JP2003171111A - 水素貯蔵用炭素材料 - Google Patents
水素貯蔵用炭素材料Info
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- JP2003171111A JP2003171111A JP2001369892A JP2001369892A JP2003171111A JP 2003171111 A JP2003171111 A JP 2003171111A JP 2001369892 A JP2001369892 A JP 2001369892A JP 2001369892 A JP2001369892 A JP 2001369892A JP 2003171111 A JP2003171111 A JP 2003171111A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/32—Hydrogen storage
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- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】人間社会から自然界に排出される比較的低温な
２７３Ｋ−３７３Ｋの下で、水素吸蔵／放出特性を向上
させるため活性炭素材料の細孔へ水素分子に対する強い
吸着ポテンシャルを付加させ、ナノサイズ領域で細孔直
径を制御する水素貯蔵用炭素材料を提供する。 【解決手段】０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の細孔直径
を有することを特徴とするものであり、特に０．３ｎｍ
以上１．５ｎｍ以下の細孔直径、５０ｍ2／ｇ以上８０
０ｍ2／ｇ以下の比表面積、かつ０．０１ｍｌ／ｇ以上
０．３ｍｌ／ｇ以下の細孔容積を有する活性炭素材料を
水素貯蔵用炭素材料とする。 【効果】２７３Ｋ−３７３Ｋの温度領域で高水素吸蔵能
を示すことが可能となる。
２７３Ｋ−３７３Ｋの下で、水素吸蔵／放出特性を向上
させるため活性炭素材料の細孔へ水素分子に対する強い
吸着ポテンシャルを付加させ、ナノサイズ領域で細孔直
径を制御する水素貯蔵用炭素材料を提供する。 【解決手段】０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の細孔直径
を有することを特徴とするものであり、特に０．３ｎｍ
以上１．５ｎｍ以下の細孔直径、５０ｍ2／ｇ以上８０
０ｍ2／ｇ以下の比表面積、かつ０．０１ｍｌ／ｇ以上
０．３ｍｌ／ｇ以下の細孔容積を有する活性炭素材料を
水素貯蔵用炭素材料とする。 【効果】２７３Ｋ−３７３Ｋの温度領域で高水素吸蔵能
を示すことが可能となる。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、水素吸蔵／放出特性の向上を実
現するために水素分子に対する強い吸着ポテンシャルを
付加させる細孔直径を有する水素貯蔵用炭素材料に関す
るものである。
現するために水素分子に対する強い吸着ポテンシャルを
付加させる細孔直径を有する水素貯蔵用炭素材料に関す
るものである。
【０００２】
【従来技術】近年、化石燃料枯渇の問題や地球環境の保
全の観点から、無尽蔵に存在する風力や太陽光等の自然
エネルギーを利用する新エネルギー発電システムや水の
電気分解の逆反応を利用した燃料電池システムが注目を
浴びている。燃料もＣＯ2を排出する石油や石炭からク
リーンな水素の利用を目指す試みが世界的に始まってい
る。また、ＩＴ産業の発展や携帯電話の普及により、こ
れらの端末にもマイクロ燃料電池の搭載が検討され、燃
料源となる水素の貯蔵媒体へより一層の高容量、小型、
軽量化なる要求条件が求められている。
全の観点から、無尽蔵に存在する風力や太陽光等の自然
エネルギーを利用する新エネルギー発電システムや水の
電気分解の逆反応を利用した燃料電池システムが注目を
浴びている。燃料もＣＯ2を排出する石油や石炭からク
リーンな水素の利用を目指す試みが世界的に始まってい
る。また、ＩＴ産業の発展や携帯電話の普及により、こ
れらの端末にもマイクロ燃料電池の搭載が検討され、燃
料源となる水素の貯蔵媒体へより一層の高容量、小型、
軽量化なる要求条件が求められている。
【０００３】最近、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）や
グラファイトナノファイバー（ＧＮＦ）なる特異な構造
を有する炭素材料が多量の水素を吸蔵することが報告さ
れ、水素貯蔵媒体の要求条件の実現が期待されている。
しかし、未だ研究段階であると同時に、データの再現性
の問題や水素貯蔵能を有するＣＮＴやＧＮＦの量産技術
の未確立のため、実用化には程遠い。
グラファイトナノファイバー（ＧＮＦ）なる特異な構造
を有する炭素材料が多量の水素を吸蔵することが報告さ
れ、水素貯蔵媒体の要求条件の実現が期待されている。
しかし、未だ研究段階であると同時に、データの再現性
の問題や水素貯蔵能を有するＣＮＴやＧＮＦの量産技術
の未確立のため、実用化には程遠い。
【０００４】一方、高純度なグラファイト粉末を室温、
１ＭＰａの水素雰囲気下で機械的粉砕法（Ｍｅｃｈａｎ
ｉｃａｌ Ｇｒｉｎｄｉｎｇ、以下ＭＧと称す）により
ナノ構造化させたグラファイト粉末中に７．６ｗｔ％の
水素吸蔵が報告されてから、市販炭素材料でも室温付近
で水素吸蔵の可能性が示唆された。
１ＭＰａの水素雰囲気下で機械的粉砕法（Ｍｅｃｈａｎ
ｉｃａｌ Ｇｒｉｎｄｉｎｇ、以下ＭＧと称す）により
ナノ構造化させたグラファイト粉末中に７．６ｗｔ％の
水素吸蔵が報告されてから、市販炭素材料でも室温付近
で水素吸蔵の可能性が示唆された。
【０００５】市販炭素材料の中でも活性炭は古くから水
素を吸蔵することが知られている。しかしながら、活性
炭が水素吸蔵能を示すのは液体窒素温度（７７Ｋ）付近
の低温領域のみであることから、高圧容器の他に冷媒と
して液体窒素、高圧容器を保冷するためのデュワー瓶が
必要であり、大規模なシステムと高コストを要すため活
性炭を水素吸蔵材料として実用化するのは困難であっ
た。
素を吸蔵することが知られている。しかしながら、活性
炭が水素吸蔵能を示すのは液体窒素温度（７７Ｋ）付近
の低温領域のみであることから、高圧容器の他に冷媒と
して液体窒素、高圧容器を保冷するためのデュワー瓶が
必要であり、大規模なシステムと高コストを要すため活
性炭を水素吸蔵材料として実用化するのは困難であっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
現状を改良し、人間社会から自然界に排出される比較的
低温な２７３Ｋ−３７３Ｋの下で、水素吸蔵／放出特性
を向上させるため活性炭素材料の細孔へ水素分子に対す
る強い吸着ポテンシャルを付加させ、ナノサイズ領域で
細孔直径を制御することにある。
現状を改良し、人間社会から自然界に排出される比較的
低温な２７３Ｋ−３７３Ｋの下で、水素吸蔵／放出特性
を向上させるため活性炭素材料の細孔へ水素分子に対す
る強い吸着ポテンシャルを付加させ、ナノサイズ領域で
細孔直径を制御することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明による水素貯蔵用炭素材料は、０．３ｎｍ
