JP2003166769A - 吸収冷凍機における再生器の液面制御法及び吸収冷凍機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 吸収冷凍機の高圧再生器の液面の制御をメン
テナンスフリーの状態で長期的に行うことができる吸収
冷凍機における再生器の液面制御法及び吸収冷凍機を提
供する。 【解決手段】 吸収器から溶液ポンプにより送られてく
る臭化リチウム溶液を高圧再生器４０の内部に収容し、
この臭化リチウム溶液を加熱することにより濃度を高め
て再生し、この再生した臭化リチウム溶液を吸収器へ戻
す吸収冷凍機における再生器の液面制御法であって、高
圧再生器４０の底部に、２つの流入口７３、７４と１つ
の流出口７２とを有するフルイディクス素子７０を設
け、一方の流入口７３を液面の上限位置に開口させ、他
方の流入口７４を液面の下限位置に開口させる。液面の
位置に応じて流出口７２から大流量又は小流量の溶液が
流出するので、溶液の流量に応じて溶液ポンプの作動を
制御することにより、液面の位置を所定の範囲内に保持
できることになる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、吸収冷凍機におけ
る再生器の液面制御法及び吸収冷凍機に関し、特に、吸
収冷凍機の高圧再生器内に収容される臭化リチウム溶液
の液面の制御に有効な液面制御法及びその制御法を適用
した吸収冷凍機に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】吸収冷凍機は、水を冷媒、臭化リチウム
溶液を吸収剤とし、ガス燃料、油燃料又は蒸気等をエネ
ルギー源とした冷凍機である。この吸収冷凍機は、蒸発
器、吸収器、再生器、及び凝縮器を主要部材として構成
され、蒸発器及び吸収器の内部は高真空（絶対圧力が７
９８〜９３１Ｐａ（６〜７ｍｍＨｇ））に保持されてい
る。

【０００３】蒸発器では、冷媒ポンプにより送られてき
た液冷媒（水）を冷水（例えば１２℃）が流通する蒸発
器チューブに向けて散布することにより、液冷媒が加熱
されて冷媒蒸気（ガス）となる。すなわち、蒸発器は高
真空容器となっているので液体である水（冷媒）は４〜
６℃位で沸騰して蒸発気化するので、例えば１２℃の冷
水を熱源水とすることができるのである。

【０００４】そして、冷水は、液冷媒（水）に与えた蒸
発潜熱分だけ温度低下（例えば７℃になる）して蒸発器
から出て行く。温度低下（例えば７℃になる）した冷水
は、ビルの冷房装置等（冷房負荷）に送られて冷房に利
用される。冷房に利用された冷水は、温度上昇（例えば
１２℃になる）して再び蒸発器の蒸発器チューブに流入
してくる。

【０００５】吸収器では、蒸発器で発生した冷媒蒸気
を、臭化リチウム溶液により吸収する。水分を吸収して
濃度が低くなった臭化リチウム溶液（以下「臭化リチウ
ム希溶液」という）は、吸収器の底部に集められる。こ
の吸収器では、冷媒蒸気が臭化リチウム溶液に吸収され
て気体（水蒸気）から液体（水）に変化するときの凝縮
潜熱と、臭化リチウム溶液が水分を吸収して濃度が薄く
なるときの希釈熱が発生するので、冷却水（上記「冷
水」とは別の系に流通している）によりこれらの熱を取
り除いている。

【０００６】再生器では、吸収器から送られてくる臭化
リチウム希溶液を加熱する。このため、臭化リチウム希
溶液中の冷媒は一部が蒸発気化し、溶液は濃縮された臭
化リチウム溶液（以下「臭化リチウム濃溶液」という）
となる。濃度が元の状態まで高められた臭化リチウム濃
溶液は、吸収器に送られ再び冷媒蒸気を吸収する。蒸発
した冷媒蒸気は、凝縮器に送られる。

