JP2003171375A - Ｎ−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４ｈ−クロメン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体 - Google Patents
Ｎ−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４ｈ−クロメン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体Info
- Publication number
- JP2003171375A JP2003171375A JP2002278280A JP2002278280A JP2003171375A JP 2003171375 A JP2003171375 A JP 2003171375A JP 2002278280 A JP2002278280 A JP 2002278280A JP 2002278280 A JP2002278280 A JP 2002278280A JP 2003171375 A JP2003171375 A JP 2003171375A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- salt
- compound
- reaction
- phenoxyphenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、N− [３−（アシルアミノ）−４−
オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル]
アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法に
関するものである。 【解決手段】 【式１】 「式中、各記号は明細書に記載のとおりである。」 【効果】本発明の製造法は、抗炎症剤として有用なN−
[３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ
−４H−クロメン−７−イル] アルキルスルホンアミド
誘導体またはその塩の工業的製造法として有用である。
また、［I］および［II］の化合物は製造中間体として
有用である。
オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル]
アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法に
関するものである。 【解決手段】 【式１】 「式中、各記号は明細書に記載のとおりである。」 【効果】本発明の製造法は、抗炎症剤として有用なN−
[３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ
−４H−クロメン−７−イル] アルキルスルホンアミド
誘導体またはその塩の工業的製造法として有用である。
また、［I］および［II］の化合物は製造中間体として
有用である。
Description
【０００１】
【発明に属する技術分野】本発明は、抗炎症剤として有
用な一般式［１］
用な一般式［１］
【化５】
「式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を；Ｒ2は、低級アルキル基を；Ｒ5は、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアシル基を示す。」で
表されるN−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６
−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル］アルキルス
ルホンアミド誘導体またはその塩の工業的製造法に関す
る。
フェニル基を；Ｒ2は、低級アルキル基を；Ｒ5は、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアシル基を示す。」で
表されるN−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６
−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル］アルキルス
ルホンアミド誘導体またはその塩の工業的製造法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般式［１］の化合物の製造法として、
特開平２−４９７７８号、特開平５−９７８４０号およ
び特開平５−１２５０７２号に記載の方法が知られてい
る。
特開平２−４９７７８号、特開平５−９７８４０号およ
び特開平５−１２５０７２号に記載の方法が知られてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般式［１］の化合物
の中で、N−［３−（ホルミルアミノ）−４−オキソ−
６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル］メタンス
ルホンアミド（以下、Ｔ−６１４と称する。）は、抗炎
症剤として、さらには抗リウマチ薬としてとりわけ優れ
た化合物である。Ｔ−６１４の工業的製造法として、特
開平5-97840号および特開平5-125072号に記載の方法が
知られているが、さらに工業的に有利な製造法の開発が
求められていた。
の中で、N−［３−（ホルミルアミノ）−４−オキソ−
６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル］メタンス
ルホンアミド（以下、Ｔ−６１４と称する。）は、抗炎
症剤として、さらには抗リウマチ薬としてとりわけ優れ
た化合物である。Ｔ−６１４の工業的製造法として、特
開平5-97840号および特開平5-125072号に記載の方法が
知られているが、さらに工業的に有利な製造法の開発が
求められていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式［２］
め、本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式［２］
【化６】
「式中、Ｒ4は、水素原子またはアシル基を示し、Ｒ1、
Ｒ2およびＲ5は、上記と同様の意味を有する。」で表さ
れる新規なN−アシル−N−｛４−[２−（ジアシルアミ
ノ）アセチル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェ
ニル｝アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩を、
環形成化反応に付すことにより、N−［３−（アシルア
ミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメン
−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその
塩を製造することができ、さらにはこの方法が工業的に
とりわけ有利な方法であること、また、一般式［２］を
製造するために、次の一般式［６］
Ｒ2およびＲ5は、上記と同様の意味を有する。」で表さ
れる新規なN−アシル−N−｛４−[２−（ジアシルアミ
ノ）アセチル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェ
ニル｝アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩を、
環形成化反応に付すことにより、N−［３−（アシルア
ミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメン
−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその
塩を製造することができ、さらにはこの方法が工業的に
とりわけ有利な方法であること、また、一般式［２］を
製造するために、次の一般式［６］
【０００５】
【化７】
「式中、Ｒ3aは、低級アルキル基を；Ｘは、ハロゲン原
子をそれぞれ示し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は、上記と同様
の意味を有する。」で表される新規なN−アシル−N−
[４−（２−ハロアセチル）−５−アルコキシ−２−フ
ェノキシフェニル]アルキルスルホンアミド誘導体がそ
の原料として好ましい化合物であることを見出し、本発
明を完成させた。以下、本発明の製造方法について説明
する。
子をそれぞれ示し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は、上記と同様
の意味を有する。」で表される新規なN−アシル−N−
[４−（２−ハロアセチル）−５−アルコキシ−２−フ
ェノキシフェニル]アルキルスルホンアミド誘導体がそ
の原料として好ましい化合物であることを見出し、本発
明を完成させた。以下、本発明の製造方法について説明
する。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において特に断らない限り、ハロゲン原子とは、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を；低級ア
ルキル基とは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、
イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、te
rt-ブチル、ペンチル、などのＣ1-5アルキル基を；アシ
ル基とは、例えば、ホルミルまたはアセチル、プロピオ
ニルおよびブチリルなどのＣ2-8アルカノイル基をそれ
ぞれ意味する。
