JP2003190892A - マルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置 - Google Patents
マルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置Info
- Publication number
- JP2003190892A JP2003190892A JP2002219172A JP2002219172A JP2003190892A JP 2003190892 A JP2003190892 A JP 2003190892A JP 2002219172 A JP2002219172 A JP 2002219172A JP 2002219172 A JP2002219172 A JP 2002219172A JP 2003190892 A JP2003190892 A JP 2003190892A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- container
- vacuum
- liquid
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/10—Vacuum distillation
- B01D3/103—Vacuum distillation by using a barometric column
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/34—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping with one or more auxiliary substances
- B01D3/343—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping with one or more auxiliary substances the substance being a gas
- B01D3/346—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping with one or more auxiliary substances the substance being a gas the gas being used for removing vapours, e.g. transport gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/04—Apparatus
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B25/00—Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
- F26B25/005—Treatment of dryer exhaust gases
- F26B25/006—Separating volatiles, e.g. recovering solvents from dryer exhaust gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
- F26B5/06—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum the process involving freezing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】製造コストの大幅ダウンと環境保護や省エネル
ギーの目的を達成するべくマルチ密閉式洗浄，真空乾燥
の方法及びその装置を提供する。 【解決手段】正常な洗浄液などを貯留する上槽１１、洗
浄容器２１、及びこれらの処理後の溶液などを貯留する
低位容器３１をそれぞれ上中下層１０，２０，３０の３
層に高度差を設け、それぞれを配管で接続すると共に洗
浄槽を昇降装置２２によりその高度差を調節可能とし、
また、洗浄槽内に加熱装置を設けると共に気化した洗浄
液を凝縮するコンデンサーを経由して回収槽に接続し、
洗浄処理後の洗浄槽を低位容器に対する高度差によって
減圧し、さらに必要により加熱して洗浄液を気化させて
非処理物の乾燥させ、気化洗浄液をコンデンサーにて回
収する。
ギーの目的を達成するべくマルチ密閉式洗浄，真空乾燥
の方法及びその装置を提供する。 【解決手段】正常な洗浄液などを貯留する上槽１１、洗
浄容器２１、及びこれらの処理後の溶液などを貯留する
低位容器３１をそれぞれ上中下層１０，２０，３０の３
層に高度差を設け、それぞれを配管で接続すると共に洗
浄槽を昇降装置２２によりその高度差を調節可能とし、
また、洗浄槽内に加熱装置を設けると共に気化した洗浄
液を凝縮するコンデンサーを経由して回収槽に接続し、
洗浄処理後の洗浄槽を低位容器に対する高度差によって
減圧し、さらに必要により加熱して洗浄液を気化させて
非処理物の乾燥させ、気化洗浄液をコンデンサーにて回
収する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマルチ密閉式洗浄，
真空乾燥の方法及びその装置に係り、主に空気を溶存し
ない洗浄液と液排出真空装置、並びに真空になった真空
容器とにより、空気の圧力が製造工程において与える影
響を極力下げ、並びに一般に液体の沸点が圧力降下に伴
って下がるのと、液体飽和蒸気圧力が温度の下降に伴っ
て下がり圧力差を生む特性、及び二つの作業温度が異な
る真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発生することなどを
利用し、熱制御及び放熱装置で真空洗浄容器内の温度と
蒸気圧力を調節し、同一装置内でウェット式洗浄とドラ
イ式洗浄、並びに真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥が行える
ものであり、並びに環境保護や省エネルギーに呼応すべ
くドライ式洗浄で使用した低圧気体及び洗浄液などの廃
溶液が回収され、洗浄液の静止する高度が実際に必要と
される高度に達するまでこの動作を繰り返し行い、次の
製造工程に具える機能を具有する装置に関わる。
真空乾燥の方法及びその装置に係り、主に空気を溶存し
ない洗浄液と液排出真空装置、並びに真空になった真空
容器とにより、空気の圧力が製造工程において与える影
響を極力下げ、並びに一般に液体の沸点が圧力降下に伴
って下がるのと、液体飽和蒸気圧力が温度の下降に伴っ
て下がり圧力差を生む特性、及び二つの作業温度が異な
る真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発生することなどを
利用し、熱制御及び放熱装置で真空洗浄容器内の温度と
蒸気圧力を調節し、同一装置内でウェット式洗浄とドラ
イ式洗浄、並びに真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥が行える
ものであり、並びに環境保護や省エネルギーに呼応すべ
くドライ式洗浄で使用した低圧気体及び洗浄液などの廃
溶液が回収され、洗浄液の静止する高度が実際に必要と
される高度に達するまでこの動作を繰り返し行い、次の
製造工程に具える機能を具有する装置に関わる。
【０００２】
【従来の技術】現在利用されている洗浄や乾燥の工程に
おいては、ほとんどが一つ或いは多槽の洗浄作業槽を有
し、洗浄処理を完了すると次の加工平台に送られて乾燥
処理が行われるが、特に加熱で変質するような加工物工
程においては、真空乾燥が必須となっており、製品の移
送と大気への露出に際しては、洗浄後の加工物が新たな
ダストの汚染を受けることとなる。公知の洗浄工程にお
いては、しばしば化学薬品によって加工物表面の残留物
質（例えば微粒子や酸化物や金属不純物、油膜など）を
洗浄するが、蒸発によって外に漏れる有害物質が火災や
爆発の発生を招き易い。即ち上述のような方法では万一
のときに大きな損失が出やすく、作業員の健康にとって
も大きな害があるため、密閉式の洗浄システムで化学溶
液の容量を減少させ、また純水の量を減らすことで、排
出されるガスや廃水等を少なくすることが行われてい
る。
おいては、ほとんどが一つ或いは多槽の洗浄作業槽を有
し、洗浄処理を完了すると次の加工平台に送られて乾燥
処理が行われるが、特に加熱で変質するような加工物工
程においては、真空乾燥が必須となっており、製品の移
送と大気への露出に際しては、洗浄後の加工物が新たな
ダストの汚染を受けることとなる。公知の洗浄工程にお
いては、しばしば化学薬品によって加工物表面の残留物
質（例えば微粒子や酸化物や金属不純物、油膜など）を
洗浄するが、蒸発によって外に漏れる有害物質が火災や
爆発の発生を招き易い。即ち上述のような方法では万一
のときに大きな損失が出やすく、作業員の健康にとって
も大きな害があるため、密閉式の洗浄システムで化学溶
液の容量を減少させ、また純水の量を減らすことで、排
出されるガスや廃水等を少なくすることが行われてい
る。
【０００３】更に公知の密閉式洗浄においては、先ず洗
浄液が密閉された洗浄容器中に入れられ、洗浄容器の補
助設備で該加工物表面の汚染物を取り除き、洗浄が完了
したら洗浄液を容器に排出し、並びに洗浄された加工物
を取り出して次の加工台中に送って乾燥処理を行う。ま
た公知のドライ式洗浄においては、真空システムで容器
内の空気を抽出して真空にし、更に気体を加工物に当て
て酸化還元の化学作用を起こさせ、気体排出と同時に純
水で洗浄し、加工物の表面をクリーンなものにし、ダス
ト汚染のない自然の酸化層の表面にする。
浄液が密閉された洗浄容器中に入れられ、洗浄容器の補
助設備で該加工物表面の汚染物を取り除き、洗浄が完了
したら洗浄液を容器に排出し、並びに洗浄された加工物
を取り出して次の加工台中に送って乾燥処理を行う。ま
た公知のドライ式洗浄においては、真空システムで容器
内の空気を抽出して真空にし、更に気体を加工物に当て
て酸化還元の化学作用を起こさせ、気体排出と同時に純
水で洗浄し、加工物の表面をクリーンなものにし、ダス
ト汚染のない自然の酸化層の表面にする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】但し、上述のように真
空システムを利用することは非常にコストがかかる。ま
た公知の真空加熱乾燥方法では乾燥される対象内の水分
及び揮発性物質を蒸発させて気体としたり、真空ポンプ
によって抽出することで乾燥させる目的を達成させ、真
空システム内の設備が加熱蒸発による加熱や水蒸気を受
けることから保護するべく、即ち真空ポンプ前の作業槽
上には冷媒圧縮機システムなどの設備が設置されて気体
を凝縮させて水蒸気や液体とされなければならず、よっ
て現在の真空加熱乾燥法は、効率のよいものとは言えな
い。更に、真空冷凍乾燥中においては、乾燥される対象
物に対して先ず冷凍処理する際、乾燥を待つ対象物内の
水分が凍結されて固体となり、更に真空にされるが、真
空乾燥槽内の圧力を低めて、乾燥される対象物内の固体
となった水が昇華して真空システムに抽出されるように
なっているが、冷媒圧縮機が乾燥される対象である物に
冷凍処理を施す際、同時に真空ポンプで真空乾燥槽を真
空にし、このとき乾燥される物内の液体はまだ冷凍して
固体化しておらず、真空システム中の気体は水が蒸発し
た飽和水蒸気を含み、真空システム中で凝結して水滴に
なりやすく、即ち真空システム内の部品が破損し易い。
公知の技術では真空ポンプの前に冷凍システムを設置
し、真空乾燥槽時に空気に含まれる水蒸気を凍結させる
が、この方法によるとコストが更に上がり、よってこの
ような公知の真空冷凍乾燥法は効率の良いものとは言え
ない。よって、製品に対する洗浄と真空乾燥処理は、洗
浄処理作業と真空乾燥処理作業が別々に異なる作業環境
の下で行われていることより、公知の方法では同一の洗
浄容器内で作業を完了させることができず、処理作業の
コストが大幅に増加されている。そこで上述の各欠点に
鑑み、高価な真空システムを使用せずとも同一洗浄容器
内で洗浄と真空乾燥の工程を完了させ、製造コストの大
幅ダウンと環境保護や省エネルギーの目的を達成するべ
く、本発明のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びそ
の装置を提供する。
空システムを利用することは非常にコストがかかる。ま
た公知の真空加熱乾燥方法では乾燥される対象内の水分
及び揮発性物質を蒸発させて気体としたり、真空ポンプ
によって抽出することで乾燥させる目的を達成させ、真
空システム内の設備が加熱蒸発による加熱や水蒸気を受
けることから保護するべく、即ち真空ポンプ前の作業槽
上には冷媒圧縮機システムなどの設備が設置されて気体
を凝縮させて水蒸気や液体とされなければならず、よっ
て現在の真空加熱乾燥法は、効率のよいものとは言えな
い。更に、真空冷凍乾燥中においては、乾燥される対象
物に対して先ず冷凍処理する際、乾燥を待つ対象物内の
水分が凍結されて固体となり、更に真空にされるが、真
空乾燥槽内の圧力を低めて、乾燥される対象物内の固体
となった水が昇華して真空システムに抽出されるように
なっているが、冷媒圧縮機が乾燥される対象である物に
冷凍処理を施す際、同時に真空ポンプで真空乾燥槽を真
空にし、このとき乾燥される物内の液体はまだ冷凍して
固体化しておらず、真空システム中の気体は水が蒸発し
た飽和水蒸気を含み、真空システム中で凝結して水滴に
なりやすく、即ち真空システム内の部品が破損し易い。
公知の技術では真空ポンプの前に冷凍システムを設置
し、真空乾燥槽時に空気に含まれる水蒸気を凍結させる
が、この方法によるとコストが更に上がり、よってこの
ような公知の真空冷凍乾燥法は効率の良いものとは言え
ない。よって、製品に対する洗浄と真空乾燥処理は、洗
浄処理作業と真空乾燥処理作業が別々に異なる作業環境
の下で行われていることより、公知の方法では同一の洗
浄容器内で作業を完了させることができず、処理作業の
コストが大幅に増加されている。そこで上述の各欠点に
鑑み、高価な真空システムを使用せずとも同一洗浄容器
内で洗浄と真空乾燥の工程を完了させ、製造コストの大
幅ダウンと環境保護や省エネルギーの目的を達成するべ
く、本発明のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びそ
の装置を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】ウェット式、ドライ式両
方の洗浄と、真空加熱乾燥、並びに真空冷凍乾燥の機能
を一同にまとめることで、真空システムを使用せず、並
びにドライ式洗浄で使用した低圧気体と洗浄液等の廃溶
液を回収することで、環境保護と省エネの目的を達成す
るべく、洗浄と真空乾燥の装置において、該装置は液排
出真空装置が連結されており、液排出真空の装置による
真空の容器と、洗浄液を蒸発或いは昇華させる熱制御装
置、蒸気を凝結させる放熱装置（コンデンサー）、連結
導管等の補助装置より構成され、放熱装置は真空洗浄容
器内の気体洗浄容器を液体或いは固体の洗浄液に凝結さ
せる。液排出真空装置により、空気を溶存しない洗浄液
と液排出減圧法により、洗浄容器を真空にした後、空気
圧力と該洗浄液の蒸気圧力の含有量を非常に少なくし、
空気圧力が製造法に及ぼす影響を極力抑え、並びに一般
に液体の圧力が下降すると沸点が下がる特性と、液体飽
和蒸気圧力が温度の低下に伴って下降し圧力差を生むこ
と等の特性、及び二つの作業温度が異なる真空容器の蒸
気圧力間に圧力差が発生することを利用し、更に熱制御
装置と放熱装置によって真空洗浄容器内の温度と蒸気圧
力を調節することで、低温で気化させるに十分な熱エネ
ルギーを導入し又は余熱により、加工物表面の残留した
洗浄液が蒸発熱を吸収し、蒸発して気体となり、同一洗
浄容器中でドライとウェット式両方の洗浄と、真空加熱
乾燥、真空冷凍乾燥を完了し、並びにドライ式洗浄で使
用した低圧気体及び洗浄液等の廃溶液などを回収する目
的を達成させる。また、一般には液抽出ポンプで密閉し
た低位容器内の圧力を下げて洗浄容器内の真空度を上げ
るが、真空システムを使用しないことにより、洗浄容器
が真空になった後、非常に少量の空気圧力と該洗浄液の
蒸気圧力を含有する真空洗浄容器となり、同時に該空気
圧力が真空加熱及び真空冷凍乾燥などの方法に与える影
響が最低限にまで極力抑えられ、同時に製造のコストも
大幅に下げられるようにする。
方の洗浄と、真空加熱乾燥、並びに真空冷凍乾燥の機能
を一同にまとめることで、真空システムを使用せず、並
びにドライ式洗浄で使用した低圧気体と洗浄液等の廃溶
液を回収することで、環境保護と省エネの目的を達成す
るべく、洗浄と真空乾燥の装置において、該装置は液排
出真空装置が連結されており、液排出真空の装置による
真空の容器と、洗浄液を蒸発或いは昇華させる熱制御装
置、蒸気を凝結させる放熱装置（コンデンサー）、連結
導管等の補助装置より構成され、放熱装置は真空洗浄容
器内の気体洗浄容器を液体或いは固体の洗浄液に凝結さ
せる。液排出真空装置により、空気を溶存しない洗浄液
と液排出減圧法により、洗浄容器を真空にした後、空気
圧力と該洗浄液の蒸気圧力の含有量を非常に少なくし、
空気圧力が製造法に及ぼす影響を極力抑え、並びに一般
に液体の圧力が下降すると沸点が下がる特性と、液体飽
和蒸気圧力が温度の低下に伴って下降し圧力差を生むこ
と等の特性、及び二つの作業温度が異なる真空容器の蒸
気圧力間に圧力差が発生することを利用し、更に熱制御
装置と放熱装置によって真空洗浄容器内の温度と蒸気圧
力を調節することで、低温で気化させるに十分な熱エネ
ルギーを導入し又は余熱により、加工物表面の残留した
洗浄液が蒸発熱を吸収し、蒸発して気体となり、同一洗
浄容器中でドライとウェット式両方の洗浄と、真空加熱
乾燥、真空冷凍乾燥を完了し、並びにドライ式洗浄で使
用した低圧気体及び洗浄液等の廃溶液などを回収する目
的を達成させる。また、一般には液抽出ポンプで密閉し
た低位容器内の圧力を下げて洗浄容器内の真空度を上げ
るが、真空システムを使用しないことにより、洗浄容器
が真空になった後、非常に少量の空気圧力と該洗浄液の
蒸気圧力を含有する真空洗浄容器となり、同時に該空気
圧力が真空加熱及び真空冷凍乾燥などの方法に与える影
響が最低限にまで極力抑えられ、同時に製造のコストも
大幅に下げられるようにする。
