JP2003185408A - 干渉測定方法及び干渉測定装置、並びに投影レンズの製造方法及び投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フリンジスキャンの非線形性に起因する誤差
を簡便に補償する。 【解決手段】 位相差の変化期間中に生成された複数組
の蓄積データ群のそれぞれに基づいて位相情報が複数個
取得されると共に、取得された複数個の位相情報に基づ
いて、それら位相情報に重畳されている誤差成分が低減
される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、干渉計による干渉
測定方法及びその干渉計を備えた干渉測定装置に関し、
特に、参照光と被検光との位相差を変化させる（フリン
ジスキャンする）ための縞走査機構を備えた干渉計によ
る干渉測定方法及びその干渉計を備えた干渉測定装置に
関する。また、本発明は、その干渉測定方法が適用され
る投影レンズの製造方法、及びその投影レンズが適用さ
れる投影露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１３は、被検面７２ａの面形状を測定
するための干渉測定装置７０の構成図である。干渉測定
装置７０では、光源７１から出射された光が被検面７２
ａと参照面７３ａとの双方に導かれると共に、被検面７
２ａで反射した被検光７２ａ’と参照面７３ａで反射し
た参照光７３ａ’とによる干渉縞が、ＣＣＤ型撮像素子
などの撮像素子７６によって検知される。

【０００３】このようにして検知された干渉縞から、被
検光７２ａ’と参照光７３ａ’との間の位相差の二次元
分布を知ることができる。この二次元分布が、参照面７
３ａを基準とした被検面７２ａの面形状を示す。以下に
説明するフリンジスキャン干渉法は、このような面形状
測定の高精度化を図るものである。

【０００４】フリンジスキャン干渉法は、参照面７３ａ
を移動させるピエゾ素子などの移動機構７７によって、
干渉縞の各位置における被検光７２ａ’と参照光７３
ａ’との位相差を一斉に変化させる（フリンジスキャ
ン、図１４（ａ）参照）と共に、そのときの干渉縞の濃
淡の変化パターン（撮像素子７６の出力の変化パター
ン、図１４（ｂ）参照）を検知することにより、所定の
状態（以下、フリンジスキャン開始時の初期状態とす
る。）における位相差（初期位相差）の分布を正確に求
めるものである。

【０００５】一般に、干渉測定装置７０では、このフリ
ンジスキャンの際に、位相差の変化速度（ここでは参照
面７３ａの移動速度）が一定に保たれるように設定され
ている（この設定は、移動機構７７および制御回路７８
の設定による。）。これが一定であるならば、干渉縞の
各位置の濃淡の変化パターンは、図１４（ｂ）に実線で
示すようにそれぞれ正弦カーブを描く。この事実を利用
すれば、撮像素子７６の出力するデータから、初期位相
差の分布を確実に求めることが可能となる。

【０００６】ここで、撮像素子７６は、受光面に配置さ
れた各画素において、入射光強度に応じた量の電荷を単
位時間Ｔ_cずつ蓄積し、入射光強度の時間Ｔ_c間に亘る時
間積分値、すなわち蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・・
を順次出力するものである。位相差の変化速度が一定に
保たれるのであれば、フリンジスキャン開始からの時間
ｔ経過時における干渉縞上の或る点Ａでの位相差φ
（ｔ）は、その点Ａでの初期位相差φ₀、及び干渉縞上
の各点に共通する単位時間Ｔ_c当たりの位相差変化量２
πａ（定数）によって、式（１）で表される。

【数１】 また、その点Ａでの干渉光強度Ｉ（ｔ）は、位相差φ
（ｔ）を用いて式（２）で表される。なお、Ｉ₀、γは
それぞれ光源７１から出射される光の強度（振幅）等に
より定まる数（定数）である。

【数２】 また、撮像素子７６においてその点Ａに対応する画素が
出力する蓄積データＢ ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・・は、その点
Ａにおける干渉光強度Ｉ（ｔ）のＴ_c間に亘る時間積分
値であるので、式（３）で表される。

【数３】 したがって、各蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・・は、
式（４）で表される。

【数４】 この式（４）を変形すると、式（５）、および式（６）
が得られる。

【数５】

【数６】 また、上式（４）からは、単位時間Ｔ_c当たりの位相差
変化量２πａを、４つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₃、Ｂ₄
で表す式（７）が導かれる。

【数７】 これらの関係に基づき、図１３に示した干渉測定装置７
０の演算回路７９は、撮像素子７６が出力する各蓄積デ
ータＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・・（実測値）に対し、式
（７）を適用してａの値を求め、さらに求めたａの値
と、式（５）および式（６）から、初期位相差φ₀の値
を求めることができる。干渉測定装置７０では、この初
期位相差φ₀の値の算出が、干渉縞の各位置、すなわち
撮像素子７６の各画素の出力についてそれぞれ行われ、
算出された初期位相差φ₀の二次元分布が、参照面７３
ａを基準とした被検面７２ａの形状情報として、モニタ
などの表示器（不図示）に出力される。

【０００７】ところで、以上のようなフリンジスキャン
干渉法においては、フリンジスキャン時の位相差φ
（ｔ）の変化速度（２πａ／Ｔ_c）（図１４（ａ）参
照）を限定することで、演算を簡略化させることができ
る。

【０００８】すなわち、位相差φ（ｔ）の変化速度（２
πａ／Ｔ_c）が（１／２・π／Ｔｃ）となるよう（すな
わちａ＝１／４となるよう）設定すれば（この設定は、
移動機構７７および制御回路７８の設定による。）、次
式（８ａ）（８ｂ）（何れも式（４）においてａ＝１／
４とおくことで導かれる式である。）によって、連続す
る４つの蓄積データ、例えばＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃（実測
値）や、連続する５つの蓄積データ、例えばＢ₀、Ｂ₁、
Ｂ₂、Ｂ₃、Ｂ₄（実測値）から、直接的に初期位相差φ₀
を求めることができる。

