JP2003162055A - 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、絶縁膜およびその形成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】キュア温度が比較的低く、かつ、耐熱性、フレ
キシブル性等の被膜特性に優れ、アルカリ水溶液での現
像が可能であり、しかも反りの小さい絶縁膜を与える感
光性樹脂組成物、感光性フィルム、絶縁膜およびその形
成法を提供する。 【解決手段】（ａ）エポキシ（メタ）アクリレ−ト化合
物とその少なくとも一部が末端に酸無水物基を有するイ
ミド系オリゴマ−である酸無水物との反応物であるハ−
フエステル化オリゴマ−、（ｂ）光重合開始剤および
（ｃ）熱硬化性樹脂を含むアルカリ溶解性の感光性樹脂
組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、プリント配線板
の保護膜（特にカバ−レイ）に用いることができる新規
な感光性樹脂組成物、感光性フィルム、絶縁膜およびそ
の形成法に関する。詳しくは、この発明は、硬化して得
られる絶縁膜が耐熱性、電気的および機械的性質（特に
柔軟性）、耐溶剤性、耐アルカリ性および耐酸性を兼ね
備えた、アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成
物、感光性フィルム、絶縁膜およびその形成法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント配線板には、電気絶縁性
の良好な永久レジストである絶縁膜が使用され、導体回
路を短絡、酸化などの原因となる外的因子から保護して
いる。この絶縁膜は、熱硬化性あるいは光硬化性の樹脂
組成物をスクリ−ン印刷により目的の形状にしている。
近年の電子機器の小型化、集積化に伴いプリント配線板
も高精細化画求められている。このため、印刷による絶
縁膜の形成から、より高精細なパタ−ンの形成が可能な
フォト法により潜在画像を形成しアルカリ水溶液により
現像するフォトソルダ−レジストが用いられ始めてい
る。使用されるフォトソルダ−レジストには、ドライフ
ィルム型フォトレジストと液状型フォトレジストがあ
る。

【０００３】ドライフィルム型フォトレジストとして
は、例えばアルカリ現像型ソルダ−レジスト材料をポリ
エチレンテレフタレ−トフィルムに塗布・乾燥した感光
性ドライフィルムが挙げられ、ドライフィルムを基板に
貼り付けて露光した後ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムを剥がして現像する手法が採られている。

【０００４】そして、ソルダ−レジストとしては、プリ
ント基板自体が薄膜化し、フレキシブル化しているた
め、より弾性率が小さく、反りの少ない絶縁膜の形成が
可能であり、且つ作業性に優れたソルダレジスト材料が
求められている。

【０００５】一方、アルカリ現像型の液状ソルダ−レジ
スト材料は、感光性を有する主剤と熱硬化性を有する硬
化剤とから構成され、通常二液システムであり両液を混
合して使用される。このため、フォトソルダ−レジスト
材料には印刷機などの塗工装置が必要であり、かつ溶媒
の除去も必要である。

【０００６】また、このような二液性のソルダ−レジス
ト材料をドライフィルム化した場合には、主剤に含まれ
る硬化剤や硬化促進剤と熱硬化性を有する材料とが混在
し、硬化反応が促進される。このため、二液性のフォト
ソルダ−レジストに比べて保存安定性に劣るものとな
る。

【０００７】この問題を解決したドライフィルム型フォ
トソルダ−レジストとして、特開平９−１８８７４５号
公報や特開平１１−１４３０６８号公報に記載されてい
るフェノ−ル樹脂型エポキシアクリレ−トと酸無水物と
の付加物とエポキシ樹脂とからなるドライフィル型ソル
ダ−レジストや、特開平６−１８４２７０号公報に記載
されているアルカリ可溶型のフェノ−ル樹脂型エポキシ
アクリレ−トとエポキシ樹脂からなるドライフィルム型
ソルダ−レジストが知られている。これらは、フォトソ
ルダ−レジストとして、パタ−ン形成性やキュア温度が
比較的低く作業性に優れ、絶縁膜として良好な電気特性
および耐熱性を有しているが、フレキシブルプリント基
板の絶縁膜として使用した際に、大きな反りが生じ、絶
縁膜形成後の作業性に劣る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、キ
ュア温度が比較的低く、かつ、耐熱性、フレキシブル性
等の被膜特性に優れ、アルカリ水溶液での現像が可能で
あり、しかも反りの小さい絶縁膜を与える感光性樹脂組
成物、感光性フィルム、絶縁膜およびその形成法を提供
することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は、
（ａ）下記式

【化３】

【００１０】（式中、Ｒ１は直鎖状あるいは分岐状の脂
肪族二官能性エポキシ残基で、Ｒ２は水素原子あるいは
メチル基であり、ｎは０〜５の整数である。）で示され
るエポキシ（メタ）アクリレ−ト化合物とその少なくと
も一部が下記式

【００１１】

【化４】

【００１２】（式中、Ｒ_３は芳香族あるいは脂肪族テト
ラカルボン酸残基で、Ｒ_４はジアミノシロキサン残基で
あり、ｍは０〜１の整数である。）で示される末端に酸
無水物基を有するイミド系オリゴマ−である酸無水物と
の反応物であるハ−フエステル化オリゴマ−、（ｂ）光
重合開始剤および（ｃ）熱硬化性樹脂を含むアルカリ溶
解性の感光性樹脂組成物に関するものである。

【００１３】また、この発明は、前記の感光性樹脂組成
物を離型剤付きフィルムに塗布、乾燥してフィルム状に
した感光性フィルムに関する。また、この発明は、前記
の感光性フィルムを、フレキシブル基板上に貼り付け、
離型剤付きフィルム上にパタ−ンマスクを置き、露光
し、潜在画像を形成後、パタ−ンマスクおよび離型剤付
きフィルムを除き、アルカリ水溶液により現像、熱処理
して形成した絶縁膜に関する。

【００１４】さらに、この発明は、前記の感光性フィル
ムを、フレキシブル基板上にロ−ルラミネ−タ−、プレ
ス等によって貼り付け、離型剤付きフィルム上にパタ−
ンマスクを置き、露光し、潜在画像を形成後、パタ−ン
マスクおよび離型剤付きフィルムを除き、アルカリ水溶
液により現像、熱処理する絶縁膜の形成法に関する。