【０００６】
【発明実施の形態】本発明では洗浄，真空乾燥の装置、
及び空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧法により、先
ずウェット式洗浄と真空加熱乾燥、ウェット式洗浄と真
空冷凍乾燥、ウェット式洗浄とドライ式洗浄の工程を同
一装置として連結させ、更に熱制御装置及び放熱装置を
利用して真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、洗浄液及び廃溶
液の回収を行い、中度の真空状態を発生させ、ドライ式
洗浄に使用する低圧気体を回収する。
及び空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧法により、先
ずウェット式洗浄と真空加熱乾燥、ウェット式洗浄と真
空冷凍乾燥、ウェット式洗浄とドライ式洗浄の工程を同
一装置として連結させ、更に熱制御装置及び放熱装置を
利用して真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、洗浄液及び廃溶
液の回収を行い、中度の真空状態を発生させ、ドライ式
洗浄に使用する低圧気体を回収する。
【０００７】上述の洗浄，真空乾燥の装置においては、
該液排出真空によって真空となる容器、洗浄液を蒸発或
いは昇華させる熱制御装置、蒸気を凝縮させる放熱装
置、及び連結導管等の補助装置などが連結されて構成さ
れている。該装置内の洗浄容器は液排出真空装置と離れ
て独立した真空容器としてもよく、ドライ／ウェット洗
浄、真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、洗浄液及び溶液回収
用等の容器の役割を担う。また該洗浄容器は必要に応じ
て適当な位置に熱制御装置及び放熱装置等の補助設備を
加えてもよく、更に真空容器と導管で相互に連結されて
いる、或いは通常の圧力の回収容器と相互に連結されて
いる、または液排出された真空となった洗浄容器と相互
に連結されている。真空洗浄容器と真空容器の温度差で
蒸気が飽和することによる圧力差の方法を用いて、真空
洗浄容器内の液体が蒸発熱を吸収した後、発生した蒸気
が真空容器に向かって流動し、且つ洗浄容器と真空容器
の連結導管の適当な個所の放熱装置上にて、気体となっ
た洗浄液を凝結させて液体の洗浄液とし、更に真空容器
内に回収する。また真空容器はドライ式洗浄で使用した
低圧気体を回収するのにも使用される。真空加熱乾燥、
洗浄液や廃溶液、空気を溶存しない洗浄液、及び中度真
空状態の容器の実施方法中、熱制御装置の提供する温度
範囲は洗浄液の気化線上であり、真空冷凍乾燥の実施方
法中では熱制御装置及び放熱装置の提供する温度範囲は
洗浄液の昇華線上にある。また洗浄、真空乾燥の装置が
複数の洗浄容器を具有するときは、洗浄容器は真空バル
ブと相互に連結されており、またコンベア装置で加工物
が運ばれ、直列する多槽での洗浄、真空乾燥が行われる
装置が構成されている。
該液排出真空によって真空となる容器、洗浄液を蒸発或
いは昇華させる熱制御装置、蒸気を凝縮させる放熱装
置、及び連結導管等の補助装置などが連結されて構成さ
れている。該装置内の洗浄容器は液排出真空装置と離れ
て独立した真空容器としてもよく、ドライ／ウェット洗
浄、真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、洗浄液及び溶液回収
用等の容器の役割を担う。また該洗浄容器は必要に応じ
て適当な位置に熱制御装置及び放熱装置等の補助設備を
加えてもよく、更に真空容器と導管で相互に連結されて
いる、或いは通常の圧力の回収容器と相互に連結されて
いる、または液排出された真空となった洗浄容器と相互
に連結されている。真空洗浄容器と真空容器の温度差で
蒸気が飽和することによる圧力差の方法を用いて、真空
洗浄容器内の液体が蒸発熱を吸収した後、発生した蒸気
が真空容器に向かって流動し、且つ洗浄容器と真空容器
の連結導管の適当な個所の放熱装置上にて、気体となっ
た洗浄液を凝結させて液体の洗浄液とし、更に真空容器
内に回収する。また真空容器はドライ式洗浄で使用した
低圧気体を回収するのにも使用される。真空加熱乾燥、
洗浄液や廃溶液、空気を溶存しない洗浄液、及び中度真
空状態の容器の実施方法中、熱制御装置の提供する温度
範囲は洗浄液の気化線上であり、真空冷凍乾燥の実施方
法中では熱制御装置及び放熱装置の提供する温度範囲は
洗浄液の昇華線上にある。また洗浄、真空乾燥の装置が
複数の洗浄容器を具有するときは、洗浄容器は真空バル
ブと相互に連結されており、またコンベア装置で加工物
が運ばれ、直列する多槽での洗浄、真空乾燥が行われる
装置が構成されている。
【０００８】液排出を行って真空にする装置において
は、バルブ制御機能を具有する連結管を提供しており、
該連結管は高度差のある洗浄容器と低位容器とを相互に
連結し、洗浄容器と低位容器は皆密閉式の容器であり、
低位容器は体積及び液面断面積が比較的大きな密閉容器
であり、内部は上部空間を有するものとし、且つ内部の
圧力は洗浄容器と低位容器の高度差、使用する洗浄液の
比重、洗浄容器の容積、低位容器の容積の要素等によっ
て設定される。使用する洗浄液の比重が低く、洗浄液と
低位容器の高度差が小さいほど、洗浄容器内の洗浄液は
完全に低位容器内に排出され、低位容器内の圧力は通常
の圧力よりも遥かに低くなる。低位容器には液抽出ポン
プが設置され、低位容器内の洗浄液を通常の圧力の回収
容器或いはその他の後置処理槽に抽出されるようにして
いる。低位容器密閉状態とした際、液抽出ポンプが起動
すると低位容器内の圧力は液面の下降に伴って下がる。
は、バルブ制御機能を具有する連結管を提供しており、
該連結管は高度差のある洗浄容器と低位容器とを相互に
連結し、洗浄容器と低位容器は皆密閉式の容器であり、
低位容器は体積及び液面断面積が比較的大きな密閉容器
であり、内部は上部空間を有するものとし、且つ内部の
圧力は洗浄容器と低位容器の高度差、使用する洗浄液の
比重、洗浄容器の容積、低位容器の容積の要素等によっ
て設定される。使用する洗浄液の比重が低く、洗浄液と
低位容器の高度差が小さいほど、洗浄容器内の洗浄液は
完全に低位容器内に排出され、低位容器内の圧力は通常
の圧力よりも遥かに低くなる。低位容器には液抽出ポン
プが設置され、低位容器内の洗浄液を通常の圧力の回収
容器或いはその他の後置処理槽に抽出されるようにして
いる。低位容器密閉状態とした際、液抽出ポンプが起動
すると低位容器内の圧力は液面の下降に伴って下がる。
【０００９】液排出減圧法とは、圧力が液体高度を支え
るトリチェリー真空の原理により、低位容器内の圧力は
洗浄容器と低位容器の高度差、洗浄液の比重、洗浄容器
の容積、及び低位容器の容積によって決定され、液抽出
ポンプで調整を施し、洗浄液が洗浄容器内に満たされて
密閉された後、連結管上のバルブを開け、洗浄容器の洗
浄液が連結管を通って密閉された低位容器内に流入し、
密閉された低位容器内の圧力が洗浄液の増加と共に増
し、洗浄液が流動を停止した静止高度は、密閉低位容器
内の最後の液面圧力に支えられる洗浄液の高度であり、
更に連結管上のバルブを閉め、低位容器の液抽出ポンプ
が起動すると、密閉低位容器内の洗浄液が通常の圧力の
回収容器或いはその他の後置処理槽に抽出されて、密閉
低位容器内の圧力を調整することで、次の工程にスムー
ズに移行するようにする。
るトリチェリー真空の原理により、低位容器内の圧力は
洗浄容器と低位容器の高度差、洗浄液の比重、洗浄容器
の容積、及び低位容器の容積によって決定され、液抽出
ポンプで調整を施し、洗浄液が洗浄容器内に満たされて
密閉された後、連結管上のバルブを開け、洗浄容器の洗
浄液が連結管を通って密閉された低位容器内に流入し、
密閉された低位容器内の圧力が洗浄液の増加と共に増
し、洗浄液が流動を停止した静止高度は、密閉低位容器
内の最後の液面圧力に支えられる洗浄液の高度であり、
更に連結管上のバルブを閉め、低位容器の液抽出ポンプ
が起動すると、密閉低位容器内の洗浄液が通常の圧力の
回収容器或いはその他の後置処理槽に抽出されて、密閉
低位容器内の圧力を調整することで、次の工程にスムー
ズに移行するようにする。
【００１０】ウェット洗浄と真空加熱乾燥が一体となっ
た装置においては、ウェット式洗浄の工程を設置した
後、実際の必要に応じて空気を溶存しない洗浄液及び液
排出減圧法で洗浄容器を真空状態にし、更に真空加熱乾
燥を施し、洗浄容器内に残留する水分子或いは有機溶剤
を蒸発させ、且つ真空容器内に回収し、加工物に水の痕
跡やダスト汚染が残留しないようにする。ウェット洗浄
と真空冷凍乾燥が一体となった装置においては、空気を
溶存しない洗浄液と液排出により真空となった洗浄容器
とで真空冷凍乾燥を行い、ウェット式洗浄、真空冷凍乾
燥を同一工程中で完了させ、真空システムを使用しない
ものである。またウェット洗浄とドライ洗浄が一体とな
った装置においては、洗浄容器は液排出減圧法で洗浄容
器を真空にした後、真空洗浄容器に連結されているドラ
イ洗浄の気体容器のバルブを開け、洗浄気体を導管を通
して真空洗浄容器内に流入させ、並びに適時にバルブを
閉めることで、真空洗浄容器が低い気圧となるようにす
る。ドライ洗浄が完了した後、洗浄容器に連結されてい
る真空容器のバルブを開け、洗浄容器内に下から洗浄液
を注入した後、洗浄容器内の液面が向上するのに伴い、
洗浄用の低圧気体も徐々に真空容器に回収されて行き、
洗浄容器に洗浄液が満たされたら真空容器に連結されて
いるバルブを閉め、ドライ洗浄で使用した低気圧気体を
回収する。
た装置においては、ウェット式洗浄の工程を設置した
後、実際の必要に応じて空気を溶存しない洗浄液及び液
排出減圧法で洗浄容器を真空状態にし、更に真空加熱乾
燥を施し、洗浄容器内に残留する水分子或いは有機溶剤
を蒸発させ、且つ真空容器内に回収し、加工物に水の痕
跡やダスト汚染が残留しないようにする。ウェット洗浄
と真空冷凍乾燥が一体となった装置においては、空気を
溶存しない洗浄液と液排出により真空となった洗浄容器
とで真空冷凍乾燥を行い、ウェット式洗浄、真空冷凍乾
燥を同一工程中で完了させ、真空システムを使用しない
ものである。またウェット洗浄とドライ洗浄が一体とな
った装置においては、洗浄容器は液排出減圧法で洗浄容
器を真空にした後、真空洗浄容器に連結されているドラ
イ洗浄の気体容器のバルブを開け、洗浄気体を導管を通
して真空洗浄容器内に流入させ、並びに適時にバルブを
閉めることで、真空洗浄容器が低い気圧となるようにす
る。ドライ洗浄が完了した後、洗浄容器に連結されてい
る真空容器のバルブを開け、洗浄容器内に下から洗浄液
を注入した後、洗浄容器内の液面が向上するのに伴い、
洗浄用の低圧気体も徐々に真空容器に回収されて行き、
洗浄容器に洗浄液が満たされたら真空容器に連結されて
いるバルブを閉め、ドライ洗浄で使用した低気圧気体を
回収する。
【００１１】空気を溶存しない洗浄液については、洗
浄、真空乾燥を提供する装置で、液排出減圧法で洗浄容
器の空間部分に真空状態を発生させ、同時に液排出によ
り低下した洗浄液の静止液面高度は洗浄液容器内にて熱
制御装置（ヒーター）を覆う状態であって、その熱エネ
ルギーの流入と共に洗浄液の液面は沸騰状態となり、洗
浄液に溶解した空気が洗浄容器の真空空間内に排出さ
れ、洗浄容器が通常の圧力に回復後、通常の圧力の回収
容器で洗浄容器内に空気が既に排出された洗浄液を回収
する。熱制御装置の温度範囲は洗浄液の気化線上にあ
り、洗浄液の沸点は圧力加工に伴って降下し、よって低
温で気化するに十分な余剰熱エネルギーが得られる。洗
浄容器は大きな揮発面積を提供するため、液面断面積が
比較的大きいものとする。
浄、真空乾燥を提供する装置で、液排出減圧法で洗浄容
器の空間部分に真空状態を発生させ、同時に液排出によ
り低下した洗浄液の静止液面高度は洗浄液容器内にて熱
制御装置（ヒーター）を覆う状態であって、その熱エネ
ルギーの流入と共に洗浄液の液面は沸騰状態となり、洗
浄液に溶解した空気が洗浄容器の真空空間内に排出さ
れ、洗浄容器が通常の圧力に回復後、通常の圧力の回収
容器で洗浄容器内に空気が既に排出された洗浄液を回収
する。熱制御装置の温度範囲は洗浄液の気化線上にあ
り、洗浄液の沸点は圧力加工に伴って降下し、よって低
温で気化するに十分な余剰熱エネルギーが得られる。洗
浄容器は大きな揮発面積を提供するため、液面断面積が
比較的大きいものとする。
【００１２】洗浄及び真空加熱乾燥においては、液排出
減圧法で洗浄容器が非常に少量の空気圧力及び該洗浄液
の蒸気圧力を含有した真空洗浄容器となり、温度差で飽
和蒸気圧力差を作り、真空容器を洗浄容器に連結する
が、該連結導管の適当な位置に放熱装置を設けること
で、真空容器に向かって流動する気化した洗浄液を液体
に凝結させて真空容器内に回収する。洗浄容器の熱制御
装置では蒸発熱を提供し、加工物表面に残留した洗浄液
を蒸発させ、熱制御装置の温度が変わらないとき、洗浄
容器は圧力が変わらないため、即ち洗浄容器内の温度と
圧力は該洗浄液の気化線上に位置し、またもし洗浄容器
内の圧力が該温度の飽和蒸気圧力に達さない場合は、乾
燥を待つ加工物は熱制御装置に蒸発熱を吸収され、よっ
て加工物表面に残留する洗浄液が蒸発する。この圧力差
の方法で蒸気を真空容器に連結した放熱装置に向かって
流動させ、気体となった洗浄液を凝結させて液体にし、
真空容器内に回収し、洗浄容器内の圧力が蒸発温度の飽
和蒸気圧力より低く保持される。一般の液体の圧力の下
降と共に沸点も下降するため、該熱制御装置は低温で気
化するに十分な余剰熱エネルギーを供給する。空気を溶
存しない洗浄液を液排出減圧法による洗浄液とした場
合、即ち真空加熱乾燥の過程において空気圧力の影響を
受けず、真空容器と真空洗浄容器に安定した圧力差が提
供されて比較的低温の熱エネルギーが使用される。
減圧法で洗浄容器が非常に少量の空気圧力及び該洗浄液
の蒸気圧力を含有した真空洗浄容器となり、温度差で飽
和蒸気圧力差を作り、真空容器を洗浄容器に連結する
が、該連結導管の適当な位置に放熱装置を設けること
で、真空容器に向かって流動する気化した洗浄液を液体
に凝結させて真空容器内に回収する。洗浄容器の熱制御
装置では蒸発熱を提供し、加工物表面に残留した洗浄液
を蒸発させ、熱制御装置の温度が変わらないとき、洗浄
容器は圧力が変わらないため、即ち洗浄容器内の温度と
圧力は該洗浄液の気化線上に位置し、またもし洗浄容器
内の圧力が該温度の飽和蒸気圧力に達さない場合は、乾
燥を待つ加工物は熱制御装置に蒸発熱を吸収され、よっ
て加工物表面に残留する洗浄液が蒸発する。この圧力差
の方法で蒸気を真空容器に連結した放熱装置に向かって
流動させ、気体となった洗浄液を凝結させて液体にし、
真空容器内に回収し、洗浄容器内の圧力が蒸発温度の飽
和蒸気圧力より低く保持される。一般の液体の圧力の下
降と共に沸点も下降するため、該熱制御装置は低温で気
化するに十分な余剰熱エネルギーを供給する。空気を溶
存しない洗浄液を液排出減圧法による洗浄液とした場
合、即ち真空加熱乾燥の過程において空気圧力の影響を
受けず、真空容器と真空洗浄容器に安定した圧力差が提
供されて比較的低温の熱エネルギーが使用される。
【００１３】真空冷凍乾燥においては、洗浄、真空乾燥
の装置で空気を溶存しない洗浄液及び液排出減圧法で真
空容器を真空にし、非常に少量の空気圧力及び該洗浄液
の蒸気圧力を含んだ真空洗浄容器にし、洗浄容器の熱制
御装置及び放熱装置に提供する温度範囲は洗浄液の昇華
線上に位置し、熱制御装置が乾燥を待つ加工物の温度を
制御し、即ち乾燥を待つ加工物の温度が一定の温度にま
で下降すると、昇華熱が加工物内の固体洗浄液を昇華さ
せる。また放熱装置では真空洗浄容器内の圧力を制御
し、即ち昇華した洗浄液を凝結させて固体の洗浄液と
し、昇華熱で真空洗浄容器内に残留した固体洗浄液を昇
華させる。乾燥を待つ加工物が洗浄容器内で真空冷凍乾
燥の工程を受ける際、洗浄容器内の熱制御装置の温度が
変わらず、また昇華の速度と凝結の速度が等しいとき、
洗浄容器はその圧力が変わらず、即ち洗浄容器内の温度
と圧力は該洗浄液の昇華線上に位置する。熱制御装置は
その設定どおりの温度下、洗浄容器内の圧力が該温度の
飽和蒸気圧力に達さないとき、乾燥を待つ加工物は熱制
御装置で昇華熱を吸収し、加工物上の固体の洗浄液が昇
華して気体の洗浄液となり、耐えず昇華する目的を達成
するため、洗浄容器内には非常に少量の空気圧力のみを
含み、よって放熱装置は昇華した洗浄液を再び凝結させ
て固体化し、洗浄容器内の圧力は昇華温度の飽和蒸気圧
力より低く保たれている。熱制御装置は乾燥を待つ加工
物を冷凍させてその成分物質の最低共通融点にまで温度
を至らしめ、熱制御装置が乾燥を待つ加工物を冷凍させ
るとき、洗浄液内の圧力を温度下降と圧力下降の下、乾
燥を待つ加工物の冷凍が不完全にならないようにするた
め、放熱装置は必ず洗浄容器内に残留した洗浄液を蒸発
或いは昇華させて蒸気とし、洗浄液内の蒸気圧力が熱制
御装置の設定する温度の飽和蒸気圧力より大きくなるよ
うにし、乾燥を待つ加工物が冷やされて最低共通融点以
下の温度になるようにする。乾燥を待つ加工物の冷凍が
完了したら、加工物内の液体の結晶粒子が比較的大きく
なって肉眼で見えるほどの粗い結晶にし、また粗い結晶
が昇華した後の残す比較的大きな隙間に、加工物裏側の
結晶粒子を続けて昇華させて乾燥効率を高める。こうし
て乾燥を待つ加工物が通常の圧力の下で冷凍され、低
温、空気を溶存しない洗浄液及び液排出減圧法で洗浄容
器を真空状態にして冷凍乾燥を行う。空気を溶存しない
洗浄液は液排出減圧法により、真空洗浄容器内には該洗
浄液の蒸気圧力のみが含まれ、よって真空冷凍乾燥の過
程においては空気の圧力の影響を受けず、乾燥を待つ加
工物内の洗浄液の昇華及び凝結が皆温度によって制御さ
れる。放熱装置が気体洗浄液流動を加速させる装置を具
有する場合、気体が凝結して液体洗浄液となる速度が加
速されて固体の洗浄液となり、真空冷凍乾燥の速度が更
に向上する。
の装置で空気を溶存しない洗浄液及び液排出減圧法で真
空容器を真空にし、非常に少量の空気圧力及び該洗浄液
の蒸気圧力を含んだ真空洗浄容器にし、洗浄容器の熱制
御装置及び放熱装置に提供する温度範囲は洗浄液の昇華
線上に位置し、熱制御装置が乾燥を待つ加工物の温度を
制御し、即ち乾燥を待つ加工物の温度が一定の温度にま
で下降すると、昇華熱が加工物内の固体洗浄液を昇華さ
せる。また放熱装置では真空洗浄容器内の圧力を制御
し、即ち昇華した洗浄液を凝結させて固体の洗浄液と
し、昇華熱で真空洗浄容器内に残留した固体洗浄液を昇
