JP2003180783A - トリートメント装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 例えばシミやホクロを除去するための美顔、
美肌などのトーリトメントを効率的且つ効果的に行う。 【解決手段】 トリートメント装置１のハンドリング装
置５には、ガラス管１４に対し着脱自在であると共に、
放電中のガラス管１４の表面に帯電した電荷を尖鋭部１
９を介して集中させる導電性のアタッチメント１５が用
意されている。これにより、ガラス管１４にアタッチメ
ント１５を装着した場合、比較的濃度の高いオゾンＯ₃
をトリートメント対象の部位に集中的に供給することが
でき、これによりホクロ、シミなどを短時間に、しかも
確実に除去することできる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、美肌、美顔などの
トリートメントを行う際に用いられるトリートメント装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、毛穴の黒ずみ、ニキビ、ホクロ、
シミ、ソバカスの除去などを含む美肌、美顔トリートメ
ントを行う美容機器としてオゾン生成型のトリートメン
ト装置が利用されている。

【０００３】このタイプのトリートメント装置では、例
えば高周波による微弱放電により、ガラス管の外形部周
辺にオゾンを生成させ、このガラス管で皮膚面をマッサ
ージすることで、表皮の奥の真皮を刺激して細胞の新陳
代謝を活発にし、ニキビ、毛穴の黒ずみなどの補修は勿
論、皮膚面の潤い感やハリを引き出すことができる。ま
た、この種のトリートメント装置は、生成されたオゾン
による肌の美白化作用や殺菌作用も有している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のトリートメント装置は、一般に０．００３ｐ
ｐｍ程度の比較的低い濃度のオゾンを、ガラス管の周辺
に生成するものであるため、皮膚面のホクロ、シミなど
を短時間で除去しようとする場合には、十分な機能を有
しているとは言えない。

【０００５】すなわち、ホクロ、シミなどの除去を目的
とするトリートメントを行う場合、ユーザの肌の疲労な
どを考慮すると、一日、２〜３分のトリートメント（放
電管による皮膚面のマッサージ）を数日間にわたって実
施する必要がある。このため、トリートメントに手間が
掛かり、また、ホクロ、シミなどの除去効果も不十分で
あった。

【０００６】そこで、本発明はこのような課題を解決す
るためになされたもので、例えばシミやホクロを除去す
るための美顔、美肌などのトーリトメントを効率的且つ
効果的に行うことのできるトリートメント装置を提供す
るものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るトリートメント装置は、皮膚面に接触
又は近接させて用いられる放電管と、前記放電管の周辺
にオゾンが生成されるように前記放電管に高電圧を印加
し放電を起こさせる高電圧印加手段と、前記放電管に対
し着脱自在に形成され、前記高電圧印加手段によって放
電させた前記放電管の表面に帯電する電荷を集中させる
電荷集中部を備えたアタッチメントとを具備することを
特徴とする。

【０００８】この発明のトリートメント装置は、放電管
にアタッチメントを装着することにより、放電管の表面
に帯電した電荷を電荷集中部を介して集中（放電管の外
形部周辺に放出された放電エネルギを集束）させること
が可能である。すなわち、この発明は、高電位のアタッ
チメントの電荷集中部から、この電荷集中部を近接させ
た低電位の皮膚面の所定の部位に比較的濃度の高いオゾ
ンを集中的に供給することができる。したがって、この
発明のトリートメント装置によれば、例えばホクロ、シ
ミ、ソバカスなどを短時間に、しかも効果的に除去する
ことが可能である。

【０００９】また、この発明のトリートメント装置は、
放電管にアタッチメントを装着しない使用形態では、外
形部周辺にオゾンが生成されたガラス管で皮膚面をマッ
サージすることなどで、皮膚面の比較的広い範囲にわた
ってのトリートメント（例えば顔全体に潤い感やハリを
引き出すトリートメント）を行える。一方、放電管にア
タッチメントを装着した使用形態では、前述したように
放電管表面の電荷を集中させることで、ホクロの除去な
ど、皮膚面の比較的狭い範囲を効率的にトリートメント
することができる。すなわち、この発明によれば、ユー
ザの使用目的に応じた最適なトリートメントを１台の装
置で実現することができる。

【００１０】また、本発明のトリートメント装置は、前
記電荷集中部が、前記アタッチメントの一端に尖鋭部と
して形成されていることを特徴とする。この発明のトリ
ートメント装置によれば、アタッチメントの尖鋭部を基
準にして、放電管表面に帯電した電荷を集中させつつこ
の電荷の放出方向に指向性を持たせることができるの
で、高密度の放電エネルギ（比較的高濃度に生成された
オゾン）でトリートメント対象の所望の部位を正確にト
リートメントすることができる。

【００１１】本発明のトリートメント装置は、前記尖鋭
部の尖鋭度合がそれぞれ異なる複数種のアタッチメント
を有することを特徴とする。この発明のトリートメント
装置によれば、尖鋭部の尖鋭度合（アタッチメント先端
の鋭さ）の異なるアタッチメントを複数の中から適宜選
択することで、アタッチメントによる放電管表面の電荷
集中の度合、すなわち一度に尖鋭部から皮膚面に放出さ
せる電荷の量を調整することができる。これにより、例
えば、ホクロの除去に適するアタッチメントや、アザの
除去に適するアタッチメントを予め用意しておくことに
より、用途に応じた最適なトリートメントを実現するこ
とができる。

【００１２】さらに、本発明のトリートメント装置は、
前記アタッチメントが、導電性材料により形成されてい
ることを特徴とする。この発明のトリートメント装置
は、導電性のアタッチメントにより、放電管表面に帯電
した電荷を効率良く集束できるので、一度に多くの電荷
を所望の部位に供給することができ、優れたトリートメ
ント効果を得ることができる。

【００１３】また、本発明のトリートメント装置は、前
記高電圧印加手段が、前記放電管に印加する電圧値を調
整可能であることを特徴とする。この発明のトリートメ
ント装置によれば、ニキビの修復、ソバカスの除去とい
ったトリートメントの種類に応じて、アタッチメントか
ら一度に放出させる電荷の量を適宜調整できるので、ユ
ーザが所望とする用途に応じた最適なトリートメントを
実現することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１は、本発明の実施形態に係るト
リートメント装置を示す斜視図、図２は、その主要部の
機能ブロック図である。これらの図に示すように、この
トリートメント装置１は、無声放電法を利用し、アザ、
ニキビ、ホクロ、シミ、ソバカスの除去などを含む美
肌、美顔トリートメントを行うためのオゾン生成型の美
容機器であって、コントロール装置２と、このコントロ
ール装置２に接続ケーブル３を通じて接続されるハンド
リング装置５とから構成される。

【００１５】コントロール装置２には、装置本体を稼動
させる電源や、例えば１０００Ｖ〜４０００Ｖ程度の高
電圧の高周波電流をハンドリング装置５に供給するため
の高電圧発生回路６などが内蔵されている。また、コン
トロール装置２の前面には、このトリートメント装置の
電源のオン／オフを行う電源スイッチ７と、電源のオン
／オフの状態を示すＬＥＤ８と、高電圧発生回路６から
ハンドリング装置５に供給すべき、高周波電流の電圧値
を調整するための電圧調整ツマミ９と、その調整された
電圧値を示す電圧計１０と、接続ケーブル３の接続端子
（プラグ）を取り付けるソケット１１などが設けられて
いる。

【００１６】ハンドリング装置５は、トリートメントを
実施する専門の施術者（又はユーザ）によって把持され
る把持部１２と、内部に不活性ガスである例えばネオン
ガス及びアルゴンガスなどの混合気体が封入され、把持
部１２の先端に例えばネジ込み式で装着される放電管と
してのガラス管１４と、このガラス管１４に対し着脱自
在に形成され、放電中のガラス管１４の表面に帯電した
電荷を集中させるアタッチメント１５とから主に構成さ
れる。

【００１７】高電圧発生回路６は、図２に示すように、
所定の高周波電流を出力する発振回路１６と、１次コイ
ル、２次コイルを対向させた変圧器などによって構成さ
れる昇電圧回路１７などを備えている。発振回路１６
は、電圧調整ツマミ９の回転と連動する可変抵抗器など
からなる電圧可変回路１６ａを有しており、発振回路１
６の１次コイルに例えば最大８Ｖ程度の高周波電流を供
給することが可能になっている。したがって、電圧調整
ツマミ９を適宜調整することにより、昇電圧回路１７の
２次コイルから例えば１０００Ｖ〜４０００Ｖ程度の電
圧をガラス管１４内の電極に印加することができる。こ
れにより、ガラス管１４で放電を引き起こすことでき、
ガラス管１４の表面に帯電した電荷により、ガラス管１
４の外形部周辺にオゾン（Ｏ₃）が生成される。

【００１８】本実施形態のトリートメント装置１では、
上記電圧調整ツマミ９を適宜調整することで、ニキビの
修復、ソバカスの除去といったトリートメントの種類に
応じて、アタッチメント１５から一度に放出させる電荷
の量を調節できるので、ユーザが所望とする用途に応じ
た最適なトリートメントを実現することができる。

【００１９】ガラス管１４の先端には、皮膚面Ｓに接触
（又は近接）させつつ皮膚面のマッサージなどを行うた
めの膨出部１８が形成されている。膨出部１８は、全体
としては板状に形成されており、その周縁は、皮膚面Ｓ
との接触感を考慮して丸みを帯びた状態に形成されてい
る。

【００２０】ここで、本実施形態のトリートメント装置
１が備えるアタッチメント１５について詳述する。アタ
ッチメント１５は、金属などの導電性材料、例えばアル
ミニウムの板材やアルミ箔（アルミホイル）などを中空
の略円錐形状に形成したものである。アタッチメント１
５の基端部は、図３に示すように、ガラス管１４の膨出
部１８と嵌合する形状に形成されている。アタッチメン
ト１５の先端部には、ガラス管１４の表面の電荷を集中
させて放出する電荷集中部としての尖鋭部１９が形成さ
れている。これにより、放電中のガラス管１４に装着さ
れている高電位のアタッチメント１５の尖鋭部１９か
ら、この尖鋭部１９を近接させた低電位の皮膚面Ｓの所
望の部位に比較的濃度の高いオゾンを集中的に供給する
ことが可能である。

【００２１】また、本実施形態のトリートメント装置１
が備えるアタッチメント１５は、尖鋭部１９の尖鋭度合
（アタッチメント先端の鋭さ）がそれぞれ異なった複数
種のアタッチメントが用意されている。本実施形態で
は、ホクロの除去用や、シミ除去用といったアタッチメ
ントが用意されている。例えば、ホクロの除去用のアタ
ッチメントは、その先端側（本実施形態では、ほぼ円
形）からみた直径が、０．１ｍｍ未満、好ましくは０．
０８ｍｍになるように形成されている。一方、シミ除去
用のアタッチメントは、その先端側（ほぼ円形）からみ
た直径が、０．１ｍｍ以上、好ましくは０．１５ｍｍに
なるように形成されている。

【００２２】これにより、複数の中から所望のトリート
メントに適するアタッチメントを適宜選択することで、
アタッチメント１５によるガラス管１４表面の電荷集中
の度合、すなわち一度に尖鋭部１９から皮膚面Ｓに放出
させる電荷の量を調整することができ、用途に応じた最
適なトリートメントを実現することができる。また、図
３に示すように、このようなアタッチメント１５の尖鋭
部１９を基準にして、ガラス管１４表面に帯電した電荷
を集中させつつこの電荷の放出方向に指向性を持たせる
ことができるので、トリートメント対象の所望の部位、
例えば皮膚面Ｓ上のホクロＨなどを高密度の放電エネル
ギ（比較的高濃度に生成されたオゾン）により確実に除
去することができる。

【００２３】また、本実施形態のトリートメント装置１
では、ガラス管１４にアタッチメント１５を装着しない
使用形態では、外形部周辺にオゾンが生成されたガラス
管１４の膨出部１８で皮膚面をマッサージすることなど
で、皮膚面Ｓの比較的広い範囲にわたってのトリートメ
ント、例えば顔全体に潤い感やハリを引き出すトリート
メントを行える。一方、ガラス管１４にアタッチメント
１５を装着した使用形態では、ガラス管１４の表面の電
荷を集中させることで、ホクロの除去など、皮膚面Ｓの
比較的狭い範囲を効率的にトリートメントすることがで
きる。すなわち、トリートメント装置１では、ユーザの
使用目的に応じた最適なトリートメントを１台の装置で
実現することができる。

【００２４】なお、アタッチメント１５を未使用の場
合、例えば１日、２〜３分のトリートメント（ガラス管
１４による皮膚面のマッサージ）を数日間にわたって実
施する。また、アタッチメント１５を使用する場合、ト
リートメントを３〜５秒程度で行うことが好ましい。

【００２５】このように、本実施形態のトリートメント
装置１によれば、ガラス管１４にアタッチメント１５を
装着することにより、ガラス管１４の表面に帯電した電
荷を尖鋭部１９を介して集中させることが可能なので、
高電位のアタッチメント１５の尖鋭部１９から、この尖
鋭部１９を近接させた低電位の皮膚面Ｓに比較的濃度の
高いオゾンを集中的に供給することができ、これにより
ホクロ、シミなどを短時間に、しかも確実に除去するこ
とできる。

【００２６】以上、本発明を実施の形態により具体的に
説明したが、本発明は前記実施形態にのみ限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
である。例えば、本実施形態では、アタッチメント１５
が、略円錐形状に形成されていたが、基端部から先端部
に向けて徐々に全体形状が細くなって行き、且つ先端部
が尖鋭な形状であれば、どのような形状であってもよ
い。

【００２７】また、導電特性の異なる材料で形成された
アタッチメントを複数用意しておき、これを適宜選択す
ることにより、ガラス管１４の表面から集中させる電荷
量の微調整を図り、用途に応じた最適なトリートメント
を実現できるようにしてもよい。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のトリート
メント装置によれば、放電管にアタッチメントを装着す
ることにより、この放電管の表面に帯電した電荷を電荷
集中部を介して集中させることができるので、比較的高
濃度のオゾンを皮膚面の所望の部位に集中的に供給する
ことが可能となり、これによりホクロ、シミなどを短時
間に、しかも確実に除去することできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係るトリートメント装置を
示す斜視図である。

【図２】図１のトリートメント装置における主要部の機
能ブロック図である。

【図３】図１のトリートメント装置のガラス管にアタッ
チメントを装着した使用形態を示す図である。

【符号の説明】

１…トリートメント装置、２…コントロール装置、５…
ハンドリング装置、６…高電圧発生回路、９…電圧調整
ツマミ、１４…ガラス管、１５…アタッチメント、１６
…発振回路、１６ａ…電圧可変回路、１７…昇電圧回
路、１８…ガラス管の膨出部、１９…アタッチメントの
尖鋭部、Ｈ…ホクロ、Ｓ…皮膚面。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C074 AA05 BB01 CC01 DD10 EE01 HH04

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 皮膚面に接触又は近接させて用いられる
   放電管と、 前記放電管の周辺にオゾンが生成されるように前記放電
   管に高電圧を印加し放電を起こさせる高電圧印加手段
   と、 前記放電管に対し着脱自在に形成され、前記高電圧印加
   手段によって放電させた前記放電管の表面に帯電する電
   荷を集中させる電荷集中部を備えたアタッチメントとを
   具備することを特徴とするトリートメント装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のトリートメント装置にお
   いて、 前記電荷集中部が、前記アタッチメントの一端に尖鋭部
   として形成されていることを特徴とするトリートメント
   装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載のトリートメント装置にお
   いて、 前記尖鋭部の尖鋭度合がそれぞれ異なる複数種のアタッ
   チメントを有することを特徴とするトリートメント装
   置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３いずれかに記載のトリ
   ートメント装置において、 前記アタッチメントが、導電性材料により形成されてい
   ることを特徴とするトリートメント装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４いずれかに記載のトリ
   ートメント装置において、 前記高電圧印加手段が、前記放電管に印加する電圧値を
   調整可能であることを特徴とするトリートメント装置。