WO2005036635A1 - Teaching tool for semiconductor wafer carrying robot - Google Patents

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WO2005036635A1
WO2005036635A1 PCT/JP2004/015060 JP2004015060W WO2005036635A1 WO 2005036635 A1 WO2005036635 A1 WO 2005036635A1 JP 2004015060 W JP2004015060 W JP 2004015060W WO 2005036635 A1 WO2005036635 A1 WO 2005036635A1
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WO
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wafer
teaching
robot
jig
teaching jig
Prior art date
Application number
PCT/JP2004/015060
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French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Masaru Adachi
Mitsunori Kawabe
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68707Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance

Definitions

  • the V-shaped notch described above is a notch 16 for sensing, and when the sensor jig 13 is attached to the wafer gripper 5, the optical axis 10 of the first transmitted light sensor 6 of the wafer gripper 5 and the sensor mount Notches for avoiding interference of the plate 14 and for avoiding interference between a small circular pin of a teaching jig described later and the sensor mount plate 14.
  • Reference numeral 17 denotes a second transmitted light sensor, which is fixed to the center of the sensor mount plate 14.
  • Reference numeral 18 denotes an optical axis of the second transmitted light sensor 17.
  • the second transmitted light sensor has a substantially U shape, and the width of the opening, that is, the length of the optical axis 18 is about 13 mm.
  • the second transmitted light sensor 17 Since the second transmitted light sensor 17 is fixed to the center of the sensor mount plate 14, when the sensor jig 13 is mounted on the robot hand, the second transmitted light sensor 17 is positioned substantially at the center of the semiconductor wafer mounting portion of the robot hand. 2 The transmitted light sensor 17 is located. Reference numeral 19 denotes a sensor cable for transmitting the signal of the second transmitted light sensor 17 to a robot controller (not shown). Next, a wafer position teaching method using these teaching jigs will be described. 10 to 13 are explanatory views of the wafer position teaching method according to the present invention, wherein (a) is a plan view and (b) is a side view.
  • Step 2 Check the displacement of the teaching jig 11 or the teaching jigs 23, 24, 25 by half It is placed on the place where the conductor wafer is placed.
  • the selection of the teaching jig shall be selected according to the shape of the wafer installation surface on the station side. In the present embodiment, the teaching jig 11 will be described below. Since the large disk portion 12 of the teaching jig 11 has exactly the same outer diameter as the actual semiconductor wafer, the teaching jig 11 is correctly positioned by a positioning guide of a storage container or the like.
  • Step 3 As shown in FIG. 11, the wafer gripper 5 is moved below the large disk part 12 by the operation of the operator.
  • Step 4 The wafer gripper 5 is lifted, the lower surface of the large disc 12 is detected by the first transmitted light sensor 6, and the coordinate value Z on the Z axis of the robot at that time is recorded. In addition, the wafer gripper 5
  • the upper surface of the large disk portion 12 is detected by the first transmitted light sensor 6, and the coordinate value Z of the Z axis of the robot at that time is recorded.
  • Step 6 While the first transmitted light sensor 6 does not detect the small circular pin 22, the wafer gripper 5 is retracted to the position.
  • Step 8 Steps 6 and 7 are repeated to bring the wafer gripper 5 closer to the small circular pin 22 with a different directional force, and the ⁇ axis when the optical axis 10 contacts the circumference of the small circular pin 22
  • the center position (0, Rs) of the small circle pin 22 is obtained and recorded by solving multiple least-squares methods of these values.
  • Step 11 The ⁇ axis is operated at ⁇ stored in step 10. Next, as shown in Figure 13.
  • Step 12 The estimated position of the small circle pin 22 is calculated from Z and Z stored in Step 4 (Z + Z).
  • Step 14 The sensor jig 13 is removed from the wafer gripper 5 of the robot.

Abstract

A teaching tool (11) enabling an increase in accuracy for estimating the position of a wafer, the accurate positioning thereof even in a device of such type that supports the wafer by a pin, and the self-collection thereof by the robot. The teaching tool (11) teaches the position of the wafer to the robot by putting the wafer on a wafer loading part and detecting a detected part by a light transmission type sensor installed on the hand (5) of the robot. The teaching tool comprises a large disk part (12) having the same outer diameter as that of the wafer, a small circular pin (22) positioned co-axial with the large disk part (12), and an arch-shaped member (26) positioned co-axial with the large disk part (12). The teaching tool is formed such that a distance between the center of the large disk part (12) and the outer circular part of the arch-shaped member (26) is equal to a distance between the optical axis (10) of the sensor and the center (29) of the wafer loading part of the hand (5).

Description

半導体ゥェハ搬送用口ポットの教示治具  Teaching tool for semiconductor wafer transfer port pot
技術分野 Technical field
[0001] 本発明は、半導体ウェハ搬送用ロボットに半導体ウェハの位置を教示する教示治具 に関するものである。  The present invention relates to a teaching jig for teaching a position of a semiconductor wafer to a semiconductor wafer transport robot.
背景技術  Background art
[0002] 従来、半導体ウェハ搬送用ロボットの教示作業は、一般の産業用ロボットと同様に、 作業者が、搬送対象のウェハを目視して、その位置を確認してロボットをウェハに誘 導していた。しかしながら、処理装置等の内部にあるウェハを外部から目視することは 、困難あるいは不可能な場合がある。そこで、実物のウェハと同一寸法の教示治具を ウェハの代わりに処理装置等に載置して、その教示治具の位置をロボットのエンドェ フエクタに設けたセンサで検出して、ロボットに位置を教示するいわゆるオートティー チングの方法や装置が提案されて!ヽる。  [0002] Conventionally, in a teaching operation of a semiconductor wafer transfer robot, an operator visually looks at a transfer target wafer, confirms a position of the transfer target wafer, and guides the robot to the wafer, similarly to a general industrial robot. I was However, it is sometimes difficult or impossible to visually observe a wafer inside a processing apparatus or the like from the outside. Therefore, a teaching jig having the same dimensions as the actual wafer is placed on a processing device or the like instead of the wafer, and the position of the teaching jig is detected by a sensor provided in the end effector of the robot, and the position is determined by the robot. A so-called auto-teaching method and device for teaching has been proposed! Puru.