において特に断らない限り、ハロゲン原子とは、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を；低級ア
ルキル基とは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、
イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、te
rt-ブチル、ペンチル、などのＣ1-5アルキル基を；アシ
ル基とは、例えば、ホルミルまたはアセチル、プロピオ
ニルおよびブチリルなどのＣ2-8アルカノイル基をそれ
ぞれ意味する。
【０００７】次に、本発明の製造方法について説明す
る。
る。
【式１】
【０００８】「式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を；Ｒ2は、低級アルキル基
を；Ｒ4は、水素原子またはアシル基を；Ｒ5は、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよいアシル基を、それぞれ示
す。」
ていてもよいフェニル基を；Ｒ2は、低級アルキル基
を；Ｒ4は、水素原子またはアシル基を；Ｒ5は、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよいアシル基を、それぞれ示
す。」
【０００９】一般式［２］の化合物またはその塩を環形
成化反応に付すことにより一般式［１］の化合物または
その塩を製造することができる。この反応においては、
反応と同時に2個のＲ5のうち1個が脱アシルする。ま
た、Ｒ4がアシル基である一般式［２］の化合物を用い
た場合、反応と同時にＲ4のアシル基に脱アシル化反応
が起こる。この反応には、環化縮合剤が用いられるが、
その環化縮合剤としては、例えば、Ｎ,Ｎ-ジメチルホル
ムアミドジメチルアセタール、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミドジエチルアセタールなどのＮ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミドジ低級アルキルアセタール；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルム
アミドジシクロヘキシルアセタール；オルトギ酸メチ
ル、オルトギ酸エチルなどのオルトギ酸エステルとピリ
ジンまたは無水酢酸との組み合せ；オキシ塩化リンと
Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミドとの組み合せによるビルス
マイヤー試薬；およびギ酸と酢酸との混合酸無水物とギ
酸ナトリウムとの組み合せなどが挙げられ、これらは、
反応系内で調整して用いてもよい。この反応に使用され
る溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれ
ばよく、例えば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類；塩化メチレンなどのハロゲン化炭
化水素類；メタノール、エタノールなどのアルコール
類；テトラヒドロフラン、１,２-ジメトキシエタンおよ
びジオキサンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエンお
よびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミドなどのアミド類；酢酸エチルなどのエステル類；ア
セトンなどのケトン類；並びにアセトニトリルなどのニ
トリル類などが挙げられ、これらの溶媒は、混合して使
用してもよい。また、環化縮合剤を過剰量用いることに
よって、溶媒兼用とすることもできる。この反応におい
て、副反応を抑制するためにトリエチルアミンなどの塩
基を添加してもよい。環化縮合剤の使用量は、一般式
［２］の化合物またはその塩に対し、1〜10倍モルであ
る。また、塩基の使用量は、一般式［２］の化合物また
はその塩に対し、１倍モル以上、好ましくは、1〜2倍モ
ルである。この反応は、通常、−20〜150℃、好ましく
は、0〜100℃で、10分〜24時間実施すればよい。
成化反応に付すことにより一般式［１］の化合物または
その塩を製造することができる。この反応においては、
反応と同時に2個のＲ5のうち1個が脱アシルする。ま
た、Ｒ4がアシル基である一般式［２］の化合物を用い
た場合、反応と同時にＲ4のアシル基に脱アシル化反応
が起こる。この反応には、環化縮合剤が用いられるが、
その環化縮合剤としては、例えば、Ｎ,Ｎ-ジメチルホル
ムアミドジメチルアセタール、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミドジエチルアセタールなどのＮ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミドジ低級アルキルアセタール；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルム
アミドジシクロヘキシルアセタール；オルトギ酸メチ
ル、オルトギ酸エチルなどのオルトギ酸エステルとピリ
ジンまたは無水酢酸との組み合せ；オキシ塩化リンと
Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミドとの組み合せによるビルス
マイヤー試薬；およびギ酸と酢酸との混合酸無水物とギ
酸ナトリウムとの組み合せなどが挙げられ、これらは、
反応系内で調整して用いてもよい。この反応に使用され
る溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれ
ばよく、例えば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類；塩化メチレンなどのハロゲン化炭
化水素類；メタノール、エタノールなどのアルコール
類；テトラヒドロフラン、１,２-ジメトキシエタンおよ
びジオキサンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエンお
よびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミドなどのアミド類；酢酸エチルなどのエステル類；ア
セトンなどのケトン類；並びにアセトニトリルなどのニ
トリル類などが挙げられ、これらの溶媒は、混合して使
用してもよい。また、環化縮合剤を過剰量用いることに
よって、溶媒兼用とすることもできる。この反応におい
て、副反応を抑制するためにトリエチルアミンなどの塩
基を添加してもよい。環化縮合剤の使用量は、一般式
［２］の化合物またはその塩に対し、1〜10倍モルであ
る。また、塩基の使用量は、一般式［２］の化合物また
はその塩に対し、１倍モル以上、好ましくは、1〜2倍モ
ルである。この反応は、通常、−20〜150℃、好ましく
は、0〜100℃で、10分〜24時間実施すればよい。
【００１０】一般式［２］および［１］の化合物の塩と
しては、通常知られている酸性基における塩を挙げるこ
とができる。酸性基における塩としては、例えば、ナト
リウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カル
シウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩；アンモニウム塩；トリエチルアミンおよびピリジン
などのアミン類との塩；リジンおよびアルギニンなどの
アミノ酸との塩などが挙げられる。
しては、通常知られている酸性基における塩を挙げるこ
とができる。酸性基における塩としては、例えば、ナト
リウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カル
シウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩；アンモニウム塩；トリエチルアミンおよびピリジン
などのアミン類との塩；リジンおよびアルギニンなどの
アミノ酸との塩などが挙げられる。
【００１１】次に、本発明製造法の原料である一般式
［２］の化合物またはその塩の製法について説明する。
［２］の化合物またはその塩の製法について説明する。
【００１２】
【式２】
【００１３】「式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を；Ｒ2およびＲ3は、同一また
は異なって低級アルキル基を；Ｒ4aは、アシル基を；Ｒ
5は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアシル基
を；Ｘはハロゲン原子を、それぞれ示す。」
ていてもよいフェニル基を；Ｒ2およびＲ3は、同一また
は異なって低級アルキル基を；Ｒ4aは、アシル基を；Ｒ
5は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアシル基
を；Ｘはハロゲン原子を、それぞれ示す。」
【００１４】一般式［３］、［６ｂ］、［８ｂ］および
［２ｂ］の化合物の塩としては、通常知られている酸性
基における塩を挙げることができる。酸性基における塩
としては、例えば、ナトリウムおよびカリウムなどのア
ルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなど
のアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリエチ
ルアミンおよびピリジンなどのアミン類との塩；リジン
およびアルギニンなどのアミノ酸との塩などが挙げられ
る。
［２ｂ］の化合物の塩としては、通常知られている酸性
基における塩を挙げることができる。酸性基における塩
としては、例えば、ナトリウムおよびカリウムなどのア
ルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなど
のアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリエチ
ルアミンおよびピリジンなどのアミン類との塩；リジン
およびアルギニンなどのアミノ酸との塩などが挙げられ
る。
【００１５】（１）一般式［５］の化合物の製法
一般式［３］の化合物またはその塩に一般式［４］の化
合物またはその反応性誘導体を反応させることにより、
一般式［５］の化合物を製造することができる。一般式
［４］の化合物の反応性誘導体としては、活性エステ
ル、酸塩化物、活性酸アミド、酸無水物および混合酸無
水物が挙げられる。この反応に使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであればよく、例え
ば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素類；塩化メチレンおよび１,２-ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、１,２-
ジメトキシエタンおよびジオキサンなどのエーテル類；
ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
素類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；N,
N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エチルな
どのエステル類；アセトンなどのケトン類；アセトニト
リルなどのニトリル類；並びに水などが挙げられ、これ
らの溶媒は、混合して使用してもよい。この反応におい
ては塩基を用いることができ、その塩基としては、例え
ば、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭
酸水素塩；トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機
塩基などが挙げられる。一般式［４］の化合物、その反
応性誘導体および塩基の使用量は、一般式［３］の化合
物またはその塩に対して、1倍モル以上、好ましくは、1
〜2倍モルである。この反応は通常、−50〜150℃、好ま
しくは、−20〜100℃で、10分〜24時間実施すればよ
い。得られた一般式［５］の化合物は、単離せずにその
まま次の反応に用いてもよい。一般式［３］の化合物ま
たはその塩は、例えば、特開平2-49778号に記載の方法
で製造すればよい。
合物またはその反応性誘導体を反応させることにより、
一般式［５］の化合物を製造することができる。一般式
［４］の化合物の反応性誘導体としては、活性エステ
ル、酸塩化物、活性酸アミド、酸無水物および混合酸無
水物が挙げられる。この反応に使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであればよく、例え
ば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素類；塩化メチレンおよび１,２-ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、１,２-
ジメトキシエタンおよびジオキサンなどのエーテル類；
ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
素類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；N,
N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エチルな
どのエステル類；アセトンなどのケトン類；アセトニト
リルなどのニトリル類；並びに水などが挙げられ、これ
らの溶媒は、混合して使用してもよい。この反応におい
ては塩基を用いることができ、その塩基としては、例え
ば、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭
酸水素塩；トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機
塩基などが挙げられる。一般式［４］の化合物、その反
応性誘導体および塩基の使用量は、一般式［３］の化合
物またはその塩に対して、1倍モル以上、好ましくは、1
〜2倍モルである。この反応は通常、−50〜150℃、好ま
しくは、−20〜100℃で、10分〜24時間実施すればよ
い。得られた一般式［５］の化合物は、単離せずにその
まま次の反応に用いてもよい。一般式［３］の化合物ま
たはその塩は、例えば、特開平2-49778号に記載の方法
で製造すればよい。
【００１６】（２）一般式［６ｂ］の化合物またはその
塩の製法 一般式［３］の化合物またはその塩に、ハロゲン化剤を
反応させることにより、一般式［６ｂ］の化合物または
その塩を製造することができる。この反応に使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば
よく、例えば、塩化メチレンおよび１,２-ジクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；メタノールおよびエタ
ノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、１,
２-ジメトキシエタンおよびジオキサンなどのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類；塩化水素および臭化
水素などのハロゲン化水素類；酢酸およびギ酸などの有
機酸；塩酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸などが挙
げられ、これらの溶媒は、混合して使用してもよい。こ
の反応に使用されるハロゲン化剤としては、例えば、塩
素、臭素、スルフリルクロリド、ピリジニウハイドロブ
ロミド パーブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム トリブロミドなどが挙げられる。この反応は，塩化
アルミニウムなどのルイス酸存在下に行うのが好まし
い。ハロゲン化剤の使用量は、一般式［３］の化合物ま
たはその塩に対して、１倍モル以上、好ましくは、１〜
２倍モルである。また、ルイス酸の使用量は、0.001〜1
倍モル、好ましくは、0.05〜0.2倍モルである。この反
応は通常、−20〜100℃、好ましくは、0〜50℃で、10分
〜24時間実施すればよい。得られた一般式［６ｂ］の化
合物またはその塩は、単離せずにそのまま次の反応に用
いてもよい。
塩の製法 一般式［３］の化合物またはその塩に、ハロゲン化剤を
反応させることにより、一般式［６ｂ］の化合物または
その塩を製造することができる。この反応に使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば
よく、例えば、塩化メチレンおよび１,２-ジクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；メタノールおよびエタ
ノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、１,
２-ジメトキシエタンおよびジオキサンなどのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類；塩化水素および臭化
水素などのハロゲン化水素類；酢酸およびギ酸などの有
機酸；塩酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸などが挙
げられ、これらの溶媒は、混合して使用してもよい。こ
の反応に使用されるハロゲン化剤としては、例えば、塩
素、臭素、スルフリルクロリド、ピリジニウハイドロブ
ロミド パーブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム トリブロミドなどが挙げられる。この反応は，塩化
アルミニウムなどのルイス酸存在下に行うのが好まし
い。ハロゲン化剤の使用量は、一般式［３］の化合物ま
たはその塩に対して、１倍モル以上、好ましくは、１〜
２倍モルである。また、ルイス酸の使用量は、0.001〜1
倍モル、好ましくは、0.05〜0.2倍モルである。この反
応は通常、−20〜100℃、好ましくは、0〜50℃で、10分
〜24時間実施すればよい。得られた一般式［６ｂ］の化
合物またはその塩は、単離せずにそのまま次の反応に用
いてもよい。
【００１７】（３）一般式［６ａ］の化合物の製法
一般式［５］の化合物に、ハロゲン化剤を反応させるこ
とにより、一般式［６ａ］の化合物を製造することがで
きる。この反応は、上記の「（２）一般式［６ｂ］の化
合物またはその塩の製法」と同様の方法で行えばよい。
別法として、一般式［６ｂ］の化合物またはその塩に一
般式［４］の化合物またはその反応性誘導体を反応させ
ることにより製造することができる。この反応は、上記
の「（１）一般式［５］の化合物の製法」と同様の方法
で行えばよい。得られた一般式［６ａ］の化合物は、単
離せずにそのまま次の反応に用いてもよい。
とにより、一般式［６ａ］の化合物を製造することがで
きる。この反応は、上記の「（２）一般式［６ｂ］の化
合物またはその塩の製法」と同様の方法で行えばよい。
別法として、一般式［６ｂ］の化合物またはその塩に一
般式［４］の化合物またはその反応性誘導体を反応させ
ることにより製造することができる。この反応は、上記
の「（１）一般式［５］の化合物の製法」と同様の方法
で行えばよい。得られた一般式［６ａ］の化合物は、単
離せずにそのまま次の反応に用いてもよい。
【００１８】（４）一般式［８ｂ］の化合物またはその
塩の製法 一般式[６ｂ]の化合物またはその塩に、一般式［７］の
化合物のアルカリ金属塩または有機塩基塩を反応させる
ことにより、一般式［８ｂ］の化合物またはその塩を製
造することができる。具体的には、例えば、シンセシス
