JP2003188246A - Method and apparatus for sucking substrate - Google Patents

Method and apparatus for sucking substrate

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JP2003188246A
JP2003188246A JP2001384466A JP2001384466A JP2003188246A JP 2003188246 A JP2003188246 A JP 2003188246A JP 2001384466 A JP2001384466 A JP 2001384466A JP 2001384466 A JP2001384466 A JP 2001384466A JP 2003188246 A JP2003188246 A JP 2003188246A
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holder
holder surface
suction
suction device
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JP2001384466A
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Inventor
Kenichi Kodama
賢一 児玉
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for sucking a substrate capable of sucking the substrate, such that the substrate is easily and surely sucked to a sucking part provided on a holder surface and brought in a flat state, even if the substrate is deflected and placed on supporting members, in a circumstance where the substrate such as a silicon wafer or a glass plate is sucked to the holder. <P>SOLUTION: In this method for sucking the substrate, one surface of the substrate is sucked to the sucking part provided on the holder surface. This method comprises the steps of supporting the peripheral part of the substrate by a plurality of supporting members so that the peripheral part of the one surface of the substrate is held at a predetermined spacing from the holder surface, sucking the substrate toward the holder surface side, and moving the supporting members in the direction that makes the one surface of the substrate and the holder surface nearer. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウェーハ
やガラスプレート等の基板をホルダに吸着するための基
板の吸着方法および基板の吸着装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate suction method and a substrate suction device for sucking a substrate such as a silicon wafer or a glass plate on a holder.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば、シリコンウェーハに微細
パターンを転写する露光装置、あるいは、そのシリコン
ウェーハを検査する装置等において、基板の平坦度を確
保するために、ホルダ内に形成された吸気穴を通してホ
ルダ面上の空気を吸入することで、基板をホルダ面上に
吸着することが行われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in an exposure apparatus for transferring a fine pattern to a silicon wafer, an apparatus for inspecting the silicon wafer, or the like, an intake hole formed in a holder in order to secure the flatness of the substrate. The substrate is sucked onto the holder surface by sucking the air on the holder surface through.

【0003】図18および図19は、従来の基板の吸着
装置を簡易的に示すもので、この基板の吸着装置では、
円盤状のホルダ101には、ホルダ面101a上にリン
グ状突起部101bが同心円状に間隔を置いて複数設け
られている。そして、リング状突起部101b間には、
リング状溝101cが形成されている。このリング状溝
101cの底面は、ホルダ101に形成された吸気穴1
01dと連結されている。吸気穴101dは、リング状
溝101cの周方向に180度の間隔を置いて所定の位
置に設けられている。
18 and 19 simply show a conventional substrate suction device. In this substrate suction device,
The disc-shaped holder 101 is provided with a plurality of ring-shaped protrusions 101b on the holder surface 101a at concentric intervals. And between the ring-shaped protrusions 101b,
A ring-shaped groove 101c is formed. The bottom surface of the ring-shaped groove 101c has an intake hole 1 formed in the holder 101.
It is connected to 01d. The intake holes 101d are provided at predetermined positions at intervals of 180 degrees in the circumferential direction of the ring-shaped groove 101c.

【0004】円盤状のホルダ101の中央には、円盤状
の支持部材103が設けられている。吸気穴101dの
各々の下端には、図19に示すように小チューブ105
の一端が連結されており、小チューブ105の他端は、
中継コネクタ107の上面に連結されている。そして、
中継コネクタ107の下面には、複数の小チューブ10
5の流路を一つにまとめる大チューブ109が連結され
ている。
A disc-shaped support member 103 is provided at the center of the disc-shaped holder 101. At the lower end of each of the intake holes 101d, as shown in FIG.
Is connected to one end of the small tube 105, and the other end of the small tube 105 is
It is connected to the upper surface of the relay connector 107. And
A plurality of small tubes 10 are provided on the lower surface of the relay connector 107.
A large tube 109 that connects the five flow paths into one is connected.

【0005】図20は、基板111のホルダ面101a
上への吸着過程を示すもので、まず、図20(a)に示
すように、例えば、中心付近がホルダ面1aに対し凹面
状に撓んだ基板111が支持部材103上に載置され
る。ついで、図20(b)に示すように、基板111の
中心付近がホルダ面101a側に吸着されながらホルダ
面101aに近接され、ついで、図20(c)に示すよ
うに、基板111の表面の撓みが緩やかにされる。そし
て、最後に、図20(d)に示すように、基板111が
平坦状にされる。
FIG. 20 shows the holder surface 101a of the substrate 111.
20A and 20B, the substrate 111 whose center is bent concavely with respect to the holder surface 1a is placed on the support member 103, as shown in FIG. . Then, as shown in FIG. 20 (b), the vicinity of the center of the substrate 111 is brought close to the holder surface 101a while being attracted to the holder surface 101a side, and then, as shown in FIG. The bending is moderated. Then, finally, as shown in FIG. 20D, the substrate 111 is flattened.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た基板の吸着方法および基板の吸着装置では、例えば、
図21に示すように中心付近がホルダ面101aに対し
凸面状に撓んだ基板111が支持部材103上に載置さ
れると、基板111がホルダ面101a上に吸着される
際に平坦状にならないという問題があった。
However, in the above-described substrate suction method and substrate suction device, for example,
As shown in FIG. 21, when the substrate 111 whose center is bent in a convex shape with respect to the holder surface 101a is placed on the support member 103, the substrate 111 becomes flat when adsorbed on the holder surface 101a. There was a problem of not becoming.