以上１．５ｎｍ以下の細孔直径を有することを特徴とす
るものであり、特に０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の細
孔直径、５０ｍ2／ｇ以上８００ｍ2／ｇ以下の比表面
積、かつ０．０１ｍｌ／ｇ以上０．３ｍｌ／ｇ以下の細
孔容積を有する活性炭素材料を提案するものである。
めに、本発明による水素貯蔵用炭素材料は、０．３ｎｍ
以上１．５ｎｍ以下の細孔直径を有することを特徴とす
るものであり、特に０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の細
孔直径、５０ｍ2／ｇ以上８００ｍ2／ｇ以下の比表面
積、かつ０．０１ｍｌ／ｇ以上０．３ｍｌ／ｇ以下の細
孔容積を有する活性炭素材料を提案するものである。
【０００８】本発明を図を用いてさらに詳しく説明す
る。
る。
【０００９】該活性炭素材料の特徴は、通常の活性炭素
材料より近距離の秩序性が向上していることである。通
常の活性炭は微結晶炭素と呼ばれ、ミクログラファイト
が二次元もしくは三次元的に高次構造を組み、それらの
空隙が細孔となっている。
材料より近距離の秩序性が向上していることである。通
常の活性炭は微結晶炭素と呼ばれ、ミクログラファイト
が二次元もしくは三次元的に高次構造を組み、それらの
空隙が細孔となっている。
【００１０】本発明による炭素材料の構造概念図を図１
に示す。図中、１はＭＧ処理前の活性炭素の構造、２は
ＭＧ処理後の活性炭素の構造、３は活性炭素の近距離秩
序の様子を示している。炭素材料をＭＧ処理して粉砕す
ることによって、炭素材料は微細化され、かつ近距離秩
序性が向上していることがわかる。活性炭素材料はＭＧ
処理することにより、通常の活性炭の比表面積１０００
ｍ2／ｇ〜３０００ｍ2／ｇ程度、細孔容積０．３ｍｌ／
ｇ〜０．８ｍｌ／ｇ程度より、比表面積５０ｍ 2／ｇ以
上８００ｍ2／ｇ以下、かつ細孔容積０．０１ｍｌ／ｇ
以上０．３ｍｌ／ｇ以下と小さくなる。
に示す。図中、１はＭＧ処理前の活性炭素の構造、２は
ＭＧ処理後の活性炭素の構造、３は活性炭素の近距離秩
序の様子を示している。炭素材料をＭＧ処理して粉砕す
ることによって、炭素材料は微細化され、かつ近距離秩
序性が向上していることがわかる。活性炭素材料はＭＧ
処理することにより、通常の活性炭の比表面積１０００
ｍ2／ｇ〜３０００ｍ2／ｇ程度、細孔容積０．３ｍｌ／
ｇ〜０．８ｍｌ／ｇ程度より、比表面積５０ｍ 2／ｇ以
上８００ｍ2／ｇ以下、かつ細孔容積０．０１ｍｌ／ｇ
以上０．３ｍｌ／ｇ以下と小さくなる。
【００１１】しかし、細孔直径を通常の２ｎｍ〜５０ｎ
ｍ程度より小さく、かつ水素分子直径（０．２８９ｎ
ｍ）より大きな０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の範囲に
制御することにより、水素分子に対し強い吸着ポテンシ
ャルを付加させることが可能となる。また、ＭＧ処理は
特異吸着能を示すエッジ面を集中的に露出させ、かつ細
孔入口付近及びエッジ面にダングリングボンドを形成す
ることを助長するため、それらの相乗効果により室温付
近でも多量の水素吸蔵が可能となる。
ｍ程度より小さく、かつ水素分子直径（０．２８９ｎ
ｍ）より大きな０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の範囲に
制御することにより、水素分子に対し強い吸着ポテンシ
ャルを付加させることが可能となる。また、ＭＧ処理は
特異吸着能を示すエッジ面を集中的に露出させ、かつ細
孔入口付近及びエッジ面にダングリングボンドを形成す
ることを助長するため、それらの相乗効果により室温付
近でも多量の水素吸蔵が可能となる。
【００１２】代表的な活性炭素材料は活性炭（Ａｃｔｉ
ｖｅ Ｃａｒｂｏｎ、以下ＡＣ）、活性炭素繊維（Ａｃ
ｔｉｖａｔｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｆｉｖｅｒ、以下ＡＣ
Ｆ）、アセチレンブラック（Ａｃｅｔｙｌｅｎｅ Ｂｌ
ａｃｋ、以下ＡＢ）等のいずれかあるいはこれらの一種
以上の混合物である。
ｖｅ Ｃａｒｂｏｎ、以下ＡＣ）、活性炭素繊維（Ａｃ
ｔｉｖａｔｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｆｉｖｅｒ、以下ＡＣ
Ｆ）、アセチレンブラック（Ａｃｅｔｙｌｅｎｅ Ｂｌ
ａｃｋ、以下ＡＢ）等のいずれかあるいはこれらの一種
以上の混合物である。
【００１３】このような効果は従来の活性炭を用いては
期待できなかった。即ち、従来用いられた活性炭は、水
素分子直径の約１０倍以上の細孔径であり、水素分子に
対する吸着ポテンシャルが弱く、かつダングリングボン
ドを有するエッジ面の集中的な露出度が不十分なため室
温付近で水素吸着が困難であった。
期待できなかった。即ち、従来用いられた活性炭は、水
素分子直径の約１０倍以上の細孔径であり、水素分子に
対する吸着ポテンシャルが弱く、かつダングリングボン
ドを有するエッジ面の集中的な露出度が不十分なため室
温付近で水素吸着が困難であった。
【００１４】本発明における水素分子に対する強い吸着
ポテンシャルを付加させる細孔直径を有する活性炭素材
料を水素貯蔵材料に適用することにより、従来深刻な問
題であった活性炭への水素貯蔵時の液体窒素とデュワー
瓶が不用となり、該活性炭素材料は室温付近で効果的に
水素の吸蔵／放出を可能としたものである。
ポテンシャルを付加させる細孔直径を有する活性炭素材
料を水素貯蔵材料に適用することにより、従来深刻な問
題であった活性炭への水素貯蔵時の液体窒素とデュワー
瓶が不用となり、該活性炭素材料は室温付近で効果的に
水素の吸蔵／放出を可能としたものである。
【００１５】該活性炭素材料はＡＣ、ＡＣＦ、ＡＢ等の
試料をボウルミリングすることにより作製することがで
きる。図２にＭＧ処理時間（０〜１００時間）によるＡ
ＣのＸ線回折パターンの変化を示す。図中、４はＭＧ処
理していないサンプルのＸ線回折パターン、５は０．５
時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、６は３
時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、７は５
時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、８は１
０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、９は
２０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、１
０は１００時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パター
ンを示す。２６°付近のブロードなピークはＭＧ処理時
間と共に高角度側へシフトし、ピーク強度も増大する。
これはＭＧ処理により微結晶炭素であるＡＣの近距離秩
序性が向上したことを示している。
試料をボウルミリングすることにより作製することがで
きる。図２にＭＧ処理時間（０〜１００時間）によるＡ
ＣのＸ線回折パターンの変化を示す。図中、４はＭＧ処
理していないサンプルのＸ線回折パターン、５は０．５