【数８】 因みに、このように位相差φ（ｔ）の変化速度（２πａ
／Ｔ_c）を限定して４つの蓄積データから式（８ａ）に
より初期位相φ₀を求める方法は「４バケット法」と呼
ばれ、位相差φ（ｔ）の変化速度（２πａ／Ｔ_c）を限
定して５つの蓄積データから式（８ｂ）により初期位相
φ₀を求める方法は「５バケット法」と呼ばれる（な
お、４バケット法では、フリンジスキャンは少なくとも
位相差にして１周期分行われる必要があり、５バケット
法では、フリンジスキャンは少なくとも位相差にして
（１＋１／４）周期分行われる必要がある。）。

【０００９】因みに、５バケット法は、４バケット法よ
りも基づくべき蓄積データの数が１多い分だけ処理時間
が長くかかるが、位相差φ（ｔ）の変化速度が設定値か
ら仮に多少ずれてしまったとしても誤差を抑えることが
できるので、高精度である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
方法では、何れも位相差φ（ｔ）の変化速度（２πａ／
Ｔ_c）が一定（図１４（ａ）参照）との仮定にたってい
るが、実際には一定とは限らない。

【００１１】なぜなら、位相差φを変化させるピエゾ素
子などの移動機構７７の応答特性は、正確な線形を示す
とは限らないので、たとえそれに対する駆動電圧を線形
的に変化させたとしても、位相差φ（ｔ）の変化速度
（２πａ／Ｔ_c）が一定となるとは限らないからであ
る。

【００１２】また、フリンジスキャンの際に変化させる
べき位相差の量は、参照面７３ａの移動距離にして光源
波長の１／２倍程度なので、仮にその駆動電圧を柔軟に
変化させることができたとしても、十分な精度で位相差
φ（ｔ）の変化速度（２πａ／Ｔ_c）を一定にすること
は非常に困難である。そして、実際の位相差φ（ｔ）
は、例えば図１４（ａ）中に点線で示すように２次曲線
的に変化する可能性が高い。

【００１３】このとき干渉縞の濃淡の変化パターンは、
図１４（ｂ）に実線で示すような正弦カーブではなく、
点線で示すような歪んだカーブ（非正弦カーブ）を描い
てしまう。このように、フリンジスキャン中の位相差φ
（ｔ）の変化が非線形であると、従来の演算では最終的
に得られる初期位相差φ₀の値に誤差が生じてしまい、
初期位相差φ₀によって特定される被検面の形状が正確
に検知できないという不具合があった。

【００１４】本発明は、このような従来の問題に鑑みて
なされたもので、フリンジスキャン中の位相差の変化が
非線形であること（以下、「フリンジスキャンの非線形
性」という。）に起因する誤差を簡便に補償することの
できる干渉測定方法及び干渉測定装置を提供することを
目的とする。また、本発明は、このような干渉測定方法
を用いて、高精度に投影レンズを製造することのできる
投影レンズの製造方法、及び高性能な投影露光装置を提
供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の干渉測
定方法は、参照光と被検光とが成す干渉光を所定時間蓄
積して蓄積データを生成する検出部と、それら参照光と
被検光との位相差を時間に応じて変化させる縞走査機構
とを備えた干渉計を使用し、前記位相差の変化期間中に
所定パターンで生成された所定個数の蓄積データからな
る蓄積データ群を、前記干渉計から複数組み取り込む取
り込み手順と、前記変化期間中の所定時における位相差
を示す位相情報を、前記取り込まれた複数組の蓄積デー
タ群のそれぞれに基づいて複数個取得すると共に、取得
した複数個の位相情報に基づいてそれら位相情報に重畳
されている誤差成分を低減する位相差取得手順とを有す
ることを特徴とする。

【００１６】請求項２に記載の干渉測定方法は、請求項
１に記載の干渉測定方法において、前記蓄積データ群
は、互いに連続して生成された所定個数の蓄積データか
らなることを特徴とする。請求項３に記載の干渉測定方
法は、請求項１又は請求項２に記載の干渉測定方法にお
いて、前記複数組の蓄積データ群は、互いに１／４波長
分ずれたタイミングで生成された２組の蓄積データ群か
らなることを特徴とする。

【００１７】請求項４に記載の干渉測定方法は、請求項
１〜請求項３の何れか一項に記載の干渉測定方法におい
て、前記複数組の蓄積データ群は、互いに１／４波長分
ずつずれたタイミングで生成された４組の蓄積データ群
からなることを特徴とする。請求項５に記載の干渉測定
方法は、請求項３又は請求項４に記載の干渉測定方法に
おいて、前記誤差成分の低減は、前記複数個の位相情報
を平均化することによって行われることを特徴とする。

【００１８】請求項６に記載の干渉測定装置は、参照光
と被検光とが成す干渉光を所定時間蓄積して蓄積データ
を生成する検出部、及びそれら参照光と前記被検光との
位相差を時間に応じて変化させる縞走査機構を備えた干
渉計と、前記干渉計から前記蓄積データを取り込むと共
にその蓄積データに対し演算を施す制御部とを備え、前
記制御部は、前記位相差の変化期間中に所定パターンで
生成された所定個数の蓄積データからなる蓄積データ群
を、前記干渉計から複数組み取り込む取り込み手順と、
前記変化期間中の所定時における位相差を示す位相情報
を、前記取り込まれた複数組の蓄積データ群のそれぞれ
に基づいて複数個取得すると共に、取得した複数個の位
相情報に基づいてそれら位相情報に重畳されている誤差
成分を低減する位相差取得手順とを実行することを特徴
とする。

【００１９】請求項７に記載の干渉測定装置は、請求項
６に記載の干渉測定装置において、前記蓄積データ群
は、互いに連続して生成された所定個数の蓄積データか
らなることを特徴とする。請求項８に記載の干渉測定装
置は、請求項６又は請求項７に記載の干渉測定装置にお
いて、前記複数組の蓄積データ群は、互いに１／４波長
分ずれたタイミングで生成された２組の蓄積データ群か
らなることを特徴とする。