【0007】そして、このような基板111が、平坦状
にならない理由は、図21に示す吸着過程の図を用い
て、つぎのように説明される。基板111は、まず、図
21(a)に示すように、支持部材103上に載置さ
れ、ついで、図21(b)に示すように、その外周部が
ホルダ面101aと当接される。そして、ホルダ面10
1aと基板111との外周部に密閉状態が形成され、外
周部が拘束される。ついで、図21(c)に示すよう
に、吸気穴101dより吸気が行われ、強度的に弱い中
心付近が凹み、中心付近と周辺付近との間に膨らみ部分
が形成される。最後に、外周部が固定されれば、図21
(d)に示すように、基板111の長さは変わらないの
で、図21(d)のような状態で安定化してしまう。
The reason why such a substrate 111 is not flat is explained as follows with reference to the drawing of the adsorption process shown in FIG. The substrate 111 is first placed on the support member 103 as shown in FIG. 21A, and then the outer peripheral portion thereof is brought into contact with the holder surface 101a as shown in FIG. 21B. And the holder surface 10
A hermetically sealed state is formed on the outer peripheral portions of 1a and the substrate 111, and the outer peripheral portions are restrained. Next, as shown in FIG. 21 (c), air is taken in through the air intake hole 101d, and the vicinity of the center where the strength is weak is recessed, and a bulge portion is formed between the vicinity of the center and the vicinity of the periphery. Finally, if the outer peripheral portion is fixed, as shown in FIG.
As shown in (d), since the length of the substrate 111 does not change, it stabilizes in the state shown in FIG. 21 (d).

【0008】本発明は、かかる従来の問題を解決するた
めになされたもので、基板の撓み状態に関わらず、ホル
ダ面に設けられた吸着部に容易かつ確実に基板を平坦な
状態で吸着することができる基板の吸着方法および基板
の吸着装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and irrespective of the bending state of the substrate, the substrate can be easily and surely attracted to the adsorption portion provided on the holder surface in a flat state. An object of the present invention is to provide a substrate suction method and a substrate suction device that can perform such a suction.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1の基板吸着方法
は、基板の一方の面をホルダ面に設けられた吸着部に吸
着させる基板の吸着方法であって、前記基板の周辺部分
を複数の支持部材で支持し、前記基板の一方の面の前記
周辺部分と前記ホルダ面とを所定の間隔にする支持工程
と、前記基板を前記ホルダ面側に吸引する吸引工程と、
前記支持部材を、前記基板の一方の面と前記ホルダ面と
が接近する方向に移動させる移動工程とを有することを
特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate suction method in which one surface of a substrate is sucked by a suction portion provided on a holder surface, and a plurality of peripheral portions of the substrate are provided. A supporting step of supporting the peripheral surface of one surface of the substrate and the holder surface with a predetermined distance, and a suction step of sucking the substrate to the holder surface side.
A moving step of moving the supporting member in a direction in which one surface of the substrate and the holder surface approach each other.

【0010】請求項2の基板吸着方法は、請求項1記載
の基板の吸着方法において、前記吸引工程と前記移動工
程とが並行して行われることを特徴とする。請求項3の
吸着装置は、基板の一方の面が吸着される吸着部が設け
られたホルダ面を備えたホルダと、前記基板の周辺部分
を、前記ホルダ面から所定の間隔離した状態で支持可能
な複数の支持部材と、前記複数の支持部材を、前記基板
の一方の面と前記ホルダ面とが接近する方向に移動させ
る移動手段と、前記吸着部に前記基板の一方の面を吸着
させる吸着手段とを有することを特徴とする。
A substrate suction method according to a second aspect is the substrate suction method according to the first aspect, wherein the suction step and the moving step are performed in parallel. The suction device according to claim 3 supports a holder having a holder surface provided with a suction portion for sucking one surface of a substrate, and a peripheral portion of the substrate in a state of being separated from the holder surface for a predetermined period. A plurality of possible supporting members, a moving unit that moves the plurality of supporting members in a direction in which one surface of the substrate and the holder surface approach each other, and one surface of the substrate is sucked by the suction unit. And a suction means.

【0011】請求項4の吸着装置は、請求項3記載の基
板の吸着装置において、前記吸着手段は、前記ホルダに
形成され前記ホルダ面近傍の空気が吸い込まれる吸気穴
を有することを特徴とする。請求項5の吸着装置は、請
求項3または請求項4記載の基板の吸着装置において、
前記支持部材は、3個配置され、前記基板の周辺部分の
3箇所を支持することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the substrate suction apparatus according to the third aspect, wherein the suction means has an intake hole formed in the holder for sucking air near the holder surface. . According to a fifth aspect of the present invention, in the suction device of the substrate according to the third or fourth aspect,
It is characterized in that three supporting members are arranged and support three portions of the peripheral portion of the substrate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。 (第1の実施形態)図1ないし図4は、本発明の基板の
吸着装置の第1の実施形態を示している。図1は、基板
の吸着装置の上面図であり、図2は図1のII−II線断面
図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will be described in detail below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIGS. 1 to 4 show a first embodiment of a substrate suction device of the present invention. 1 is a top view of the substrate suction device, and FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.

【0013】この第1の実施形態の基板の吸着装置は、
ホルダ1と、支持部材であるピン3と、吸引器4とを有
している。ホルダ1には、ホルダ面1aが形成されてい
る。このホルダ面1a上には、吸着部である複数のリン
グ状突起部1bが同心円状に設けられている。このリン
グ状突起部1b間には、リング状溝1cが形成されてい
る。このリング状溝1cの各々の底面には、ホルダ1に
形成され180度の間隔を置いて所定の位置に設けられ
た2つの吸気穴1dが開口されている。
The substrate suction device according to the first embodiment is
It has a holder 1, a pin 3 as a support member, and a suction device 4. A holder surface 1 a is formed on the holder 1. On the holder surface 1a, a plurality of ring-shaped protrusions 1b, which are suction parts, are concentrically provided. A ring-shaped groove 1c is formed between the ring-shaped protrusions 1b. On each bottom surface of the ring-shaped groove 1c, two intake holes 1d formed in the holder 1 and provided at predetermined positions at 180 ° intervals are opened.