(Synthesis）、第112頁、1990年に記載の方法により合
成できる。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさないものであればよく、例えば、n-ヘキ
サンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；テ
トラヒドロフラン、１,２-ジメトキシエタンおよびジオ
キサンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエンおよびキ
シレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類；N,N-ジメチルホルムアミドなど
のアミド類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトンな
どのケトン類；並びにアセトニトリルなどのニトリル類
などが挙げられ、これらの溶媒は、混合して使用しても
よい。一般式［７］の化合物のアルカリ金属塩として
は、例えば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属
との塩が挙げられる。一般式［７］の化合物の有機塩基
塩としては、例えば、トリエチルアミンなどの有機塩基
との塩が挙げられる。一般式［７］の化合物のアルカリ
金属塩または有機塩基塩の使用量は、一般式［６ｂ］の
化合物またはその塩に対して、1モル以上、好ましく
は、1〜2倍モルである。この反応は、通常、−20〜150
℃、好ましくは、0〜100℃で、10分〜24時間実施すれば
よい。一般式［７］の化合物のアルカリ金属塩または有
機塩基塩は、用時調整してもよい。この反応を実施する
にあたり、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムまたは臭
化ナトリウム、臭化カリウムなどを反応促進剤として添
加してもよく、その添加量は、一般式［６ｂ］の化合物
またはその塩に対して、0.1〜1.5倍モルである。得られ
た一般式［８ｂ］の化合物またはその塩は、単離せずに
そのまま次の反応に用いてもよい。
塩の製法 一般式[６ｂ]の化合物またはその塩に、一般式［７］の
化合物のアルカリ金属塩または有機塩基塩を反応させる
ことにより、一般式［８ｂ］の化合物またはその塩を製
造することができる。具体的には、例えば、シンセシス
(Synthesis）、第112頁、1990年に記載の方法により合
成できる。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさないものであればよく、例えば、n-ヘキ
サンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；テ
トラヒドロフラン、１,２-ジメトキシエタンおよびジオ
キサンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエンおよびキ
シレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類；N,N-ジメチルホルムアミドなど
のアミド類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトンな
どのケトン類；並びにアセトニトリルなどのニトリル類
などが挙げられ、これらの溶媒は、混合して使用しても
よい。一般式［７］の化合物のアルカリ金属塩として
は、例えば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属
との塩が挙げられる。一般式［７］の化合物の有機塩基
塩としては、例えば、トリエチルアミンなどの有機塩基
との塩が挙げられる。一般式［７］の化合物のアルカリ
金属塩または有機塩基塩の使用量は、一般式［６ｂ］の
化合物またはその塩に対して、1モル以上、好ましく
は、1〜2倍モルである。この反応は、通常、−20〜150
℃、好ましくは、0〜100℃で、10分〜24時間実施すれば
よい。一般式［７］の化合物のアルカリ金属塩または有
機塩基塩は、用時調整してもよい。この反応を実施する
にあたり、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムまたは臭
化ナトリウム、臭化カリウムなどを反応促進剤として添
加してもよく、その添加量は、一般式［６ｂ］の化合物
またはその塩に対して、0.1〜1.5倍モルである。得られ
た一般式［８ｂ］の化合物またはその塩は、単離せずに
そのまま次の反応に用いてもよい。
【００１９】（５）一般式［８ａ］の化合物の製法
一般式［６ａ］の化合物に、一般式［７］の化合物のア
ルカリ金属塩または有機塩基塩を反応させることによ
り、一般式［８ａ］の化合物を製造することができる。
この反応は、上記の「（４）一般式［８ｂ］の化合物ま
たはその塩の製法」と同様の方法で行えばよい。得られ
た一般式［８ａ］の化合物は、単離せずにそのまま次の
反応に用いてもよい。
ルカリ金属塩または有機塩基塩を反応させることによ
り、一般式［８ａ］の化合物を製造することができる。
この反応は、上記の「（４）一般式［８ｂ］の化合物ま
たはその塩の製法」と同様の方法で行えばよい。得られ
た一般式［８ａ］の化合物は、単離せずにそのまま次の
反応に用いてもよい。
【００２０】（６）一般式［２ｂ］の化合物またはその
塩の製法 一般式［８ｂ］の化合物またはその塩を脱アルキル化反
応に付すことにより、一般式［２ｂ］の化合物またはそ
の塩を製造することができる。 （６−１）具体的には、プロテクティブ・グループス・
イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups
in Organic Synthesis ティー・ダブリュー・グリーン
（T.W.Green）著、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ
社（John Wiley &Sons,Inc.）、第145-162頁、1991年；
ケミカル・ファーマシューティカル・ブレチン（Chem.P
harm.Bull.）、第31巻、第4178頁、1983年に記載の方法
などにより行えばよい。この反応に使用される溶媒とし
ては、アセトニトリルなどのニトリル類が好ましいが、
反応に悪影響を及ぼさないものであれば溶媒を混合して
もよく、例えば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類；メタノールおよびエタノールなど
のアルコール類、テトラヒドロフラン、１,２-ジメトキ
シエタンおよびジオキサンなどのエーテル類；ベンゼ
ン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；
ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；N,N-ジメ
チルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エチルなどのエ
ステル類；アセトンなどのケトン類が挙げられる。脱ア
ルキル化剤としては、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ムなどのヨウ素化物と塩化アルミニウムの組み合せなど
が挙げられる。ヨウ素化合物の使用量は、一般式［8
ｂ］の化合物またはその塩に対して1〜4倍モル；塩化ア
ルミニウムの使用量は、一般式［８ｂ］の化合物に対し
て、1〜4倍モルであればよい。この反応は、通常、−20
〜100℃、好ましくは、0〜50℃で、10分〜24時間実施す
ればよい。得られた一般式［２ｂ］の化合物またはその
塩は、単離せずにそのまま次の反応に用いてもよい。
塩の製法 一般式［８ｂ］の化合物またはその塩を脱アルキル化反
応に付すことにより、一般式［２ｂ］の化合物またはそ
の塩を製造することができる。 （６−１）具体的には、プロテクティブ・グループス・
イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups
in Organic Synthesis ティー・ダブリュー・グリーン
（T.W.Green）著、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ
社（John Wiley &Sons,Inc.）、第145-162頁、1991年；
ケミカル・ファーマシューティカル・ブレチン（Chem.P
harm.Bull.）、第31巻、第4178頁、1983年に記載の方法
などにより行えばよい。この反応に使用される溶媒とし
ては、アセトニトリルなどのニトリル類が好ましいが、
反応に悪影響を及ぼさないものであれば溶媒を混合して
もよく、例えば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類；メタノールおよびエタノールなど
のアルコール類、テトラヒドロフラン、１,２-ジメトキ
シエタンおよびジオキサンなどのエーテル類；ベンゼ
ン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；
ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；N,N-ジメ
チルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エチルなどのエ
ステル類；アセトンなどのケトン類が挙げられる。脱ア
ルキル化剤としては、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ムなどのヨウ素化物と塩化アルミニウムの組み合せなど
が挙げられる。ヨウ素化合物の使用量は、一般式［8
ｂ］の化合物またはその塩に対して1〜4倍モル；塩化ア
ルミニウムの使用量は、一般式［８ｂ］の化合物に対し