【００２０】請求項９に記載の干渉測定装置は、請求項
６〜請求項８の何れか一項に記載の干渉測定装置におい
て、前記複数組の蓄積データ群は、互いに１／４波長分
ずつずれたタイミングで生成された４組の蓄積データ群
からなることを特徴とする。請求項１０に記載の干渉測
定装置は、請求項８又は請求項９に記載の干渉測定装置
において、前記誤差成分の低減は、前記複数個の位相情
報を平均化することによって行われることを特徴とす
る。

【００２１】請求項１１に記載の投影レンズの製造方法
は、投影レンズの少なくとも１つの面の形状を請求項１
〜請求項５の何れか１項に記載の干渉測定方法により測
定する手順を有したことを特徴とする。請求項１２に記
載の投影露光装置は、請求項１１に記載の投影レンズの
製造方法により製造された投影レンズを備えたことを特
徴とする。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。 ＜第１実施形態＞以下、図１、図２、図３、図４、図５
に基づいて本発明の第１実施形態を説明する。

【００２３】図１は、本実施形態の干渉測定装置１０
（および後述する第２実施形態の干渉測定装置２０、第
３実施形態の干渉測定装置３０、第４実施形態の干渉測
定装置４０）の構成図である。図１において、図１３に
示す従来の干渉測定装置７０と同じものについては同一
の符号を付して示した。干渉測定装置１０は、図１３に
示した干渉測定装置７０において、制御回路７８に代え
て制御回路１８が備えられ、演算回路７９に代えて演算
回路１９が備えられたものに等しい。

【００２４】なお、図１示した干渉測定装置は、フィゾ
ー型の干渉測定装置であるが、本発明が適用される干渉
測定装置は、トワイマングリーン型など他の種類の干渉
測定装置であってもよい。また、フリンジスキャンの種
類には、参照面７３ａを移動させるものだけでなく、被
検面７２ａを移動させるもの、また、光源７１の波長を
変化させるもの（波長スキャン）などがあり、本発明
は、これらの何れの種類にも適用できる。

【００２５】以下、便宜上、フィゾー型かつ参照面７３
ａを移動させるタイプのフリンジスキャン干渉法に、本
発明が適用された場合について説明する。干渉測定装置
１０には、光源７１、ビームスプリッタ７４ｂ、ビーム
エキスパンダ７４ａ、光束径変換光学系７４ｃ、撮像素
子７６、移動機構７７、制御回路１８、演算回路１９な
どが備えられる（以下、光源７１、ビームエキスパンダ
７４ａ、ビームスプリッタ７４ｂ、光束径変換光学系７
４ｃ、及び撮像素子７６からなる光学系を、干渉計７５
とする）。

【００２６】また、干渉測定装置１０はフィゾー型であ
るので、この干渉計７５と、被検面７２ａを有した被検
物７２との間に、参照面７３ａを有したフィゾーレンズ
７３が配置される。このうち移動機構７７は、参照光７
３ａ’の光路の光学的距離を変化させるために、制御回
路１８から与えられる駆動電圧に応じた距離だけフィゾ
ーレンズ７３を光軸方向に移動させるものである。

【００２７】撮像素子７６は、制御回路１８により駆動
されると、各画素において入射光強度に応じた量の電荷
を単位時間Ｔ_c毎に蓄積し、入射光強度の時間Ｔ_cに亘る
時間積分値を示す蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・・
（実測値）を順次出力する（本明細書では、取得順に添
え字を付す。）。この蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・
・（実測値）が、所定状態における位相差（以下、初期
位相差とする。）を求めるためのデータとして使用され
る。

【００２８】制御回路１８は、フリンジスキャン時に、
光源７１を駆動すると共に移動機構７７に対し駆動電圧
を印加し参照面７３ａを移動させる。また、制御回路１
８はこのときに撮像素子７６を駆動し、撮像素子７６か
ら出力される蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、・・・（実測
値）を演算回路１９に与える。ここで、本実施形態の干
渉測定装置１０には、４バケット法が適用されるとす
る。よって、参照面７３ａの移動速度、すなわち位相差
φ（ｔ）の変化速度（２πａ／Ｔ_c）は、（１／２・π
／Ｔ_c）に設定される。

【００２９】但し、本実施形態では、異なるタイミング
で生成された２組の蓄積データ群を演算に使用するため
に、例えば従来の４バケット法で使用されていたよりも
１つ多い少なくとも５つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、
Ｂ₃、Ｂ₄が取得される。この場合、２組の蓄積データ群
とは、蓄積データ群（Ｂ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃）、及び蓄積
データ群（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄）となる。

【００３０】なお、これら蓄積データ群（Ｂ₀，Ｂ₁，Ｂ
₂，Ｂ₃）と、蓄積データ群（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄）と
は、互いに１／４波長分ずつずれたタイミングで生成さ
れたデータ群であるので、後述するように簡単な演算
（式１１参照）による誤差成分の低減を可能としてい
る。また、各蓄積データは、連続して生成されるもので
あるので、必要なデータを全て取得するまでの時間を抑
えて測定の効率を高く保つことができる。

【００３１】具体的に制御回路１８は、図２（ａ）に示
すように、撮像素子７６から５つの蓄積データＢ₀、
Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃、Ｂ₄が出力される期間５Ｔ_c中に、移動
機構７７に与える駆動電圧を時間に応じて変化させて位
相差φ（ｔ）を５π／２だけ略均等に変化させる。この
とき、移動機構７７に与えられる駆動電圧は、従来と同
様に線形的に変化するが、上記したように移動機構７７
の応答特性は正確な線形ではないので、位相差φ（ｔ）
の変化速度は、一定に保たれるとは限らない。すなわ
ち、本実施形態の干渉測定装置１０においてフリンジス
キャンの非線形性は許容されており、干渉縞の濃淡の変
化パターンは、例えば図２（ｂ）に示すような非正弦カ
ーブを描く可能性がある。

【００３２】また、制御回路１８は、演算回路１９に対
し少なくとも前記５つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、
Ｂ₃、Ｂ₄を与える。なお、本実施形態の演算回路１９に
よる演算は、従来の演算回路７９による演算とは異なる
（詳細は後述）。しかし、本実施形態の演算回路１９に
よる演算には、従来の演算回路７９による演算が利用さ
れているので、従来の演算回路７９を一部変更するだけ
で本実施形態の演算回路１９を実現することができる。