華させる。乾燥を待つ加工物が洗浄容器内で真空冷凍乾
燥の工程を受ける際、洗浄容器内の熱制御装置の温度が
変わらず、また昇華の速度と凝結の速度が等しいとき、
洗浄容器はその圧力が変わらず、即ち洗浄容器内の温度
と圧力は該洗浄液の昇華線上に位置する。熱制御装置は
その設定どおりの温度下、洗浄容器内の圧力が該温度の
飽和蒸気圧力に達さないとき、乾燥を待つ加工物は熱制
御装置で昇華熱を吸収し、加工物上の固体の洗浄液が昇
華して気体の洗浄液となり、耐えず昇華する目的を達成
するため、洗浄容器内には非常に少量の空気圧力のみを
含み、よって放熱装置は昇華した洗浄液を再び凝結させ
て固体化し、洗浄容器内の圧力は昇華温度の飽和蒸気圧
力より低く保たれている。熱制御装置は乾燥を待つ加工
物を冷凍させてその成分物質の最低共通融点にまで温度
を至らしめ、熱制御装置が乾燥を待つ加工物を冷凍させ
るとき、洗浄液内の圧力を温度下降と圧力下降の下、乾
燥を待つ加工物の冷凍が不完全にならないようにするた
め、放熱装置は必ず洗浄容器内に残留した洗浄液を蒸発
或いは昇華させて蒸気とし、洗浄液内の蒸気圧力が熱制
御装置の設定する温度の飽和蒸気圧力より大きくなるよ
うにし、乾燥を待つ加工物が冷やされて最低共通融点以
下の温度になるようにする。乾燥を待つ加工物の冷凍が
完了したら、加工物内の液体の結晶粒子が比較的大きく
なって肉眼で見えるほどの粗い結晶にし、また粗い結晶
が昇華した後の残す比較的大きな隙間に、加工物裏側の
結晶粒子を続けて昇華させて乾燥効率を高める。こうし
て乾燥を待つ加工物が通常の圧力の下で冷凍され、低
温、空気を溶存しない洗浄液及び液排出減圧法で洗浄容
器を真空状態にして冷凍乾燥を行う。空気を溶存しない
洗浄液は液排出減圧法により、真空洗浄容器内には該洗
浄液の蒸気圧力のみが含まれ、よって真空冷凍乾燥の過
程においては空気の圧力の影響を受けず、乾燥を待つ加
工物内の洗浄液の昇華及び凝結が皆温度によって制御さ
れる。放熱装置が気体洗浄液流動を加速させる装置を具
有する場合、気体が凝結して液体洗浄液となる速度が加
速されて固体の洗浄液となり、真空冷凍乾燥の速度が更
に向上する。
【００１４】一貫した多槽真空冷凍乾燥においては、一
番目の洗浄容器の熱制御装置で乾燥を待つ加工物を洗浄
した後の通常の圧力の下で予冷し、二番目の洗浄用器の
スタート状態では空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧
法で洗浄容器を真空状態にし、真空冷凍乾燥法を実施す
る洗浄容器とし、三番目の洗浄容器を乾燥が完了した加
工物を送り出す個所とし、三番目の洗浄容器が通常の圧
力を回復し、既に乾燥した加工物を送り出した後、空気
を溶存しない洗浄液及び液排出減圧法によって再び真空
容器とする。乾燥を待つ加工物の温度が提げられて冷凍
した後、加工物内の液体の結晶粒子が比較的大きく肉眼
で結晶が見られるようにし、粗い結晶が昇華した後の残
した比較的大きな隙間に、加工物裏側の結晶粒子が引き
続き昇華できるようにして乾燥の効率を高める。乾燥を
待つ加工物が一番目の洗浄容器内で洗浄された後、通常
の圧力の下で熱制御装置を起動させて乾燥を圧加工物に
対して予冷し、低温、空気を溶存しない洗浄液及び液排
出減圧法で一番目の洗浄液容器を真空状態にし、真空バ
ルブを開けて乾燥を待つ加工物を二番目の真空洗浄容器
内に送り、真空バルブを閉め、乾燥を待つ加工物の温度
が共通融点以下の温度にまで下げ、真空冷凍乾燥方法を
完了した後、三番目の洗浄容器が通常の圧力に回復した
ら、既に乾燥した加工物を送り出す。
番目の洗浄容器の熱制御装置で乾燥を待つ加工物を洗浄
した後の通常の圧力の下で予冷し、二番目の洗浄用器の
スタート状態では空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧
法で洗浄容器を真空状態にし、真空冷凍乾燥法を実施す
る洗浄容器とし、三番目の洗浄容器を乾燥が完了した加
工物を送り出す個所とし、三番目の洗浄容器が通常の圧
力を回復し、既に乾燥した加工物を送り出した後、空気
を溶存しない洗浄液及び液排出減圧法によって再び真空
容器とする。乾燥を待つ加工物の温度が提げられて冷凍
した後、加工物内の液体の結晶粒子が比較的大きく肉眼
で結晶が見られるようにし、粗い結晶が昇華した後の残
した比較的大きな隙間に、加工物裏側の結晶粒子が引き
続き昇華できるようにして乾燥の効率を高める。乾燥を
待つ加工物が一番目の洗浄容器内で洗浄された後、通常
の圧力の下で熱制御装置を起動させて乾燥を圧加工物に
対して予冷し、低温、空気を溶存しない洗浄液及び液排
出減圧法で一番目の洗浄液容器を真空状態にし、真空バ
ルブを開けて乾燥を待つ加工物を二番目の真空洗浄容器
内に送り、真空バルブを閉め、乾燥を待つ加工物の温度
が共通融点以下の温度にまで下げ、真空冷凍乾燥方法を
完了した後、三番目の洗浄容器が通常の圧力に回復した
ら、既に乾燥した加工物を送り出す。
【００１５】洗浄液回収と廃溶液は、一つの洗浄容器は
洗浄液或いは廃溶液を蒸発させる蒸発槽とし、もう一つ
の洗浄容器をクリーンな洗浄液と溶液の回収槽とし、蒸
発槽の熱制御装置で蒸発熱を提供して洗浄液や廃溶液を
蒸発させる。蒸発槽と回収槽の温度差で飽和蒸気圧力差
を生み出し、蒸発槽内の気体の洗浄液が回収槽に連結さ
れている放熱装置に向かって流動し、気体の洗浄液が凝
結して液体となり、回収槽に回収されるようにする。蒸
発槽は回収を待つ洗浄液或いは廃溶液を液排出減圧法で
真空にし、回収を待つ静止した液面の高度が蒸発槽内に
て停止し、並びに熱制御装置を覆うようにする。回収槽
はクリーンな洗浄液や溶液を液排出減圧法で真空にす
る。更に蒸発槽内の洗浄液或いは廃溶液が熱制御装置に
よって蒸発熱が吸収され、放熱装置で蒸発槽より蒸発し
た蒸気が凝結してクリーンな洗浄液や溶液になり、回収
槽に回収されるのに伴い、蒸発槽は適時洗浄液や廃液を
補充し、回収槽は適時回収された洗浄液や溶液を通常の
圧力の回収容器に排出し、更に液排出減圧法で回収槽を
真空容器にしてクリーンな洗浄液や溶液を回収し続け
る。回収を待つ洗浄液或いは廃溶液の沸点は圧力の下降
に伴って低まり、熱制御装置が低温エネルギーや余熱を
導入し、環境保護と省エネルギーの目的が達成される。
洗浄液或いは廃溶液を蒸発させる蒸発槽とし、もう一つ
の洗浄容器をクリーンな洗浄液と溶液の回収槽とし、蒸
発槽の熱制御装置で蒸発熱を提供して洗浄液や廃溶液を
蒸発させる。蒸発槽と回収槽の温度差で飽和蒸気圧力差
を生み出し、蒸発槽内の気体の洗浄液が回収槽に連結さ
れている放熱装置に向かって流動し、気体の洗浄液が凝
結して液体となり、回収槽に回収されるようにする。蒸
発槽は回収を待つ洗浄液或いは廃溶液を液排出減圧法で
真空にし、回収を待つ静止した液面の高度が蒸発槽内に
て停止し、並びに熱制御装置を覆うようにする。回収槽
はクリーンな洗浄液や溶液を液排出減圧法で真空にす
る。更に蒸発槽内の洗浄液或いは廃溶液が熱制御装置に
よって蒸発熱が吸収され、放熱装置で蒸発槽より蒸発し
た蒸気が凝結してクリーンな洗浄液や溶液になり、回収
槽に回収されるのに伴い、蒸発槽は適時洗浄液や廃液を
補充し、回収槽は適時回収された洗浄液や溶液を通常の
圧力の回収容器に排出し、更に液排出減圧法で回収槽を
真空容器にしてクリーンな洗浄液や溶液を回収し続け
る。回収を待つ洗浄液或いは廃溶液の沸点は圧力の下降
に伴って低まり、熱制御装置が低温エネルギーや余熱を
導入し、環境保護と省エネルギーの目的が達成される。
【００１６】中度の真空容器においては、空気を溶存し
ない洗浄液及び液排出減圧法によって二つの洗浄容器を
真空状態にし、一つの真空洗浄容器は液排出真空装置と
分かれた真空容器とし、もう一つは凝結液回収用とす
る。温度差を利用して作られた飽和蒸気圧力差により、
真空容器内に残留する液体が蒸発熱を吸収した後、気体
の洗浄液が真空洗浄容器に連結されている放熱装置に向
かって流動し、気体が凝結されて洗浄液が液体となり、
真空洗浄容器に回収される。一般の液体の沸点は圧力の
下降に伴う特性により、熱制御装置は低温の熱エネルギ
ーや余熱を導入し、真空容器内に残留した洗浄液を蒸発
させ、真空容器内の温度の上昇と蒸気分子の減少に伴
い、最後には真空容器内には非常に少量の蒸気が存在す
るのみであり、更に真空容器を密閉し、液排出真空装置
と遮断し、温度を下げて真空容器が温度の下降と共に中
度の真空容器に近づくようにする。
ない洗浄液及び液排出減圧法によって二つの洗浄容器を
真空状態にし、一つの真空洗浄容器は液排出真空装置と
分かれた真空容器とし、もう一つは凝結液回収用とす
る。温度差を利用して作られた飽和蒸気圧力差により、
真空容器内に残留する液体が蒸発熱を吸収した後、気体
の洗浄液が真空洗浄容器に連結されている放熱装置に向
かって流動し、気体が凝結されて洗浄液が液体となり、
真空洗浄容器に回収される。一般の液体の沸点は圧力の
下降に伴う特性により、熱制御装置は低温の熱エネルギ
ーや余熱を導入し、真空容器内に残留した洗浄液を蒸発
させ、真空容器内の温度の上昇と蒸気分子の減少に伴
い、最後には真空容器内には非常に少量の蒸気が存在す
るのみであり、更に真空容器を密閉し、液排出真空装置
と遮断し、温度を下げて真空容器が温度の下降と共に中
度の真空容器に近づくようにする。
【００１７】図１に示すように、液排出真空装置及びそ
の操作においては、先ず装置を設置する作業平台を上、
中、下の三層に分け、該上槽１０と下槽３０を固定する
際高度差を設け、該中層２０は昇降装置２２を具有し、
該中層２０を該下層３０の高度に相対して調整する。上
槽１１は該平台上層１０の適当な個所に設置され、クリ
ーンな洗浄液を注入して保存する容器とし、またその下
方の適当な個所は上槽導管１２と連結されており、洗浄
液が洗浄容器２１内にまで流入するようになっており、
実際の必要に応じて更にその下方の適当な個所は排気導
管１４を接続してもよく、洗浄液を洗浄容器２１内に流
入させ、洗浄容器内の気体を排除する。上槽導管１２は
該上槽１１及び洗浄容器２１の入液装置２３と相互に連
結されており、洗浄液が該上槽１１より該洗浄容器２１
内に流入するようにしている。上槽バルブ１３は該上槽
１１を洗浄液を上から下へと洗浄容器２１内に流入させ
るように切り替え制御するものであり、該上槽１１底部
の適当な個所或いは上槽導管１２の適当な個所に設置さ
れる。洗浄容器２１は該作業平台中層２０の適当な個所
に設置され、密閉して加工物を処理できる容器であり、
必要に応じては処理を待つ加工物の出入口装置及び工程
上で必要な補助工具や設備を増設してもよく、またその
上方の適当な個所には入液装置２３と上槽導管１２とが
相互に接続されており、その下方の適当な個所には出液
装置２４と低位容器導管３２とが相互に接続されてい
る。低位容器導管３２は低位容器３１及び洗浄容器２１
の出液装置２４と相互に連結されており、洗浄液が洗浄
容器２１より低位容器３１に流入するようになってい
る。低位容器バルブ３３は該洗浄容器２１の洗浄液が上
から下へと該低位容器３１にまで流入するように切り替
えより制御し、低位容器液面３４より低い高度に設置さ
れた低位容器導管３２の適当な個所或いは該低位容器液
面３４の高度より低い低位容器の適当な個所に設置され
る。該低位容器３１は該作業平台の下層３０の適当な個
所に設置され、体積及び液面断面積が比較的大きな密閉
容器であり、その内部は完全に洗浄液が満たされず、必
要に応じて補助工具や設備を増設してもよく、底部は適
当な個所が低位容器導管３２と相互に連結されており、
洗浄液が該洗浄容器２１より内部に流入するようになっ
ており、底部はまた適当な個所がポンプ導管５２と相互
に連結されており、上方の洗浄液が充満しない個所の適
当な個所には排気バルブ３５が設けられており、内部の
圧力を調整し、必要に応じて内部に冷却装置を設けて液
面の圧力を安定させてもよい。該ポンプ導管５２は該低
位容器３１と液抽出ポンプ５３が連結されており、該液
抽出ポンプ５３で該低位容器３１の洗浄液を通常の圧力
の後置処理槽５１に抽出させる、或いは該通常の圧力後
置処理槽５１の洗浄液を低位容器３１にまで抽出させ、
該低位容器３１の液面高度及び圧力を調節する。ポンプ
バルブ５４は、液抽出ポンプ５３が該低位容器３１の洗
浄液を通常の圧力の後置処理槽５１にまで抽出する、或
いは該後置処理槽５１の洗浄液を該低位容器３１にまで
抽出するのを切り替え制御し、該低位容器３１底部の適
当な個所或いはポンプ導管５２の適当な個所に設置され
る。進液装置２３は該洗浄容器２１上方に設置され、洗
浄液或いは気体が該洗浄容器２１を出入するのを制御す
る装置であり、内側は必要に応じて複数のバルブ式スイ
ッチや類似した部品によって洗浄液或いは気体が該洗浄
容器２１を出入するのを制御し、その他、該洗浄容器２
１内の補助工具や部品を増設してもよく、内部の制御バ
ルブはその他の装置（例えば真空容器や通常の圧力回収
容器等）と相互に連結されており、或いはその属する上
槽導管１２と相互に連結され、そのコネクタは固定式の
ものや着脱式のもの等でもよい。該出液装置２４は該洗
浄容器２１下方に設置され、洗浄液や気体の出入する洗
浄容器２１を制御する装置であり、内側は必要に応じて
複数のバルブスイッチ或いはそれに類似するもので洗浄
液や気体が洗浄容器２１に出入するのを制御してもよ
く、内部の制御バルブはその他の装置（例えば通常の圧
力回収容器等）と連結しており、その属する低位容器導
管３２と相互に接続されてもよく、またコネクタは固定
式ものや着脱式のもの等としてもよい。排気導管１４は
該上槽１１並びに洗浄容器２１の出液装置２４と相互に
連結されており、洗浄液が下から上へ流れて該洗浄容器
２１内に流入するようにし、該洗浄容器２１内の気体を
排出し、必要に応じて設置されるものである。
の操作においては、先ず装置を設置する作業平台を上、
中、下の三層に分け、該上槽１０と下槽３０を固定する
際高度差を設け、該中層２０は昇降装置２２を具有し、
該中層２０を該下層３０の高度に相対して調整する。上
槽１１は該平台上層１０の適当な個所に設置され、クリ
ーンな洗浄液を注入して保存する容器とし、またその下
方の適当な個所は上槽導管１２と連結されており、洗浄
液が洗浄容器２１内にまで流入するようになっており、
実際の必要に応じて更にその下方の適当な個所は排気導
管１４を接続してもよく、洗浄液を洗浄容器２１内に流
入させ、洗浄容器内の気体を排除する。上槽導管１２は
該上槽１１及び洗浄容器２１の入液装置２３と相互に連
結されており、洗浄液が該上槽１１より該洗浄容器２１
内に流入するようにしている。上槽バルブ１３は該上槽
１１を洗浄液を上から下へと洗浄容器２１内に流入させ
るように切り替え制御するものであり、該上槽１１底部
の適当な個所或いは上槽導管１２の適当な個所に設置さ
れる。洗浄容器２１は該作業平台中層２０の適当な個所
に設置され、密閉して加工物を処理できる容器であり、
必要に応じては処理を待つ加工物の出入口装置及び工程
上で必要な補助工具や設備を増設してもよく、またその
上方の適当な個所には入液装置２３と上槽導管１２とが
相互に接続されており、その下方の適当な個所には出液
装置２４と低位容器導管３２とが相互に接続されてい
る。低位容器導管３２は低位容器３１及び洗浄容器２１
の出液装置２４と相互に連結されており、洗浄液が洗浄
容器２１より低位容器３１に流入するようになってい
る。低位容器バルブ３３は該洗浄容器２１の洗浄液が上
から下へと該低位容器３１にまで流入するように切り替
えより制御し、低位容器液面３４より低い高度に設置さ
れた低位容器導管３２の適当な個所或いは該低位容器液
面３４の高度より低い低位容器の適当な個所に設置され
る。該低位容器３１は該作業平台の下層３０の適当な個
所に設置され、体積及び液面断面積が比較的大きな密閉
容器であり、その内部は完全に洗浄液が満たされず、必
要に応じて補助工具や設備を増設してもよく、底部は適
当な個所が低位容器導管３２と相互に連結されており、
洗浄液が該洗浄容器２１より内部に流入するようになっ
ており、底部はまた適当な個所がポンプ導管５２と相互
に連結されており、上方の洗浄液が充満しない個所の適
当な個所には排気バルブ３５が設けられており、内部の
圧力を調整し、必要に応じて内部に冷却装置を設けて液
面の圧力を安定させてもよい。該ポンプ導管５２は該低
位容器３１と液抽出ポンプ５３が連結されており、該液
抽出ポンプ５３で該低位容器３１の洗浄液を通常の圧力
の後置処理槽５１に抽出させる、或いは該通常の圧力後
置処理槽５１の洗浄液を低位容器３１にまで抽出させ、
該低位容器３１の液面高度及び圧力を調節する。ポンプ
バルブ５４は、液抽出ポンプ５３が該低位容器３１の洗
浄液を通常の圧力の後置処理槽５１にまで抽出する、或
いは該後置処理槽５１の洗浄液を該低位容器３１にまで
抽出するのを切り替え制御し、該低位容器３１底部の適
当な個所或いはポンプ導管５２の適当な個所に設置され
る。進液装置２３は該洗浄容器２１上方に設置され、洗
浄液或いは気体が該洗浄容器２１を出入するのを制御す
る装置であり、内側は必要に応じて複数のバルブ式スイ
ッチや類似した部品によって洗浄液或いは気体が該洗浄
容器２１を出入するのを制御し、その他、該洗浄容器２
１内の補助工具や部品を増設してもよく、内部の制御バ
ルブはその他の装置（例えば真空容器や通常の圧力回収
容器等）と相互に連結されており、或いはその属する上
槽導管１２と相互に連結され、そのコネクタは固定式の
ものや着脱式のもの等でもよい。該出液装置２４は該洗
浄容器２１下方に設置され、洗浄液や気体の出入する洗
浄容器２１を制御する装置であり、内側は必要に応じて
複数のバルブスイッチ或いはそれに類似するもので洗浄
液や気体が洗浄容器２１に出入するのを制御してもよ
く、内部の制御バルブはその他の装置（例えば通常の圧
力回収容器等）と連結しており、その属する低位容器導
管３２と相互に接続されてもよく、またコネクタは固定
式ものや着脱式のもの等としてもよい。排気導管１４は
該上槽１１並びに洗浄容器２１の出液装置２４と相互に
連結されており、洗浄液が下から上へ流れて該洗浄容器
２１内に流入するようにし、該洗浄容器２１内の気体を
排出し、必要に応じて設置されるものである。
【００１８】図１に示すように、液排出真空装置のスタ
ート時の状態における実施方法は、先ず洗浄液の比重、
洗浄容器２１の容積、低位容器３１の容積により、作業
平台中層２０と該下層３０との高度差を設定し、低位容
器液面３４の圧力を計算して出す。該低位容器３１の洗
浄液を用意する過程においては、ポンプバルブ５４をオ