[0003] 本発明の発明者は、先に特許文献 1において、 2つの透過光式センサを備えたハ ンドを使って教示治具のセンシングを行う方法を提案している。この方法では、教示 治具に設けられた小円板に、異なる方向からハンドを接近させて、その結果に最小 2 乗法を適用してロボットの教示位置すなわち、円筒座標系(R- θ -Z)の R値、 Θ値、 Z値を求めている。ここで、 R値はロボットアームの伸縮方向の教示値を、 Θ値はロボ ットの回転方向の教示値を、 Z値はロボットの上下方向の教示値を意味する。  [0003] The inventor of the present invention has previously proposed in Patent Document 1 a method of sensing a teaching jig using a hand having two transmitted light sensors. In this method, the hand approaches the small disk provided on the teaching jig from different directions, and the result is applied to the teaching position of the robot, that is, the cylindrical coordinate system (R-θ-Z ), R value, Θ value, and Z value are calculated. Here, the R value indicates the teaching value of the robot arm in the extension and contraction direction, the Θ value indicates the teaching value of the robot in the rotation direction, and the Z value indicates the teaching value of the robot in the vertical direction.
特許文献 1:国際公開公報 WO03Z22534  Patent Document 1: International Publication No. WO03Z22534
発明の開示  Disclosure of the invention
発明が解決しょうとする課題  Problems to be solved by the invention
[0004] し力しながら、特許文献 1の装置では、教示治具にハンドを接近させる方向および センサで教示治具を検出するときのハンドの姿勢が、実際にロボットがウェハを搬送 等するときの方向や位置と異なるので、ロボットの相対移動精度が保証されていない とセンシングによって自動算出された教示位置の推定精度が満足できないという問 題があった。 また、狭隘な処理装置の内部では、方向を変えてハンドを小円板に接近させること ができな!/、と!/、う問題もあった。 [0004] In the apparatus disclosed in Patent Document 1, the direction in which the hand approaches the teaching jig and the posture of the hand when the teaching jig is detected by the sensor are determined when the robot actually transports the wafer or the like. Therefore, the accuracy of estimating the teaching position automatically calculated by sensing cannot be satisfied unless the relative movement accuracy of the robot is guaranteed. Also, inside a narrow processing unit, there was a problem that it was not possible to change the direction and approach the hand to the small disk! /, And! /.
また、教示治具はウェハと同径なのでカセットのようなステーションではスロットへ押 し付けることによって容易に位置決めが可能である力 3本ピンでウェハを支持するス テーシヨンや落としこみ形状でウェハ設置位置に許容があるステーションやブリアライ ナのように円筒状の支持台でウェハを受けるステーションでは教示治具の位置決め が困難であるという問題があった。  In addition, since the teaching jig has the same diameter as the wafer, it can be easily positioned by pressing it into a slot in a station such as a cassette. A force that supports the wafer with three pins, or a wafer mounting position with a drop-in shape However, there is a problem that it is difficult to position the teaching jig in a station that has a tolerance and a station that receives a wafer on a cylindrical support such as a bria liner.
また、自動ティーチング終了後に教示治具をステーション力 取り除く作業を人手 で行うので、処理装置などの場合ステーションの蓋を開けるなどして作業に時間を要 すると ヽつた問題もあった。  In addition, since the work of removing the teaching jig from the station force is performed manually after the end of the automatic teaching, there has been another problem that in the case of a processing device or the like, it takes time to open the station lid or the like.
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、教示治具の位置の推定精 度を向上させるとともに、ウェハをピンで支持するタイプの装置においても教示治具を 正確に位置決めすることが可能であり、さらに、教示治具をロボット自身で自動回収 できる教示治具を提供することを目的とするものである。  The present invention has been made in view of such a problem, and improves the accuracy of estimating the position of the teaching jig and accurately positions the teaching jig even in a device that supports a wafer with pins. It is another object of the present invention to provide a teaching jig capable of automatically collecting the teaching jig by the robot itself.
課題を解決するための手段 Means for solving the problem
上記問題を解決するために、本発明は半導体ウェハの搬送を行なうロボットに搬送 対象のウェハの位置を教示する教示治具であって、前記搬送対象のウェハに代えて 、前記ウェハを載置する場所に載置し、前記教示治具に設けた被検出部を前記ロボ ットのハンド上に設けた透過光式のセンサで検出することによって、前記ロボットに前 記ウェハの位置を教示する教示治具において、前記ウェハと同一の外径を有する大 円板部と、前記大円板部と中心軸を共通にする小円ピンと、前記大円板部と中心軸 を共通にするアーチ形状物を備え、前記大円板部の中心から前記アーチ形状物の 外円部までの距離と、前記センサの光軸力 前記ハンドのウェハ載置部の中心まで の距離とが等しくなるように教示治具を構成するものである。また、前記教示治具の 背面に処理装置のウェハ支持ピンと嵌合する溝を備えるものである。また、前記搬送 対象と同じ要領で、前記ハンドで掴むことができるように教示治具を構成するもので ある。  In order to solve the above-described problem, the present invention is a teaching jig for teaching a position of a transfer target wafer to a robot for transferring a semiconductor wafer, and mounts the wafer in place of the transfer target wafer. Teaching the robot to teach the robot the position of the wafer by placing it on a location and detecting the detected part provided on the teaching jig by a transmitted light type sensor provided on the hand of the robot. A jig, a large disk portion having the same outer diameter as the wafer, a small circular pin having a common central axis with the large disk portion, and an arch-shaped object having a common central axis with the large disk portion; Teaching teaching so that the distance from the center of the large disk portion to the outer circle portion of the arch-shaped object is equal to the optical axis force of the sensor to the center of the wafer mounting portion of the hand. It constitutes a tool. Further, a groove is provided on the back surface of the teaching jig to be fitted with a wafer support pin of the processing apparatus. Further, the teaching jig is configured so that it can be gripped by the hand in the same manner as the object to be transported.