【００１５】

【発明の実施の形態】この発明の好適な実施の形態を以
下に説明する。 １）酸無水物が、前記式中のＲ_３／Ｒ_４が１．５〜２の
範囲内にある末端に酸無水物基を有するイミド系オリゴ
マ−のみからなる上記の感光性樹脂組成物。 ２）熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂である上記の感光性
樹脂組成物。 ３）さらに（ｄ）有機溶媒、（ｅ）熱重合禁止剤、
（ｆ）微細無機フィラ−、（ｇ）顔料を配合してなる上
記の感光性樹脂組成物。 ４）ハ−フエステル化オリゴマ−とエポキシ樹脂との割
合（ハ−フエステル化オリゴマ−／エポキシ樹脂）が、
重量比で０．１〜０．３５である上記の感光性樹脂組成
物。

【００１６】この発明においては、感光性樹脂として前
記の直鎖状あるいは分岐状の脂肪族エポキシ（メタ）ア
クリレ−ト化合物とその少なくとも一部、好適には５０
重量％以上、特にその全部が前記の末端に酸無水物基を
有するイミド系オリゴマ−である酸無水物との反応物で
あるハ−フエステル化オリゴマ−を使用することが必要
である。

【００１７】前記の直鎖状あるいは分岐状の脂肪族エポ
キシ（メタ）アクリレ−ト化合物は、例えば、直鎖状あ
るいは分岐状の脂肪族エポキシ化合物と（メタ）アクリ
ル酸とを、好適には反応促進剤および重合禁止剤の存在
下に、６０〜１１０℃で１０〜５０時間程度加熱させて
反応させることによって得ることができる。前記の直鎖
状あるいは分岐状の脂肪族エポキシ化合物としては、例
えば、ブタンジオ−ル型エポキシ樹脂、ヘキサンジオ−
ル型エポキシ樹脂、エチレンジグリコ−ル型エポキシ樹
脂、ジエチレンジグリコ−ル型エポキシ樹脂、トリエチ
レンジグリコ−ル型エポキシ樹脂、テトラエチレンジグ
リコ−ル型エポキシ樹脂等のポリエチレンジグリコ−ル
型エポキシ樹脂、プロピレングリコ−ル型エポキシ樹
脂、ジプロピレングリコ−ル型エポキシ樹脂、トリプロ
ピレングリコ−ル型エポキシ樹脂、テトラプロピレング
リコ−ル型エポキシ樹脂等のポリプロピレングリコ−ル
型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコ−ル型エポキシ樹
脂などを挙げることができる。

【００１８】この発明における前記のハ−フエステル化
イミドオリゴマ−は、例えば前記の直鎖状あるいは分岐
状の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレ−ト化合物とその
少なくとも一部、好適にはその５０重量％以上、特に全
部が前記の末端に酸無水物基を有するイミド系オリゴマ
−である酸無水無水物とを有機溶媒中で、４０〜１１０
℃で、１〜２０時間程度加熱して反応させることによっ
て生成させることができる。前記のオリゴマ−であるハ
−フエステル化反応生成物は単離することなく溶液とし
て使用することができる。

【００１９】前記の末端に酸無水物基を有するイミド系
オリゴマ−と併用する酸無水物としては、例えばフタル
酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレン
グリコ−ル無水トリメリット酸無水物、ビフェニルテト
ラカルボン酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物、ドデ
セニルコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、ドデカン二酸、エチルオクタデカン二酸、フェニル
ヘキサデカン二酸等の脂肪族カルボン酸の無水物、テト
ラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水
物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサ
ヒドロフタル酸無水物、トリアルキルテトラヒドロフタ
ル酸無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３
−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，
２−ジカルボン酸無水物、ナジック酸無水物、ヘット酸
無水物、ハイミック酸無水物等の脂環式カルボン酸無水
物が挙げられる。

【００２０】前記の反応に使用される溶媒としては、γ
−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−アミルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、テトハヒドロフラ
ン、トリエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル、プロピレングリコ−
ルジエチルエ−テルなどのエ−テル系溶剤が挙げられ
る。これらの溶剤のほかに、メチル３−メトキシプロピ
オネ−ト、エチル３−エトキシプロピオネ−ト、プロピ
レングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト等のエス
テル類などの含酸素系有機化合物を挙げることができ
る。前記の反応溶媒は感光性樹脂組成物の溶媒として分
離することなく、そのままあるいは濃縮あるいは希釈し
て使用することができる。

【００２１】また、前記の末端に酸無水物基を有するイ
ミドオリゴマ−は、例えば芳香族テトラカルボン酸二無
水物あるいは脂肪族テトラカルボン酸二無水物をハ−フ
エステル化剤によりハフエステル化した後に、それより
モル量で少量のジアミンとしてのジアミノポリシロキサ
ンとを反応させ、１２０〜２５０℃で１〜２０時間程度
加熱して、ハ−フエステル化剤および生成した水を留去
させながら反応させてイミド化させることによって得る
ことができる。前記のテトラカルボン酸二無水物とジア
ミンとの割合は、ジアミン１当量に対してテトラカルボ
ン酸二無水物が１．２〜３当量、特に１．５〜２当量の
当量比が好ましい。また、テトラカルボン酸二無水物の
開環触媒としてアミン類などを使用してもよい。

【００２２】前記の芳香族テトラカルボン酸二無水物と
しては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−
ジカルボキシフェニル）エ−テル二無水物、ピロメリッ
ト酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、１，２，４，５−ナフタレンテトラ
カルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（２，５−ジカル
ボキシフェニル）プロパン二無水物、１，１−ビス
（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、
１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン
二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）スルホン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二
無水物が挙げられる。

【００２３】また、脂肪族あるいは脂環族系のテトラカ
ルボン酸二無水物として、ブタンテトラカルボン酸二無
水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロ
ペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテ
トラカルボン酸二無水物、メチルシクロヘキセンテトラ
カルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒ
ドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセ
ン−１，２−ジカルボン酸無水物などが挙げられる。前
記のテトラカルボン酸二無水物は１種を単独で使用して
もよくあるいは２種以上を組み合わせて使用してもよ
い。