【０００７】凝縮器では、再生器から送られてきた冷媒
蒸気を冷却水により冷却して、凝縮液化する。この凝縮
した水は、液冷媒（水）として再び蒸発器に供給され
る。

【０００８】実機では、熱効率を上げ加熱エネルギーを
減少させる目的で、再生器を２段に配置した二重効用型
の吸収冷凍機が採用されている。この二重効用型の吸収
冷凍機では、再生器として、供給された燃料を燃焼させ
ることにより、あるいは高温の蒸気を導入することによ
り臭化リチウム希溶液を加熱する高圧再生器と、高圧再
生器で発生した高温の冷媒蒸気を加熱源として臭化リチ
ウム希溶液を加熱する低圧再生器とを備えている。

【０００９】高圧再生器では、臭化リチウム溶液の液面
が制御されている。具体的には、高圧再生器内に電極棒
を設け、この電極棒により液面位置を検知し、電極棒か
らの検知信号により高圧再生器内に臭化リチウム溶液を
供給するポンプを制御し、臭化リチウム溶液の液面を所
定の範囲内に保持している。すなわち、液面が高すぎる
と、高圧再生器内で発生する蒸気内に臭化リチウム溶液
が混入するので、冷媒の純粋度が保てなくなり、飽和蒸
気圧が変化し、蒸発温度が高くなってしまう。また、液
面が低く過ぎると、空焚きの状態となり、高圧再生器が
破裂する等の問題が生じるからである。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高圧再
生器内の臭化リチウム溶液の液面を検知する電極棒は、
使用するに従って表面にスラッジ等が付着し、電通状態
が次第に悪化するようになるため、定期的に交換しなけ
ればならない。また、電極棒を交換する場合に、高圧再
生器内に窒素ガスを封入して高圧再生器内を大気圧に戻
した後に、電極棒を取り外さなければならないので、そ
の作業に手間がかかることになる。さらに、電極棒の交
換の際に高圧再生器内に外気が侵入することがあり、そ
の侵入した外気により機内に腐食が発生するおそれがあ
る。さらに、電極棒は、ねじ込み式により高圧再生器に
取り付けられているため、電極棒の取付部から漏れが発
生するおそれがある。さらに、臭化リチウム溶液を供給
するポンプにインバータ制御のものを使用しているた
め、複雑な制御が必要となり、コスト高となってしま
う。

【００１１】本発明は、上記のような従来の問題に鑑み
なされたものであって、再生器内の液面を検知する部分
を定期的に交換する必要がなく、液面を検知する部分を
交換することにより機内に外気が侵入するようなことが
なく、検知する部分の取付部から漏れが発生するような
ことがなく、さらに再生器内に溶液を供給するポンプに
インバータ制御のものを使用する必要がなく、複雑な制
御が不要であって、コストを低減させることができる吸
収冷凍機における再生器の液面制御法及び吸収冷凍機を
提供することを課題とするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は、以下のような手段を採用している。す
なわち、請求項１に係る発明は、吸収器からポンプによ
り送られてくる溶液を内部に収容し、この溶液を加熱す
ることにより再生し、この再生した溶液を吸収器へ戻す
吸収冷凍機における再生器の液面制御法であって、前記
再生器の底部に、２つの流入口と１つの流出口とを有す
るフルイディクス素子を設け、このフルイディクス素子
の一方の流入口を液面の上限位置に開口させ、他方の流
入口を液面の下限位置に開口させ、前記流出口から流出
する溶液の流量を検知し、この検知信号により前記ポン
プの作動を制御するように構成したことを特徴とする。
この発明による吸収冷凍機における再生器の液面制御法
によれば、再生器内の溶液の液面が再生器の底部に位置
するフルイディクス素子の一方の流入口の開口部よりも
上方に位置する場合には、両流入口からフルイディスク
素子内に溶液が流入し、フルイディクス素子内には渦が
発生しないので抵抗が小さくなり、流出口から流出する
溶液の流量が大流量となる。また、液面が一方の流入口
の開口部よりも下方に位置する場合には、他方の流入口
のみからフルイディスク素子内に溶液が流入し、フルイ
ディクス素子内には渦が発生するので、遠心力により抵
抗が大きくなり、流出口から流出する溶液の流量が小流
量となる。従って、流出口から流出する流量を検知し、
この検知信号により再生器に溶液を送るポンプの作動を
制御することにより、液面を所定の範囲内に保つことが
できる。