発明の効果 [0006] 本発明によれば、教示治具をハンド上のセンサで、ロボットがウェハを置載する姿勢 と同じ姿勢で検出できるので、ロボットの相対移動精度がよくない場合でも、正確な 教示ができるという効果がある。また、径の小さい小円ピンを被検出部として使用する ので、ハンドの姿勢を大きく変化させずに、実際の搬出入の際の姿勢の近傍姿勢で 教示治具を検出できる効果がある。また、教示治具と中心軸を共通とするアーチ形 状物を被検出部にして 、るので、教示治具を設置する際の回転方向の向きは所定 の角度ずれても問題ないので、教示治具の設置が容易であるという効果がある。また 、教示治具をステーションのウェハ設置面の形状に嵌合するよう教示治具の背面に 溝があるので教示治具を正しく設置することが容易であるという効果がある。さらに、 ロボットのハンドで実際に掴むことができるので、自動ティーチング終了後、複数ステ ーシヨンに設置された教示冶具をロボット自身で回収でき、教示時間を短縮できると いった効果がある。 The invention's effect According to the present invention, since the teaching jig can be detected by the sensor on the hand in the same posture as the posture on which the robot places the wafer, accurate teaching can be performed even when the relative movement accuracy of the robot is poor. There is an effect that can be. In addition, since the small circular pin having a small diameter is used as the detection target, there is an effect that the teaching jig can be detected in a posture close to the posture at the time of actual carrying in and out without largely changing the posture of the hand. In addition, since an arch-shaped object having the same central axis as the teaching jig is used as the detection target, there is no problem even if the direction of the rotation direction when the teaching jig is set is shifted by a predetermined angle. There is an effect that the installation of the jig is easy. In addition, since there is a groove on the back surface of the teaching jig so that the teaching jig fits into the shape of the wafer installation surface of the station, there is an effect that it is easy to correctly install the teaching jig. In addition, since the robot can be actually grasped by the hand of the robot, the teaching jigs installed at a plurality of stations can be recovered by the robot itself after the end of the automatic teaching, and the teaching time can be shortened.
図面の簡単な説明  Brief Description of Drawings
[0007] [図 1]本発明の実施に用いるロボットの平面図である。 FIG. 1 is a plan view of a robot used for implementing the present invention.
[図 2]本発明の実施に用いるロボットの平面図である。  FIG. 2 is a plan view of a robot used for implementing the present invention.
[図 3]本発明の実施に用いるロボットの側面図である。  FIG. 3 is a side view of a robot used for implementing the present invention.
[図 4]本発明の実施に用いる透過光式センサの説明図である。  FIG. 4 is an explanatory diagram of a transmitted light sensor used for implementing the present invention.
[図 5]本発明の第 1実施例を示す教示治具の説明図である。  FIG. 5 is an explanatory diagram of a teaching jig showing a first embodiment of the present invention.
[図 6]本発明の第 2実施例を示す教示治具の説明図である。  FIG. 6 is an explanatory view of a teaching jig showing a second embodiment of the present invention.
[図 7]本発明の第 3実施例を示す教示治具の説明図である。  FIG. 7 is an explanatory view of a teaching jig showing a third embodiment of the present invention.
[図 8]本発明の第 4実施例を示す教示治具の説明図である。  FIG. 8 is an explanatory view of a teaching jig showing a fourth embodiment of the present invention.
[図 9]本発明の実施に用いるセンサ治具の説明図である。  FIG. 9 is an explanatory view of a sensor jig used for carrying out the present invention.
[図 10]本発明によるウェハ位置教示方法の説明図である。  FIG. 10 is an explanatory diagram of a wafer position teaching method according to the present invention.
[図 11]本発明によるウェハ位置教示方法の説明図である。  FIG. 11 is an explanatory diagram of a wafer position teaching method according to the present invention.
[図 12]本発明によるウェハ位置教示方法の説明図である。  FIG. 12 is an explanatory diagram of a wafer position teaching method according to the present invention.
[図 13]本発明によるウェハ位置教示方法の説明図である。  FIG. 13 is an explanatory diagram of a wafer position teaching method according to the present invention.
[図 14]本発明によるウェハ位置教示方法を示すフローチャートである。  FIG. 14 is a flowchart showing a wafer position teaching method according to the present invention.
符号の説明 [0008] 1 ロボット、 2 支柱部、 3 第 1アーム、 4 第 2アーム、 5 ウェハ把持部、 6 透過光 式センサ、 7 ロボット旋回中心、 8 発光部、 9 受光部、 10 光軸、 11 教示治具、 12 大円板部、 13 センサ治具、 14 センサマウント板、 15 位置決め穴、 16 セン シング用切り欠き、 17 第 2透過光式センサ、 18 光軸、 19 センサケーブル、 20 位置決めピン、 21 センサケーブル接続コネクタ、 22 小円ピン、 23 教示治具、 24 教示治具、 25 教示治具、 26 アーチ形状部、 27 嵌合用溝、 28 嵌合用溝、 29 ウェハ中心点 Explanation of reference numerals [0008] 1 robot, 2 columns, 3 1st arm, 4 2nd arm, 5 wafer gripper, 6 transmitted light sensor, 7 robot rotation center, 8 light emitting section, 9 light receiving section, 10 optical axis, 11 teaching Jig, 12 large disc, 13 sensor jig, 14 sensor mount plate, 15 positioning hole, 16 notch for sensing, 17 second transmitted light sensor, 18 optical axis, 19 sensor cable, 20 positioning pin, 21 Sensor cable connector, 22 Small circular pin, 23 Teaching jig, 24 Teaching jig, 25 Teaching jig, 26 Arch shape part, 27 Fitting groove, 28 Fitting groove, 29 Wafer center point
発明を実施するための最良の形態  BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0009] 以下、本発明の具体的実施例を図に基づいて説明する。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
実施例 1  Example 1
[0010] 図 1、図 2および図 3は本発明の実施に用いるロボットの説明図であり、図 1および 図 2は平面図であり、図 3は側面図である。図において、 1は半導体ウェハ搬送用の 水平多関節型ロボットであり、 Wはロボット 1の搬送対象の半導体ウェハである。ロボッ ト 1は、昇降自在な円柱状の支柱部 2のロボット旋回中心軸 7回りに水平面内で旋回 する第 1アーム 3と、第 1アーム 3の先端に水平面内で旋回自在に取り付けられた第 2 アーム 4と、第 2アーム 4の先端に水平面内で旋回自在に取り付けられたウェハ把持 部 5を備えて 、る。ウェハ把持部 5は半導体ウェハ Wを載置しる Y字形のハンドであつ て、 Y字形の先端に 1組の第 1の透過光式センサ 6を備えている。  FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3 are explanatory views of a robot used for carrying out the present invention. FIG. 1 and FIG. 2 are plan views, and FIG. 3 is a side view. In the figure, 1 is a horizontal articulated robot for transferring semiconductor wafers, and W is a semiconductor wafer to be transferred by the robot 1. The robot 1 has a first arm 3 that rotates in a horizontal plane around a robot rotation center axis 7 of a column-shaped support portion 2 that can move up and down, and a first arm 3 that is rotatably mounted in a horizontal plane at the tip of the first arm 3. 2 includes an arm 4 and a wafer gripper 5 that is attached to the tip of the second arm 4 so as to be pivotable in a horizontal plane. The wafer gripper 5 is a Y-shaped hand on which the semiconductor wafer W is placed, and has a set of first transmitted light sensors 6 at the tip of the Y-shape.
