JP2003183039A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
光学素子の製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産効率を低下させることなく、所望の光学
精度を持ち、かつ内部歪みを持たない高精度な光学素子
を提供する。 【解決手段】 ホルダー２に載置されレール３上で移送
されてきたガラス素材１を搬送装置４によりホルダー２
と共に加熱炉５内に搬送し、所定の温度に加熱軟化す
る。加熱軟化したガラス素材１をホルダー２と共に成形
室６内の成形用金型７，８の間に搬送し、成形用金型８
を上動してホルダー２内のガラス素材１を成形用金型
７，８で押圧成形し急冷する。成形用金型８を下動し、
搬出装置１０により成形品９をホルダー２と共に成形用
金型７，８の間から取り出してホルダー２をレール３上
に載置して移送し、冷却する。この冷却した成形品９を
ホルダー２から取り出し、成形品を１個以上まとめてア
ニール処理して成形品である光学素子を得る。
精度を持ち、かつ内部歪みを持たない高精度な光学素子
を提供する。 【解決手段】 ホルダー２に載置されレール３上で移送
されてきたガラス素材１を搬送装置４によりホルダー２
と共に加熱炉５内に搬送し、所定の温度に加熱軟化す
る。加熱軟化したガラス素材１をホルダー２と共に成形
室６内の成形用金型７，８の間に搬送し、成形用金型８
を上動してホルダー２内のガラス素材１を成形用金型
７，８で押圧成形し急冷する。成形用金型８を下動し、
搬出装置１０により成形品９をホルダー２と共に成形用
金型７，８の間から取り出してホルダー２をレール３上
に載置して移送し、冷却する。この冷却した成形品９を
ホルダー２から取り出し、成形品を１個以上まとめてア
ニール処理して成形品である光学素子を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加熱軟化したガラ
ス素材を一対の成形用金型により押圧成形して光学素子
を得る光学素子の製造方法に関する。
ス素材を一対の成形用金型により押圧成形して光学素子
を得る光学素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、レンズ・プリズム・フィルター
等の光学素子は、ガラス材料を研削・研磨して所望の形
状および光学機能面を加工しているが、最近では加熱・
加圧による精密プレスによる加工法が主流となりつつあ
る。
等の光学素子は、ガラス材料を研削・研磨して所望の形
状および光学機能面を加工しているが、最近では加熱・
加圧による精密プレスによる加工法が主流となりつつあ
る。
【０００３】精密プレスは大まかに、光学素子材料の加
熱工程と、加熱軟化した光学素子材料を所望の形状を持
つ成形用金型でプレス成形する工程と、プレス成形した
成形品を冷却・取り出す工程に分けられ、高精度なプレ
スレンズを成形加工するには長いサイクルタイムが必要
となる。そこで、高精度なプレスレンズの生産効率を上
げるために様々な方法が提案されている。
熱工程と、加熱軟化した光学素子材料を所望の形状を持
つ成形用金型でプレス成形する工程と、プレス成形した
成形品を冷却・取り出す工程に分けられ、高精度なプレ
スレンズを成形加工するには長いサイクルタイムが必要
となる。そこで、高精度なプレスレンズの生産効率を上
げるために様々な方法が提案されている。
【０００４】例えば、特公平４−８３７４号公報に記載
されている方法は、加熱軟化したガラス素材を押圧成形
型で５〜１５秒間押圧成形した後に、成形品を押圧成形
型から取り出してから移送しつつ徐冷する。この方法で
サイクルタイムを短縮し、生産性の向上を図っている。
されている方法は、加熱軟化したガラス素材を押圧成形
型で５〜１５秒間押圧成形した後に、成形品を押圧成形
型から取り出してから移送しつつ徐冷する。この方法で
サイクルタイムを短縮し、生産性の向上を図っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記公報に記
