JP2003163251A - 搬送装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハホルダを常に清浄な状態に維持する。 【解決手段】 大気部（外部）とステージ室３７との間
に設けられた少なくとも１つの搬送室（ＲＩ２，ＲＩ
３）の隔壁にウエハＷ及びウエハホルダ４０の少なくと
も一方の通路となる開口がそれぞれ形成され、その開口
の内の少なくとも１つの特定開口（３０ｃ，３０ｂ，３
１ａ）を開閉するゲートバルブ（２６，２７）の開閉動
作に連動して、搬送ロボット２３がステージ室と、搬送
室内部の大気部からアクセス可能な所定位置との間で少
なくともホルダを搬送する。このため、搬送室を介して
大気部からステージ室内に大気及び該大気中の塵等が浸
入するのを極力抑制した状態で、ロボットによる前記所
定位置までのホルダ搬送を行うことができるので、ホル
ダの清掃を何ら支障なく行うことができ、ステージ室内
におけるホルダを常に清浄な状態に維持することが可能
となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送装置及び露光
装置に係り、更に詳しくは、ほぼ気密状態とされた物体
収容室内に搬送対象物を搬入し、かつ物体収容室から搬
送対象物を搬出する搬送装置、及び該搬送装置を備える
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子、液晶表示素子等を製造する
リソグラフィ工程では、ウエハ等の基板やマスクあるい
はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）の大型化
などに伴い、スループットを重視する観点から、ステッ
プ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置、あるい
はこのステッパを改良したステップ・アンド・スキャン
方式の走査型露光装置（いわゆるスキャニング・ステッ
パ）などの逐次移動型の投影露光装置が、主として用い
られている。

【０００３】近時の露光装置においては、解像度をより
高めるために露光用照明光として、ＫｒＦエキシマレー
ザ光（波長２４８ｎｍ）よりも短波長のＡｒＦエキシマ
レーザ光（波長１９３ｎｍ）が使用されつつある。ま
た、これとともに、更に短波長のＦ₂レーザ光（波長１
５７ｎｍ）等の使用も検討されている。

【０００４】これら波長２００ｎｍ以下程度の真空紫外
光（ＶＵＶ光）は、通常の空気（特に酸素）による吸収
率が高いため、その真空紫外光を露光用照明光として使
用する場合には、ウエハを保持して移動するウエハステ
ージやレチクルを保持して移動するレチクルステージを
それぞれ密閉された空間であるステージ室（サブチャン
バ）に収容し、これらステージ室内部の空気を窒素ガス
やヘリウムガスその他の希ガス、すなわち真空紫外光を
殆ど吸収しない不活性ガス（低吸収性ガス）で置換した
り、ステージ室内部の露光用照明光（露光光）の光路を
ほぼ真空にしたりする必要がある。従って、ステージ室
は気密性が保たれている必要がある。

【０００５】なお、ＶＵＶ光では空気だけでなく水分あ
るいは水蒸気も問題となる。通常、不活性ガスはその湿
度が低いため問題とはならないが、波長１９３ｎｍ程度
のＡｒＦエキシマレーザ光では不純物（照明光を減衰さ
せる有機物、イオンなど）の濃度を低くした化学的にク
リーンな空気が用いられるので、不純物濃度だけでなく
湿度管理も行われており、現在はドライエア（例えば湿
度が５％程度以下）が使用されている。

【０００６】このため、ステージ室内に外部からウエハ
等を搬送したり、ステージ室内から外部にウエハ等を搬
送する搬送装置についても、搬送を行う際に、ステージ
室に対する空気等の混入が抑制されるような様々な工夫
をする必要がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】最近におけるパターン
の微細化に伴い、要求される露光精度はますます厳しく
なっている。例えば、ウエハステージ上でウエハを保持
するウエハホルダ（ウエハ保持器）に塵埃などの異物が
付着した場合に、ウエハホルダとウエハとの間にその異
物が挟み込まれ、ウエハの平坦度（フラットネス）が悪
化する。このウエハのフラットネスの悪化は、露光精度
の低下の要因となるが、従来は問題とならなかった程度
のものまでも最近では無視できなくなりつつある。従っ
て、ウエハホルダの定期的な清掃を行うことが望まし
い。

【０００８】しかしながら、上述したようにウエハステ
ージはステージ室内に収容されているため、オペレータ
等がウエハホルダに直接アクセスするのは難しい。これ
はステージ室内の気密性が維持されなくなるということ
のみならず、ステージ室内の気体が漏出し、オペレータ
に対する悪影響が出る虞もあるからである。

【０００９】なお、ステージ室内が不活性ガスで置換さ
れたり、真空状態にされたりしない場合であっても、ウ
エハホルダの搬送に伴うステージ室内への塵埃の浸入
は、極力避けることが望ましい。

【００１０】一方、ウエハホルダを搬送する専用の搬送
系を設けることは、露光装置本体が設置される空間の余
剰スペースの問題でなかなか実現が困難であるととも
に、装置コストの上昇を招くので現実的な改善策とは言
い難い。

【００１１】本発明はかかる事情の下になされたもので
あり、その第１の目的は、物体収容室内への大気の混入
を極力抑制しつつ、物体収容室内の物体保持器を外部か
らアクセス可能位置まで搬送することが可能な搬送装置
を提供することにある。

【００１２】本発明の第２の目的は、高精度な露光を実
現することが可能な露光装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、ほぼ気密状態とされた物体収容室（３７）内に搬送
対象物を搬入し、かつ前記物体収容室から前記搬送対象
物を搬出する搬送装置であって、大気部と前記物体収容
室との間に設けられ、物体及び該物体を保持する物体保
持器（４０）の少なくとも一方の通路となる開口（３０
ｃ，３０ｂ，３１ａ，３０ａ，２９ｂ，２９ａ）が隣接
する空間との間の隔壁にそれぞれ形成された少なくとも
１つの搬送室（ＲＩ１，ＲＩ２，ＲＩ３）と；前記物体
収容室から前記大気部に至る搬送経路中に存在する隔壁
にそれぞれ形成された開口のうちの少なくとも１つの特
定開口（３０ｃ，３０ｂ，３１ａ，３０ａ，２９ｂ，２
９ａ）を開閉する開閉装置（２０、２４、２５、２６、
２７）と；前記開閉装置による前記特定開口の開閉動作
に連動して前記物体収容室と前記搬送室内部の前記大気
部からアクセス可能な所定位置との間で少なくとも前記
物体保持器を搬送する搬送機構（２３）と；を備える搬
送装置である。

【００１４】本明細書において、「ほぼ気密状態とされ
た物体収容室」とは、完全な気密状態の物体収容室の
他、塵の混入を極力阻止できる程度の概略閉空間から成
る物体収容室をも含む。すなわち、物体収容室は不活性
ガスのパージ空間あるい真空空間であっても良いが、こ
れらに限られない。

【００１５】これによれば、大気部と物体収容室との間
に設けられた少なくとも１つの搬送室の隣接する空間と
の間の隔壁に物体及び該物体を保持する物体保持器の少
なくとも一方の通路となる開口がそれぞれ形成されてい
る。そして、物体収容室から大気部に至る搬送経路中に
存在する隔壁にそれぞれ形成された開口のうちの少なく
とも１つの特定開口を開閉する開閉装置の開閉動作に連
動して、搬送機構が物体収容室と搬送室内部の大気部
（外部）からアクセス可能な所定位置（以下、適宜「外
部アクセス可能位置」と呼ぶ）との間で少なくとも物体
保持器を搬送する。このため、搬送機構による物体保持
器の搬送の際に、搬送室を介して大気部から物体収容室
内に大気及びその大気中の塵等が浸入するのを極力抑制
することができるとともに、物体収容室内部に収容され
ている物体保持器を外部アクセス可能位置まで搬送する
ことができる。これにより、物体保持器の清掃を何らの
支障なく行うことが可能となり、この清掃後の物体保持
器を再度搬送機構が物体収容室内部へ搬入することによ
り、物体収容室内部における物体保持器を常に清浄（ク
リーン）な状態に維持できる。勿論、この清掃後の物体
保持器の物体収容室内部への再搬入も開閉装置による前
記特定開口の開閉動作に連動して行われる。

【００１６】この場合において、請求項２に記載の搬送
装置の如く、前記少なくとも１つの搬送室には、内部に
前記搬送機構が配置される第１搬送室（ＲＩ２）と、該
第１搬送室との間を前記特定開口が形成された特定の隔
壁により仕切られ、その内部に前記所定位置が設けられ
た第２搬送室（ＲＩ３）とが含まれることとすることが
できる。

【００１７】この場合において、請求項３に記載の搬送
装置の如く、前記第１搬送室は、少なくとも酸素を含む
特定気体がほぼ除去された空間であることとすることが
できる。

【００１８】本明細書において、「特定気体がほぼ除去
された」とは、その特定気体が完全に除去されるだけで
はなく、特定気体が所定の許容濃度以下に設定される、
又は所定の真空度以下に設定される場合も含み、また、
「特定気体」には空気、水蒸気（水分）なども含まれ
る。

【００１９】上記請求項２及び３に記載の各搬送装置に
おいて、請求項４に記載の搬送装置の如く、前記第２搬
送室にはその内部を、少なくとも酸素を含む特定気体が
ほぼ除去された第１状態と該特定気体が存在する第２状
態とのいずれの状態にも設定可能な内部環境設定装置
（１５０）が併設されていることとすることができる。

【００２０】この場合において、請求項５に記載の搬送
装置の如く、前記内部環境設定装置は、前記特定気体が
ほぼ除去された空間で静電気の発生を抑制することとす
ることができる。

【００２１】特定気体がほぼ除去された空間では、水分
も除去されるため（湿度の低い気体が用いられるた
め）、摩擦又は帯電転位などによる静電気の発生が問題
となる。従って、内部環境設定装置が、特定気体がほぼ
除去された空間で静電気の発生を抑制することが好まし
い。静電気の発生を抑制するため、例えば、機械的接触
による導通対策（アース）、あるいはイオナイザなどに
よる静電気対策を実行することができる。

【００２２】上記請求項１〜５に記載の各搬送装置にお
いて、請求項６に記載の搬送装置の如く、前記開閉装置
により開閉される特定開口に、前記物体の外部からの搬
出入口（２９ａ）が含まれる場合には、前記開閉装置に
よる前記搬出入口の開閉に連動して前記搬出入口を介し
て前記物体を外部から前記搬送室に対して搬出入する外
部搬送機構（２２）を更に備えることとすることができ
る。

【００２３】この場合において、請求項７に記載の搬送
装置の如く、前記外部搬送機構がアクセス可能な物体給
排システム（２１，４３）を更に備えることとすること
ができる。

【００２４】上記請求項６及び７に記載の各搬送装置に
おいて、請求項８に記載の搬送装置の如く、前記少なく
とも１つの搬送室の内部に配置され、前記物体の位置ず
れ検出を行う位置ずれ検出装置（３３）を更に備えるこ
ととすることができる。

【００２５】この場合において、請求項９に記載の搬送
装置の如く、前記物体収容室に、前記搬送機構により前
記物体及び前記物体保持器が搬出及び搬入される受け渡
し位置が複数箇所設けられた場合には、前記位置ずれ検
出装置は、いずれの受け渡し位置に搬送される物体につ
いても前記位置ずれ検出を行うこととすることができ
る。

【００２６】請求項１０に記載の発明は、エネルギビー
ムにより基板（Ｗ）を露光して前記基板上に所定のパタ
ーンを形成する露光装置であって、請求項１〜９のいず
れか一項に記載の搬送装置を、前記基板及びこれを保持
する基板保持器の搬送装置として備え、前記物体収容室
が前記基板の露光が行われる露光室（３７）であること
を特徴とする露光装置である。

【００２７】これによれば、露光室内部に基板及び基板
保持器を搬送する搬送装置として、上記請求項１〜９に
記載の各搬送装置を備えているので、露光室内への大気
及び該大気中に含まれる塵埃等の浸入を極力抑制できる
とともに、基板保持器を常にクリーンな状態に維持する
ことができる。従って、例えばエネルギビームの吸収の
少ない気体（前述の不活性ガスなどの低吸収性ガス）に
より露光室内の気体を置換した場合などに、露光室内部
への塵埃の混入を極力抑制できるのみならず、露光室内
部の気体の純度を維持することができる。また、基板保
持器と基板との間への異物の挟み込み等に起因する基板
の平坦度の低下も抑制することができる。従って、高精
度な露光を実現することができる。

【００２８】この場合において、請求項１１に記載の露
光装置の如く、前記露光室内には、前記基板保持器が搭
載される移動テーブル（ＷＳＴ）が設けられ、前記搬送
機構によって搬送された前記基板保持器が前記移動テー
ブルに搭載されるのに先立って、前記基板保持器の位置
ずれを検出する検出装置（１３３）を更に備えることと
することができる。

【００２９】この場合において、請求項１２に記載の露
光装置の如く、前記検出装置は、前記搬送機構によって
搬送された前記基板が前記移動テーブル上の前記基板保
持器に搭載されるのに先立って、前記基板の位置ずれを
検出する装置を兼ねることとすることができる。