[0011] 図 1ないし図 3に示すように、ロボット 1は第 1アーム 3、第 2アーム 4およびウェハ把 持部 5の相対的な角度を保ったまま、第 1アーム 3を支柱部 2の中心軸 7回りに旋回さ せる Θ軸動作 (旋回)、第 1アーム 3、第 2アーム 4およびウェハ把持部 5を一定の速度 比を保って旋回させることにより、ウェハ把持部 5を支柱部 2の半径方向に伸縮させる R軸動作 (伸縮)、および支柱部 2を昇降させる Z軸動作 (昇降)の 3自由度を有している 。なお、ここで、 Θ軸は反時計回りをプラス方向とし(図 1参照)、 R軸は、ウェハ把持 部 5を支柱部 2から遠ざける方向、つまりアームを伸ばす方向をプラスとし(図 2参照) 、 Z軸は、支柱部 2を上昇させる方向をプラス(図 3参照)とする。  As shown in FIGS. 1 to 3, the robot 1 moves the first arm 3 to the column 2 while maintaining the relative angles of the first arm 3, the second arm 4, and the wafer holding section 5. Rotate around the central axis 7 Θ Axis operation (rotation), the first arm 3, the second arm 4, and the wafer gripper 5 are rotated at a constant speed ratio, so that the wafer gripper 5 is supported by the support 2 It has three degrees of freedom: an R-axis operation (expansion / contraction) for expanding and contracting in the radial direction, and a Z-axis operation (elevation) for elevating and lowering the column 2. Here, the Θ-axis has a positive direction in the counterclockwise direction (see FIG. 1), and the R-axis has a positive direction in which the wafer gripper 5 is moved away from the column 2, that is, the direction in which the arm is extended (see FIG. 2). For the Z axis, the direction in which the column 2 is raised is plus (see FIG. 3).
[0012] 図 4は透過光式センサ 6の説明図である。図において、 8は Y字形のウェハ把持部 5 の一方の端に取り付けられた発光部であり、 9は他方の端に発光部 8に対向するよう に取り付けられた受光部である。発光部 8と受光部 9で第 1の透過光式センサ 6を構 成している。 10は発光部 8から受光部 9に向力 光軸であり、第 1の透過光式センサ 6 は光軸 10を遮る物体を検出することができる。 FIG. 4 is an explanatory diagram of the transmitted light sensor 6. In the figure, reference numeral 8 denotes a light emitting unit attached to one end of a Y-shaped wafer gripping unit 5, and 9 denotes a light emitting unit 8 at the other end so as to face the light emitting unit 8. This is a light receiving unit attached to the device. The light emitting section 8 and the light receiving section 9 constitute a first transmitted light sensor 6. Reference numeral 10 denotes an optical axis directed from the light emitting unit 8 to the light receiving unit 9, and the first transmitted light sensor 6 can detect an object blocking the optical axis 10.
[0013] 図 5は本発明の第 1実施例を示すウェハ把持具と教示治具の説明図であり、 (a)は ウェハ把持具の平面図であり、 (b) , (c)は教示治具の平面図と側面図である。図に おいて、 12は教示治具 11の大円板部であり、大円板部 12の直径 Dは実物ウェハと 同径である。 22は小円ピンであり、 26はアーチ形状部である。大円板部 12の中心か らアーチ形状部 26の外周までの距離 L1と、ウェハ把持部 5にウェハを把持させたとき のウェハ中心点 29から光軸 10までの距離 L2が同じになる位置にアーチ形状部 26 を配置する。 教示治具 11は実物の半導体ウェハと全く同一の外径を有するので、 収納容器等の位置決めガイド等により、正しく位置決めされる。また教示治具 12のァ ーチ形状部 26の外周の円弧と大円板部 12は中心が一致し、半径が等しいので、教 示治具 12を設置する際の回転方向の向きの多少のずれは許容される。本実施例で はし 1は約 123mmであり、アーチ形状部 26の外周円弧の長さは約 55mmで設計し ており、角度にして約 25度に相当する。従って、回転方向の設置許容角度は約 ± 1 2度である。 FIG. 5 is an explanatory view of a wafer gripper and a teaching jig showing the first embodiment of the present invention, (a) is a plan view of the wafer gripper, and (b) and (c) show the teachings. It is the top view and side view of a jig. In the figure, reference numeral 12 denotes a large disc portion of the teaching jig 11, and a diameter D of the large disc portion 12 is the same as that of the actual wafer. 22 is a small circular pin and 26 is an arch-shaped part. A position where the distance L1 from the center of the large disk portion 12 to the outer periphery of the arched portion 26 is the same as the distance L2 from the wafer center point 29 to the optical axis 10 when the wafer is gripped by the wafer gripper 5. Place arched part 26 on Since the teaching jig 11 has exactly the same outer diameter as the actual semiconductor wafer, the teaching jig 11 is correctly positioned by a positioning guide of a storage container or the like. Also, since the center of the circular arc on the outer periphery of the arch-shaped portion 26 of the teaching jig 12 and the large disc portion 12 coincide with each other and have the same radius, the rotation direction when the teaching jig 12 is installed may be slightly different. Deviations are allowed. In the present embodiment, the step 1 is about 123 mm, and the length of the outer peripheral arc of the arch-shaped portion 26 is designed to be about 55 mm, which corresponds to an angle of about 25 degrees. Therefore, the installation allowable angle in the rotation direction is about ± 12 degrees.
