is covered with a resin cover 100 formed by molding a resin material. The resin cover 100 is a conductive polymer alloy (multi-component polymer) type resin that does not deteriorate even when cleaned (wipe) with a cleaning agent such as isopropyl alcohol and semipermanently secures antistatic performance. It is formed of a material, for example, an ABS resin (alkylbenzene sulfonate resin) excellent in recyclability, colorability, and impact resistance. Here, in order to prevent charging, the electric resistance value is in the range of 1010Ω to 1013Ω, and more preferably 1
A conductive material having a resistance value of 05Ω or less is preferable. still,
From the viewpoint of fire prevention, a flame-retardant resin material is more preferably used.

【0024】樹脂カバー100は、図1に示すように、
載置プレート21を挟む両側が段差をなす窪み部110
をもつように形成されている。したがって、カセット1
を自動搬送して載置プレート21に載置するにあたり、
カセット1の下面を支持する搬送ロボットのハンドが、
窪み部110に入り込んでカセット1を載置プレート2
1に載置した後、若干下降して後退することにより、カ
セット1の載置動作を容易に行なうことができる。
The resin cover 100, as shown in FIG.
A dent portion 110 having a step on both sides sandwiching the mounting plate 21
It is formed to have. Therefore, cassette 1
When automatically transporting and placing on the mounting plate 21,
The hand of the transfer robot that supports the lower surface of the cassette 1
The cassette 1 is inserted into the recess 110 to mount the mounting plate 2
By placing the cassette 1 on the cassette 1 and then descending and retracting it a little, the cassette 1 can be easily mounted.

【0025】また、上記樹脂カバー100には、図1、
図3及び図4に示すように、反射型光センサ90(9
1,92)の領域を覆うと共に光の透過を許容する透明
窓101,102が一体的に成形されている。この透明
窓101,102は、導電性のアクリル樹脂等により形
成されている。したがって、洗浄剤あるいはごみ等が光
センサ90(91,92)に直接付着するのを防止で
き、安定した検出機能を確保することができる。
Further, the resin cover 100 has a structure shown in FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, the reflective optical sensor 90 (9
1, 92) are formed integrally with transparent windows 101 and 102 which allow the transmission of light while covering the area of 1, 92). The transparent windows 101 and 102 are made of a conductive acrylic resin or the like. Therefore, it is possible to prevent the cleaning agent, dust, or the like from directly adhering to the optical sensor 90 (91, 92), and to secure a stable detection function.

【0026】次に、上記装置の動作について説明する。
尚、上記装置は、種々の制御を司る制御部(マイクロコ
ンピュータ)、種々の動作の切り替えタイミングを検出
し、その検出情報を制御部に送るセンサ等を備え、種々
の動作は制御部から発せられる制御信号に基づいて行な
われる。先ず、複数のウェーハWを収納したカセット1
が、載置プレート21に載置され位置決めされると、駆
動機構22が作動して、カセット1を隔壁部10に近づ
けて密接させる。このとき、図2に示すように、蓋3は
遮蔽ドア30(開口部11)と対面した状態にある。
Next, the operation of the above device will be described.
The above-described device includes a control unit (microcomputer) that controls various controls, a sensor that detects switching timing of various operations, and sends the detection information to the control unit, and various operations are issued from the control unit. It is performed based on the control signal. First, a cassette 1 containing a plurality of wafers W
However, when mounted and positioned on the mounting plate 21, the drive mechanism 22 operates to bring the cassette 1 close to the partition wall portion 10 and bring them into close contact with each other. At this time, as shown in FIG. 2, the lid 3 is in a state of facing the shielding door 30 (opening 11).

【0027】続いて、遮蔽ドア30に内蔵された保持機
構が作動して、蓋3のロック機構3aを解除すると共に
保持する。その後、進退駆動機構40が作動して、蓋3
を保持した遮蔽ドア30を、図3に示すように後方Bへ
移動(後退)させる。この後退動作により、蓋3がカセ
ット本体2から離脱させられてカセット1が開放される
と共に、遮蔽ドア30が開口部11から離脱させられて
カセット1の内部と半導体を製造する内部空間とが連通
した状態となる。
Subsequently, the holding mechanism built in the shielding door 30 operates to release and hold the lock mechanism 3a of the lid 3. After that, the advancing / retreating drive mechanism 40 is activated, and the lid 3
The shield door 30 holding the is moved (retracted) to the rear B as shown in FIG. By this retreating operation, the lid 3 is detached from the cassette body 2 to open the cassette 1, and the shield door 30 is detached from the opening 11, so that the inside of the cassette 1 communicates with the internal space for manufacturing a semiconductor. It will be in the state of doing.