載されている方法では、ガラス素材を５〜１５秒間押圧
成形後に成形品を押圧成形型から取り出しているので、
ガラス素材を成形可能温度から取り出し可能温度まで５
〜１５秒で急速に冷却することになり、成形品の内部に
歪みが生じると同時に、ガラスの持つ光学恒数が変化し
光学性能が低下する原因となる。また、内部歪みを移送
中の徐冷で除去するためには、徐冷にかなりの時間が必
要となり、徐冷時間が長くサイクルタイムが拡大して生
産効率の向上にはあまり効果的でない。また、装置の構
成で同様の効果を出すには大型化しすぎて得策でない。
載されている方法では、ガラス素材を５〜１５秒間押圧
成形後に成形品を押圧成形型から取り出しているので、
ガラス素材を成形可能温度から取り出し可能温度まで５
〜１５秒で急速に冷却することになり、成形品の内部に
歪みが生じると同時に、ガラスの持つ光学恒数が変化し
光学性能が低下する原因となる。また、内部歪みを移送
中の徐冷で除去するためには、徐冷にかなりの時間が必
要となり、徐冷時間が長くサイクルタイムが拡大して生
産効率の向上にはあまり効果的でない。また、装置の構
成で同様の効果を出すには大型化しすぎて得策でない。
【０００６】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
なされたもので、生産効率を低下させることなく、所望
の光学精度を持ち、かつ内部歪みを持たない高精度な光
学素子を提供することができる光学素子の製造方法を提
供することを目的とする。
なされたもので、生産効率を低下させることなく、所望
の光学精度を持ち、かつ内部歪みを持たない高精度な光
学素子を提供することができる光学素子の製造方法を提
供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項１の光学素子の製造方法は、加熱軟
化したガラス素材を一対の成形用金型を用いて押圧する
光学素子の製造方法において、ガラス素材を加熱する工
程と、加熱軟化したガラス素材を一対の温調された成形
用金型間に搬送し押圧成形・冷却する工程と、成形用金
型間で成形した光学素子を成形用金型から取り出し、そ
の光学素子を少なくとも１個以上まとめてアニールする
工程と、を備えたことを特徴とする。
に、本発明の請求項１の光学素子の製造方法は、加熱軟
化したガラス素材を一対の成形用金型を用いて押圧する
光学素子の製造方法において、ガラス素材を加熱する工
程と、加熱軟化したガラス素材を一対の温調された成形
用金型間に搬送し押圧成形・冷却する工程と、成形用金
型間で成形した光学素子を成形用金型から取り出し、そ
の光学素子を少なくとも１個以上まとめてアニールする
工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】上記発明では、押圧成形・冷却する工程で
成形用金型間で成形品を成形しこの成形品に欠損が生じ
ない程度で急冷した後、成形用金型間から取り出した成
形品を１個以上まとめてアニール処理し、生産性を低下
させることなく所望の光学性能を有する内部歪みを持た
ない高精度な光学素子を製造できる。
成形用金型間で成形品を成形しこの成形品に欠損が生じ
ない程度で急冷した後、成形用金型間から取り出した成
形品を１個以上まとめてアニール処理し、生産性を低下
させることなく所望の光学性能を有する内部歪みを持た
ない高精度な光学素子を製造できる。
【０００９】本発明の請求項２の光学素子の製造方法
は、請求項１の光学素子を製造方法のアニール工程にお
いて、光学素子をアニールする上限温度を（ガラス転移
点−６０℃）〜（ガラス転移点−１０℃）の範囲内とす
ることを特徴とする。
は、請求項１の光学素子を製造方法のアニール工程にお
いて、光学素子をアニールする上限温度を（ガラス転移
点−６０℃）〜（ガラス転移点−１０℃）の範囲内とす
ることを特徴とする。
【００１０】本発明の請求項３の光学素子の製造方法
は、請求項１の光学素子の製造方法のアニール工程にお
いて、徐冷速度を１回以上変化させることを特徴とす