【００３０】上記請求項１１及び１２に記載の各露光装
置において、請求項１３に記載の露光装置の如く、前記
露光室内には、前記移動テーブルが複数設けられている
こととすることができる。

【００３１】この場合において、請求項１４に記載の露
光装置の如く、前記各移動テーブルに対する前記基板保
持器及び前記基板の受け渡し位置が異なる位置に設定さ
れ、前記検出装置が前記各受け渡し位置に個別に対応し
て設けられていることとすることができる。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
〜図６に基づいて説明する。

【００３３】図１には、一実施形態に係る露光装置１０
０の横断面図（平面断面図）がウエハ及びウエハホルダ
を搬送する搬送装置を中心として概略的に示され、図２
には、図１のＡ−Ａ線断面図が一部省略して示されてい
る。また、図３には、図１のＢ−Ｂ線断面図が示され、
図４には、図１のＣ−Ｃ線断面図が示されている。

【００３４】この露光装置１００は、レチクルＲ（図３
参照）に形成された回路パターンを投影光学系ＰＬを介
して基板（及び物体）としてのウエハＷ上の複数のショ
ット領域に順次転写する、ステップ・アンド・スキャン
方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッ
パ）である。

【００３５】この露光装置は、図１に示されるように、
クリーンルーム内に設置された全体チャンバ３８、該全
体チャンバ３８内に収容された露光装置本体１１０、及
び該露光装置本体１１０に隣接して配置された搬送装置
１２０等を備えている。

【００３６】本実施形態の露光装置１００では、露光用
光源として、例えば波長１９３ｎｍの紫外域のパルスレ
ーザ光を発振するＡｒＦエキシマレーザが用いられてい
る。なお、露光用光源として出力波長が２４８ｎｍのＫ
ｒＦエキシマレーザ、あるいはＡｒＦエキシマレーザよ
り短波長の紫外パルス光を出力するＦ₂レーザ（出力波
長１５７ｎｍ）などを用いることも可能である。

【００３７】前記露光装置本体１１０は、図３及び図４
を総合すると明らかなように、床面Ｆ上に載置されたベ
ース４１と、該ベース４１の上面に立設された４本の支
持部材５２Ａ〜５２Ｄ（図３においては、紙面手前側の
２本の支持部材５２Ｃ，５２Ｄは不図示、図１参照）
と、支持部材５２Ａ〜５２Ｄにより下方から支持された
ＰＬボディ（鏡筒定盤）５６と、ＰＬボディ５６の上方
を覆うように設けられたレチクルステージ室５８と、Ｐ
Ｌボディ５６の下面に吊り下げ支持状態で固定されたウ
エハステージチャンバ１３７とを備えている。

【００３８】前記支持部材５２Ａ〜５２Ｄは、実際には
床面Ｆからベース４１を介してＰＬボディ５６に伝達さ
れる微振動をマイクロＧレベルで絶縁する不図示の防振
ユニットをそれぞれ含んで構成されている。

【００３９】前記ＰＬボディ５６は、平板状の部材から
成り、その中央には、平面視（上から見て）円形の開口
（不図示）が上下方向（Ｚ軸方向）に連通して形成され
ている。この開口には、前記投影光学系ＰＬが上方から
挿入され、投影光学系ＰＬはその高さ方向の中央部近傍
に設けられた不図示のフランジを介してＰＬボディ５６
に固定されている。

【００４０】投影光学系ＰＬとしては、ここでは、物体
面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方がテレ
セントリックで円形の投影視野を有し、石英やホタル石
を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）のみから
成る１／４、１／５あるいは１／６縮小倍率の屈折光学
系が使用されている。

【００４１】前記レチクルステージチャンバ５８内に
は、図３に示されるように、レチクルＲを保持して、例
えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系８５
（図３では図示せず、図６参照）によって駆動され、レ
チクルＲを所定の走査方向（ここでは、Ｙ軸方向とす
る）に大きなストロークで直線駆動するとともに、少な
くとも非走査方向であるＸ軸方向とθｚ方向（Ｚ軸回り
の回転方向）に関しても微小駆動が可能なレチクルステ
ージＲＳＴが設けられている。

【００４２】レチクルステージＲＳＴのＸＹ面内の位置
（θｚ回転を含む）は、レチクルレーザ干渉計８６（図
３では図示せず、図６参照）によって例えば、０．５〜
１ｎｍ程度の分解能で常時検出されるようになってい
る。レチクルレーザ干渉計８６によって計測されるレチ
クルステージＲＳＴ（即ちレチクルＲ）の位置情報（又
は速度情報）は主制御装置２０に送られる（図６参
照）。主制御装置２０は、基本的にはレチクルレーザ干
渉計８６から出力される位置情報（或いは速度情報）が
指令値（目標位置、目標速度）と一致するようにレチク
ルステージ駆動系８５を制御する。

【００４３】前記ウエハステージチャンバ１３７の内部
には、図３に示されるように、露光室（及び物体収容
室）としてのウエハステージ室３７が形成されている。
このウエハステージ室３７の内部には、ウエハステージ
ベース５７、該ウエハステージベース５７の上面のガイ
ド面に沿って例えばリニアモータ等を含むウエハステー
ジ駆動系８７（図３では図示せず、図６参照）によって
自在に２次元駆動される移動テーブルとしてのウエハス
テージＷＳＴ等が収容されている。また、ウエハステー
ジ室３７の上部隔壁を構成するウエハステージチャンバ
１３７の天井面には、ステージ室内アライメント部４９
が吊り下げ支持状態で取り付けられている。

【００４４】前記ウエハステージＷＳＴの上面には、ウ
エハＷを真空吸着又は静電吸着等により吸着保持する基
板保持器（及び物体保持器）としてのウエハホルダ４０
が搭載されている。ウエハステージＷＳＴは、図５
（Ａ）〜図５（Ｃ）から分かるように、各３本の上下動
ピンから成る２種類のセンタアップ機構８２，８４が設
けられている。このうち、ウエハホルダ４０の中心寄り
に設けられた３本の上下動ピンから成るセンタアップ機
構（以下、「第１センタアップ機構」と呼ぶ）８２は、
該第１センタアップ機構８２を構成する各上下動ピンに
対応してウエハホルダ４０に上下方向に貫通形成された
不図示の３つの開口を介してウエハホルダ４０の上面の
上方に出没自在な構成となっている。また、第１センタ
アップ機構８２を構成する３本の上下動ピンの外側に設
けられた３本の上下動ピンから成るセンタアップ機構
（以下、「第２センタアップ機構」と呼ぶ）８４は、ウ
エハステージＷＳＴの上面の上方に出没自在となってい
る。これらセンタアップ機構８２，８４は、主制御装置
２０からの指示に応じて駆動され、第１センタアップ機
構８２は、ウエハＷをウエハホルダ４０上にロードする
際及びウエハホルダ４０上からウエハＷをアンロードす
る際に用いられ、第２センタアップ機構８４は、ウエハ
ステージＷＳＴ上にウエハホルダ４０をロードする際及
びウエハステージＷＳＴ上からウエハホルダ４０をアン
ロードする際に用いられる。

【００４５】前記ウエハステージＷＳＴのＸＹ位置及び
回転量（ヨーイング量、ローリング量、ピッチング量）
は、ウエハレーザ干渉計８８（図６参照）によって例え
ば０．５〜１ｎｍ程度の分解能でリアルタイムに計測さ
れる。このウエハレーザ干渉計８８の計測値は、主制御
装置２０に供給されるようになっている。

【００４６】前記ステージ室内アライメント部４９は、
ウエハＷの第２プリアライメントを行うとともに、ウエ
ハホルダ４０のプリアライメントを行うための構成部分
である。このステージ室内アライメント部４９は、図３
に示されるように、ウエハＷ（又はウエハホルダ４０）
を３点支持するハンド部４９ａと、該ハンド部４９ａを
少なくとも上下方向に駆動するハンド駆動機構４９ｂ
と、前記ハンド部４９ａにより支持されたウエハＷ（又
はウエハホルダ４０）の位置ずれ（中心点のＸＹ面内位
置ずれ及び面内回転ずれ）を検出する検出装置１３３
（図３では不図示、図６参照）とを備えている。

【００４７】前記ハンド部４９ａは、ウエハＷ（又はウ
エハホルダ４０）を下方から３点で支持する３つのフッ
ク部を有している。このハンド部４９ａは、３つのフッ
ク部のうちの１つを有する第１ハンドと、残りの２つの
フック部を有する第２ハンドとを備えている。これら第
１ハンドと第２ハンドとは、相互に接近する方向（以
下、「閉方向」と呼ぶ）及び相互に離間する方向（以
下、「開方向」と呼ぶ）に駆動可能な構成となってい
る。

【００４８】前記ハンド駆動機構４９ｂは、第１及び第
２ハンドを上記開方向及び閉方向に駆動するとともに、
一体的に回転駆動し、かつ昇降駆動するようになってい
る。すなわち、前記ハンド駆動機構４９ｂは、第１及び
第２ハンドの開閉、回転及び上下駆動を行う。

【００４９】前記検出装置１３３は、ハンド部４９ａの
フック部によって支持されたウエハＷ（又はウエハホル
ダ４０）の外形上の特徴部、例えばノッチ又はオリエン
テーションフラットなどの切り欠き部を含む外形を検出
することにより、ウエハＷ（又はウエハホルダ４０）の
位置ずれを検出する。この検出装置１３３としては、例
えばハンド部４９ａにより支持されたウエハＷ（又はウ
エハホルダ４０）の上記特徴部を含む複数箇所に検出ビ
ームをそれぞれ照射する発光部と、ウエハＷ（又はウエ
ハホルダ４０）の上記複数箇所をそれぞれ介した検出ビ
ームを個別に受光する受光部（受光素子又はＣＣＤカメ
ラなど）とを有する光学式のウエハ外形形状検出装置を
用いることができる。

【００５０】前記搬送装置１２０は、図１に示されるよ
うに、全体チャンバ３８内部の−Ｙ側端部近傍に設置さ
れたウエハカセット載置台４３上に載置されたウエハカ
セット２１と、ウエハカセット載置台４３の＋Ｙ側に所
定間隔を隔てた位置に設置された外部搬送機構としての
外部搬送ロボット２２と、該外部搬送ロボット２２の＋
Ｙ側に所定間隔を隔てて設置された搬送装置本体部１４
０とを備えている。ウエハカセット２１の内部には、複
数枚のウエハが上下方向に所定間隔で収納されるように
なっている。搬送装置１２０の上記構成各部は、全体チ
ャンバ３８の内部で床面Ｆ上に配置されたベース４２上
に配設されている。

【００５１】前記ウエハカセット載置台４３は、図２に
示されるように、その上面に載置された前述のウエハカ
セット２１を下方から支持する支持板４３ａと、該支持
板４３ａがその上端面に固定され上下方向に駆動可能な
Ｚ駆動軸４３ｂと、該Ｚ駆動軸４３ｂを上下方向（Ｚ軸
方向）に駆動するＺ軸駆動機構４３ｃとを備えている。

【００５２】前記外部搬送ロボット２２は、多関節型の
アーム２２ａと、該アーム２２ａを旋回及び伸縮駆動す
るアーム駆動機構２２ｂとを備えた水平多関節ロボット
により構成されている。この外部搬送ロボット２２は、
主制御装置２０により制御され（図６参照）、例えばウ
エハカセット２１内部の床面が所定高さ位置にある所定
の収納段に対してウエハを搬入しかつその収納段からウ
エハを搬出する。この場合、外部搬送ロボット２２のア
ーム２２ａは、上下動しないので、ウエハカセット載置
台４３の支持板４３ａ及びＺ駆動軸４３ｂの上下動によ
り、アーム２２ａがウエハカセット２１内部の全ての収
納段に収納されたウエハに対してアクセスできる構成と
なっている。すなわち、本実施形態では、ウエハカセッ
ト載置台４３とウエハカセット２１とによって、外部搬
送ロボット２２のアーム２２ａがアクセス可能な物体給
排システムが構成されている。

【００５３】図１に戻り、前記搬送装置本体部１４０
は、外部搬送ロボット２２とウエハステージチャンバ１
３７との間に、Ｘ軸方向に隣接して配置された第１搬送
系チャンバ１２９、第２搬送系チャンバ１３０及び第３
搬送系チャンバ１３１を備えている。これらの搬送系チ
ャンバ１３０、１３１、１３２の内部には、気密室から
成る第１室ＲＩ１、第２室ＲＩ２、第３室ＲＩ３がそれ
ぞれ形成されている。これら３つの気密室は、１つのチ
ャンバの内部空間を隔壁により区画して形成しても良い
し、３つの独立したチャンバの内部にそれぞれ形成して
も良い。