【００３３】また、演算回路１９は、干渉測定装置１０
の外部に備えられていてもよい。また、演算回路１９に
代えて、演算回路１９と同じ動作をするコンピュータが
利用されてもよい。図３は、本実施形態の演算回路１９
による演算を説明する図である。本実施形態では、前記
取得された５つの蓄積データＢ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄
のうち、異なるタイミングで取得された２組の蓄積デー
タ群（Ｂ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃）、（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄）
のそれぞれに基づいて、２つの初期位相差φ₀が求めら
れる（求められた２つの初期位相差φ₀を、それぞれφ
ａ₀₁、φａ₀₂とおく。）。

【００３４】なお、これらの初期位相差φａ₀₁、φａ₀₂
を求めるに当たり、４バケット法の式（８ａ）が適用さ
れる。すなわち、下式（９）、（１０）により、初期位
相差φａ₀₁、φａ₀₂が求められる。

【数９】

【数１０】 ところで、これらの初期位相差φａ₀₁、φａ₀₂には、そ
れぞれ、フリンジスキャンの非線形性による誤差が重畳
されている。

【００３５】そこで、本実施形態では、互いに異なる組
み合わせの蓄積データ群から求められたこれらの初期位
相差φａ₀₁、φａ₀₂に基づいてその誤差が低減される。
演算回路１９は、誤差を低減するために、これら初期位
相差φａ₀₁、φａ₀₂を式（１１）により平均化する。以
下、平均化後の初期位相差を「平均初期位相差」と称
し、「φａ₀」で表す。

【数１１】 次に、フリンジスキャンの非線形性により重畳される誤
差について説明する。先ず、初期位相差φａ₀₁と初期位
相差φａ₀₂とでは、互いに１／４波長分ずつずれたタイ
ミングで生成された蓄積データ群に基づいているので、
初期位相差φａ₀₁に重畳される誤差成分と、初期位相差
φａ₀₂に重畳される誤差成分とは、ほぼ等量の反対符号
となる。したがって、平均初期位相差φａ₀においてそ
れらの誤差はほぼ相殺される。

【００３６】なお、φａ₀₁の値に含まれる信号成分とφ
ａ₀₂の値に含まれる信号成分とについてもそれと同じ理
由でほぼ等量の反対符号となるが、面形状を得るために
最終的に求めるべき情報は位相差の二次元分布であって
位相差の絶対的な値ではないので、φａ₀₁とφａ₀₂とを
平均化しても構わない。以上、本実施形態は、従来の４
バケット法（式（９）、式（１０））に平均化処理（式
（１１））を組み合わせただけの簡便な方法で、フリン
ジスキャンの非線形性に起因する誤差は、補償される。

【００３７】なお、本実施形態においてもこの平均初期
位相差φａ₀の値の算出は撮像素子７６の各画素の出力
についてそれぞれ行われ、算出された平均初期位相差φ
ａ₀の二次元分布が、参照面７３ａを基準とした被検面
７２ａの形状情報として、モニタなどの表示器（不図
示）に出力される。 ＜第２実施形態＞次に、図１、図４、図５、図６、図７
に基づいて本発明の第２実施形態を説明する。ここで
は、第１実施形態及び従来例との相違点についてのみ説
明する。

【００３８】本実施形態の干渉測定装置２０は、４バケ
ット法に代えて５バケット法が適用される点において、
第１実施形態の干渉測定装置１０と異なる。干渉測定装
置２０は、図１に示す干渉測定装置１０において、制御
回路１８に代えて制御回路２８が備えられ、演算回路１
９に代えて演算回路２９が備えられたものに等しい。

【００３９】本実施形態では、異なるタイミングで生成
された２組の蓄積データ群を使用するために、従来の５
バケット法で使用されていたよりも１つ多い６つの蓄積
データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃、Ｂ₄、Ｂ₅が取得される（因
みに、ここでいう２組の蓄積データ群とは、（Ｂ₀，
Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄）及び（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄，
Ｂ₅）である。）。

【００４０】すなわち、制御回路２８は、図４（ａ）に
示すように、撮像素子７６から６つの蓄積データＢ₀、
Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃、Ｂ₄、Ｂ₅が出力される期間６Ｔ_c中に、
移動機構７７に与える駆動電圧を時間に応じて変化させ
て位相差φ（ｔ）を３πだけ略均等に変化させる。この
とき、移動機構７７に与えられる駆動電圧は、従来と同
様に線形的に変化するが、上記したように移動機構７７
の応答特性は正確な線形ではないので、位相差φ（ｔ）
の変化速度は、一定に保たれるとは限らない。すなわ
ち、本実施形態の干渉測定装置２０においてフリンジス
キャンの非線形性は許容されており、干渉縞の濃淡の変
化パターンは、非正弦カーブを描く可能性がある。

【００４１】また、制御回路２８は、演算回路２９に対
し少なくとも前記６つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、
Ｂ₃、Ｂ₄、Ｂ₅を与える。なお、この演算回路２９は、
従来の演算回路７９や第１実施形態の演算回路１９を一
部変更するだけで実現される。また、演算回路２９は、
干渉測定装置２０の外部に備えられていてもよい。ま
た、演算回路２９に代えて、演算回路２９と同じ動作を
するコンピュータが利用されてもよい。

【００４２】図５は、本実施形態の演算回路２９による
演算を説明する図である。本実施形態では、前記取得さ
れた６つの蓄積データＢ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄，Ｂ₅の
うち、異なるタイミングで取得された２組の蓄積データ
群（Ｂ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄）、（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ
₄，Ｂ₅）のそれぞれに基づいて、２つの初期位相差φ₀
が求められる（求められた２つの初期位相差φ₀を、そ
れぞれφｂ ₀₁、φｂ₀₂とおく。）。

【００４３】なお、これらの初期位相差φｂ₀₁、φｂ₀₂
を求めるに当たり使用される式は、５バケット法の式
（８ｂ）である。すなわち、下式（１２）、（１３）に
より、初期位相差φｂ₀₁、φｂ₀₂が求められる。

