JP2003185814A

JP2003185814A - 反射板形成用転写材料及びその製造方法、反射板、並びに液晶表示装置及びその製造方法

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Publication number: JP2003185814A
Application number: JP2001384033A
Authority: JP
Inventors: Mitsutoshi Tanaka; 光利田中
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-12-18
Filing date: 2001-12-18
Publication date: 2003-07-03
Anticipated expiration: 2021-12-18
Also published as: JP3961279B2

Abstract

(57)【要約】【課題】簡略な工程で、良好な反射特性を有する反射
電極を有す反射型液晶表示装置及びその製造方法と、こ
れに用いる反射板形成用転写材料及びその製造方法を提
供。【解決手段】仮支持体上に少なくとも１層の樹脂層を
設けてなり、前記樹脂層に隣接する層又は前記樹脂層に
隣接する仮支持体に、該樹脂層厚みの５％以上３００％
以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部をエンボス加工
により設けてなる反射板形成用転写材料及びその製造方
法。反射機能を有する第１の電極が第２の基板に対向す
る面に少なくとも一部形成されている第１の基板と、該
第１の基板に対向配置されている第２の基板と、第１及
び第２の基板の間に封入されている液晶層とを備え、前
記第１の基板と第１の電極との間に、前記反射板形成用
転写材料を用いて転写を含む工程で形成される表面に凹
凸部を有する樹脂層を備えた液晶表示装置及びその製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射板形成用転写
材料及びその製造方法、反射板、並び液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に、ＯＡ機器、パーソナルコン
ピュータ、携帯型情報端末等に用いられる液晶表示装置
のうち室内照明や太陽光などの外光を利用する反射型液
晶表示装置及びその製造方法、反射板、並びにこれに用
いる反射板形成用転写材料及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＣＲＴに代わるフラットパネル型
表示装置として、現在最も広く使用ないし期待されてい
るのは液晶表示装置（ＬＣＤ）である。中でも、薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ：ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉ
ｓｔｏｒ）方式のＬＣＤ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は、パーソ
ナルコンピュータ、ワープロ、ＯＡ機器、携帯テレビジ
ョン等への応用による市場の一層の拡大が期待されてい
る。特に、マルチメディア社会の進展に伴って、可搬性
のある情報ツールとしてのノート型パソコンや携帯型情
報端末の分野では、より薄型・軽量で且つ、装置の使用
可能時間を長くする目的で消費電力の少ない液晶表示装
置が求められている。反射型液晶表示装置は、室内照明
や太陽光などの外光を利用することから、バックライト
やフロントライトによる電力の消費が無いか、または少
なく、従来の透過型液晶表示装置に比較して消費電力を
低くすることが可能であり、薄型・軽量化が可能であ
る。

【０００３】このような反射型液晶表示装置には、従来
よりＴＮ（ツイステッドネマティック）方式、ＳＴＮ
（スーパーツイステッドネマティック）方式、及び特開
平５−１７３１５８号公報に記載されているような相転
移型ゲストホスト方式等が使用されている。

【０００４】これら反射型液晶表示装置において、より
明るい表示を得るためには、あらゆる角度からの入射光
に対して表示画面に垂直な方向へ散乱する光強度を増加
させることが必要となってくる。このため、特開平６−
７５２３７号公報には、絶縁性のガラス基板上に凹凸の
形状を制御して形成し、その上にＡｌ、Ａｇ等の金属膜
を形成した反射板を形成することが記載されている。上
記提案の反射板は、フォトリソグラフィー等により、ガ
ラス基板表面に高分子材料を用いた柱状の凸部分を形成
した後、加熱処理により柱状構造の上縁部分の角を熱的
に変形させて、上縁部分が丸くなるような形状を作製
し、更に高分子樹脂膜を積層することにより柱状構造の
隙間を埋め込み、連続した波状の表面形状を形成し、こ
の波状樹脂表面上にＡｌ、Ａｇ等の金属膜を成膜するこ
とにより連続した波状の表面を有する反射板を作製して
いる。

【０００５】しかしながら、上記提案による反射板の作
製においては、少なくとも３層の膜構造を形成する必要
があり、３回の成膜工程及び加工工程が必要となること
から、工程数が多くなるという欠点がある。さらに柱状
部分の上縁部を丸く、角のない形状にするために少なく
とも２００℃以上の加熱工程が必要となる。このため、
液晶表示装置のさらなる薄型・軽量化を目的として、基
板に高分子樹脂基板を用いる場合、加熱時に基板の変
形、収縮等が発生することから、プロセスを行うことが
できず、使用できる材料が高耐熱樹脂等に限られてしま
うといった問題があった。

【０００６】かかる課題を解決するため、特開平１１−
１５３８０４号公報には、光硬化性樹脂の多重露光によ
り自己形成的に形成される凸形状を有し、熱処理などを
必要としない反射型液晶表示装置及びその製造方法が提
案されている。

【０００７】この自己形成的に形成される凸形状の制御
は、照射された光エネルギーに依存し、光照射時間又は
光照射エネルギーを制御することにより、２μｍ程度ま
での範囲で凸部分の高さをコントロールすることができ
る。

【０００８】しかしながら、前記光の照射エネルギー
は、例えば１．２Ｊ／ｃｍ^２〜１．５Ｊ／ｃｍ^２程度で
あり、照射時間は２００秒前後必要である。このことか
ら、上記方法においては、製造ラインのタクトタイムが
３分以上と長くかかり、生産性が劣るという問題があ
る。

【０００９】一方、半透過型液晶表示装置（半透過型Ｌ
ＣＤ）は、モバイル用途に最適なシステムとして普及し
始めている。このセル構造は、複雑であり、１画素内に
透過型ＬＣＤ部分と反射型ＬＣＤ部分を併設している。
これら２つの部分は同じ液晶厚で設計すると各々のスイ
ッチングが中途半端な調整しかできないので、透過型Ｌ
ＣＤ部分の液晶厚を反射型ＬＣＤ部分の液晶厚の２倍に
するシステムが提案されている（特開平１１−２４２２
２６号公報、特開２０００−１８７２２０号公報）。

【００１０】即ち、前記２重構造半透過型ＬＣＤは、基
板ガラスを貼り合せて形成するセルギャップは基本的に
透過型ＬＣＤのギャップｄ１に調整するが、反射型ＬＣ
Ｄ部分はセルギャップを半分にするため、略１／２ｄ１
の厚さの絶縁膜をフォトリソグラフィーで形成する。こ
の絶縁膜上を乱反射する反射板にするために、絶縁膜を
２層構成の塗布膜にすることが特開２０００−１８７２
２０号公報などに開示されている。

【００１１】しかしながら、この方法では、多段階の工
程を必要とし、その結果できあがったＬＣＤのコストが
高くなってしまうという問題がある。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来におけ
る前記問題を解決し、以下の課題を解決することを目的
とする。即ち、本発明は、反射板形成用転写材料及びそ
の製造方法、この転写材料から製造した反射板、並び
に、簡略な工程により、良好な反射特性を有する反射電
極を有する液晶表示装置及びその製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、＜１＞仮支持体上に少なくとも１層の樹脂層を設けて
なり、前記樹脂層に隣接する層又は前記樹脂層に隣接す
る仮支持体に、該樹脂層厚みの５％以上３００％以下の
深さ又は突出高さを有する凹凸部をエンボス加工により
設けてなることを特徴とする反射板形成用転写材料であ
る。＜２＞仮支持体上に少なくとも１層の着色剤を含まな
い樹脂層を設けてなり、前記樹脂層に隣接する層又は前
記樹脂層に隣接する仮支持体に、該樹脂層厚みの５％以
上３００％以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部をエ
ンボス加工により設けてなる前記＜１＞に記載の反射板
形成用転写材料である。＜３＞仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性
樹脂層をこの順に設けてなり、前記中間層に、該感光性
樹脂層厚みの５％以上３００％以下の深さ又は突出高さ
を有する凹凸部をエンボス加工により設けてなることを
特徴とする反射板形成用転写材料である。＜４＞仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、着色剤
を含まない感光性樹脂層をこの順に設けてなり、前記中
間層に、該感光性樹脂層厚みの５％以上３００％以下の
深さ又は突出高さを有する凹凸部をエンボス加工により
設けてなる前記＜３＞に記載の反射板形成用転写材料で
ある。＜５＞前記凹凸部が、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、
中間層をこの順に形成した後、該中間層側からエンボス
加工を施すことにより形成される前記＜３＞又は＜４＞
に記載の反射板形成用転写材料である。＜６＞仮支持体上に少なくとも１層の樹脂層を設けて
なる反射板形成用転写材料の製造方法において、前記樹
脂層に隣接する層又は前記樹脂層に隣接する仮支持体に
エンボス加工を行って、該樹脂層厚みの５％以上３００
％以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部を形成するこ
とを特徴とする反射板形成用転写材料の製造方法であ
る。＜７＞仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性
樹脂層をこの順に設けてなる反射板形成用転写材料の製
造方法において、前記中間層を形成した後、該中間層に
エンボス加工を行って少なくとも中間層表面に凹凸部を
形成し、該凹凸部上に感光性樹脂層を形成することを特
徴とする反射板形成用転写材料の製造方法である。＜８＞前記凹凸部が、前記感光性樹脂層厚みの５％以
上３００％以下の深さ又は突出高さを有する前記＜７＞
に記載の反射板形成用転写材料の製造方法である。＜９＞前記感光性樹脂層が着色剤を含まない前記＜６
＞乃至＜８＞のいずれかに記載の反射板形成用転写材料
の製造方法である。＜１０＞前記＜１＞乃至＜５＞のいずれかに記載の反
射板形成用転写材料を基板に転写し、露光を行い、現
像、ベークして形成される表面に凹凸部を有する樹脂層
上に光反射機能材料層を形成してなる反射板である。＜１１＞前記＜１０＞記載の反射板を一方の反射電極
として用いたことを特徴とする液晶表示装置である。＜１２＞光反射機能を有する第１の電極が第２の基板
に対向する面に少なくとも一部形成されている第１の基
板と、該第１の基板に対向配置されている第２の基板
と、第１及び第２の基板の間に封入されている液晶層と
を備える液晶表示装置において、前記第１の基板と第１
の電極との間に、前記＜１＞乃至＜５＞のいずれかに記
載の反射板形成用転写材料を用いて転写を含む工程で形
成される表面に凹凸部を有する樹脂層を備えたことを特
徴とする液晶表示装置である。＜１３＞前記液晶表示装置が、カラーフィルタ・オン
・アレイ（ＣＯＡ）構造を有する前記＜１２＞に記載の
液晶表示装置である。＜１４＞前記液晶表示装置が、半透過型構造を有する
前記＜１２＞に記載の液晶表示装置である。＜１５＞前記液晶表示装置が、カラーフィルタ・オン
・アレイ（ＣＯＡ）構造及び半透過型構造を有する前記
＜１２＞に記載の液晶表示装置である。＜１６＞光反射機能を有する第１の電極が第２の基板
に対向する面に少なくとも一部形成されている第１の基
板と、該第１の基板に対向配置されている第２の基板
と、第１及び第２の基板の間に封入されている液晶層と
を備える液晶表示装置の製造方法において、前記第１の
基板と第１の電極との間に、前記＜１＞乃至＜５＞のい
ずれかに記載の反射板形成用転写材料を用い、転写を含
む工程で表面に凹凸部を有する樹脂層を形成することを
特徴とする液晶表示装置の製造方法である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明について更に詳しく
説明する。＜反射板形成用転写材料＞本発明の反射板形成用転写材
料は、第１の態様として、仮支持体上に少なくとも１層
の樹脂層を設けてなり、前記樹脂層に隣接する層又は前
記樹脂層に隣接する仮支持体に、該樹脂層厚みの５％以
上３００％以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部をエ
ンボス加工により設けてなる。この場合、前記樹脂層
は、着色剤を含まないことが、反射板の下地、液晶セル
内の反射電極の用途に用いる上で好ましい。但し、迷光
を除去する等の目的で樹脂層は着色される場合もある。