【００２４】また、前記のジアミン成分であるジアミノ
ポリシロキサンとしては、式： Ｈ₂Ｎ−Ｒ_５−［−Ｓｉ（Ｒ_６）₂−Ｏ−］_l−Ｓｉ（Ｒ
_６）₂−Ｒ_５−ＮＨ₂ （ただし、式中、Ｒ_５は２価の炭化水素残基を示し、Ｒ
_６は独立に炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基
を示し、lは２〜３０を示す。）で示される化合物、好
ましくは前記式中Ｒ_５が炭素数２〜６、特に炭素数３〜
５の複数のメチレン基またはフェニレン基であるものが
好ましい。また、前記式においてlが４〜２０であるこ
とが好ましい。また、前記式においてlが２〜３０であ
れば均一の化合物であってもよく、lの異なる化合物の
混合物であってもよい。混合物である場合には、アミノ
当量から計算される平均値のlが２〜３０、特に４〜２
０の範囲内であることが好ましい。

【００２５】前記のジアミノポリシロキサンの一部、好
適には５０％以下を他のジアミンで置きかえてもよい。
他のジアミンとして、例えば、４，４’−ジアミノジフ
ェニルエ−テル、４，４’−ジアミノジフェニルメタ
ン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、ｏ−トリ
ジンなどのベンゼン環を２個有する芳香族ジアミン、
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，
３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−
ビス（４−アミノフェニル）ベンゼンなどのベンゼン環
を３個有する芳香族ジアミン、ビス［４−（４−アミノ
フェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパンなどのベ
ンゼン環を４個有する芳香族ジアミン、あるいはジアミ
ノエタン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、ジアミ
ノペンタン、ジアミノヘキサン、ジアミノヘプタン、ジ
アミニオクタン、ジアミノノナン、ジアミノデカン、ジ
アミノウンデカン、ジアミノドデカン、ジアミノシクロ
ヘキサン、ビシクロヘキシルジアミン、２，２−ビス
（３−アミノシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス
（４−アミノシクロヘキシル）プロパン、ビス（３−メ
チル−４−アミノシクロヘキシル）メタン、ｍ−キシリ
レンジアミン、ｐ−キシリレンジアミンなどの脂肪族ジ
アミンなどを挙げることができる。

【００２６】前記のハ−フエステル化剤としては、アル
コ−ル性ＯＨ基を１個有する化合物、例えば、メタノ−
ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、ブタノ−ル、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコ−
ルエチルエ−テル、エチルカルビト−ルなどの脂肪族ア
ルコ−ルや、ベンジルアルコ−ル、シクロヘキサノ−ル
などの環状アルコ−ルが挙げられる。

【００２７】この発明における（ｂ）光重合開始剤とし
ては、特に制限はなく、例えば、ミヒラ−ズケトン、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ア
セトフェノン、ベンゾイン、２−メチルベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエ−テル、ベンゾインエチルエ−テル、
ベンゾインイソプロピルエ−テル、ベンゾインイソブチ
ルエ−テル、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１，２−
ベンゾ−９，１０−アントラキノン、メチルアントラキ
ノン、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２−イソプロピルチオキサントン、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４
−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロ
パン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ジアセ
チルベンジル、ベンジルジメチルケタ−ル、ベンジルジ
エチルケタ−ル、２（２’−フリルエチリデン）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２
［２’（５”−メチルフリル）エチリデン］−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２（ｐ−
メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、４，４’−ジアジ
ドカルコン、ジ（テトラアルキルアンモニウム）−４，
４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルフォネ−
トなどが挙げられる。

【００２８】光重合開始剤の使用量は、特に限定されな
いが、ハ−フエステル化オリゴマ−１００重量部に対し
て、通常０．０５〜３０重量部、特に０．５〜２０重量
部が好ましい。前記の光重合開始剤の助剤として、４−
ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、４−ジエチル
アミノ安息香酸メチルエステル、ジメチルアミノアント
ラニル酸メチルなどを併用することができる。

【００２９】この発明における（ｃ）熱硬化性樹脂とし
ては、シアネ−ト樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹
脂は、ビスマレイミド樹脂、エポキシ樹脂などが挙げら
れ、好適にはエポキシ樹脂が挙げられる。

【００３０】前記のシアネ−ト樹脂は、シアネ−ト基を
有する有機化合物であればよく、例えば、ビスフェノ−
ルＡジシアネ−ト、ビス（４−シアネ−トフェニル）エ
−テル、１，１，１−トリス（４−シアネ−トフェニ
ル）エタン、ザ・ダウ・ケミカル社製の「ＸＵ−７１７
８７−０２」などを挙げることができる。

【００３１】前記のビスマレイミド−トリアジン樹脂
は、例えば、ビスマレイミド成分とシアネ−ト基を有す
るトリアジンモノマ−又はプレポリマ−成分とから得ら
れたイミド基とトリアジン環とを有する公知の熱硬化性
樹脂組成物であって、アクリル酸エステル類、ジビニル
ベンゼン、スチレン、トリアリルイソシアネ−ト等で０
〜３０重量％変性されていてもよく、特に、三菱瓦斯化
学株式会社製「ＢＴレジン」などを好適に挙げることが
できる。前記のビスマレイミド樹脂は、マレイン酸無水
物とジアミン化合物とを縮合させて得られた、マレイン
酸に基づく不飽和（二重結合）基を両末端に有するもの
であればよく、例えば、三井化学株式会社製の「ビスマ
レイミド」、味の素株式会社製の「ＡＴＵ−ＢＭＩ樹
脂」などを挙げることができる。

【００３２】前記のエポキシ樹脂としては、ポリフェノ
−ル類化合物のグリシジルエ−テル化合物である多官能
エポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエ−テ
ル化物である多官能エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グ
リシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系
エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノ−ル類をグリシジル化
したエポキシ樹脂などが挙げられる。ここに、多官能エ
ポキシ樹脂とはグリシジル基を２つ以上有するエポキシ
樹脂のことである。