時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、６は３
時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、７は５
時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、８は１
０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、９は
２０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パターン、１
０は１００時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パター
ンを示す。２６°付近のブロードなピークはＭＧ処理時
間と共に高角度側へシフトし、ピーク強度も増大する。
これはＭＧ処理により微結晶炭素であるＡＣの近距離秩
序性が向上したことを示している。
【００１６】比表面積、細孔容積及び細孔径の大きさは
試料とボウルの数、大きさ、ミリング時間等によって決
定される。
試料とボウルの数、大きさ、ミリング時間等によって決
定される。
【００１７】一例として、４５ｍｌクロム鋼容器内に７
φクロム鋼ボウル２２ケと試料を混入し、回転数４００
ｒｐｍでＭＧ処理した場合を挙げる。図３にＭＧ処理時
間によるＡＣの比表面積及び細孔容積の変化を示す。図
３中、１１は０．５時間ＭＧ処理したサンプルの比表面
積、１２は１時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１
３は３時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１４は５
時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１５は１０時間
ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１６は２０時間ＭＧ
処理したサンプルの比表面積、１７は５０時間ＭＧ処理
したサンプルの比表面積、１８は８０時間ＭＧ処理した
サンプルの比表面積、１９は１００時間ＭＧ処理したサ
ンプルの比表面積を示す。さらに２０は０．５時間ＭＧ
処理したサンプルの細孔容積、２１は１時間ＭＧ処理し
たサンプルの細孔容積、２２は３時間ＭＧ処理したサン
プルの細孔容積、２３は５時間ＭＧ処理したサンプルの
細孔容積、２４は１０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔
容積、２５は２０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容
積、２６は５０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積、
２７は８０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積、２８
は１００時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積を示す。
φクロム鋼ボウル２２ケと試料を混入し、回転数４００
ｒｐｍでＭＧ処理した場合を挙げる。図３にＭＧ処理時
間によるＡＣの比表面積及び細孔容積の変化を示す。図
３中、１１は０．５時間ＭＧ処理したサンプルの比表面
積、１２は１時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１
３は３時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１４は５
時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１５は１０時間
ＭＧ処理したサンプルの比表面積、１６は２０時間ＭＧ
処理したサンプルの比表面積、１７は５０時間ＭＧ処理
したサンプルの比表面積、１８は８０時間ＭＧ処理した
サンプルの比表面積、１９は１００時間ＭＧ処理したサ
ンプルの比表面積を示す。さらに２０は０．５時間ＭＧ
処理したサンプルの細孔容積、２１は１時間ＭＧ処理し
たサンプルの細孔容積、２２は３時間ＭＧ処理したサン
プルの細孔容積、２３は５時間ＭＧ処理したサンプルの
細孔容積、２４は１０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔
容積、２５は２０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容
積、２６は５０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積、
２７は８０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積、２８
は１００時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積を示す。
【００１８】また、図４に細孔直径及び粒度の変化を示
す。図４中、２９は０．５時間ＭＧ処理したサンプルの
細孔直径、３０は１時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直
径、３１は３時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３
２は５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３３は１
０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３４は２０時
間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３５は５０時間Ｍ
Ｇ処理したサンプルの細孔直径、３６は８０時間ＭＧ処
理したサンプルの細孔直径、３７は１００時間ＭＧ処理
したサンプルの細孔直径、３８は０．５時間ＭＧ処理し
たサンプルの粒径、３９は１時間ＭＧ処理したサンプル
の粒径、４０は３時間ＭＧ処理したサンプルの粒径、４
１は５時間ＭＧ処理したサンプルの粒径、４２は１０時
間ＭＧ処理したサンプルの粒径、４３は２０時間ＭＧ処
理したサンプルの粒径、４４は５０時間ＭＧ処理したサ
ンプルの粒径、４５は８０時間ＭＧ処理したサンプルの
粒径、４６は１００時間ＭＧ処理したサンプルの粒径を
示す。
す。図４中、２９は０．５時間ＭＧ処理したサンプルの
細孔直径、３０は１時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直
径、３１は３時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３
２は５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３３は１
０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３４は２０時
間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径、３５は５０時間Ｍ
Ｇ処理したサンプルの細孔直径、３６は８０時間ＭＧ処