【００１５】前記樹脂層に隣接する層としては、反射板
形成用転写材料の層構成に応じて異なり、適宜選定する
ことができるが、通常、仮支持体上に形成される熱可塑
性樹脂層又は中間層に凹凸部が形成されることが好まし
く、仮支持体上に隣接して感光性樹脂層が形成される場
合には、仮支持体に凹凸部を形成することもできる。

【００１６】また、本発明の反射板形成用転写材料は、
第２の態様として、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間
層、感光性樹脂層をこの順に設け、前記中間層に、該感
光性樹脂層厚みの５％以上３００％以下の深さ又は突出
高さを有する凹凸部をエンボス加工により設けてなるも
のである。この場合、前記感光性樹脂層は、着色剤を含
まないことが、反射板の下地、液晶セル内の反射電極の
用途に用いる上で好ましい。但し、迷光を除去する等の
目的で感光性樹脂層は着色される場合もある。

【００１７】なお、反射板形成用転写材料を基板に感光
性樹脂層が接するように転写した後の反射板形成用転写
材料においては、前記凹凸部に対応する凸凹部を有する
部分の感光性樹脂層の厚みが、他の凹凸部を有さない部
分の感光性樹脂層部分の厚みの５％以上３００％以下に
形成されていることになる。

【００１８】−凹凸部の形状とサイズ及び個数− 前記凹凸部の底面の形状には、特に制限はないが、正方
形、長方形、円形、楕円形などが好適である。凹凸部の
底面の形状が正方形又は円形の場合には一辺（又は直
径）が、好ましくは２〜１００μｍ、より好ましくは５
〜５０μｍ程度である。凹凸部の底面の形状が長方形又
は楕円形の場合には短辺（又は短径）が、好ましくは２
〜１００μｍ、より好ましくは５〜５０μｍ程度であ
る。なお、短辺（短径）が５μｍであり、かつ長辺（長
径）が１００μｍである長方形又は楕円形は図形という
よりは線に近いが、本発明ではこのような形状の凹凸部
もすべて含まれる。また、本発明では、凹凸部のサイ
ズ、形状などをランダムに変化させて配置することで、
回折による色付きや縞の発生を防止することが好まし
い。

【００１９】前記凹凸部の深さ又は突出高さは感光性樹
脂層の厚みの５％以上３００％以下であることが必要で
あり、好ましくは１０％以上２００％以下、より好まし
くは１５％以上６０％以下である。なお、凹凸部の深さ
又は突出高さは、深さ又は突出高さにばらつきのある場
合には最大深さ又は最大突出高さを示す。凹凸部の深さ
又は突出高さが感光性樹脂層の厚みの５％未満であると
良好な反射特性を得ることができなくなり、一方、３０
０％を超えると液晶の配向が乱れ、コントラストが低下
する。また、前記凹凸部の個数は、液晶表示装置の用途
などに応じて異なるが、１単色画素当たり１〜３００
個、より好ましくは１０〜５０個である。なお、１単色
画素とは、白黒用の場合の１画素、カラー用の場合の１
つの色に対応する画素を意味する。前記凹凸部は不規則
に配置され、連続した波形状を有することが良好な反射
特性を得ることができる観点から望ましい。

【００２０】−凹凸部の形成方法− 前記第１及び第２の態様に係る反射板形成用転写材料の
感光性樹脂層に隣接する層、感光性樹脂層に隣接する仮
支持体、又は中間層に設けられる凹凸部はエンボス加工
により、効率良く形成することができる。

【００２１】ここで、エンボス加工とは、エッチング又
は凹凸模様を彫り込んだエンボスロール又はエンボス板
を用いて圧延又は型押しすることで材料に凹凸部をつけ
る技術である。本発明で用いるエンボスロールは、表面
に凹凸部に対応する突起を彫りこんだ直径１００〜９０
０ｍｍの金属製ロール又は平版であり、対となるロール
（表面が平坦な弾性ロールが好ましい）との間に材料を
通して圧延又は平版で押圧することにより材料の表面に
凹凸部を形成するものである。圧延の温度は５０〜２０
０℃、速度は３〜１５０ｍ／ｍｉｎ、線圧力は０．３〜
２０ｔ／ｍ程度であることが好ましい。なお、エンボス
加工については、例えば「表面技術便覧（（社）表面技
術協会編、日刊工業新聞社発行（１９９８））」、「新
・紙加工便覧（業紙タイムス社編、業紙タイムス社発行
（昭和５５年））」などに記載されている。

【００２２】本発明の反射板形成用転写材料は、感光性
樹脂層に隣接する層、感光性樹脂層に隣接する仮支持
体、又は中間層に対してエンボス加工を行い、該層に凹
凸部を形成し、その上に感光性樹脂層を塗布する以外
は、通常の方法により、製造することができる。

【００２３】前記反射板形成用転写材料は、仮支持体上
に少なくとも１層の樹脂層を設けてなるが、具体的に
は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂
層をこの順に設けてなり、更に必要に応じて適宜選択し
たその他の層を有してなる。以下、反射板形成用転写材
料の各構成層及びこれらに含まれる構成成分について説
明する。

【００２４】−仮支持体− 前記仮支持体としては、熱可塑性樹脂層に対して転写に
支障とならない程度の剥離性を有するものが好ましく、
化学的、熱的に安定で可撓性のものが好ましい。具体的
には、テフロン^（Ｒ）、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
薄膜シート又はこれらの積層物が好適に挙げられる。

【００２５】前記仮支持体と熱可塑性樹脂との間に良好
な剥離性を確保するために、グロー放電等の表面処理は
施さず、またゼラチン等の下塗り層も設けないことが好
ましい。

【００２６】前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００
μｍが適当であり、２０〜１５０μｍが好ましい。

【００２７】−熱可塑性樹脂層− 前記熱可塑性樹脂層は、仮支持体上の第一層目として設
けられ、主として熱可塑性樹脂を含んでなり、必要に応
じて他の成分を含んでいてもよい。前記熱可塑性樹脂と
しては、転写後のアルカリ現像を可能とし、或いは転写
時の転写条件によっては熱可塑性樹脂が周囲にはみ出し
て被転写体である基板上を汚染してしまう場合に除去処
理を可能とする観点から、アルカリ性水溶液に可溶な樹
脂が好適である。更に、熱可塑性樹脂層は、被転写体で
ある基板の導電膜上に転写する際、導電パターン膜上に
存在する凹凸に起因して生じ得る転写不良を防止するク
ッション材としての機能をも発揮させる観点から、加熱
密着時に前記凹凸に応じて変形し得る十分な可塑性を有
するものが好ましい。