【００５４】前記第１室ＲＩ１は、ウエハＷの第１プリ
アライメントが行われるウエハ搬送室である。この第１
室ＲＩ１は、外部搬送ロボット２２に対向する位置に配
置されている。この第１室ＲＩ１がその内部に配置され
た第１搬送系チャンバ１２９は、図２に示されるよう
に、ベース４２上に設置された第１室架台４４上に配置
されている。第１室ＲＩ１の内部には、該第１室ＲＩ１
内に外部搬送ロボット２２によって後述のようにして搬
入されるウエハＷの位置ずれを補正するための搬送装置
内アライメント部５５が配設されている。

【００５５】前記第１搬送系チャンバ１２９の−Ｙ側及
び＋Ｘ側の側壁それぞれには、図１に示されるように、
開口２９ａ，２９ｂが形成されている。一方の開口２９
ａの外側（−Ｙ側）には、該開口２９ａを開閉するゲー
トバルブ２４が設けられ、他方の開口２９ｂの内側（−
Ｘ側）には、該開口２９ｂを開閉するゲートバルブ２５
が設けられている。

【００５６】ゲートバルブ２４は、図２に示されるよう
に、シャッタ２４ａと該シャッタ２４ａを上下方向にス
ライド駆動する駆動機構２４ｂとを備えている。シャッ
タ駆動機構２４ｂは、主制御装置２０（図６参照）によ
って制御され、シャッタ２４ａによる開口２９ａの開閉
が行われる。以下においては、シャッタ２４ａによる開
口２４ａの閉鎖状態、及びシャッタ２４ａによる開口２
４ａの非閉鎖状態を、それぞれゲートバルブ２４の閉状
態、開状態とも呼ぶ。このゲートバルブ２４の閉状態で
は、開口２９ａを介した気体の流通は一切遮断される。

【００５７】前記ゲートバルブ２５は、図４に示される
ように、シャッタ２５ａと該シャッタ２５ａを上下方向
にスライド駆動する駆動機構２５ｂとを備えている。シ
ャッタ駆動機構２５ｂは、主制御装置２０（図６参照）
によって制御され、シャッタ２５ａによる開口２９ｂの
開閉が行われる。以下においては、シャッタ２５ａによ
る開口２９ａの閉鎖状態、及びシャッタ２５ａによる開
口２９ｂの非閉鎖状態を、それぞれゲートバルブ２５の
閉状態、開状態とも呼ぶ。このゲートバルブ２５の閉状
態では、開口２９ｂを介した気体の流通は一切遮断され
る。

【００５８】前記搬送装置内アライメント部５５は、図
１に示されるように、第１室ＲＩ１内に、外部搬送ロボ
ット２２により搬入されたウエハＷの位置ずれを検出す
る位置ずれ検出装置３３と、そのウエハＷの回転及びＸ
Ｙ面内の位置調整を行うアライメント駆動部３２とを備
えている。

【００５９】前記アライメント駆動部３２は、図２に示
されるように、第１室ＲＩ１内に配置されＹ軸方向に所
定長さで延びるＹガイド３２Ｙと、該Ｙガイド３２Ｙ上
に配置されたＸ軸方向を長手方向とするＸガイド３２Ｘ
₁と、該Ｘガイド３２Ｘ₁上に配置され不図示のリニアモ
ータ等によってＸガイド３２Ｘ₁に沿って移動するスラ
イダ３２Ｘ₂と、該スライダ３２Ｘ₂の上面に固定されＺ
軸方向に延びるＺガイド３２Ｚと、該Ｚガイド３２Ｚに
沿って不図示のリニアモータ等によって駆動される回転
駆動部３２θとを備えている。Ｘガイド３２Ｘ₁は、不
図示のリニアモータ等によってＹガイド３２Ｙに沿って
駆動されるようになっている。回転駆動部３２θは、回
転モータを有し、該モータによって回転駆動される回転
軸の上端面には、不図示のバキュームチャックが設けら
れている。

【００６０】従って、このアライメント駆動部３２は、
回転駆動部３２θの回転軸の上端面にウエハＷを真空吸
着により保持するとともに、そのウエハＷをＸ軸方向、
Ｙ軸方向、Ｚ軸方向及びθｚ方向の４自由度方向に駆動
可能となっている。このように、アライメント駆動部３
２は、４自由度方向の駆動部及びバキュームチャックを
有し、これらが主制御装置２０によって制御されるよう
になっている（図６参照）。

【００６１】前記位置ずれ検出装置３３は、第１搬送系
チャンバ１２９内部の＋Ｙ側の側壁に固定された側面視
コ字状のプリアライメント装置本体（筐体）、該プリア
ライメント装置本体内部に配置された３つのＣＣＤカメ
ラ及びこれら３つのＣＣＤカメラからの画像信号を処理
する画像処理系等を含んで構成されている。上記３つの
ＣＣＤカメラは、ここでは、アライメント駆動部３２の
回転駆動部３２θに上述のようにして吸着保持され、回
転されるウエハのノッチ（Ｖ字状の切り欠き）又はオリ
エンテーションフラットなどの外形上の特徴部を含む外
縁を撮像可能な位置に配置されている。上記画像処理系
は、３つのＣＣＤカメラからの画像信号に所定の信号処
理を施すとともにその結果得られる画像情報に基づいて
ウエハＷの位置ずれ（中心点のＸ，Ｙ位置誤差及びθｚ
回転誤差）を算出する。そして、この画像処理系で算出
されたウエハＷの位置ずれの情報が主制御装置２０に供
給されるようになっている（図６参照）。

【００６２】前記第２室ＲＩ２は、その内部に、搬送機
構としての搬送ロボット２３が配置された搬送室であ
る。この第２室ＲＩ２は、第１室ＲＩ１の＋Ｘ側に隣接
して配置されている。この第２室ＲＩ２がその内部に形
成された第２搬送系チャンバ１３０は、図４に示される
ように、ベース４２上に前記第１室架台４４に隣接して
設けられた第２室架台４５上に配置されている。

【００６３】前記第２搬送系チャンバ１３０の−Ｘ，＋
Ｘ，＋Ｙ側それぞれの側壁には、図１、図３及び図４を
総合すると分かるように、床面から所定高さの位置に開
口３０ａ，３０ｂ，３０ｃが形成されている。開口３０
ｃの内側（−Ｙ側）には、該開口３０ｃを開閉するゲー
トバルブ２６が設けられている。ゲートバルブ２６は、
図３に示されるように、シャッタ２６ａと該シャッタ２
６ａを上下方向にスライド駆動する駆動機構２６ｂとを
備えている。駆動機構２６ｂは、主制御装置２０（図６
参照）によって制御され、シャッタ２６ａによる開口３
０ｃの開閉が行われる。以下においては、シャッタ２６
ａによる開口３０ｃの閉鎖状態、及びシャッタ２６ａに
よる開口３０ｃの非閉鎖状態を、それぞれゲートバルブ
２６の閉状態、開状態とも呼ぶ。このゲートバルブ２６
の閉状態では、開口３０ｃを介した気体の流通は一切遮
断される。

【００６４】前記第２搬送系チャンバ１３０の＋Ｙ側の
側壁の外側には、開口３０ｃの周囲を囲むように、筒状
の軟性シールド部材３４の一端部が接続されている。こ
の軟性シールド部材３４の他端部は、開口３０ｃに対向
してウエハステージチャンバ１３７の−Ｙ側の側壁に形
成された開口３７ａの周囲を囲むように、その側壁に接
続されている。この軟性シールド部材３４は、膜状部材
から成り、開口３０ｃを介して第２室ＲＩ２内部への外
部（全体チャンバ３８内）からの気体の浸入を阻止する
とともに、開口３７ａを介してウエハステージ室３７内
への気体の浸入を阻止する。また、この軟性シールド部
材３４は、露光装置本体１１０側から搬送装置１２０側
への振動の伝達及び搬送装置１２０側から露光装置本体
１１０側への振動の伝達を極力抑制するようになってい
る。

【００６５】前記開口３０ａは、前述した第２搬送系チ
ャンバ１３０に形成された開口２９ｂと同一大きさ及び
同一形状を有し、これらの開口３０ａ、２９ｂによっ
て、第１室ＲＩ１内部と第２室ＲＩ２内部とを連通させ
る連通開口が形成されている。

【００６６】前記搬送ロボット２３は、図３に示される
ように、第２搬送系チャンバ１３０の底壁から下方に突
出した状態で第２室架台４５上にて支持されたアーム駆
動機構２３ｂと、該アーム駆動機構２３ｂによって旋
回、伸縮駆動されるとともに上下方向にも駆動される多
関節型のアーム２３ａとを備えている。アーム２３ａ
は、最も縮んだ状態では、第２室ＲＩ２内部にその全体
を収容可能である。

【００６７】前記第３室ＲＩ３は、その内部にホルダ載
置部３５が設けられた搬送室である。この第３室ＲＩ３
は、第２室ＲＩ２の＋Ｘ側に隣接して配置されている。
また、この第３室ＲＩ３がその内部に形成された第３搬
送系チャンバ１３１は、全体チャンバ３８の−Ｘ側の側
壁に接している。また、第３搬送系チャンバ１３１は、
図４に示されるように、ベース４２上に前記第２室架台
４５に隣接して設けられた第３室架台４６上に配置され
ている。

【００６８】前記第３搬送系チャンバ１３１の＋Ｘ側、
及び−Ｘ側の側壁には、図１及び図４を総合すると分か
るように、床面から所定高さの位置に開口３１ａ及び開
口３１ｂがそれぞれ形成されている。この場合、開口３
１ａは、前述の開口３０ｂと同一大きさ及び同一形状を
有し、これらの開口３１ａ、３０ｂによって、第２室内
部と第３室内部とを連通させる連通開口が形成されてい
る。第２搬送系チャンバ１３０と第３搬送系チャンバ１
３１とは、隙間なく接合されており、外部（全体チャン
バ３８内部）からの気体が、開口３１ａを介して第３室
ＲＩ３内部に浸入したり、開口３０ｂを介して第２室Ｒ
Ｉ２内に浸入したりすることがないようになっている。

【００６９】開口３１ａの内側（＋Ｘ側）には、該開口
３０ｂ及び開口３１ａを開閉するゲートバルブ２７が設
けられている。ゲートバルブ２７は、図４に示されるよ
うに、シャッタ２７ａと該シャッタ２７ａを上下方向に
スライド駆動する駆動機構２７ｂとを備えている。駆動
機構２７ｂは、主制御装置２０（図６参照）によって制
御され、シャッタ２７ａによる開口３１ａ及び開口３０
ｂの開閉が行われる。以下においては、シャッタ２７ａ
による開口３１ａ及び開口３０ｂの閉鎖状態、及びシャ
ッタ２７ａによる開口３１ａ及び開口３０ｂの非閉鎖状
態を、それぞれゲートバルブ２７の閉状態、開状態とも
呼ぶ。このゲートバルブ２７の閉状態では、開口３１ａ
及び開口３０ｂを介した第２室ＲＩ２内部と第３室ＲＩ
３内部との間の気体の流通は一切遮断される。

【００７０】前記開口３１ｂに対向して全体チャンバ３
８の−Ｘ側の側壁には開口３１ｂに連通する開口３８ａ
が形成されており、これらの開口３１ｂ，３８ａによっ
てウエハホルダ清掃口が形成されている。このウエハホ
ルダ清掃口は扉２８により、開閉可能とされている。こ
の扉２８にはロック機構８９（図６参照）が設けられ、
該ロック機構８９は主制御装置２０によりオン・オフさ
れるようになっている。なお、扉２８に代えて、各開口
と同様にゲートバルブを設けることとしても良い。

【００７１】前記ホルダ載置部３５は、図１に示される
ように、平面視（上方から見て）Ｕ字状（コ字状）の形
状を有している。このホルダ載置部３５は、その内部の
空間に搬送ロボット２３のアームが入り込むことができ
る形状（大きさ）を有している。また、このホルダ載置
部３５は、前記ウエハホルダ清掃口を介して全体チャン
バ３８外部からのアクセスが可能な位置に配置されてい
る。

【００７２】ところで、本実施形態のように、露光用照
明光（露光光）として波長２００ｎｍ以下の真空紫外域
に属する光（以下、「真空紫外光」と呼ぶ）を使用する
場合、真空紫外光は、通常の大気中に存在する酸素、水
蒸気、炭化水素系ガス（二酸化炭素等）、有機物、及び
ハロゲン化物等の吸光物質（不純物）によって大きく吸
収される。このような場合、露光光の減衰を防止するた
めに、上記の吸光物質の気体中の濃度を露光光の光路上
で平均的に１０ｐｐｍ〜１００ｐｐｍ程度以下に抑える
ことが望ましい。そこで、本実施形態では、露光光の光
路上の気体を、露光光が透過する気体、すなわち窒素
（Ｎ₂）ガス、又はヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎ
ｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、キセノ
ン（Ｘｅ）、若しくはラドン（Ｒｎ）よりなる希ガス等
の露光光に対して高透過率で化学的に安定であるととも
に、吸光物質が高度に除去された気体（以下、「パージ
ガス」とも呼ぶ）で置換する。以下においては、窒素ガ
ス及び希ガスをまとめて不活性ガスとも呼ぶ。

【００７３】なお、その吸光物質（不純物）の濃度（又
はその許容値）は、露光光の光路上に存在する吸光物質
の種類に応じて異ならせても良く、例えば有機系の吸光
物質の濃度を１〜１０ｐｐｍ程度以下として最も厳しく
管理し、それに続いて水蒸気、及びその他の物質の順に
その濃度を緩くしても良い。

【００７４】ここで、窒素ガスは、真空紫外域中でも波
長１５０ｎｍ程度までは露光光が透過する気体（パージ
ガス）として使用することができる。また、希ガスの中
では屈折率の安定性、及び高い熱伝導率等の観点より、
ヘリウムガスを使用することが望ましいが、ヘリウムガ
スは高価であるため、運転コスト等を重視する場合には
他の希ガスを使用してもよい。そこで、本実施形態で
は、露光光の波長が１９３ｎｍであることを考慮し、窒
素ガスをパージガスとして使用するものとする。

【００７５】なお、パージガスとしては、単一の種類の
気体を供給するだけでなく、例えば窒素ガスとヘリウム
ガスとを所定比で混合した気体のような混合気体を供給
するようにしても良い。

【００７６】本実施形態では、全体チャンバ３８内の露
光装置本体１１０を構成する投影光学系ＰＬや不図示の
照明光学系などを収容する気密室、前述のレチクルステ
ージ室、ウエハステージ室３７、搬送装置１２０を構成
する第１〜第３室（ＲＩ１〜ＲＩ３）に対して高純度の
パージガスを供給するとともに、それらの各気密室内部
から使用済みの気体を回収して、上記各気密室それぞれ
の内部のガス環境を適宜設定する内部環境設定装置１５
０（図１等では図示省略、図６参照）が設けられてい
る。内部環境設定装置は、気密室毎に個別に設け、対応
する気密室にそれぞれ併設しても良い。

【００７７】この場合、同一の吸光物質であっても複数
の気密室でその濃度（上限値）を異ならせても良く、例
えば、投影光学系ＰＬ及び照明光学系を収容する気密室
におけるその濃度を最も厳しく（その濃度が低くなるよ
うに）管理し、他の気密室でその濃度を比較的緩く（高
くなるように）管理しても良い。このとき、投影光学系
ＰＬ及び照明光学系の少なくとも一方の気密室に供給し
たパージガスの少なくとも一部を、引き続いて、他の気
密室、例えば、ウエハステージ室等の内部空間に供給す
るように構成しても良い。さらに、この構成により、下
流側に配置される他の気密室で吸光物質の濃度がその上
限値を超えるときは、パージガスから吸光物質を取り除
くケミカルフィルタを他の気密室の手前に設けても良
い。

【００７８】前記内部環境設定装置１５０は、特に第３
室ＲＩ３内部の気体を強制排気する不図示の強制排気機
構と内部に空気を送り込む空気源とを備えている。内部
環境設定装置１５０の不図示の制御系は、例えば、ホル
ダ清掃口の扉２８の開放に先立って主制御装置２０から
の指示に応じて第３室ＲＩ３内部の気体を強制排気した
後に、空気を送り込んで、第３室ＲＩ３内を空気が充填
された状態（第２状態）に設定する。また、内部環境設
定装置１５０の不図示の制御系は、通常は、第３室ＲＩ
３内部を他の気密室と同様に、空気が除去されパージガ
スが充填された状態に設定する。

【００７９】なお、複数の気密室の内部空間から水蒸気
（水分）を除去すると、摩擦又は帯電転位などによる静
電気の発生が問題となるので、内部環境設定装置１５０
は、機械的接触による導通対策（アース）、あるいはイ
オナイザなどによる静電気対策を実行することが好まし
い。

【００８０】図６には、本実施形態の露光装置１００の
制御系の構成が簡単に示されている。この制御系はワー
クステーション（又はマイクロコンピュータ）から成る
主制御装置２０を中心として構成されている。主制御装
置２０は、これまでに説明した各種の制御を行う他、装
置全体を統括的に制御する。

【００８１】次に、上述のようにして構成された露光装
置１００において、ウエハステージＷＳＴ上のウエハを
交換する方法について説明する。なお、以下に説明する
各部の動作は、主制御装置２０によって制御されるが、
以下においては、説明の煩雑化を避けるため、特に必要
な場合を除き、主制御装置２０に関する説明は省略する
ものとする。また、ウエハの受け渡しの際のアーム等に
よるバキュームのオン・オフに関する説明についても説
明の煩雑化を避けるため省略するものとする。

【００８２】まず、ウエハステージＷＳＴからウエハＷ
を搬出する手順について説明する。なお、前提として、
搬送装置本体部１４０の各部に設けられた各ゲートバル
ブは、全て閉鎖されており、少なくとも第１室ＲＩ１及
び第２室ＲＩ２内部には、前述のパージガスが充填され
ているものとする。

【００８３】ａ． ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷ
に対する露光が終了すると、主制御装置２０によりウエ
ハレーザ干渉計８８の計測値をモニタしつつ、ウエハス
テージ駆動系８７を介してウエハステージＷＳＴが、図
１に示される受け渡し位置まで移動される。ウエハステ
ージＷＳＴが受け渡し位置に移動すると、ゲートバルブ
２６が開状態とされ、開口３０ｃが開放される。次い
で、搬送ロボット２３の駆動機構２３ｂによりアーム２
３ａが駆動され、ウエハステージ室３７内にアーム２３
ａが進入される。

【００８４】これと並行してウエハステージＷＳＴ側で
は、第１センタアップ機構８２が上昇駆動され、該第１
センタアップ機構８２によりウエハＷが所定量だけ上方
に持ち上げられる。

【００８５】ｂ． 次いで、搬送ロボット２３のアーム
２３ａが、第１センタアップ機構８２によって持ち上げ
られたウエハＷの下側に入り込み、第１センタアップ機
構８２が下降駆動あるいはアーム２３ａが上昇駆動され
ることにより、ウエハＷが第１センタアップ機構８２か
らアーム２３ａに受け渡される。

【００８６】次に、駆動機構２３ｂによりアーム２３ａ
が伸縮駆動され、ウエハステージ室３７内から第２室Ｒ
Ｉ２内部にアーム２３ａが退避する。この退避の直後
に、ゲートバルブ２６が閉状態となり、開口３０ｃが閉
鎖される。このように、本実施形態では、ウエハステー
ジ室３７からウエハＷを搬出する際に開口３０ｃが一時
的に開放されるが、その際、第２室ＲＩ２内は前述の如
く、パージガスが充填された環境となっているので、第
２室ＲＩ２からウエハステージ室３７内に空気が混入し
て、ウエハステージ室３７内のパージガスの純度を低下
させることがない。また、開口３０ｃの開閉動作（ゲー
トバルブ２６の開閉動作）に連動して搬送ロボット２３
のアーム２３ａがウエハステージ室３７内に出入りする
ので、開口３０ｃの開放時間を極力短くすることができ
る。従って、第２室ＲＩ２からウエハステージ室３７内
に空気の浸入及び塵埃の浸入等も極力抑制することがで
きる。

【００８７】ｃ． ゲートバルブ２６が閉状態となって
開口３０ｃが閉鎖されると、ゲートバルブ２５が開状態
になり開口３０ａが開放される。次いで、駆動機構２３
ｂによりウエハＷを保持したアーム２３ａが旋回・伸縮
駆動され、第１室ＲＩ１内のアライメント駆動部３２の
上方の図１に二点鎖線で示される位置までウエハＷが搬
送される。

【００８８】ｄ． 次いで、アライメント駆動部３２の
回転駆動部３２θの上昇駆動又はアーム２９ａの下降駆
動により、ウエハＷが回転駆動部３２θの回転軸に受け
渡される。この受け渡し終了後、アーム２３ａが第１室
ＲＩ１内から第２室ＲＩ２内に退避し、ゲートバルブ２
５が閉状態となって開口３０ａが閉鎖される。この場合
も、開口３０ａが一時的に開放されるが、その際、第１
室ＲＩ１内は前述の如く、パージガスが充填された環境
となっているので、第１室ＲＩ１から第２室ＲＩ２内に
空気が混入して、第２室ＲＩ２内部のパージガスの純度
を極端に低下させることがない。また、開口３０ａの開
閉動作（ゲートバルブ２５の開閉動作）に連動して搬送
ロボット２３のアーム２３ａが第１室ＲＩ１内に出入り
するので、開口３０ａの開放時間を極力短くすることが
できる。従って、第１室ＲＩ１から第２室ＲＩ２内に空
気の浸入及び塵埃の浸入等も極力抑制することができ
る。

【００８９】ｅ． ゲートバルブ２５が閉状態となり、
開口３０ａが完全に閉鎖されると、ゲートバルブ２４が
開状態となり開口２９ａが開放される。そして、外部搬
送ロボット２２を構成するアーム２２ａが駆動機構２２
ｂにより駆動され、図１に二点鎖線にて示されるよう
に、アーム２２ａが第１室ＲＩ１内に進入してウエハＷ
の下方に位置付けられる。その後、アライメント駆動部
３２の回転駆動部３２θが下降駆動されることにより、
ウエハＷが回転駆動部３２θからアーム２２ａに受け渡
される。次いで、アーム２２ａは、ウエハＷを保持した
状態で第１室ＲＩ１内から外部に退避し、ウエハＷが第
１室ＲＩ１から搬出される。次いで、ゲートバルブ２４
が閉状態となって開口２９ａが閉鎖される。この場合
も、開口２９ａの開閉（ゲートバルブ２４の開閉）に連
動してアーム２２ａが第１室ＲＩ１内に出し入れされる
ので、開口３０ａの開放時間を極力短くすることがで
き、第１室ＲＩ１内への塵埃等の混入を抑制することが
できる。

【００９０】ｆ． 次いで、ウエハＷを保持したアーム
２２ａが駆動機構２２ｂにより伸縮及び旋回駆動され、
図１に実線で示されるように、ウエハＷがウエハカセッ
ト２１内に搬入される。なお、このときウエハカセット
載置台４３では、ウエハカセット２１内の空いている収
納段の僅かに上方の位置にウエハＷが搬入されるように
支持板４３ａの高さ位置がＺ軸駆動機構４３ｃにより調
整されている。そして、ウエハＷがウエハカセット２１
内に搬入されると、ウエハカセット載置台４３の支持板
４３ａがＺ軸駆動機構４３ｃにより上昇駆動され、ウエ
ハカセット２１内の所定段にウエハＷが受け渡される。
その後アーム２２ａは、ウエハカセット２１内から退避
する。

【００９１】以上のようにして、ウエハステージＷＳＴ
上からウエハＷが搬出されウエハカセット２１内に搬入
される。

【００９２】次に、ウエハカセット２１から新たなウエ
ハＷをウエハステージＷＳＴ上に搬入する手順について
説明する。

【００９３】ｇ． まず、外部搬送ロボット２２のアー
ム２２ａが駆動機構２２ｂにより駆動され、ウエハカセ
ット２１内に収納されたウエハＷの搬出に向かう。この
際、ウエハカセット２１側では、ウエハカセット載置台
４３の支持板４３ａがＺ軸駆動機構４３ｃにより上下動
され、アーム２２ａが目的のウエハの僅か下方に入り込
めるように調整されている。

【００９４】そして、駆動機構２２ｂにより外部搬送ロ
ボット２２のアーム２２ａが駆動され、アーム２２ａが
目的のウエハの下方に挿入されると、Ｚ軸駆動機構４３
ｃにより支持板４３ａが下降駆動され、目的のウエハＷ
がアーム２２ａに受け渡される。

【００９５】ｈ． 次いで、駆動機構２２ｂによりアー
ム２２ａが伸縮駆動されることにより、アーム２２ａが
ウエハカセット２１の外部に移動し、これによりウエハ
Ｗがアーム２２ａによってウエハカセット２１から搬出
される。続いて、駆動機構２２ｂによりアーム２２ａが
１８０°旋回駆動及び伸縮駆動され、ゲートバルブ２４
に向かってウエハＷが搬送される。

【００９６】そして、ゲートバルブ２４にウエハＷを保
持したアーム２２ａが接近すると、ゲートバルブ２４が
開状態となり、開口２９ａが開放される。この開口２９
ａの開放後、ウエハＷを保持したアーム２２ａが開口２
９ａを介して速やかに第１室ＲＩ１内に進入し、アライ
メント駆動部３２の上方までウエハＷが搬送される。そ
して、アライメント駆動部３２の回転駆動部３２θが上
昇駆動されることにより、ウエハＷがアーム２２ａから
回転駆動部３２θに受け渡され、その後アーム２２ａ
が、第１室ＲＩ１内から退避する。この退避後は、ゲー
トバルブ２４が速やかに閉状態となり開口２９ａが閉鎖
される。この場合も、開口２９ａの開閉（ゲートバルブ
２４の開閉）に連動してアーム２２ａが第１室ＲＩ１内
に出し入れされるので、開口２９ａの開放時間を極力短
くすることができ、第１室ＲＩ１内への塵埃等の混入を
抑制することができる。

【００９７】ｉ． 次いで、搬送装置内アライメント部
５５の位置ずれ検出装置３３によりウエハＷの位置ずれ
（中心点のＸ，Ｙ位置誤差及びθｚ回転誤差）が検出さ
れ、この検出結果に基づいて、主制御装置２０によって
上記各誤差を補正すべくアライメント駆動部３２のＸ軸
方向の駆動部、Ｙ軸方向の駆動部及び回転駆動部３２θ
が駆動制御され、ウエハＷの第１プリアライメントが行
われる。

【００９８】なお、上述の開口２９ａの閉鎖とほぼ同時
に、図６に示される内部環境設定装置１５０により第１
室ＲＩ１内部の気体のパージガスへの置換が開始され、
上記の第１プリアライメントと並行して、このガス置換
が行われる。

【００９９】ｊ． そして、ウエハＷの第１プリアライ
メント（位置補正）が終了し、かつ第１室ＲＩ１内部の
パージガス中の空気の濃度が所定値以下となった段階
で、第１室ＲＩ１と第２室ＲＩ２との間のゲートバルブ
２５が開状態となり、開口２９ｂ及び３０ａが開放され
る。そして、開口２９ｂ，３０ａの開放後に搬送ロボッ
ト２３のアーム２３ａが駆動機構２３ｂにより駆動さ
れ、開口２９ｂ，３０ａを介して第１室ＲＩ１内に進入
される。アーム２３ａは、第１室ＲＩ１内に進入後、ア
ライメント駆動部３２にて支持されたウエハＷの僅かに
下方の位置まで移動し、アライメント駆動部３２の回転
駆動部３２θの下降駆動あるいはアーム２３ａの上昇駆
動により回転駆動部３２θからアーム２３ａにウエハＷ
が受け渡される。

【０１００】ｋ． アーム２３ａにウエハＷが受け渡さ
れると、アーム２３ａが伸縮駆動され、アーム２３ａが
第１室ＲＩ１内から第２室ＲＩ２内に退避する。これに
より、ウエハＷが第１室ＲＩ１内から第２室ＲＩ２内に
搬送され、その後ゲートバルブ２５が閉状態となって開
口２９ｂ及び３０ａが閉鎖される。

【０１０１】ここで、通常は、第２室ＲＩ２内はパージ
ガスが充填されており、第１室ＲＩ１内もパージガスで
置換されているので、第１室ＲＩ１から第２室ＲＩ２内
へ気体が浸入しても、第２室ＲＩ２内のパージガスの純
度を殆ど低下させない。また、この場合も、上記のゲー
トバルブ２５の開閉と連動してアーム２３ａがウエハＷ
を第１室ＲＩ１内から第２室ＲＩ２内に搬送するための
アーム２３ａの第１室ＲＩ１内への出し入れが行われる
ので、開口３０ａ及び２９ｂの開放時間を極力短くする
ことができ、第２室ＲＩ２内への空気の浸入及び塵埃の
混入等を抑制することができる。

【０１０２】ｌ． 次いで、第２室ＲＩ２とウエハステ
ージ室３７との間のゲートバルブ２６が開状態となり、
開口３０ｃが開放される。そして、アーム２３ａが駆動
機構２３ｂによって駆動され、ウエハＷを保持したアー
ム２３ａがウエハステージ室３７内に進入される。そし
て、図３に示されるステージ室内アライメント部４９の
ハンド部４９ａの下方にウエハＷが位置すると、ステー
ジ室内アライメント部４９のハンド部４９ａが下降駆
動、開閉駆動、及び上昇駆動され、アーム２３ａからハ
ンド部４９ａにウエハＷが受け渡される。その後、アー
ム２３ａはウエハステージ室３７内から退避され、ゲー
トバルブ２６が閉状態となって開口３０ｃが閉鎖され
る。

【０１０３】このように、本実施形態では、ウエハステ
ージ室３７内にウエハＷを搬入する際に開口３０ｃが一
時的に開放されるが、その際第２室ＲＩ２内は前述の如
く、パージガスが充填された環境となっているので、第
２室ＲＩ２からウエハステージ室３７内に空気が混入し
て、ウエハステージ室３７内のパージガスの純度を低下
させることがない。また、開口３０ｃを開閉動作（ゲー
トバルブ２６の開閉動作）に連動して搬送ロボット２３
のアーム２３ａがウエハステージ室３７内に出入りする
ので、開口３０ｃの開放時間を極力短くすることができ
る。従って、第２室ＲＩ２からウエハステージ室３７内
に空気の浸入及び塵埃の浸入等も極力抑制することがで
きる。

【０１０４】ｍ． ハンド部４９ａへのウエハＷの受け
渡しの後、検出装置１３３によりウエハＷの位置ずれ
（中心のＸＹ面内位置ずれ及び面内回転ずれ）が検出さ
れる。そして、主制御装置２０は、上記の面内回転ずれ
を補正すべく、ハンド駆動機構４９ｂを介してハンド部
４９ａを回転駆動するとともに、ＸＹ方向の位置ずれを
補正すべく、ウエハレーザ干渉計８８をモニタしつつ、
ウエハステージＷＳＴのＸＹ方向の位置を微調整する。

【０１０５】上記のようにしてウエハＷの位置ずれが補
正された状態で、ハンド部４９ａが下降駆動され、ウエ
ハＷがウエハステージＷＳＴ上のウエハホルダ４０の僅
かに上方に位置決めされる。この状態から、第１センタ
アップ機構８２が上昇駆動されることにより、ハンド部
４９ａから第１センタアップ機構８２にウエハＷが受け
渡される。そして、ハンド部４９ａが開動作を行うとと
もに、第１センタアップ機構８２が下降駆動されること
により、ウエハホルダ４０上の所望の位置にウエハＷが
載置される。

【０１０６】以上のようにして、ウエハカセット２１か
ら新たなウエハＷがウエハステージＷＳＴ上にロードさ
れる。

【０１０７】上記のウエハＷのロード後、ウエハステー
ジＷＳＴは露光シーケンスの開始位置へと移動する。そ
の後、ウエハホルダ４０上のウエハＷに対する露光シー
ケンス（例えばＥＧＡ方式のウエハアライメント、及び
露光）が開始される。なお、この露光シーケンスは、ウ
エハステージＷＳＴ上でフォトセンサによるウエハの位
置ずれ計測が行われない点を除き、通常のスキャニング
・ステッパと同様であるので、詳細な説明は省略する。

【０１０８】ところで、上記のようなウエハ交換が繰り
返し行われると、ウエハＷのフラットネスが悪化して露
光精度が低下する。これは、通常、ウエハカセット２１
内に新たに収容されるウエハＷは、それに先立ってクリ
ーン度の低いコータ・デベロッパ内部でレジストコート
処理などが行われているため、ウエハＷの裏面には、塵
埃等の異物が付着している。このため、所定回数を超え
るウエハ交換が行われた時点では、それらの異物がウエ
ハホルダ４０の上面に堆積し、この堆積した異物がウエ
ハＷとウエハホルダ４０との間に挟み込まれた状態とな
り、ウエハの平坦度が許容できないレベルまで悪化し、
露光精度に多大な影響を与えることとなるのである。従
って、所定間隔でウエハホルダの清掃が必要となる。

【０１０９】次に、上記ウエハホルダの清掃を行う際の
ウエハホルダ４０の搬送手順について説明する。

【０１１０】前提として、ウエハステージＷＳＴ上のウ
エハホルダ４０にはウエハＷが載置されていない状態、
すなわち、ウエハＷがウエハステージＷＳＴから搬出さ
れ、ウエハステージＷＳＴが図３に示される受け渡し位
置に位置しているものとする。また、各ゲートバルブ及
び扉２８は全て閉状態であり、少なくとも第２室ＲＩ２
及び第３室ＲＩ３の内部はパージガスが充填されている
ものとする。

【０１１１】ｎ． まず、ゲートバルブ２６が開状態と
なり、開口３０ｃが開放されるとともに、駆動機構２３
ｂによりアーム２３ａが駆動され、アーム２３ａがウエ
ハステージ室３７内に進入する。このとき、ウエハステ
ージＷＳＴでは、第２センタアップ機構８４が上昇駆動
され、ウエハホルダ４０がウエハステージＷＳＴの上面
の上方に所定高さだけ持ち上げられた状態となっている
（図５（Ｃ）参照）。そして、ウエハステージ室３７内
に進入したアーム２３ａは、第２センタアップ機構８４
により持ち上げられたウエハホルダ４０の僅かに下方の
位置に移動し、第２センタアップ機構８４が下降駆動さ
れることにより、第２センタアップ機構８４からアーム
２３ａにウエハホルダ４０が受け渡される。

【０１１２】ｏ． アーム２３ａはウエハホルダ４０を
受け取ると、ウエハステージ室３７内から第２室ＲＩ２
内に退避し、その後は速やかにゲートバルブ２６が閉状
態となり、開口３０ｃが閉鎖される。このように、本実
施形態では、ウエハホルダ４０をウエハステージ室３７
から搬出する際に、開口３０ｃが一時的に開放される
が、その際第２室ＲＩ２内は前述の如く、パージガスが
充填された環境となっているので、第２室ＲＩ２からウ
エハステージ室３７内に空気が混入して、ウエハステー
ジ室３７内部のパージガスの純度を低下させることが殆
どない。また、開口３０ｃの開閉動作（ゲートバルブ２
６の開閉動作）に連動して搬送ロボット２３のアーム２
３ａがウエハステージ室３７内に出入りするので、開口
３０ｃの開放時間を極力短くすることができる。従っ
て、第２室ＲＩ２からウエハステージ室３７内への空気
の浸入及び塵埃の混入等も極力抑制することができる。

【０１１３】ｐ． 上記の開口３０ｃの閉鎖に続いて、
ゲートバルブ２７が開状態となり、開口３０ｂ、３１ａ
が開放される。これらの開口３０ｂ、３１ａが開放され
た後、ウエハホルダ４０を保持したアーム２３ａが駆動
機構２３ｂにより旋回・伸縮駆動され、開口３０ｂ，３
１ａを介して第３室ＲＩ３内に進入され、ウエハホルダ
４０がホルダ載置部３５の上方に搬送される。次いで、
アーム２３ａが下降駆動され、これによりアーム２３ａ
がウエハホルダ載置部３５の内部空間に入り込み、アー
ム２３ａからホルダ載置部３５上にウエハホルダ４０が
受け渡される。

【０１１４】次いで、アーム２３ａが駆動機構２３ｂに
より伸縮駆動され、アーム２３ａが開口３０ｂ，３１ａ
を介して第３室ＲＩ３から第２室ＲＩ２へ退避する。こ
のアーム２３ａの退避が終了すると、速やかにゲートバ
ルブ２７が閉状態となり、開口３０ｂ、３１ａが閉鎖さ
れる。この場合も、開口３０ｂ、３１ａが一時的に開放
されるが、第３室ＲＩ３内部にパージガスが充填されて
いるので、第３室ＲＩ３から第２室ＲＩ２内に空気が浸
入し、第２室ＲＩ２内のパージガスの純度を極端に低下
させることがない。また、開口３０ｂ、３１ａの開閉動
作（ゲートバルブ２７の開閉動作）に連動して搬送ロボ
ット２３のアーム２３ａが第３室ＲＩ３内に出入りする
ので、開口３０ｂ、３１ａの開放時間を極力短くするこ
とができる。従って、第３室ＲＩ３から第２室ＲＩ２内
への空気の浸入及び塵埃の混入等も極力抑制することが
できる。

【０１１５】ｑ． 上記の開口３０ｂ、３１ａの閉鎖に
続き、内部環境設定装置１５０により第３室ＲＩ３内部
の気体を空気に置換するガス置換が行われる。この場合
において、このガス置換は、内部環境設定装置１５０に
より、前述の如く強制排気機構を介して速やかに第３室
ＲＩ３内部の気体を外部に強制排気した後、空気を送り
込むことにより行われる。そして、主制御装置２０は、
このガス置換の進行状況を例えば不図示の酸素濃度セン
サの出力に基づいて監視し、酸素濃度が所定値を超えガ
ス置換が終了したと判断した段階で、扉２８を開放可能
にするために、扉２８のロック機構８９の解除（オフ動
作）を行う。なお、酸素濃度センサなどを用いることな
く、タイマーを用いて上記のガス置換の開始からの経過
時間を計時し、所定時間が経過した段階でガス置換が終
了したと判断することとしても良い。

【０１１６】これにより、オペレータ（作業者）等は扉
２８を開けることにより、開口３８ａ及び開口３１ｂを
介してウエハホルダ４０にアクセスすることが可能とな
る。オペレータは、例えばホルダ載置部３５上でウエハ
ホルダ４０の上面を手作業にて清掃することができる。
あるいは、ウエハホルダ４０を全体チャンバ３８外部に
持ち出し、外部にてウエハホルダ４０の上面の清掃を行
うこととしても良い。

【０１１７】ｒ． ホルダ載置部３５上におけるウエハ
ホルダ４０の清掃が終了し、あるいは外部におけるウエ
ハホルダ４０の清掃が終了し、かつウエハホルダ４０が
ホルダ載置部３５上に戻された後、オペレータにより扉
２８が閉じられると、主制御装置２０により、扉２８の
ロック機構８９がオンされる。これにより、以後オペレ
ータによる扉２８の開放が不可能となる。

【０１１８】ｓ． 次いで、内部環境設定装置１５０に
より、第３室ＲＩ３内の気体（空気）をパージガスに置
換するガス置換が行われる。このガス置換は、内部環境
設定装置１５０により、例えば強制排気機構を介して速
やかに第３室ＲＩ３内部の気体を外部に強制排気した
後、パージガスを供給することにより行われる。この場
合も、酸素濃度センサの出力又はタイマーの計時時間に
基づいてガス置換の終了が判断され、ガス置換が終了す
ると、ゲートバルブ２７が開状態となり、開口３０ｂ，
３１ａが開放される。次いで、駆動機構２３ｂによりア
ーム２３ａが駆動され、開口３０ｂ，３１ａを介して第
３室ＲＩ３内に進入され、アーム２３ａはさらに進行し
てウエハホルダ４０の下方に挿入される。次いで、アー
ム２３ａが上昇駆動されると、ホルダ載置部３５上のウ
エハホルダ４０がアーム２３ａに受け渡される。この受
け渡し終了後、ウエハホルダ４０を保持したアーム２３
ａは、開口３１ａ，３０ｂを介して第３室ＲＩ３から第
２室ＲＩ２内に退避する。そして、このアーム２３ａの
退避、すなわちウエハホルダ４０の第２室ＲＩ２内への
搬送が終了すると、直ちにゲートバルブ２７が閉状態と
なり、開口３０ｂ，３１ａが閉鎖される。この場合も、
開口３０ｂ，３１ａが一時的に開放されるが、それに先
立って、第３室ＲＩ３内部のガスがパージガスに置換さ
れているので、第３室ＲＩ３から空気が浸入して第２室
ＲＩ２内部のパージガスの純度を極端に低下させること
がない。また、開口３０ｂ、３１ａの開閉動作（ゲート
バルブ２７の開閉動作）に連動して搬送ロボット２３の
アーム２３ａが第３室ＲＩ３内に出入りするので、開口
３０ｂ、３１ａの開放時間を極力短くすることができ
る。従って、第３室ＲＩ３から第２室ＲＩ２内への空気
の浸入及び塵埃の混入等も極力抑制することができる。

【０１１９】ｔ． 次いで、ゲートバルブ２６が開状態
となって開口３０ｃが開放され、駆動機構２３ｂにより
ウエハホルダ４０を保持したアーム２３ａが開口３０ｃ
及び開口３７ａを介してウエハステージ室３７内に進入
され、さらにアーム２３ａがステージ室内アライメント
部４９のハンド部４９ａの下方の位置まで移動する。次
いで、ハンド駆動機構４９ｂによりハンド部４９ａが下
降駆動、開閉駆動及び上昇駆動されることにより、アー
ム２３ａからハンド部４９ａにウエハホルダ４０が受け
渡される。

【０１２０】ｕ． 上記の受け渡しの終了後、駆動機構
２３ｂによりアーム２３ａが駆動され、開口３７ａ及び
開口３０ｃを介して第２室ＲＩ２内へ退避する。

【０１２１】ｖ． その後、検出装置１３３によりウエ
ハホルダ４０の位置ずれ（中心のＸＹ面内位置ずれ及び
面内回転ずれ）が検出される。そして、主制御装置２０
は、上記の面内回転ずれを補正すべく、ハンド駆動機構
４９ｂを介してハンド部４９ａを回転駆動するととも
に、ＸＹ方向の位置ずれを補正すべく、ウエハレーザ干
渉計８８をモニタしつつ、ウエハステージＷＳＴのＸＹ
方向の位置を微調整する。

【０１２２】上記のようにしてウエハホルダ４０の位置
ずれが補正された状態で、ハンド部４９ａが下降駆動さ
れ、ウエハホルダ４０がウエハステージＷＳＴ上の僅か
に上方に移動される。この状態から、第２センタアップ
機構８４が上昇駆動されることにより、ハンド部４９ａ
から第２センタアップ機構８４にウエハホルダ４０が受
け渡される。そして、ハンド部４９ａが開動作を行うと
ともに、第２センタアップ駆動機構８４が下降駆動され
ることにより、ウエハステージＷＳＴ上の所望の位置に
ウエハホルダ４０が載置される。このようにして、ウエ
ハステージＷＳＴへのウエハホルダ４０のロードが終了
する。

【０１２３】その後、前述のウエハＷのウエハホルダ４
０上へのロードが行われることとなる。

【０１２４】これまでの説明から明らかなように、本実
施形態では、ウエハステージ室３７から大気部に至る搬
送経路中に存在する隔壁にそれぞれ形成された開口３０
ｃ、３０ａ、３０ｂ、２９ｂ、２９ａ、３１ａ，３１ｂ
のうちの特定開口（３０ｃ、３０ｂ、３１ａ、３０ａ、
２９ｂ、２９ａ）を開閉する開閉装置が、ゲートバルブ
２６、２７、２５、２４と主制御装置２０とを含んで構
成されている。

【０１２５】以上詳細に説明したように、本実施形態に
係る搬送装置１２０によると、大気部とウエハステージ
室３７との間に設けられた第１室ＲＩ１、第２室ＲＩ
２、第３室ＲＩ３の隣接する空間との間の隔壁に、ウエ
ハＷ及びウエハホルダ４０の少なくとも一方の通路とな
る開口がそれぞれ形成されている。そして、上述した開
閉装置による開口３０ｃ、３０ｂ及び３１ａの開閉動作
に連動して、搬送ロボット２３がウエハステージ室３７
と第３室ＲＩ３内部の大気部（外部）からアクセス可能
なホルダ載置部３５との間でウエハホルダ４０を搬送す
るようになっている。

【０１２６】このため、搬送ロボット２３によるウエハ
ホルダ４０の搬送の際に、第３室ＲＩ３、第２室ＲＩ２
を介して全体チャンバ３８の外部（大気部）からウエハ
ステージ室３７内に空気（大気）及びその空気（大気）
中の塵等が浸入するのを極力抑制することができるとと
もに、ウエハステージ室３７に収容されているウエハホ
ルダ４０を外部からアクセス可能な位置（ホルダ載置部
３５）まで搬送することができる。従って、ウエハホル
ダ４０の清掃を何らの支障なく行うことが可能となり、
この清掃後のウエハホルダ４０を再度搬送ロボット２３
がウエハステージ室３７内部へ搬入することにより、ウ
エハステージ室３７内部におけるウエハホルダ４０を常
に清浄（クリーン）な状態に維持することができる。勿
論、この清掃後のウエハホルダ４０のウエハステージ室
３７内部への再搬入も上記の開閉装置（２６，２７，２
０）による開口（３０ｂ、３１ａ、３０ｃ）の開閉動作
に連動して行われる。

【０１２７】また、搬送装置１２０によると、ウエハス
テージ室３７とゲートバルブ２６により開閉される開口
３０ｃを介して仕切られた第２室ＲＩ２内に搬送ロボッ
ト２３が配置され、この第２室ＲＩ２内部はウエハステ
ージ室３７と同様にパージガスが充填された空間となっ
ているので、ゲートバルブ２６の開状態で開口３０ｃが
開放されても、これによって第２室ＲＩ２内からの空気
の混入によりウエハステージ室３７内部のパージガスの
純度を低下させることが殆どない。

【０１２８】以上により、本実施形態に係る搬送装置１
２０によると、ウエハステージ室３７内部をクリーン度
（塵等の異物及び前述の吸光物質を殆ど含まないという
意味における）を高く維持することができる。

【０１２９】また、本実施形態に係る搬送装置１２０に
よると、ホルダ載置部３５が内部に配置される第３室Ｒ
Ｉ３の内部を、パージガスが充填された状態、すなわち
空気が除去された第１状態と、空気が存在する（例えば
空気が充填された）第２状態とのいずれの状態にも設定
可能な内部環境設定装置１５０が、第３室ＲＩ３を含む
前述の各気密室に併設されている。このため、前述の如
く、ウエハホルダ４０の清掃の際には、第３室ＲＩ３の
内部を空気が充填された第２状態とすることにより、扉
２８を開けて外部からウエハホルダ４０を容易に清掃す
ることができる。一方、清掃が終了し、ウエハホルダ４
０をウエハステージ室３７内部に搬送する際には、第３
室ＲＩ３の内部をパージガスが充填された状態とするこ
とにより、第３室ＲＩ３からの空気の混入に起因して第
２室ＲＩ２、ひいてはウエハステージ室３７内のパージ
ガスの純度が低下するのを効果的に抑制することができ
る。

【０１３０】また、本実施形態に係る搬送装置１２０で
は、前述の開閉装置によりウエハＷの外部からの搬出入
口である開口２９ａも開閉されるようになっており、そ
の開閉装置による開口２９ａの開閉に連動して開口２９
ａを介してウエハＷを外部（全体チャンバ３８内部）か
ら第１室ＲＩ１に対して搬入し、かつ第１室ＲＩ１から
外部へ搬出する外部搬送ロボット２２を備えている。こ
のため、外部搬送ロボット２２によるウエハＷの第１室
ＲＩ１に対する出し入れの際の開口の開放時間を極力短
くして空気の第１室ＲＩ１内への浸入、及び塵等の混入
を抑制することができるとともに、必要に応じてウエハ
Ｗを第１室ＲＩ１に対して搬入し、第１室ＲＩ１から外
部へ搬出することができる。

【０１３１】また、第１室ＲＩ１の内部に配置され、ウ
エハＷの位置ずれ検出を行う位置ずれ検出装置３３を備
えているので、ウエハＷをウエハステージ室３７に搬入
するのに先立ってそのウエハＷの位置ずれをある程度の
範囲内に抑え込むことができる。従って、その後に行わ
れるウエハＷのアライメントが容易となる。

【０１３２】また、本実施形態に係る露光装置１００に
よると、搬送装置１２０によってウエハステージ室３７
内部にウエハＷ及びウエハホルダ４０が前述の如くして
搬入されるとともに、ウエハステージ室３７内部から搬
出されるので、ウエハステージ室３７内への空気（大
気）及び該空気（大気）中に含まれる塵埃等の浸入を極
力抑制できるとともに、ウエハステージ室３７内部のウ
エハホルダ４０を常にクリーンな状態に維持することが
できる。従って、内部の気体がパージガス（前述の不活
性ガスなどの低吸収性ガス）に置換されたウエハステー
ジ室３７内部への塵埃の混入を極力抑制できるのみなら
ず、ウエハステージ室３７内部のパージガスの純度を維
持することができ、これにより吸光物質による露光光の
吸収を長期に渡って抑制することができる。また、ウエ
ハホルダ４０とウエハＷとの間への異物の挟み込み等に
起因するウエハＷの平坦度の低下も抑制することができ
る。従って、高精度なウエハＷの露光を実現することが
できる。

【０１３３】また、露光装置１００によると、搬送装置
１２０によって搬送されたウエハホルダ４０がウエハス
テージ室３７内部のウエハステージＷＳＴに搭載される
のに先立って、ウエハホルダ４０の位置ずれを検出する
検出装置１３３を備えている。このため、ウエハステー
ジＷＳＴへの搭載に先立ってウエハホルダ４０の位置ず
れを補正することができ、これによりウエハホルダ４０
をウエハステージＷＳＴ上の所望の位置に位置ずれなく
搭載することが可能となる。

【０１３４】また、露光装置１００では、上記検出装置
１３３が、前記搬送装置１２０によって搬送されたウエ
ハＷがウエハステージＷＳＴ上のウエハホルダ４０に搭
載されるのに先立って、ウエハＷの位置ずれを検出する
装置をも兼ねている。このため、ウエハＷをウエハホル
ダ４０に搭載する直前にウエハＷの位置ずれを補正する
ことができるので、ウエハホルダ４０上へのロード後に
おけるウエハＷのサーチアライメント（プリアライメン
ト）が不要となる。この場合、ウエハＷのプリアライメ
ント機構をウエハホルダ４０の位置ずれ検出装置とは別
個に設ける場合と異なり、スペースの確保が容易であ
る。

【０１３５】この他、本実施形態の露光装置１００で
は、搬送ロボット２３がウエハＷの搬送機構とウエハホ
ルダ４０の搬送機構とを兼ねているので、スペース効率
の向上が可能である。

【０１３６】なお、上記実施形態では、搬送装置１２０
が、内部に搬送ロボット２３が配置される第２室ＲＩ２
と、該第２室ＲＩ２との間を特定開口が形成された特定
の隔壁により仕切られ、その内部にホルダ載置部３５が
設けられた第３室ＲＩ３と、第２室ＲＩ２との間を特定
開口が形成された特定の隔壁により仕切られ、その内部
に搬送装置内アライメント部５５が配置された第１室Ｒ
Ｉ１との合計３つの搬送室を備えているものとしたが、
本発明がこれに限定されるものではない。すなわち、本
発明の搬送装置は、大気部と物体収容室（上記実施形態
のウエハステージ室３７に相当）との間に設けられ、ウ
エハＷ（物体）及びウエハホルダ（物体保持器）の少な
くとも一方の通路となる開口が隣接する空間との間の隔
壁にそれぞれ形成された少なくとも１つの搬送室を有
し、かつ物体収容室から大気部に至る搬送経路中に存在
する隔壁にそれぞれ形成された開口のうちの少なくとも
１つの特定開口が開閉装置により開閉されるようになっ
ていれば良い。従って、搬送室の個数は、特に問わな
い。例えば、搬送室が１つのみである場合には、その搬
送室内に搬送ロボット２３と、ホルダ載置部３５とが設
けられていれば良い。この場合、搬送装置内アライメン
ト部５５は必ずしもなくても良い。

【０１３７】なお、上記実施形態においては、ウエハス
テージ室３７内部の圧力を最も高く設定し、ウエハステ
ージ室３７から遠ざかるほど、内部の圧力を低く設定す
ることとしても良い。このように各室内の内部圧力を設
定することにより、ウエハステージ室３７内への外部か
らの気体の混入を更に抑制することができる。

【０１３８】また、上記実施形態では、全体チャンバ３
８内の露光装置本体１１０を構成する投影光学系ＰＬや
不図示の照明光学系などを収容する気密室、前述のレチ
クルステージ室５８、ウエハステージ室３７、搬送装置
１２０を構成する第１〜第３室ＲＩ１〜ＲＩ３に対して
高純度のパージガスを供給する場合について説明した
が、かかるガスパージも本発明の露光装置では必ずしも
必要ではない。例えば、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシ
マレーザ光、あるいはそれより長波長の照明光を露光用
のエネルギビームとして用いる場合などには、パージは
不要である。但し、このような場合であっても本発明は
好適に適用できる。すなわち、ウエハステージ室３７に
対する塵埃の混入の効果的な抑制、及びウエハホルダの
クリーン状態の維持による前述した効果は、同様だから
である。

【０１３９】また、前述の如く、照明光として波長１９
３ｎｍ程度のＡｒＦエキシマレーザ光用いる場合には、
ドライエア（例えば湿度が５％程度以下）が使用される
ことがあるが、このような場合であっても、本発明に係
る搬送装置は有効である。

【０１４０】なお、本発明に係る搬送装置は、ウエハカ
セット載置台の配置や個数などにフレキシブルに対応す
ることができる。また、複数個のウエハカセット載置台
を設置してそれぞれのウエハカセット載置台上のウエハ
カセットに対してロボットアームが独立にアクセス可能
としても良い。また、ウエハカセット載置台４３を＋Ｙ
方向に移動する、例えば搬送装置本体部１４０と一列に
並べて配置してフットプリントの縮小を図っても良い
し、１つのロボットアームだけでウエハの移送を行うよ
うにしても良い。要は、搬送装置１２０の構成は、上記
実施形態に限らず、任意で良い。

【０１４１】また、上記実施形態では、外部搬送ロボッ
ト２２がアクセス可能な物体給排システムがウエハカセ
ット載置台４３とウエハカセット２１とによって構成さ
れるものとしたが、これに限らず、例えば全体チャンバ
３８にインラインにて接続されたコータ・デベロッパ等
の基板処理装置により物体給排システムを構成しても良
い。

【０１４２】なお、清掃済みのウエハホルダを露光に使
用されているウエハホルダとは別に露光装置内に用意し
ておき、清掃のためにウエハステージから搬送されてき
たウエハホルダ４０と入れ替えにウエハステージＷＳＴ
へ搬送することとしても良く、このようにすることで、
ウエハホルダの清掃によるダウンタイムの短縮を図るこ
とができる。

【０１４３】なお、上記実施形態では、ウエハステージ
室３７内に１つのウエハステージが収容された場合につ
いて説明したが、これに限らず、ウエハステージ室３７
内にウエハステージを２つ収容するダブルステージタイ
プの露光装置にも、本発明は好適に適用することができ
る。

【０１４４】すなわち、図７に示されるような構成を採
用することができる。

【０１４５】図７に示される露光装置１００’は、ウエ
ハステージＷＳＴに加え、該ウエハステージＷＳＴと同
様の構成のウエハステージＷＳＴ’を更に備えている点
に特徴を有している。

【０１４６】この露光装置１００’においては、ウエハ
ステージ室３７内に、ウエハステージＷＳＴ’に対応し
て、ウエハステージＷＳＴ’専用のステージ室内アライ
メント部４９’が配設され、ウエハステージチャンバ１
３７の−Ｙ側の隔壁に、ウエハステージＷＳＴ’上のウ
エハＷ’及びウエハホルダ４０’の搬出入を行うための
開口３７ｂが形成されている。更に、この開口３７ｂに
対応して前述の搬送系チャンバ１３０とほぼ同様の構造
の第４搬送系チャンバ１６０が設けられている。

【０１４７】この搬送系チャンバ１６０の内部には第４
室ＲＩ４が形成され、この第４室内にウエハステージＷ
ＳＴ’に対し、ウエハＷ’及びウエハホルダ４０’を搬
送するための搬送ロボット２３’が配設されている。搬
送系チャンバ１６０の＋Ｙ側の側壁には、開口３７ｂに
対向する位置に、開口６０ｂが形成され、該開口６０ｂ
の周囲部分と開口３７ｂの周囲部分とは、前述の第２室
ＲＩ２と同様に軟性シールド部材３４’にて連結されて
いる。また、開口６０ｂの内側（−Ｙ側）にはゲートバ
ルブ２６’が配設されている。

【０１４８】更に、搬送系チャンバ１６０の第１室ＲＩ
１に接する側壁部分には開口６０ａが形成され、該開口
６０ａと開口６０ａに対応して第１室ＲＩ１に形成され
た開口２９ｃとを介して第４室ＲＩ４の内部空間と第１
室ＲＩ１の内部空間とが連通状態となっている。また、
開口２９ｃの内側（＋Ｘ側）には、ゲートバルブ１９が
設けられている。

【０１４９】なお、その他の部分については、上記実施
形態と同様となっている。

【０１５０】次に、ウエハステージＷＳＴ２上のウエハ
ホルダ４０’の清掃を行う際のウエハホルダ４０’の搬
送手順について説明する。

【０１５１】前提として、ウエハステージＷＳＴ’上の
ウエハホルダ４０’にはウエハＷ’が載置されていない
状態、すなわち、ウエハＷ’がウエハステージＷＳＴ’
から搬出され、ウエハステージＷＳＴ’がステージ室内
アライメント部４９’の下方の受け渡し位置に位置して
いるものとする。また、各ゲートバルブ及び扉２８は全
て閉状態であり、第１室ＲＩ１〜第４室ＲＩ４の内部は
パージガスが充填されているものとする。

【０１５２】（１）まず、ゲートバルブ２６’が開状態
となり、開口６０ｂが開放されるとともに、搬送ロボッ
ト２３’のアームが駆動され、アームがウエハステージ
室３７内に進入する。このとき、ウエハステージＷＳ
Ｔ’では、ウエハステージＷＳＴと同様に第２センタア
ップ機構が上昇駆動され、ウエハホルダ４０’がウエハ
ステージＷＳＴ’の上面の上方に所定高さだけ持ち上げ
られた状態となっている。そして、ウエハステージ室３
７内に進入したアームは、第２センタアップ機構により
持ち上げられたウエハホルダ４０’の僅かに下方の位置
に移動し、第２センタアップ機構が下降駆動されること
により、第２センタアップ機構から搬送ロボット２３’
のアームにウエハホルダ４０’が受け渡される。

【０１５３】（２）搬送ロボット２３は、ウエハホルダ
４０を受け取ると、ウエハステージ室３７内から第４室
ＲＩ４内に退避し、その後は速やかにゲートバルブ２
６’が閉状態となり、開口６０ｂが閉鎖される。このよ
うに、ウエハホルダ４０’をウエハステージ室３７から
搬出する際に、開口６０ｂが一時的に開放されるが、そ
の際第４室ＲＩ４内は前述の如く、パージガスが充填さ
れた環境となっているので、第４室ＲＩ４からウエハス
テージ室３７内に空気が混入して、ウエハステージ室３
７内部のパージガスの純度を低下させることが殆どな
い。また、開口６０ｂの開閉動作（ゲートバルブ２６’
の開閉動作）に連動して搬送ロボット２３’のアームが
ウエハステージ室３７内に出入りするので、開口６０ｂ
の開放時間を極力短くすることができる。従って、第４
室ＲＩ４からウエハステージ室３７内への空気の浸入及
び塵埃の混入等も極力抑制することができる。

【０１５４】（３）上記の開口６０ｂの閉鎖に続いて、
ゲートバルブ１９が開状態となり、開口６０ａ，２９ｃ
が開放される。これらの開口６０ａ，２９ｃが開放され
た後、ウエハホルダ４０’を保持した搬送ロボット２
３’のアームが旋回・伸縮駆動され、開口６０ａ，２９
ｃを介して第１室ＲＩ１内に進入され、ウエハホルダ４
０’がアライメント駆動部３２の上方に搬送される。次
いで、アライメント駆動部３２の回転駆動部３２θの上
昇駆動又はアームの下降駆動により、ウエハホルダ４
０’が回転駆動部３２θの回転軸に受け渡され、その後
アームは第１室ＲＩ１内から退避する。この退避後は、
ゲートバルブ１９が速やかに閉状態となり開口６０ａ，
２９ｃが閉鎖される。この場合も、開口６０ａ，２９ｃ
が一時的に開放されるが、第１室ＲＩ１内部にパージガ
スが充填されているので、第１室ＲＩ１から第４室ＲＩ
４内に空気が浸入しても、第４室ＲＩ４内のパージガス
の純度を極端に低下させることがない。また、開口６０
ａ，２９ｃの開閉（ゲートバルブ２４の開閉）に連動し
て搬送ロボット２３’のアームが第１室ＲＩ１内に出し
入れされるので、開口６０ａ，２９ｃの開放時間を極力
短くすることができ、第１室ＲＩ１から第４室ＲＩ４へ
の空気の浸入及び塵埃の混入等も極力抑制することがで
きる。

【０１５５】（４）次いで、第１室ＲＩ１と第２室ＲＩ
２との間のゲートバルブ２５が開状態となり、開口２９
ｂ及び開口３０ａが開放される。そして、開口２９ｂ，
３０ａの開放後に搬送ロボット２３のアーム２３ａが駆
動機構２３ｂにより駆動され、開口２９ｂ，３０ａを介
して第１室ＲＩ１内に進入される。アーム２３ａは、第
１室ＲＩ１内に進入後、アライメント駆動部３２にて支
持されたウエハＷのわずかに下方の位置まで移動し、ア
ライメント駆動部３２の回転駆動部３２θの下降駆動あ
るいはアーム２３ａの上昇駆動により回転駆動部３２θ
からアーム２３ａにウエハＷが受け渡される。

【０１５６】（５）アーム２３ａにウエハＷが受け渡さ
れると、アーム２３ａが伸縮駆動され、アーム２３ａが
第１室ＲＩ１内から第２室ＲＩ２内に退避し、これによ
り、ウエハＷが第１室ＲＩ１内から第２室ＲＩ２内に搬
送された後、ゲートバルブ２５が閉状態となって開口２
９ｂ及び３０ａが閉鎖される。この場合も、開口２９
ｂ，３０ａが一時的に開放されるが、第２室ＲＩ２内部
にパージガスが充填されているので、第２室ＲＩ２から
第１室ＲＩ１内に空気が浸入しても、第１室ＲＩ１内の
パージガスの純度を極端に低下させることがない。ま
た、開口２９ｂ，３０ａの開閉（ゲートバルブ２５の開
閉）に連動して搬送ロボット２３のアーム２３ａが第１
室ＲＩ１内に出し入れされるので、開口２９ｂ，３０ａ
の開放時間を極力短くすることができ、第２室ＲＩ２か
ら第１室ＲＩ１への空気の浸入及び塵埃の混入等も極力
抑制することができる。

【０１５７】これ以降（第２室ＲＩ２から第３室ＲＩ３
のホルダ載置部３５まで）のホルダの搬送は、上記実施
形態で説明したウエハステージＷＳＴ上のウエハホルダ
４０の搬送と同様に行われる。

【０１５８】そして、ウエハホルダ４０’がオペレータ
（作業者）等により清掃された後、ウエハホルダ４０’
は、上述したウエハホルダの搬出動作とは逆の動作によ
り、第２室ＲＩ２、第１室ＲＩ１及び第４室ＲＩ４を経
由し、ウエハステージ室３７内に搬送される。その後、
ステージ室内アライメント部４９’においてウエハホル
ダ４０’の位置ずれが補正され、ウエハステージＷＳ
Ｔ’上にウエハホルダ４０’が載置される。

【０１５９】なお、ウエハステージＷＳＴ’上のウエハ
Ｗ’の交換については、使用するステージ室内アライメ
ント部及び搬送ロボットが異なるのみであり、その搬送
動作については、上記実施形態で説明したウエハステー
ジＷＳＴ上のウエハＷの交換動作と何ら変わりはないの
で、その説明を省略するものとする。また、ウエハステ
ージＷＳＴ上のウエハＷ及びウエハホルダ４０の搬送方
法についても、上記実施形態と何ら変わりはないので、
その説明を省略するものとする。

【０１６０】このように、ダブルステージタイプの露光
装置１００’を採用することで、一方のウエハステージ
側で行われる露光動作と並行して、他方のウエハステー
ジ上のウエハ交換及びアライメント動作を行うことがで
きるので、ウエハ交換、アライメントにかかる時間（オ
ーバーへッド時間）が短縮され、露光装置全体のスルー
プットを向上することができる。

【０１６１】また、一方のウエハステージ上のウエハホ
ルダを清掃する間に、他方のウエハステージにて露光動
作を行うことができるので、装置を完全に停止すること
がなく、この点からもスループットを向上することが可
能である。

【０１６２】また、上記のようにウエハステージ室３７
内に各ウエハステージに対応してウエハ及びウエハホル
ダの受け渡し位置が複数箇所設けられていても、位置ず
れ検出（第１プリアライメント）を行う位置ずれ検出装
置３３は１つ設けられているのみなので、スペース効率
の向上が可能となっている。また、ウエハホルダの清掃
のためのホルダ載置部も１つのみ設けられているのみな
ので、この点からも露光装置のスペース効率の向上が可
能となっている。

【０１６３】また、各ウエハステージ（ＷＳＴ，ＷＳ
Ｔ’）に対するウエハホルダ及びウエハの受け渡し位置
が異なる位置に設定され、ウエハステージ室内アライメ
ント部（４９，４９’）が各受け渡し位置に個別に対応
して設けられている。このため、２つのウエハステージ
のウエハホルダ及びウエハの受け渡し位置を共通とした
場合に比べ、一方のウエハステージの移動が他方のウエ
ハステージの制約を受けることがないので、ステージの
駆動制御をより簡易に行うことが可能である。

【０１６４】なお、ダブルステージタイプの露光装置の
場合には、第３室ＲＩ３のウエハホルダ載置部３５を複
数段の上下積層構造とし、各ウエハステージに載置され
るウエハホルダ４０，４０’を同時に載置することによ
り、ウエハホルダを２枚同時に清掃することとしても良
い。また、清掃済みのウエハホルダを２枚別々に用意し
ておき、ウエハステージからウエハホルダを搬出するの
と入れ替えに、ウエハホルダを搬入することとしても良
い。これにより、ウエハホルダの清掃によるダウンタイ
ムの短縮を図ることができる。さらに、ウエハ及びウエ
ハホルダの受け渡し位置を一箇所とし、露光位置とアラ
イメント位置（ウエハ及びウエハホルダの交換位置）と
の間で２つのウエハステージを交互に入れ替えるように
構成しても良く、これにより露光装置本体部のフットプ
リントの縮小を図ることができる。

【０１６５】なお、ウエハステージＷＳＴ’上のウエハ
ホルダの清掃に用いられるウエハ保持部を内部に有する
部屋を、搬送ロボット２３’に対応して、第４室ＲＩ４
に近接して設けることとしても良い。

【０１６６】なお、上記実施形態では、搬送装置内アラ
イメント部５５を構成するアライメント機構部３２とし
て、ウエハをＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向及びθｚ方
向の４自由度方向に駆動可能な構成を採用することとし
たが、これに限らず、θｚ方向の回転駆動のみ可能な構
成を採用することも可能である。この場合には、ウエハ
のＸ，Ｙ軸方向の位置ずれをウエハを保持するアームの
駆動により補正することとし、θｚ方向の位置ずれのみ
をアライメント機構部３２により補正することとするこ
とができる。

【０１６７】なお、上記実施形態では、搬送装置を構成
する搬送ロボットとして、シングルアームの水平多関節
ロボットを採用するものとしたが、これに限らず、それ
ぞれに複数のアームを設ける、あるいはステージ室内ア
ライメント部と搬送装置内アライメント部のそれぞれを
２つのハンドリング機構にする、あるいはそれらの組み
合わせによって、ウエハステージへのウエハの搬入、及
びウエハステージからのウエハの搬出を同時に行うこと
ができ、ウエハの搬送に要する時間をより短くすること
ができる。

【０１６８】なお、上記実施形態では、ウエハステージ
にウエハホルダ及びウエハをロード・アンロードする際
に用いられる第１センタアップ機構、第２センタアップ
機構を設けることとしたが、ウエハステージの構成はこ
れに限られるものではない。例えばウエハステージの上
面とウエハホルダの下面との間にアーム（又はハンド部
４９ａのフック部）が入り込める程度の溝をウエハステ
ージ上面に形成することとしても良いし、ウエハホルダ
の下面側にアーム（又はハンド部４９ａのフック部）が
入り込める程度の切り欠きを設けることとしても良い。
要は、ウエハホルダの下面のアーム（又はハンド部４９
ａのフック部）が支持する部分と、ウエハステージとの
間に隙間が形成される、あるいは隙間を作ることができ
る構成であればどのような構成を採用しても良い。

【０１６９】露光装置の用途としては半導体製造用の露
光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプ
レートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光
装置や、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチ
ップなどを製造するための露光装置にも広く適用でき
る。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでな
く、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び
電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを
製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに
回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用でき
る。

【０１７０】また、上記実施形態の露光装置の光源は、
Ｆ₂レーザ光源、ＡｒＦエキシマレーザ光源、ＫｒＦエ
キシマレーザ光源などの紫外パルス光源に限らず、ｇ線
（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝
線を発する超高圧水銀ランプを用いることも可能であ
る。この他、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザ
から発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光
を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウ
ムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、
非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を
用いても良い。また、投影光学系の倍率は縮小系のみな
らず等倍および拡大系のいずれでも良い。

【０１７１】半導体デバイスは、デバイスの機能・性能
設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチ
クルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製
作するステップ、前述した実施形態の露光装置によりレ
チクルのパターンをウエハに転写するステップ、デバイ
ス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工
程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製
造される。

【０１７２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の搬送装置
によれば、物体収容室内への大気の混入を極力抑制しつ
つ、物体収容室内の物体保持器を外部からアクセス可能
位置まで搬送することができるという効果がある。

【０１７３】また、本発明の露光装置によれば、高精度
な露光を実現することができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施形態に係る露光装置１００を搬送装置を
中心として概略的に示す横断面図（平面断面図）であ
る。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。

【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。

【図４】図１のＣ−Ｃ線断面図である。

【図５】図５（Ａ）〜図５（Ｃ）は、ウエハステージＷ
ＳＴに設けられた第１、第２センタピンの構成を説明す
るための図である。

【図６】一実施形態にかかる露光装置の制御系の構成を
示すブロック図である。

【図７】変形例にかかる露光装置を概略的に示す横断面
図（平面断面図）である。

【符号の説明】

２１…ウエハカセット（物体給排システムの一部）、２
２…外部搬送ロボット（外部搬送機構）、２３…搬送ロ
ボット（搬送機構）、２４，２５，２６，２７…ゲート
バルブ（開閉装置）、２９ａ…開口（特定開口、搬出入
口）、２９ｂ，３０ａ〜３０ｃ，３１ａ…開口（特定開
口）、３１ｂ…開口、３３…位置ずれ検出装置、３７…
ウエハステージ室（物体収容室、露光室）、４０…ウエ
ハホルダ（物体保持器）、４３…ウエハカセット載置台
（物体給排システムの一部）、ＲＩ１…第１室（搬送
室）、ＲＩ２…第２室（搬送室、第１搬送室）、ＲＩ３
…第３室（搬送室、第２搬送室）、１３３…検出装置、
１５０…内部環境設定装置、Ｗ…ウエハ（基板、物
体）、ＷＳＴ…ウエハステージ（移動テーブル）。

フロントページの続き (72)発明者 田澤 久史 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 CA07 FA01 FA11 FA12 FA15 GA43 JA04 JA34 JA35 KA13 KA14 MA27 NA02 NA04 NA05 NA09 NA20 PA18 PA21 PA26 5F046 AA22 CD01 CD05 DA27

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ほぼ気密状態とされた物体収容室内に搬
   送対象物を搬入し、かつ前記物体収容室から前記搬送対
   象物を搬出する搬送装置であって、 大気部と前記物体収容室との間に設けられ、物体及び該
   物体を保持する物体保持器の少なくとも一方の通路とな
   る開口が隣接する空間との間の隔壁にそれぞれ形成され
   た少なくとも１つの搬送室と；前記物体収容室から前記
   大気部に至る搬送経路中に存在する隔壁にそれぞれ形成
   された開口のうちの少なくとも１つの特定開口を開閉す
   る開閉装置と；前記開閉装置による前記特定開口の開閉
   動作に連動して前記物体収容室と前記搬送室内部の前記
   大気部からアクセス可能な所定位置との間で少なくとも
   前記物体保持器を搬送する搬送機構と；を備える搬送装
   置。
2. 【請求項２】 前記少なくとも１つの搬送室には、内部
   に前記搬送機構が配置される第１搬送室と、該第１搬送
   室との間を前記特定開口が形成された特定の隔壁により
   仕切られ、その内部に前記所定位置が設けられた第２搬
   送室とが含まれることを特徴とする請求項１に記載の搬
   送装置。
3. 【請求項３】 前記第１搬送室は、少なくとも酸素を含
   む特定気体がほぼ除去された空間であることを特徴とす
   る請求項２に記載の搬送装置。
4. 【請求項４】 前記第２搬送室にはその内部を、少なく
   とも酸素を含む特定気体がほぼ除去された第１状態と該
   特定気体が存在する第２状態とのいずれの状態にも設定
   可能な内部環境設定装置が併設されていることを特徴と
   する請求項２又は３に記載の搬送装置。
5. 【請求項５】 前記内部環境設定装置は、前記特定気体
   がほぼ除去された空間で静電気の発生を抑制することを
   特徴とする請求項４に記載の搬送装置。
6. 【請求項６】 前記開閉装置により開閉される特定開口
   には、前記物体の外部からの搬出入口が含まれ、 前記開閉装置による前記搬出入口の開閉に連動して前記
   搬出入口を介して前記物体を外部から前記搬送室に対し
   て搬出入する外部搬送機構を更に備えることを特徴とす
   る請求項１〜５のいずれか一項に記載の搬送装置。
7. 【請求項７】 前記外部搬送機構がアクセス可能な物体
   給排システムを更に備えることを特徴とする請求項６に
   記載の搬送装置。
8. 【請求項８】 前記少なくとも１つの搬送室の内部に配
   置され、前記物体の位置ずれ検出を行う位置ずれ検出装
   置を更に備えることを特徴とする請求項６又は７に記載
   の搬送装置。
9. 【請求項９】 前記物体収容室に、前記搬送機構により
   前記物体及び前記物体保持器が搬出及び搬入される受け
   渡し位置が複数箇所設けられ、 前記位置ずれ検出装置は、いずれの受け渡し位置に搬送
   される基板についても前記位置ずれ検出を行うことを特
   徴とする請求項８に記載の搬送装置。
10. 【請求項１０】 エネルギビームにより基板を露光して
    前記基板上に所定のパターンを形成する露光装置であっ
    て、 請求項１〜９のいずれか一項に記載の搬送装置を、前記
    基板及びこれを保持する基板保持器の搬送装置として備
    え、 前記物体収容室が前記基板の露光が行われる露光室であ
    ることを特徴とする露光装置。
11. 【請求項１１】 前記露光室内には、前記基板保持器が
    搭載される移動テーブルが設けられ、 前記搬送機構によって搬送された前記基板保持器が前記
    移動テーブルに搭載されるのに先立って、前記基板保持
    器の位置ずれを検出する検出装置を更に備えることを特
    徴とする請求項１０に記載の露光装置。
12. 【請求項１２】 前記検出装置は、前記搬送機構によっ
    て搬送された前記基板が前記移動テーブル上の前記基板
    保持器に搭載されるのに先立って、前記基板の位置ずれ
    を検出する装置を兼ねることを特徴とする請求項１１に
    記載の露光装置。
13. 【請求項１３】 前記露光室内には、前記移動テーブル
    が複数設けられていることを特徴とする請求項１１又は
    １２に記載の露光装置。
14. 【請求項１４】 前記各移動テーブルに対する前記基板
    保持器及び前記基板の受け渡し位置が異なる位置に設定
    され、 前記検出装置が前記各受け渡し位置に個別に対応して設
    けられていることを特徴とする請求項１３に記載の露光
    装置。