ンにし、排気バルブ３５をオンにし、更に低位容器バル
ブ３３をオンにし、該液抽出ポンプ５３を通常の圧力の
後置処理槽５１の洗浄液を低位容器３１内の適当な高度
にまで抽出し、該排気バルブ３５をオフにする。該上槽
１１の洗浄液を準備する過程においては、上槽バルブ１
３をオフにし、洗浄液を該上槽１１に注入して満たし、
更に液面の高度を保持するべく絶えず洗浄液を注入す
る。低位容器液面３４の圧力においては、低位容器バル
ブ３３をオフにし、液抽出ポンプ５３を起動させて該低
位容器３１内の洗浄液を該通常の圧力の後置処理槽５１
にまで抽出し、洗浄容器液面３４の圧力が液面の下降に
伴って低下し、洗浄容器液面３４の圧力が設定の圧力に
まで達したら、該液抽出ポンプ５３をオフにし、並びに
該ポンプバルブ５４をオフにする。該昇降装置２２を起
動させ、作業平台中層２０を該下層３０の高度に合わせ
て調節する。
ート時の状態における実施方法は、先ず洗浄液の比重、
洗浄容器２１の容積、低位容器３１の容積により、作業
平台中層２０と該下層３０との高度差を設定し、低位容
器液面３４の圧力を計算して出す。該低位容器３１の洗
浄液を用意する過程においては、ポンプバルブ５４をオ
ンにし、排気バルブ３５をオンにし、更に低位容器バル
ブ３３をオンにし、該液抽出ポンプ５３を通常の圧力の
後置処理槽５１の洗浄液を低位容器３１内の適当な高度
にまで抽出し、該排気バルブ３５をオフにする。該上槽
１１の洗浄液を準備する過程においては、上槽バルブ１
３をオフにし、洗浄液を該上槽１１に注入して満たし、
更に液面の高度を保持するべく絶えず洗浄液を注入す
る。低位容器液面３４の圧力においては、低位容器バル
ブ３３をオフにし、液抽出ポンプ５３を起動させて該低
位容器３１内の洗浄液を該通常の圧力の後置処理槽５１
にまで抽出し、洗浄容器液面３４の圧力が液面の下降に
伴って低下し、洗浄容器液面３４の圧力が設定の圧力に
まで達したら、該液抽出ポンプ５３をオフにし、並びに
該ポンプバルブ５４をオフにする。該昇降装置２２を起
動させ、作業平台中層２０を該下層３０の高度に合わせ
て調節する。
【００１９】図１に示すように、液排出真空装置を利用
し、該液排出減圧法を実施するのは以下の如く。先ず該
液排出真空装置をスタート状態或いはその他の実施方法
の最後の状態とし、洗浄容器２１内に洗浄液を注入して
満たす。上槽バルブ１３をオンにし、低位容器バルブ３
３をオフにし、入液装置２３内に連結された上槽導管１
２のバルブスイッチをオンにし、出液装置２４内に連結
された低位容器導管３２のバルブスイッチをオンにし、
重力や大気圧、或いは洗浄容器２１が真空であることよ
り、洗浄液は該上槽１１より該洗浄容器２１に注入また
は吸入されて該上槽導管１２、洗浄容器２１、低位容器
導管３２に充満する。洗浄容器２１にて真空状態を発生
させるには、該上槽バルブ１３はオフ、低位容器バルブ
３３をオンにし、洗浄容器２１内の洗浄液が該低位容器
３１内に流入し、洗浄液が静止した高度は低位容器液面
３４の圧力が該比重の洗浄液の高度を受け、即ち洗浄容
器２１内の洗浄液が該低位容器３１内の流入し、低位容
器液面３４を上昇させることで圧力が上がって洗浄液高
度のバランスを支え、状況に応じて更に該入液装置２３
内に連結された上槽導管１２のバルブをオフにし、出液
装置２４内に連結された低位容器導管３２のバルブをオ
フにし、こうすることで該洗浄容器を真空にする。該低
位容器３１の余分な洗浄液を排出し、液面の圧力を下げ
るには、先ず該洗浄容器２１に真空状態を発生させた
後、該上槽導管１２、洗浄容器２１、低位容器導管３２
の洗浄液の全部或いは部分が該低位容器３１内に流れ込
むことで、該低位容器液面３４の高度が増加し、同時に
液面の圧力が上がり、該低位容器バルブ３３をオフに
し、ポンプバルブ５４をオンにし、液抽出ポンプ５３を
低位容器３１内の洗浄液を該通常の圧力の後置処理槽５
１にまで抽出し、該低位容器液面３４圧力が設定の圧力
になったら、該ポンプバルブをオフにする。こうして洗
浄容器２１が一度の真空法の過程を終了して順調に次の
過程を進めることができるようにする。
し、該液排出減圧法を実施するのは以下の如く。先ず該
液排出真空装置をスタート状態或いはその他の実施方法
の最後の状態とし、洗浄容器２１内に洗浄液を注入して
満たす。上槽バルブ１３をオンにし、低位容器バルブ３
３をオフにし、入液装置２３内に連結された上槽導管１
２のバルブスイッチをオンにし、出液装置２４内に連結
された低位容器導管３２のバルブスイッチをオンにし、
重力や大気圧、或いは洗浄容器２１が真空であることよ
り、洗浄液は該上槽１１より該洗浄容器２１に注入また
は吸入されて該上槽導管１２、洗浄容器２１、低位容器
導管３２に充満する。洗浄容器２１にて真空状態を発生
させるには、該上槽バルブ１３はオフ、低位容器バルブ
３３をオンにし、洗浄容器２１内の洗浄液が該低位容器
３１内に流入し、洗浄液が静止した高度は低位容器液面
３４の圧力が該比重の洗浄液の高度を受け、即ち洗浄容
器２１内の洗浄液が該低位容器３１内の流入し、低位容
器液面３４を上昇させることで圧力が上がって洗浄液高
度のバランスを支え、状況に応じて更に該入液装置２３
内に連結された上槽導管１２のバルブをオフにし、出液
装置２４内に連結された低位容器導管３２のバルブをオ
フにし、こうすることで該洗浄容器を真空にする。該低
位容器３１の余分な洗浄液を排出し、液面の圧力を下げ
るには、先ず該洗浄容器２１に真空状態を発生させた
後、該上槽導管１２、洗浄容器２１、低位容器導管３２
の洗浄液の全部或いは部分が該低位容器３１内に流れ込
むことで、該低位容器液面３４の高度が増加し、同時に
液面の圧力が上がり、該低位容器バルブ３３をオフに
し、ポンプバルブ５４をオンにし、液抽出ポンプ５３を
低位容器３１内の洗浄液を該通常の圧力の後置処理槽５
１にまで抽出し、該低位容器液面３４圧力が設定の圧力
になったら、該ポンプバルブをオフにする。こうして洗
浄容器２１が一度の真空法の過程を終了して順調に次の
過程を進めることができるようにする。
【００２０】図１に示すように、洗浄液を通常の圧力回
収容器に流入させる方法において、先ず該入液装置２３
に設けた通気バルブで大気を該洗浄容器に進入させ、出
液装置２４に設けたバルブと通常の圧力回収容器の導管
とを相互に連結させる。更に該入液装置２３の通気バル
ブをオンにし、該洗浄容器２１内の圧力を通常の圧力に
し、該出液装置２４と該通常の圧力回収容器に連結され
たバルブをオンにし、該洗浄容器２１内の洗浄液を該通
常の圧力回収容器に流入させ、該洗浄容器２１内の洗浄
液を完全に排出した後、該入液装置２３の通気バルブを
オフにし、出液装置２４と通常の圧力回収容器に連結す
るバルブをオフにする。
収容器に流入させる方法において、先ず該入液装置２３
に設けた通気バルブで大気を該洗浄容器に進入させ、出
液装置２４に設けたバルブと通常の圧力回収容器の導管
とを相互に連結させる。更に該入液装置２３の通気バル
ブをオンにし、該洗浄容器２１内の圧力を通常の圧力に
し、該出液装置２４と該通常の圧力回収容器に連結され
たバルブをオンにし、該洗浄容器２１内の洗浄液を該通
常の圧力回収容器に流入させ、該洗浄容器２１内の洗浄
液を完全に排出した後、該入液装置２３の通気バルブを
オフにし、出液装置２４と通常の圧力回収容器に連結す
るバルブをオフにする。
【００２１】図２に示すように、洗浄、真空乾燥の装置
における配置説明図では、液排出真空装置と、該液排出
真空装置により真空状態となる真空容器２５、並びに洗
浄液を蒸発或いは昇華させる熱制御装置６０、蒸気を凝
結させる放熱装置８０、並びに導管等と連結されている
補助装置等より構成される。該液排出真空装置は、該入
液装置２３と出液装置２４の着脱式コネクタにより、該
洗浄容器とは別の真空容器２５とし、また該洗浄容器２
１A，２１Bはウェット式洗浄，ドライ式洗浄、真空熱乾
燥、真空冷凍乾燥、クリーンな洗浄液の回収等の多くの
用途に利用される。液排出により真空となった洗浄容器
２１Aは、導管で液排出真空により真空となったもう一
つの洗浄容器２１Bと相互に連結され、導管の適当な個
所には放熱装置８０が設置されており、気体の洗浄液を
凝結させて液体の洗浄液にするものである。液排出によ
り真空装置となった洗浄容器２１A，２１Bは導管で液排
出によって真空となった真空容器２５と相互に連結され
ており、導管の適当な個所には放熱装置８０が設置され
ており、気体である洗浄液を凝結させて液体の洗浄液と
する。液排出により真空装置となった洗浄容器２１A，
２１Bには放熱装置８０が設けられ、洗浄容器内の気体
である洗浄液を凝結させて液体或いは固体の洗浄液とす
る。液排出により真空装置となった洗浄容器２１A，２
１Bには熱制御装置６０が設けられ、洗浄容器内の液体
の洗浄液を蒸発、或いは昇華させて固体の洗浄液とす
る。空気を溶存しない洗浄液及び液排出により真空とな
った洗浄容器内には、即ち空気圧力及び洗浄液の蒸気圧
力が非常に少量であり、こうすることで空気圧力が工程
に与える影響を極力抑え、一般の液体の沸点が圧力に伴
って降下する特性を利用し、並びに温度差によって作ら
れる飽和蒸気の圧力差で、真空洗浄容器内の液体が蒸発
熱を吸収し、発生した蒸気が真空容器２５に連結された
放熱装置８０に向かって流動し、凝結して低温となった
クリーンな洗浄液が真空容器２５に回収される。本装置
は真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、洗浄液や廃溶液の回
収、中度の真空状態の発生、低空気溶解等の実施法中で
利用される。
における配置説明図では、液排出真空装置と、該液排出
真空装置により真空状態となる真空容器２５、並びに洗
浄液を蒸発或いは昇華させる熱制御装置６０、蒸気を凝
結させる放熱装置８０、並びに導管等と連結されている
補助装置等より構成される。該液排出真空装置は、該入
液装置２３と出液装置２４の着脱式コネクタにより、該
洗浄容器とは別の真空容器２５とし、また該洗浄容器２
１A，２１Bはウェット式洗浄，ドライ式洗浄、真空熱乾
燥、真空冷凍乾燥、クリーンな洗浄液の回収等の多くの
用途に利用される。液排出により真空となった洗浄容器
２１Aは、導管で液排出真空により真空となったもう一
つの洗浄容器２１Bと相互に連結され、導管の適当な個
所には放熱装置８０が設置されており、気体の洗浄液を
凝結させて液体の洗浄液にするものである。液排出によ
り真空装置となった洗浄容器２１A，２１Bは導管で液排
出によって真空となった真空容器２５と相互に連結され
ており、導管の適当な個所には放熱装置８０が設置され
ており、気体である洗浄液を凝結させて液体の洗浄液と
する。液排出により真空装置となった洗浄容器２１A，
２１Bには放熱装置８０が設けられ、洗浄容器内の気体
である洗浄液を凝結させて液体或いは固体の洗浄液とす
る。液排出により真空装置となった洗浄容器２１A，２
１Bには熱制御装置６０が設けられ、洗浄容器内の液体
の洗浄液を蒸発、或いは昇華させて固体の洗浄液とす
る。空気を溶存しない洗浄液及び液排出により真空とな
った洗浄容器内には、即ち空気圧力及び洗浄液の蒸気圧
力が非常に少量であり、こうすることで空気圧力が工程
に与える影響を極力抑え、一般の液体の沸点が圧力に伴
って降下する特性を利用し、並びに温度差によって作ら
れる飽和蒸気の圧力差で、真空洗浄容器内の液体が蒸発
熱を吸収し、発生した蒸気が真空容器２５に連結された
放熱装置８０に向かって流動し、凝結して低温となった
クリーンな洗浄液が真空容器２５に回収される。本装置
は真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、洗浄液や廃溶液の回
収、中度の真空状態の発生、低空気溶解等の実施法中で
利用される。
【００２２】図２に示すように、洗浄、真空乾燥の部分
の装置を利用し、ドライ式洗浄に使用した低圧気体を回
収する方法においては、先ず洗浄容器２１Bと真空容器
２５を連結させるが、該真空容器２５と入液装置２３の
バルブを導管で相互に連結させ、次に洗浄容器２１Bと
気体容器２６とを該気体容器２６と入液装置２３のバル
ブ導管によって相互に連結させる。液排出により真空と
なる装置をスタート状態にし、液排出減圧法を実施して
該洗浄容器２１Bを真空状態とする、或いはその他の方
法の最後の状態で洗浄容器２１Bを真空状態とする。気
体を該洗浄容器２１B内に注入し、該入液装置２３上に
連結された該気体容器２６のバルブスイッチをオンに
し、気体を該洗浄容器２１Bに適当に注入したら、該バ
ルブをオフにする。該洗浄容器２１Bを該気体が充満し
た低圧容器とする。該気体洗浄容器２１B内の低圧気体
を排出する方法においては、ドライ式洗浄が完了した
後、該入液装置２３上に接続された真空容器２５のバル
ブをオンにし、該出液装置２４上に連結された排気導管
１４のバルブをオンにし、該洗浄液を下から上へと該洗
浄溶液２１B内に注入し、該洗浄容器２１Bの液面の上昇
に伴い、該真空容器２５は該洗浄容器２１B内の低圧気
体が完全に回収されるのを待ち、入液装置２３上に連結
された真空容器２５のバルブをオフにし、該洗浄容器２
１B内の低圧気体が完全に真空容器２５内に回収される
のを待つ。
の装置を利用し、ドライ式洗浄に使用した低圧気体を回
収する方法においては、先ず洗浄容器２１Bと真空容器
２５を連結させるが、該真空容器２５と入液装置２３の
バルブを導管で相互に連結させ、次に洗浄容器２１Bと
気体容器２６とを該気体容器２６と入液装置２３のバル
ブ導管によって相互に連結させる。液排出により真空と
なる装置をスタート状態にし、液排出減圧法を実施して
該洗浄容器２１Bを真空状態とする、或いはその他の方
法の最後の状態で洗浄容器２１Bを真空状態とする。気
体を該洗浄容器２１B内に注入し、該入液装置２３上に
連結された該気体容器２６のバルブスイッチをオンに
し、気体を該洗浄容器２１Bに適当に注入したら、該バ
ルブをオフにする。該洗浄容器２１Bを該気体が充満し
た低圧容器とする。該気体洗浄容器２１B内の低圧気体
を排出する方法においては、ドライ式洗浄が完了した
後、該入液装置２３上に接続された真空容器２５のバル
ブをオンにし、該出液装置２４上に連結された排気導管
１４のバルブをオンにし、該洗浄液を下から上へと該洗
浄溶液２１B内に注入し、該洗浄容器２１Bの液面の上昇
に伴い、該真空容器２５は該洗浄容器２１B内の低圧気
体が完全に回収されるのを待ち、入液装置２３上に連結
された真空容器２５のバルブをオフにし、該洗浄容器２
１B内の低圧気体が完全に真空容器２５内に回収される
のを待つ。
【００２３】図３に示すように、各構成物件と洗浄、真
空乾燥の装置は相同であり、その特徴とは洗浄、真空乾
燥の装置の複数個の洗浄容器が真空バルブで相互に連結
されており、コンベア装置によって加工物が運ばれるこ
とによる一貫した多槽の洗浄、真空乾燥の装置であるこ
とである。引き続き図３に示すように、該洗浄容器８２
１Bと８２１Cのスタート時の状態は、空気を溶存しない
洗浄液、液排出減圧法により真空となった洗浄容器であ
る。その方法とは、先ず新しい加工物が通常の圧力の洗
浄容器８２１Aに位置させる際、先ず真空バルブAを開
け、コンベア装置で該加工物を該洗浄容器８２１Aに送
り、真空バルブAを閉じる。該洗浄容器８２１A内で該加
工物に対して工程を完了する際は、先ず該空気を溶存し
ない洗浄液で液排出減圧法を実施し、該洗浄容器８２１
Aを真空状態にし、真空バルブBを開け、コンベア装置で
該加工物を真空洗浄容器８２１Bに送り、該真空バルブB
を閉じる。全部の過程が完了した加工物は、洗浄容器８
２１Cが通常の圧力であるという条件の下、真空バルブD
を開けて該加工物を送り出し、更に空気を溶存しない洗
浄液と液排出減圧法で洗浄容器８２１Cを真空状態にす
る。図４に示すように、真空乾燥の空間部分における空
気を溶存しない洗浄液の方法とその配置説明図において
は、先ず液排出減圧法で洗浄容器２１内を真空にし、洗
浄液の静止液面高度が該洗浄容器２１内にて該放熱装置
６０を覆う位置にて止める。一般に液体は沸点が圧力の
低下に伴って降下することより、該熱制御装置６０が導
入する熱エネルギーは低温で気化させるに十分な余剰の
熱エネルギーとなる。また液面断面積の比較的大きな洗
浄容器２１で以って洗浄液の揮発を促し、通常の圧力の
回収容器９５と出液装置２４のバルブを導管で相互に連
結させる。その実施方法は、真空乾燥の装置の液排出真
空装置をスタート状態に設定、或いはその他の実施法の
最後の状態において、該低位容器３１により設定する液
面圧力を洗浄液静止の高度が洗浄容器２１内で該熱制御
装置６０を覆うようにし、更に液排出減圧法で該洗浄容
器２１上部空間を真空にする。熱制御装置６０で該洗浄
容器２１の洗浄液を加熱し、洗浄容器２１内の圧力がも
う上がらなくなるまで液面を沸騰状態にする。入液装置
２３上のバルブをオンにし、洗浄容器２１を通常の圧力
に回復させ、通常の圧力回収容器９５と該出液装置２４
とを相互に連結するバルブをオンにし、空気を溶存しな
い洗浄液を通常の圧力回収容器９５に排出させ、更に該
入液装置２３上のバルブをオフにし、通常の圧力の回収
器９５と出液装置２４とを相互に連結するバルブをオフ
にする。
空乾燥の装置は相同であり、その特徴とは洗浄、真空乾
燥の装置の複数個の洗浄容器が真空バルブで相互に連結
されており、コンベア装置によって加工物が運ばれるこ
とによる一貫した多槽の洗浄、真空乾燥の装置であるこ
とである。引き続き図３に示すように、該洗浄容器８２
１Bと８２１Cのスタート時の状態は、空気を溶存しない
洗浄液、液排出減圧法により真空となった洗浄容器であ
る。その方法とは、先ず新しい加工物が通常の圧力の洗
浄容器８２１Aに位置させる際、先ず真空バルブAを開
け、コンベア装置で該加工物を該洗浄容器８２１Aに送
り、真空バルブAを閉じる。該洗浄容器８２１A内で該加
工物に対して工程を完了する際は、先ず該空気を溶存し
ない洗浄液で液排出減圧法を実施し、該洗浄容器８２１
Aを真空状態にし、真空バルブBを開け、コンベア装置で
該加工物を真空洗浄容器８２１Bに送り、該真空バルブB
を閉じる。全部の過程が完了した加工物は、洗浄容器８
２１Cが通常の圧力であるという条件の下、真空バルブD
を開けて該加工物を送り出し、更に空気を溶存しない洗
浄液と液排出減圧法で洗浄容器８２１Cを真空状態にす
る。図４に示すように、真空乾燥の空間部分における空
気を溶存しない洗浄液の方法とその配置説明図において
は、先ず液排出減圧法で洗浄容器２１内を真空にし、洗