【００２８】また、前記反射板形成用転写材料は、仮支
持体上に熱可塑性樹脂層の他、後述する中間層、感光性
樹脂層を順次積層して構成される場合には、特に熱可塑
性樹脂層と仮支持体との間の接着強度を他の層間におけ
る接着強度より小さくすることが望ましく、これにより
転写後、仮支持体を容易かつ熱可塑性樹脂層の破壊を伴
うことなく除去することができるので、仮支持体除去後
の感光性樹脂層への露光を均一に行うことができる。

【００２９】上記の点から、前記熱可塑性樹脂として
は、アルカリ可溶性であって、実質的な軟化点が８０℃
以下の樹脂が好ましい。軟化点が８０℃以下の熱可塑性
樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル
共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸
エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メ
タ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ
（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチ
ルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重
合体等のケン化物等が挙げられ、一種単独よりなるもの
であっても、二種以上を併用したものであってもよい。

【００３０】更に、「プラスチック性能便覧」（日本プ
ラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合
会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発
行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のう
ち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用できる。

【００３１】また、軟化点８０℃以上の有機高分子物質
であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質
と相溶性のある各種可塑剤を添加することにより、実質
的な軟化点を８０℃以下に下げて使用することもでき
る。前記可塑剤としては、既述の光硬化性組成物に使用
可能な可塑剤と同様のものが挙げられる。

【００３２】前記有機高分子物質を用いる場合、後述の
仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点
が８０℃を超えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物
質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることも
できる。

【００３３】前記熱可塑性樹脂層は、前記熱可塑性樹脂
と必要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液
（熱可塑性樹脂層用塗布液）を調製し、例えば、スピン
コート法等の公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等
して形成することができる。

【００３４】前記有機溶剤としては、例えば、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン
等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等の
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレング
リコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−
４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロ
キシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチル
プロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸
エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、
３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピ
オン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−
エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル類；等が挙げられる。これらの有機溶剤
は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組合わせ
て用いてもよい。

【００３５】これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜
形成性の点で、エチレングリコールジメチルエーテル等
のグリコールエステル類、エチルセロソルブアセテート
等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシ
プロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル
等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル等のジエチレングリコール類が特に好適である。

【００３６】更に、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ
−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１
−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテー
ト等の高沸点溶剤を添加することもできる。

【００３７】前記熱可塑性樹脂層の層厚としては、６〜
１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。
前記層厚が、６μｍ未満であると、導電膜上の１μｍ以
上の凹凸を完全に吸収することができないことがあり、
一方、１００μｍを超えると、現像性、製造適性が低下
することがある。

【００３８】−中間層− 前記中間層は、前記感光性樹脂層上に設けられ、前記反
射板形成用転写材料が熱可塑性樹脂層を有する場合には
該感光性樹脂層と該熱可塑性樹脂層との間に設けられ
る。前記感光性樹脂層と熱可塑性樹脂層との形成におい
ては有機溶剤を用いるため、該中間層がその間に位置す
ると、両層が互いに混ざり合うのを防止することができ
る。また、前記中間層は、その酸素遮断能が低下する
と、感光性樹脂層の重合感度が低下して、露光時の光量
をアップしたり、露光時間を長くする必要が生ずるばか
りか、解像度も低下することになるため、酸素透過性の
小さいことが好ましい。

【００３９】前記中間層は、水又はアルカリ水溶液に分
散、溶解可能な樹脂成分を主に構成され、必要に応じ
て、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。前記
中間層を構成する樹脂成分としては、公知のものを使用
することができ、例えば、特開昭４６−２１２１号公報
及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニル
エーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキル
セルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、
カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、
水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチ
ン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似
物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重
合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。これら
は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用しても
よい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ま
しく、該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニル
アルコールを使用するのが好ましく、ポリビニルアルコ
ールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。

【００４０】前記ポリビニルアルコールとしては、特に
制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる
が、その鹸化率が８０％以上であるのが好ましい。前記
ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量とし
ては、該中間層の固形分に対し、１〜７５体積％である
のが好ましく、１〜６０体積％であるのがより好まし
く、１０〜５０体積％であるのが特に好ましい。前記含
有量が、１体積％未満であると、前記感光性樹脂層との
十分な密着性が得られないことがあり、一方、７５体積
％を超えると、酸素遮断能が低下することがあり、好ま
しくない。

【００４１】前記中間層は、前記樹脂成分等を水系溶媒
に溶解、分散して塗布液（中間層用塗布液）を調製し、
例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法により前記
熱可塑性樹脂層上に塗布等して形成することができる。
前記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分とし、所
望により本発明の効果を損なわない範囲でアルコール等
の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げら
れる。

【００４２】前記中間層の層厚としては、約０．１〜５
μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。前記
層厚が、約０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高す
ぎて感光性樹脂層の重合感度が低下することがあり、一
方、約５μｍを超えると、現像や中間層除去時に長時間
を要することがある。

【００４３】−感光性樹脂層− 前記感光性樹脂層は、下記に詳しく説明する感光性樹脂
組成物により好適に形成することができる。

【００４４】((感光性樹脂組成物))本発明の感光性樹脂
組成物は、重合性モノマーと（メタ）アクリル酸含有重
合体と重合開始剤とを含み、ネガ型の光重合系やポジ型
の光重合系のいずれも使用可能である。この樹脂組成物
は、少なくとも温度１５０℃以下で軟化若しくは粘着性
を有する熱可塑性の樹脂組成物であり、未照射部ではア
ルカリ溶液に対して易溶性を有し、着色剤を含むもので
ある。また、必要に応じて、熱可塑性の結合剤、相溶性
の可塑剤等のその他の成分を含んでなる。

【００４５】−重合性モノマー− 前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を少なく
とも２個有する付加重合可能な化合物であり、後述の
（メタ）アクリル酸含有重合体のアルカリ溶解性を損な
わず、光照射時に重合し、（メタ）アクリル酸含有重合
体と共にアルカリ水溶液に対する溶解性を減少させるも
のである。

【００４６】前記重合性モノマーとしては、末端エチレ
ン性不飽和結合を１分子中に２個以上有する化合物の中
から適宜選択でき、例えば、モノマー、プレポリマー、
即ち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合
物、若しくはこれらの共重合体等の化学構造を持つもの
が含まれる。

【００４７】具体的には、例えば、不飽和カルボン酸
（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族
多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸
と脂肪族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられ
る。

【００４８】前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル（モノマー）としては、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸エス
テル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、
マレイン酸エステルなどが挙げられる。

【００４９】前記アクリル酸エステルとしては、例え
ば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジ
アクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンテ
ルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アク
リロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエ
タントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリ
アクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシア
ヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマーなどが
挙げられる。

【００５０】前記メタクリル酸エステルとしては、例え
ば、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３
−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−
（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）
フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ−（メタクリルオ
キシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタンなどが挙げら
れる。

【００５１】前記イタコン酸エステルとしては、例え
ば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレング
リコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイ
タコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、
テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリ
スリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコ
ネートなどが挙げられる。

【００５２】前記クロトン酸エステルとしては、例え
ば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレ
ングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジ
クロトネート、ソルビトールテトラジクロトネートなど
が挙げられる。

【００５３】前記イソクロトン酸エステルとして、例え
ば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエ
リスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトラ
イソクロトネートなどが挙げられる。

【００５４】前記マレイン酸エステルとして、例えば、
エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコー
ルジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソル
ビトールテトラマレー卜などが挙げられる。なお、更
に、前述の各種エステルの混合物も挙げることができ
る。

【００５５】前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド（モノマー）としては、例えば、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレシビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ドなどが挙げられる。

【００５６】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報に記載の、１分子に２個以上のイソシアネー
ト基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式
（Ｉ）で表される水酸基含有ビニルモノマーを付加せし
めた、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有する
ビニルウレタン化合物などが挙げられる。ＣＨ₂＝Ｃ(Ｒ)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ(Ｒ^１)ＯＨ（Ｉ）〔式中、Ｒ及びＲ^１は、Ｈ又はＣＨ₃を表す。〕

【００５７】また、特開昭５１−３７１９３号公報に記
載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３
号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９
０号等の各公報に記載の、ポリエステルアクリレート
類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエ
ポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタ
クリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会
誌（ｖｏ１．２０、Ｎｏ.７、ｐ.３００〜３０８（１９
８４年））に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。

【００５８】前記重合性モノマーは、一種単独で用いて
もよいし、二種以上を併用してもよい。前記重合性モノ
マーの含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分の
１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより
好ましい。

【００５９】また、後述の（メタ）アクリル酸含有重合
体の総量に対する前記重合性モノマーの総量の質量比が
０．５〜０．９である。前記質量比が、０．５未満であ
ると、光重合による硬化が不十分で硬度が不足する。一
方、０．９を超えると、好ましい形状が得られない。

【００６０】−（メタ）アクリル酸含有重合体− 前記（メタ）アクリル酸含有重合体は、主にバインダー
成分として含有され、アルカリ溶液により現像可能なも
のである。前記（メタ）アクリル酸含有重合体として
は、一般に、側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、例
えば、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３
４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公
昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号
公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、
部分エステル化マレイン酸共重合体などが挙げられる。
また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も
挙げられる。

【００６１】上記のほか、水酸基を有するポリマーに環
状酸無水物を付加したものも好適に挙げられる。特に、
米国特許第４１３９３９１号明細書に記載の、ベンジル
（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸の共重合体
やベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸
と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができ
る。更に、アルコール可溶性ナイロンも挙げることがで
きる。また、複数の（メタ）アクリル酸含有重合体を組
合わせて使用してもよい。

【００６２】前記（メタ）アクリル酸含有重合体は、通
常、５０〜３００ｍｇＫＯＨ／１ｇの範囲の酸価と、１
０００〜３０００００の範囲の質量平均分子量を有する
ものの中から適宜選択して使用される。前記酸価が、５
０ｍｇＫＯＨ／１ｇ未満であると、アルカリ現像性が大
きく低下することがあり、一方、３００ｍｇＫＯＨ／１
ｇを超えると、目標とする構造体が得られなくなること
がある。

【００６３】前記（メタ）アクリル酸含有重合体の質量
平均分子量としては、上記の通り、１０００〜３０００
００が好ましく、中でも特に１００００〜２５００００
が好ましい。前記質量平均分子量が、１０００未満であ
ると、目標とする構造体が得られなくなることがあり、
一方、３０００００を超えると、現像性が極端に低下す
ることがある。なお、質量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル
パーミエイションクロマトグラフィー）により測定した
ポリスチレン換算平均分子量である。

【００６４】前記（メタ）アクリル酸含有重合体の含有
量としては、感光性樹脂組成物の全固形分の２０〜６０
質量％が好ましく、３０〜５５質量％がより好ましい。
（メタ）アクリル酸含有重合体の含有量が、２０質量％
未満であると、感光性樹脂組成物を支持体等上に塗布す
る際に膜形成が困難となることがあり、一方、６０質量
％を超えると、重合性モノマーの含有比が少なくなり、
重合不良となることがある。

【００６５】−重合開始剤− 前記重合開始剤は、重合性モノマーの光重合を実質的に
開始させることのできるものであり、前記重合性モノマ
ーの重合反応を開始させる能力を持つ化合物は全て使用
可能である。中でも特に、約３００〜５００ｎｍの波長
領域に、少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分
を少なくとも１種を含有し、紫外線領域の光線に対して
感光性を有することが好ましい。

【００６６】前記重合開始剤としては、例えば、ハロゲ
ン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトオキシム化合
物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミ
ダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、
特開平２−４８６６４号公報、特開平１−１５２４４９
号公報、特開平２−１５３３５３号公報に記載の、芳香
族ケトン類、ロフィン２量体、ベンゾイン、ベンゾイン
エーテル類、ポリハロゲン類、及びこれら２種以上の組
合せなどが挙げられる。

【００６７】これらの中でも、光感度、保存性、基板へ
の密着性等に優れる点で、トリアジン骨格を有するハロ
ゲン化炭化水素化合物、ケトオキシム化合物、ヘキサア
リールビイミダゾール、４，４'−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンと２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール２量体の組合わせ、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−[４−(Ｎ，Ｎ
−ジエトキシカルボニルメチルアミノ)−３−ブロモフ
ェニル]−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エ
トキシカルボニルメチル）−２，６−ジ（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン〕を用いた系が好ましい。

【００６８】前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭
化水素化合物としては、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（若林ら著、１９
６９）に記載の化合物〔例えば、２−フェニル−４，６
−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６
−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロル
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（２'，４'−ジクロル
フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−
トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）
−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリク
ロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，
６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（ト
リクロルメチル）−ｓ−トリアジン等〕；英国特許第１
３８８４９２号明細書に記載の化合物〔例えば、２−ス
チリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス
（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メ
トキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４
−アミノ−６−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
等〕；特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物
〔例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−
４，６−ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン、２
−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス
（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔４−
（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６
−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−
ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ア
セナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−ｓ−トリアジン等〕；独国特許第３３３７０２４
号明細書に記載の化合物〔例えば、２−（４−スチリル
フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−ｐ−メトキシスチリルフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ク
ロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビ
ニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレ
ンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン等〕；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａ
ｅｆｅｒ等、２９、１５２７（１９６４））に記載の化
合物〔例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモ
メチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリ
ブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス
（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−アミノ−４
−メチル−６−トリブロモメチル−ｓ−トリアジン、２
−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−ｓ−
トリアジン等〕；特開昭６２−５８２４１号公報に記載
の化合物〔例えば、２−（４−フェニルアセチレンフェ
ニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（４−ナフチル−１−アセチレンフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−ｐ−トリルアセチレンフェニル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（４−ｐ−メトキシフェニルアセチレンフェニル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（４−ｐ−イソプロピルフェニルアセチレンフ
ェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（４−ｐ−エチルフェニルアセチレンフ
ェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン等〕；特開平５−２８１７２８号公報に記載の
化合物〔例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２，６−ジブロ
モフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン等〕、等を挙げることができる。

【００６９】前記ケトオキシム化合物としては、例え
ば、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられ
る。

【００７０】

【化１】

【００７１】前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２及びＲ^３は、
それぞれ独立に、置換基を有していてもよく、不飽和結
合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基を表し、
互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ^４及びＲ^５は、
それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよく、
不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環
基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置
換チオ基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい。
なお、Ｒ^４及びＲ^５は互いに結合して環を形成していて
もよく、この場合、該環が−Ｏ−、−ＮＲ^６−、−Ｏ−
ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｓ−及び−ＳＯ_２−より選
択される少なくとも一種の２価の基を環の連結主鎖とし
て含んでいてもよい炭素数２〜８のアルキレン基を表
す。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に水素原子、置換基
を有していてもよく、不飽和結合を含んでいてもよい炭
化水素基、置換カルボニル基を表す。

【００７２】前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の具
体例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに
限定されるものではない。例えば、ｐ−メトキシフェニ
ル−２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルケトンオキシ
ム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２
−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエ
ーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプ
ロピルケトンオキシム−Ｏ−ベンジルエーテル、ｐ−メ
チルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオ
キシム−Ｏ−ｎ−ブチルエーテル、ｐ−モルフォリノフ
ェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ
−アリルエーテル、ｐ−メトキシフェニル−２−モルフ
ォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｎ−ドデシルエー
テル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロ
ピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシエトキシエチルエー
テル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロ
ピルケトンオキシム−Ｏ−ｐ−メトキシカルボニルベン
ジルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォ
リノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシカルボニル
メチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフ
ォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−エトキシカルボニ
ルメチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モル
フォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−４−ブトキシカ
ルボニルブチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２
−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−２−エト
キシカルボニルエチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニ
ル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メ
トキシカルボエル−３−プロペニルエーテル、ｐ−メチ
ルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキ
シム−Ｏ−ベンジルオキシカルボニルメチルエーテルな
どが挙げられる。

【００７３】前記ヘキサアリールビイミダゾールとして
は、例えば、２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２'−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４'，５，
５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス
（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テ
トラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ク
ロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラ（ｍ−メト
キシフェニル）ビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ，
ｏ'ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフ
ェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ニトロフ
ェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２'−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，
４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２'−ビス（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）−４，
４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾールなどが挙
げられる。これらのビイミダゾール類は、例えば、Ｂｕ
ｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，３３，５６５
（１９６０）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，３６（１６）
２２６２（１９７１）に記載の方法により容易に合成す
ることができる。

【００７４】前記ケトオキシムエーテルとしては、例え
ば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−
アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニル
オキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノ
ペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−
１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−
オンなどが挙げられる。

【００７５】前記重合開始剤は、一種単独で用いてもよ
いし、二種以上を併用してもよく、また異種間で数個の
化合物を併用することも可能である。前記重合開始剤の
含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分の０．１
〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好
ましい。

【００７６】−染料、顔料等の着色剤− 本発明の反射板形成用転写材料を着色する場合には、感
光性樹脂層に有機顔料、無機顔料、又は染料等の着色剤
を含有させることができる。黄色顔料として、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０，Ｃ．Ｉ．ピグメント
イエロー２４，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３，Ｃ．
Ｉ．ピグメントイエロー８６，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエ
ロー９３，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９，Ｃ．
Ｉ．ピグメントイエロー１１０，Ｃ．Ｉ．ピグメントイ
エロー１１７，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２５，
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３７，Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントイエロー１３８，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３
９，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５，Ｃ．Ｉ．ピグ
メントイエロー１４７，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１
４８，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３，Ｃ．Ｉ．ピ
グメントイエロー，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５
４，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６，Ｃ．Ｉ．ピグ
メントイエロー１６８，モノライト・イエローＧＴ
（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２），パーマネント・
イエローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７）など
が挙げられる。

【００７７】オレンジ色顔料として、例えば、Ｃ．Ｉ．
ピグメントオレンジ３６，Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ
４３，Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１，Ｃ．Ｉ．ピグ
メントオレンジ５５，Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５
９，Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１などが挙げられ
る。

【００７８】赤色顔料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントレッド９，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７，Ｃ．
Ｉ．ピグメントレッド１２２，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッ
ド１２３，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９，Ｃ．Ｉ．
ピグメントレッド１６８，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１
７７，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０，Ｃ．Ｉ．ピグ
メントレッド１９２，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０
９，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５，Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントレド２１６，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７，
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０，Ｃ．Ｉ．ピグメント
レッド２２３，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４，Ｃ．
Ｉ．ピグメントレッド２２６，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッ
ド２２７，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８，Ｃ．Ｉ．
ピグメントレッド２４０，Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４
８：１，パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグ
メントレッド１４６），パーマネント・ルビーＦＢＨ
（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１），ファステル・ピン
クＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）などが
挙げられる。

【００７９】バイオレット顔料として、例えば、Ｃ．
Ｉ．ピグメントバイオレット１９，Ｃ．Ｉ．ピグメント
バイオレット２３，Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２
９，Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３０，Ｃ．Ｉ．ピ
グメントバイオレット３７，Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオ
レット４０，Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット５０など
が挙げられる。

【００８０】青色顔料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントブルー１５，Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：
１，Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４，Ｃ．Ｉ．ピ
グメントブルー１５：６，Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２
２，Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０，Ｃ．Ｉ．ピグメン
トブルー６４，ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．
Ｉ．４２５９５）などが挙げられる。

【００８１】緑色顔料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントグリーン７，Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６など
が挙げられる。

【００８２】ブラウン顔料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントブラウン２３，Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２
５，Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６などが挙げられ
る。

【００８３】また、黒色顔料として、例えば、モノライ
ト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブ
ラック１），Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７，ファット
・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）などが挙げられ
る。

【００８４】その他、カーボンブラック、オーラミン
（Ｃ．Ｉ．４１０００）などを挙げることができる。な
お、上記有機顔料、無機顔料、又は染料等の着色剤は１
種を単独で用いてもよく、又は２種以上を組み合わせて
用いることもできる。

【００８５】上記のような着色剤を用いる場合、顔料又
は染料の粒径は、５μｍ以下であることが好ましく、１
μｍ以下であることがより好ましい。感光性樹脂層は薄
膜な層であるため、顔料等の粒径が上記の範囲にない場
合には、樹脂層中に均一に分散することができず、好ま
しくない。

【００８６】前記染料又は顔料等の着色剤の添加量とし
ては、感光性樹脂組成物の全固形分の０．０１〜３０質
量％が好ましい。

【００８７】−他の成分− 前記感光性樹脂組成物には、他の成分として、熱可塑性
の結合剤、相溶性の可塑剤等の成分を含有してもよい。

【００８８】前記熱可塑性の結合剤としては、例えば、
エチレン性不飽和化合物等の公知の結合剤が挙げられ
る。

【００８９】前記相溶性の可塑剤としては、例えば、ポ
リプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジ
オクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチル
フタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジ
フェニルフォスフェートビフェニルジフェニルフォスフ
ェートなどが挙げられる。前記結合剤及び可塑剤の添加
量としては、本発明の効果を損なわない範囲で加えるこ
とができる。

【００９０】前記感光性樹脂層は、前記各成分を必要に
応じて有機溶剤に溶解して塗布液（感光性樹脂層塗布用
塗布液）を調製し、公知の塗布方法により、凹凸部を形
成した仮支持体、中間層などを含む層の上に塗布等して
形成することができる。前記有機溶剤としては、特に制
限はなく、前記熱可塑性樹脂層用塗布液の調製に使用可
能なものと同様のものを用いることができる。

【００９１】前記感光性樹脂層の層厚（凹凸部を有さな
い部分）としては、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜
６μｍがより好ましい。前記感光性樹脂層の層厚が、
０．５μｍ未満であると、感光性樹脂層用塗布液の塗布
時にピンホールが発生しやすく、製造適性が低下するこ
とがあり、一方、１０μｍを超えると、現像時に未露光
部を除去するのに長時間を要することがある。

【００９２】−カバーフィルム前記感光性樹脂層上には、保管等の際の汚れや損傷から
保護する目的で、カバーフィルムを設けることが好まし
い。カバーフィルムは、感光性樹脂層から容易に剥離可
能なものの中から選択でき、前記仮支持体と同一又は類
似の材料からなるものであってもよい。具体的には、シ
リコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエ
チレンシート等が好ましく、中でも、ポリエチレン、ポ
リプロピレンフィルムがより好ましい。

【００９３】前記カバーフィルムの厚みとしては、約５
〜１００μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好まし
い。

【００９４】＜反射板形成用転写材料の製造方法＞本発
明の反射板形成用転写材料の製造方法は、第１の態様と
して、仮支持体上に少なくとも１層の樹脂層を設けてな
る反射板形成用転写材料の製造方法において、前記樹脂
層に隣接する層又は前記樹脂層に隣接する仮支持体にエ
ンボス加工を行って、該樹脂層厚みの５％以上３００％
以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部を形成するもの
である。

【００９５】また、本発明の反射板形成用転写材料の製
造方法は、第２の態様として、仮支持体上に熱可塑性樹
脂、中間層をこの順で設けた後、エンボス加工を行い、
中間層に凹凸部を形成した後、該中間層の上に感光性樹
脂層を形成するものである。この場合、前記凹凸部が、
前記感光性樹脂層厚みの５％以上３００％以下の深さ又
は突出高さを有することが好ましい。なお、本発明の第
１，２の態様の反射板形成用転写材料の製造方法は、上
記の点以外は、公知方法により製造することができる。

【００９６】具体的には、第２の態様の製造方法を例に
とって説明すると、前記仮支持体上に、まず、熱可塑性
樹脂を溶剤に溶解し調製した塗布液（熱可塑性樹脂層用
塗布液）を塗布、乾燥して熱可塑性樹脂層を設け、続い
て該熱可塑性樹脂層上に、熱可塑性樹脂層を溶解しない
溶媒を用いてなる塗布液（中間層用塗布液）を塗布、乾
燥して中間層を設け、この中間層にエンボス加工を行い
凹凸部を形成する。この凹凸部を形成した中間層上に、
前記感光性樹脂組成物を中間層を溶解しない溶剤に溶解
し調製した塗布液を塗布、乾燥して感光性樹脂層を設け
ることにより形成することができる。又は、前記カバー
フィルム上に感光性樹脂層を設け、一方、仮支持体上に
熱可塑性樹脂層と凹凸部を形成した中間層とを設け、そ
れぞれを中間層と感光性樹脂層とが接するように貼り合
わせることにより、或いは、前記カバーフィルム上に感
光性樹脂層と凹凸部を形成した中間層とを設け、一方、
仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設け、それぞれを上記同
様、中間層と感光性樹脂層とが接するように貼り合わせ
ることにより、本発明の反射板形成用転写材料を製造す
ることができる。

【００９７】後述のように、転写材料を被転写体である
基板上に密着させ、転写材料の仮支持体を剥離する過程
では、仮支持体や基板等が帯電する結果、周囲のゴミ等
を引き寄せ、剥離後の感光性樹脂層上にゴミ等が付着し
て、その後の露光過程で未露光部ができ、その部分がピ
ンホールを形成する要因となることから、帯電を防止す
る目的で、仮支持体の少なくとも一方の表面に導電性層
を設けたり、或いは導電性を付与した仮支持体を用いる
ことにより、その表面電気抵抗を１０^１３Ω以下に下げ
ることが好ましい。

【００９８】仮支持体に導電性を付与するには、仮支持
体中に導電性物質を含有させればよい。例えば、金属酸
化物の微粒子や帯電防止剤を予め練り込んでおく方法が
好適である。前記金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化
チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、
酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリ
ブデン等の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸
化物の微粒子が挙げられる。

【００９９】前記帯電防止剤としては、エレクトロスト
リッパーＡ（花王（株）製）、エレノンＮｏ．１９（第
一工業製薬（株）製）等のアルキル燐酸塩系アニオン界
面活性剤；アモーゲンＫ（第一工業製薬（株）製）等の
ベタイン系両性界面活性剤；ニッサンノニオンＬ（日本
油脂（株）製）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル
系非イオン界面活性剤；エマルゲン１０６、１２０、１
４７、４２０、２２０、９０５、９１０（花王（株）
製）やニッサンノニオンＥ（日本油脂（株）製）等のポ
リオキシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性
剤、等が好適である。その他、非イオン界面活性剤とし
て、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル
系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレン
アルキルアミン系等のものが挙げられる。

【０１００】仮支持体上に導電性層を設ける場合には、
導電性層としては公知のものの中から、適宜選択して用
いることができる。導電性層に用いる導電性物質とし
て、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２
Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ_３等から選ば
れる少なくとも１種の結晶性金属酸化物、及び／又は、
その複合酸化物の微粒子等が挙げられる。これらを含有
させて用いる方法が湿度環境に影響されない、安定した
導電効果を有する点で好ましい。

【０１０１】前記結晶性金属酸化物又はその複合酸化物
の微粒子の体積抵抗値としては、１０^７Ω・ｃｍ以下が
好ましく、１０^５Ω・ｃｍ以下がより好ましい。また、
その粒子径としては、０．０１〜０．７μｍが好まし
く、０．０２〜０．５μｍがより好ましい。

【０１０２】上記結晶性金属酸化物及びその複合酸化物
の微粒子の製造方法は、特開昭５６−１４３４３０号公
報に詳細に記載されている。即ち、第１に、金属酸化物
微粒子を焼成により作製し、導電性を向上させる異種原
子の存在下で熱処理する方法、第２に、焼成により金属
酸化物微粒子を製造する際に導電性を向上させるための
異種原子を共存させる方法、第３に、焼成により金属微
粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素
欠陥を導入する方法等が記載されている。異種原子を含
む具体例としては、ＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、Ｔｉ
Ｏ_２に対してＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ_２に対してＳｂ、Ｎ
ｂ、ハロゲン元素等を存在させることが挙げられる。

【０１０３】異種原子の添加量としては、０．０１〜３
０ｍｏｌ％が好ましく、０．１〜１０ｍｏｌ％がより好
ましい。導電性粒子の使用量としては、０．０５〜２０
ｇ／ｍ^２が好ましく、０．１〜１０ｇ／ｍ^２がより好ま
しい。

【０１０４】転写材料に設ける導電性層には、バインダ
ーとして、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロ
ピオネート等のセルロースエステル；塩化ビニリデン、
塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニ
ル、炭素数１〜４のアルキルアクリレート、ビニルピロ
リドン等を含むホモポリマー又は共重合体；可溶性ポリ
エステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使
用することができる。

【０１０５】これらのバインダー中に導電性粒子を分散
する場合、チタン系分散剤又はシラン系分散剤等の分散
液を添加してもよい。また、必要に応じて、バインダー
架橋剤等を添加することもできる。

【０１０６】前記チタン系分散剤としては、例えば、米
国特許第４，０６９，１９２号公報、同第４，０８０，
３５３号公報等に記載の、チタネート系カップリング
剤、プレンアクト（味の素（株）製）などが挙げられ
る。前記シラン系分散剤としては、例えば、ビニルトリ
クロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ
ス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン等が挙げられ、「シランカップ
リング剤」（信越化学工業（株）製）として市販されて
いる。前記バインダー架橋剤としては、例えば、エポキ
シ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架
橋剤、エポキシ系架橋剤などが挙げられる。

【０１０７】前記導電性層は、導電性微粒子をバインダ
ー中に分散させて仮支持体上に塗設したり、又は仮支持
体上に下引処理（例えば、下塗り層等）を施した上に導
電性微粒子を付着させることにより設けることができ
る。

【０１０８】前記導電性層は、仮支持体の感光性樹脂層
を塗設した面とは反対の表面上に設けてもよく、この場
合には、十分な耐傷性を確保する目的で、導電性層上に
更に疎水性重合体層を設けることが好ましい。この疎水
性重合体層は、疎水性重合体を有機溶剤に溶解した状態
又は水性ラテックスの状態で塗布すればよく、その塗布
量としては、乾燥質量で０．０５〜１ｇ／ｍ^２程度が好
ましい。

【０１０９】前記疎水性重合体としては、例えば、ニト
ロセルロース、セルロースアセテート等のセルロースエ
ステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレ
ート等を含むビニル系ポリマー；有機溶剤可溶性ポリア
ミド、ポリエステル等のポリマーを挙げることができ
る。

【０１１０】前記疎水性重合体層には、スベリ性を付与
する目的で、例えば、特開昭５５−７９４３５号公報に
記載の有機カルボン酸アミド等のスベリ剤を使用するこ
とができる。また、必要に応じて、マット剤等を使用す
ることもできる。このような疎水性重合体層を設けて
も、導電性層の効果は実質的に影響を受けない。

【０１１１】下塗り層を設ける場合、特開昭５１−１３
５５２６号公報、米国特許第３，１４３，４２１号公
報、同第３，５８６，５０８号公報、同第２，６９８，
２３５号公報、同第３，５６７，４５２号公報等に記載
の塩化ビニリデン系共重合体、特開昭５１−１１４１２
０号公報、米国特許第３，６１５，５５６号公報等に記
載のブタジエン等のジオレフイン系共重合体、特開昭５
１−５８４６９号公報等に記載のグリシジルアクリレー
ト又はグリシジルメタアクリレート含有共重合体、特開
昭４８−２４９２３号公報等に記載のポリアミド・エピ
クロルヒドリン樹脂、特開昭５０−３９５３６号公報に
記載の無水マレイン酸含有共重合体等を用いることがで
きる。

【０１１２】本発明においては、特開昭５６−８２５０
４号公報、特開昭５６−１４３４４３号公報、特開昭５
７−１０４９３１号公報、特開昭５７−１１８２４２号
公報、特開昭５８−６２６４７号公報、特開昭６０−２
５８５４１号公報等に記載の導電性層も必要に応じて用
いることができる。

【０１１３】仮支持体上に、導電性層を塗布する場合、
ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコート、
バーコート、カーテンコート等の公知の方法により塗布
することができる。十分な帯電防止効果を得るために
は、導電性層又は導電性を付与した仮支持体の表面電気
抵抗値を、１０^１３Ω以下とすることが好ましく、１０
^１２Ω以下とすることがより好ましい。

【０１１４】また、感光性樹脂層の仮支持体との強固な
接着を防止するため、仮支持体面に公知の微粒子を含有
する滑り剤組成物、シリコーン化合物を含有する離型剤
組成物等を塗布することもできる。

【０１１５】仮支持体の熱可塑性樹脂層を設けない側の
表面に導電性層を設ける場合には、熱可塑性樹脂層と仮
支持体との接着性を向上する目的で、仮支持体に、例え
ば、グロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処理等の
表面処理、フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹
脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理
又はこれらの処理を組み合わせた処理を施すことができ
る。

【０１１６】仮支持体用のフィルムは押し出し形成によ
り形成することが可能であるが、導電性物質又は導電性
層を仮支持体と同一又は異質のプラスチック原料に含有
させ、前記フィルムと同時に押し出し形成した場合に
は、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得ること
ができる。この場合、前記疎水性重合体層や下塗り層を
設ける必要はなく、転写材料を構成する導電性付与仮支
持体として最も好ましい実施形態である。本発明の反射
板形成用転写材料の主な用途としては、反射板の下地
層、液晶セル内の反射電極形成用樹脂層など用途が好適
である。

【０１１７】＜反射板＞次に、本発明の反射板は、前記
反射板形成用転写材料を基板に転写し、露光を行い、現
像、ベークして形成される表面に凹凸部を有する樹脂層
上に光反射機能材料を形成してなる。

【０１１８】まず、反射板形成用転写材料のカバーフィ
ルムを取り除き、感光性樹脂層を加圧、加熱下で被転写
体である基体上に貼り合わせる。貼り合わせには、従来
公知のラミネーター、真空ラミネーター等を使用するこ
とができ、より生産性を高めるためには、オートカット
ラミネーターも使用することができる。その後、仮支持
体を剥がし、所定のマスク、熱可塑性樹脂層及び中間層
を介して感光性樹脂層を露光し、次いで現像する。現像
は、公知の方法により行うことができ、溶剤若しくは水
性の現像液、特に、アルカリ水溶液等を用いて、露光後
の基体を浸漬するか、スプレー等により噴霧し、更にブ
ラシ等で擦ったり、或いは、超音波を照射しながら処理
することで行われる。

【０１１９】前記反射板形成用転写材料の感光性樹脂層
と被転写体である基体とを貼り合わせた後、仮支持体を
熱可塑性樹脂層との界面で剥がし取り、該熱可塑性樹脂
層の上方から熱可塑性樹脂層及び中間層を通して感光性
樹脂層をパターン状に露光（パターニング）する。前記
露光は、３００〜５００ｎｍの波長光の照射により行
え、光源としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、メタルハライドランプ、Ｈｇ−Ｘｅランプ等が挙げ
られる。

【０１２０】また、前記パターニングの方法としては、
例えば、フォトリソグラフィ法による方法、熱可塑
性樹脂層の上方に露光マスクを配置し、該マスク介して
パターン状に露光する方法、密着型のプロキシミティ
露光装置等の露光手段を用いる方法等が挙げられる。前
記方法によるパターニングでは、その露光量として
は、感光性樹脂組成物が重合硬化を起こす最小露光量の
３〜１０倍が好ましく、プロキシミティ量としては、４
０〜１５０μｍが好ましい。

【０１２１】前記露光の後、現像処理して、熱可塑性樹
脂層、アルカリ可溶な中間層、及び不要部（未硬化部
分）の感光性樹脂層を除去する。

【０１２２】前記現像は、公知の方法により行え、溶剤
若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液等を用い
て、例えば、（ａ）露光後の基板自体を現像浴中に浸漬
する、（ｂ）露光後の基板にスプレー等により噴霧する
等して、更に必要に応じて、溶解性を高める目的で、回
転ブラシや湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射し
ながら行うことができる。

【０１２３】前記アルカリ水溶液としては、アルカリ性
物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機
溶剤を少量添加したものも好適に使用することができ
る。前記アルカリ性物質としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重
炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアル
カリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールア
ミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド
類、燐酸三ナトリウム等が挙げられる。

【０１２４】アルカリ水溶液中のアルカリ性物質の濃度
としては、０．０１〜３０質量％が好ましく、更にｐＨ
としては、８〜１４が好ましい。

【０１２５】前記水混和性を有する有機溶剤としては、
メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロ
パノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチ
ルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、
γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチ
ル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロ
リドン等が挙げられる。この有機溶剤の添加量として
は、０．１〜３０質量％が好ましい。

【０１２６】また、アルカリ水溶液には、公知の種々の
界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の濃度
としては、０．０１〜１０質量％が好ましい。現像時の
温度としては、通常、室温付近〜４０℃が好ましい。更
に、現像処理した後に、水洗処理する工程を入れること
もできる。なお、現像処理した後、更に２００〜２６０
℃下でベークする。

【０１２７】このようにして、表面に凹凸部を有する樹
脂層が基板上に形成される。次に、この凹凸部に光反射
機能材料層を形成する。前記光反射機能材料としては、
光反射性を有すれば特に制限されないが、反射電極を形
成する観点から、Ａｌ，Ａｇ等の金属材料が好適であ
る。このような金属膜の形成は、スパッタ法などにより
行うことができる。前記反射板は、液晶表示装置の一方
の反射電極として好適に用いることができる。

【０１２８】＜液晶表示装置及びその製造方法＞本発明
の液晶表示装置は、光反射機能を有する第１の電極が第
２の基板に対向する面に少なくとも一部形成されている
第１の基板と、この第１の基板に対向配置されている第
２の基板と、第１及び第２の基板の間に封入されている
液晶層とを備え、前記第１の基板と第１の電極との間
に、前記本発明の反射板形成用転写材料を用いて転写を
含む工程で形成される表面に凹凸部を有する樹脂層を備
えている。前記第１及び第２の電極はそれぞれマトリク
ス状に形成されていても良い。また第１の電極は画素ご
とにパターニングされ、第２の電極はベタ状に形成され
ても良い。

【０１２９】前記樹脂層は、前記本発明反射板形成用転
写材料を用いて、転写を含む工程により形成された凹凸
部を表面に有しており、この凹凸部は連続的に波状の形
状を有していることが、広い領域にわたって良好な反射
特性を得ることができる上で好ましい。前記凹凸部は、
直径０．７〜３０μｍ（円又は楕円）、高さ０．１〜
１．５μｍの凸部、又は凹凸部が多数形成される。この
形状は、該液晶表示装置の用途により、適切な範囲が違
う。完全にパーソナルユースの場合、直径５μｍ、高さ
０．５μｍの、凹凸部を、画素面積の７割程度に敷き詰
めた構成が良い。また、凹凸は略円形や円形のほか、楕
円でも良い。またこれらの径は、ランダムに変化させて
配置し、モアレの発生を防止する。また、凹凸は、円錐
や角錐状であることもある。

【０１３０】前記スイッチング素子を有する基板とし
て、ＴＦＴアクティブマトリックス基板を用いることが
好ましい。前記ＴＦＴアクティブマトリックス基板とし
ては、常用のものを制限なく使用することができる。例
えば、アクティブマトリクス基板（アレイ基板）に、ゲ
ート信号線と付加容量電極を形成し、この上にゲート絶
縁膜を形成した後、半導体層及びチャネル保護層を形成
し、更にＴＦＴのソース及びドレインとなるｎ＋Ｓｉ層
を形成し、次に金属層及びＩＴＯ膜をスパッタリング法
によって形成し、これらをパターニングすることによ
り、ドレイン信号線及びソース信号線を形成する等によ
って作製することができる。

【０１３１】前記ＴＦＴ（薄膜トランジスター）アクテ
ィブマトリックス層が、アモルファスシリコン又は低温
ポリシリコン基材、コンティニュアスグレインシリコン
基材で形成されているものが好ましい。

【０１３２】本発明の液晶表示装置の製造方法は、光反
射機能を有する第１の電極が第２の基板に対向する面に
少なくとも一部形成されている第１の基板と、この第１
の基板に対向配置されている第２の基板と、第１及び第
２の基板の間に封入されている液晶層とを備える液晶表
示装置の製造方法において、前記第１の基板と第１の電
極との間に、前記本発明の反射板形成用転写材料を用
い、転写を含む工程で表面に凹凸部を有する樹脂層を形
成するものである。更に、具体的には、まず、ガラスか
ら成る絶縁性基板上に複数の配線が設けられ、表面処理
等を行った後、絶縁膜、半導体膜等を形成しアレイ状に
スイッチング素子が形成される。

【０１３３】次に、該基板のスイッチング素子が形成さ
れている側のほぼ全面を覆うように、本発明の反射板形
成用転写材料が転写される。この転写はラミネーターに
よって行われ、必要に応じて、基板表面はシランカップ
リングなどの前処理が施される。その後、所定の露光マ
スクを用い、露光した後、ＴＭＡＨ水溶液などの現像液
で現像し、コンタクトホールやアライメントマーク部分
の樹脂層を除去する。この段階で該樹脂層の表面は凹凸
に形成されている。また、ここで行う露光は２０ｍＪ／
ｃｍ^２程度で良く、露光時間としては、３０秒より充分
短く、製造ラインのタクトタイムは１分以下、３０前後
に設定が可能である。これを更にポスト露光および又は
ポストベークにより硬化させた後、その上にＡｌ及び又
はＡｇ等から成る反射層が形成される。この時、コンタ
クトホールを介してスイッチング素子と接続されてい
る。更にこの反射層をパターンエッチングし、画素ごと
に独立し、画素ごとにスイッチング素子に接続された反
射電極が形成される。この上に配向膜を形成し、ラビン
グ処理等を施す。

【０１３４】他方の基板上には、反射電極に対向する部
分にカラーフィルタが形成され、（必要に応じてブラッ
クマトリクスを形成）、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）からなる透明電極が形成されている。両
基板は前記反射電極とカラーフィルタが一致するように
対向して貼り合わされ、間に液晶が注入され、反射型液
晶表示装置が製造される。

【０１３５】前記液晶表示装置としては、上記構成のも
の以外にも、カラーフィルタ・オン・アレイ（ＣＯＡ）
構造及び半透過型構造のいずれか又は両方を有するもの
を好適に用いることができる。

【０１３６】前記ＣＯＡ構造は、例えば、特開平１０−
２０６８８８号公報などに記載されているように、カラ
ーフィルタが前記駆動側基板に直接形成されたカラーフ
ィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える
対向基板とをスペーサを介在させて対向配置し、その間
隙部に液晶材料を封入して構成されるものであり、カラ
ーフィルタを反射電極の上に形成し、高精細時に貼り合
わせマージンを広くして歩留まりや開口率を向上させる
ことができる。

【０１３７】前記半透過型構造とは、正面からの光を反
射して表示させる機能と、背面からの光を透過して表示
させる機能を併せ持った反射型液晶表示装置の一種であ
る。光を反射するために設けられている反射層を薄膜化
する等の方法で背面からの光も透過できるように構成し
た「ハーフミラー型」、と、１画素内に、光を反射する
領域と、光を透過する領域とを兼ね備えた「画素内分割
型」とがある。

【０１３８】前記ハーフミラー型は、例えば、特開２０
０１−１００１９７号公報などに記述されている。構造
がシンプルだが、光学濃度が低い反射用のカラーフィル
タにバックライトの透過光を透過させるため、表示され
る色が薄い。

【０１３９】前記「画素内分割型」は、図１に示したよ
うに、例えば、特開２００１−１７４７９７号公報など
に記述されている。反射機能を有す画素内部分に対応す
るカラーフィルタを光学濃度が低い反射用のカラーフィ
ルタに、透過機能を有す画素内部分に対応するカラーフ
ィルタを光学濃度が高い透過用のカラーフィルタとする
ことで、反射型の場合、透過型の場合共に、良い色再現
性を得ることができる。なお、図１中３０は感光性樹脂
層、３１は基板である。更に、前記「画素内分割型」で
は、反射機能を有す画素内部分に対応する液晶層が薄
く、透過機能を有す画素内部分に対応する液晶層が厚く
なるよう、ＴＦＴ基板側の絶縁膜の厚さや、カラーフィ
ルタ厚さ、オーバーコート厚さなどを設定し、反射の場
合、透過の場合共に、良いコントラストを得ることがで
きる。

【０１４０】

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限
定されるものではない。

【０１４１】〔実施例１〕 −転写用樹脂フィルムの作成− 厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮
支持体に下記の処方Ｈ１の塗布液を塗布して乾燥膜厚１
４μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。＜熱可塑性樹脂層処方Ｈ１：＞・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、質量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）７質量部・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、質量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）７質量部・ビスフェノールＡにオクタエチレングリコールモノメタクリレートを２当量脱水縮合した化合物（新中村化学（株）製ＢＰＥ−５００）７質量部・メチルエチルケトン５０質量部

【０１４２】次に、前記熱可塑性樹脂層上に、下記組成
の中間層用塗布液Ｐ１を塗布した後、１００℃で２分間
乾燥して厚さ２．２μｍの中間層を形成した。

【０１４３】＜中間層処方Ｐ１：＞・ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％）１００質量部・ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−９０）５０質量部・蒸留水４０００質量部

【０１４４】＜凹凸部の形成＞この中間層を塗布し乾燥
する際に、乾燥ゾーンの後端部分に型押ローラー〔表面
１ｃｍ^２当たり１５万個の突起（底面の直径８〜１５μ
ｍ、高さ０．９８μｍの部分球面型）を有する〕を設
け、該型押ローラーを１００℃に温調し、線圧５ｔ／ｍ
の力で上記中間層上を押圧し、中間層の表面に凹凸部を
成形した。

【０１４５】次に、下記感光性樹脂層溶液Ｃ１を塗り付
け乾燥させて乾燥膜厚３．３μｍの感光性樹脂層を設
け、保護フィルムでカバーし、転写用樹脂フィルムを作
成した。この転写用樹脂フィルムの表面は平滑である
が、転写、現像後（後述）の表面にはＳＥＭ観察によ
り、表面１ｃｍ^２当たり１５万個の突起（底面の直径８
〜１５μｍ、高さ０．９８μｍの部分球面型）が形成さ
れていた。

【０１４６】＜感光性樹脂層溶液Ｃ１＞・ポリマー溶液２４０質量部スチレン／マレイン酸共重合体ベンジルアミン変性物＝６８／３２（モル比）・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２００質量部・シクロヘキサノン７３０質量部・光重合開始剤ＩＲＧ１８４（ＣＡＳ９４７−１９−３）１０質量部（メチルエチルケトンを適宜添加）

【０１４７】＜基板の洗浄＞縦３２０ｍｍ×横４００ｍ
ｍのＴＦＴ基板を、室温の超純水中で超音波洗浄１分
後、エアーブローで水切り後、乾燥した。

【０１４８】＜樹脂層の形成＞前記転写用樹脂フィルム
の保護フィルムを剥離後、温度１３０℃、線圧１００Ｎ
／ｃｍ、搬送速度３．０ｍ／分でラミネートした。仮支
持体を剥離後、超高圧水銀灯で２０ｍＪ／ｃｍ^２のパタ
ーン露光した。この際の露光時間は３秒であった。

【０１４９】次に、下記組成の現像液Ｐ１にて３８℃で
３５秒シャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層を除去
した。＜現像液Ｐ１の組成＞・超純水９７質量部・トリエタノールアミン３質量部（アルカリ金属濃度５０ｐｐｂ）

【０１５０】引き続き、下記組成の現像液Ｄ１にて３３
℃で２６秒シャワー現像し、感光性樹脂層を現像し、コ
ンタクトホール部分（後述のＡｌ層とＴＦＴを接続する
ための穴）と、透過部分を除去したパターン画像を得
た。＜現像液Ｄ１＞・モノエタノールアミン０．２ｍｏｌｅ／Ｌ・酢酸０．１ｍｏｌｅ／Ｌ・ジポリオキシエチレンアルキルアミン１質量％（アルカリ金属濃度５０ｐｐｂ）

【０１５１】次に、光反射機能を有する第１の電極（反
射電極と言う）を形成するため、Ａｌ層をスパッタ法に
より形成した。この時、Ａｌ層の膜厚は０．５μｍであ
り、成膜条件は基板温度１００℃、Ａｒ圧力０．５Ｐ
ａ、ＲＦパワー３．４Ｗ／ｃｍ ^２であった。つづいて、
フォトリソグラフィー及びエッチングにより、所定の形
状にＡｌ層をパターンニングし光反射機能を有する第１
の電極を形成した。この光反射機能を有する第１の電極
は、上記Ｃ１層の表面に形成されている凹凸形状を反映
することにより、凹凸部を有する反射電極が得られた。

【０１５２】次に、基板全面にポリイミドからなる配向
膜（図示せず）を塗布し、１５０℃、２時間で焼成を行
った後、ラビング処理を行った。次いで、対向側基板と
して、ガラス基板上に該反射電極に対向する位置にカラ
ーフィルタ及びＩＴＯから成る透明電極を形成した対向
側基板を作成し、配向膜塗布、焼成、ラビングを行っ
た。これら二つの基板を所定のセル厚になるようスペー
サーを介して対向させ（図示せず）、シール部により貼
り合わせた。つづいて、基板間に液晶を注入・封止し
て、液晶表示装置を作製した。

【０１５３】［比較例１］ＴＦＴ基板に形成する凹凸部
を有する樹脂層を特開平１１−１５３８０４号公報の記
載に基づいて下記のように形成した以外は、実施例１と
同様にして液晶表示装置を作製した。

【０１５４】基板全面に光重合性オリゴマー、光重合性
モノマー、光重合開始材を主成分とする光硬化性樹脂を
塗布した。光重合性オリゴマーとしてはエステルアクリ
レートであるペンタエリスリトールと、光重合性モノマ
ーとしてはネオペンチルグリコールジアクリレートを用
い、これに２質量％の光重合開始剤を加えた。これを膜
厚３μｍで基板全面に塗布した。露光マスクの透過部分
の光透過率を部分的に変化させた半透過型マスクを用い
凸部を形成した。この時の照射エネルギーは１２００ｍ
Ｊ／ｃｍ^２〜１５００ｍＪ／ｃｍ^２であった。この際、
露光時間は２４０秒を要した。

【０１５５】実施例１と比較例１とを対比すると、実施
例１では凹凸部を形成するための露光時間は３秒である
のに対して比較例１では２４０秒もかかり、製造ライン
のタクトタイムが３分以上と長くかかり、生産性が劣る
ことが明らかである。

【０１５６】

【発明の効果】本発明によれば、前記問題を解決するこ
とができ、簡略な工程により、良好な反射特性を有する
反射電極を有する、特に、ＯＡ機器、パーソナルコンピ
ュータ、携帯型情報端末等に用いられる液晶表示装置の
うち室内照明や太陽光などの外光を利用する反射型液晶
表示装置を効率よく安価に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、画素内分割型の半透過型ＬＣＤを示す
概略断面図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/027 Ｇ０３Ｆ 7/027 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ 7/38 ５０１ 7/38 ５０１ 7/40 ５２１ 7/40 ５２１Ｆターム(参考） 2H025 AB11 AB17 AB20 AC01 AD01 BC32 BC42 BC51 CA01 CA14 CA28 CB04 CB10 CB13 CB14 CB55 CC11 DA40 FA01 FA03 FA17 FA28 FA29 2H042 DA02 DA04 DA12 DA21 DA22 DC02 DE04 2H091 FA16Y FB02 FC01 GA01 LA16 LA30 2H096 AA27 AA30 BA05 BA20 CA05 CA20 EA02 GA08 HA01 HA30 JA02 JA04 4F100 AK01B AK01D AK12J AK21 AK25 AK25J AK42 AR00A AR00C BA02 BA04 BA07 BA10A BA10D DD01A DD01C EJ39A EJ39C GB41 JB16B JN06 JN30D YY00A YY00C

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】仮支持体上に少なくとも１層の樹脂層を
設けてなり、前記樹脂層に隣接する層又は前記樹脂層に
隣接する仮支持体に、該樹脂層厚みの５％以上３００％
以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部をエンボス加工
により設けてなることを特徴とする反射板形成用転写材
料。
【請求項２】仮支持体上に少なくとも１層の着色剤を
含まない樹脂層を設けてなり、前記樹脂層に隣接する層
又は前記樹脂層に隣接する仮支持体に、該樹脂層厚みの
５％以上３００％以下の深さ又は突出高さを有する凹凸
部をエンボス加工により設けてなる請求項１に記載の反
射板形成用転写材料。
【請求項３】仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、
感光性樹脂層をこの順に設けてなり、前記中間層に、該
感光性樹脂層厚みの５％以上３００％以下の深さ又は突
出高さを有する凹凸部をエンボス加工により設けてなる
ことを特徴とする反射板形成用転写材料。
【請求項４】仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、
着色剤を含まない感光性樹脂層をこの順に設けてなり、
前記中間層に、該感光性樹脂層厚みの５％以上３００％
以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部をエンボス加工
により設けてなる請求項３に記載の反射板形成用転写材
料。
【請求項５】前記凹凸部が、仮支持体上に熱可塑性樹
脂層、中間層をこの順に形成した後、該中間層側からエ
ンボス加工を施すことにより形成される請求項３又は４
に記載の反射板形成用転写材料。
【請求項６】仮支持体上に少なくとも１層の樹脂層を
設けてなる反射板形成用転写材料の製造方法において、前記樹脂層に隣接する層又は前記樹脂層に隣接する仮支
持体にエンボス加工を行って、該樹脂層厚みの５％以上
３００％以下の深さ又は突出高さを有する凹凸部を形成
することを特徴とする反射板形成用転写材料の製造方
法。
【請求項７】仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、
感光性樹脂層をこの順に設けてなる反射板形成用転写材
料の製造方法において、前記中間層を形成した後、該中間層にエンボス加工を行
って少なくとも中間層表面に凹凸部を形成し、該凹凸部
上に感光性樹脂層を形成することを特徴とする反射板形
成用転写材料の製造方法。
【請求項８】前記凹凸部が、前記感光性樹脂層厚みの
５％以上３００％以下の深さ又は突出高さを有する請求
項７に記載の反射板形成用転写材料の製造方法。
【請求項９】前記感光性樹脂層が着色剤を含まない請
求項６乃至８のいずれかに記載の反射板形成用転写材料
の製造方法。
【請求項１０】請求項１乃至５のいずれかに記載の反
射板形成用転写材料を基板に転写し、露光を行い、現
像、ベークして形成される表面に凹凸部を有する樹脂層
上に光反射機能材料層を形成してなる反射板。
【請求項１１】請求項１０記載の反射板を一方の反射
電極として用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】光反射機能を有する第１の電極が第２
の基板に対向する面に少なくとも一部形成されている第
１の基板と、該第１の基板に対向配置されている第２の
基板と、第１及び第２の基板の間に封入されている液晶
層とを備える液晶表示装置において、前記第１の基板と第１の電極との間に、請求項１乃至５
のいずれかに記載の反射板形成用転写材料を用いて転写
を含む工程で形成される表面に凹凸部を有する樹脂層を
備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】前記液晶表示装置が、カラーフィルタ
・オン・アレイ（ＣＯＡ）構造を有する請求項１２に記
載の液晶表示装置。
【請求項１４】前記液晶表示装置が、半透過型構造を
有する請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】前記液晶表示装置が、カラーフィルタ
・オン・アレイ（ＣＯＡ）構造及び半透過型構造を有す
る請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】光反射機能を有する第１の電極が第２
の基板に対向する面に少なくとも一部形成されている第
１の基板と、該第１の基板に対向配置されている第２の
基板と、第１及び第２の基板の間に封入されている液晶
層とを備える液晶表示装置の製造方法において、前記第１の基板と第１の電極との間に、請求項１乃至５
のいずれかに記載の反射板形成用転写材料を用い、転写
を含む工程で表面に凹凸部を有する樹脂層を形成するこ
とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。