【００１３】請求項２に係る発明は、吸収器からポンプ
により送られてくる溶液を内部に収容し、この溶液を加
熱することにより再生し、この再生した溶液を吸収器へ
戻す吸収冷凍機における再生器の液面制御法であって、
前記再生器の外部に、２つの流入口と１つの流出口とを
有するフルイディクス素子を設け、このフルイディクス
素子の一方の流入口を配管を介して液面の上限位置に開
口させ、他方の流入口を配管を介して液面の下限位置に
開口させ、前記流出口から流出する溶液の流量を検知
し、この検知信号により前記ポンプの作動を制御するよ
うに構成したことを特徴とする。この発明による吸収冷
凍機における再生器の液面制御法によれば、再生器内の
溶液の液面が再生器の外部に位置するフルイディクス素
子の一方の流入口の開口部よりも上方に位置する場合に
は、両流入口からフルイディスク素子内に溶液が流入
し、フルイディクス素子内には渦が発生しないので抵抗
が小さくなり、流出口から流出する溶液の流量が大流量
となる。また、液面が一方の流入口の開口部よりも下方
に位置する場合には、他方の流入口のみからフルイディ
スク素子内に溶液が流入し、フルイディクス素子内には
渦が発生するので、遠心力により抵抗が大きくなり、流
出口から流出する溶液の流量が小流量となる。従って、
流出口から流出する流量を検知し、この検知信号により
再生器に溶液を送るポンプの作動を制御することによ
り、液面を所定の範囲内に保つことができる。

【００１４】請求項３に係る発明は、吸収器からポンプ
により送られてくる溶液を内部に収容し、この溶液を加
熱することにより再生し、この再生した溶液を吸収器へ
戻す再生器を備えた吸収冷凍機であって、２つの流入口
と１つの流出口とを有し、一方の流入口を前記再生器の
液面の上限位置とするとともに、他方の流入口を前記再
生器の液面の下限位置となるように構成されたフルイデ
イスク素子を備えてなり、前記流出口から流出する溶液
の流量を検知し、この検知信号により前記ポンプの作動
を制御するように構成してなることを特徴とする。この
発明による吸収冷凍機によれば、再生器内の溶液の液
面、即ちフルイディクス素子の液面が一方の流入口の開
口部よりも上方に位置する場合には、両流入口からフル
イディスク素子内に溶液が流入し、フルイディクス素子
内には渦が発生しないので抵抗が小さくなり、流出口か
ら流出する溶液の流量が大流量となる。また、液面が一
方の流入口の開口部よりも下方に位置する場合には、他
方の流入口のみからフルイディスク素子内に溶液が流入
し、フルイディクス素子内には渦が発生するので、遠心
力により抵抗が大きくなり、流出口から流出する溶液の
流量が小流量となる。従って、流出口から流出する流量
を検知し、この検知信号により再生器に溶液を送るポン
プの作動を制御することにより、液面を所定の範囲内に
保つことができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面に示す本発明の実施の
形態について説明する。図１〜図５には、本発明による
吸収冷凍機の一実施の形態が示されていて、この吸収冷
凍機は、吸収冷凍機の高圧再生器４０の液面の制御に特
徴を有する。