浄液の静止液面高度が該洗浄容器２１内にて該放熱装置
６０を覆う位置にて止める。一般に液体は沸点が圧力の
低下に伴って降下することより、該熱制御装置６０が導
入する熱エネルギーは低温で気化させるに十分な余剰の
熱エネルギーとなる。また液面断面積の比較的大きな洗
浄容器２１で以って洗浄液の揮発を促し、通常の圧力の
回収容器９５と出液装置２４のバルブを導管で相互に連
結させる。その実施方法は、真空乾燥の装置の液排出真
空装置をスタート状態に設定、或いはその他の実施法の
最後の状態において、該低位容器３１により設定する液
面圧力を洗浄液静止の高度が洗浄容器２１内で該熱制御
装置６０を覆うようにし、更に液排出減圧法で該洗浄容
器２１上部空間を真空にする。熱制御装置６０で該洗浄
容器２１の洗浄液を加熱し、洗浄容器２１内の圧力がも
う上がらなくなるまで液面を沸騰状態にする。入液装置
２３上のバルブをオンにし、洗浄容器２１を通常の圧力
に回復させ、通常の圧力回収容器９５と該出液装置２４
とを相互に連結するバルブをオンにし、空気を溶存しな
い洗浄液を通常の圧力回収容器９５に排出させ、更に該
入液装置２３上のバルブをオフにし、通常の圧力の回収
器９５と出液装置２４とを相互に連結するバルブをオフ
にする。
【００２４】図５に示すように、本発明において洗浄、
真空乾燥の部分の装置で洗浄液及び廃溶液を回収する工
程においては、液排出減圧法によって二つの洗浄容器を
真空状態にし、並びに一般に液体の沸点が圧力の下降に
伴って下がること、更に液体飽和通常の圧力が温度の降
下に伴って低まり、圧力差を生むことなどの特性、及び
二つの作業温度が異なる真空容器の蒸気圧力間に圧力差
が発生することを利用し、洗浄液及び廃溶液を回収す
る。先ず一つの洗浄容器を洗浄液或いは廃溶液を蒸発さ
せる蒸発槽１２１とし、もう一つの洗浄容器をクリーン
な洗浄液或いは溶液の回収槽２２１とする。一般の液体
の沸点が圧力の降下に伴って低下することを利用し、該
蒸発槽１２１底部の適当な個所の熱制御装置６０が導入
する熱エネルギーは低温で気化させるに十分な余剰の熱
エネルギーとなる。該蒸発槽１２１の入液装置１２３と
回収槽２２１の入液装置２２３は凝結導管８２で相互に
連結され、該凝結導管８２中間の適当な個所には放熱装
置（コンデンサー）８０が設けられており、蒸気を凝結
させて液体とする。また通常の圧力の回収容器と回収槽
２２１の出液装置２２４のバルブが相互に連結される。
該蒸発槽１２１の蒸発の過程においては、その装置の上
槽１１１が適時に回収を待つ洗浄液や廃溶液の補充をし
ており、こうすることで蒸発槽１２１の液面高度を保っ
ている。該蒸発槽１２１の温度は該回収槽２２１の温度
より高く、該熱制御装置６０の温度は洗浄液の気化線上
にある。回収を待つ洗浄液或いは廃溶液には溶解した空
気を含み、該蒸発槽１２１と回収槽２２１の圧力差が縮
小され、空気を溶存しない洗浄液の方法により回収を待
つ洗浄液或いは廃溶液内に溶解している空気が除去され
る。その実施法とは、該蒸発槽２２１の液排出真空装置
をスタートし、低位容器１３１に向けて排出されること
により設定される洗浄液或いは廃溶液液面の静止の高度
が該蒸発槽１２１内にて熱制御装置６０を覆う位置まで
低下させて減圧する。回収槽２２１の液排出真空装置を
スタートし、その低位容器２３１により設定される液面
圧力を、該回収槽２２１の全部が真空状態となるように
する。このようにして、該蒸発槽１２１の液排出真空装
置は回収を待つ洗浄液或いは廃溶液を使用し、液排出減
圧法で該蒸発槽１２１の空間部分を真空状態にする。ま
た、該回収槽２２１の液排出真空装置は低温でクリーン
な洗浄液或いは溶液により、液排出減圧法で回収槽２２
１の全部が真空状態となるようにする。凝結導管８２と
連結される蒸発槽１２１の入液装置１２３のバルブ１２
３をオンにし、凝結導管８２の連結される回収槽２２１
の入液装置２２３のバルブをオンにし、熱制御装置６０
で該蒸発槽１２１内の回収を待つ洗浄液或いは廃溶液を
加熱し、回収を待つ洗浄液或いは廃溶液に蒸発熱を吸収
させて蒸発させ、該回収槽１２１の温度差で飽和蒸気の
圧力差を生み、該蒸発槽１２１で蒸発する気体が該凝結
導管８２及び放熱装置８０の方向に拡散するようにし、
並びに凝結して低温、クリーンな洗浄液あるいは溶液が
該回収槽２２１に流入する。該回収槽２２１内との圧力
が平衡状態になったとき、該回収槽２２１の入液装置２
２３と凝結導管８２に連結されているバルブをオフに
し、該回収槽２２１の入液装置２２３のバルブをオンに
し、該回収槽２２１を通常の圧力に回復させ、通常の圧
力の回収装置と回収槽２２１の出液装置２２４が相互に
連結されているバルブをオンにし、クリーンな洗浄液或
いは溶液が該通常の圧力の回収容器に排出されるように
し、該回収槽２２１の入液装置２２３上のバルブをオフ
にし、再び、液排出減圧法で該回収槽２２１の全部を真
空容器にし、該回収槽２２１の入液装置２２３と凝結導
管８２とを連結するバルブをオンにし、続けて該洗浄液
や溶液を回収するようにする。
真空乾燥の部分の装置で洗浄液及び廃溶液を回収する工
程においては、液排出減圧法によって二つの洗浄容器を
真空状態にし、並びに一般に液体の沸点が圧力の下降に
伴って下がること、更に液体飽和通常の圧力が温度の降
下に伴って低まり、圧力差を生むことなどの特性、及び
二つの作業温度が異なる真空容器の蒸気圧力間に圧力差
が発生することを利用し、洗浄液及び廃溶液を回収す
る。先ず一つの洗浄容器を洗浄液或いは廃溶液を蒸発さ
せる蒸発槽１２１とし、もう一つの洗浄容器をクリーン
な洗浄液或いは溶液の回収槽２２１とする。一般の液体
の沸点が圧力の降下に伴って低下することを利用し、該
蒸発槽１２１底部の適当な個所の熱制御装置６０が導入
する熱エネルギーは低温で気化させるに十分な余剰の熱
エネルギーとなる。該蒸発槽１２１の入液装置１２３と
回収槽２２１の入液装置２２３は凝結導管８２で相互に
連結され、該凝結導管８２中間の適当な個所には放熱装
置（コンデンサー）８０が設けられており、蒸気を凝結
させて液体とする。また通常の圧力の回収容器と回収槽
２２１の出液装置２２４のバルブが相互に連結される。
該蒸発槽１２１の蒸発の過程においては、その装置の上
槽１１１が適時に回収を待つ洗浄液や廃溶液の補充をし
ており、こうすることで蒸発槽１２１の液面高度を保っ
ている。該蒸発槽１２１の温度は該回収槽２２１の温度
より高く、該熱制御装置６０の温度は洗浄液の気化線上
にある。回収を待つ洗浄液或いは廃溶液には溶解した空
気を含み、該蒸発槽１２１と回収槽２２１の圧力差が縮
小され、空気を溶存しない洗浄液の方法により回収を待
つ洗浄液或いは廃溶液内に溶解している空気が除去され
る。その実施法とは、該蒸発槽２２１の液排出真空装置
をスタートし、低位容器１３１に向けて排出されること
により設定される洗浄液或いは廃溶液液面の静止の高度
が該蒸発槽１２１内にて熱制御装置６０を覆う位置まで
低下させて減圧する。回収槽２２１の液排出真空装置を
スタートし、その低位容器２３１により設定される液面
圧力を、該回収槽２２１の全部が真空状態となるように
する。このようにして、該蒸発槽１２１の液排出真空装
置は回収を待つ洗浄液或いは廃溶液を使用し、液排出減
圧法で該蒸発槽１２１の空間部分を真空状態にする。ま
た、該回収槽２２１の液排出真空装置は低温でクリーン
な洗浄液或いは溶液により、液排出減圧法で回収槽２２
１の全部が真空状態となるようにする。凝結導管８２と
連結される蒸発槽１２１の入液装置１２３のバルブ１２
３をオンにし、凝結導管８２の連結される回収槽２２１
の入液装置２２３のバルブをオンにし、熱制御装置６０
で該蒸発槽１２１内の回収を待つ洗浄液或いは廃溶液を
加熱し、回収を待つ洗浄液或いは廃溶液に蒸発熱を吸収
させて蒸発させ、該回収槽１２１の温度差で飽和蒸気の
圧力差を生み、該蒸発槽１２１で蒸発する気体が該凝結
導管８２及び放熱装置８０の方向に拡散するようにし、
並びに凝結して低温、クリーンな洗浄液あるいは溶液が
該回収槽２２１に流入する。該回収槽２２１内との圧力
が平衡状態になったとき、該回収槽２２１の入液装置２
２３と凝結導管８２に連結されているバルブをオフに
し、該回収槽２２１の入液装置２２３のバルブをオンに
し、該回収槽２２１を通常の圧力に回復させ、通常の圧
力の回収装置と回収槽２２１の出液装置２２４が相互に
連結されているバルブをオンにし、クリーンな洗浄液或
いは溶液が該通常の圧力の回収容器に排出されるように
し、該回収槽２２１の入液装置２２３上のバルブをオフ
にし、再び、液排出減圧法で該回収槽２２１の全部を真
空容器にし、該回収槽２２１の入液装置２２３と凝結導
管８２とを連結するバルブをオンにし、続けて該洗浄液
や溶液を回収するようにする。
【００２５】図６に示すように、本発明において装置の
洗浄、真空乾燥の工程で真空加熱乾燥法を実施する際
は、一般に液体の沸点が圧力の下降に伴って下がるこ
と、並びに液体の飽和蒸気圧力が温度の下降に伴って圧
力差を生むことなどの特性及び二つの作業温度が異なる
真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発生することを利用
し、加工物を乾燥させる。上述に倣い、洗浄容器３２１
内底部の適当な個所に熱制御装置６０を設けると、導入
される熱エネルギーは低温で気化させる熱エネルギーで
よく或いは余熱で足りる。真空容器２５と入液装置３２
３のバルブは凝結導管８２によって相互に連結されてお
り、凝結導管８２中の適当な個所には放熱装置８０が設
けられ、蒸気を凝結させて液体にする。熱制御装置６０
の温度は洗浄液の気化線上に位置し、また該洗浄容器３
２１の温度は該真空容器２５の温度より高いものとす
る。実施の方法は、先ず洗浄、真空乾燥装置の液排出真
空装置をスタート時状態にセットし、液排出減圧法を実
施して該洗浄容器３２１を真空にする、或いはその他の
実施法の最後の状態によって該洗浄容器３２１を真空状
態にする。該凝結導管８０に連結された洗浄容器３２１
の入液装置３２３のバルブをオンにし、熱制御装置６０
で洗浄容器３２１内に残留する加工物９０表面の洗浄液
を加熱し、該残留する洗浄液が蒸発熱を吸収して蒸発す
るようにし、洗浄容器３２１と真空容器２５の温度差に
よって飽和蒸気の圧力差が生まれ、該洗浄容器３２１の
蒸発する気体が該凝結導管８２及び放熱装置８０の方向
に向かって拡散し、且つ凝結して低温、クリーンとなっ
た洗浄液が該真空容器２５に流入して回収される。最後
に該洗浄容器３２１の圧力がもう上がらないとき、真空
加熱乾燥が終了する。
洗浄、真空乾燥の工程で真空加熱乾燥法を実施する際
は、一般に液体の沸点が圧力の下降に伴って下がるこ
と、並びに液体の飽和蒸気圧力が温度の下降に伴って圧
力差を生むことなどの特性及び二つの作業温度が異なる
真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発生することを利用
し、加工物を乾燥させる。上述に倣い、洗浄容器３２１
内底部の適当な個所に熱制御装置６０を設けると、導入
される熱エネルギーは低温で気化させる熱エネルギーで
よく或いは余熱で足りる。真空容器２５と入液装置３２
３のバルブは凝結導管８２によって相互に連結されてお
り、凝結導管８２中の適当な個所には放熱装置８０が設
けられ、蒸気を凝結させて液体にする。熱制御装置６０
の温度は洗浄液の気化線上に位置し、また該洗浄容器３
２１の温度は該真空容器２５の温度より高いものとす
る。実施の方法は、先ず洗浄、真空乾燥装置の液排出真
空装置をスタート時状態にセットし、液排出減圧法を実
施して該洗浄容器３２１を真空にする、或いはその他の
実施法の最後の状態によって該洗浄容器３２１を真空状
態にする。該凝結導管８０に連結された洗浄容器３２１
の入液装置３２３のバルブをオンにし、熱制御装置６０
で洗浄容器３２１内に残留する加工物９０表面の洗浄液
を加熱し、該残留する洗浄液が蒸発熱を吸収して蒸発す
るようにし、洗浄容器３２１と真空容器２５の温度差に
よって飽和蒸気の圧力差が生まれ、該洗浄容器３２１の
蒸発する気体が該凝結導管８２及び放熱装置８０の方向
に向かって拡散し、且つ凝結して低温、クリーンとなっ
た洗浄液が該真空容器２５に流入して回収される。最後
に該洗浄容器３２１の圧力がもう上がらないとき、真空
加熱乾燥が終了する。
【００２６】図７に示すように、本発明において装置の
洗浄、真空乾燥の工程で真空冷凍乾燥を行う際は、空気
を溶存しない洗浄液と液排出減圧法により、洗浄容器に
真空状態を発生させ、熱制御装置と放熱装置により温度
を制御して加工物を乾燥させる。先ず該熱制御装置６０
は該乾燥を待つ加工物９０の温度をその成分の最低共融
点以下の温度にまで下降させ、昇華の過程において該法
加熱が該乾燥を待つ加工物９０の昇華用に提供されるよ
うにする。放熱装置８０で該昇華した蒸気が再び凝結し
て固体となり、該洗浄容器５２１内の圧力を昇華温度の
飽和蒸気圧力より低くする。該熱制御装置６０と放熱装
置８０の温度範囲は使用する洗浄液の昇華線上に位置す
る。その実施法とは、先ず洗浄、真空乾燥装置の液排出
真空装置をスタート時の状態にし、空気を溶存しない洗
浄液で液排出減圧法を実施して真空にする、或いはその
他の実施法の最後の状態で該洗浄容器５２１を真空状態
とする。熱制御装置６０を起動させ、乾燥を待つ加工物
９０がその成分物質の最低共融点以下の温度にまで下が
るようにし、放熱装置８０を起動させて蒸発熱を提供
し、該洗浄容器５２１内に残留する洗浄液を蒸発させ、
該洗浄容器５２１内の蒸気圧力が該熱制御装置６０の設
定する温度の飽和蒸気圧力より大きくなるようにする。
乾燥を待つ加工物９０がその成分物質の最低共通融点以
下の温度になるとき、該熱制御装置６０が昇華温度を設
定し、乾燥を待つ加工物９０内の固体洗浄液を昇華さ
せ、放熱装置８０で該昇華した気体の洗浄液を凝固させ
て固体の洗浄液とし、該洗浄容器５２１内の圧力を該昇
華温度の飽和蒸気圧力より低く保つ。
洗浄、真空乾燥の工程で真空冷凍乾燥を行う際は、空気
を溶存しない洗浄液と液排出減圧法により、洗浄容器に
真空状態を発生させ、熱制御装置と放熱装置により温度
を制御して加工物を乾燥させる。先ず該熱制御装置６０
は該乾燥を待つ加工物９０の温度をその成分の最低共融
点以下の温度にまで下降させ、昇華の過程において該法
加熱が該乾燥を待つ加工物９０の昇華用に提供されるよ
うにする。放熱装置８０で該昇華した蒸気が再び凝結し
て固体となり、該洗浄容器５２１内の圧力を昇華温度の
飽和蒸気圧力より低くする。該熱制御装置６０と放熱装
置８０の温度範囲は使用する洗浄液の昇華線上に位置す
る。その実施法とは、先ず洗浄、真空乾燥装置の液排出
真空装置をスタート時の状態にし、空気を溶存しない洗
浄液で液排出減圧法を実施して真空にする、或いはその
他の実施法の最後の状態で該洗浄容器５２１を真空状態
とする。熱制御装置６０を起動させ、乾燥を待つ加工物
９０がその成分物質の最低共融点以下の温度にまで下が
るようにし、放熱装置８０を起動させて蒸発熱を提供
し、該洗浄容器５２１内に残留する洗浄液を蒸発させ、
該洗浄容器５２１内の蒸気圧力が該熱制御装置６０の設
定する温度の飽和蒸気圧力より大きくなるようにする。
乾燥を待つ加工物９０がその成分物質の最低共通融点以
下の温度になるとき、該熱制御装置６０が昇華温度を設
定し、乾燥を待つ加工物９０内の固体洗浄液を昇華さ
せ、放熱装置８０で該昇華した気体の洗浄液を凝固させ
て固体の洗浄液とし、該洗浄容器５２１内の圧力を該昇
華温度の飽和蒸気圧力より低く保つ。
【００２７】図８に示すように、本発明における一貫し
た多槽の洗浄、真空乾燥の装置で真空冷凍乾燥を実施す
る方法は、先ず空気を溶存しない洗浄液及び液排出減圧
法で、各洗浄容器を真空にし、予冷及び昇華凝固の交互
の温度制御によって加工物を乾燥させる。先ず洗浄容器
５２１A，５２１B，５２１Cは真空バルブA，B，C，Dで
連結され、洗浄容器５２１Aで乾燥を待つ加工物９０を
洗浄した後に予冷し、洗浄容器５２１Bでは真空冷凍乾
燥法を実施し、洗浄容器５２１Cでは乾燥した加工物９
０を送り出す。具体的な実施法は、先ず乾燥を待つ加工
物９０を該洗浄容器５２１A内で洗浄し、更に通常の圧
力の下で熱制御装置６０Aを起動させ、乾燥を待つ加工
物９０を予冷処理し、更に低温で空気を溶存しない洗浄
液と液排出減圧法で該洗浄容器５２１Aを真空状態にす
る。真空バルブBを開けて乾燥を待つ加工物９０を該真
空洗浄容器５２１Bに送り、該真空バルブBを閉めて真空
冷凍乾燥法を実施する。加工物９０の乾燥を完了した
後、該真空バルブCを開け、既に乾燥した該加工物９０
を該真空洗浄容器５２１Cに入れた後、該真空バルブCを
開け、該洗浄容器５２１Cを通常の圧力に回復させ、既
に乾燥した加工物９０を送り出し、並びに再度空気を溶
存しない洗浄液と液排出減圧法で洗浄容器に真空状態を
発生させる。
た多槽の洗浄、真空乾燥の装置で真空冷凍乾燥を実施す
る方法は、先ず空気を溶存しない洗浄液及び液排出減圧
法で、各洗浄容器を真空にし、予冷及び昇華凝固の交互
の温度制御によって加工物を乾燥させる。先ず洗浄容器
５２１A，５２１B，５２１Cは真空バルブA，B，C，Dで
連結され、洗浄容器５２１Aで乾燥を待つ加工物９０を
洗浄した後に予冷し、洗浄容器５２１Bでは真空冷凍乾
燥法を実施し、洗浄容器５２１Cでは乾燥した加工物９
０を送り出す。具体的な実施法は、先ず乾燥を待つ加工
物９０を該洗浄容器５２１A内で洗浄し、更に通常の圧
力の下で熱制御装置６０Aを起動させ、乾燥を待つ加工
物９０を予冷処理し、更に低温で空気を溶存しない洗浄
液と液排出減圧法で該洗浄容器５２１Aを真空状態にす
る。真空バルブBを開けて乾燥を待つ加工物９０を該真
空洗浄容器５２１Bに送り、該真空バルブBを閉めて真空
冷凍乾燥法を実施する。加工物９０の乾燥を完了した
後、該真空バルブCを開け、既に乾燥した該加工物９０
を該真空洗浄容器５２１Cに入れた後、該真空バルブCを
開け、該洗浄容器５２１Cを通常の圧力に回復させ、既
に乾燥した加工物９０を送り出し、並びに再度空気を溶
存しない洗浄液と液排出減圧法で洗浄容器に真空状態を
発生させる。
【００２８】図９に示すように、本発明において洗浄，
真空乾燥の部分装置を利用し、容器を中度の真空状態に
させる際、空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧法で二
つの洗浄容器を真空状態にし、更に一般に液体の沸点が
圧力の低下に伴って下がる性質と、液体が飽和蒸気圧力
の下降に伴って下がり圧力差を生む特性及び二つの作業