実施例 2  Example 2
[0014] 図 6は本発明の第 2実施例を示す教示治具の説明図であり。(a)は平面図であり、 ( b)は側面図である。この教示治具 23は大円板部 12の直径 Dが実物ウェハの径よりも やや大きいことが特徴である。これはステーション側にウェハより径の大きい凹部があ つて、その凹部にウェハを落とし込むことによってウェハを支持するタイプで、その落 とし込み部の径に教示治具 23の径を合わせることによって、教示治具 23を正しく設 置することを意図したものである。実際、半導体ウェハ処理装置において、ロードロッ クと呼ばれるフロントエンド部とプロセス部を結合するステーションは落としこみ型のス テーシヨンであることが多 、からである。  FIG. 6 is an explanatory diagram of a teaching jig showing a second embodiment of the present invention. (A) is a plan view and (b) is a side view. The teaching jig 23 is characterized in that the diameter D of the large disc portion 12 is slightly larger than the diameter of the actual wafer. This is a type in which a recess with a diameter larger than the wafer is provided on the station side and the wafer is supported by dropping the wafer into the recess. The teaching is performed by adjusting the diameter of the teaching jig 23 to the diameter of the drop. It is intended to correctly set the jig 23. Actually, in a semiconductor wafer processing apparatus, a station called a load lock, which connects a front end portion and a process portion, is often a recessed type station.
実施例 3  Example 3
[0015] 図 7は本発明の第 3実施例を示す教示治具の説明図であり、 (a)は表面の平面図、  FIG. 7 is an explanatory view of a teaching jig showing a third embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view of the surface,
(b)は裏面の平面図、(c)は側面図である。この教示治具 24の直径 Dは実物ウェハと 同径であり、背面部にステーション側の支持ピンに嵌合する嵌合用溝 27を形成して 、前記支持ピンに教示治具 24の嵌合されて、教示治具 24を正しく設置することを意 図している。実際、半導体ウェハ処理装置において、 3本の支持ピンでウェハを保持 するステーションは多 、からである。 (b) is a plan view of the back surface, and (c) is a side view. The diameter D of this teaching jig 24 is It has the same diameter, a fitting groove 27 is formed on the back side to fit the support pin on the station side, and the teaching jig 24 is fitted on the support pin, so that the teaching jig 24 is correctly installed. It is intended. In fact, there are many stations in a semiconductor wafer processing apparatus that hold a wafer with three support pins.
実施例 4  Example 4
[0016] 図 8は本発明の第 4実施例を示す教示治具の説明図であり、 (a)は表面の平面図、  FIG. 8 is an explanatory view of a teaching jig showing a fourth embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view of the surface,
(b)は裏面の平面図、(c)は側面図である。この教示治具 25の直径 Dは実物ウェハと 同径であり、背面部に大円板部 12の中心軸を同じとする円形の嵌合用溝 28を形成 しておくことにより、ステーション側の支持台(円筒状)に教示治具 25の嵌合用溝 28 を合わせて、教示治具 25を正しく設置することを意図している。実際、半導体ウェハ 処理装置において、ブリアライナと呼ばれるウェハのノッチ方向を検出する装置など は円筒状の台座でウェハを保持するしくみとなつているものが多いからである。  (b) is a plan view of the back surface, and (c) is a side view. The diameter D of the teaching jig 25 is the same as the diameter of the actual wafer, and a circular fitting groove 28 having the same central axis of the large disk portion 12 is formed on the back side to support the station side. It is intended that the teaching jig 25 be correctly installed by aligning the fitting groove 28 of the teaching jig 25 with the base (cylindrical). In fact, in many semiconductor wafer processing apparatuses, a device called a briar liner that detects the notch direction of a wafer or the like is designed to hold the wafer on a cylindrical pedestal.
[0017] 図 9は本発明の実施に用いるセンサ治具の説明図である。センサ治具 13は、セン サマウント板 14、第 2透過光式センサ 17、およびセンサケーブル 19から構成される。 センサマウント板 14は、円板の一部を V字形に切欠いた平板であり、位置決め穴 15 を 4個設けている。位置決め穴 15は後述するウェハ把持部 5の位置決めピン 20と嵌 合して、センサ治具 13を前記ウェハ把持部 5に正確に位置決めするガイド穴である。 前述の V字形切り欠きはセンシング用切欠き 16であり、センサ治具 13をウェハ把持 部 5に取り付けたときに、ウェハ把持部 5の第 1の透過光式センサ 6の光軸 10とセンサ マウント板 14が干渉するのを避けるとともに、後述する教示治具の小円ピンとセンサ マウント板 14の干渉を避けるための切り欠きである。 17は第 2透過光式センサであり 、センサマウント板 14の中心に固定されている。 18は第 2透過光式センサ 17の光軸 である。第 2透過光式センサは略コ字型をなし、その開口の幅、つまり、光軸 18の長 さは約 13mmである。第 2透過光式センサ 17は、センサマウント板 14の中心に固定 されているので、センサ治具 13をロボットハンドに取り付けたときに、前記ロボットハン ドの半導体ウェハ載置部の略中心に第 2透過光式センサ 17が位置する。 19は第 2 透過光式センサ 17の信号を図示しないロボット制御装置に送るためのセンサケープ ルである。 [0018] 次に、これらの教示治具を用いたウェハ位置教示方法を説明する。図 10ないし図 1 3は本発明によるウェハ位置教示方法の説明図であり、(a)は平面図、(b)は側面図 である。図は、センサ治具 13をロボットウェハ把持部 5に取り付けて教示治具 11に接 近させた状態を示している。位置決めピン 20はセンサマウント板 14の位置決め穴( 本図では、図示していない)と嵌合して、センサ治具 13をロボットウェハ把持部 5に正 しく位置決めするガイドピンである。センサケーブル接続コネクタ 21はセンサケープ ル 19を接続するコネクタである。 FIG. 9 is an explanatory diagram of a sensor jig used for implementing the present invention. The sensor jig 13 includes a sensor mount plate 14, a second transmitted light sensor 17, and a sensor cable 19. The sensor mount plate 14 is a flat plate in which a part of a circular plate is cut out in a V-shape, and has four positioning holes 15. The positioning hole 15 is a guide hole that fits with a positioning pin 20 of the wafer gripping portion 5 described later to accurately position the sensor jig 13 on the wafer gripping portion 5. The V-shaped notch described above is a notch 16 for sensing, and when the sensor jig 13 is attached to the wafer gripper 5, the optical axis 10 of the first transmitted light sensor 6 of the wafer gripper 5 and the sensor mount Notches for avoiding interference of the plate 14 and for avoiding interference between a small circular pin of a teaching jig described later and the sensor mount plate 14. Reference numeral 17 denotes a second transmitted light sensor, which is fixed to the center of the sensor mount plate 14. Reference numeral 18 denotes an optical axis of the second transmitted light sensor 17. The second transmitted light sensor has a substantially U shape, and the width of the opening, that is, the length of the optical axis 18 is about 13 mm. Since the second transmitted light sensor 17 is fixed to the center of the sensor mount plate 14, when the sensor jig 13 is mounted on the robot hand, the second transmitted light sensor 17 is positioned substantially at the center of the semiconductor wafer mounting portion of the robot hand. 2 The transmitted light sensor 17 is located. Reference numeral 19 denotes a sensor cable for transmitting the signal of the second transmitted light sensor 17 to a robot controller (not shown). Next, a wafer position teaching method using these teaching jigs will be described. 10 to 13 are explanatory views of the wafer position teaching method according to the present invention, wherein (a) is a plan view and (b) is a side view. The figure shows a state where the sensor jig 13 is attached to the robot wafer gripper 5 and is brought close to the teaching jig 11. The positioning pin 20 is a guide pin that fits into a positioning hole (not shown in the figure) of the sensor mount plate 14 to correctly position the sensor jig 13 on the robot wafer gripper 5. The sensor cable connector 21 is a connector for connecting the sensor cable 19.