る。
は、請求項１の光学素子の製造方法のアニール工程にお
いて、徐冷速度を１回以上変化させることを特徴とす
る。
【００１１】本発明の請求項４の光学素子の製造方法
は、請求項１の光学素子の製造方法のアニール工程にお
いて、光学素子をアニールする時間を８〜２４時間とす
ることを特徴とする。
は、請求項１の光学素子の製造方法のアニール工程にお
いて、光学素子をアニールする時間を８〜２４時間とす
ることを特徴とする。
【００１２】本発明の請求項２，３，４の光学素子の製
造方法では、アニール処理工程において、アニール処理
の上限温度を規制することにより光学素子の品質を維持
し、徐冷速度を変化させることにより生産性を向上させ
る。
造方法では、アニール処理工程において、アニール処理
の上限温度を規制することにより光学素子の品質を維持
し、徐冷速度を変化させることにより生産性を向上させ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）本発明の実施の
形態１を図１および図２に基づいて説明する。図１およ
び図２は本実施の形態に用いられる成形機構の基本的構
造を示す概略図で、図１は平面図、図２は正面断面図で
ある。
形態１を図１および図２に基づいて説明する。図１およ
び図２は本実施の形態に用いられる成形機構の基本的構
造を示す概略図で、図１は平面図、図２は正面断面図で
ある。
【００１４】本実施の形態に用いる装置は、図１および
図２に示すように、レール３が配置され、ガラス素材１
を載置したホルダー２を加熱炉５の投入口までレール３
上で順次移送するとともに、成形品９を載置したホルダ
ー２を保温炉１１内をレール３上で移送可能になってい
る。加熱炉５の投入口前方には、レール３上で移送され
てきたガラス素材１を載置したホルダー２を加熱炉５内
に搬送する搬送装置４が設けられている。加熱炉５に
は、内部に一対の成形用金型７，８を配置した成形室６
が連設されており、加熱炉５内で所定の温度に加熱軟化
したガラス素材１を搬送装置４により成形用金型７，８
の間に搬送可能になっている。
図２に示すように、レール３が配置され、ガラス素材１
を載置したホルダー２を加熱炉５の投入口までレール３
上で順次移送するとともに、成形品９を載置したホルダ
ー２を保温炉１１内をレール３上で移送可能になってい
る。加熱炉５の投入口前方には、レール３上で移送され
てきたガラス素材１を載置したホルダー２を加熱炉５内
に搬送する搬送装置４が設けられている。加熱炉５に
は、内部に一対の成形用金型７，８を配置した成形室６
が連設されており、加熱炉５内で所定の温度に加熱軟化
したガラス素材１を搬送装置４により成形用金型７，８
の間に搬送可能になっている。
【００１５】成形用金型７，８は、先端にそれぞれ所望
の光学機能面（成形面）７ａ，８ａが設けられ、光学機
能面７ａ，８ａを正対させて上下に配置されている。成
形用金型７は固設されるとともに、成形用金型８は図示
しない駆動装置により上下可動となっており、成形用金
型８を上動することにより、ホルダー２内のガラス素材
１を成形用金型７，８の光学機能面７ａ，８ａによりプ
レス成形可能になっている。
の光学機能面（成形面）７ａ，８ａが設けられ、光学機
能面７ａ，８ａを正対させて上下に配置されている。成
形用金型７は固設されるとともに、成形用金型８は図示
しない駆動装置により上下可動となっており、成形用金
型８を上動することにより、ホルダー２内のガラス素材
１を成形用金型７，８の光学機能面７ａ，８ａによりプ
レス成形可能になっている。
【００１６】成形室６を挟んで搬送装置４と対向する位
置には排出装置１０が設けられている。成形室６には、
加熱炉５を連設した側壁と対向する側壁に保温炉１１が
連設されており、排出装置１０は、プレス成形した成形
品９を載置するホルダー２を成形室６から保温炉１１内
のレール３上に載置可能になっている。
置には排出装置１０が設けられている。成形室６には、
加熱炉５を連設した側壁と対向する側壁に保温炉１１が
連設されており、排出装置１０は、プレス成形した成形