理したサンプルの細孔直径、３７は１００時間ＭＧ処理
したサンプルの細孔直径、３８は０．５時間ＭＧ処理し
たサンプルの粒径、３９は１時間ＭＧ処理したサンプル
の粒径、４０は３時間ＭＧ処理したサンプルの粒径、４
１は５時間ＭＧ処理したサンプルの粒径、４２は１０時
間ＭＧ処理したサンプルの粒径、４３は２０時間ＭＧ処
理したサンプルの粒径、４４は５０時間ＭＧ処理したサ
ンプルの粒径、４５は８０時間ＭＧ処理したサンプルの
粒径、４６は１００時間ＭＧ処理したサンプルの粒径を
示す。
【００１９】ＭＧ処理時間と共に比表面積、細孔容積、
細孔直径は単調に減少するが、粒度は２０時間を超える
と増大する。
細孔直径は単調に減少するが、粒度は２０時間を超える
と増大する。
【００２０】特に２０時間以上のＭＧ処理では結晶粒界
の凝集による細孔の閉塞やエッジ面の潰れが起こりはじ
め、有効な水素吸着サイトの低減、かつ水素吸着ポテン
シャルの低下をもたらすと共に、水素吸着に適した細孔
の分布やエッジ面の露出度の極端な低下をもたらし、該
活性炭素材料の特徴を活かすことが困難となる。つま
り、該活性炭素材料を製造するためには、０．５時間以
上２０時間以下のＭＧ処理が好ましい。これらの傾向は
他の活性炭素材料でも同様である。
の凝集による細孔の閉塞やエッジ面の潰れが起こりはじ
め、有効な水素吸着サイトの低減、かつ水素吸着ポテン
シャルの低下をもたらすと共に、水素吸着に適した細孔
の分布やエッジ面の露出度の極端な低下をもたらし、該
活性炭素材料の特徴を活かすことが困難となる。つま
り、該活性炭素材料を製造するためには、０．５時間以
上２０時間以下のＭＧ処理が好ましい。これらの傾向は
他の活性炭素材料でも同様である。
【００２１】以下に、本発明の実施例について詳述する
が、本発明は何らこれらの実施例に限定されることはな
い。
が、本発明は何らこれらの実施例に限定されることはな
い。
【００２２】
【実施例１】比表面積２４００ｍ2／ｇ、細孔容積０．
６ｍｌ／ｇ、細孔直径３７ｎｍのＡＣＦ０．３ｇをピン
セットで解したものを４５ｍｌクロム鋼容器内に７φク
ロム鋼ボウル２２ケと混入し、回転数４００ｒｐｍで５
時間回転粉砕を行った。粉砕後の比表面積は４５０ｍ2
／ｇ、細孔容積は０．２ｍｌ／ｇ、細孔直径は１．２ｎ
ｍであった。
６ｍｌ／ｇ、細孔直径３７ｎｍのＡＣＦ０．３ｇをピン
セットで解したものを４５ｍｌクロム鋼容器内に７φク
ロム鋼ボウル２２ケと混入し、回転数４００ｒｐｍで５
時間回転粉砕を行った。粉砕後の比表面積は４５０ｍ2
／ｇ、細孔容積は０．２ｍｌ／ｇ、細孔直径は１．２ｎ
ｍであった。
【００２３】この試料を４００℃、３時間真空脱気した
後、高圧水素雰囲気におけるＰＣＴ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ
−Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ−Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）
装置により２７８Ｋ（符号４７）、２９８Ｋ(符号４
８）、３７３Ｋ(符号４９）における水素吸蔵／放出特
性を評価した。
後、高圧水素雰囲気におけるＰＣＴ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ
−Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ−Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）
装置により２７８Ｋ（符号４７）、２９８Ｋ(符号４
８）、３７３Ｋ(符号４９）における水素吸蔵／放出特
性を評価した。
【００２４】結果を図５に示す。温度の上昇と共に水素
吸蔵／放出特性は低下するが、２９８Ｋ、９ＭＰａで有
効水素量５．６ｗｔ％を確認した。また、ＭＧ処理して
いない試料（符号５０）では、最高２７８Ｋ、９ＭＰａ
で有効水素量０．３ｗｔ％を示しただけであった。
吸蔵／放出特性は低下するが、２９８Ｋ、９ＭＰａで有
効水素量５．６ｗｔ％を確認した。また、ＭＧ処理して
いない試料（符号５０）では、最高２７８Ｋ、９ＭＰａ
で有効水素量０．３ｗｔ％を示しただけであった。
【００２５】本発明の活性炭素材料は、ＭＧ処理で細孔
へ水素分子に対する強い吸着ポテンシャルを付加させる
ことにより、２７８Ｋ−３７３Ｋの温度領域において大
きな水素吸蔵能を示し、良好な水素吸蔵／放出特性を示
すことがわかった。
へ水素分子に対する強い吸着ポテンシャルを付加させる
ことにより、２７８Ｋ−３７３Ｋの温度領域において大
きな水素吸蔵能を示し、良好な水素吸蔵／放出特性を示
すことがわかった。
【００２６】
【実施例２】比表面積が１５００ｍ2／ｇのＡＣ粉末
０．３ｇを４５ｍｌクロム鋼容器内に７φクロム鋼ボウ
ル２２ケと混入し、回転数４００ｒｐｍで０．５時間、
３時間、１０時間、２０時間、５０時間、１００時間回
転粉砕を行った。粉砕後の比表面積、細孔容積、細孔直
径及び粒径を表１に示す。
０．３ｇを４５ｍｌクロム鋼容器内に７φクロム鋼ボウ
ル２２ケと混入し、回転数４００ｒｐｍで０．５時間、
３時間、１０時間、２０時間、５０時間、１００時間回
転粉砕を行った。粉砕後の比表面積、細孔容積、細孔直
径及び粒径を表１に示す。
【００２７】表１
【表１】
【００２８】これらの試料を４００℃、３時間真空脱気
した後、２９８Ｋ、９ＭＰａの高圧水素雰囲気下で磁気
天秤を用いた重量変化により水素吸蔵／放出特性を評価
した。
した後、２９８Ｋ、９ＭＰａの高圧水素雰囲気下で磁気
天秤を用いた重量変化により水素吸蔵／放出特性を評価
した。
【００２９】結果を図６に示す。図６中、５１は０．５
時間ＭＧ処理したサンプルの水素量、５２は３時間ＭＧ
処理したサンプルの水素量、５３は５時間ＭＧ処理した
サンプルの水素量、５４は２０時間ＭＧ処理したサンプ
ルの水素量、５５は５０時間ＭＧ処理したサンプルの水
素量、５６は１００時間ＭＧ処理したサンプルの水素量
を示す。
時間ＭＧ処理したサンプルの水素量、５２は３時間ＭＧ
処理したサンプルの水素量、５３は５時間ＭＧ処理した
サンプルの水素量、５４は２０時間ＭＧ処理したサンプ
ルの水素量、５５は５０時間ＭＧ処理したサンプルの水
素量、５６は１００時間ＭＧ処理したサンプルの水素量
を示す。
【００３０】粉砕時間が増大すると共に水素吸蔵量も増
大するが、粉砕時間５０時間からは水素吸蔵量も減少し
た。これは長時間の回転粉砕により結晶粒界が凝集し、
細孔を塞ぎ、水素分子より小さな細孔直径となるためで
ある。
大するが、粉砕時間５０時間からは水素吸蔵量も減少し
た。これは長時間の回転粉砕により結晶粒界が凝集し、
細孔を塞ぎ、水素分子より小さな細孔直径となるためで
ある。
【００３１】各粉砕時間における水素吸蔵量はそれぞれ
０．３ｗｔ％（粉砕時間０の時）、５．０ｗｔ％（符号
５１）、５．２ｗｔ％(符号５２）、５．６ｗｔ％(符号
５３）、５．４ｗｔ％(符号５４）、２．１ｗｔ％（符
号５５）、１．３ｗｔ％(符号５６）であった。また、
同条件下でサイクルを重ねた結果、同様な水素吸蔵量を
示した。
０．３ｗｔ％（粉砕時間０の時）、５．０ｗｔ％（符号
５１）、５．２ｗｔ％(符号５２）、５．６ｗｔ％(符号
５３）、５．４ｗｔ％(符号５４）、２．１ｗｔ％（符