【0014】そして、最も外側のリング状突起部1bの
外側には、リング状突起部1bと同心円上に120度の
間隔で3つのピン穴1eが形成されている。このピン穴
1eには、支持部材であるピン3が、それぞれ挿入され
ている。吸引器4は、吸気穴1dのそれぞれの下端に連
結された小チューブ5とこの小チューブ5のもう一端に
連結された中継コネクタ7とを有している。また、この
吸引器4は、中継コネクタ7の下面に連結されかつ小チ
ューブ5の複数の流路を一つにまとめる大チューブ9を
有している。
On the outside of the outermost ring-shaped protrusion 1b, three pin holes 1e are formed concentrically with the ring-shaped protrusion 1b at intervals of 120 degrees. The pins 3 that are support members are inserted into the pin holes 1e. The suction device 4 has a small tube 5 connected to each lower end of the intake holes 1d and a relay connector 7 connected to the other end of the small tube 5. Further, the suction device 4 has a large tube 9 which is connected to the lower surface of the relay connector 7 and combines a plurality of flow paths of the small tube 5 into one.

【0015】図3は、ホルダ1の下方に配置されるピン
3の移動手段10を示す図であり、図4は図3のIII−I
II線断面図である。ホルダ1の下面には、金属製のろう
12を溶融させることにより、角筒14がろう付けされ
ている。また、ピン3は、ピン穴1eと嵌合される径部
3aと、雌螺子3cが形成され角筒10に嵌合される角
部3bとを有し、これらは一体形成されている。雌螺子
3cには、雄螺子11の上端側が螺合されており、下端
側には、パルスモータ13が設けられている。
FIG. 3 is a view showing a moving means 10 for the pin 3 arranged below the holder 1, and FIG. 4 is a III-I of FIG.
It is a II sectional view. A square tube 14 is brazed to the lower surface of the holder 1 by melting a brazing metal 12 made of metal. Further, the pin 3 has a diameter portion 3a fitted into the pin hole 1e and a corner portion 3b fitted into the square tube 10 having a female screw 3c formed therein, which are integrally formed. The upper end side of the male screw 11 is screwed into the female screw 3c, and the pulse motor 13 is provided on the lower end side.

【0016】そして、このピン3の移動にあたっては、
パルスモータ13が回転すると、その回転量に応じて、
雄螺子11がその軸方向に移動し、ピン3が上下動す
る。図5ないし図7は、本発明の基板の吸着方法の第1
の実施形態を示している。具体的には、基板15Aをホ
ルダ面1aに設けられたリング状突起部1bに吸着する
過程を示している。
When moving the pin 3,
When the pulse motor 13 rotates, depending on the rotation amount,
The male screw 11 moves in the axial direction, and the pin 3 moves up and down. 5 to 7 show a first method of adsorbing a substrate according to the present invention.
2 shows an embodiment of the present invention. Specifically, the process of adsorbing the substrate 15A to the ring-shaped protrusion 1b provided on the holder surface 1a is shown.

【0017】図5は、ホルダ面1aに対し凹面状に撓ん
だ基板15Aが、ピン3上に載置され、ホルダ面1a側
に吸引されていく過程を示している。図5(a)に示す
ように、ホルダ面1aに対し凹面状に撓んだ基板15A
が、その周辺部分15bを3個のピン3で支持され、基
板下面15cの周辺部分15bとホルダ面1aとが所定
の間隔Lにされる。ついで、図5(b)に示すように、
基板下面15cとホルダ面1aとが接近する方向に3個
のピン3が移動する。すなわち、3個のピン3が同時に
一定速度で下降する。そして、この下降動作と並行し
て、吸引器4が起動され、ホルダ面1a近傍の空気が吸
い込まれ、基板15Aがホルダ面1a側に吸引される。
この場合、図5(b)に示すように、まず基板15Aの
中心部分15aがホルダ1a側に吸引され、ついで図5
(c)に示すように、基板15A全体が吸引され平坦状
になり、ピン3の先端側は、ピン穴1eに収納される。
FIG. 5 shows a process in which the substrate 15A bent in a concave shape with respect to the holder surface 1a is placed on the pin 3 and sucked toward the holder surface 1a. As shown in FIG. 5A, the substrate 15A bent in a concave shape with respect to the holder surface 1a.
However, the peripheral portion 15b is supported by the three pins 3, and the peripheral portion 15b of the substrate lower surface 15c and the holder surface 1a are arranged at a predetermined distance L. Then, as shown in FIG.
The three pins 3 move in a direction in which the substrate lower surface 15c and the holder surface 1a approach each other. That is, the three pins 3 simultaneously descend at a constant speed. Then, in parallel with this lowering operation, the suction device 4 is activated, air in the vicinity of the holder surface 1a is sucked, and the substrate 15A is sucked to the holder surface 1a side.
In this case, as shown in FIG. 5 (b), first, the central portion 15a of the substrate 15A is sucked toward the holder 1a side, and then, as shown in FIG.
As shown in (c), the entire substrate 15A is sucked and becomes flat, and the tip side of the pin 3 is housed in the pin hole 1e.

【0018】図6は、ホルダ面1aに対し凸面状に撓ん
だ基板15Aが、ピン3上に載置され、ホルダ面1a側
に吸引されていく過程を示している。図6(a)に示す
ように、ホルダ面1aに対し凸面状に撓んだ基板15A
が、その周辺部分15bを3個のピン3で支持され、基
板下面15cの周辺部分15bとホルダ面1aとが所定
の間隔Lにされる。ついで、図6(b)、図6(c)に
おいては、図5(b)、図5(c)の場合と同様にピン
3が移動し、それと並行して吸引器4が起動され、基板
15Aがホルダ面1a側に吸引される。この場合、図6
(b)に示すように、まず基板15Aの中心部分15a
がホルダ1a側に吸引され、ついで図6(c)に示すよ
うに、基板15A全体が吸引され平坦状になり、ピン3
の先端側は、ピン穴1eに収納される。
FIG. 6 shows a process in which the substrate 15A bent in a convex shape with respect to the holder surface 1a is placed on the pin 3 and sucked toward the holder surface 1a. As shown in FIG. 6A, the substrate 15A bent in a convex shape with respect to the holder surface 1a.
However, the peripheral portion 15b is supported by the three pins 3, and the peripheral portion 15b of the substrate lower surface 15c and the holder surface 1a are arranged at a predetermined distance L. Next, in FIGS. 6B and 6C, the pin 3 moves in the same manner as in FIGS. 5B and 5C, and the suction device 4 is activated in parallel with the movement of the pin 3 to move the substrate. 15A is attracted to the holder surface 1a side. In this case,
As shown in (b), first, the central portion 15a of the substrate 15A.
Is sucked toward the holder 1a, and then the entire substrate 15A is sucked into a flat shape as shown in FIG.
The tip end side of is stored in the pin hole 1e.