【0028】また、この後退動作の行程において、蓋3
の付勢アーム4に密着した状態で、図3に示すように、
ウェーハWが引っ張り出される場合がある。このよう
に、ウェーハWが所定の収納位置から飛び出して位置ず
れを生じると、上側光センサ91及び下側光センサ92
が飛び出したウェーハWを検出する。この検出信号に基
づいて、その後の動作が停止し、その事を作業者に知ら
せるための報知信号(報知ランプの点滅、報知ブザー
等)が発せられる。これにより、作業者は、位置ずれを
生じたウェーハWを所定の位置に戻す作業を行なうこと
ができる。この点検作業により、ウェーハWが飛び出し
た状態で動作が続行した場合に発生し得るウェーハWの
破損等を未然に防止できる。
In the process of this backward movement, the lid 3
As shown in FIG. 3, while being in close contact with the urging arm 4 of
The wafer W may be pulled out. In this way, when the wafer W jumps out of the predetermined storage position and is displaced, the upper side optical sensor 91 and the lower side optical sensor 92.
The wafer W that pops out is detected. Based on this detection signal, the subsequent operation is stopped, and a notification signal (blinking of a notification lamp, notification buzzer, etc.) for notifying the operator of this is issued. As a result, the operator can perform the work of returning the wafer W, which has been displaced, to a predetermined position. By this inspection work, it is possible to prevent damage or the like of the wafer W that may occur when the operation is continued with the wafer W popping out.

【0029】ここで、反射型光センサ90(91,9
2)による検出のタイミングは、図3に示すように、遮
蔽ドア30が後退動作を終了して昇降動作(ここでは下
降動作)を行なう前に設定されている。上記の検出タイ
ミングとすることで、誤検出を防止でき、高精度な検出
が可能となる。仮に、昇降駆動機構80が作動して、蓋
3及び遮蔽ドア30が下降動作を開始した後に検出を行
なうと、例えば、上側光センサ91から投光された検出
光の一部が蓋3の外縁部3b等により反射させられて、
その反射光を受光すると、ウェーハWの飛び出しが無い
にも拘わらず有るものとの誤った検出を行なう。この誤
検出の度に、処理動作が停止すると、スループット(生
産性)の低下を招くことになる。これに対処すべく、上
記の検出タイミングに設定することで、誤検出を防止で
き、スループットを向上させることができる。
Here, the reflection type optical sensor 90 (91, 9)
As shown in FIG. 3, the detection timing of 2) is set before the shield door 30 finishes the backward movement operation and performs the ascending / descending operation (here, the descending operation). With the above detection timing, erroneous detection can be prevented, and highly accurate detection can be performed. If detection is performed after the lifting drive mechanism 80 is activated and the lid 3 and the shielding door 30 start to descend, for example, a part of the detection light projected from the upper side optical sensor 91 will be an outer edge of the lid 3. Reflected by the part 3b,
When the reflected light is received, it is erroneously detected that the wafer W exists even though the wafer W does not jump out. If the processing operation is stopped at each false detection, the throughput (productivity) is lowered. To deal with this, by setting the above detection timing, it is possible to prevent erroneous detection and improve throughput.

【0030】反射型光センサ90(91,92)により
ウェーハWの飛び出しが検出されなかった場合、あるい
は、検出された後に手直し作業が行なわれた場合、駆動
機構60がマッピングセンサ50をウェーハWに近づ
け、センシングできる位置にセットする。
When the reflection type optical sensor 90 (91, 92) does not detect the protrusion of the wafer W, or when the rework is performed after the protrusion, the driving mechanism 60 causes the mapping sensor 50 to move to the wafer W. Bring it closer and set it to a position where it can be sensed.

【0031】続いて、駆動機構80が作動して昇降部材
70を下方に移動(下降)させることで、蓋3及び遮蔽
ドア30は開口部11から待避させられると共に、マッ
ピングセンサ50が下向きに走査してウェーハWの有無
を検出する。その後、半導体を製造する内部空間に設置
された移送ロボット(例えば、多関節ロボット)が開口
部11に近づき、ウェーハWを取り出し、種々の処理工
程に向けて移送する。一方、昇降駆動機構80、駆動機
構60、進退駆動機構40がそれぞれ逆向きに作動する
ことにより、遮蔽ドア30が開口部11に取り付けられ
て開口部11を閉塞し、蓋3がカセット本体2に取り付
けられて、カセット1を密閉する。
Subsequently, the drive mechanism 80 is operated to move (lower) the elevating member 70 downward, whereby the lid 3 and the shielding door 30 are retracted from the opening 11, and the mapping sensor 50 scans downward. Then, the presence or absence of the wafer W is detected. After that, a transfer robot (for example, an articulated robot) installed in the internal space for manufacturing a semiconductor approaches the opening 11, takes out the wafer W, and transfers it to various processing steps. On the other hand, the raising / lowering drive mechanism 80, the drive mechanism 60, and the advancing / retreating drive mechanism 40 respectively operate in the opposite directions, so that the shield door 30 is attached to the opening 11 to close the opening 11, and the lid 3 is attached to the cassette body 2. Attached to seal cassette 1.

【0032】上記のように、カセット1内に収納された
ウェーハWが所定の収納位置から飛び出しているか否か
等の位置ずれを検出するべく、反射型光センサ90を設
けたことにより、透明なウェーハであっても確実に検出
でき、高価なウェーハWの破損を防止でき、全体として
歩留まりが向上し、又、スループットが向上する。
As described above, the reflection type optical sensor 90 is provided to detect the positional deviation such as whether or not the wafer W accommodated in the cassette 1 is popped out from the predetermined accommodation position. Even a wafer can be reliably detected, damage to the expensive wafer W can be prevented, and the yield is improved as a whole, and the throughput is improved.

【0033】図6は、本発明に係る装置の他の実施形態
を示すものである。この実施形態においては、図6に示
すように、反射型の光センサ90が、中央垂直面VS上
に配置されている。ここで、反射型光センサ90として
は、開口部11の上縁部11a側に上側光センサ91を
配置し、下縁部11b側に下側光センサ92を配置して
もよい。この場合、両者の相互干渉を防止するべく、相
互干渉防止機能付の光センサを用いるのが好ましい。ま
た、反射型の光センサ90のセンシング能力が高ければ
(センシングできる範囲が広ければ)、上縁部11a側
あるいは下縁部11b側の一方に、反射型の光センサ9
0を一つ設けてもよい。
FIG. 6 shows another embodiment of the device according to the present invention. In this embodiment, as shown in FIG. 6, a reflection type optical sensor 90 is arranged on the central vertical surface VS. Here, as the reflective optical sensor 90, the upper optical sensor 91 may be arranged on the upper edge 11a side of the opening 11 and the lower optical sensor 92 may be arranged on the lower edge 11b side. In this case, in order to prevent mutual interference between the two, it is preferable to use an optical sensor with a mutual interference preventing function. If the reflective optical sensor 90 has a high sensing ability (a wide sensing range), the reflective optical sensor 9 is provided on one of the upper edge 11a side and the lower edge 11b side.
One 0 may be provided.

【0034】このように、中央垂直面VS上に反射型光
センサ90を配置することで、ウェーハWが僅かに飛び
出して位置ずれを生じた場合でも、検出が可能になる。
したがって、ウェーハWの飛び出し量が僅かであって
も、移送ロボットあるいはマッピングセンサ50の動作
に支障を来たすような場合に、好適である。
By arranging the reflection type optical sensor 90 on the central vertical surface VS as described above, even if the wafer W slightly jumps out and a positional deviation occurs, detection can be performed.
Therefore, it is suitable in the case where the operation of the transfer robot or the mapping sensor 50 is hindered even if the protruding amount of the wafer W is small.