て、1〜4倍モルであればよい。この反応は、通常、−20
〜100℃、好ましくは、0〜50℃で、10分〜24時間実施す
ればよい。得られた一般式［２ｂ］の化合物またはその
塩は、単離せずにそのまま次の反応に用いてもよい。
【００２１】（６−２）別法として、溶媒に芳香族炭化
水素類またはニトロ化合物類；脱アルキル化剤として塩
化アルミニウムをそれぞれ使用し、一般式［２ｂ］の化
合物またはその塩を製造することができる。この反応に
使用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンおよびアニソールなどの芳香族炭化水素類またはニト
ロメタンおよびニトロエタンなどのニトロ化合物類が好
ましく、また、反応に悪影響を及ぼさないものであれ
ば、例えば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂
肪族炭化水素類；塩化メチレンおよび１,２-ジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラ
ン、１,２-ジメトキシエタンおよびジオキサンなどのエ
ーテル類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド
類；N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エ
チルなどのエステル類；アセトンなどのケトン類などを
混合して使用してもよい。塩化アルミニウムの使用量
は、一般式［８ｂ］の化合物またはその塩に対して、1
〜4倍モルであればよい。この反応は、通常、−20〜150
℃、好ましくは、0〜100℃で、10分〜24時間実施すれば
よい。得られた一般式［２ｂ］の化合物またはその塩
は、単離せずにそのまま次の反応に用いてもよい。
水素類またはニトロ化合物類；脱アルキル化剤として塩
化アルミニウムをそれぞれ使用し、一般式［２ｂ］の化
合物またはその塩を製造することができる。この反応に
使用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンおよびアニソールなどの芳香族炭化水素類またはニト
ロメタンおよびニトロエタンなどのニトロ化合物類が好
ましく、また、反応に悪影響を及ぼさないものであれ
ば、例えば、n-ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂
肪族炭化水素類；塩化メチレンおよび１,２-ジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラ
ン、１,２-ジメトキシエタンおよびジオキサンなどのエ
ーテル類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド
類；N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エ
チルなどのエステル類；アセトンなどのケトン類などを
混合して使用してもよい。塩化アルミニウムの使用量
は、一般式［８ｂ］の化合物またはその塩に対して、1
〜4倍モルであればよい。この反応は、通常、−20〜150
℃、好ましくは、0〜100℃で、10分〜24時間実施すれば
よい。得られた一般式［２ｂ］の化合物またはその塩
は、単離せずにそのまま次の反応に用いてもよい。
【００２２】（７）一般式［２ａ］の化合物の製法
一般式［８ａ］の化合物を脱アルキル化することによ
り、一般式［２ａ］の化合物を製造することができる。
この反応は、上記の「（６）一般式［２ｂ］の化合物ま
たはその塩の製法」と同様の方法で行えばよい。得られ
た一般式［２a］の化合物は、単離せずにそのまま次の
反応に用いてもよい。
り、一般式［２ａ］の化合物を製造することができる。
この反応は、上記の「（６）一般式［２ｂ］の化合物ま
たはその塩の製法」と同様の方法で行えばよい。得られ
た一般式［２a］の化合物は、単離せずにそのまま次の
反応に用いてもよい。
【００２３】
【実施例】次に、本発明を参考例および実施例を挙げて
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、溶離液における混合比は、全て容量比であ
る。また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、
BW-127ZH（富士シリシア化学社製）を用いた。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、溶離液における混合比は、全て容量比であ
る。また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、
BW-127ZH（富士シリシア化学社製）を用いた。
【００２４】参考例１
N−(４−アセチル−５−メトキシ−２−フェノキシフェ
ニル）メタンスルホンアミド10.0gをジクロロメタン50m
L溶解し、この溶液に、トリエチルアミン4.6mL、次いで
氷冷下、アセチルクロライド2.2 mLを滴下して加え、さ
らに氷冷で30分間攪拌する。反応混合物に水を加え攪拌
後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物に、イソプロパノールおよ
び水を加え、析出物を濾取し、N−アセチル−N−(４−
アセチル−５−メトキシ−２−フェノキシフェニル)メ
タンスルホンアミド9.7 gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.11(3H,s), 2.61(3H,s), 3.26(3H,s),
3.96(3H,s), 6.96-7.38(7H,m)
ニル）メタンスルホンアミド10.0gをジクロロメタン50m
L溶解し、この溶液に、トリエチルアミン4.6mL、次いで
氷冷下、アセチルクロライド2.2 mLを滴下して加え、さ
らに氷冷で30分間攪拌する。反応混合物に水を加え攪拌
後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物に、イソプロパノールおよ
び水を加え、析出物を濾取し、N−アセチル−N−(４−
アセチル−５−メトキシ−２−フェノキシフェニル)メ
タンスルホンアミド9.7 gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.11(3H,s), 2.61(3H,s), 3.26(3H,s),
3.96(3H,s), 6.96-7.38(7H,m)
【００２５】参考例２
N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メトキシ−２−フ
ェノキシフェニル]メタンスルホンアミド20.0gをジクロ
ロメタン100mLに溶解し、この溶液に、トリエチルアミ
ン8.3mL、次いで氷冷下、アセチルクロライド4.0mLを滴
下して加え、さらに氷冷で30分間攪拌する。反応混合物
に水を加え攪拌後、有機層を分取する。分取した有機層
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物にイソプ
ロパノールおよび水を加え、析出物を濾取し、N−アセ
チル−N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メトキシ−
２−フェノキシフェニル]メタンスルホンアミド21.6gを
得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.12(3H,s), 3.28(3H,s), 3.99(3H,s),
4.76(2H,s), 6.98-7.55(7H,m)
ェノキシフェニル]メタンスルホンアミド20.0gをジクロ
ロメタン100mLに溶解し、この溶液に、トリエチルアミ
ン8.3mL、次いで氷冷下、アセチルクロライド4.0mLを滴
下して加え、さらに氷冷で30分間攪拌する。反応混合物
に水を加え攪拌後、有機層を分取する。分取した有機層
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物にイソプ
ロパノールおよび水を加え、析出物を濾取し、N−アセ
チル−N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メトキシ−
２−フェノキシフェニル]メタンスルホンアミド21.6gを
得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.12(3H,s), 3.28(3H,s), 3.99(3H,s),
4.76(2H,s), 6.98-7.55(7H,m)
【００２６】参考例３
N−(４−アセチル−５−メトキシ−２−フェノキシフェ
ニル)メタンスルホンアミド10.0gをジクロロメタン60mL
に溶解し、この溶液に、塩化アルミニウム0.40g、メタ
ノール1.3mLを加え、次いで氷冷下、スルフリルクロラ
イド2.6mLを含むジクロロメタン20mL溶液を滴下して加
え、さらに氷冷で30分間攪拌する。反応混合物を氷水中
に加え、次いで6mol/L塩酸10mLを加え攪拌後、有機層を
分取する。分取した有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物にイソプロパノールおよび水を加え析出
物を濾取し、N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メト
キシ−２−フェノキシフェニル]メタンスルホンアミド
8.9 gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.06(3H,s), 3.99(3H,s), 4.75(2H,s),
6.93-7.55(8H,m)
ニル)メタンスルホンアミド10.0gをジクロロメタン60mL
に溶解し、この溶液に、塩化アルミニウム0.40g、メタ
ノール1.3mLを加え、次いで氷冷下、スルフリルクロラ