【0019】図7は、中心部15aがホルダ面1aに対
し凹面状に撓み、かつ周辺部分15bが垂れ下がった基
板15Bが、ピン3上に載置され、ホルダ面1a側に吸
引されていく過程を示している。図7(a)に示すよう
に、中心部15aがホルダ面1aに対し凹面状に撓み、
かつ周辺部分15bが垂れ下がった基板15Bが、その
周辺部分15bを3個のピン3で支持され、基板下面1
5cの周辺部分15bとホルダ面1aとが所定の間隔L
にされる。ついで、図7(b)、図7(c)において
は、図5(b)、図5(c)の場合と同様にピン3が移
動し、それと並行して吸引器4が起動され、基板15A
がホルダ面1a側に吸引される。この場合、まず、図7
(b)に示すように、基板15Bは、その周辺部分15
bを除いてほぼ平坦にされる。ついで、図7(c)に示
すように、ピン3がさらに下降して、基板15Bはその
周辺部分15bの撓みがなくなって平坦状となり、ピン
3の先端側は、ピン穴1eに収納される。
FIG. 7 shows a process in which the substrate 15B in which the central portion 15a is bent concavely with respect to the holder surface 1a and the peripheral portion 15b is hung down is placed on the pin 3 and sucked toward the holder surface 1a. Is shown. As shown in FIG. 7A, the central portion 15a bends in a concave shape with respect to the holder surface 1a,
Further, the substrate 15B having the peripheral portion 15b hanging down is supported by the three pins 3 on the peripheral portion 15b, and the substrate lower surface 1
The peripheral portion 15b of 5c and the holder surface 1a have a predetermined distance L.
To be Next, in FIGS. 7B and 7C, the pin 3 is moved in the same manner as in FIGS. 5B and 5C, and the suction device 4 is activated in parallel with the movement of the pin 3 to move the substrate. 15A
Are attracted to the holder surface 1a side. In this case, first,
As shown in (b), the substrate 15B has a peripheral portion 15
It is made almost flat except for b. Then, as shown in FIG. 7C, the pin 3 is further lowered, the peripheral portion 15b of the substrate 15B is not bent and becomes flat, and the tip end side of the pin 3 is housed in the pin hole 1e. .

【0020】この第1の実施形態の基板の吸着装置で
は、ピン3により基板15A,15Bの周辺部分15b
が支持され、基板15A,15Bは中心部分15aから
周辺部分15bへと徐々に吸着可能であるから、ホルダ
面1aに設けられたリング状突起部1bに容易かつ確実
に基板15A,15Bを平坦な状態で吸着することがで
きる。
In the substrate suction device according to the first embodiment, the pin 3 serves to attach the peripheral portions 15b of the substrates 15A and 15B.
Is supported, and the substrates 15A and 15B can be gradually adsorbed from the central portion 15a to the peripheral portion 15b. Therefore, the substrates 15A and 15B can be easily and reliably flattened on the ring-shaped protrusion 1b provided on the holder surface 1a. It can be adsorbed in the state.

【0021】そして、吸引器4による空気の吸い込み強
さを調節することにより、比較的軽い力で基板15A,
15Bを吸着することができ、基板15A,15Bを直
接クランプや板ばね等で押圧保持する場合のように比較
的強い力で保持する必要がないから、基板15A,15
Bに傷等の塑性変形を生じさせることを防ぐことができ
る。
By adjusting the suction strength of the air by the suction device 4, the substrate 15A,
15B can be adsorbed, and it is not necessary to hold the substrates 15A and 15B with a relatively strong force as in the case of directly pressing and holding the substrates 15A and 15B.
It is possible to prevent the B from being plastically deformed such as a scratch.

【0022】さらに、この第1の実施形態の基板の吸着
装置では、3個のピン3は、基板15A,15Bの周辺
部分15bと当接され、リング状突起部1bと同心円上
に中心角を120度置いて設けられるので、必要最小限
の数のピン3で、安定した状態で基板15A,15Bを
支持することができる。すなわち、例えば、ピン3が4
個以上設けられる場合は、ピン3のホルダ面1aからの
突出長さが全て等しくなければ、基板15A,15Bと
当接しないピン3が現れるが、この基板の吸着装置では
このような状態が発生することを防ぐことができる。
Further, in the substrate suction device according to the first embodiment, the three pins 3 are brought into contact with the peripheral portions 15b of the substrates 15A and 15B, and the center angles thereof are concentric with the ring-shaped protrusion 1b. Since they are provided 120 degrees apart, the substrates 15A and 15B can be supported in a stable state by the minimum number of pins 3 required. That is, for example, pin 3 is 4
If more than one pin 3 is provided, the pins 3 that do not contact the substrates 15A and 15B will appear unless the protrusion lengths of the pins 3 from the holder surface 1a are all equal. Can be prevented.