号５５）、１．３ｗｔ％(符号５６）であった。また、
同条件下でサイクルを重ねた結果、同様な水素吸蔵量を
示した。
【００３２】本発明の活性炭素材料は、ＭＧ処理で細孔
直径を０．３ｎｍ〜１．５ｎｍ、比表面積を５０ｍ2／
ｇ〜８００ｍ2／ｇ、かつ細孔容積を０．０１ｍｌ／ｇ
〜０．３ｍｌ／ｇに制御することにより、大きな水素吸
蔵能を示すと共に、良好な水素吸蔵／放出特性を示すこ
とがわかった。
直径を０．３ｎｍ〜１．５ｎｍ、比表面積を５０ｍ2／
ｇ〜８００ｍ2／ｇ、かつ細孔容積を０．０１ｍｌ／ｇ
〜０．３ｍｌ／ｇに制御することにより、大きな水素吸
蔵能を示すと共に、良好な水素吸蔵／放出特性を示すこ
とがわかった。
【００３３】
【実施例３】比表面積１２００ｍ2／ｇ、細孔容積０．
６ｍｌ／ｇのＡＣ、ＡＢ粉末及びピンセットで解したＡ
ＣＦ０．３ｇをそれぞれ３００℃、２時間真空脱気処理
した後、４５ｍｌ高圧クロム鋼容器内に７φクロム鋼ボ
ウル２２ケと混入し、回転数４００ｒｐｍで１ＭＰａ、
２ＭＰａ、５ＭＰａ、８ＭＰａの水素雰囲気下において
１０時間回転粉砕を行った。粉砕後のＡＣ、ＡＢ、ＡＣ
Ｆの比較表面積、細孔容積、細孔直径及び粒径を表２、
表３、表４にそれぞれ示す。
６ｍｌ／ｇのＡＣ、ＡＢ粉末及びピンセットで解したＡ
ＣＦ０．３ｇをそれぞれ３００℃、２時間真空脱気処理
した後、４５ｍｌ高圧クロム鋼容器内に７φクロム鋼ボ
ウル２２ケと混入し、回転数４００ｒｐｍで１ＭＰａ、
２ＭＰａ、５ＭＰａ、８ＭＰａの水素雰囲気下において
１０時間回転粉砕を行った。粉砕後のＡＣ、ＡＢ、ＡＣ
Ｆの比較表面積、細孔容積、細孔直径及び粒径を表２、
表３、表４にそれぞれ示す。
【００３４】表２
【表２】
【００３５】表３
【表３】
【００３６】表４
【表４】
【００３７】水素吸蔵特性の結果を図７に示す。図７
中、５７は水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量、５８は水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの
水素量、５９は水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦ
の水素量、６０は水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣ
Ｆの水素量、６１は水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６２は水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６３は水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６４は水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６５は水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量、６６は水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量、６７は水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量、６８は水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量を示す。
中、５７は水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量、５８は水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの
水素量、５９は水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦ
の水素量、６０は水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣ
Ｆの水素量、６１は水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６２は水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６３は水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６４は水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｃの水素量、６５は水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量、６６は水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量、６７は水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量、６８は水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡ
Ｂの水素量を示す。
【００３８】それぞれの試料において、圧力増大と共に
水素量は増大するが、５ＭＰａ以上の水素雰囲気下では
水素量に変化はなかった。吸蔵量はどの水素雰囲気下で
もＡＣＦが最大で、次にＡＣ、ＡＢの順となった。吸蔵
量の最大値はそれぞれ８．１ｗｔ％(符号５９）、７．
３ｗｔ％(符号６３）、６．５ｗｔ％(符号６７）であっ
た。また、水素吸蔵した試料をＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅ
ｎｃｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒ
ｙ）測定したところ、３５０Ｋ〜３７３Ｋの領域に吸熱
ピークを観測し、重量もほぼ吸蔵前に戻り、吸蔵水素が
放出したことを確認した。
水素量は増大するが、５ＭＰａ以上の水素雰囲気下では
水素量に変化はなかった。吸蔵量はどの水素雰囲気下で
もＡＣＦが最大で、次にＡＣ、ＡＢの順となった。吸蔵
量の最大値はそれぞれ８．１ｗｔ％(符号５９）、７．
３ｗｔ％(符号６３）、６．５ｗｔ％(符号６７）であっ
た。また、水素吸蔵した試料をＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅ
ｎｃｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒ
ｙ）測定したところ、３５０Ｋ〜３７３Ｋの領域に吸熱
ピークを観測し、重量もほぼ吸蔵前に戻り、吸蔵水素が
放出したことを確認した。
【００３９】本発明の活性炭素材料は、水素雰囲気中の
ＭＧ処理により室温で大きな水素吸蔵能を示し、かつ３
７３Ｋ程度の温度下で水素放出を示すことがわかった。
ＭＧ処理により室温で大きな水素吸蔵能を示し、かつ３
７３Ｋ程度の温度下で水素放出を示すことがわかった。
【００４０】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の水素貯蔵用
炭素材料は、ＭＧ処理で水素分子に対する強い吸着ポテ
ンシャルを付加させ、ナノサイズ領域で細孔直径を制御
することにより、２７３Ｋ−３７３Ｋの温度領域で高水
素吸蔵能を示すことが可能となった。
炭素材料は、ＭＧ処理で水素分子に対する強い吸着ポテ