イド2.6mLを含むジクロロメタン20mL溶液を滴下して加
え、さらに氷冷で30分間攪拌する。反応混合物を氷水中
に加え、次いで6mol/L塩酸10mLを加え攪拌後、有機層を
分取する。分取した有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物にイソプロパノールおよび水を加え析出
物を濾取し、N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メト
キシ−２−フェノキシフェニル]メタンスルホンアミド
8.9 gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.06(3H,s), 3.99(3H,s), 4.75(2H,s),
6.93-7.55(8H,m)
【００２７】参考例４
N−アセチル−N−(４−アセチル−５−メトキシ−２−
フェノキシフェニル)メタンスルホンアミド3.0gをジク
ロロメタン18mLに溶解し、この溶液に、塩化アルミニウ
ム0.11g、メタノール0.35mLを加え、次いで氷冷下スル
フリルクロライド1.4mLを含むジクロロメタン6 mL溶液
を滴下して加え、さらに氷冷で 30 分間攪拌する。反応
混合物を氷水中に加え、次いで6mol/L塩酸5 mLを加え攪
拌後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物にイソプロパノールを加
え析出物を濾取し、N−アセチル−N−[４−（２−クロ
ロアセチル）−５−メトキシ−２−フェノキシフェニ
ル]メタンスルホンアミド2.9gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.12(3H,s), 3.28(3H,s), 3.99(3H,s),
4.76(2H,s), 6.98-7.55(7H,m)
フェノキシフェニル)メタンスルホンアミド3.0gをジク
ロロメタン18mLに溶解し、この溶液に、塩化アルミニウ
ム0.11g、メタノール0.35mLを加え、次いで氷冷下スル
フリルクロライド1.4mLを含むジクロロメタン6 mL溶液
を滴下して加え、さらに氷冷で 30 分間攪拌する。反応
混合物を氷水中に加え、次いで6mol/L塩酸5 mLを加え攪
拌後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物にイソプロパノールを加
え析出物を濾取し、N−アセチル−N−[４−（２−クロ
ロアセチル）−５−メトキシ−２−フェノキシフェニ
ル]メタンスルホンアミド2.9gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.12(3H,s), 3.28(3H,s), 3.99(3H,s),
4.76(2H,s), 6.98-7.55(7H,m)
【００２８】参考例５
N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メトキシ−２−フ
ェノキシフェニル]メタンスルホンアミド4.0gをＮ、Ｎ-
ジメチルホルムアミド16mLに溶解し、この溶液に、ジホ
ルミルイミドナトリウム2.5gを加えた後、70℃に昇温し
3時間攪拌する。室温まで冷却した後、反応混合物に酢
酸エチル4mLおよび水40mLを添加し、2mol/L塩酸をゆっ
くり滴下してpH2に調整し撹拌する。析出物を濾取し、N
−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−メト
キシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホンアミド
3.9gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.06(3H,s), 4.01(3H,s), 4.99(2H,s),
6.94-7.56(8H,m), 8.97(2H,s)
ェノキシフェニル]メタンスルホンアミド4.0gをＮ、Ｎ-
ジメチルホルムアミド16mLに溶解し、この溶液に、ジホ
ルミルイミドナトリウム2.5gを加えた後、70℃に昇温し
3時間攪拌する。室温まで冷却した後、反応混合物に酢
酸エチル4mLおよび水40mLを添加し、2mol/L塩酸をゆっ
くり滴下してpH2に調整し撹拌する。析出物を濾取し、N
−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−メト
キシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホンアミド
3.9gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.06(3H,s), 4.01(3H,s), 4.99(2H,s),
6.94-7.56(8H,m), 8.97(2H,s)
【００２９】参考例６
N−アセチル−N−[４−(２−クロロアセチル)−５−メ
トキシ−２−フェノキシフェニル]メタンスルホンアミ
ド10.0gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド50mLに溶解し、
この溶液に、ジホルミルイミドナトリウム3.5g、次いで
ヨウ化ナトリウム4.4gを加え、室温で3時間攪拌する。
反応混合物に水100 mL、酢酸エチル100mLを加え攪拌
後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、N
−アセチル−N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチ
ル]−５−メトキシ−２−フェノキシフェニル}メタンス
ルホンアミド9.07gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.10(3H,s), 3.27(3H,s), 4.03(3H,s),
5.03(2H,s), 6.98- 7.54(7H,m), 8.97(2H,s)
トキシ−２−フェノキシフェニル]メタンスルホンアミ
ド10.0gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド50mLに溶解し、
この溶液に、ジホルミルイミドナトリウム3.5g、次いで
ヨウ化ナトリウム4.4gを加え、室温で3時間攪拌する。
反応混合物に水100 mL、酢酸エチル100mLを加え攪拌
後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、N
−アセチル−N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチ
ル]−５−メトキシ−２−フェノキシフェニル}メタンス
ルホンアミド9.07gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.10(3H,s), 3.27(3H,s), 4.03(3H,s),
5.03(2H,s), 6.98- 7.54(7H,m), 8.97(2H,s)
【００３０】参考例７
N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−メト
キシ−２−フェノキシフェニル｝メタンスルホンアミド
3.5gをアセトニトリル10.5mLに溶解し、この溶液に、氷
冷下、塩化アルミニウム2.3g、ヨウ化ナトリウム1.4gを
加えた後、30℃に昇温し3時間攪拌する。反応混合物を1
%亜硫酸ナトリウム水溶液40mLに滴下する。析出物を濾
取し、N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５
−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホ
ンアミド3.0gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.14(3H,s),4.86(2H,s),6.98-7.42(8H,
m),9.00(2H,s),11.63(1H,s)
キシ−２−フェノキシフェニル｝メタンスルホンアミド
3.5gをアセトニトリル10.5mLに溶解し、この溶液に、氷
冷下、塩化アルミニウム2.3g、ヨウ化ナトリウム1.4gを
加えた後、30℃に昇温し3時間攪拌する。反応混合物を1
%亜硫酸ナトリウム水溶液40mLに滴下する。析出物を濾
取し、N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５
−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホ
ンアミド3.0gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.14(3H,s),4.86(2H,s),6.98-7.42(8H,
m),9.00(2H,s),11.63(1H,s)
【００３１】参考例８
N−アセチル−N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチ
ル]−５−メトキシ−２−フェノキシフェニル}メタンス
ルホンアミド3.0gをアセトニトリル9mLに溶解し、この
溶液に、氷冷下、塩化アルミニウム2.7g、ヨウ化ナトリ
ウム3.0gを加え、室温で5時間攪拌する。反応混合物を1
%亜硫酸ナトリウム水溶液50mLに滴下し、次いで酢酸エ
チル10mLを加え攪拌する。析出物を濾取し、N−アセチ
ル−N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−
ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホン
アミド2.5gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.11(3H,s),3.26(3H,s),4.90(2H,s),7.