品９を載置するホルダー２を成形室６から保温炉１１内
のレール３上に載置可能になっている。
【００１７】次に、前記装置による本実施の形態の製造
方法について説明する。ガラス素材１は、Ｓ−ＢＡＬ４
１（屈折率カタログ値ｎｄ＝１．５６３８４、ガラス転
移点Ｔｇ＝５４１℃）で、図示されない供給装置により
ホルダー２に載置され、レール３上で順次移送されてい
る。加熱炉６前に移送されたホルダー２は、搬送装置４
により加熱炉５内に搬送されて６４０℃に加熱され、成
形室６内の成形用金型７，８の間に搬送される。
方法について説明する。ガラス素材１は、Ｓ−ＢＡＬ４
１（屈折率カタログ値ｎｄ＝１．５６３８４、ガラス転
移点Ｔｇ＝５４１℃）で、図示されない供給装置により
ホルダー２に載置され、レール３上で順次移送されてい
る。加熱炉６前に移送されたホルダー２は、搬送装置４
により加熱炉５内に搬送されて６４０℃に加熱され、成
形室６内の成形用金型７，８の間に搬送される。
【００１８】一対の成形用金型は５３０℃に温調されて
おり、図示されない駆動装置によって成形用金型８が上
動され、ホルダー２内のガラス素材１は成形用金型７，
８によって５〜１５秒間プレスされ、ガラス素材１に光
学機能面７ａ，８ａが転写されるるとともに、搬送装置
４は元の位置に戻される。ガラス素材１のプレスと同時
に窒素ブローで急冷し、成形されたガラス素材１は成形
品９となってホルダー２内に載置し排出装置１０によっ
て成形室６から取り出され、ホルダー２はレール３上に
載置されて保温炉１１内を通過し、成形品９は自然冷却
される。
おり、図示されない駆動装置によって成形用金型８が上
動され、ホルダー２内のガラス素材１は成形用金型７，
８によって５〜１５秒間プレスされ、ガラス素材１に光
学機能面７ａ，８ａが転写されるるとともに、搬送装置
４は元の位置に戻される。ガラス素材１のプレスと同時
に窒素ブローで急冷し、成形されたガラス素材１は成形
品９となってホルダー２内に載置し排出装置１０によっ
て成形室６から取り出され、ホルダー２はレール３上に
載置されて保温炉１１内を通過し、成形品９は自然冷却
される。
【００１９】成形品９は、再び図示されない供給装置に
よりホルダー２から取り出され、トレイに収納される。
この時、成形後の成形品９の面精度はニュートン縞２本
以内で良好である。また、成形品９の中心部の屈折率ｎ
ｄ＝１．５６０００で外周部の屈折率との差はΔｎｄ＝
８０／１０万であった。
よりホルダー２から取り出され、トレイに収納される。
この時、成形後の成形品９の面精度はニュートン縞２本
以内で良好である。また、成形品９の中心部の屈折率ｎ
ｄ＝１．５６０００で外周部の屈折率との差はΔｎｄ＝
８０／１０万であった。
【００２０】上述したように成形した成形品９を１５０
０個まとめて図示されない電気炉に入れアニール処理を
する。電気炉は炉内の温度分布がほとんど無く、全ての
成形品９が同一条件で処理可能なプログラム温調付であ
る。
０個まとめて図示されない電気炉に入れアニール処理を
する。電気炉は炉内の温度分布がほとんど無く、全ての
成形品９が同一条件で処理可能なプログラム温調付であ
る。
【００２１】次に、アニール処理の過程を説明する。電
気炉内を５１０℃まで３時間で昇温し、５１０℃を１時
間保持する。その後、３００℃まで５時間かけて温度を
下げ、その後３００℃から常温まで２時間で温度を下げ
る。アニール処理工程に要した時間は１１時間であっ
た。この時、成形品９の中心部の屈折率はｎｄ＝１．５
６３５０で、外周部との屈折率の差はΔｎｄ＝５／１０
万であった。
気炉内を５１０℃まで３時間で昇温し、５１０℃を１時
間保持する。その後、３００℃まで５時間かけて温度を
下げ、その後３００℃から常温まで２時間で温度を下げ
る。アニール処理工程に要した時間は１１時間であっ
た。この時、成形品９の中心部の屈折率はｎｄ＝１．５
６３５０で、外周部との屈折率の差はΔｎｄ＝５／１０
万であった。
【００２２】本実施の形態によれば、短い時間で成形し
た成形品９を多数個まとめてアニール処理することで生