【0023】そして、この第1の実施形態の基板の吸着
方法では、基板15A,15Bの周辺部分15bが同一
円周上に120度の角度を置いた3個のピン3で支持さ
れてから、基板15A,15Bがホルダ面1a側へ吸引
され、かつ基板下面15cとホルダ面1aとが接近する
方向へ3個のピン3が移動されるので、基板15A,1
5Bは、その中心部分15aから周辺部分15bへと徐
々に吸着されるから、3個のピン3の先端側がピン穴1
eに収納されるときには、基板15A,15Bを平坦な
状態でホルダ面1a上のリング状突起部1bに吸着する
ことができる。
In the substrate suction method according to the first embodiment, after the peripheral portions 15b of the substrates 15A and 15B are supported by the three pins 3 arranged at an angle of 120 degrees on the same circumference, The substrates 15A and 15B are sucked toward the holder surface 1a, and the three pins 3 are moved in a direction in which the substrate lower surface 15c and the holder surface 1a approach each other.
5B is gradually adsorbed from the central portion 15a to the peripheral portion 15b, so that the tip ends of the three pins 3 are pin holes 1.
When stored in e, the substrates 15A and 15B can be attracted to the ring-shaped protrusion 1b on the holder surface 1a in a flat state.

【0024】なお、この第1の実施形態では、ピン3の
移動手段10に、雄螺子11を使用した例について説明
したが、直線移動することができれば良く、例えば、シ
リンダとピストンを用いた油圧機構を使用しても良い。 (第2の実施形態)図8および図9は、本発明の基板の
吸着装置の第2の実施形態を示している。
In the first embodiment, the example in which the male screw 11 is used as the moving means 10 of the pin 3 has been described, but it is sufficient if the male screw 11 can be moved linearly. For example, a hydraulic pressure using a cylinder and a piston. A mechanism may be used. (Second Embodiment) FIGS. 8 and 9 show a second embodiment of the substrate suction device of the present invention.

【0025】なお、この第2の実施形態において、第1
の実施形態と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な
説明を省略する。図8は、基板の吸着装置の上面図であ
り、図9は図8のIV−IV線断面図である。この第2の実
施形態の基板の吸着装置では、支持部材として3個の爪
状部材17が使用されている。この爪状部材17は、リ
ング状突起部1bと同心円上に中心角を120度置いて
設けられている。
In the second embodiment, the first
The same members as those in the above embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. 8 is a top view of the substrate suction device, and FIG. 9 is a sectional view taken along line IV-IV of FIG. In the substrate suction device of the second embodiment, three claw-shaped members 17 are used as support members. The claw-shaped member 17 is provided concentrically with the ring-shaped protrusion 1b with a central angle of 120 degrees.

【0026】また、この爪状部材17が設けられたこと
に伴い、ホルダ1には、切欠部1fが設けられている。
この切欠部1fは、ホルダ1の外周に中心角を120度
置いて形成されている。図10および図11は、爪状部
材17により基板15Aを挟持し、搬送するための搬送
装置の概略を示している。
Further, due to the provision of the claw-shaped member 17, the holder 1 is provided with the notch 1f.
The notch 1f is formed on the outer circumference of the holder 1 with a central angle of 120 degrees. 10 and 11 schematically show a carrier device for holding and carrying the substrate 15A by the claw-shaped member 17.

【0027】この搬送装置19は、基板15Aを基板1
5Aと水平方向に移動させる変位機構21と、この変位
機構21の先端側に連結された回動可能なアーム23
R,23Lとを有している。また、変位機構21の基端
側には回転機構25が設けられている。この回転機構2
5には、基板15Aを上下方向に移動させる上下動機構
27が連結されている。
In this carrying device 19, the substrate 15A is connected to the substrate 1
5A, a displacement mechanism 21 for moving in the horizontal direction, and a rotatable arm 23 connected to the tip end side of the displacement mechanism 21.
R and 23L. A rotation mechanism 25 is provided on the base end side of the displacement mechanism 21. This rotation mechanism 2
A vertical movement mechanism 27 that moves the substrate 15A in the vertical direction is connected to the unit 5.

【0028】アーム23R,23Lには、それぞれ爪状
部材17が1個ずつ設けられている。また、変位機構2
1の先端にも1個の爪状部材17が設けられている。そ
して、この搬送装置19では、基板15Aをホルダ1へ
搬送するにあたっては、まず、図10および図11に示
したように、爪状部材17上に基板15Aを載置し、変
位機構21による直線方向への移動と、回転機構25に
よる回転方向への移動とにより、基板15Aをホルダ面
1a上に移動させる。ついで、上下動機構27により、
後述する図12(a)に示すように、基板15Aをホル
ダ面1aに近接させる。ついで、基板15Aをホルダ面
1a側に吸引し、吸引を行いながら、さらに、上下動機
構27により、基板15Aとホルダ面1aとを近接させ
る。そして、基板15Aがホルダ面1a上のリング状突
起部1bに吸着され、爪状部材17が基板15Aから所
定の間隔離れるまで、上下動機構27を作動させる。つ
いで、円弧状のアーム23R、23Lを、3個の爪状部
材17と基板15Aとを離隔するために相互に反対方向
に回動させる。そして、爪状部材17と基板15Aとが
十分離れたら、上下動機構27により、爪状部材17を
基板15Aより上方に移動させる。最後に、爪状部材1
7が基板15Aから所定の間隔離れるような位置まで、
変位機構21により爪状部材17を退避させる。
Each of the arms 23R and 23L is provided with one claw-shaped member 17. In addition, the displacement mechanism 2
One claw-shaped member 17 is also provided at the tip of 1. Then, in this transfer device 19, when the substrate 15A is transferred to the holder 1, first, as shown in FIGS. 10 and 11, the substrate 15A is placed on the claw-shaped member 17 and is linearly moved by the displacement mechanism 21. The movement in the direction and the movement in the rotation direction by the rotation mechanism 25 move the substrate 15A onto the holder surface 1a. Then, by the vertical movement mechanism 27,
As shown in FIG. 12A described later, the substrate 15A is brought close to the holder surface 1a. Next, the substrate 15A is sucked toward the holder surface 1a side, and while the suction is performed, the vertical movement mechanism 27 further brings the substrate 15A and the holder surface 1a close to each other. Then, the vertical movement mechanism 27 is operated until the substrate 15A is attracted to the ring-shaped protrusion 1b on the holder surface 1a and the claw-shaped member 17 is separated from the substrate 15A for a predetermined period. Next, the arcuate arms 23R and 23L are rotated in opposite directions to separate the three claw-shaped members 17 from the substrate 15A. Then, when the claw-shaped member 17 and the substrate 15A are sufficiently separated, the vertical movement mechanism 27 moves the claw-shaped member 17 above the substrate 15A. Finally, the claw-shaped member 1
7 to a position where it is separated from the substrate 15A for a predetermined time,
The displacement mechanism 21 retracts the claw-shaped member 17.