【００３３】ポリフェノ−ル類化合物のグリシジルエ−
テル化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばビ
スフェノ−ルＡ、ビスフェノ−ルＦ、ビスフェノ−ル
Ｓ、４，４’−ビフェニルフェノ−ル、テトラメチルビ
スフェノ−ルＡ、ジメチルビスフェノ−ルＡ、テトラメ
チルビスフェノ−ルＦ、ジメチルビスフェノ−ルＦ、テ
トラメチルビスフェノ−ルＳ、ジメチルビスフェノ−ル
Ｓ、テトラメチル−４，４’−ビフェノ−ル、ジメチル
−４，４’−ビフェニルフェノ−ル、１−（４−ヒドロ
キシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，
２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノ−ル）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−
メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ−ル）、トリスヒ
ドロキシフェニルメタン、レゾルシノ−ル、ハイドロキ
ノン、ピロガロ−ル、ジイソプロピリデン骨格を有する
フェノ−ル類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフ
ルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノ−ル類、フ
ェノ−ル化ポリブタジエン等のポリフェノ−ル化合物の
グリシジルエ−テル化物である多官能エポキシ樹脂が挙
げられる。

【００３４】各種ノボラック樹脂のグリシジルエ−テル
化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばフェノ
−ル、クレゾ−ル類、エチルフェノ−ル類、ブチルフェ
ノ−ル類、オクチルフェノ−ル類、ビスフェノ−ルＡ、
ビスフェノ−ルＦ、ビスフェノ−ルＳ、ナフト−ル類等
の各種フェノ−ルを原料とするノボラック樹脂、キシリ
レン骨格含有フェノ−ルノボラック樹脂、ジシクロペン
タジエン骨格含有フェノ−ルノボラック樹脂、ビフェニ
ル骨格含有フェノ−ルノボラック樹脂、フルオレン骨格
含有フェノ−ルノボラック樹脂、フラン骨格含有フェノ
−ルノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジ
ルエ−テル化物が挙げられる。

【００３５】脂環式エポキシ樹脂としては、例えばシク
ロヘキサン等の脂肪族骨格を有する脂環式エポキシ樹脂
が挙げられ、脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば
１，４−ブタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、
ポリエチレングリコ−ル、ペンタエリスリト−ル等の多
価アルコ−ルのグリシジルエ−テル類が挙げられる。

【００３６】複素環式エポキシ樹脂としては、例えばイ
ソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素
環式エポキシ樹脂が挙げられ、グリシジルエステル系エ
ポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジグ
リシジルエステル等のカルボン酸類からなるエポキシ樹
脂が挙げられ、グリシジルアミン系エポキシ樹脂として
は、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシ
ジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。

【００３７】ハロゲン化フェノ−ル類をグリシジル化し
たエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノ−
ルＡ、ブロム化ビスフェノ−ルＦ、ブロム化ビスフェノ
−ルＳ、ブロム化フェノ−ルノボラック、ブロム化クレ
ゾ−ルノボラック、クロル化ビスフェノ−ルＳ、クロル
化ビスフェノ−ルＡ等のハロゲン化フェノ−ル類をグリ
シジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。

【００３８】これらエポキシ樹脂のうち、どのエポキシ
樹脂を用いるかは要求される特性によって適宜選択され
るが、グリシジルエ−テル型エポキシ樹脂が好ましく、
更に好ましくは、ビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂、ビ
スフェノ−ルＦ型エポキシ樹脂、フェノ−ルノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹
脂、フェノ−ル骨格とナフト−ル骨格を有するノボラッ
ク型エポキシ樹脂、フェノ−ル骨格とビフェニル骨格を
有するノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン
骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペン
タジエン骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂であ
る。フェノ−ル骨格とナフト−ル骨格を有するノボラッ
ク型エポキシ樹脂は、フェノ−ル骨格中にメチル基を有
するものがより好ましい。これらエポキシ樹脂は耐熱
性、難燃性付与等必要に応じ１種又は２種以上の混合物
として用いることが出来る。

【００３９】市販品としては、例えば、ビスフェノ−ル
Ａ型あるいはビスフェノ−ルＦ型エポキシ樹脂として油
化シェルエポキシ社製の商品名：エピコ−ト８０７、８
２８、８２８ＥＬ、多官能型エポキシ樹脂として例え
ば、住友化学工業株式会社製、ＥＬＭ−１００など、グ
リシジルアミン型エポキシ樹脂として例えば、三菱ガス
化学株式会社製、商品名：テトラッドＸ、フェノ−ル骨
格とナフト−ル骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂
として、例えば、ＮＣ−７０００（商品名：日本化薬社
製）、ＮＣ−７３００（商品名：日本化薬社製）、フェ
ノ−ル骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エポ
キシ樹脂はＮＣ−３０００Ｐ（商品名：日本化薬社
製）、トリフェニルメタン骨格を有するノボラック型エ
ポキシ樹脂はＥＰＰＮ−５０１Ｈ、ＥＰＰＮ−５０２Ｈ
（商品名：日本化薬社製）、ジシクロペンタジエン骨格
を有するノボラック型エポキシ樹脂はＸＤ−１０００
（商品名：日本化薬社製）が挙げられる。前記のエポキ
シ樹脂は、融点が９０℃以下、特に０〜８０℃程度であ
るもの、あるいは、３０℃以下の温度で液状であるもの
が特に好ましい。

【００４０】前記の熱硬化性樹脂の割合は、［（ａ）ハ
−フエステル化オリゴマ−］／［熱硬化性樹脂、特にエ
ポキシ樹脂］が、重量比で０．１〜０．５であることが
好ましい。

【００４１】前記の３成分の他に、無機充填剤、例え
ば、微細シリカ（消泡剤として機能する。）、マイカ、
タルク、ハイドロタルサイト、硫酸バリウム、ワラスト
ナイト、炭酸カルシウムなどの微細な無機充填剤、微細
なポリマ−充填剤を含有させてもよい。この無機充填剤
としては、どのような大きさ、形態のものでもよいが、
平均粒子径が０．００１〜２μｍ、特に０．００５〜２
μｍのものが好ましい。この範囲外のものを使用すると
得られる塗膜が屈曲したときに亀裂が発生したり、折り
曲げ部が白化したりするので好ましくない。前記の無機
充填剤の少なくとも２種を組み合わせて使用することが
好ましい。

【００４２】前記の無機充填剤の使用量は、好適には
(ａ)ハ−フエステル化オリゴマ−１００重量部に対し
て、合計で１〜１００重量部、特に５〜１００重量部、
その中でも５〜７５重量部である。使用量が、多過ぎる
と塗膜の折り曲げによりクラックが発生したり、少な過
ぎると半田耐熱性、銅箔変色性が悪くなるので上記範囲
が好適である。