産性を損なわず高精度な光学素子を製造することが可能
である。
た成形品９を多数個まとめてアニール処理することで生
産性を損なわず高精度な光学素子を製造することが可能
である。
【００２３】（実施の形態２）本発明の実施の形態２を
図３により説明する。図３は本実施の形態に用いられる
成形機構の基本的構造を示す概略平面図である。成形機
構の構成、製造方法および作用は実施の形態１とほとん
ど同じなので、以下に相違点のみを記載する。
図３により説明する。図３は本実施の形態に用いられる
成形機構の基本的構造を示す概略平面図である。成形機
構の構成、製造方法および作用は実施の形態１とほとん
ど同じなので、以下に相違点のみを記載する。
【００２４】成形室６内で一対の成形用金型によるガラ
ス素材１の成形完了後、成形品９を載置したホルダー２
はレール３上に載置されて保温炉１１内を通過し、３０
０℃まで冷却される。成形品９は、再び図示されない供
給装置によりホルダー２から取り出され、３００℃で保
温されている電気炉１２内のトレイに収納される。
ス素材１の成形完了後、成形品９を載置したホルダー２
はレール３上に載置されて保温炉１１内を通過し、３０
０℃まで冷却される。成形品９は、再び図示されない供
給装置によりホルダー２から取り出され、３００℃で保
温されている電気炉１２内のトレイに収納される。
【００２５】電気炉１２内に成形品９が１５００個収納
されたら、アニール処理プログラムが開始する。電気炉
１２内を３００℃から５３０℃まで１．５時間で昇温
し、５３０℃で０．５時間保温する。５３０℃から３０
０℃まで５．５時間で温度を下げ、さらに３００℃から
室温まで２時間で温度を下げる。アニール処理に費やし
た時間は９．５時間であった。この時の成形品９の出来
映えは実施の形態１と同様であった。
されたら、アニール処理プログラムが開始する。電気炉
１２内を３００℃から５３０℃まで１．５時間で昇温
し、５３０℃で０．５時間保温する。５３０℃から３０
０℃まで５．５時間で温度を下げ、さらに３００℃から
室温まで２時間で温度を下げる。アニール処理に費やし
た時間は９．５時間であった。この時の成形品９の出来
映えは実施の形態１と同様であった。
【００２６】本実施の形態によれば、多数の成形品をま
とめてアニール処理する時間を短くして生産時間を短縮
し高精度な光学素子を製造することが可能である。
とめてアニール処理する時間を短くして生産時間を短縮
し高精度な光学素子を製造することが可能である。
【００２７】なお、上記した具体的実施の形態から次の
ような構成の技術的思想が導き出される。 （付記）（１） 加熱軟化したガラス素材を一対の成形
用金型を用いて押圧する光学素子の製造方法において、
ガラス素材をホルダーに載置して加熱する工程と、加熱
軟化したガラス素材をホルダーと共に一対の温調された
成形用金型間に搬送して押圧成形し急冷する工程と、成
形用金型間で成形した光学素子を成形用金型から取り出
し、ホルダーに載置して徐冷する工程と、徐冷した光学
素子をホルダーから取り出し、この光学素子を少なくと
も１個以上まとめてアニールする工程と、を備えたこと
を特徴とする光学素子の製造方法。
ような構成の技術的思想が導き出される。 （付記）（１） 加熱軟化したガラス素材を一対の成形
用金型を用いて押圧する光学素子の製造方法において、
ガラス素材をホルダーに載置して加熱する工程と、加熱
軟化したガラス素材をホルダーと共に一対の温調された
成形用金型間に搬送して押圧成形し急冷する工程と、成
形用金型間で成形した光学素子を成形用金型から取り出
し、ホルダーに載置して徐冷する工程と、徐冷した光学
素子をホルダーから取り出し、この光学素子を少なくと
も１個以上まとめてアニールする工程と、を備えたこと
を特徴とする光学素子の製造方法。
【００２８】付記（１）の光学素子の製造方法によれ
ば、１個以上まとめてアニール処理して生産性を低下さ
せず、内部歪みを持たない高精度な光学素子を製造する
ことができる。
ば、１個以上まとめてアニール処理して生産性を低下さ
せず、内部歪みを持たない高精度な光学素子を製造する