[0019] ロボットウェハ把持部 5に固定された第 1の透過光式センサ 6の光軸 10はロボットゥ ェハ把持部 5の長さ軸に直交しているが、センサ用治具に固定された第 2透過光式 センサ 17の光軸 18は前記長さ軸に平行に取り付けられている。つまり、光軸 10と光 軸 18は直交している。前述したように、教示治具 11は、実物の半導体ウェハと等しい 直径を有する大円板部 12の中心に小円ピン 22と大円板部 12と中心軸を共通にす るアーチ形状部 26を立設したものであり、収納容器等の半導体ウェハを載置する場 所に大円板部 12を載置することができる。小円ピン 22の直径は約 3mmである。この 直径の大きさは第 2透過光式センサ 17の開口の幅 13mmに対して十分余裕がある ように決められたものである。アーチ形状部 26の外周円弧の長さは約 55mmである。 この長さはセンサマウント板 14の開口の幅 126mmに対して十分余裕があるように決 められたものである。大円板部 12と小円ピン 22の相対位置は、事前に測定されてい るので、小円ピン 22の位置を知れば大円板部 12の位置を知ることができる。 なお、 大円板部 12の厚さは約 2mmであり、実物の半導体ウェハの厚さ 0. 7mmより大きい 力 これは強度上の制約力 決められたものであり、実物の半導体ウェハの厚さと同 一にしたほうが望ましいことは言うまでもない。  The optical axis 10 of the first transmitted light type sensor 6 fixed to the robot wafer gripper 5 is orthogonal to the length axis of the robot wafer gripper 5, but is fixed to a sensor jig. The optical axis 18 of the second transmitted light sensor 17 is mounted parallel to the length axis. That is, the optical axis 10 and the optical axis 18 are orthogonal. As described above, the teaching jig 11 has an arch-shaped portion 26 having a central axis common to the small circular pin 22 and the large disk portion 12 at the center of the large disk portion 12 having the same diameter as the actual semiconductor wafer. The large disk portion 12 can be placed at a place where a semiconductor wafer is placed, such as a storage container. The diameter of the small circular pin 22 is about 3 mm. The size of this diameter is determined so as to have a sufficient margin for the width of the opening of the second transmitted light sensor 17 of 13 mm. The length of the arc of the outer periphery of the arch-shaped portion 26 is about 55 mm. This length is determined so that there is enough room for the width of the opening of the sensor mount plate 14 to be 126 mm. Since the relative positions of the large disk portion 12 and the small circular pin 22 are measured in advance, the position of the large disk portion 12 can be known by knowing the position of the small circular pin 22. The thickness of the large disk portion 12 is about 2 mm, and the force of the actual semiconductor wafer is larger than 0.7 mm. This force is determined by the constraint on strength. Needless to say, it is better to be the same.
[0020] 図 14は本発明による位置教示方法を示すフローチャートである。以下、この位置教 示方法をステップを追って説明する。  FIG. 14 is a flowchart showing a position teaching method according to the present invention. Hereinafter, this position notification method will be described step by step.
[0021] (ステップ 1)センサ治具 13をロボットのウェハ把持部 5にマウントする。このとき位置決 めピン穴 15と位置決めピン 20を使って両者の位置を正確にマウントする。またセン サケーブル 19をコネクタ 21へ接続する。  (Step 1) The sensor jig 13 is mounted on the wafer gripper 5 of the robot. At this time, use the positioning pin hole 15 and the positioning pin 20 to mount both positions accurately. Also connect sensor cable 19 to connector 21.
[0022] (ステップ 2)教示治具 11または教示治具 23、 24、 25の 、ずれかを収納容器等の半 導体ウェハを載置する場所に載置する。教示治具の選択はステーション側のウェハ 設置面の形状に応じて適切なものを選択するものとする。本実施例では以下教示治 具 11で説明する。教示治具 11の大円板部 12は実物の半導体ウェハと全く同一の外 径を有するから、収納容器等の位置決めガイド等により、教示治具 11は正しく位置 決めされる。 (Step 2) Check the displacement of the teaching jig 11 or the teaching jigs 23, 24, 25 by half It is placed on the place where the conductor wafer is placed. The selection of the teaching jig shall be selected according to the shape of the wafer installation surface on the station side. In the present embodiment, the teaching jig 11 will be described below. Since the large disk portion 12 of the teaching jig 11 has exactly the same outer diameter as the actual semiconductor wafer, the teaching jig 11 is correctly positioned by a positioning guide of a storage container or the like.
[0023] (ステップ 3)作業者の操作により、図 11に示すように、ウェハ把持部 5を大円板部 12 の下へ移動させる。  (Step 3) As shown in FIG. 11, the wafer gripper 5 is moved below the large disk part 12 by the operation of the operator.