【００１６】図１において、吸収冷凍機は、蒸発器１
０、吸収器２０、高圧再生器４０（再生器）、低圧再生
器５０及び凝縮器６０を主要な要素として構成されてい
る。蒸発器１０及び吸収器２０は、同一のシェル（高真
空容器）内に構成され、蒸発器１０内には蒸発器チュー
ブ１１が配置されている。蒸発チューブ１１には冷水入
口ラインＬ１を介して冷水Ｗ１が供給され、蒸発器チュ
ーブ１１を流通した冷水Ｗ１は冷水出口ラインＬ２を介
して外部に排出される。冷媒ラインＬ１１を介して冷媒
ポンプＰ１により汲み上げられた冷媒（水）Ｒは蒸発器
チューブ１１に向けて散布される。散布された冷媒Ｒ
は、蒸発器チューブ１１内を流通する冷水Ｗ１から気化
の潜熱を奪って蒸発気化して冷媒蒸気ｒとなる。この冷
媒蒸気ｒは吸収器２０側に流入していく。

【００１７】この冷水Ｗ１は、例えば１２℃の温度で蒸
発器１０に入り、蒸発器チューブ１１にて冷却され、蒸
発器１０から例えば７℃の温度で排出される。冷水出口
ラインＬ２から出てくる７℃の冷水Ｗ１は、ビルの冷房
や工場のプロセス用として用いられる。ビル冷房などの
冷房負荷において冷房に供せられた冷水Ｗ１は、温度上
昇し、例えば１２℃の温度となって再び蒸発器１０に流
入してくる。

【００１８】吸収器２０内には吸収器チューブ２１が配
置されている。この吸収器チューブ２１には、冷却水ラ
インＬ３を介して冷却水Ｗ２が供給される。そして、溶
液ラインＬ２１を介して溶液ポンプＰ２により圧送され
てきた臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器チューブ２１
に向けて散布される。このため、散布された臭化リチウ
ム濃溶液Ｙ１は、吸収器２０側に流入してきた冷媒蒸気
ｒを吸収して、濃度が薄くなる。濃度が薄くなった臭化
リチウム希溶液Ｙ３は、吸収器２０の底部に集められ
る。なお、吸収器２０内で発生する熱は、吸収器チュー
ブ２１内を流通する冷却水Ｗ２により冷却される。

【００１９】この吸収器２０の底部に集められた臭化リ
チウム希溶液Ｙ３は、溶液ポンプＰ３（ポンプ）により
圧送され、バルブＶ５、低温熱交換器３０、溶液ライン
Ｌ２２、高温熱交換器３１、溶液ラインＬ２３を介し
て、高圧再生器４０に供給される。

【００２０】高圧再生器４０は、炉筒、伝熱管を胴内に
収めるとともに、バーナーを装備している。この高圧再
生器４０は、ガスラインＬ３１及びバルブＶ２１及び燃
料制御弁Ｖ２２を介して燃焼ガスＧが供給されることに
より、燃料ガスＧを燃焼して臭化リチウム希溶液Ｙ３を
加熱する。高圧再生器４０に供給された臭化リチウム希
溶液Ｙ３は、加熱され、冷媒の一部が蒸発気化して濃度
が中程度の臭化リチウム中溶液Ｙ２となる。この臭化リ
チウム中溶液Ｙ２は、溶液ラインＬ２４、高温熱交換器
３１を通って低圧再生器５０に供給される。

【００２１】高圧再生器４０の底部には、図２〜図５に
示すようにフルイディスク素子７０が設けられている。
フルイディクス素子７０は、上下端が閉塞された筒状の
本体部７１と、本体部７１の下端中央部に設けられる本
体部７１内外を貫通する流出口７２と、本体部７１の同
一接線上に設けられるとともに、接線方向の両方向から
本体部７１内外を貫通し、かつ本体部７１の周縁部で相
互に合流する２つの流入口７３、７４とを備えている。

【００２２】この場合、一方の流入口７３はチューブ７
５を介して液面の上限位置に開口され、他方の流入口７
４はチューブ７６を介して液面の下限位置に開口される
ようになっている。流出口７２は、臭化リチウム中溶液
Ｙ２を高温熱交換器３１を介して低圧再生器５０に供給
する溶液ラインＬ２４に接続される。