【0029】図12は、ホルダ面1aに対し凸面状に撓
んだ基板15Aが吸引されて行く過程での爪状部材17
の動きを示している。まず、図12(a)に示すよう
に、ホルダ面1aに対し凸面状に撓んだ基板15Aが、
その周辺部分15bで3個の爪状部材17により支持さ
れ、基板下面15cの周辺部分15bとホルダ面1aと
が所定の間隔Lにされる。ついで、図12(b)に示す
ように、基板下面15cとホルダ面1aとが接近する方
向へ3個の爪状部材17が移動され、基板15Aの中心
部分15aがホルダ面1a側に吸引されながらホルダ面
1aに近接される。ついで、図12(c)に示すよう
に、基板15Aは平坦状にされる。最後に、図12
(d)に示すように、爪状部材17が径方向に広がり、
基板15Aから離隔される。
FIG. 12 shows a claw-shaped member 17 in the process of sucking the substrate 15A bent in a convex shape with respect to the holder surface 1a.
Shows the movement of. First, as shown in FIG. 12A, the substrate 15A bent in a convex shape with respect to the holder surface 1a is
The peripheral portion 15b is supported by the three claw-shaped members 17, and the peripheral portion 15b of the substrate lower surface 15c and the holder surface 1a are arranged at a predetermined distance L. Next, as shown in FIG. 12B, the three claw-shaped members 17 are moved in a direction in which the substrate lower surface 15c and the holder surface 1a approach each other, and the central portion 15a of the substrate 15A is sucked toward the holder surface 1a side. While approaching the holder surface 1a. Then, as shown in FIG. 12C, the substrate 15A is flattened. Finally, FIG.
As shown in (d), the claw-shaped member 17 spreads in the radial direction,
It is separated from the substrate 15A.

【0030】以上のような第2の実施形態による基板の
吸着装置においても、第1の実施形態と同様の効果を奏
する。そして、この第2の実施形態の基板の吸着装置で
は、搬送装置19により、基板15A,15Bを3次元
的に移動させることができるので、パルスモータ等によ
り、変位機構21と回転機構25と上下動機構27とを
駆動させれば、正確な基板15A,15Bの移動が可能
である。
The substrate suction device according to the second embodiment as described above also has the same effect as that of the first embodiment. In the substrate suction device according to the second embodiment, the substrates 15A and 15B can be moved three-dimensionally by the transfer device 19. Therefore, the displacement mechanism 21, the rotation mechanism 25, and the vertical mechanism can be vertically moved by a pulse motor or the like. By driving the moving mechanism 27, the substrates 15A and 15B can be moved accurately.

【0031】なお、この第2の実施形態では、変位機構
21と回転機構25と上下動機構27とを駆動させるこ
とで、爪状部材17について円柱座標系を構成した例に
ついて説明したが、3次元的に爪状部材17を移動させ
ることができれば良く、例えば、相互に直交する3軸を
有する直交座標系を構成するようにしても良い。 (第3の実施形態)図13ないし図15は、本発明の基
板の吸着装置の第3の実施形態を示している。図13は
第3の実施形態の基板の吸着装置の上面図であり、図1
4は図13のVI−VI線断面図である。この基板の吸着装
置は、第1の実施形態の基板の吸着装置(図1)と異な
り、リング状突起部1bで基板を支持する代わりに、ホ
ルダ面31a上に形成された多数の小さなピン状突起部
31pで基板を支持する構造になっている。
In the second embodiment, the displacement mechanism 21, the rotation mechanism 25, and the vertical movement mechanism 27 are driven to form a cylindrical coordinate system for the claw-shaped member 17. However, 3 has been described. It suffices that the claw-shaped member 17 can be moved dimensionally, and for example, an orthogonal coordinate system having three axes orthogonal to each other may be configured. (Third Embodiment) FIGS. 13 to 15 show a third embodiment of the substrate suction device of the present invention. FIG. 13 is a top view of the substrate suction device of the third embodiment.
4 is a sectional view taken along line VI-VI in FIG. This substrate suction device is different from the substrate suction device of the first embodiment (FIG. 1) in that, instead of supporting the substrate by the ring-shaped protrusion 1b, a large number of small pin-shaped members are formed on the holder surface 31a. The protrusion 31p has a structure of supporting the substrate.

【0032】ホルダ31には、複数個所に配置された吸
気穴31dがあり、これらは図2と同様の吸引器4へ接
続されている。ピン3、小チューブ5、中継コネクタ
7、大チューブ9、吸引器4は、それぞれ図1あるいは
図2に記載の部材と同一の部材である。図15は、基板
15Aがピン3上に載置され、ホルダ面1a側に吸引さ
れていく過程を示している。
The holder 31 has intake holes 31d arranged at a plurality of places, which are connected to the suction device 4 similar to that shown in FIG. The pin 3, the small tube 5, the relay connector 7, the large tube 9, and the suction device 4 are the same members as those shown in FIG. 1 or FIG. FIG. 15 shows a process in which the substrate 15A is placed on the pins 3 and sucked toward the holder surface 1a.