[0024] (ステップ 4)ウェハ把持部 5を上昇させ、大円板部 12の下面を第 1の透過光式センサ 6で検出し、その時のロボットの Z軸の座標値 Zを記録する。さらにウェハ把持部 5を  (Step 4) The wafer gripper 5 is lifted, the lower surface of the large disc 12 is detected by the first transmitted light sensor 6, and the coordinate value Z on the Z axis of the robot at that time is recorded. In addition, the wafer gripper 5
1  1
上昇させ、大円板部 12の上面を第 1の透過光式センサ 6で検出し、その時のロボット の Z軸の座標値 Zを記録する。  Then, the upper surface of the large disk portion 12 is detected by the first transmitted light sensor 6, and the coordinate value Z of the Z axis of the robot at that time is recorded.
2  2
[0025] (ステップ 5)ウェハ把持部 5を大円板部 12の上に移動させる。つまり、ウェハ把持部 5 を前進 (ここで前進とは R軸の +方向をいう)させたときに、第 1の透過光式センサ 6が 小円ピン 22を検出できる高さへ設定する。  (Step 5) The wafer gripper 5 is moved onto the large disc 12. In other words, the height is set so that the first transmitted light sensor 6 can detect the small circular pin 22 when the wafer gripper 5 is advanced (here, the advance refers to the + direction of the R axis).
[0026] (ステップ 6)第 1の透過光式センサ 6が小円ピン 22を検出しな 、位置までウェハ把持 部 5を後退させる。  (Step 6) While the first transmitted light sensor 6 does not detect the small circular pin 22, the wafer gripper 5 is retracted to the position.
[0027] (ステップ 7) Θ軸を動作させて、ウェハ把持部 5の向きを変え、次に R軸を動作させて 、ウェハ把持部 5を前進させて、小円ピン 22にゆっくり接近させ、第 1の透過光式セン サ 6が小円ピン 22を最初に検出した (つまり光軸 10が小円ピン 22の円周に接する) 時の Θ軸と R軸の座標を記録する。  (Step 7) Operate the Θ axis to change the direction of the wafer gripper 5, and then operate the R axis to move the wafer gripper 5 forward and slowly approach the small circular pin 22, Record the coordinates of the Θ axis and the R axis when the first transmitted light sensor 6 first detects the small circular pin 22 (that is, when the optical axis 10 contacts the circumference of the small circular pin 22).
[0028] (ステップ 8)ステップ 6とステップ 7を繰り返して、ウェハ把持部 5を異なる方向力も小 円ピン 22に接近させて、光軸 10が小円ピン 22の円周に接する時の Θ軸と R軸の座 標を複数求め、これらの値力 最小 2乗法を解くことにより、小円ピン 22の中心の位 置(0 、Rs)を求めて記録する。  (Step 8) Steps 6 and 7 are repeated to bring the wafer gripper 5 closer to the small circular pin 22 with a different directional force, and the Θ axis when the optical axis 10 contacts the circumference of the small circular pin 22 The center position (0, Rs) of the small circle pin 22 is obtained and recorded by solving multiple least-squares methods of these values.
s  s
[0029] (ステップ 9)ステップ 8で求めた小円ピン 22の位置に基づいて、 0軸と R軸を動作さ せて、ウェハ把持部 5を図 12に示す位置へ移動させる。センサマウント板 14とそのセ ンシング用切り欠き 16と第 2透過光式センサ 17の寸法は事前に測定されているので 、小円ピン 22やアーチ形状部 26との干渉を回避して図 12に示す位置へウェハ把持 部 5を移動させることができる。 (Step 9) Based on the position of the small circular pin 22 obtained in Step 8, the 0-axis and the R-axis are operated to move the wafer gripper 5 to the position shown in FIG. Since the dimensions of the sensor mount plate 14, its notch 16 for sensing, and the second transmitted light sensor 17 have been measured in advance, the interference with the small circular pin 22 and the arch-shaped portion 26 is avoided, as shown in FIG. Hold the wafer to the position shown Part 5 can be moved.
[0030] (ステップ 10) Θ軸を動作させて、第 2透過光式センサ 17の光軸 18を小円ピン 22に ゆっくり接近させ、第 2透過光式センサ 17が小円ピン 22を最初に検出した (つまり光 軸 18が小円ピン 22の右側面に接する)時の Θ軸の座標値 Θ を記録する。次に第 2 (Step 10) By operating the Θ axis, the optical axis 18 of the second transmitted light sensor 17 is slowly brought close to the small circular pin 22, and the second transmitted light sensor 17 first moves the small circular pin 22 The coordinate value の of the Θ axis at the time of detection (that is, the optical axis 18 contacts the right side surface of the small circular pin 22) is recorded. Then the second
1  1
透過光式センサ 17が小円ピン 22を検出しなくなった(つまり光軸 18が小円ピン 22の 左側面から離れた)時の Θ軸の座標値 Θ を記録する。(0 + 0 ) Z2を Θ軸の推定  When the transmitted light sensor 17 stops detecting the small circular pin 22 (that is, when the optical axis 18 is separated from the left side surface of the small circular pin 22), the 値 axis coordinate value Θ is recorded. (0 + 0) Estimating the Z2 を axis
2 1 2  2 1 2
値 0 として更新する。  Update as value 0.
S  S
[0031] (ステップ 11) Θ軸をステップ 10で記憶した Θ に動作させる。次に図 13に示すような  (Step 11) The Θ axis is operated at Θ stored in step 10. Next, as shown in Figure 13.
S  S
、第 1の透過光式センサ 6がアーチ形状部 26を検出する位置までウェハ把持部 5を 後退させる。 R軸を動作させて、第 1の透過光式センサ 6の光軸 10をアーチ形状部 2 6からゆっくり遠ざけ、第 1の透過光式センサ 6がアーチ形状部 26を検出しなくなった (つまり光軸 10がアーチ形状部 26の外周力も離れた)時の R軸の座標値 Rtを記録す る。  Then, the wafer gripper 5 is retracted to a position where the first transmitted light sensor 6 detects the arch-shaped portion 26. By operating the R-axis, the optical axis 10 of the first transmitted light sensor 6 is slowly moved away from the arched portion 26, and the first transmitted light sensor 6 no longer detects the arched portion 26 (i.e., Record the coordinate value Rt of the R axis when the axis 10 is also apart from the outer peripheral force of the arched portion 26).