【数１２】

【数１３】 さらに、本実施形態でも、互いに異なる組み合わせの蓄
積データ群から求められたこれらの初期位相差φｂ₀₁、
φｂ₀₂に基づいて、その誤差が低減される。

【００４４】この際、演算回路２９は、これら初期位相
差φｂ₀₁、φｂ₀₂を式（１４）により平均化して平均初
期位相差φｂ₀を得る。

【数１４】 なお、この平均初期位相差φｂ₀の値の算出は、撮像素
子７６の各画素の出力についてそれぞれ行われ、算出さ
れた平均初期位相差φｂ₀の二次元分布が、参照面７３
ａを基準とした被検面７２ａの形状情報として、モニタ
などの表示器（不図示）に出力される。

【００４５】本実施形態においても、初期位相差φｂ₀₁
に重畳される誤差と、初期位相差φｂ₀₂に重畳される誤
差とは、ほぼ等量の反対符号となる。したがって、平均
初期位相差φｂ₀ではそれらの誤差はほぼ相殺される。
以上、本実施形態は、従来の５バケット法（式（１
２）、式（１３））に平均化処理（式（１４））を組み
合わせただけの簡便な方法で、フリンジスキャンの非線
形性に起因する誤差は、補償される。

【００４６】図６は、本実施形態の干渉測定をシミュレ
ーションした結果を示す図である。シミュレーションで
は、フリンジスキャンの非線形性を意図的に生じさせた
状態で平均初期位相差φｂ₀（式（１４））が取得され
た。すなわち、シミュレーションでは、位相差φ（ｔ）
は、次式（１５）で表されるような時間ｔの２次関数に
設定された。

【数１５】 なお、図６に示すシミュレーション結果は、特に、フリ
ンジスキャンの非線形率εを、１％に設定したときに得
られたものである。なお、ここでは非線形率ε［％］を
次式（１６）により定義した。この非線形率εの値が大
きいほど、線形からの乖離が激しいことを示す。

【数１６】 また、シミュレーションは、参照面７３ａと被検面７２
ａとの初期位相差φ₀を各種の値（０〜０．５、単位：
光源波長λ）に設定して複数回行われた。

【００４７】図６では、各シミュレーションで取得され
た各平均初期位相差φｂ₀に残留している各誤差ｄφｂ₀
（すなわち、各シミュレーションで設定された各初期位
相差φ₀と各シュミレーションで取得された各平均初期
位相差φｂ₀との差）を示した。図６の横軸が、設定さ
れた各初期位相差φ₀であり、縦軸（左側のスケール）
が、シミュレーションで取得された平均初期位相差φｂ
₀に残留している誤差ｄφｂ₀である。

【００４８】この誤差ｄφｂ₀は、設定された初期位相
差φ₀によって多少変動するが、その変動は、±２／１
００００００［λ］という極めて狭い範囲に収まってい
る。なお、図６には、比較のため、従来の５バケット法
で取得される初期位相差φｂ₀₁、φｂ₀₂に重畳している
誤差（従来の誤差）ｄφｂ₀₁、ｄφｂ₀₂についても同時
に示した。

【００４９】但し、これら従来の誤差ｄφｂ₀₁、ｄφｂ
₀₂については、本実施形態の平均初期位相差φｂ₀に残
留している誤差（本実施形態の誤差）ｄφｂ₀と比較す
ると極めて大きいため、縦軸（右側のスケール）を使用
する。これら従来の誤差ｄφｂ₀₁、ｄφｂ₀₂も、設定さ
れた初期位相差φ₀によって変動するが、その変動は、
±４／１００００［λ］という広い範囲にも収まらない
くらい大きい。

【００５０】なお、これら従来の誤差ｄφｂ₀₁、ｄφｂ
₀₂がほぼ等量で互いに反対符号となっていることから
も、本実施形態の誤差ｄφｂ₀、すなわち初期位相差φ
ｂ₀₁及び初期位相差φｂ₀₂とを平均してなる平均初期位
相差φｂ₀における誤差がほぼ相殺されることが分か
る。図７は、以上のシミュレーションを、非線形率εを
各種に変化させつつ複数回行ったときの結果を示す図で
ある。

【００５１】図７には、各非線形率ε（０〜５％）の下
で発生した誤差ｄφｂ₀の変動量ＰＶｂ₀（ピークトゥー
バレー、一般に「ＰＶ」と表される。）がプロットされ
ている。横軸が非線形率ε、縦軸が誤差の変動量ＰＶｂ
₀である。なお、図７には、比較のため、従来の誤差ｄ
φｂ₀₁の変動量ＰＶｂ₀₁についても同時に示した。

【００５２】非線形率εが大きくなるにつれて、本実施
形態の誤差の変動量ＰＶｂ₀と従来の誤差の変動量ＰＶ
ｂ₀₁とは共に大きくなるが、本実施形態の方が従来より
も大幅に小さく抑えられていることが分かる。そして、
非線形率εが大きくなるにつれて本実施形態と従来との
差は大きくなり、非線形率εが５％のときには、従来の
誤差の変動量ＰＶｂ₀₁は５／１０００［λ］という大き
い値であるのに対し、本実施形態の誤差の変動量ＰＶｂ
₀は、その１／５０程度に抑えられている。

【００５３】つまり、非線形率εが大きくなるにつれ
て、本実施形態の誤差低減の効果が高くなることも分か
る。 ＜第３実施形態＞次に、図１、図８、図９に基づいて本
発明の第３実施形態を説明する。ここでは、第１実施形
態との相違点についてのみ説明する。

【００５４】本実施形態は、第１実施形態と同様４バケ
ット法に平均化処理を組み合わせたものであるが、平均
化の対象である初期位相差φａ₀の個数が２倍（４個）
に増えている点において、第１実施形態と異なる。本実
施形態の干渉測定装置３０は、図１に示す干渉測定装置
１０において、制御回路１８に代えて制御回路３８が備
えられ、演算回路１９に代えて演算回路３９が備えられ
たものに等しい。