【００２３】流出口７２には流量計（図示せず）が接続
され、この流量計によって流出口７２から流出する溶液
の流量が検知され、この流量計が検知した信号により高
圧再生器４０に臭化リチウム希溶液Ｙ３を圧送する溶液
ポンプＰ３の作動が制御される。

【００２４】すなわち、高圧再生器４０内の液面の位置
がフルイディクス素子７０の一方の流入口７３の開口部
よりも上方に位置する場合には、一方及び他方の流入口
７３、７４からフルイディスク素子７０の本体部７１内
に溶液が流入し、フルイディクス素子７０の本体部７１
内には渦が発生しないので抵抗が小さくなる。従って、
流出口７２から流出する溶液の流量が大流量となる。一
方、液面がフルイディクス素子７０の一方の流入口７３
の開口部よりも下方に位置する場合には、他方の流入口
７４の開口部のみからフルイディスク素子７０の本体部
７１内に溶液が流入し、フルイディクス素子７０の本体
部７１内には渦が発生するので、遠心力により抵抗が大
きくなる。従って、流出口７２から流出する溶液の流量
が小流量となる。

【００２５】従って、流出口７２から流出する溶液の流
量を検知し、この検知信号により高圧再生器に臭化リチ
ウム希溶液Ｙ３を圧送する溶液ポンプＰ３の作動を制御
することにより、液面を所定の範囲内に保つことができ
るものである。

【００２６】高圧再生器４０で蒸発した冷媒蒸気ｒは、
冷媒ラインＬ１２を介して、低圧再生器５０の低圧再生
器チューブ５１に供給され、さらに、冷媒ラインＬ１３
を介して凝縮器６０に供給される。なお、低圧再生器５
０と凝縮器６０は、同一のシェル内に構成されている。

【００２７】低圧再生器５０では、溶液ラインＬ２４を
介して臭化リチウム中溶液Ｙ２が供給されるとともに、
溶液ラインＬ２５を介して溶液ラインＬ２２から分岐し
てきた臭化リチウム希溶液Ｙ３が低圧再生器チューブ５
１に向けて散布される。この低圧再生器５０では、低圧
再生器チューブ５１により溶液Ｙ２、Ｙ３が加熱され、
冷媒の一部が蒸発して溶液の濃度がさらに濃くなり、高
濃度の臭化リチウム濃溶液Ｙ１が低圧再生器５０の底部
に集められる。この臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、溶液ポ
ンプＰ２により、再び吸収器２０に供給される。

【００２８】凝縮器６０には、冷却水ラインＬ４により
冷却水Ｗ２が供給される凝縮器チューブ６１が配置され
ている。この凝縮器６０では、高圧再生器４０にて蒸発
して冷媒ラインＬ１２、低圧再生器チューブ５１及び冷
媒ラインＬ１３を介して供給されてきた冷媒蒸気ｒと、
低圧再生器５０にて蒸発して凝縮器６０側に流入してき
た冷媒蒸気ｒとが、凝縮器チューブ６１にて冷却凝縮さ
れて、冷媒（水）Ｒとなる。この冷媒Ｒは、重力及び圧
力差により、冷媒ラインＬ１４を介して蒸発器１０に送
られる。蒸発器１０の底部に集められた冷媒Ｒは、冷媒
ポンプＰ１により再び冷媒ラインＬ１１を介して蒸発器
チューブ１１に向けて散布される。

【００２９】なお、上述した吸収冷凍機では、冷房運転
時には、バルブＶ１、Ｖ２、Ｖ３、Ｖ４は閉じており
（図では黒塗りで示している）、バルブＶ５、Ｖ１１、
Ｖ１２、Ｖ１３、Ｖ１４は開いている（図では白抜きで
示している）。また、吸収冷凍機は暖房運転をすること
もできるものである。

【００３０】上記のように構成したこの実施の形態によ
る吸収冷凍機にあっては、高圧再生器４０の液面の検知
にフルイディクス素子７０を使用しているので、液面の
検知に電極棒を使用した従来のもののように、フルイデ
ィクス素子７０を定期的に交換する必要がなくなる。従
って、交換作業時に外気が機内に侵入して機内を腐食さ
せるような心配がなくなる。また、フルイディスク素子
７０の取付部から漏れが発生するようなこともなくな
る。さらに、臭化リチウム溶液を高圧再生器４０内に供
給する溶液ポンプＰ３にインバータ制御のものを使用す
る必要がなくなり、複雑な制御が不要となるので、コス
トを低減させることができることになる。

【００３１】図６には、本発明による吸収冷凍機の他の
実施の形態が示されていて、この吸収冷凍機は、フルイ
ディクス素子７０を高圧再生器４０の外部に設け、フル
イディスク素子７０の本体部７１の一方の流入口７３を
チューブ７５を介して高圧再生器４０内の液面の上限位
置に開口させ、他方の流入口７４をチューブ７６を介し
て高圧再生器４０内の液面の下限位置に開口させ、流出
口７２を臭化リチウム中溶液Ｙ２を高温熱交換器３１を
介して低圧再生器５０に供給する溶液ラインＬ２３に接
続し、流出口７２に流量計（図示せず）を接続したもの
であって、その他の構成は前記実施の形態に示すものと
同様である。

【００３２】そして、この実施の形態に示す吸収冷凍機
にあっても、前記実施の形態に示すものと同様に、高圧
再生器４０内の液面の位置がフルイディクス素子７０の
一方の流入口７３の開口部よりも上方に位置する場合に
は、一方及び他方の流入口７３、７４からフルイディス
ク素子７０の本体部７１内に溶液が流入し、フルイディ
クス素子７０の本体部７１内には渦が発生しないので抵
抗が小さくなる。従って、流出口７２から流出する溶液
の流量が大流量となる。一方、液面がフルイディクス素
子７０の一方の流入口７３の開口部よりも下方に位置す
る場合には、他方の流入口７４の開口部のみからフルイ
ディスク素子７０の本体部７１内に溶液が流入し、フル
イディクス素子７０の本体部７１内には渦が発生するの
で、遠心力により抵抗が大きくなる。従って、流出口７
２から流出する溶液の流量が小流量となる。

【００３３】従って、流出口７２から流出する溶液の流
量を検知し、この検知信号により高圧再生器４０に臭化
リチウム希溶液Ｙ３を圧送する溶液ポンプＰ３の作動を
制御することにより、液面を所定の範囲内に保つことが
できるものである。

【００３４】そして、この実施の形態にあっても、前記
実施の形態に示すものと同様の効果を示し、高圧再生器
４０の液面の検知にフルフィディクス素子７０を使用し
ているので、液面の検知に電極棒を使用した従来のもの
のように、フルイディクス素子７０を定期的に交換する
必要がなくなる。従って、交換作業時に外気が機内に侵
入して機内を腐食されるような心配がなくなる。また、
フルイディスク素子７０の取付部から漏れが発生するよ
うなこともなくなる。さらに、臭化リチウム希溶液Ｙ３
を高圧再生器４０内に供給する溶液ポンプＰ３にインバ
ータ制御のものを使用する必要がなくなり、複雑な制御
が不要となるので、コストを低減させることができるこ
とになる。

【００３５】なお、前記各実施の形態においては、フル
イディクス素子７０を高圧再生器４０の液面の制御に適
用したが、低圧再生器５０の液面の制御に適用しても良
いものであり、その場合にも同様の効果が得られるもの
である。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明による液面
制御法及び吸収冷凍機によれば、フルイディスク素子の
流出口から流出する溶液の流量を検知することにより液
面の位置を検知でき、この検知信号により再生器内に溶
液を供給するポンプの作動を制御することにより、再生
器内の溶液の液面の位置を所定の範囲内に保持すること
ができることになる。従って、液面の検知に電極棒を使
用したもののように、フルイディクス素子を定期的に交
換する必要がなくなるので、交換に要する手間を削減す
ることができることになる。また、フルイディクス素子
を交換する必要がないので、交換作業時に外気（空気）
が機内に侵入して機内を腐食させるような心配がなくな
る。さらに、フルイディスク素子の取付部から漏れが発
生するようなこともなくなる。さらに、溶液を再生器内
に供給するポンプに高価なインバータ制御のものを使用
する必要がないので、複雑な制御が不要となり、コスト
を低減させることができることになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施の形態である吸収冷凍機の全
体を示した概略構成図である。

【図２】 本発明の一実施の形態である吸収冷凍機態の
要部を示す図であって、液面位置が一方の流入口の開口
部よりも上方に位置する状態を示した説明図である。

【図３】 図２のＡ−Ａ線断面図である。

【図４】 本発明の一実施の形態である吸収冷凍機の要
部を示す図であって、液面位置が一方の流入口の開口部
よりも下方に位置する状態を示した説明図である。

【図５】 図４のＢ−Ｂ線断面図である。

【図６】 本発明の他の実施形態である吸収冷凍機を示
す図であって、液面位置が一方の流入口の開口部よりも
上方に位置する状態を示した説明図である。

【符号の説明】

２０ 吸収器 ４０ 高圧再生器（再生器） ５０ 低圧再生器 ７０ フルイディクス素子 ７２ 流出口 ７３、７４ 流入口 ７５、７６ チューブ Ｙ２ 臭化リチウム中溶液 Ｙ３ 臭化リチウム希溶液 Ｐ３ 溶液ポンプ（ポンプ）

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 吸収器からポンプにより送られてくる溶
   液を内部に収容し、この溶液を加熱することにより再生
   し、この再生した溶液を吸収器へ戻す吸収冷凍機におけ
   る再生器の液面制御法であって、 前記再生器の底部に、２つの流入口と１つの流出口とを
   有するフルイディクス素子を設け、このフルイディクス
   素子の一方の流入口を液面の上限位置に開口させ、他方
   の流入口を液面の下限位置に開口させ、前記流出口から
   流出する溶液の流量を検知し、この検知信号により前記
   ポンプの作動を制御することを特徴とする吸収冷凍機に
   おける再生器の液面制御法。
2. 【請求項２】 吸収器からポンプにより送られてくる溶
   液を内部に収容し、この溶液を加熱することにより再生
   し、この再生した溶液を吸収器へ戻す吸収冷凍機におけ
   る再生器の液面制御法であって、 前記再生器の外部に、２つの流入口と１つの流出口とを
   有するフルイディクス素子を設け、このフルイディクス
   素子の一方の流入口を配管を介して液面の上限位置に開
   口させ、他方の流入口を配管を介して液面の下限位置に
   開口させ、前記流出口から流出する溶液の流量を検知
   し、この検知信号により前記ポンプの作動を制御するこ
   とを特徴とする吸収冷凍機における再生器の液面制御
   法。
3. 【請求項３】 吸収器からポンプにより送られてくる溶
   液を内部に収容し、この溶液を加熱することにより再生
   し、この再生した溶液を吸収器へ戻す再生器を備えた吸
   収冷凍機であって、 ２つの流入口と１つの流出口とを有し、一方の流入口を
   前記再生器の液面の上限位置とするとともに、他方の流
   入口を前記再生器の液面の下限位置となるように構成さ
   れたフルイデイスク素子を備えてなり、前記流出口から
   流出する溶液の流量を検知し、この検知信号により前記
   ポンプの作動を制御するように構成してなることを特徴
   とする吸収冷凍機。