[0032] (ステップ 12)小円ピン 22の推定位置は、ステップ 4で記憶した Z、 Zより(Z +Z )  (Step 12) The estimated position of the small circle pin 22 is calculated from Z and Z stored in Step 4 (Z + Z).
1 2 1 2 Z 1 2 1 2 Z
2を Z軸の推定値とし、ステップ 11で求めた Rtを R軸の推定値とし、ステップ 10で記 憶した Θ を Θ軸の推定値として保存する。小円ピン 22と大円板部 12の相対的な位 Let 2 be the estimated value for the Z axis, use Rt found in step 11 as the estimated value for the R axis, and save Θ stored in step 10 as the estimated value for the Θ axis. Relative position of small circle pin 22 and large disk part 12
S  S
置関係は事前に測定されて 、るから、この位置関係分だけ前記位置をシフトすれば Since the positional relationship is measured in advance, if the position is shifted by this positional relationship,
、大円板部 12すなわち、収納容器等に載置された半導体ウェハの位置が求まり、こ の値を該当ステーションの教示位置としてコントローラに保存する。 Then, the position of the semiconductor wafer placed on the large disk portion 12, that is, the storage container or the like is determined, and this value is stored in the controller as the teaching position of the corresponding station.
[0033] (ステップ 13)教示ステーションが複数ある場合は、ステップ 2— 12を繰り返す。また 教示治具をステーション数分用意し、ステップ 2であら力じめ全ステーションに教示治 具を設置しておけば、ステップ 3— 12を繰り返すだけでよい。 (Step 13) If there are a plurality of teaching stations, steps 2-12 are repeated. In addition, if the teaching jigs are prepared for the number of stations and the teaching jigs are installed in all the stations in step 2, the steps 3-12 need only be repeated.
[0034] (ステップ 14)センサ治具 13をロボットのウェハ把持部 5から取り外す。 (Step 14) The sensor jig 13 is removed from the wafer gripper 5 of the robot.
[0035] (ステップ 15)ステップ 12において各ステーションの教示位置が求まっているので、 ロボットはそれらの情報を基に通常ウェハを搬送するのと同じ要領で、自動で全ての 教示治具を回収する。回収とは、例えば処理装置の蓋を開けて直接手で教示治具を 取り出すのではなぐカセットステーションの異なるスロットへ教示治具同士が干渉し な 、ように搬送して、カセットに溜めた教示治具をまとめて取り出すことである。 また、ステップ 3からステップ 15までの操作を予め、プログラムしておけば、半導体ゥ ェハの位置の教示を、作業者の操作に拠らず、自動的に行なうことができる。ただし、 ステップ 3、 14の作業など一部人手が必要な作業も含まれる。ステップ 3は、人手で 操作する代わりに、事前にコントローラに装置図面からの教示位置を入力しておけば 、その値力もステップ 3の開始位置を自動で求め、その位置へ自動でロボットアーム を移動させることも可能である。 (Step 15) Since the teaching position of each station has been determined in Step 12, the robot automatically collects all the teaching jigs based on the information in the same manner as when a normal wafer is transferred. . For example, the recovery means that the teaching jigs are transported to different slots of the cassette station without interfering with each other, and the teaching jigs stored in the cassette are stored in the cassette station. It is to take out ingredients all at once. If the operations from step 3 to step 15 are programmed in advance, the teaching of the position of the semiconductor wafer can be performed automatically without depending on the operation of the operator. However, it also includes operations that require some manpower, such as the operations in steps 3 and 14. In step 3, instead of manual operation, if the teaching position from the device drawing is input to the controller in advance, the starting point of step 3 is automatically determined for the value, and the robot arm is automatically moved to that position It is also possible to make it.
なお、ステップ 8での最小 2乗法による ( Θ 、 Rs)の導出は、本願の発明者が特許文  The derivation of (Θ, Rs) by the method of least squares in step 8 was performed by the inventor of the present application.
S  S
献 1で詳細に開示して 、るので、参考にされた!/、。 It was disclosed in detail in Contribution 1, so it was helpful! / ,.
産業上の利用可能性 Industrial applicability
本発明は、半導体ウェハ搬送用ロボットに半導体ウェハの位置を教示する教示治 具として有用である。  INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful as a teaching jig for teaching a position of a semiconductor wafer to a semiconductor wafer transport robot.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
[1] 半導体ウェハの搬送を行なうロボットに搬送対象のウェハの位置を教示する教示治 具であって、前記搬送対象のウェハに代えて、前記ウェハを載置する場所に載置し、 前記教示治具に設けた被検出部を前記ロボットのハンド上に設けた透過光式のセン サで検出することによって、前記ロボットに前記ウェハの位置を教示する教示治具に おいて、  [1] A teaching jig for teaching a position of a transfer target wafer to a robot for transferring a semiconductor wafer, wherein the teaching jig is placed at a place where the wafer is placed instead of the transfer target wafer. In a teaching jig for teaching the robot the position of the wafer by detecting a detected portion provided on the jig by a transmitted light type sensor provided on the hand of the robot,
前記ウェハと同一の外径を有する大円板部と、前記大円板部と中心軸を共通にす る小円ピンと、前記大円板部と中心軸を共通にするアーチ形状物を備え、前記大円 板部の中心力 前記アーチ形状物の外円部までの距離と、前記センサの光軸力 前 記ハンドのウェハ載置部の中心までの距離とが等しいことを特徴とする教示治具。  A large disk portion having the same outer diameter as the wafer, a small circular pin having a central axis common to the large disk portion, and an arch-shaped object having a central axis common to the large disk portion; A center force of the large disc portion, a distance to the outer circle portion of the arch-shaped object, and an optical axis force of the sensor; and a distance to a center of the wafer mounting portion of the hand. Utensils.
[2] 前記教示治具の背面に処理装置のウェハ支持ピンと嵌合する溝を有することを特 徴とする請求項 1記載の教示治具。  2. The teaching jig according to claim 1, wherein the teaching jig has a groove on a rear surface thereof for fitting with a wafer support pin of a processing apparatus.
[3] 前記搬送対象と同じ要領で、前記ハンドで掴むことができることを特徴とする請求 項 1または請求項 2記載の教示治具。 [3] The teaching jig according to claim 1, wherein the teaching jig can be gripped by the hand in the same manner as the transfer target.
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