ンシャルを付加させ、ナノサイズ領域で細孔直径を制御
することにより、２７３Ｋ−３７３Ｋの温度領域で高水
素吸蔵能を示すことが可能となった。
【図１】ＭＧ処理した活性炭素材料の構造概念の一例を
示した図。
示した図。
【図２】活性炭素材料のＸ線回折強度のＭＧ時間変化の
一例を示す図。
一例を示す図。
【図３】活性炭素材料の比表面積及び細孔容積のＭＧ時
間変化の一例を示す図。
間変化の一例を示す図。
【図４】活性炭素材料の細孔直径及び粒径のＭＧ時間変
化の一例を示す図。
化の一例を示す図。
【図５】実施例１における試験結果を示す図。
【図６】実施例２における試験結果を示す図。
【図７】実施例３における試験結果を示す図。
１ ＭＧ処理前の活性炭素の構造
２ ＭＧ処理後の活性炭素の構造
３ ＭＧ処理後の活性炭素の近距離秩序
４ ＭＧ処理していないサンプルのＸ線回折パター
ン ５ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パ
ターン ６ ３時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パター
ン ７ ５時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パター
ン ８ １０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パタ
ーン ９ ２０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パタ
ーン １０ １００時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折
パターン １１ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １２ １時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １３ ３時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １４ ５時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １５ １０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １６ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １７ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １８ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １９ １００時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 ２０ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２１ １時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２２ ３時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２３ ５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２４ １０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２５ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２６ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２７ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２８ １００時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２９ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３０ １時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３１ ３時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３２ ５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３３ １０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３４ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３５ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３６ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３７ １００時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３８ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ３９ １時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４０ ３時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４１ ５時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４２ １０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４３ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４４ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４５ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４６ １００時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４７ ＭＧ処理したサンプルの２７８ＫにおけるＰ
ＣＴ曲線 ４８ ＭＧ処理したサンプルの２９８ＫにおけるＰ
ＣＴ曲線 ４９ ＭＧ処理したサンプルの３７３ＫにおけるＰ
ＣＴ曲線 ５０ ＭＧ処理していないサンプルの２７８Ｋにお