【００４３】また、この発明の感光性樹脂組成物には、
必要に応じて顔料あるいは着色剤、例えばフタロシアニ
ンブル−、フタロシアニングリ−ン、アイオジングリ−
ン、ジスアゾイエロ−、クリスタルバイオレット、酸化
チタン、カ−ボンブラック、ナフタレンブラックなどの
着色剤あるいは顔料、消泡剤、例えばアクリル系消泡
剤、フッ素系消泡剤、シリコ−ン系消泡剤など、重合禁
止剤、例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチ
ルエ−テル、フェノチアジンなどの熱重合禁止剤、レベ
リング剤、イミダゾ−ル系、チアゾ−ル系、トリアゾ−
ル系、シランカップリング剤などの密着性付与剤などの
各種添加剤を用いることができる。

【００４４】この発明のアルカリ現像性を有する感光性
樹脂組成物は、前記各成分を均一に攪拌・混合すること
によって容易に得ることができる。各成分の添加順序に
は特に制限はなく、好適にはハ−フエステル化オリゴマ
−の有機溶媒溶液に他の成分を添加し混合することによ
って、感光性樹脂溶液組成物にすることができる。上記
感光性樹脂組成物は、塗布時の組成物として室温で溶液
粘度が３０〜６００ポイズ程度であることが作業性など
から適当である。

【００４５】この発明の感光性樹脂組成物を使用してフ
レキシブルプリント基板やセラミック基板、アルミニウ
ム基板、シリコ−ンウエハ−などになどの基材に塗布
後、プリベ−クして薄膜形成し、露光、アルカリ現像
し、ポストベ−クしてポリイミド系の絶縁膜を得ること
ができる。前記の工程における塗布方法としては、スピ
ンナ−を使用した回転塗布、印刷、ロ−ルコ−ティンン
グなどの方法がある。次に、１００℃以下の温度、好適
には５０〜８０℃の温度で１〜６０分間程度加熱乾燥し
てプリベ−クして塗膜を乾燥し薄膜形成する。

【００４６】あるいは、前記の感光性樹脂組成物を剥離
性フィルムに塗布し、１００℃以下の温度、好適には５
０〜８０℃の温度で乾燥して感光性樹脂組成物膜を得る
こともできる。この場合には、ゴミなどの付着を防止す
るために剥離性フィルム、例えばポリエステルフィルム
やポリエチレンフィルムなどの保護フィルムを感光性樹
脂組成物膜上に重ね合わせてもよい。前記の剥離性フィ
ルムとしては、ポリエステルフィルムやポリ４−メチル
ペンテン−１フィルム、好適にはポリエステルフィルム
の少なくとも片面を剥離処理したものが挙げられる。

【００４７】前記の工程後、所望のパタ−ン形状に化学
線を照射し、露光する。化学線としては、紫外線、可視
光線など、３００〜５００ｎｍの範囲の波長のものが好
ましい。次に、未照射部を現像して、パタ−ンを得る。
この発明の感光性樹脂組成物をパタ−ン形成する方法で
は、現像液として、アルカリ性水溶液、好適には弱アル
カリ性水溶液を使用する。この現像液には、少量のメタ
ノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の水溶性有機溶媒
が含有されていてもよい。

【００４８】上記のアルカリ性水溶液を与えるアルカリ
性化合物としては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類
金属またはアンモニウムイオンの、水酸化物または炭酸
塩や炭酸水素塩、アミン化合物などが挙げられ、具体的
には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモ
ニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素アンモニウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプ
ロピルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピル
アンモニウムヒドロキシド、Ｎ−メチルジエタノ−ルア
ミン、Ｎ−エチルジエタノ−ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルエタノ−ルアミン、トリエタノ−ルアミン、トリイソ
プロパノ−ルアミン、トリイソプロピルアミンなどを挙
げることができ、水溶液が塩基性を呈するものであれば
これ以外の化合物も当然使用することができ、特に、炭
酸ナトリウムなどの弱アルカリ性化合物を好適に挙げる
ことができる。前記のアルカリ性化合物の濃度は、通常
０．１〜２０重量％、特に０．５〜５％とすることが好
ましい。

【００４９】アルカリ現像方法としては、スプレ−、パ
ドル、浸漬、超音波などの各種方式を採用することがで
きる。現像によって形成したパタ−ンは、リンスする。
リンス液としては、水、酸性水溶液などでスプレ−方法
が挙げられる。

【００５０】次に、加熱処理を行うことにより感光性樹
脂組成物光硬化膜をポストベ−クして、架橋させて、耐
熱性に富む最終パタ−ンを得ることができる。前記のポ
ストベ−クは、２００℃以下、特に１５０〜２００℃で
３０〜１２０分間程度行うことが好ましい。

【００５１】この発明の感光性樹脂組成物から得られる
絶縁膜は、フレキシブルプリント銅張基板のカバ−コ−
トとして、あるいは単にソルダ−レジスト膜などとして
使用することができる。そして、この絶縁膜は、好適に
は曲率半径５０ｍｍ以上、特に１００ｍｍ以上で引張弾
性率が１００ｋｇ／ｍｍ^２以下の柔軟性、２８０℃×１
５秒以上の半田耐熱性、電気絶縁性、耐溶剤性、耐アル
カリ性、耐酸性を兼ね備えている。

【００５２】

【実施例】実施例中の合成物の分子量、フィルム成形体
の埋め込み性、絶縁膜の曲率半径、引張弾性率、体積抵
抗率、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐酸性、半田耐熱性に
ついての評価は次のように行った。得られた合成物の酸
価は、ＪＩＳ５４００に準じ、希釈溶媒をジグライムと
して測定した。

【００５３】得られた合成物の重量平均分子量は、０．
２ｗｔ％のＴＨＦ溶液とし、東ソ−株式会社製ＳＣ−８
０１０型、カラムにＳｈｏｄｅｘ ＫＦ−８００Ｄ＋Ｋ
Ｆ−８０５Ｌを使用し、カラム温度４０℃で、ポリスチ
レン標準分子量としてＧＰＣにより測定した。フィルム
成形体の埋め込み性は、マイクロスコ−プの観察により
評価し、気泡の内包がないものを○、気泡を内包してい
たものを×とした。フィルム成形体のパタ−ン精度は、
幅１００μｍの線状の未露光部を有するマスクパタ−ン
に対し、形成された線状パタ−ンの幅をマイクロスコ−
プにより測定した数値とした。

【００５４】絶縁膜の曲率半径は、ＪＩＳ Ｃ−６４８
１に準じ、宇部興産株式会社製ユ−ピレックス５０Ｓフ
ィルム（５０μｍ厚み）上に２５μｍの絶縁膜を形成
し、測定した。絶縁膜の引張弾性率は、オリエンテック
社製ＴＥＮＳＩＬＯＮ ＵＴＭ−ＩＩ−２０を用い、チ
ャック間３０ｍｍ、引張速度２ｍｍ／ｍｉｎの条件で測
定した。絶縁膜の体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｃ−２１０３
により測定した。絶縁膜の耐溶剤性は、絶縁膜を２５℃
のアセトンに３０分浸漬し、浸漬前後の重量減少が２％
未満のものを○、２％以上のものを×とした。

【００５５】絶縁膜の耐アルカリ性は、絶縁膜を２５℃
の１０％水酸化ナトリウム水溶液に３０分浸漬し、浸漬
前後の重量減少が２％未満のものを○、２％以上のもの
を×とした。絶縁膜の耐酸性は、絶縁膜を２５℃の１０
％硫酸水溶液に３０分浸漬し、浸漬前後の重量減少が２
％未満のものを○、２％以上のものを×とした。絶縁膜
の半田耐熱性は、２８０℃、１５秒間で評価した。異常
が生じない場合を○、フクレ等の異常が生じた場合を×
とした。

【００５６】合成例１ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、ブタンジオ−ル型エポキシ樹脂（バン
ティコ株式会社製アラルダイトＤＹ０２６ＳＰ）６０．
９２ｇ、アクリル酸（大阪有機化学工業株式会社製９８
％アクリル酸）３９．０８ｇ、反応促進剤（四国化成工
業株式会社製１．２ＤＭＺ）０．５０ｇ、重合禁止剤
（ｐ−メトキシフェノール）０．０２ｇを入れ、８０℃
で３０時間反応させ、酸価２．２６ｍｇＫＯＨ／ｇの淡
黄色透明なエポキシアクリレ−ト樹脂（ＥＡ−１）を得
た。

【００５７】合成例２ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、ネオペンチルグリコ−ル型エポキシ樹
脂（旭電化工業株式会社製アデカグリシロ−ルＥＤ−５
２３Ｔ）６６．０２ｇ、アクリル酸（大阪有機化学工業
株式会社製９８％アクリル酸）３３．９８ｇ、反応促進
剤（四国化成工業株式会社製１．２ＤＭＺ）１．０２
ｇ、重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノ−ル）０．０２ｇ
を入れ、８０℃で１６時間反応させ、酸価１．７６ｍｇ
ＫＯＨ／ｇの淡黄色透明なエポキシアクリレ−ト樹脂
（ＥＡ−２）を得た。

【００５８】合成例３ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、ブタンジオ−ル型エポキシ樹脂（バン
ティコ株式会社製アラルダイトＤＹ０２６ＳＰ）５６．
６２ｇ、メタクリル酸（和光純薬工業株式会社製）４
３．３８ｇ、反応促進剤（四国化成工業株式会社製１．
２ＤＭＺ）０．９８ｇ、重合禁止剤（ｐ−メトキシフェ
ノ−ル）０．０２ｇを入れ、８０℃で１６時間反応さ
せ、酸価１．７９ｍｇＫＯＨ／ｇの淡黄色透明なエポキ
シアクリレ−ト樹脂（ＥＡ−３）を得た。

【００５９】合成例４ 四つ口フラスコに、撹拌機、窒素導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、ビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂（大
日本インキ化学工業株式会社製エピクロンＥＸＡ−８５
０ＣＲＰ）７０．４７ｇ、アクリル酸（大阪有機化学工
業株式会社製９８％アクリル酸）２９．５３ｇ、反応促
進剤（四国化成工業株式会社製１．２ＤＭＺ）０．９９
ｇ、重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノ−ル）０．０２ｇ
を入れ、８０℃で１２時間反応させ、酸価０．９８ｍｇ
ＫＯＨ／ｇの淡黄色透明なエポキシアクリレ−ト樹脂
（ＥＡ−４）を得た。

【００６０】合成例５ 窒素置換した四つ口フラスコに、撹拌機、窒素導入管、
還流冷却器、共栓を取り付け、２，３，３’，４’−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−BPDA） ５
９．９５ｇ、メタノ−ル７５ｇを入れ、還流した。３時
間後、室温まで冷却し、還流冷却器を水分離器付きの還
流冷却器に換え、消泡剤（ダウコ−ニングアジア株式会
社製ＦＳアンチフォ−ム ＤＢ−１００）０．１５ｇ、
α、ω−ビス（３−アミノプロピル）ポリジメチルシロ
キサン（東レ・ダウコ−ニングシリコ−ン株式会社製ア
ミン当量４６０）９３．７２ｇを加え、１時間かけてメ
タノ−ルを留去した。続けて１９０℃まで昇温し、水を
留去しながら、６時間反応させ、１４５．１８ｇ（収率
９６．７９％）の茶褐色の粘調物を得た。この生成物
（ＳｉＡ）のＧＰＣ分析による分子量分布は、重量平均
分子量５１２０、１１８０、４００にピ−クを持つトリ
モ−ダルなものであった。

【００６１】合成例６ 窒素置換した四つ口フラスコに、撹拌機、窒素導入管、
還流冷却器、共栓を取り付け、３，３’，４，４’−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）５
９．９５ｇ、メタノ−ル７５ｇ、ピリジン０．６１ｇを
入れ、還流した。３時間後、室温まで冷却し、還流冷却
器を水分離器付きの還流冷却器に換え、消泡剤（ダウコ
−ニングアジア株式会社製ＦＳアンチフォ−ム ＤＢ−
１００）０．１５ｇ、α、ω−ビス（３−アミノプロピ
ル）ポリジメチルシロキサン（東レ・ダウコ−ニングシ
リコ−ン株式会社製 アミン当量４６０）９３．７２ｇ
を加え、１時間かけてメタノ−ルを留去した。続けて１
９０℃まで昇温し、水を留去しながら、６時間反応さ
せ、１４３．３３ｇ（収率９５．５５％）の茶褐色の粘
調物を得た。この生成物（ＳｉＳ）のＧＰＣ分析による
分子量分布は、重量平均分子量４７８０、１１５０、３
８０にピークを持つトリモ−ダルなものであった。

【００６２】合成例７ 窒素置換した四つ口フラスコに、撹拌機、窒素導入管、
還流冷却器、共栓を取り付け、３，３’，４，４’−ビ
フェニルエ−テルテトラカルボン酸二無水物６１．８６
ｇ、メタノ−ル７５ｇを入れ、還流した。３時間後、室
温まで冷却し、還流冷却器を水分離器付きの還流冷却器
に換え、消泡剤（ダウコ−ニングアジア株式会社製ＦＳ
アンチフォ−ム ＤＢ−１００）０．１５ｇ、α、ω−
ビス（３−アミノプロピル）ポリジメチルシロキサン
（東レ・ダウコ−ニングシリコ−ン株式会社製 アミン
当量４６０）９１．７３ｇを加え、１時間かけてメタノ
−ルを留去した。続けて１９０℃まで昇温し、水を留去
しながら、６時間反応させ、１４６．７９ｇ（収率９
７．８６％）の茶褐色の粘調物を得た。この生成物（Ｓ
ｉＯ）のＧＰＣ分析による分子量分布は、重量平均分子
量５１９０、１２５０、４５０にピークを持つトリモ−
ダルなものであった。

【００６３】合成例８ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、合成例１で得たＥＡ−１ １６．６９
ｇ、合成例４で得たＳｉＡ３３．３１ｇ、シクロヘキサ
ノン３０ｇを入れ、８０℃で３時間反応させ、淡褐色の
オリゴマ−溶液（ＨＯ−１）を得た。得られたオリゴマ
−溶液の酸価は３６．６７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ま
た得られたオリゴマ−のＧＰＣ分析による分子量分布
は、重量平均分子量６４７０、９９０、５６０、２５０
にピ−クを持つマルチモ−ダルなものであった。

【００６４】合成例９ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、合成例１で得たＥＡ−１ １６．６９
ｇ、合成例５で得たＳｉＳ３３．３１ｇ、シクロヘキサ
ノン３０ｇを入れ、８０℃で３時間反応させ、淡褐色の
オリゴマ−溶液（ＨＯ−２）を得た。得られたオリゴマ
−溶液の酸価は３８．５０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ま
た得られたオリゴマ−のＧＰＣ分析による分子量分布
は、重量平均分子量６６００、９９０、２５０、１３０
にピ−クを持つマルチモ−ダルなものであった。

【００６５】合成例１０ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、合成例１で得たＥＡ−１ １６．４５
ｇ、合成例７で得たＳｉＯ３３．５５ｇ、シクロヘキサ
ノン３０ｇを入れ、８０℃で３時間反応させ、淡褐色の
オリゴマ−溶液（ＨＯ−３）を得た。得られたオリゴマ
−溶液の酸価は２８．８４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ま
た得られたオリゴマ−ＧＰＣ分析による分子量分布は、
重量平均分子量６５００、９９０、２５０、１３０にピ
−クを持つマルチモ−ダルなものであった。

【００６６】合成例１１ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、合成例２で得たＥＡ−２ １８．２８
ｇ、合成例４で得たＳｉＡ３１．７２ｇ、シクロヘキサ
ノン３０ｇを入れ、８０℃で３時間反応させ、淡褐色の
オリゴマ−溶液（ＨＯ−４）を得た。得られたオリゴマ
−溶液の酸価は２９．４９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ま
た得られたオリゴマ−ＧＰＣ分析による分子量分布は、
重量平均分子量５９２３、７５７、５０８にピ−クを持
つトリモ−ダルなものであった。

【００６７】合成例１２ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、合成例３で得たＥＡ−３ １７．５１
ｇ、合成例４で得たＳｉＡ３２．４９ｇ、シクロヘキサ
ノン３０ｇを入れ、８０℃で３時間反応させ、淡褐色の
オリゴマー溶液（ＨＯ−５）を得た。得られたオリゴマ
ー溶液の酸価は３０．４０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ま
た得られたオリゴマーＧＰＣ分析による分子量分布は、
重量平均分子量６６６０、９９０、２５０、１３０にピ
−クを持つマルチモ−ダルなものであった。

【００６８】合成例１３ 四つ口フラスコに、撹拌機、空気導入管、還流冷却器、
共栓を取り付け、合成例１で得たＥＡ−４ ３８．４２
ｇ、ｓ−ＢＰＤＡ１１．５８ｇ、シクロヘキサノン３０
ｇを入れ、８０℃で３時間反応させ、淡黄色のオリゴマ
−溶液（ＨＯ−６）を得た。得られたオリゴマ−溶液の
酸価は５０．８８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【００６９】実施例１ 合成例８で得たオリゴマ−溶液ＨＯ−１ ６０ｇに対
し、フタロシアニングリ−ン０．３８ｇを加え、一旦ろ
過した。ろ液５０ｇに対し、光重合開始剤（チバガイギ
−株式会社製イルガキュア６５１）０．６２ｇ、重合禁
止剤（石津製薬株式会社製フェノチアジン）０．１６
ｇ、４３％シクロヘキサノン溶液としたエポキシ樹脂
（日本化薬製ＥＯＣＮ−４５００）の溶液１５．９５
ｇ、タルク（平均粒径１．８μｍ）９．３２ｇ、ハイド
ロタルサイト（平均粒径０．４２μｍ）０．２４ｇを加
え、混合後、冷凍庫内にて一晩放置し、三本ロ−ルにて
均一に混錬し、感光性樹脂組成物を得た。

【００７０】この感光性樹脂組成物を表面に離型処理を
施したＰＥＴフィルム上に塗布し、８０℃で５分乾燥
し、厚み２５μｍのフィルム成形体とした。このフィル
ム成形体を、離型剤付きＰＥＴフィルムに貼り付けたま
ま、最小回路幅２０μｍ、最小回路間２０μｍの形状に
回路成形された片面銅張積層板（宇部興産株式会社製ユ
ピセルＮ、銅箔９μｍ）に、北川精機株式会社製真空ホ
ットプレスを用いて貼りあわせた。マイクロスコープの
観察では、気泡の内包は認められず、回路間に隙間なく
充填されていた。

【００７１】またフィルム成形体を、離型剤付きＰＥＴ
フィルムに貼り付けたまま、ロ−ルラミネ−タ−を用い
て銅箔上に貼り付け、幅１００μｍの線状の未露光部を
有するマスクパタ−ンを置き、ＵＶ露光機（ミカサ株式
会社製ミカサアスクアライメント装置ＭＡ−１０型）を
用いて５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で露光した。露光
後、離型剤付きＰＥＴフィルムを剥がし、２５℃の１％
炭酸ソ−ダ水溶液を用いて２分間の現像処理を行い、続
けて２５℃の純水で洗浄後、１８０℃で１時間熱処理
し、絶縁膜とした。パタ−ン精度は、幅１００μｍの未
露光部に対し、形成された線状パターンの幅が９９μｍ
と優れたものであった。

【００７２】ポリイミドフィルム上に２３μｍの絶縁膜
を形成したフィルムの曲率半径は、１４４ｍｍであっ
た。得られた絶縁膜の引張弾性率は６４ｋｇ／ｍｍ^２、
体積抵抗は７．０×１０^{１ ５}Ω・ｃｍ、アセトンに３０
分浸漬した後の重量減少は１．６％、１０％水酸化ナト
リウム水溶液に３０分浸漬した後の重量減少は０．２％
であり、１０％硫酸水溶液に３０分浸漬した後の重量減
少は見られなかった。

【００７３】実施例２〜６および比較例 表１の配合による以外は、実施例１と同様の手法により
感光性樹脂組成物およびフィルム成形体を得た。得られ
たフィルム成形体を用いて、実施例１と同様の手法によ
り、フィルム成形体の埋め込み性、パターン精度、絶縁
膜の曲率半径、引張弾性率、体積抵抗、耐溶剤性、耐ア
ルカリ性、耐酸性、半田耐熱性について評価した。これ
らの結果を配合比と合わせて表１に示した。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【発明の効果】この発明によれば以下の効果が達成され
る。この発明の感光性樹脂組成物は、キュア温度が比較
的低く、かつ、耐熱性、フレキシブル性等の被膜特性に
優れ、アルカリ水溶液での現像が可能であり、しかも反
りの小さい絶縁膜を与える。この発明の感光性フィルム
は、キュア温度が比較的低く、かつ、耐熱性、フレキシ
ブル性等の被膜特性に優れ、アルカリ水溶液での現像が
可能であり、しかも反りの小さい絶縁膜を与える。

【００７６】この発明の絶縁膜は、曲率半径５０ｍｍ以
上、特に１００ｍｍ以上で引張弾性率が１００ｋｇ／ｍ
ｍ^２以下の柔軟性、２８０℃×１５秒以上の半田耐熱
性、電気絶縁性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐酸性を兼
ね備えている。さらに、この発明の方法によれば、基板
上に柔軟性、２８０℃×１５秒以上の半田耐熱性、電気
絶縁性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐酸性を兼ね備えた
絶縁膜を形成することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｄ Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AA06 AA07 AA08 AA10 AB11 AB15 AC01 AD01 BC43 BC69 CA01 CA27 CA28 CC01 CC03 CC08 CC12 FA03 FA17 FA29 2H096 AA26 BA05 BA06 BA20 EA02 GA08 HA01 JA04 4J027 AE04 CC05 CD06 CD10 5E314 AA27 AA32 AA35 CC15 FF01 GG08 GG14 GG21

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）下記式 【化１】 （式中、Ｒ１は直鎖状あるいは分岐状の脂肪族二官能性
   エポキシ残基で、Ｒ２は水素原子あるいはメチル基であ
   り、ｎは０〜５の整数である。）で示されるエポキシ
   （メタ）アクリレ−ト化合物とその少なくとも一部が下
   記式 【化２】 （式中、Ｒ_３は芳香族あるいは脂肪族テトラカルボン酸
   残基で、Ｒ_４はジアミノシロキサン残基であり、ｍは０
   〜１の整数である。）で示される末端に酸無水物基を有
   するイミド系オリゴマ−である酸無水物との反応物であ
   るハ−フエステル化オリゴマ−、（ｂ）光重合開始剤お
   よび（ｃ）熱硬化性樹脂を含むアルカリ溶解性の感光性
   樹脂組成物。
2. 【請求項２】酸無水物が、前記式中のＲ_３／Ｒ_４が１．
   ５〜２の範囲内にある末端に酸無水物基を有するイミド
   系オリゴマ−のみからなる請求項１に記載の感光性樹脂
   組成物。
3. 【請求項３】熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂である請求
   項１に記載の感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】さらに（ｄ）有機溶媒、（ｅ）熱重合禁止
   剤、（ｆ）微細無機フィラ−、（ｇ）顔料を配合してな
   る請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】ハ−フエステル化オリゴマ−とエポキシ樹
   脂との割合（ハ−フエステル化オリゴマ−／エポキシ樹
   脂）が、重量比で０．１〜０．３５である請求項３ある
   いは４に記載の感光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の感光性樹
   脂組成物を離型剤付きフィルムに塗布、乾燥してフィル
   ム状にした感光性フィルム。
7. 【請求項７】請求項６に記載の感光性フィルムを、フレ
   キシブル基板上に貼り付け、離型剤付きフィルム上にパ
   タ−ンマスクを置き、露光し、潜在画像を形成後、パタ
   −ンマスクおよび離型剤付きフィルムを除き、アルカリ
   水溶液により現像、熱処理して形成した絶縁膜。
8. 【請求項８】請求項６に記載の感光性フィルムを、フレ
   キシブル基板上にロ−ルラミネ−タ−、プレス等によっ
   て貼り付け、離型剤付きフィルム上にパタ−ンマスクを
   置き、露光し、潜在画像を形成後、パタ−ンマスクおよ
   び離型剤付きフィルムを除き、アルカリ水溶液により現
   像、熱処理する絶縁膜の形成法。