【００５５】制御回路３８は、図８に示すように、撮像
素子７６から７つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃、Ｂ
₄、Ｂ₅、Ｂ₆が出力される期間７Ｔ_c中に、移動機構７７
に与える駆動電圧を時間に応じて変化させて位相差φ
（ｔ）を７π／２だけ略均等に変化させる。このとき、
移動機構７７に与えられる駆動電圧は、従来と同様に線
形的に変化するが、上記したように移動機構７７の応答
特性は正確な線形ではないので、位相差φ（ｔ）の変化
速度は、一定に保たれるとは限らない。すなわち、本実
施形態の干渉測定装置３０においてフリンジスキャンの
非線形性は許容されており、干渉縞の濃淡の変化パター
ンは、非正弦カーブを描く可能性がある。

【００５６】また、制御回路３８は、演算回路３９に対
し少なくとも前記７つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、
Ｂ₃、Ｂ₄、Ｂ₅、Ｂ₆を与える。なお、この演算回路３９
は、従来の演算回路７９や第１実施形態の演算回路１９
や第２実施形態の演算回路２９を一部変更するだけで実
現される。また、演算回路３９は、干渉測定装置３０の
外部に備えられていてもよい。また、演算回路３９に代
えて、演算回路３９と同じ動作をするコンピュータが利
用されてもよい。

【００５７】図９は、本実施形態の演算回路３９による
演算を説明する図である。本実施形態では、前記取得さ
れた７つの蓄積データＢ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄，Ｂ₅、
Ｂ₆のうち、異なるタイミングで取得された４組の蓄積
データ群（Ｂ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃）、（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，
Ｂ₄）（Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄，Ｂ₅）、（Ｂ₃，Ｂ ₄，Ｂ₅，
Ｂ₆）のそれぞれに基づいて、４つの初期位相差φ₀が求
められる（求められた２つの初期位相差φ₀を、それぞ
れφａ₀₁、φａ₀₂、φａ₀₃、φａ₀₄とおく。）。

【００５８】なお、これらの初期位相差φａ₀₁、φ
ａ₀₂、φａ₀₃、φａ₀₄を求めるに当たり使用される式
は、第１実施形態と同様、４バケット法の式（８ａ）で
ある。すなわち、上式（９）、（１０）、及び下式（１
７）、（１８）により、初期位相差φａ₀₁、φａ₀₂、φ
ａ₀₃、φａ₀₄が求められる。

【数１７】

【数１８】 さらに、本実施形態でも、互いに異なる組み合わせの蓄
積データ群から求められたこれらの初期位相差φａ₀₁、
φａ₀₂、φａ₀₃、φａ₀₄に基づいて、その誤差が低減さ
れる。

【００５９】この際、演算回路３９は、これら初期位相
差φａ₀₁、φａ₀₂、φａ₀₃、φａ₀₄を式（１９）により
平均化して平均初期位相差φａ₀’を得る。

【数１９】 本実施形態における平均化の意味は、次のとおりであ
る。

【００６０】先ず、初期位相差φａ₀₁と初期位相差φａ
₀₂とに重畳している誤差を両者の平均によって低減する
と共に、初期位相差φａ₀₃と初期位相差φａ₀₄とに重畳
している誤差を両者の平均により低減する。ここで、初
期位相差φａ₀₁と初期位相差φａ₀₂との平均値と、初期
位相差φａ ₀₃と初期位相差φａ₀₄との平均値とにも、ま
だなお誤差が残存している。

【００６１】よって、これら２つの平均値をさらに平均
化すれば、その残存した誤差をも低減することができ
る。したがって、４つの初期位相差φａ₀₁、φａ₀₂、φ
ａ₀₃、φａ₀₄を平均化するのは、第１実施形態で求めた
平均初期位相差φａ₀よりも、さらに誤差を低減するた
めである。

【００６２】以上、本実施形態では、第１実施形態と比
較すると、２倍の組み合わせの蓄積データ群（４組）を
必要とするので、処理時間は多少長くなるが、誤差低減
の効果は高い。 ＜第４実施形態＞次に、図１、図１０、図１１に基づい
て本発明の第４実施形態を説明する。ここでは、上記各
実施形態との相違点についてのみ説明する。

【００６３】本実施形態の干渉測定装置４０と第２実施
形態の干渉測定装置２０との関係は、第３実施形態の干
渉測定装置３０と第１実施形態の干渉測定装置１０との
関係と同じである。すなわち、干渉測定装置４０は、５
バケット法に平均化処理を組み合わせ、かつ、平均化の
対象である初期位相差φａ₀の個数が４に増えたもので
ある。

【００６４】制御回路４８は、図１０に示すように、撮
像素子７６から８つの蓄積データＢ ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃、
Ｂ₄、Ｂ₅、Ｂ₆、Ｂ₇が出力される期間８Ｔ_c中に、移動
機構７７に与える駆動電圧を時間に応じて変化させて位
相差φ（ｔ）を４πだけ略均等に変化させる。

【００６５】このとき、移動機構７７に与えられる駆動
電圧は、従来と同様に線形的に変化するが、上記したよ
うに移動機構７７の応答特性は正確な線形ではないの
で、位相差φ（ｔ）の変化速度は、一定に保たれるとは
限らない。すなわち、本実施形態の干渉測定装置４０に
おいてフリンジスキャンの非線形性は許容されており、
干渉縞の濃淡の変化パターンは、非正弦カーブを描く可
能性がある。

【００６６】また、制御回路４８は、演算回路４９に対
し少なくとも前記８つの蓄積データＢ₀、Ｂ₁、Ｂ₂、
Ｂ₃、Ｂ₄、Ｂ₅、Ｂ₆、Ｂ₇を与える。なお、この演算回
路４９は、従来の演算回路７９、第１実施形態の演算回
路１９、第２実施形態の演算回路２９、第３実施形態の
演算回路３９の何れかを一部変更するだけで実現され
る。