【0033】図15(a)に示すように、基板15A
が、その周辺部分15bを3個のピン3で支持され、基
板下面15cの周辺部分15bとホルダ面31aとが所
定の間隔Lにされる。ついで、図15(b)に示すよう
に、基板下面15cとホルダ面31aとが接近する方向
に3個のピン3が下降する。そして、この下降動作と並
行して、吸引器4が起動され、吸気穴31dからホルダ
面1a近傍の空気が吸い込まれ、基板15Aがホルダ面
31a側に吸引される。ここで、ピン状突起部31pの
みでは、吸気穴31dから吸気しても、密閉空間が得ら
れず、漏れが生じるので、ホルダ31の周辺部にのみ一
本のリング状突起部31rが形成されている。
As shown in FIG. 15A, the substrate 15A
However, the peripheral portion 15b is supported by the three pins 3, and the peripheral portion 15b of the substrate lower surface 15c and the holder surface 31a are arranged at a predetermined distance L. Next, as shown in FIG. 15B, the three pins 3 descend in the direction in which the substrate lower surface 15c and the holder surface 31a approach each other. Then, in parallel with this lowering operation, the suction device 4 is activated, the air in the vicinity of the holder surface 1a is sucked from the suction hole 31d, and the substrate 15A is sucked to the holder surface 31a side. Here, if only the pin-shaped protrusion 31p is used, a closed space cannot be obtained even if air is sucked in through the intake hole 31d, and leakage occurs. Therefore, one ring-shaped protrusion 31r is formed only in the peripheral portion of the holder 31. ing.

【0034】リング状突起部31rの外側には、リング
状突起部31rと同心円状に120度の間隔で3つのピ
ン穴31eが形成されており、それぞれにピン3が挿入
されている。図15(b)に示すように、ピン3が下降
して基板15Aが平坦状となり、ピン3の先端側は、ピ
ン穴31eに収納される。以上のような第3の実施形態
による基板の吸着装置においても、第1の実施形態によ
る基板の吸着装置と同様の効果を奏する。
On the outside of the ring-shaped protrusion 31r, three pin holes 31e are formed concentrically with the ring-shaped protrusion 31r at intervals of 120 degrees, and the pin 3 is inserted into each of them. As shown in FIG. 15B, the pins 3 descend and the substrate 15A becomes flat, and the tip ends of the pins 3 are housed in the pin holes 31e. The substrate suction device according to the third embodiment as described above also has the same effects as the substrate suction device according to the first embodiment.

【0035】(第4の実施形態)図16および図17
は、本発明の基板の吸着装置の第4の実施形態を示して
いる。なお、この第4の実施形態において、第3の実施
形態と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明を
省略する。図16は、基板の吸着装置の上面図であり、
図17は図16のVII−VII線断面図である。この第4の
実施形態の基板の吸着装置では、支持部材として3個の
爪状部材17が使用されており、ホルダ31には、切欠
部31fが設けられている。これらの構成は、第2の実
施形態における爪状部材17、切欠部1fと同様である
ので、その説明を省略する。
(Fourth Embodiment) FIGS. 16 and 17
Shows a fourth embodiment of the substrate suction device of the present invention. In addition, in this 4th Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as 3rd Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted. FIG. 16 is a top view of the substrate suction device,
FIG. 17 is a sectional view taken along line VII-VII of FIG. In the substrate suction device of the fourth embodiment, three claw-shaped members 17 are used as support members, and the holder 31 is provided with a cutout 31f. Since these configurations are similar to the claw-shaped member 17 and the cutout portion 1f in the second embodiment, the description thereof will be omitted.

【0036】爪状部材17により基板15Aを挟持し搬
送するための搬送装置についても、第2の実施形態にお
ける図10、図11で示した搬送装置19と同様である
のでその説明を省略する。この第4の実施形態の基板の
吸着装置の動作については、図17の状態で、基板がそ
の周辺部分を3個の爪状部材17により支持され、3個
の爪状部材17が下降するとともに吸引器4が起動さ
れ、基板がホルダ面31a側に吸引される。この動作に
関しては、第2の実施形態における図12による説明と
同様であるので、詳細な説明を省略する。
The carrying device for holding and carrying the substrate 15A by the claw-shaped member 17 is also similar to the carrying device 19 shown in FIGS. 10 and 11 in the second embodiment, and therefore its explanation is omitted. Regarding the operation of the substrate suction device of the fourth embodiment, in the state of FIG. 17, the substrate is supported at its peripheral portion by the three claw-shaped members 17, and the three claw-shaped members 17 descend. The suction device 4 is activated and the substrate is sucked toward the holder surface 31a. This operation is the same as the description with reference to FIG. 12 in the second embodiment, so detailed description will be omitted.

【0037】以上のような第4の実施形態による基板の
吸着装置においても、第2の実施形態による基板の吸着
装置と同様の効果を奏する。なお、上述した第1ないし
第4の実施形態では、真空吸着を利用して基板15A,
15Bをホルダ面1a,31a上のリング状突起部1
b,31rに吸着した例について説明したが、静電吸着
や磁力吸着で行っても良い(例えば、特開平11−06
7885号公報参照)。
The substrate suction device according to the fourth embodiment as described above also has the same effect as the substrate suction device according to the second embodiment. In the first to fourth embodiments described above, the substrate 15A,
15B is a ring-shaped protrusion 1 on the holder surfaces 1a and 31a.
Although the example of adsorption to b and 31r has been described, electrostatic attraction or magnetic attraction may be used (for example, JP-A-11-06).
7885 gazette).