【0035】上記実施形態においては、開口部11の上
縁部11a側及び下縁部11b側に、反射型光センサ9
0(91,92)をそれぞれ一つ設ける構成を示した
が、これに限定されるものではなく、上縁部11a側及
び下縁部11b側に、それぞれ複数個の反射型光センサ
90を配置してもよい。
In the above embodiment, the reflective optical sensor 9 is provided on the upper edge 11a side and the lower edge 11b side of the opening 11.
0 (91, 92) is provided for each one, but the present invention is not limited to this, and a plurality of reflective optical sensors 90 are arranged on the upper edge 11a side and the lower edge 11b side, respectively. You may.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上述べたように、本発明のカセット蓋
着脱装置によれば、ウェーハを収納するカセットの蓋を
対面させると共に遮蔽ドアにより閉塞される開口部の領
域に、ウェーハの主面と略直交する方向に投光する反射
型の光センサを設けたことにより、飛び出して位置ずれ
を生じたウェーハを検出することができる。これによ
り、移送ロボットその他の移動体等が、飛び出したウェ
ーハに衝突するのを未然に回避でき、ウェーハの破損等
を防止できる。特に、反射型の光センサで検出するた
め、ウェーハが不透明体又は透明体のいずれであって
も、確実に検出することができ、又、反射型の光センサ
による投光がウェーハの平坦な主面に対して行なわれる
ため、安定したより高精度な検出を行なうことができ
る。
As described above, according to the cassette lid attaching / detaching device of the present invention, the main surface of the wafer is provided in the area of the opening portion where the lid of the cassette for storing the wafer is faced and is closed by the shielding door. By providing the reflection-type optical sensor that projects light in a substantially orthogonal direction, it is possible to detect a wafer that has popped out and has been displaced. As a result, it is possible to prevent the transfer robot and other moving bodies from colliding with the popped-out wafer, and prevent damage to the wafer. In particular, since it is detected by a reflection type optical sensor, it can be surely detected whether the wafer is an opaque body or a transparent body, and the light projected by the reflection type optical sensor is flat on the wafer. Since it is performed on the surface, stable and highly accurate detection can be performed.

【0037】また、反射型の光センサを、開口部の上下
に配置することにより、上下両方からセンシングを行な
うことで、より高精度な検出が行なえる。特に、カセッ
トに収納された複数のウェーハのうち、主に上側半分の
ウェーハを上側光センサに検出させ、主に下側半分のウ
ェーハを下側光センサに検出させることで、検出距離も
略半分の領域となり、高精度で安定した検出を行なうこ
とができる。さらに、反射型の光センサを、光の透過を
許容する導電性の樹脂カバーにより覆うことで、洗浄剤
あるいはごみ等が光センサに直接付着するのを防止で
き、安定した検出機能を確保できる。
Further, by arranging the reflection type photosensors above and below the opening, sensing is performed from both above and below, so that more accurate detection can be performed. In particular, among the plurality of wafers stored in the cassette, the upper half of the wafer is mainly detected by the upper light sensor, and the lower half of the wafer is mainly detected by the lower light sensor. The area becomes, and highly accurate and stable detection can be performed. Further, by covering the reflective optical sensor with a conductive resin cover that allows light to pass therethrough, it is possible to prevent the cleaning agent, dust, or the like from directly adhering to the optical sensor, and to secure a stable detection function.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るカセット蓋着脱装置の一実施形態
を示す斜視外観図である。
FIG. 1 is a perspective external view showing an embodiment of a cassette lid attaching / detaching device according to the present invention.

【図2】カセット蓋着脱装置の縦断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view of a cassette lid attaching / detaching device.

【図3】カセット蓋着脱装置の一部をなす隔壁部に形成
された開口部の近傍を示す縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing the vicinity of an opening formed in a partition wall forming a part of the cassette lid attaching / detaching device.

【図4】半導体の製造を行なう内部空間側から見たカセ
ット蓋着脱装置の背面図である。
FIG. 4 is a rear view of the cassette lid attaching / detaching device viewed from the internal space side for manufacturing semiconductors.

【図5】カセット蓋着脱装置の一部をなす隔壁部に形成
された開口部の近傍を示す横断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the vicinity of an opening formed in a partition wall forming a part of the cassette lid attaching / detaching device.

【図6】反射型光センサの配置に係る他の実施形態を示
すものであり、隔壁部に形成された開口部の近傍を示す
横断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing another embodiment relating to the arrangement of the reflective photosensor and showing the vicinity of the opening formed in the partition wall.

【図7】ウェーハを収納する密閉タイプのカセットを示
すものであり、(a)は斜視外観図、(b)は蓋の内側
を示す斜視図である。
7A and 7B show a hermetically-sealed cassette that stores wafers, in which FIG. 7A is a perspective external view and FIG. 7B is a perspective view showing the inside of a lid.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

W ウェーハ S 隔壁 1 カセット 2 カセット本体 3 蓋 4 付勢アーム 10 隔壁部 11 開口部 11a 上縁部 11b 下縁部 20 テーブル 21 載置プレート 30 遮蔽ドア 40 進退駆動機構(駆動機構) 41 支持部材 42 サーボモータ 43 リードスクリュー 44 ガイドレール 50 マッピングセンサ 70 昇降部材 80 昇降駆動機構(駆動機構) 81 サーボモータ 82 リードスクリュー 83 ガイドシャフト 90 反射型の光センサ 91 上側光センサ 92 下側光センサ 100 樹脂カバー 101,102 透明窓 110 窪み部 W wafer S partition 1 cassette 2 cassette body 3 lid 4 biasing arm 10 partition 11 openings 11a upper edge 11b lower edge 20 tables 21 Placement plate 30 shield doors 40 Forward / backward drive mechanism (drive mechanism) 41 Support member 42 Servo motor 43 Lead screw 44 Guide rail 50 mapping sensor 70 Lifting member 80 Lifting drive mechanism (drive mechanism) 81 Servo motor 82 Lead screw 83 Guide shaft 90 Reflective optical sensor 91 Upper light sensor 92 Lower light sensor 100 resin cover 101,102 transparent window 110 hollow

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェーハを収納するカセットの蓋を対面
させる開口部を開閉すると共に前記蓋を保持し得る遮蔽
ドアと、前記蓋を保持した状態で前記蓋及び遮蔽ドアの
着脱を行なうべく前記遮蔽ドアを進退させると共に昇降
させる駆動機構と、を備えたカセット蓋着脱装置であっ
て、 前記開口部の領域に、ウェーハの主面と略直交する方向
に投光する反射型の光センサを設けた、ことを特徴とす
るカセット蓋着脱装置。
1. A shield door capable of opening and closing an opening facing a lid of a cassette for storing wafers and holding the lid, and the shield for attaching and detaching the lid and the shield door while holding the lid. A cassette lid attaching / detaching device comprising a drive mechanism for moving a door forward and backward and raising and lowering the door, wherein a reflective optical sensor for projecting light in a direction substantially orthogonal to a main surface of a wafer is provided in the area of the opening. A cassette lid attaching / detaching device characterized by the above.
【請求項2】 前記反射型の光センサは、前記開口部の
上縁部側に配置された上側光センサと、前記開口部の下
縁部側に配置された下側光センサと、を含む、ことを特
徴とする請求項1記載のカセット蓋着脱装置。
2. The reflection type optical sensor includes an upper side optical sensor arranged on an upper edge side of the opening and a lower side optical sensor arranged on a lower edge side of the opening. The cassette lid attaching / detaching device according to claim 1, wherein.
【請求項3】 前記上側光センサ及び下側光センサは、
各々の光軸がウェーハの主面に沿う方向において離隔す
る位置に配置されている、ことを特徴とする請求項2記
載のカセット蓋着脱装置。
3. The upper light sensor and the lower light sensor,
3. The cassette lid attaching / detaching device according to claim 2, wherein the respective optical axes are arranged at positions separated in the direction along the main surface of the wafer.
【請求項4】 前記反射型の光センサは、光の透過を許
容する導電性の樹脂カバーにより覆われている、ことを
特徴とする請求項1ないし3いずれかに記載のカセット
蓋着脱装置。
4. The cassette lid attaching / detaching device according to claim 1, wherein the reflection type optical sensor is covered with a conductive resin cover that allows light to pass therethrough.
【請求項5】 前記反射型の光センサによる検出タイミ
ングは、前記駆動機構により前記蓋及び遮蔽ドアが昇降
動作を行なう前に、設定されている、ことを特徴とする
請求項1ないし4いずれかに記載のカセット蓋着脱装
置。
5. The detection timing of the reflection type optical sensor is set before the lid and the shield door are moved up and down by the drive mechanism. The cassette lid attaching / detaching device described in.
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