温度が異なる真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発生する
ことを利用し、中度の真空容器とする。先ず真空洗浄容
器を真空容器２５とし、これに設置された上槽導管１２
及び低位容器導管３２とを分け、独立した真空容器２５
とする。該真空容器２５外部の熱制御装置６０は該真空
用意２５の真空の度合いの必要に応じて、必要な温度を
提供する。真空容器２５ともう一つの洗浄容器２１は凝
結導管８２で連結されており、凝結導管８２中間の適当
な個所には放熱装置８０が設けられ、蒸気を凝結させて
液体にする。該熱制御装置６０の温度は該洗浄液の気化
線上にあり、また真空容器２５の温度は該洗浄容器２１
の温度より高くする。その実施法とは、先ず真空容器２
５と洗浄容器２１の液排出真空装置をスタート時の状態
に設定し、空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧法で真
空容器２５と洗浄容器２１を真空にする。熱制御装置６
０では真空容器２５内に残留する洗浄液を蒸発させ、並
びに該真空容器２５内の蒸気を加熱して乾燥させて蒸気
にし、該真空容器２５と洗浄容器の温度差で圧力差が生
まれるため、真空容器２５で蒸発する気体を凝結導管８
２及び放熱装置８０の方向に向かって拡散させ、且つ凝
結させて低温、クリーンな洗浄液を該洗浄容器２１に流
入させて回収する。該真空容器２５の圧力がもう上がら
ないとき、該真空容器２５と液排出真空装置及び凝結導
管８２を分解し、該真空容器２５を冷却し、該真空容器
２５が中度の真空状態に達するようにする。
真空乾燥の部分装置を利用し、容器を中度の真空状態に
させる際、空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧法で二
つの洗浄容器を真空状態にし、更に一般に液体の沸点が
圧力の低下に伴って下がる性質と、液体が飽和蒸気圧力
の下降に伴って下がり圧力差を生む特性及び二つの作業
温度が異なる真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発生する
ことを利用し、中度の真空容器とする。先ず真空洗浄容
器を真空容器２５とし、これに設置された上槽導管１２
及び低位容器導管３２とを分け、独立した真空容器２５
とする。該真空容器２５外部の熱制御装置６０は該真空
用意２５の真空の度合いの必要に応じて、必要な温度を
提供する。真空容器２５ともう一つの洗浄容器２１は凝
結導管８２で連結されており、凝結導管８２中間の適当
な個所には放熱装置８０が設けられ、蒸気を凝結させて
液体にする。該熱制御装置６０の温度は該洗浄液の気化
線上にあり、また真空容器２５の温度は該洗浄容器２１
の温度より高くする。その実施法とは、先ず真空容器２
５と洗浄容器２１の液排出真空装置をスタート時の状態
に設定し、空気を溶存しない洗浄液と液排出減圧法で真
空容器２５と洗浄容器２１を真空にする。熱制御装置６
０では真空容器２５内に残留する洗浄液を蒸発させ、並
びに該真空容器２５内の蒸気を加熱して乾燥させて蒸気
にし、該真空容器２５と洗浄容器の温度差で圧力差が生
まれるため、真空容器２５で蒸発する気体を凝結導管８
２及び放熱装置８０の方向に向かって拡散させ、且つ凝
結させて低温、クリーンな洗浄液を該洗浄容器２１に流
入させて回収する。該真空容器２５の圧力がもう上がら
ないとき、該真空容器２５と液排出真空装置及び凝結導
管８２を分解し、該真空容器２５を冷却し、該真空容器
２５が中度の真空状態に達するようにする。
【００２９】図１０に示すように、本発明において多種
洗浄液及び気体を使用し、ドライ及びウェット洗浄を実
施する際、特に洗浄容器の加工物が多種の洗浄液で連続
して処理されるとき、その装置においては各種洗浄液は
対応した上槽と低位容器が設けられており、該各上槽に
はそれぞれ異なる洗浄液を具有し、設定された洗浄工程
によって洗浄容器内に注入され、加工物に対して洗浄を
行い、液排出減圧法によって該洗浄容器を真空にし、該
洗浄液をそれぞれその属する低位容器に流入させる、或
いは洗浄液を直接その所属する蒸気圧力の回収容器に排
出する。図に示すように、多数の上槽７１１A，７１１
B，７１１Cを具有し、それぞれ上槽導管７１２で洗浄容
器７２１の入液装置７２３に連結させ、各該洗浄液の低
位容器７３１A，７３１B，７３１Cは低位容器導管７３
２A，７３２B，７３２Cと洗浄容器７２１の出液装置７
２４と連結されており、洗浄容器７２１の入液装置７２
３には気体進入バルブが設けられており、該洗浄容器７
２１を通常の圧力に回復させ、洗浄容器の出液装置には
該常圧の回収容器に連結される数個のバルブが設けられ
ており、洗浄液がその属する通常の圧力の回収容器に流
入するようになっている。スタート時状態の操作手順
は、先ず本装置は数個の液体排出装置が一体となったも
のであり、よってそれぞれ洗浄液の比重と低位容器７３
１A，７３１B，７３１Cの容積を計った後、各種洗浄液
のスタート時の操作手順は液排出真空装置のスタート時
の操作手順と同様になる。実施方法は、先ず実際の工程
の状況に応じ、液排出真空法で該洗浄容器７２１を真空
にし、該各低位容器７３１A，７３１B，７３１Cにはそ
れぞれ順に、該洗浄容器が真空状態になった後に洗浄液
が流入し、液抽出ポンプで余分な洗浄液を、その属する
通常の圧力後置処理槽にまで抽出し、その液面圧力を本
来設定した圧力に調整する。その他の実施法について
は、前述による。
洗浄液及び気体を使用し、ドライ及びウェット洗浄を実
施する際、特に洗浄容器の加工物が多種の洗浄液で連続
して処理されるとき、その装置においては各種洗浄液は
対応した上槽と低位容器が設けられており、該各上槽に
はそれぞれ異なる洗浄液を具有し、設定された洗浄工程
によって洗浄容器内に注入され、加工物に対して洗浄を
行い、液排出減圧法によって該洗浄容器を真空にし、該
洗浄液をそれぞれその属する低位容器に流入させる、或
いは洗浄液を直接その所属する蒸気圧力の回収容器に排
出する。図に示すように、多数の上槽７１１A，７１１
B，７１１Cを具有し、それぞれ上槽導管７１２で洗浄容
器７２１の入液装置７２３に連結させ、各該洗浄液の低
位容器７３１A，７３１B，７３１Cは低位容器導管７３
２A，７３２B，７３２Cと洗浄容器７２１の出液装置７
２４と連結されており、洗浄容器７２１の入液装置７２
３には気体進入バルブが設けられており、該洗浄容器７
２１を通常の圧力に回復させ、洗浄容器の出液装置には
該常圧の回収容器に連結される数個のバルブが設けられ
ており、洗浄液がその属する通常の圧力の回収容器に流
入するようになっている。スタート時状態の操作手順
は、先ず本装置は数個の液体排出装置が一体となったも
のであり、よってそれぞれ洗浄液の比重と低位容器７３
１A，７３１B，７３１Cの容積を計った後、各種洗浄液
のスタート時の操作手順は液排出真空装置のスタート時
の操作手順と同様になる。実施方法は、先ず実際の工程
の状況に応じ、液排出真空法で該洗浄容器７２１を真空
にし、該各低位容器７３１A，７３１B，７３１Cにはそ
れぞれ順に、該洗浄容器が真空状態になった後に洗浄液
が流入し、液抽出ポンプで余分な洗浄液を、その属する
通常の圧力後置処理槽にまで抽出し、その液面圧力を本
来設定した圧力に調整する。その他の実施法について
は、前述による。
【００３０】図１１に示すように、本発明を上槽及び下
槽を共用する数個の作業槽に応用した場合、主に上槽６
１１、三つの洗浄容器６２１A，６２１B，６２１C，及
び一つの低位容器槽６３１より構成される。各洗浄容器
の容積は異なり、上槽６１１及び低位容器６３１と各洗
浄容器６２１A，６２１B，６２１Cの連結方法はそれぞ
れ独立した廃液真空装置となるようにする。スタート時
の状態での操作手順は、先ず洗浄液の比重、各洗浄容器
６２１A，６２１B，６２１Cの容積を計り、最大容積の
洗浄容器で下層に対する高度差を設定し、更に低位容器
６３１の液面圧力を計算し、この低位容器６３１の液面
圧力で、更にその他の洗浄容器が下層に相対する高度を
計算する。低位溶液洗浄液を準備する過程においては、
ポンプバルブ６５４をオンにし、気体抽出バルブ６３５
をオンにし、全ての低位容器バルブ６３３をオンにし、
液抽出ポンプ６３５をオフにする。該上槽の洗浄液にお
いては、全ての上槽バルブ６１３をオフにし、該洗浄液
を該上槽６１１に注入して満たし、絶えず洗浄液を注入
してその液面高度を保持する。低位容器液面６３４の圧
力を調整する際は、全ての低位容器バルブ６３３をオフ
にし、液抽出ポンプで低位容器６３１内の洗浄液を通常
の圧力の後置処理槽に抽出し、洗浄容器液面６３４の圧
力が液面下降に伴って低くなり、低位容器液面６３４の
圧力が設定の圧力に達したら、液抽出ポンプ６５３をオ
フにし、並びにポンプバルブ６５４をオフにする。昇降
装置を起動させ、各洗浄容器６２１A，６２１B，６２１
Cを下層との高度差に対応して調整する。実際の工程に
おいては、液排出減圧法で各洗浄容器６２１A，６２１
B，６２１Cで真空状態にし、低位容器６３１で時間を隔
ててそれぞれの洗浄容器を順に真空にし、低位容器６３
１に流入した洗浄液に対し、抽出ポンプ６５３で余分な
洗浄液を通常の圧力の後置処理槽にまで抽出して、該低
位容器６３１の液面圧力を元の設定圧力に回復させる。
槽を共用する数個の作業槽に応用した場合、主に上槽６
１１、三つの洗浄容器６２１A，６２１B，６２１C，及
び一つの低位容器槽６３１より構成される。各洗浄容器
の容積は異なり、上槽６１１及び低位容器６３１と各洗
浄容器６２１A，６２１B，６２１Cの連結方法はそれぞ
れ独立した廃液真空装置となるようにする。スタート時
の状態での操作手順は、先ず洗浄液の比重、各洗浄容器
６２１A，６２１B，６２１Cの容積を計り、最大容積の
洗浄容器で下層に対する高度差を設定し、更に低位容器
６３１の液面圧力を計算し、この低位容器６３１の液面
圧力で、更にその他の洗浄容器が下層に相対する高度を
計算する。低位溶液洗浄液を準備する過程においては、
ポンプバルブ６５４をオンにし、気体抽出バルブ６３５
をオンにし、全ての低位容器バルブ６３３をオンにし、
液抽出ポンプ６３５をオフにする。該上槽の洗浄液にお
いては、全ての上槽バルブ６１３をオフにし、該洗浄液
を該上槽６１１に注入して満たし、絶えず洗浄液を注入
してその液面高度を保持する。低位容器液面６３４の圧
力を調整する際は、全ての低位容器バルブ６３３をオフ
にし、液抽出ポンプで低位容器６３１内の洗浄液を通常
の圧力の後置処理槽に抽出し、洗浄容器液面６３４の圧
力が液面下降に伴って低くなり、低位容器液面６３４の
圧力が設定の圧力に達したら、液抽出ポンプ６５３をオ
フにし、並びにポンプバルブ６５４をオフにする。昇降
装置を起動させ、各洗浄容器６２１A，６２１B，６２１
Cを下層との高度差に対応して調整する。実際の工程に
おいては、液排出減圧法で各洗浄容器６２１A，６２１
B，６２１Cで真空状態にし、低位容器６３１で時間を隔
ててそれぞれの洗浄容器を順に真空にし、低位容器６３
１に流入した洗浄液に対し、抽出ポンプ６５３で余分な
洗浄液を通常の圧力の後置処理槽にまで抽出して、該低
位容器６３１の液面圧力を元の設定圧力に回復させる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によると、真空ポンプを使用しな
いことによりコストが大幅に下げられ、また洗浄や真空
乾燥の装置においては、液排出減圧法によってウェット
式洗浄と真空加熱装置、ウェット式洗浄装置と真空冷凍
乾燥、ウェット式洗浄とドライ式洗浄とが一体となり、
更に熱制御装置と放熱装置とで効果的に空気を溶存しな
い洗浄液、真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、ウェット式洗
浄度絵使用した洗浄液等の廃溶液の回収等が実施でき、
並びに容器を効果的に中度の真空状態にでき、同時にド
ライ式洗浄によって使用した低圧気体の回収も行われて
環境保護の目的が達成された。また、液排出減圧法では
洗浄容器を真空にした後、一般に液体の沸点が圧力の下
降に伴って下がる特性及び二つの作業温度が異なる真空
容器の蒸気圧力間に圧力差が発生することを利用し、真
空加熱乾燥、洗浄液及び廃溶液の回収、容器を中度の真
空状態にする実施法で、低温の熱エネルギーや余熱が導
入されるようになり、エネルギーの節約がここでも達成
された。更には液排出減圧法で該洗浄容器は真空状態に
なった後、非常に少ない空気圧力と洗浄液の蒸気圧力を
含む真空洗浄容器となるため、熱制御装置で低温の熱エ
ネルギー源を導入して真空洗浄容器内の洗浄液とその他
の液体を蒸発させ、更に放熱装置と圧力差の方法によ
り、蒸発した洗浄液或いはその他の蒸気が凝結して液体
となって真空容器内に回収され、真空加熱乾燥、洗浄液
および廃溶液を回収し、中度の真空状態の容器にし、効
果的にコストを削減する目的が達成された。並びに空気
を溶存しない洗浄液と液排出減圧法で洗浄容器を真空に
した後、該洗浄液の蒸気圧力を含む真空洗浄容器とな
り、熱制御装置で該乾燥を待つ物体の温度を調節し、放
熱装置で真空洗浄容器の圧力を制御し、真空冷凍乾燥の
方法でここでも効果的に工程で設備におけるコストを下
げる目的が達成された。
いことによりコストが大幅に下げられ、また洗浄や真空
乾燥の装置においては、液排出減圧法によってウェット
式洗浄と真空加熱装置、ウェット式洗浄装置と真空冷凍
乾燥、ウェット式洗浄とドライ式洗浄とが一体となり、
更に熱制御装置と放熱装置とで効果的に空気を溶存しな
い洗浄液、真空加熱乾燥、真空冷凍乾燥、ウェット式洗
浄度絵使用した洗浄液等の廃溶液の回収等が実施でき、
並びに容器を効果的に中度の真空状態にでき、同時にド
ライ式洗浄によって使用した低圧気体の回収も行われて
環境保護の目的が達成された。また、液排出減圧法では
洗浄容器を真空にした後、一般に液体の沸点が圧力の下
降に伴って下がる特性及び二つの作業温度が異なる真空
容器の蒸気圧力間に圧力差が発生することを利用し、真
空加熱乾燥、洗浄液及び廃溶液の回収、容器を中度の真
空状態にする実施法で、低温の熱エネルギーや余熱が導
入されるようになり、エネルギーの節約がここでも達成
された。更には液排出減圧法で該洗浄容器は真空状態に
なった後、非常に少ない空気圧力と洗浄液の蒸気圧力を
含む真空洗浄容器となるため、熱制御装置で低温の熱エ
ネルギー源を導入して真空洗浄容器内の洗浄液とその他
の液体を蒸発させ、更に放熱装置と圧力差の方法によ
り、蒸発した洗浄液或いはその他の蒸気が凝結して液体
となって真空容器内に回収され、真空加熱乾燥、洗浄液
および廃溶液を回収し、中度の真空状態の容器にし、効
果的にコストを削減する目的が達成された。並びに空気
を溶存しない洗浄液と液排出減圧法で洗浄容器を真空に
した後、該洗浄液の蒸気圧力を含む真空洗浄容器とな
り、熱制御装置で該乾燥を待つ物体の温度を調節し、放
熱装置で真空洗浄容器の圧力を制御し、真空冷凍乾燥の
方法でここでも効果的に工程で設備におけるコストを下
げる目的が達成された。
【図１】本発明の液を排出する真空装置及び液排出真空
方実施における配置説明図である。
方実施における配置説明図である。
【図２】本発明の洗浄，真空管層の装置における配置説
明図である。
明図である。
【図３】本発明の一貫した多槽洗浄，真空管槽の装置に
おける配置説明図である。
おける配置説明図である。
【図４】本発明の洗浄，真空乾燥部分の装置を利用し、
低空気溶解洗浄液による方式を実施する際の配置説明図
である。
低空気溶解洗浄液による方式を実施する際の配置説明図
である。
【図５】本発明の洗浄，真空乾燥部分の装置を利用し、
洗浄液及び廃溶液回収を実施する際の配置説明図であ
る。
洗浄液及び廃溶液回収を実施する際の配置説明図であ
る。
【図６】本発明の洗浄，真空乾燥部分の装置を利用し、
真空加熱乾燥を実施する際の配置説明図である。
真空加熱乾燥を実施する際の配置説明図である。
【図７】本発明の洗浄，真空乾燥部分の装置を利用し、
真空冷凍乾燥を実施する際の配置説明図である。
真空冷凍乾燥を実施する際の配置説明図である。
【図８】本発明の一貫した多槽洗浄，真空乾燥の装置を
利用し、真空冷凍乾燥を実施する際の配置説明図であ
る。
利用し、真空冷凍乾燥を実施する際の配置説明図であ
る。
【図９】本発明の洗浄，真空乾燥の部分装置を利用し、
容器を中度の真空状態にさせる際の配置説明図である。
容器を中度の真空状態にさせる際の配置説明図である。
【図１０】本発明の多種洗浄液及び気体を使用し、ドラ
イ及びウェット洗浄を実施する際の配置説明図である。
イ及びウェット洗浄を実施する際の配置説明図である。
【図１１】本発明を上槽及び下槽を共用する数個の作業
槽に応用した場合における配置説明図である。
槽に応用した場合における配置説明図である。
１０ 上層
１１ 上槽
１２ 上槽導管
１３ 上槽バルブ
１４ 気体
２０ 中層
２１ 洗浄容器
２２ 昇降装置
２３ 入液装置
２４ 出液装置
２５ 真空容器
２６ 気体容器
３０ 下層
３１ 低位容器
３２ 低位容器導管
３３ 低位容器バルブ
３４ 低位容器液面
３５ 排気バルブ
５１ 後置処理槽
５２ ポンプ導管
５３ 液抽出ポンプ
５４ ポンプバルブ
６０ 制御装置
８０ 熱制御装置
８２ 凝結導管
９５ 回収容器
９０ 加工物
２１A，２１B 洗浄容器
１１１ 上槽
１２１ 蒸発槽
１３１ 低位容器
１２３ 入液装置
２３１ 低位装置
８２１A，８２１B，８２１C 洗浄容器
２２１ 回収槽
２２３ 入液装置
２２４ 出液装置
３２１ 洗浄装置
３２３ 入液装置
３３１，５３１ 低位容器
５２１ 洗浄容器
６０A，６０B，６０C 熱制御装置
５２１A，５２１B，５２１C 洗浄容器
７１１A，７１１B，７１１C 上槽
７２１ 上槽導管
７２３ 入液装置
７２４ 出液装置
７３１A，７３１B，７３１C 低位容器
７３２A，７３２B，７３２C 低位容器導管
６１１ 上槽
６１２ 上槽導管
６１３ 上槽バルブ
６２１A，６２１B，６２１C 洗浄容器
６３１ 低位容器
６３３ 低位容器バルブ
６３４ 低位容器液面
６３５ 気体抽出バルブ
６５４ ポンプバルブ
６５３ 液抽出ポンプ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 3B116 AA46 BB02 CC03 CD11 CD22
CD43
3B201 AA46 BB02 BB92 BB98 CB15
CC15 CD11 CD22 CD43