ことができる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項１
の光学素子の製造方法によれば、生産効率を低下させる
ことなく、高精度な光学素子を精密プレスにより生産す
ることができる。
の光学素子の製造方法によれば、生産効率を低下させる
ことなく、高精度な光学素子を精密プレスにより生産す
ることができる。
【００３０】本発明の請求項２〜４の光学素子の製造方
法によれば、成形品の品質を維持し、生産性を向上させ
ることができる。
法によれば、成形品の品質を維持し、生産性を向上させ
ることができる。
【図１】本発明の実施の形態１に用いられる成形機構の
基本的構造を示す概略平面図である。
基本的構造を示す概略平面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に用いられる成形機構の
基本的構造を示す概略正面断面図である。
基本的構造を示す概略正面断面図である。
【図３】本発明の実施の形態２に用いられる成形機構の
基本的構造を示す概略平面図である。
基本的構造を示す概略平面図である。
１ ガラス素材
２ ホルダー
３ レール
４ 搬送装置
５ 加熱炉
６ 成形室
７，８ 成形用金型
９ 成形品
１０ 排出装置
１１ 保温炉
１２ 電気炉
Claims (4)
- 【請求項１】 加熱軟化したガラス素材を一対の成形用
金型を用いて押圧する光学素子の製造方法において、 ガラス素材を加熱する工程と、 加熱軟化したガラス素材を一対の温調された成形用金型
間に搬送し押圧成形・冷却する工程と、 成形用金型間で成形した光学素子を成形用金型から取り
出し、その光学素子を少なくとも１個以上まとめてアニ
ールする工程と、を備えたことを特徴とする光学素子の
製造方法。 - 【請求項２】 上記アニール工程において、光学素子を
アニールする上限温度を（ガラス転移点−６０℃）〜
（ガラス転移点−１０℃）の範囲内とすることを特徴と
する請求項１記載の光学素子の製造方法。 - 【請求項３】 上記アニール工程において、徐冷速度を
１回以上変化させることを特徴とする請求項１記載の光
学素子の製造方法。 - 【請求項４】 上記アニール工程において、光学素子を
アニールする時間を８〜２４時間とすることを特徴とす
る請求項１記載の光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001384062A JP2003183039A (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | 光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001384062A JP2003183039A (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | 光学素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN105712612A (zh) * | 2014-12-02 | 2016-06-29 | 江西省东程微玻科技有限公司 | 一种3d玻璃盖板的制作方法 |
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-
2001
- 2001-12-18 JP JP2001384062A patent/JP2003183039A/ja not_active Withdrawn
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|---|---|---|---|---|
| JP2007254234A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Olympus Corp | 光学素子成形用型の製造方法 |
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