【0038】[0038]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の基板の吸着
方法では、基板の周辺部分が複数の支持部材で支持され
てから、基板がホルダ面側へ吸引され、かつ基板の一面
とホルダ面とが接近する方向へ支持部材が移動されるの
で、基板は、その中心部分から周辺部分へと徐々に吸着
されるから、ホルダ面に設けられた吸着部に容易かつ確
実に基板を平坦な状態で吸着することができる。
As described above, in the substrate suction method of the present invention, after the peripheral portion of the substrate is supported by the plurality of supporting members, the substrate is sucked toward the holder surface side and the one surface of the substrate and the holder are supported. Since the support member is moved in the direction of approaching the surface, the substrate is gradually adsorbed from the central portion to the peripheral portion, so that the adsorption portion provided on the holder surface can easily and reliably flatten the substrate. It can be adsorbed in the state.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態における基板の吸着装
置を示す上面図である。
FIG. 1 is a top view showing a substrate suction device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のII−II線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.

【図3】ピンの移動機構を含む図1のII−II線断面図で
ある。
3 is a sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 including a pin moving mechanism.

【図4】図3のIII−III線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line III-III in FIG.

【図5】本発明の第1の実施形態における基板の吸引過
程を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a suction process of the substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施形態における基板の吸引過
程を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a suction process of the substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1の実施形態における基板の吸引過
程を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a suction process of the substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態における基板の吸着装
置を示す上面図である。
FIG. 8 is a top view showing a substrate suction device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】図8のIV−IV線断面図である。9 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図10】本発明の第2の実施形態における基板の搬送
装置を示す上面図である。
FIG. 10 is a top view showing a substrate transfer device according to a second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第2の実施形態における基板の搬送
装置を示す側面図である。
FIG. 11 is a side view showing a substrate transfer device according to a second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第2の実施形態における基板の吸引
過程を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a suction process of a substrate according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第3の実施形態における基板の吸引
装置を示す上面図である。
FIG. 13 is a top view showing a substrate suction device according to a third embodiment of the present invention.

【図14】図13のVI−VI線断面図である。14 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG.

【図15】本発明の第3の実施形態における基板の吸引
過程を示す説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram showing a suction process of a substrate according to the third embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第4の実施形態における基板の吸引
装置を示す上面図である。
FIG. 16 is a top view showing a substrate suction device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図17】図16のVII−VII線断面図である。17 is a sectional view taken along line VII-VII of FIG.

【図18】従来の基板の吸着装置を示す上面図である。FIG. 18 is a top view showing a conventional substrate suction device.

【図19】図18のV−V線断面図である。19 is a sectional view taken along line VV of FIG.

【図20】従来の基板の吸引過程を示す説明図である。FIG. 20 is an explanatory diagram showing a conventional substrate suction process.

【図21】従来の基板の吸引過程を示す説明図である。FIG. 21 is an explanatory diagram showing a conventional substrate suction process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,31 ホルダ 1a,31a ホルダ面 1b リング状突起部 1d,31d 吸気穴 3 ピン 4 吸引器 15A,15B 基板 15b 周辺部分 15c 基板下面 17 爪状部材 31p ピン状突起部 31r リング状突起部 1,31 holder 1a, 31a Holder surface 1b Ring-shaped protrusion 1d, 31d intake hole 3 pin 4 aspirator 15A, 15B substrate 15b peripheral part 15c Bottom surface of substrate 17 Claw-shaped member 31p Pin-shaped protrusion 31r Ring-shaped protrusion

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の一方の面をホルダ面に設けられた
吸着部に吸着させる基板の吸着方法であって、 前記基板の周辺部分を複数の支持部材で支持し、前記基
板の一方の面の前記周辺部分と前記ホルダ面とを所定の
間隔にする支持工程と、 前記基板を前記ホルダ面側に吸引する吸引工程と、 前記支持部材を、前記基板の一方の面と前記ホルダ面と
が接近する方向に移動させる移動工程とを有することを
特徴とする基板の吸着方法。
1. A method of adsorbing a substrate in which one surface of the substrate is adsorbed to an adsorption portion provided on a holder surface, wherein a peripheral portion of the substrate is supported by a plurality of supporting members, and one surface of the substrate is provided. A step of supporting the peripheral portion and the holder surface with a predetermined distance, a suction step of sucking the substrate toward the holder surface, and the support member, one surface of the substrate and the holder surface. And a moving step of moving the substrate in an approaching direction.
【請求項2】 請求項1記載の基板の吸着方法におい
て、 前記吸引工程と前記移動工程とが並行して行われること
を特徴とする基板の吸着方法。
2. The substrate suction method according to claim 1, wherein the suction step and the moving step are performed in parallel.
【請求項3】 基板の一方の面が吸着される吸着部が設
けられたホルダ面を備えたホルダと、 前記基板の周辺部分を、前記ホルダ面から所定の間隔離
した状態で支持可能な複数の支持部材と、 前記複数の支持部材を、前記基板の一方の面と前記ホル
ダ面とが接近する方向に移動させる移動手段と、 前記吸着部に前記基板の一方の面を吸着させる吸着手段
とを有することを特徴とする基板の吸着装置。
3. A holder having a holder surface provided with an adsorption portion for adsorbing one surface of a substrate, and a plurality of holders capable of supporting a peripheral portion of the substrate in a state of being separated from the holder surface for a predetermined period. A supporting member, a moving unit that moves the plurality of supporting members in a direction in which one surface of the substrate and the holder surface approach, and a suction unit that suctions one surface of the substrate to the suction unit. An apparatus for adsorbing a substrate, comprising:
【請求項4】 請求項3記載の基板の吸着装置におい
て、 前記吸着手段は、前記ホルダに形成され前記ホルダ面近
傍の空気が吸い込まれる吸気穴を有することを特徴とす
る基板の吸着装置。
4. The substrate suction device according to claim 3, wherein the suction means has an intake hole formed in the holder for sucking air in the vicinity of the holder surface.
【請求項5】 請求項3または請求項4記載の基板の吸
着装置において、 前記支持部材は、3個配置され、前記基板の周辺部分の
3箇所を支持することを特徴とする基板の吸着装置。
5. The substrate suction device according to claim 3 or 4, wherein three support members are arranged, and support three positions of a peripheral portion of the substrate. .
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