3L113 AA01 AC21 AC23 AC67 BA39
DA06
Claims (28)
- 【請求項１】環境保護と省エネルギーを達成するべく、
密閉タイプのウェット式洗浄、ドライ式洗浄、真空加熱
乾燥、真空冷凍乾燥の機能が真空システムを使用せずに
一つの工程となっており、ドライ式洗浄で使用した低圧
気体と洗浄液等の廃溶液を回収する方式により、洗浄、
真空乾燥を提供する真空装置、或いは一貫した多槽の洗
浄、真空乾燥の装置であり、 該装置は液体を排出して真空にする装置、液体を排出し
て真空にする装置によって真空となる容器、洗浄液を蒸
発或いは昇華させる熱制御装置、蒸気を凝結させる放熱
装置、連結用導管等の補助装置によって構成されてお
り、 液排出真空装置、空気を溶存しない洗浄液、液排出減圧
法により、洗浄容器内の洗浄液が充満しない体積の空気
圧力含有量を非常に少なくし、空気圧力が工程に与える
影響を最低限にまで抑え、並びに一般に液体の沸点が圧
力の下降に伴って下がるのと、液体飽和蒸気圧力が温度
の下降に伴って低まって圧力差を生む等の特性及び二つ
の作業温度が異なる真空容器の蒸気圧力間に圧力差が発
生することを利用し、密閉タイプの洗浄容器がドライ、
ウェットの洗浄を完了した後、熱制御装置と放熱装置が
続けて真空加熱乾燥と真空冷凍乾燥を行えるようにし、
ならびに容器を中度の真空状態にして、ドライ式洗浄で
使用した低圧気体、洗浄液等の廃溶液を回収することを
特徴とするマルチ密閉式洗浄，真空乾燥装置。 - 【請求項２】該液排出真空装置は主に洗浄容器と低位容
器とより構成され、バルブを具有する該連結管によって
高度差のある洗浄容器と低位容器とが相互に連結されて
おり、 密閉式の容器であり、実際の状況に応じてその他の補助
設備が設けられている該洗浄容器と、 密閉式の容器であり、体積及び液面断面積が比較的大き
い密閉容器であり、内部は完全に洗浄液が満たないもの
であり且つ内部圧力が該洗浄容器と低位容器の高度差、
使用する洗浄液の比重、洗浄容器の容積、低位容器の容
積などに応じて設定されており、且つ該洗浄容器内の洗
浄液が完全に該低位容器内に排出されるべく圧力が通常
の圧力より低く、更に液抽出ポンプが設けられて該低位
容器内部の洗浄液を通常の圧力の回収容器或いはその他
の後置処理槽に抽出、または該通常の圧力の回収容器或
いはその他の後置処理槽より抽入して該低位容器内の液
面高度と圧力を調整している低位容器と、 より構成されることを特徴とする請求項１記載のマルチ
密閉式洗浄，真空乾燥装置。 - 【請求項３】該洗浄及び真空乾燥の装置は、液排出真空
装置と液排出真空装置によって真空となる容器、及び洗
浄液を蒸発或いは昇華させる熱制御装置、蒸気を凝結さ
せる放熱装置、及び連結導管等の補助装置より構成さ
れ、該液排出真空装置の洗浄容器にはもう一つの液排出
真空装置の洗浄容器と相互に連結し、更に適当な個所に
設けられた放熱装置で気体の洗浄液を凝結させて液体の
洗浄液にする導管と、 更に液排出真空装置によって真空となる容器と相互に連
結し、且つ適当な個所には放熱装置が設けられており、
気体の洗浄液を凝結させて液体の洗浄液にする導管と、 また洗浄容器内の気体である洗浄液を凝結させて液体或
いは固体の洗浄液にする放熱装置と、 洗浄容器内の液体である洗浄液を蒸発させる、或いは固
体の洗浄液を昇華させる熱制御装置と、 が設けられていることを特徴とする請求項１記載のマル
チ密閉式洗浄，真空乾燥装置。 - 【請求項４】環境保護と省エネルギーを達成するべく、
密閉タイプのウェット式洗浄、ドライ式洗浄、真空加熱
乾燥、真空冷凍乾燥の機能が真空システムを使用せずに
一つの工程となっており、ドライ式洗浄で使用した低圧
気体と洗浄液等の廃溶液を回収する方式により、洗浄、
真空乾燥を提供する真空装置、或いは一貫した多槽の洗
浄、真空乾燥の装置であり、 該装置は液体を排出して真空にする装置、液体を排出し
て真空にする装置によって真空となる容器、洗浄液を蒸
発或いは昇華させる熱制御装置、蒸気を凝結させる放熱
装置、連結用導管等の補助装置によって構成されてお
り、 該液排出減圧法の実施法は、 先ず始めに、該液排出真空装置をスタート時の状態或い
はその他の実施法の最後の状態にし、 次に第二番目の手順として該洗浄容器内を洗浄液で満た
して密閉し、 第三番目の手順として該連結管上のバルブを開け、該洗
浄容器内の洗浄液を該密閉された低位容器内に流入さ
せ、洗浄液が静止する高度を該密閉された低位容器液面
の圧力が該比重の洗浄液を受けとめる高度に設定するこ
とで該洗浄容器を真空の状態にし、 更に第四番目の手順として該連結管上のバルブを閉じた
後、該液抽出ポンプを起動して、該低位容器内の洗浄液
を該低位容器の液面圧力が設定の圧力になるまで該通常
の圧力の回収容器或いはその他の後置処理槽に抽出し、
完了したら該液抽出ポンプを閉じて該低位容器を密閉す
ることで該密閉低位容器の余分な洗浄液を排出して液面
圧力を低減し、 最後に上述の第三番目の手順に戻り、洗浄液が静止する
高度が実際に必要である高度に達するまでこれを行うも
のであることを特徴とするマルチ密閉式洗浄，真空乾燥
の方法。 - 【請求項５】該スタート状態の実施法は、 先ず洗浄液の比重、洗浄容器の容積、低位容器の容積を
計り、該洗浄容器と該低位容器の高度差を設定すること
で該低位容器液面の圧力を計算し、 次に該連結管のバルブを開け、該液抽出ポンプを起動さ
せて通常の圧力の回収容器やその他の後置処理槽の洗浄
液を該通常の圧力の低位容器内に抽出して適度な高度に
し、該連結管のバルブを閉め、該低位容器を密閉するこ
とを以って該低位容器洗浄液の準備とし、 更に該液抽出ポンプを起動させて低位容器内の洗浄液を
通常の圧力の回収容器或いはその他の後置処理槽にまで
抽出し、該低位容器内の液面圧力が設定の圧力に至った
ら該液抽出ポンプを閉じることで該低位容器の液面圧力
調整を行ってから該洗浄容器と低位容器の高度差を調整
するものであることを特徴とする請求項４記載のマルチ
密閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項６】ウェット式洗浄と真空加熱乾燥方法におい
ては、ウェット式洗浄を完了した後、液排出減圧法によ
って洗浄容器を真空状態にし、続けて真空加熱乾燥法を
実施するものであることを特徴とする請求項４記載のマ
ルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項７】該ウェット式洗浄と真空冷凍乾燥の実施法
において、ウェット式洗浄が終了した後、空気を溶存し
ない洗浄液で液排出減圧法を実施し、洗浄容器を真空に
し、続けて真空冷凍乾燥を実施するものであることを特
徴とする請求項４記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の
方法。 - 【請求項８】ウェット式洗浄とドライ式洗浄の実施法に
おいて、ウェット式洗浄が終了した後、液排出減圧法を
実施して洗浄容器を真空にし、続けてドライ式洗浄を行
うものであることを特徴とする請求項４記載のマルチ密
閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項９】ドライ式洗浄とドライ式洗浄で使用した低
圧の気体回収の実施法においては、先ず液排出減圧法で
該洗浄容器を真空にする、或いはその他の実施法の最後
の状態で真空にし、 次にドライ式洗浄で使用した気体を該真空洗浄容器内に
注入し、該洗浄容器を該気体が充満した低圧容器とし、 更に洗浄容器内の低圧気体を排出する際は、ドライ式洗
浄を完了した後、洗浄液を下から上へと洗浄容器内に注
入させ、洗浄容器液面が高まると共に、洗浄容器に連結
されている真空容器が洗浄容器内の低圧気体を完全に回
収するものであることを特徴とする請求項４記載のマル
チ密閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項１０】空気を溶存しない洗浄液を発生させる手
順においては、 先ず低位容器の設定された液面圧力は洗浄液が静止する
高度を洗浄容器内にて熱制御装置を覆い、 次に液排出減圧法で洗浄容器に部分的な真空状態を発生
させ、 更に熱制御装置で洗浄容器の洗浄液を加熱し、洗浄容器
内の圧力がもう上がらない時点まで液面に沸騰状態を形
成させ、 最後に洗浄容器を通常の圧力にし、空気を溶存しない洗
浄液を通常の圧力の回収容器に排出するものであること
を特徴とする請求項４記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾
燥の方法。 - 【請求項１１】該真空加熱乾燥の実施法においては、 真空法を実施して洗浄容器を真空状態にする、或いはそ
の他の実施方法の最後の状態で洗浄容器を真空にし、 次に熱制御装置で加工物上に残留する洗浄液が蒸発熱を
吸収して蒸発し、洗浄容器と真空容器の温度座で飽和蒸
気の圧力差を生み、参上容器で蒸発する気体を真空容器
に連結されている放熱装置に流動させ、並びに凝結させ
て低温、且つクリーンな洗浄液を真空容器に流入させて
回収させ、洗浄容器内の圧力がもう上がらないとき、真
空加熱乾燥が完了するものであることを特徴とする請求
項４記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項１２】該真空冷凍乾燥の実施法は、 先ず該液排出減圧法で洗浄容器を真空状態にする、或い
はその他の実施法の最後の状態で洗浄容器を真空の状態
にしておき、 次に該熱制御装置によって乾燥を待つ加工物の温度を下
げてその成分物質の最低共融点以下の温度にまで至らし
め、放熱装置で該真空洗浄容器内の圧力を制御し、蒸発
熱を提供することで該真空洗浄容器内に残留する洗浄液
を蒸発させ、該洗浄容器内の蒸気圧力が該熱制御装置の
設定する温度の飽和蒸気圧力より大きくなるようにする
ものであることを特徴とする請求項４記載のマルチ密閉
式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項１３】洗浄液及び廃溶液回収の実施法において
は、洗浄、真空乾燥装置の内の一つの洗浄容器を洗浄液
或いは廃溶液を蒸発させる蒸発槽とし、もう一つの洗浄
容器をクリーンな洗浄液と溶液の回収用の回収槽とし、
その具体的実施法は、 先ず蒸発槽の低位容器の設定する液面圧力によって洗浄
液や廃溶液の静止する高度を蒸発槽内にて熱制御装置を
覆うようにし、回収槽の低位容器の設定する液面圧力に
よって回収槽全部を真空状態の容器にし、 次に蒸発槽の液排出真空装置で回収を待つ洗浄液や廃容
器を使用して液排出減圧法によって蒸発槽の部分体積を
真空状態にし、回収槽の液排出真空装置で低温且つクリ
ーンな洗浄液や溶液を使用して液排出減圧法によって回
収槽の全部を真空にし、 更に熱制御装置で蒸発槽内の回収を待つ洗浄液や廃溶液
を加熱し、回収を待つ洗浄液や廃溶液が蒸発熱を吸収し
て蒸発するようにし、回収槽と蒸発槽の温度差によって
飽和蒸気の圧力差が発生するため、蒸発槽で蒸発した気
体が回収槽の放熱装置に向かって流動し、且つ凝結され
たクリーンな洗浄液や溶液が回収槽に流入するものであ
ることを特徴とする請求項４記載のマルチ密閉式洗浄，
真空乾燥の方法。 - 【請求項１４】容器を中度の真空状態にする方法におい
ては、洗浄、真空乾燥の装置の内の一つの洗浄容器を真
空容器とし、もう一つを回収洗浄容器とし、真空容器は
液排出真空装置と分離させ、その具体的な実施法におい
ては、 先ず液排出減圧法を実施して真空容器と回収洗浄容器を
真空にし、 次に熱制御装置で真空容器内に残留する洗浄液を蒸発さ
せ、並びに真空容器内の蒸気を加熱して非常に微量な蒸
気が存在するのみとし、真空容器と回収洗浄容器の温度
差によって飽和蒸気圧力が生まれ、真空容器で蒸発した
気体が回収洗浄容器に連結される放熱装置に向かって流
動し、且つ凝結してクリーンな洗浄液となって回収洗浄
容器に流入し、 更に真空容器の圧力が上昇しなくなったとき、真空容器
を密閉して液排出真空装置と分離させて冷却し、真空容
器を中度の真空状態にするものであることを特徴とする
請求項４記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項１５】一貫した多槽による洗浄においては、そ
の真空乾燥の装置を洗浄、真空乾燥の装置が複数個の洗
浄容器を具有する際、洗浄容器は真空バルブで相互に連
結されており、並びにコンベア装置を利用して加工物を
送ることで、一貫した多槽による洗浄、真空乾燥の装置
が構成されていることを特徴とする請求項４記載のマル
チ密閉式洗浄，真空乾燥の方法。 - 【請求項１６】一貫した多槽による洗浄、真空乾燥装置
で真空冷凍乾燥法を実施する際、二つ目及び三つ目の洗
浄容器のスタート時の状態は低空気溶解洗浄液と液排出
減圧法によって洗浄容器を真空にし、その具体的な実施
法とは、 先ず乾燥を待つ加工物を一つ目の洗浄容器内にて、通常
の圧力の下で熱制御装置を起動させて乾燥を待つ加工物
に対して予冷を行い、低温且つ空気を溶存しない洗浄液
と液排出減圧法によって真空状態を発生させ、真空バル
ブを起動させて乾燥を待つ加工物を二番目の真空洗浄容
器にまで送り、真空バルブを閉じ、 次に乾燥を待つ加工物に二番目の真空洗浄容器内で真空
冷凍乾燥法が実施され、乾燥が完了したら真空バルブを
開けて乾燥を待つ加工物を三つ目の真空洗浄容器に送
り、真空バルブを閉め、 更に三つ目の真空洗浄容器を通常の圧力に回復させて既
に乾燥した加工物を送り出した後、低圧融解の洗浄液と
液排出減圧法でそれを真空状態の容器とするものである
ことを特徴とする請求項４記載のマルチ密閉式洗浄，真
空乾燥の方法。 - 【請求項１７】乾燥を待つ加工物内の液体結晶粒子が比
較的大きなものとなるように、空気を溶存しない洗浄液
と液排出減圧法で該洗浄液容器を真空にし、更に真空冷
凍乾燥法を実施するものであることを特徴とする請求項
１２記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその
装置。 - 【請求項１８】該熱制御装置の温度範囲は使用する洗浄
液の気化線上にあり、導入される熱エネルギーは低温熱
エネルギー或いは余熱であることを特徴とする請求項１
０，１１，１３或いは１４記載のマルチ密閉式洗浄，真
空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項１９】該熱制御装置及び放熱装置の温度範囲は
使用する洗浄液の昇華線上にあることを特徴とする請求
項１２或いは１６記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の
方法及びその装置。 - 【請求項２０】該洗浄容器は、大きな揮発面積を提供す
るべく液面断面積が比較的大きいものであることを特徴
とする請求項１０記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の
方法及びその装置。 - 【請求項２１】該洗浄容器の作業温度は真空容器の作業
温度を上回っていることを特徴とする請求項１１記載の
マルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項２２】該真空容器の作業温度は該洗浄容器の作
業温度を上回っていることを特徴とする請求項１４記載
のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項２３】真空容器の作業温度は該回収洗浄容器の
作業温度を上回っていることを特徴とする請求項１３記
載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項２４】空気を溶存しない洗浄液の方法を先に実
施して、回収を待つ洗浄液或いは廃溶液内の空気を除去
することを特徴とする請求項１３記載のマルチ密閉式洗
浄，真空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項２５】該回収槽が飽和状態となったとき、凝結
した低温のクリーンな洗浄液や溶液は回収槽に流入する
のがとまり、回収槽を通常の圧力にし、回収槽ないのク
リーンな洗浄液や溶液を通常の圧力回収容器に排出し、
終了したら続けて洗浄液と溶液を回収するべく、該回収
槽の液排出真空装置でクリーンな洗浄液や溶液を利用
し、液排出減圧法によって回収槽の全部を真空状態にす
ることを特徴とする請求項１３記載のマルチ密閉式洗
浄，真空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項２６】蒸発槽は蒸発の過程において、回収を待
つ洗浄液を適時に補充し、蒸発槽の液面高度を保持して
いることを特徴とする請求項１３記載のマルチ密閉式洗
浄，真空乾燥の方法及びその装置。 - 【請求項２７】該真空冷凍乾燥法を実施する際、放熱装
置には乾燥を速めるべく液体洗浄液の流動を加速させる
装置が設けられていることを特徴とする請求項１２或い
は１６記載のマルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びそ
の装置。 - 【請求項２８】装置を設置する個所であり上，中，下の
三層に分けられている作業平台は、該上層と下層に一定
の高度差が設けられており、該中層の昇降装置では中層
が該下層に対して高度が調節できるようになっており、 該作業平台上層の適当な個所には、クリーンな洗浄液を
注入したり保存する容器であり、下方の適当な個所が上
槽導管と相互に連結されており、洗浄液を洗浄容器内流
入させ、必要に応じて下方の適当な個所にて気体排出導
管と相互に連結されていることで、洗浄液が洗浄容器内
に流入し、洗浄容器内の気体を排出させる上槽が設けら
れており、 更に該上槽と洗浄容器の入液装置と相互に連結されてお
り、洗浄液が該上槽から該洗浄容器内の流入するように
している該上槽導管と、 該上槽の洗浄液を上から下へ向かって該洗浄容器に流入
させる制御スイッチである上槽バルブと、 また該作業平台中層の適当な個所に設置されており、密
閉されて加工物に対して処理を行う容器であり、必要に
応じては処理を待つ加工物の出入口の装置や工程におい
て必要な補助工具や設備を設置し、更に上方の適当な個
所には入液装置が設置されて上槽導管と連結しており、
下方の適当な個所には出液装置を設けて低位容器導管と
相互に連結している洗浄容器と、 該低位容器と洗浄容器の出液装置と相互に連結されてい
ることにより、洗浄液が洗浄容器より該低位容器に流入
するようにしている該低位容器導管と、 洗浄容器の洗浄液を上から下へと低位容器にむかって流