けるＰＣＴ曲線 ５１ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５２ ３時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５３ ５時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５４ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５５ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５６ １００時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５７ 水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ５８ 水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ５９ 水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ６０ 水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ６１ 水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６２ 水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６３ 水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６４ 水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６５ 水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量 ６６ 水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量 ６７ 水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量 ６８ 水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量
ン ５ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パ
ターン ６ ３時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パター
ン ７ ５時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パター
ン ８ １０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パタ
ーン ９ ２０時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折パタ
ーン １０ １００時間ＭＧ処理したサンプルのＸ線回折
パターン １１ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １２ １時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １３ ３時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １４ ５時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １５ １０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １６ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １７ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １８ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 １９ １００時間ＭＧ処理したサンプルの比表面積 ２０ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２１ １時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２２ ３時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２３ ５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２４ １０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２５ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２６ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２７ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２８ １００時間ＭＧ処理したサンプルの細孔容積 ２９ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３０ １時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３１ ３時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３２ ５時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３３ １０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３４ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３５ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３６ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３７ １００時間ＭＧ処理したサンプルの細孔直径 ３８ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ３９ １時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４０ ３時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４１ ５時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４２ １０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４３ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４４ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４５ ８０時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４６ １００時間ＭＧ処理したサンプルの粒径 ４７ ＭＧ処理したサンプルの２７８ＫにおけるＰ
ＣＴ曲線 ４８ ＭＧ処理したサンプルの２９８ＫにおけるＰ
ＣＴ曲線 ４９ ＭＧ処理したサンプルの３７３ＫにおけるＰ
ＣＴ曲線 ５０ ＭＧ処理していないサンプルの２７８Ｋにお