【００６７】また、演算回路４９は、干渉測定装置４０
の外部に備えられていてもよい。また、演算回路４９に
代えて、演算回路４９と同じ動作をするコンピュータが
利用されてもよい。図１１は、本実施形態の演算回路４
９による演算を説明する図である。本実施形態では、前
記取得された８つの蓄積データＢ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ
₄，Ｂ₅、Ｂ₆、Ｂ₇のうち、異なるタイミングで取得され
た４組の蓄積データ群（Ｂ₀，Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄）、
（Ｂ₁，Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄，Ｂ₅）（Ｂ₂，Ｂ₃，Ｂ₄，Ｂ₅，
Ｂ₆）、（Ｂ₃，Ｂ₄，Ｂ₅，Ｂ₆，Ｂ₇）のそれぞれに基づ
いて、４つの初期位相差φ₀が求められる（求められた
２つの初期位相差φ₀を、それぞれφｂ₀₁、φｂ₀₂、φ
ｂ₀₃、φｂ₀₄とおく。）。

【００６８】なお、これらの初期位相差φｂ₀₁、φ
ｂ₀₂、φｂ₀₃、φｂ₀₄を求めるに当たり使用される式
は、第２実施形態と同様、５バケット法の式（８ｂ）で
ある。すなわち、上式（１２）、（１３）、及び下式
（２０）、（２１）により、初期位相差φｂ₀₁、φ
ｂ₀₂、φｂ₀₃、φｂ₀₄が求められる。

【数２０】

【数２１】 さらに、本実施形態でも、互いに異なる組み合わせの蓄
積データ群から求められたこれらの初期位相差φｂ₀₁、
φｂ₀₂、φｂ₀₃、φｂ₀₄に基づいて、その誤差が低減さ
れる。この際、演算回路４９は、これら初期位相差φｂ
₀₁、φｂ₀₂、φｂ₀₃、φｂ₀₄を式（２２）により平均化
して平均初期位相差φｂ₀’を得る。

【数２２】 第３実施形態のところで説明したのと同様に、４つの初
期位相差φｂ₀₁、φｂ ₀₂、φｂ₀₃、φｂ₀₄を平均化して
なる平均初期位相差φｂ₀’は、第２実施形態で求めた
平均初期位相差φｂ₀よりも、さらに誤差が低減され
る。以上、本実施形態では、第２実施形態と比較する
と、２倍の組み合わせの蓄積データ群（４組）を必要と
するので、処理時間は多少長くなるが、誤差低減の効果
は高い。

【００６９】＜第１実施形態、第２実施形態、第３実施
形態、第４実施形態の補足＞なお、上記各実施形態で
は、位相情報（初期位相差）を得るに当たり、４バケッ
ト法（第１実施形態、第３実施形態）、又は５バケット
法（第２実施形態、第４実施形態）が適用されている
が、式（４）から導かれるのであれば他の手法（４又は
５以外の個数の蓄積データに基づく他の手法）が適用さ
れてもよい。但し、平均化の対象は、互いに同じ手法に
より得られた複数個の位相情報（初期位相差）とされ
る。

【００７０】また、上記第１実施形態及び第２実施形態
では２組の蓄積データ群、第３実施形態及び第４実施形
態では４組の蓄積データ群がそれぞれ使用されている
が、２組又は４組以外にも、２ⁿ組の蓄積データ群を使
用すれば、同様にして誤差を低減することができる。但
し、誤差低減の程度が同じもの同士で比較すると、２組
又は４組とすることが、必要なデータ数が少ないために
効率的である。

【００７１】また、上記各実施形態では、１／４波長分
ずつずれたタイミングで生成された複数組の蓄積データ
群が使用されており、かつ、誤差成分を低減するための
演算が平均化処理とされているが、そのずれ量を１／４
波長分以外に設定して、誤差成分を低減するための演算
をそれに応じた演算に代えることもできる。但し、演算
の簡単さの点からみると、上記各実施形態で説明したも
のが最も有利である。

【００７２】＜第５実施形態＞次に、図１２に基づいて
本発明の第５実施形態を説明する。図１２は、本実施形
態に係る投影露光装置の概略構成図である。この投影露
光装置に搭載された投影光学系６００は、その製造時
に、上記各実施形態に係る何れかの干渉測定装置を用い
てその面形状が測定され、その測定結果に応じて加工
（又は調整）された高精度な投影レンズである。

【００７３】この投影露光装置は、少なくともウェハス
テージ４０１と、光を供給するための光源部２００と、
投影光学系６００とを含む。ここで、ウェハステージ４
０１は、感光剤を塗布した基板（ウェハ）Ｗを表面４０
１ａ上に置くことができる。また、ステージ制御系４０
０は、ウェハステージ４０１の位置を制御する。投影光
学系６００は、上述のように上記各実施形態に係る干渉
測定装置を用いて製造された高精度投影レンズである。
また投影光学系６００は、レチクル（マスク）Ｒが配置
された物体面Ｐ１と、ウェハＷの表面と一致させた像面
Ｐ２との間に配置される。さらに投影光学系６００は、
スキャンタイプの投影露光装置に応用されるアライメン
ト光学系を有する。

【００７４】さらに照明光学系２０１は、レチクルＲと
ウェハＷとの間の相対位置を調節するためのアライメン
ト光学系２１０を含む。レチクルＲは、該レチクルＲの
パターンのイメージをウェハＷ上に投影するためのもの
であり、ウェハステージ４０１の表面４０１ａに対して
平行移動が可能であるレチクルステージ３０１上に配置
される。そしてレチクル交換系３００は、レチクルステ
ージ３０１上にセットされたレチクルＲを交換し運搬す
る。またレチクル交換系３００は、ウェハステージ４０
１の表面４０１ａに対し、レチクルステージ３０１を平
行移動させるためのステージドライバー（不図示）を含
む。

【００７５】また、主制御部５００は位置合わせから露
光までの一連の処理に関する制御を行う。以上の構成に
より、高精度投影レンズを搭載した投影露光装置を実現
することができる。

【００７６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
フリンジスキャンの非線形性に起因する誤差を簡便に補
償することのできる干渉測定方法及び干渉測定装置が実
現する。

【００７７】また、本発明によれば、高精度に投影レン
ズを製造することのできる投影レンズの製造方法、及び
高性能な投影露光装置が実現する。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態、
第４実施形態の干渉測定装置の構成図である。

【図２】第１実施形態の制御回路１８の動作を説明する
図である。

【図３】第１実施形態の演算回路１９による演算を説明
する図である。

【図４】第２実施形態の制御回路２８の動作を説明する
図である。

【図５】第２実施形態の演算回路２９による演算を説明
する図である。

【図６】第２実施形態の干渉測定をシミュレーションし
た結果を示す図である。

【図７】シミュレーションを、非線形率εを各種に変化
させつつ複数回行ったときの各誤差ｄ（φｂ₀）を示す
図である。

【図８】第３実施形態の制御回路３８の動作を説明する
図である。

【図９】第３実施形態の演算回路３９による演算を説明
する図である。

【図１０】第４実施形態の制御回路４８の動作を説明す
る図である。

【図１１】第４実施形態の演算回路４９による演算を説
明する図である。

【図１２】第５実施形態に係る投影露光装置の概略構成
図である。

【図１３】被検面７２ａの面形状を測定するための干渉
測定装置７０の構成図である。

【図１４】干渉測定装置７０の動作を説明する図であ
る。

【符号の説明】

１０、２０、３０、４０ 干渉測定装置 １８、２８、３８、４８、７８ 制御回路 １９、３９、３９、４９、７９ 演算回路 ７１ 光源 ７２ 被検物 ７３ フィゾーレンズ ７３ａ フィゾー面（参照面） ７２ａ 被検面 ７５ 干渉計 ７４ａ ビームエキスパンダ ７４ｂ ビームスプリッタ ７４ｃ 光束径変換光学系 ７６ 撮像素子 ７７ 移動機構 ２００ 光源部 ２０１ 照明光学系 ２１０ アライメント光学系 ３００ レチクル交換系 ３０１ レチクルステージ Ｒ レチクル Ｐ１ 物体面 Ｐ２ 像面 ６００ 投影光学系 ４００ ステージ制御系 ４０１ ウェハステージ ４０１ａ ウェハステージの表面 Ｗ 基板（ウェハ） ５００ 主制御部

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F064 AA09 BB04 EE02 EE05 GG38 GG47 HH03 HH08 2F065 BB05 BB22 CC22 FF51 JJ03 JJ26 LL10 LL35 2G086 FF01 5F046 BA03 CB12

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 参照光と被検光とが成す干渉光を所定時
   間蓄積して蓄積データを生成する検出部と、それら参照
   光と被検光との位相差を時間に応じて変化させる縞走査
   機構とを備えた干渉計を使用し、 前記位相差の変化期間中に所定パターンで生成された所
   定個数の蓄積データからなる蓄積データ群を、前記干渉
   計から複数組み取り込む取り込み手順と、 前記変化期間中の所定時における位相差を示す位相情報
   を、前記取り込まれた複数組の蓄積データ群のそれぞれ
   に基づいて複数個取得すると共に、取得した複数個の位
   相情報に基づいてそれら位相情報に重畳されている誤差
   成分を低減する位相差取得手順とを有することを特徴と
   する干渉測定方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の干渉測定方法におい
   て、 前記蓄積データ群は、 互いに連続して生成された所定個数の蓄積データからな
   ることを特徴とする干渉測定方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の干渉測定
   方法において、 前記複数組の蓄積データ群は、 互いに１／４波長分ずれたタイミングで生成された２組
   の蓄積データ群からなることを特徴とする干渉測定方
   法。
4. 【請求項４】 請求項１〜請求項３の何れか一項に記載
   の干渉測定方法において、 前記複数組の蓄積データ群は、 互いに１／４波長分ずつずれたタイミングで生成された
   ４組の蓄積データ群からなることを特徴とする干渉測定
   方法。
5. 【請求項５】 請求項３又は請求項４に記載の干渉測定
   方法において、 前記誤差成分の低減は、 前記複数個の位相情報を平均化することによって行われ
   ることを特徴とする干渉測定方法。
6. 【請求項６】 参照光と被検光とが成す干渉光を所定時
   間蓄積して蓄積データを生成する検出部、及びそれら参
   照光と前記被検光との位相差を時間に応じて変化させる
   縞走査機構を備えた干渉計と、 前記干渉計から前記蓄積データを取り込むと共にその蓄
   積データに対し演算を施す制御部とを備え、 前記制御部は、 前記位相差の変化期間中に所定パターンで生成された所
   定個数の蓄積データからなる蓄積データ群を、前記干渉
   計から複数組み取り込む取り込み手順と、 前記変化期間中の所定時における位相差を示す位相情報
   を、前記取り込まれた複数組の蓄積データ群のそれぞれ
   に基づいて複数個取得すると共に、取得した複数個の位
   相情報に基づいてそれら位相情報に重畳されている誤差
   成分を低減する位相差取得手順とを実行することを特徴
   とする干渉測定装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の干渉測定装置におい
   て、 前記蓄積データ群は、 互いに連続して生成された所定個数の蓄積データからな
   ることを特徴とする干渉測定装置。
8. 【請求項８】 請求項６又は請求項７に記載の干渉測定
   装置において、 前記複数組の蓄積データ群は、 互いに１／４波長分ずれたタイミングで生成された２組
   の蓄積データ群からなることを特徴とする干渉測定装
   置。
9. 【請求項９】 請求項６〜請求項８の何れか一項に記載
   の干渉測定装置において、 前記複数組の蓄積データ群は、 互いに１／４波長分ずつずれたタイミングで生成された
   ４組の蓄積データ群からなることを特徴とする干渉測定
   装置。
10. 【請求項１０】 請求項８又は請求項９に記載の干渉測
    定装置において、 前記誤差成分の低減は、 前記複数個の位相情報を平均化することによって行われ
    ることを特徴とする干渉測定装置。
11. 【請求項１１】 投影レンズの少なくとも１つの面の形
    状を請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の干渉測定
    方法により測定する手順を有したことを特徴とする投影
    レンズの製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の投影レンズの製造
    方法により製造された投影レンズを備えたことを特徴と
    する投影露光装置。