04-7.44(7H,m),9.01(2H,s),11.26(1H,s)
ル]−５−メトキシ−２−フェノキシフェニル}メタンス
ルホンアミド3.0gをアセトニトリル9mLに溶解し、この
溶液に、氷冷下、塩化アルミニウム2.7g、ヨウ化ナトリ
ウム3.0gを加え、室温で5時間攪拌する。反応混合物を1
%亜硫酸ナトリウム水溶液50mLに滴下し、次いで酢酸エ
チル10mLを加え攪拌する。析出物を濾取し、N−アセチ
ル−N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−
ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホン
アミド2.5gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:2.11(3H,s),3.26(3H,s),4.90(2H,s),7.
04-7.44(7H,m),9.01(2H,s),11.26(1H,s)
【００３２】参考例９
N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−メト
キシ−２−フェノキシフェニル｝メタンスルホンアミド
1.00gをニトロメタン5.0mLに溶解し、この溶液に、氷冷
下、塩化アルミニウム0.36gを加えた後、30℃に昇温
し、さらに塩化アルミニウム0.36gを加え、同温度で5時
間攪拌する。反応混合物に水20mL、酢酸エチル20mLを加
え撹拌後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物にイソプロパノール
を加え析出物を濾取し、N−{４−[２−(ジホルミルアミ
ノ)アセチル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニ
ル}メタンスルホンアミド0.85gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.14(3H,s),4.86(2H,s),6.98-7.42(8H,
m),9.00(2H,s),11.63(1H,s)
キシ−２−フェノキシフェニル｝メタンスルホンアミド
1.00gをニトロメタン5.0mLに溶解し、この溶液に、氷冷
下、塩化アルミニウム0.36gを加えた後、30℃に昇温
し、さらに塩化アルミニウム0.36gを加え、同温度で5時
間攪拌する。反応混合物に水20mL、酢酸エチル20mLを加
え撹拌後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物にイソプロパノール
を加え析出物を濾取し、N−{４−[２−(ジホルミルアミ
ノ)アセチル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニ
ル}メタンスルホンアミド0.85gを得た。 NMR(CDCl3)δ値:3.14(3H,s),4.86(2H,s),6.98-7.42(8H,
m),9.00(2H,s),11.63(1H,s)
【００３３】実施例１
N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチル]−５−ヒド
ロキシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホンアミ
ド3.0gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド12 mLに溶解し、
この溶液に、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミドジメチルアセ
タール4.1mL(比重:0.897)を加え、室温で5時間攪拌す
る。反応混合物に水30 mLおよび活性炭0.3gを添加した
後ろ過する。ろ液に水10mLを加え、2mol/L塩酸をゆっく
り滴下してpH2に調整し撹拌する。析出物を濾取し、N−
[３−(ホルミルアミノ)−４−オキソ−６−フェノキシ
−４H−クロメン−７−イル]メタンスルホンアミド2.2g
を得た。 NMR(d6-DMSO)δ値:3.24(3H,s),7.16-7.71(7H,m),8.33(1
H,s),9.31(1H,s),9.90(1H,s),10.16(1H,s)
ロキシ−２−フェノキシフェニル}メタンスルホンアミ
ド3.0gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド12 mLに溶解し、
この溶液に、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミドジメチルアセ
タール4.1mL(比重:0.897)を加え、室温で5時間攪拌す
る。反応混合物に水30 mLおよび活性炭0.3gを添加した
後ろ過する。ろ液に水10mLを加え、2mol/L塩酸をゆっく
り滴下してpH2に調整し撹拌する。析出物を濾取し、N−
[３−(ホルミルアミノ)−４−オキソ−６−フェノキシ
−４H−クロメン−７−イル]メタンスルホンアミド2.2g
を得た。 NMR(d6-DMSO)δ値:3.24(3H,s),7.16-7.71(7H,m),8.33(1
H,s),9.31(1H,s),9.90(1H,s),10.16(1H,s)
【００３４】実施例２
N−アセチル−N−{４−[２−(ジホルミルアミノ)アセチ
ル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル}メタン
スルホンアミド0.5gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド2.5m
Lに溶解し、この溶液に、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド
ジメチルアセタ−ル1.2mLを加え、室温で 12 時間攪拌
する。反応混合物にジクロロメタン5mL、水10mLを加
え、次いで1mol/L塩酸を加えpH5に調整し攪拌する。析
出物を濾取し、N− [３−(ホルミルアミノ)−４−オキ
ソ−６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル]メタン
スルホンアミド0.31gを得た。 NMR(d6-DMSO)δ値:3.24(3H,s),7.16-7.71(7H,m),8.33(1
H,s),9.31(1H,s),9.90(1H,s), 10.16(1H,s)
ル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル}メタン
スルホンアミド0.5gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド2.5m
Lに溶解し、この溶液に、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド
ジメチルアセタ−ル1.2mLを加え、室温で 12 時間攪拌
する。反応混合物にジクロロメタン5mL、水10mLを加
え、次いで1mol/L塩酸を加えpH5に調整し攪拌する。析
出物を濾取し、N− [３−(ホルミルアミノ)−４−オキ
ソ−６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル]メタン
スルホンアミド0.31gを得た。 NMR(d6-DMSO)δ値:3.24(3H,s),7.16-7.71(7H,m),8.33(1
H,s),9.31(1H,s),9.90(1H,s), 10.16(1H,s)
【００３５】
【発明の効果】本発明の製造法は、N−［３−（アシル
アミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメ
ン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはそ
の塩、とりわけ、Ｔ−６１４の工業的製造法として有用
である。また、本発明のN−アシル−N−｛４−[２−
（ジアシルアミノ）アセチル]−５−ヒドロキシ−２−
フェノキシフェニル｝アルキルスルホンアミド誘導体お
よびN−アシル−N−[４−（２−ハロアセチル）−５−
アルコキシ−２−フェノキシフェニル]アルキルスルホ
ンアミド誘導体は、製造中間体として有用である。
アミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメ
ン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはそ
の塩、とりわけ、Ｔ−６１４の工業的製造法として有用
である。また、本発明のN−アシル−N−｛４−[２−
（ジアシルアミノ）アセチル]−５−ヒドロキシ−２−
フェノキシフェニル｝アルキルスルホンアミド誘導体お
よびN−アシル−N−[４−（２−ハロアセチル）−５−
アルコキシ−２−フェノキシフェニル]アルキルスルホ
ンアミド誘導体は、製造中間体として有用である。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式 【化１】 「式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を；Ｒ2は、低級アルキル基を；Ｒ4は、水素
原子またはアシル基を；Ｒ5は、ハロゲン原子で置換さ
れていてもよいアシル基を、それぞれ示す。」で表され
るN−アシル−N−｛４−[２−（ジアシルアミノ）アセ
チル]−５−ヒドロキシ−２−フェノキシフェニル｝ア
ルキルスルホンアミド誘導体またはその塩を環形成化反
応に付すことを特徴とする、一般式 【化２】 「式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ5は、上記と同様の意味を有
する。」で表されるN−［３−（アシルアミノ）−４−