入させる制御スイッチであり、該低位容器液面高度より
低い低位容器導管の抵当な個所に設置されている、或い
は低位容器液面高度より低い低位容器の適当な個所に設
置されている低位容器バルブと、 該作業台の下層の適当な個所に設置され、体積と液面断
面積が比較的大きな密閉式の容器であり、内部は完全に
洗浄液が充満しないものであり、必要に応じて補助工具
や設備が設けられており、また底部の適当な個所は低位
容器導管と相互に連結しており、洗浄液が洗浄容器より
内部に流入するようになっており、底部の適当な個所に
はポンプ導管と相互に連結されており、上方には洗浄液
が充満しない適当な個所に気体排出バルブが設けられて
いることで内部の圧力を調節している低位容器と、 液抽出ポンプは低位容器の洗浄液を通常の圧力の後置処
理槽に抽出する、或いは通常の圧力となった後置処理槽
の洗浄液を低位容器にまで抽出する液抽出ポンプ、及び
低位容器に連結されており、低位容器内の液面高度と圧
力を調節する該ポンプ導管と、 液抽出ポンプが低位容器の洗浄液を通常の圧力の後置処
理槽にまで抽出する、或いは通常圧力の後置処理槽の洗
浄液を低位容易にまで抽出させる制御スイッチであり、
低位容器底部の適当な個所やポンプ導管の適当な個所に
設置されているポンプバルブと、 洗浄容器上方の適当な個所に設けられており、洗浄液や
気体が洗浄容器を出入するのを制御する装置であり、内
部は必要に応じて複数のバルブスイッチが設けられてい
る、或いはこれに類似する部品で洗浄液や気体が洗浄容
器を出入するのを制御しており、またその他の部品によ
る洗浄液内の補助工具や設備を具有し、且つ該内部の制
御バルブは真空容器や通常圧力の回収容器等のその他の
装置と固定式或いは着脱式のコネクタによって相互に連
結されている入液装置と、 洗浄容器下方の適当な個所に設けられており、洗浄液が
洗浄容器に出入するのを制御する装置であり、内部は必
要に応じて複数のバルブスイッチ或いはそれに類似する
部品で洗浄液が洗浄容器に出入するのが制御されてお
り、またその他の部品によって洗浄容器内の補助工具や
設備が設けられており、内部の制御バルブは通常の圧力
の回収装置等のその他の装置と相互に連結され、またそ
の属する低位容器導管と固定式或いは着脱式のコネクタ
によって相互に連結されている出液装置と、 必要に応じて設置されるものであり、上槽と洗浄容器の
出液装置と相互に連結されており、洗浄液が下から上へ
と洗浄容器内に流入するようにしており、該洗浄容器内
の気体を排出する気体排出導管と、 を具有することを特徴とするマルチ密閉式洗浄，真空乾
燥の方法及びその装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW090132633A TWI252297B (en) | 2001-12-27 | 2001-12-27 | Multi-functional closed type cleaning and vacuum drying method |
| TW090132633 | 2001-12-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003190892A true JP2003190892A (ja) | 2003-07-08 |
| JP3983617B2 JP3983617B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=21680062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002219172A Expired - Lifetime JP3983617B2 (ja) | 2001-12-27 | 2002-07-29 | マルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6739073B2 (ja) |
| JP (1) | JP3983617B2 (ja) |
| DE (1) | DE10246599A1 (ja) |
| FR (1) | FR2834229B1 (ja) |
| GB (1) | GB2383526B (ja) |
| TW (1) | TWI252297B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008534265A (ja) * | 2005-04-01 | 2008-08-28 | ハニーウェル フェデラル マニファクチャリング アンド テクノロジーズ， エルエルシー | 油汚染プラスチックから油とプラスチックを分離回収する改善された方法 |
| CN103868325A (zh) * | 2012-12-17 | 2014-06-18 | 南通海辰蛋白科技有限公司 | 一种平板烘干机 |
| CN111609724A (zh) * | 2020-04-20 | 2020-09-01 | 湖北东方化工有限公司 | 一种多级真空机组设备系统中积液收集和排放的装置 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2860987B1 (fr) * | 2003-10-15 | 2006-02-24 | Cheng Ming Chou | Procede multi-etapes pour la distillation, le refroidissement et la congelation sous vide |
| GB2436453A (en) * | 2006-03-24 | 2007-09-26 | Mecwash Systems Ltd | An aqueous washing system and method |
| WO2010138125A1 (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | Bell Helicopter Textron Inc. | Method for cleaning oil soaked bonded panels and laminates |
| CN103464411A (zh) * | 2013-09-29 | 2013-12-25 | 徐州工业职业技术学院 | 精加工零件自动清洗干燥机构 |
| CN103623983B (zh) * | 2013-11-22 | 2016-03-30 | 马良 | 一种防止涂料产生雾白的装置及其生产工艺 |
| DE102014213172A1 (de) * | 2014-07-07 | 2016-01-07 | Dürr Ecoclean GmbH | Anlage für das Trocknen von Werkstücken |
| CN105258480B (zh) * | 2014-07-18 | 2018-10-02 | 陈长清 | 一种高效连续真空微波干燥机 |
| HUE054842T2 (hu) * | 2016-02-09 | 2021-09-28 | Elwema Automotive Gmbh | Ipari párakondenzációs tisztító elrendezés és a kapcsolódó eljárás |
| JP6373331B2 (ja) * | 2016-11-24 | 2018-08-15 | 株式会社シー・シー・アイ | 真空脱脂洗浄装置、及びその洗浄方法 |
| SI3392584T1 (sl) * | 2017-04-21 | 2020-09-30 | Gea Lyophil Gmbh | Zamrzovalni sušilnik in postopek za induciranje nukleacije v proizvodih |
| GB2564481B (en) | 2017-07-14 | 2019-10-23 | 4D Pharma Leon S L U | Process |
| CN116043486B (zh) * | 2023-02-16 | 2023-11-21 | 广东善思科技有限公司 | 清洁设备的控制方法及清洁设备 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3549528A (en) * | 1964-04-23 | 1970-12-22 | Edward T Armstrong | Ozone sterilization process |
| JPS5573301A (en) * | 1978-11-24 | 1980-06-03 | Japan Atom Energy Res Inst | Concentrating method and apparatus for aqueous solution |
| DE3423388A1 (de) * | 1984-06-25 | 1986-01-02 | Karrer System AG, Zollikon, Zürich | Verfahren und vorrichtung zum trocknen von fasermaterial |
| GB9020559D0 (en) * | 1990-09-20 | 1990-10-31 | Keymed Medicals & Ind Equip | Cleaning and disinfecting medical instruments |
| US6004403A (en) * | 1991-11-05 | 1999-12-21 | Gebhard Gray Associates | Solvent cleaning system |
| US5240507A (en) * | 1991-11-05 | 1993-08-31 | Gray Donald J | Cleaning method and system |
| US5538025A (en) * | 1991-11-05 | 1996-07-23 | Serec Partners | Solvent cleaning system |
| JP3307429B2 (ja) * | 1992-07-01 | 2002-07-24 | 株式会社クリンビー | 真空洗浄・乾燥方法および装置 |
| DE4317862A1 (de) * | 1993-05-28 | 1994-12-01 | Aichelin Ind Ofen | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von metallischen Werkstücken |
| JP2742238B2 (ja) * | 1995-03-16 | 1998-04-22 | 中外炉工業株式会社 | 有機溶剤を使用する洗浄装置 |
| US6254734B1 (en) * | 1995-03-14 | 2001-07-03 | Hugo H Sephton | Barometric evaporation process and evaporator |
| US5785875A (en) * | 1996-02-13 | 1998-07-28 | Micron Technology, Inc. | Photoresist removal process using heated solvent vapor |
| US6272770B1 (en) * | 1999-12-15 | 2001-08-14 | American Dryer Corporation | Washer/dryer combination with cold water and vacuum |
-
2001
- 2001-12-27 TW TW090132633A patent/TWI252297B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-07-29 JP JP2002219172A patent/JP3983617B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-29 US US10/206,099 patent/US6739073B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-30 GB GB0217643A patent/GB2383526B/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-05 DE DE10246599A patent/DE10246599A1/de not_active Ceased
- 2002-11-08 FR FR0214043A patent/FR2834229B1/fr not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008534265A (ja) * | 2005-04-01 | 2008-08-28 | ハニーウェル フェデラル マニファクチャリング アンド テクノロジーズ， エルエルシー | 油汚染プラスチックから油とプラスチックを分離回収する改善された方法 |
| CN103868325A (zh) * | 2012-12-17 | 2014-06-18 | 南通海辰蛋白科技有限公司 | 一种平板烘干机 |
| CN111609724A (zh) * | 2020-04-20 | 2020-09-01 | 湖北东方化工有限公司 | 一种多级真空机组设备系统中积液收集和排放的装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6739073B2 (en) | 2004-05-25 |
| FR2834229A1 (fr) | 2003-07-04 |
| GB2383526B (en) | 2004-07-21 |
| TWI252297B (en) | 2006-04-01 |
| JP3983617B2 (ja) | 2007-09-26 |
| FR2834229B1 (fr) | 2007-05-18 |
| DE10246599A1 (de) | 2003-07-10 |
| GB0217643D0 (en) | 2002-09-11 |
| GB2383526A (en) | 2003-07-02 |
| US20030121171A1 (en) | 2003-07-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003190892A (ja) | マルチ密閉式洗浄，真空乾燥の方法及びその装置 | |
| US9574799B2 (en) | Extractor and concentrator | |
| TWI310785B (ja) | ||
| US5261250A (en) | Method and apparatus for recovering multicomponent vapor mixtures | |
| US5051135A (en) | Cleaning method using a solvent while preventing discharge of solvent vapors to the environment | |
| US5150577A (en) | System and method for recovering and purifying a halocarbon composition | |
| US6802137B1 (en) | Solvent drying method | |
| US5265432A (en) | Oil purifying device for use with a refrigeration system | |
| JPH07507964A (ja) | 極低温ウォーターポンプ | |
| US6311409B1 (en) | Freeze drying apparatus | |
| WO2005086928A2 (en) | Oil extraction system | |
| JP2000237703A (ja) | 真空洗浄乾燥方法及び装置 | |
| CN100486720C (zh) | 具多用途密闭式洗净、真空干燥的方法及其装置 | |
| JPH10259971A (ja) | 冷凍機用冷媒のオンサイト再生方法、および同オンサイト再生装置 | |
| JP5793745B2 (ja) | 冷却トラップ装置 | |
| JP2004333090A (ja) | 可燃性冷媒を用いた冷却貯蔵庫の回収処理方法および回収処理装置 | |
| JPH0515724A (ja) | 溶剤濃縮回収装置 | |
| WO2017100436A1 (en) | Extractor and concentrator | |
| US11519647B2 (en) | Cooling system using vacuum cooling | |
| JPH0326383A (ja) | 有機溶剤を使用する洗浄装置 | |
| JPH07120143A (ja) | 真空乾燥装置及び真空乾燥方法 | |
| RU2234547C1 (ru) | Способ переработки маслосодержащих брикетов стружки активных тугоплавких металлов и сплавов и устройство для его осуществления | |
| JPH10156127A (ja) | ベンゼンベーパー回収装置 | |
| JPH05263760A (ja) | クライオポンプ及びその運転方法 | |
| JPH06170345A (ja) | 洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040921 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070509 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070612 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070704 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100713 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |