JP2003187432A - 磁気転写装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気転写装置において、磁界印加部から発生
しセンターコアを通る磁力線による磁気記録面への転写
パターンの磁化を防止する。 【解決手段】 同心円状の転写パターンが磁性体によっ
て形成されているマスター担体１０と、この転写パター
ンの転写を受ける磁気記録面を有し金属製のセンターコ
ア２３を中央部に備えるスレーブ媒体２０とを密着させ
て密着手段３０内に収容し、磁界印加部４０の一対の磁
極であるＮ極４１およびＳ極４２、および磁界印加部５
０の一対の磁極であるＮ極５１およびＳ極５２を、Ｎ極
４１とＳ極５２、およびＮ極５１とＳ極４２とを密接さ
せて配置し、上記密着手段３０を磁界印加部４０、５０
に対して回転させつつ、この磁界印加部４０、５０によ
り転写用磁界を印加することにより転写パターン１１を
磁気記録面２１に転写させる。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、磁気転写装置に関
し、詳しくは、金属製のセンターコアを中央部に備える
スレーブ媒体上の磁気記録面に、マスター担体の同心円
状の転写パターンを磁気転写する磁気転写装置に関する
ものである。 【０００２】 【従来の技術】従来より、同心円状の転写パターンが磁
性体によって形成されている円盤状のマスター担体とこ
の転写パターンの転写を受ける磁気記録面を有する円盤
状のスレーブ媒体とを密着させた状態で、このマスター
担体とスレーブ媒体とに転写用磁界を印加してマスター
担体に形成されている同心円状の転写パターン（例えば
サーボ信号、アドレス信号等を表す同心円状のパター
ン）をスレーブ媒体に磁気転写する手法が知られてい
る。この磁気転写方式は、例えば特開平１０−４０５４
４号公報、特開平１０−２６９５６６号公報等に開示さ
れている。 【０００３】上記磁気転写方式は、スレーブ媒体の片面
または両面にマスター担体を密着させた状態で、その片
側または両側に電磁石装置、永久磁石装置等の転写磁界
印加手段を配設して上記同心円状の転写パターンの円周
方向に磁界を印加しつつ、この転写磁界印加手段を上記
密着されているスレーブ媒体とマスター担体とに対して
上記同心円状の転写パターン同心円の中心（以後、転写
中心と呼ぶ）の周りに回転させて上記転写パターンをス
レーブ媒体の磁気記録面に磁気転写させるものである。 【０００４】この磁気転写により、スレーブ媒体の磁気
記録面の上記同心円の円周方向（以後、転写円周方向と
呼ぶ）に情報を記録する記録トラックが形成され、この
スレーブ媒体を磁気記録媒体として使用することが可能
となる。なお、上記スレーブ媒体は、予め上記転写円周
方向の１方向に初期磁化（直流磁化）された後、上記転
写磁界印加手段によってこの転写円周方向の１方向とは
逆の所定の方向に磁化されることにより上記転写パター
ンが磁気転写される。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記磁
気転写を受けるスレーブ媒体にはマグネットに引き寄せ
られて位置決めされる金属製のセンターコア（チャッキ
ングハブ）を中央部に備えるもの、例えばフレキシブル
ディスク（ＦＤ）があり、このような透磁率の高い材料
で形成されているセンターコアを有するスレーブ媒体に
マスター担体の転写パターンを転写させようとすると、
磁極からの漏れ磁界による影響や、転写磁界印加手段か
ら発生する磁力線がセンターコアに引き寄せられること
によって、このセンターコア近傍の磁気記録面の内周側
においては、磁気転写される転写パターンの磁化方向が
上記転写円周方向の所定方向とは異なる方向となってし
まうことがある。このように転写円周方向の所定方向と
は異なる方向の磁化によって上記転写パターンが磁気転
写されて磁気記録面に形成された磁化パターンは、上記
転写円周方向の所定方向への磁化の強さが不十分であ
り、上記転写パターンの正確な情報を表す信号として良
好なＳ／Ｎで読み出すことができない虞があるという問
題がある。 【０００６】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、磁極からの漏れ磁界の影響や転写磁界印加手段
から発生しセンターコアを通る磁力線による磁気記録面
への転写パターンの磁化を防止することができる磁気転
写装置を提供することを目的とするものである。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明の磁気転写装置
は、同心円状の転写パターンが磁性体によって形成され
ているマスター担体に、この転写パターンの転写を受け
る磁気記録面を有し、金属製のセンターコアを中央部に
備えるスレーブ媒体を密着させる密着手段と、上記密着
されたマスター担体とスレーブ媒体とに転写用磁界を印
加する転写磁界印加手段とを備え、同心円状の転写パタ
ーンの中心の周りに、上記密着されたマスター担体とス
レーブ媒体とを転写磁界印加手段に対して相対的に回転
させつつ、転写用磁界の印加による上記同心円状の転写
パターンの円周方向への磁化によってこの転写パターン
を磁気記録面に転写させる磁気転写装置であって、転写
磁界印加手段が、同心円状の転写パターンの中心を通り
磁気記録面に直交する第１の面を挟んで互いに密接して
配置された第１の磁界印加部と第２の磁界印加部とを備
え、この第１の磁界印加部が同心円状の転写パターンの
中心を通り磁気記録面および第１の面に直交する第２の
面を挟んで対向する互いに極性の異なる一対の磁極から
なるものであり、第２の磁界印加部が、第２の面を挟ん
で対向する互いに極性の異なる一対の磁極からなり、か
つこの一対の磁極の極性が第２の面の同じ側においてそ
れぞれ第１の磁界印加部の磁極の極性と逆の極性である
ことを特徴とするものである。 【０００８】上記第１および第２の磁界印加部は、保磁
力によって磁界を形成するもの（永久磁石装置）であっ
てもよいし、外部から供給される電気エネルギーによっ
て磁界を形成するもの（電磁石装置）であってもよい。 【０００９】 【発明の効果】本発明の磁気転写装置によれば、転写磁
界印加手段の、第１の磁界印加部を、第１の面に直交す
る第２の面を挟んで対向する互いに極性の異なる一対の
磁極からなるものとし、第２の磁界印加部を、第１の面
に直交する第２の面を挟んで対向する互いに極性の異な
る一対の磁極からなり、かつ、この一対の磁極の極性が
第２の面の同じ側においてそれぞれ第１の磁界印加部の
磁極の極性と逆の極性となるものとしたので、第１の磁
界印加部の磁極である第１のＮ極および第１のＳ極と、
第２の磁界印加部の磁極である第２のＳ極および第２の
Ｎ極と間、すなわち第１の面を挟んで第２の面の同じ側
に密接して配置された、第１のＮ極と第２のＳ極との
間、および第２のＮ極と第１のＳ極との間からの磁力線
の漏れを殆ど発生させることなく、これらのＮ極とＳ極
との間に各磁界印加部から発生した磁力線を通すことが
できるようになる。これにより、従来転写磁界印加手段
から発生しセンターコアに引きこまれていた磁力線が上
記密接して配置された磁極間を通るようになるので、転
写磁界印加手段から発生しセンターコアを通る磁力線の
量を減少させることができ、磁極からの漏れ磁界の影響
やセンターコアを通る磁力線による磁気記録面への転写
パターンの磁化を防止することができる。さらに、同心
円状の転写パターンの中心を通る上記第２の面を挟んで
対向する一対の磁極からなる第１の磁界印加部と第２の
磁界印加部の２つの磁界印加部によって、マスター担体
の転写パターンをスレーブ媒体の磁気記録面に磁気転写
させるので、磁気転写させる際に、密着されたマスター
担体とスレーブ媒体とを転写中心の周りに回転させる角
度を従来の略半分にすることができ、磁気転写の実行時
間を短縮することができるので、磁気転写の生産性を向
上させることができる。 【００１０】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。図１は本発明の磁気転写装置の概略構成を
示す斜視図、図２はマスター担体とスレーブ媒体とが密
着される前の状態における主要部の側面の断面図、図３
はマスター担体とスレーブ媒体とが密着された状態にお
ける主要部の側面の断面図、図４は密着されたマスター
担体とスレーブ媒体とに対する各磁極の配置を示す平面
図、図５はマスター担体の同心円状の転写パターンを示
す平面図、図６はスレーブ媒体の初期磁化（直流消磁）
の方向を上から見た様子を示す平面図である。なお、各
図は概略図であり、その厚み等は実際の寸法とは異なる
比率で示している。 【００１１】図１〜図６に示すように、上記磁気転写装
置は、同心円状の転写パターン１１が磁性体によって形
成されているマスター担体１０に、転写パターン１１の
転写を受ける磁気記録面２１を有し金属製のセンターコ
ア２３を中央部に備えるスレーブ媒体２０を密着させる
密着手段３０と、密着されたマスター担体１０とスレー
ブ媒体２０とに転写用磁界を印加する転写磁界印加手段
６０とを備えている。 【００１２】この磁気転写装置は、上記同心円状の転写
パターン１１の中心（転写中心Ｃ）の周りに、上記密着
させたマスター担体１０とスレーブ媒体２０とを転写磁
界印加手段６０に対して回転させつつ、転写用磁界の印
加による上記同心円状の転写パターン１１の円周方向、
すなわち転写円周方向（図中矢印Ｒ方向）への磁界の付
与によってこの転写パターン１１を磁気記録面２１に磁
気転写させるものである。 【００１３】転写磁界印加手段６０は、転写中心を通り
磁気記録面２１に直交する第１の面Ｕ１を挟んで互いに
密接して配置された第１の磁界印加部４０と第２の磁界
印加部５０とを備え、第１の磁界印加部４０は、転写中
心を通り磁気記録面２１および第１の面Ｕ１に直交する
第２の面Ｕ２を挟んで対向する互いに極性の異なる一対
の磁極からなるものであり、第２の磁界印加部５０は、
第２の面Ｕ２を挟んで対向する互いに極性の異なる一対
の磁極からなり、かつこの一対の磁極の極性が第２の面
Ｕ２の同じ側においてそれぞれ第１の磁界印加部４０の
磁極の極性と逆の極性を持つものである。すなわち、第
１の磁界印加部４０は、互いに極性の異なる一対の磁極
である第１のＮ極４１および第１のＳ極４２からなり、
第２の磁界印加部５０は、互いに極性の異なる一対の磁
極である第２のＮ極５１および第２のＳ極５２からな
り、これらの磁極は、第１の面Ｕ１を挟んで第２の面Ｕ
２の一方の側に第１のＮ極４１と第２のＳ極５２とが密
接して配置され、第１の面を挟んで第２の面の他方の側
に第２のＮ極５１と第１のＳ極４２とが密接して配置さ
れている。 【００１４】上記マスター担体１０の転写パターン１１
はサーボ信号やアドレス信号等を示すものである。ま
た、マスター担体１０は中央部に貫通孔Ｐ１を備えてい
る。 【００１５】密着手段３０は、上記円盤状のマスター担
体１０とスレーブ媒体２０とを外形基準に位置決めする
円筒形状の凹部３１を有する密着ベース３３と、この凹
部３１に嵌合する凸部３４を有し、凹部３１の底面上に
載置されるマスター担体１０およびスレーブ媒体２０を
押圧する押圧ヘッド３５とを備え、上記凹部３１と凸部
３４とは、これらによって囲まれる空間Ｑを形成してい
る。なお、密着ベース３３および押圧ヘッド３５は透磁
率の低い材料例えばアルミニウム等によって形成されて
いる。上記密着手段３０は、回転軸７１と嵌合する密着
ベース３３の下面側に配置されている嵌合部３６が中空
円筒状の回転軸７１上に嵌合されて、この回転軸７１上
に配置され、回転軸７１の回転により、この密着手段３
０内に配置れている上記転写パターン１１の転写中心Ｃ
を通る軸Ｇの周りに回転される。この回転軸７１は、例
えば図示しないが、ギア付モータ等の回転手段によって
回転される。なお、密着ベース３３および押圧ヘッド３
５の中央には、上記空間Ｑから空気を排気する通気孔３
７、３８がそれぞれ形成されている。 【００１６】転写磁界印加手段６０の第１の磁界印加部
４０は、上記密着手段３０内の空間Ｑ中に配置されたス
レーブ媒体２０およびマスター担体１０の半径方向に磁
極間ギャップ４３を間に挟んで延びる互いに極性の異な
る第１のＮ極４１および第１のＳ極４２を有する電磁石
ユニットからなるものであり、転写磁界印加手段６０の
第１の磁界印加部４０は、上記密着手段３０内の空間Ｑ
中に配置されたスレーブ媒体２０およびマスター担体１
０の半径方向に磁極間ギャップ５３を間に挟んで延びる
互いに極性の異なる第２のＮ極５１および第２のＳ極５
２を有する電磁石ユニットからなるものである。この転
写磁界印加手段６０は上記空間Ｑ中に配置されたマスタ
ー担体１０およびスレーブ媒体２０の転写円周方向に転
写用磁界を印加する。 【００１７】また、転写磁界印加手段６０は、密着手段
３０内に密着配置されたスレーブ媒体２０およびマスタ
ー担体１０に転写用磁界を印加するときには、密着手段
３０に近接して配置されるが、この転写磁界印加手段６
０は、密着手段３０内の空間Ｑにスレーブ媒体２０とマ
スター担体１０とをセッティングするとき、およびこの
空間Ｑからスレーブ媒体２０とマスター担体１０とを取
り出すときには、押圧ヘッド３５の開閉動作が許容され
るように待避移動される。 【００１８】なお、上記スレーブ媒体２０は、初期磁化
が施されているものが用いられ、このスレーブ媒体２０
は、図６に示すように、予め上記転写円周方向の１方向
に沿って初期磁化（直流消磁）が施され矢印Ｈ１で示さ
れる方向に磁化されている。 【００１９】次に上記実施の形態における作用について
説明する。 【００２０】まず始めに、転写磁界印加手段６０が待避
移動されている状態において、マスター担体１０の転写
パターン１１が形成されている面の反対側の面が密着ベ
ース３３側を向くように、このマスター担体１０を密着
ベース３３の凹部３１の底面に配置する。さらに、スレ
ーブ媒体２０の磁気記録面２１が密着ベース３３側を向
くように、このスレーブ媒体２０を上記凹部３１に配置
されたマスター担体１０上に重ねて配置し、押圧ヘッド
３５の凸部３４を密着ベース３３の凹部３１に挿入す
る。これにより、スレーブ媒体２０とマスター担体１０
とが上記凸部３４と凹部３１との間に挟まれて密着され
る。 【００２１】次に、待避移動されていた転写磁界印加手
段６０を押圧ヘッド３５の近傍に移動させると共に、回
転軸７１の回転により密着手段３０を回転させることに
より、上記軸Ｇの周りに、上記密着配置されているマス
ター担体１０とスレーブ媒体２０とを転写磁界印加手段
６０に対して回転させつつ、この転写磁界印加手段６０
による転写用磁界の印加による上記転写円周方向への磁
化によって転写パターン１１を磁気記録面２１に磁気転
写させる。このとき、転写磁界印加手段６０の第１の磁
界印加部４０、および第２の磁界印加部５０によって発
生される磁界の向きが上記転写円周方向に向くように、
この転写磁界印加手段６０が密着手段３０に対して配置
され、転写パターン１１の磁気記録面２１への磁気転写
は、上記初期磁化の方向とは逆方向への磁化によって実
施される。 【００２２】磁気記録面２１への転写パターン１１の磁
気転写が終了した後、転写磁界印加手段６０を待避移動
させて、押圧ヘッド３５を密着ベース３３から取り外し
てスレーブ媒体２０とマスター担体１０との密着を開放
し、スレーブ媒体２０を取り出す。 【００２３】上記磁気転写の様子を詳しく説明する。図
７(ａ)〜(ｃ)は磁気転写の基本態様を示す図であり、図
７(ａ) は初期磁化されているスレーブ媒体の側面を示
す断面図、図７(ｂ)はマスター担体の転写パターンがス
レーブ媒体の磁気記録面に磁気転写される様子を示す側
面の断面図、図７(ｃ) は転写パターンが磁気転写され
たスレーブ媒体の側面を示す断面図、図８は転写パター
ンが磁気転写されたスレーブ媒体の磁化の方向を上から
見た様子を示す平面図である。 【００２４】図７(ａ)に示すように、スレーブ媒体２０
の基板２２上に形成されている磁気記録面２１は予め初
期磁化(直流消磁)されており、上記転写円周方向の一方
向であるＨ１方向に磁化されている（図６参照）。次
に、図７(ｂ)に示すように、この初期磁化されている磁
気記録面２１と、微細凹凸が形成されている基板１２上
に磁性層１３が被覆されてなるマスター担体１０の転写
パターン１１とを密着させ、上記転写円周方向への初期
磁界の磁化方向Ｈ１とは逆方向であるＨ２方向に転写用
磁界を印加して磁気転写を行う。その結果、図７(ｃ)お
よび図８に示すように、Ｈ１方向に初期磁化されている
磁気記録面２１中の転写パターン１１に密着されている
領域が、Ｈ２方向に磁化されて、上記転写パターン１１
が磁気記録面２１に磁気転写される。 【００２５】なお、上記マスター担体１０の転写パター
ン１１が、図７(ｂ)の凹凸形状によって示されるポジパ
ターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であって
も、初期磁界Ｈ１の方向および転写用磁界Ｈ２の方向を
上記と逆方向にすることによって同様の転写パターンを
磁気転写させることができる。 【００２６】ここで、２つの磁界印加部である第１の磁
界印加部４０、および第２の磁界印加部５０からなる転
写磁界印加手段６０を配置して、転写磁界印加手段から
発生してセンターコアを通る磁力線による磁気記録面へ
の転写パターンの磁化を防止する場合について、磁界印
加部が１つしか配設されていない場合と比較して説明す
る。図９は磁界印加部が１つしか配置されていない磁気
転写装置の概略構成を示す斜視図、図１０は磁界印加部
が１つしか配置されていないときの磁気記録面上の磁界
を上から見た様子を示す平面図、図１１は磁界印加部が
２つ配置されているときの磁気記録面上の磁界を上から
見た様子を示す平面図である。 【００２７】図９および図１０に示すように、第１の磁
界印加部４０のみからなる転写磁界印加手段が備えられ
ている場合には、第１の磁界印加部４０による転写用磁
界の印加によって、上記転写円周方向のＨ２方向に磁力
線が通る円周方向磁界領域Ｊ１が形成されると共に、磁
気記録面２１の内周側においては、第１のＮ極４１およ
び第１のＳ極４２からの磁界の漏れの影響や上記転写用
磁界が上記センターコア２３に引き寄せられることによ
って上記Ｈ２方向とは異なる方向に磁力線が通るような
円周外方向磁界領域Ｊ２が形成される。 【００２８】この円周外方向磁界領域Ｊ２において上記
転写パターン１１が磁気記録面２１上に磁気転写されて
この磁気記録面２１上にこの転写パターン１１を表す磁
化パターンが形成されると、この磁化パターンは上記Ｈ
２方向とは異なる方向に磁化されたものとなって、この
磁化パターンが読み取られるときに、この磁化パターン
を高いＳ／Ｎを持つ信号として読み取ることができない
虞がある。 【００２９】一方、２つの磁界印加部である第１のＮ極
４１および第１のＳ極４２からなる第１の磁界印加部４
０と、第２のＮ極５１および第２のＳ極５２からなる第
２の磁界印加部５０とからなる転写磁界印加手段６０が
備えられている場合には、図１１に示すように、磁極か
らの漏れ磁力線は第１の磁界印加部４０と第２の磁界印
加部５０との作用によって互いに打ち消され、上記セン
ターコア２３に引き寄せられていた上記Ｈ２方向とは異
なる方向の磁力線も第１の磁界印加部４０と第２の磁界
印加部５０との作用によって互いに打ち消されてしまう
ため、乱れた磁力線により上記転写パターン１１が磁気
記録面に転写されることはない。 【００３０】したがって、転写磁界印加手段６０から発
生した磁極からの漏れ磁力線やセンターコア２３を通る
磁力線の影響による磁気記録面２１への転写パターン１
１の磁化を防止することができ、この磁化パターンが読
み取られるときに、この磁化パターンを高いＳ／Ｎを持
つ信号として読み取ることができる。 【００３１】なお、上記マスター担体の基板用の材料と
しては、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミ
ニウム、合金、セラミックス、合成樹脂等を使用するこ
とができる。 【００３２】また、上記基板上への同心円状の転写パタ
ーン（凹凸パターン）の形成は、スタンパー法、フォト
ファブリケーション露光方式等によって行うことがで
き、基板の凹凸パターンの深さ（突起の高さ）は、８０
ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは１
５０ｎｍ〜６００ｎｍである。この凹凸パターンがサー
ボ信号として作成される場合は、半径方向に長いパター
ンとして形成される。例えば、半径方向の長さは０．３
〜２０μｍ、円周方向は０．２〜５μｍの凹凸パターン
として形成される。 【００３３】なお、上記スタンパー法、およびフォトフ
ァブリケーション露光方式は以下のようにして上記凹凸
パターンを形成するものである。 【００３４】すなわち、スタンパー法は、表面が平滑な
ガラス板（または石英板）の上にスピンコート等でフォ
トレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサ
ーボ信号に対応して変調したレーザー光（または電子ビ
ーム）を照射し、フォトレジスト全面に所定の同心円状
の転写パターンを露光する。その後、フォトレジストを
現像処理し、露光部分を除去してフォトレジストによる
凹凸形状を有する凹凸原盤を得る。次に、この凹凸原盤
の表面にメッキ（電鋳）を施して、上記凹凸パターンを
反転させたポジ状凹凸パターンを有する凹凸ポジ基板を
作成する。そして、この凹凸ポジ基板を凹凸原盤から剥
離して、この凹凸ポジ基板をそのままマスター担体とす
るか、またはこの凹凸ポジ基板の凹凸パターン上に必要
に応じて非磁性層、軟磁性層、保護膜を被覆してマスタ
ー担体とするものである。 【００３５】なお、この凹凸ポジ基板を作成する前記メ
ッキは、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオン
プレーティングを含む各種の金属成膜法が適用できる。 【００３６】また、前記凹凸原盤にメッキを施して第２
の凹凸原盤を作成し、この第２の凹凸原盤に上記と同様
にメッキを施して、ネガ状凹凸パターンを有する凹凸ネ
ガ基板を作成してもよい。さらに、第２の凹凸原盤にメ
ッキを施して第３の凹凸原盤を作成し、さらに、この第
３の凹凸原盤にメッキを施してポジ状凹凸パターンを有
する凹凸ポジ基板を作成してもよい。また、前記ガラス
板にフォトレジストによる転写パターンを形成した後、
エッチングによってガラス板に穴を形成し、その後、フ
ォトレジストを除去して凹凸原盤を得、上記と同様の手
法によって基板を形成するようにしてもよい。 【００３７】また、上記凹凸原盤に樹脂液を押し付け硬
化させてた後、凹凸原盤から剥離して凹凸樹脂基板を作
製し、その表面に磁性層を被覆してマスター担体として
もよい。凹凸樹脂基板の樹脂材料としては、ポリカーボ
ネート・ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹
脂、ポリ塩化ビニル・塩化ビニル共重合体などの塩化ビ
ニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
およびポリエステルなどが使用可能である。耐湿性、寸
法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好
ましい。成形品にバリがある場合は、バーニシュまたは
ポリッシュにより除去する。ここで、紫外線硬化樹脂、
電子線硬化樹脂などを使用して、凹凸原盤にスピンコー
ト、バーコート塗布等を施して凹凸樹脂基板を作成して
もよい。樹脂基板のパターン突起の高さは、５０〜１０
００ｎｍの範囲、より好ましくは２００〜５００ｎｍの
範囲にすることが望ましい。 【００３８】一方、フォトファブリケーション露光方式
は、以下のようにして凹凸パターンを形成するものであ
る。すなわち、例えば、平滑な表面を有する平板状の基
板にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いた露
光、現像処理により、凹凸パターンを形成する。次に、
エッチング工程によりこの基板のエッチングを行い、磁
性層の厚さに相当する深さの穴を形成する。つづいて、
磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等の真空成膜手段、メッキ法により、上記
形成した穴が埋まるように基板の表面まで磁性材料を成
膜する。その後、フォトレジストをリフトオフ法で除去
し、表面を研磨して平滑化する。 【００３９】次に、上記基板に形成された凹凸パターン
上に成膜する磁性層について説明する。 【００４０】上記磁性層（軟磁性層）の形成は、磁性材
料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜す
る。磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（Ｃｏ
Ｎｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆ
ｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、Ｆｅ
ＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金
（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦ
ｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。磁性層の厚みは、５０ｎ
ｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１
５０ｎｍ〜４００ｎｍである。また磁性層の下層に下地
層として設ける非磁性層の材料としては、Ｃｒ、ＣｒＴ
ｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ、
Ｃ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ等を用いる。 【００４１】上記凹凸基板がニッケルなどによる強磁性
体の場合はこの凹凸基板のみで磁気転写は可能で、磁性
層は被覆しなくてもよいが、転写特性の良い磁性層を設
けることでより良好な磁気転写を行うことができる。な
お、強磁性金属による凹凸基板に磁性層を被覆した場合
に、凹凸基板の磁性の影響を断つために、凹凸基板と磁
性層との間に非磁性層を設けることが好ましい。また、
凹凸基板が非磁性体の場合は磁性層を被覆することが必
須である。 【００４２】さらに、磁性層の上にはＤＬＣ等の保護膜
を設けることが好ましく、保護膜としてさらに潤滑剤層
を設けるようにしてもよい。この保護膜としては５〜３
０ｎｍのＤＬＣ膜と潤滑剤層が存在することが好まし
い。また、磁性層と保護膜の間に、Ｓｉ等の密着強化層
を設けてもよい。このように、凹凸基板の最上層に保護
膜を被覆することにより、このマスター担体の接触耐久
性が向上し多数回の磁気転写が可能となる。なお、上記
潤滑剤層は、スレーブ媒体との接触過程で生じる摩擦に
よる傷の発生などの耐久性の劣化を改善する。 【００４３】なお、スレーブ媒体としては、ハードディ
スクなどの剛体円盤状磁気記録媒体が使用され、その磁
気記録層には塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気
記録層が形成されている。金属薄膜型磁気記録層の磁性
材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣ
ｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣ
ｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、Ｆｅ
Ｐｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。 【００４４】なお、転写用磁界を印加する際には、密着
されたマスター担体とスレーブ媒体とを転写磁界印加手
段に対して相対的に回転させようにすればよいので、転
写磁界印加手段を、密着されたマスター担体とスレーブ
媒体とに対して回転させるようにしてもよい。 【００４５】また、転写磁界印加手段は、電磁石ユニッ
トに代えて永久磁石ユニットで構成することもできる。 【００４６】また、２つの磁界印加部からなる転写磁界
印加手段を、密着手段の表裏両側にそれぞれ配設して磁
界を印加するようにしてもよい。 【００４７】なお、上記実施の形態に加えて、センター
コアを表裏両側から挟んで、このセンターコアを磁化、
あるいは飽和磁化させる磁界形成手段を配設して、磁気
転写装置を構成するようにしてもよい。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の実施の形態による磁気転写装置の概略
構成をを示す斜視図 【図２】マスター担体とスレーブ媒体とが密着される前
の状態における主要部の断面図 【図３】マスター担体とスレーブ媒体とが密着された状
態における主要部の断面図 【図４】密着されたマスター担体とスレーブ媒体とに対
する各磁極の配置を示す概念図 【図５】マスター担体の同心円状の転写パターンを示す
図 【図６】スレーブ媒体の初期磁化の方向を示す平面図 【図７】磁気転写の基本態様を示す側面図 【図８】転写パターンが磁気転写されたスレーブ媒体の
磁化の方向を示す平面図 【図９】第１の磁界印加部のみが配置された磁気転写装
置の概略構成をを示す斜視図 【図１０】第１の磁界印加部のみが配置された磁気記録
面上の磁界の様子を示す平面図 【図１１】第１および第２の磁界印加部が配置されてい
る磁気記録面上の磁界の様子を示す平面図 【符号の説明】 １０ マスター担体 １１ 転写パターン ２０ スレーブ媒体 ２１ 磁気記録面 ３０ 密着手段 ４０ 第１の磁界印加部 ４１ 第１のＮ極 ４２ 第１のＳ極 ５０ 第２の磁界印加部 ５１ 第２のＮ極 ５２ 第２のＳ極

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 同心円状の転写パターンが磁性体によっ
   て形成されているマスター担体に、前記転写パターンの
   転写を受ける磁気記録面を有し、金属製のセンターコア
   を中央部に備えるスレーブ媒体を密着させる密着手段
   と、 前記密着されたマスター担体とスレーブ媒体とに転写用
   磁界を印加する転写磁界印加手段とを備え、 前記同心円状の転写パターンの中心の周りに、前記密着
   されたマスター担体とスレーブ媒体とを前記転写磁界印
   加手段に対して相対的に回転させつつ、前記転写用磁界
   の印加による前記同心円状の転写パターンの円周方向へ
   の磁化によって前記転写パターンを前記磁気記録面に転
   写させる磁気転写装置であって、 前記転写磁界印加手段が、前記同心円状の転写パターン
   の中心を通り前記磁気記録面に直交する第１の面を挟ん
   で互いに密接して配置された第１の磁界印加部と第２の
   磁界印加部とを備え、 前記第１の磁界印加部が前記同心円状の転写パターンの
   中心を通り前記磁気記録面および第１の面に直交する第
   ２の面を挟んで対向する互いに極性の異なる一対の磁極
   からなるものであり、前記第２の磁界印加部が、前記第
   ２の面を挟んで対向する互いに極性の異なる一対の磁極
   からなり、かつ該一対の磁極の極性が前記第２の面の同
   じ側においてそれぞれ前記第１の磁界印加部の磁極の極
   性と逆の極性であることを特徴とする磁気転写装置。