けるＰＣＴ曲線 ５１ ０．５時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５２ ３時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５３ ５時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５４ ２０時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５５ ５０時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５６ １００時間ＭＧ処理したサンプルの水素量 ５７ 水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ５８ 水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ５９ 水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ６０ 水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣＦの水
素量 ６１ 水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６２ 水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６３ 水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６４ 水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＣの水素
量 ６５ 水素圧１ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量 ６６ 水素圧２ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量 ６７ 水素圧５ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量 ６８ 水素圧８ＭＰａ下でＭＧ処理したＡＢの水素
量
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 荒川 正泰
東京都千代田区大手町二丁目３番１号 日
本電信電話株式会社内
Ｆターム(参考） 4G040 AA36 AA42
4G046 HA10 HB02 HB05 HC14
4G066 AA04B AA05B AA06D BA23
BA25 BA26 BA31 BA36 CA38
DA01 EA20 FA17 FA33 FA35
GA01
Claims (5)
- 【請求項１】 ０．３ｎｍ以上１．５ｎｍ以下の細孔直
径を有する活性炭素材料であることを特徴とする水素貯
蔵用炭素材料。 - 【請求項２】 該活性炭素材料は５０ｍ2／ｇ以上８０
０ｍ2／ｇ以下の比表面積、かつ０．０１ｍｌ／ｇ以上
０．３ｍｌ／ｇ以下の細孔容積を有することを特徴とす
る請求項１記載の水素貯蔵用炭素材料。 - 【請求項３】 該活性炭素材料は炭素材料を０．５時間
以上２０時間ボウルミリングし、粉砕することにより作
製したことを特徴とする請求項１または２記載の水素貯
蔵用炭素材料。 - 【請求項４】 該活性炭素材料は炭素材料を５ＭＰａ以
下の水素雰囲気下で粉砕することにより作製されたこと
を特徴とする請求項３記載の水素貯蔵用炭素材料。 - 【請求項５】 該活性炭素材料は活性炭、活性炭素繊
維、アセチレンブラックのいずれかあるいはこれらの一
種以上の混合物であることを特徴とする請求項１〜４の
いずれか１項記載の水素貯蔵用炭素材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001369892A JP2003171111A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 水素貯蔵用炭素材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001369892A JP2003171111A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 水素貯蔵用炭素材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003171111A true JP2003171111A (ja) | 2003-06-17 |
Family
ID=19179207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001369892A Pending JP2003171111A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 水素貯蔵用炭素材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003171111A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008093661A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Bluecher Gmbh | 活性炭に基づく高性能吸着剤 |
| WO2011105336A1 (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 国立大学法人群馬大学 | 水素吸蔵炭素材料 |
| JP2020157242A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 活性炭及び浄水カートリッジ |
-
2001
- 2001-12-04 JP JP2001369892A patent/JP2003171111A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008093661A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Bluecher Gmbh | 活性炭に基づく高性能吸着剤 |
| WO2011105336A1 (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 国立大学法人群馬大学 | 水素吸蔵炭素材料 |
| US8475687B2 (en) | 2010-02-26 | 2013-07-02 | National University Corporation Gunma University | Hydrogen storing carbon material |
| JP2020157242A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 活性炭及び浄水カートリッジ |
| WO2020195116A1 (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 活性炭及び浄水カートリッジ |
| JP7300640B2 (ja) | 2019-03-27 | 2023-06-30 | 株式会社Lixil | 浄水カートリッジ |
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