オキソ−６−フェノキシ−４H−クロメン−７−イル］
アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法。 - 【請求項２】一般式 【化３】 「式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を；Ｒ2は、低級アルキル基を；Ｒ3は、水素
原子または低級アルキル基を；Ｒ4は、水素原子または
アシル基を；Ｒ5は、ハロゲン原子で置換されていても
よいアシル基を、それぞれ示す。」で表されるN−アシ
ル−N−｛４−[２−（ジアシルアミノ）アセチル]−５
−アルコキシ−２−フェノキシフェニル｝アルキルスル
ホンアミド誘導体またはその塩。 - 【請求項３】一般式 【化４】 「式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基を；Ｒ2およびＲ3aは、同一または異なって
低級アルキル基を;Ｒ4は、水素原子またはアシル基を；
Ｘは、ハロゲン原子を示す。」で表されるN−アシル−N
−[４−（２−ハロアセチル）−５−アルコキシ−２−
フェノキシフェニル]アルキルスルホンアミド誘導体ま
たはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002278280A JP4398636B2 (ja) | 2001-09-26 | 2002-09-25 | Ｎ−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４ｈ−クロメン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001292726 | 2001-09-26 | ||
| JP2001-292726 | 2001-09-26 | ||
| JP2002278280A JP4398636B2 (ja) | 2001-09-26 | 2002-09-25 | Ｎ−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４ｈ−クロメン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003171375A true JP2003171375A (ja) | 2003-06-20 |
| JP4398636B2 JP4398636B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=26622866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002278280A Expired - Lifetime JP4398636B2 (ja) | 2001-09-26 | 2002-09-25 | Ｎ−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４ｈ−クロメン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4398636B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021014443A (ja) * | 2019-07-11 | 2021-02-12 | 株式会社トクヤマ | ハロゲン化アセチル誘導体の製造方法 |
-
2002
- 2002-09-25 JP JP2002278280A patent/JP4398636B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021014443A (ja) * | 2019-07-11 | 2021-02-12 | 株式会社トクヤマ | ハロゲン化アセチル誘導体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4398636B2 (ja) | 2010-01-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20080188667A1 (en) | Azlactone compound and method for preparation thereof | |
| JP2973143B2 (ja) | ３−アシルアミノ−６−フェニルオキシ−７−アルキルスルホニルアミノ−４ｈ−１−ベンゾピラン−４−オンまたはその塩の製造法 | |
| US6005104A (en) | Process for preparing 3-(1-hydroxyphenyl-1-alkoximinomethyl) dioxazines | |
| PT781764E (pt) | Processo para a producao de derivado do alcoximidoacetamida | |
| JP4398636B2 (ja) | Ｎ−［３−（アシルアミノ）−４−オキソ−６−フェノキシ−４ｈ−クロメン−７−イル］アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体 | |
| IL127196A (en) | Process for preparing 3-(1-hydroxyphenyl-1-alkoximinomethyl) dioxazines | |
| JP3086310B2 (ja) | ３−アシルアミノ−６−フェニルオキシ−７−アルキルスルホニルアミノ−４ｈ−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体またはその塩の製造法 | |
| US5942640A (en) | Process for the manufacture of N-(1-cyanoalkyl)-2-phenoxypropionamide derivatives | |
| US4075219A (en) | Epimerization process | |
| US4701528A (en) | Intermediates useful in the preparation of 3,4-dihydro-4-oxothieno[2,3-d]pyrimidine-2-carboxylates and process for preparing same | |
| US4374067A (en) | Intermediates for the preparation of 4-phenyl-1,3-benzodiazepins and methods for preparing the intermediates | |
| US20050192338A1 (en) | Process for the preparation of Ropinirole | |
| US7049459B2 (en) | 1-[(4-methyl thio)phenyl]-2-(phenyl acetoxy)-1-ethanone and a process for preparing the same | |
| EP1367050A1 (en) | 2-methylindole-4-acetic acid, process for producing the same, and process for producing intermediate therefor | |
| US5142091A (en) | α, β-unsaturated ketones and ketoxime derivatives | |
| JPH08259539A (ja) | クロロメチルピリジン類の製造方法 | |
| KR100530600B1 (ko) | 3-(1-하이드록시페닐-1-알콕스이미노메틸)디옥사진의제조방법 | |
| JP2660330B2 (ja) | チオフェン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH08319265A (ja) | Ｎ−メチル−メトキシイミノ酢酸アミド誘導体の製造法およびその中間体 | |
| JP2003514890A (ja) | ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（アルコキシイミノ）−ｎ−メチルアセトアミド誘導体の製造方法 | |
| JP4356917B2 (ja) | ビスアミノメチル−１，４−ジチアン類の製造方法及びその中間体 | |
| JP4425373B2 (ja) | ヒドロキシ−２−ハロゲノピリジン誘導体の製造方法 | |
| JP2003146974A (ja) | ４，５−ジ置換−１，２，３−トリアゾール及びその製造法 | |
| JPH08151374A (ja) | ５−ブロモ−２−フルフラール誘導体の製造方法 | |
| JP2002047263A (ja) | ２−アミノ−ω−シアノアルカン酸誘導体、およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050922 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090519 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090713 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091013 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091023 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4398636 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |