JP2003159314A - 紫外線殺菌処理装置 - Google Patents
紫外線殺菌処理装置Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/647—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
- H05B6/6482—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with radiant heating, e.g. infrared heating
-
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2206/00—Aspects relating to heating by electric, magnetic, or electromagnetic fields covered by group H05B6/00
- H05B2206/04—Heating using microwaves
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線殺菌処理装置の紫外線発生源として用
いられる放電ランプの輝度低下を抑制し、殺菌処理効率
の向上と殺菌の信頼性の確保を図る。 【解決手段】 紫外線発生源として無電極水銀ランプ２
を用い、この無電極水銀ランプ２をマグネトロン５から
のマイクロ波で励起する。
いられる放電ランプの輝度低下を抑制し、殺菌処理効率
の向上と殺菌の信頼性の確保を図る。 【解決手段】 紫外線発生源として無電極水銀ランプ２
を用い、この無電極水銀ランプ２をマグネトロン５から
のマイクロ波で励起する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マグネトロン応用
装置に係り、特にマイクロ波の励起で放射される紫外線
を用いた紫外線殺菌処理装置に関する。
装置に係り、特にマイクロ波の励起で放射される紫外線
を用いた紫外線殺菌処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】水等の液体及び空気等の気体をそれぞれ
紫外線により殺菌することは、食品産業や医療関係業界
等で一般的に行われている。この種の殺菌装置（以下、
殺菌処理装置とも称する）は、当該業界等に広く配布さ
れているカタログ等に開示されているように、その殺菌
用紫外線発生源としては、石英ガラスなどの透明管内に
電極を封入した有極性の水銀放電ランプが一般的に用い
られている。
紫外線により殺菌することは、食品産業や医療関係業界
等で一般的に行われている。この種の殺菌装置（以下、
殺菌処理装置とも称する）は、当該業界等に広く配布さ
れているカタログ等に開示されているように、その殺菌
用紫外線発生源としては、石英ガラスなどの透明管内に
電極を封入した有極性の水銀放電ランプが一般的に用い
られている。
【０００３】図１０は従来の水を殺菌するための紫外線
殺菌処理装置の一例の摸式断面図である。図１０におい
て、参照符号１０１は紫外線発生源となる水銀放電ラン
プ、同１０２は前記水銀放電ランプ１０１の放電電極、
同１０３は紫外線が透過可能な処理容器である。この処
理容器１０３は石英ガラスのような材料から構成され前
記水銀放電ランプ１０１を取り囲んで配置され、両端を
フランジ１０４で保持している。
殺菌処理装置の一例の摸式断面図である。図１０におい
て、参照符号１０１は紫外線発生源となる水銀放電ラン
プ、同１０２は前記水銀放電ランプ１０１の放電電極、
同１０３は紫外線が透過可能な処理容器である。この処
理容器１０３は石英ガラスのような材料から構成され前
記水銀放電ランプ１０１を取り囲んで配置され、両端を
フランジ１０４で保持している。
【０００４】参照符号１０５は外殻であり、この外殻１
０５は前記フランジ１０４と気密結合すると共に内部に
配置した処理容器１０３の外壁に沿って被処理物である
水を矢印１０６〜１０８で示す様に流入、移動、流出さ
せる流路を形成している。外殻１０５内に流入された水
は処理容器１０３の外壁に沿って移動する間に水銀放電
ランプ１０１から発生した紫外線により殺菌処理され
る。
０５は前記フランジ１０４と気密結合すると共に内部に
配置した処理容器１０３の外壁に沿って被処理物である
水を矢印１０６〜１０８で示す様に流入、移動、流出さ
せる流路を形成している。外殻１０５内に流入された水
は処理容器１０３の外壁に沿って移動する間に水銀放電
ランプ１０１から発生した紫外線により殺菌処理され
る。
【０００５】又、放電電極を持たない放電ランプをマイ
クロ波によって発光させる技術は、「“照明学会誌”、
第７２巻、第２号、昭和６３年」に、「マイクロ波放電
ランプの発光現象」として放電電極を持たない放電ラン
プをマグネトロンから発生するマイクロ波によって励起
して発光させる技術が開示されている。この文献には、
水銀とヨー素を封入したマイクロ波放電ランプの温度分
布や密度分布等について検討した結果がまとめられてい
る。
クロ波によって発光させる技術は、「“照明学会誌”、
第７２巻、第２号、昭和６３年」に、「マイクロ波放電
ランプの発光現象」として放電電極を持たない放電ラン
プをマグネトロンから発生するマイクロ波によって励起
して発光させる技術が開示されている。この文献には、
水銀とヨー素を封入したマイクロ波放電ランプの温度分
布や密度分布等について検討した結果がまとめられてい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の紫外線殺菌処理
装置は、常温で殺菌処理ができるものであるため装置構
成や操作の簡単化が容易であり、当該装置を低コストで
製作できる。しかも、被処理物である水等の液体を均質
に殺菌出来る特徴を備えている。ところが、この種の装
置では紫外線発生源とした放電電極を持つ水銀放電ラン
プが用いられるため、この水銀放電ランプの使用中に当
該放電ランプの電極材料が管内壁にスパッタする問題が
有る。
装置は、常温で殺菌処理ができるものであるため装置構
成や操作の簡単化が容易であり、当該装置を低コストで
製作できる。しかも、被処理物である水等の液体を均質
に殺菌出来る特徴を備えている。ところが、この種の装
置では紫外線発生源とした放電電極を持つ水銀放電ラン
プが用いられるため、この水銀放電ランプの使用中に当
該放電ランプの電極材料が管内壁にスパッタする問題が
有る。
【０００７】水銀放電ランプの外囲器（管）は石英ガラ
ス等の透明な材料で構成されているので、この管内壁に
電極材料ががスパッタして堆積し、放電ランプの輝度を
低下させる。更に、管内に封入された水銀が電極材料と
反応してアマルガムを作るので、上記の輝度低下が助長
される。この様な放電ランプの輝度低下は、紫外線殺菌
処理装置の稼働率を下げて必然的に殺菌処理効率の低下
を招くと共に、殺菌の信頼性を確保する上で解決しなけ
ればならない。
ス等の透明な材料で構成されているので、この管内壁に
電極材料ががスパッタして堆積し、放電ランプの輝度を
低下させる。更に、管内に封入された水銀が電極材料と
反応してアマルガムを作るので、上記の輝度低下が助長
される。この様な放電ランプの輝度低下は、紫外線殺菌
処理装置の稼働率を下げて必然的に殺菌処理効率の低下
を招くと共に、殺菌の信頼性を確保する上で解決しなけ
ればならない。
【０００８】本発明の目的は、殺菌処理効率の低下を招
くこと無く殺菌の信頼性の確保を可能とし、コンパクト
な構造で、しかも量産化が容易な紫外線殺菌処理装置を
提供することにある。
くこと無く殺菌の信頼性の確保を可能とし、コンパクト
な構造で、しかも量産化が容易な紫外線殺菌処理装置を
提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、管内に放電電極を持たないマイクロ波放
電ランプを殺菌用紫外線発生源として用いて紫外線殺菌
処理装置を構成したものである。本発明の典型的な構成
を記述すれば、下記の通りである。
に、本発明は、管内に放電電極を持たないマイクロ波放
電ランプを殺菌用紫外線発生源として用いて紫外線殺菌
処理装置を構成したものである。本発明の典型的な構成
を記述すれば、下記の通りである。
【００１０】（１）、内部に被処理物を流通する空間を
もつ処理容器と、この処理容器に近接配置され前記被処
理物に紫外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容
器及び紫外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線
発生機構にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波
電力供給機構と、このマイクロ波電力供給機構と前記筐
体部との結合機構とを設けた。
もつ処理容器と、この処理容器に近接配置され前記被処
理物に紫外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容
器及び紫外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線
発生機構にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波
電力供給機構と、このマイクロ波電力供給機構と前記筐
体部との結合機構とを設けた。
【００１１】（２）、（１）において、前記紫外線発生
機構として無電極放電ランプを備えた。
機構として無電極放電ランプを備えた。
【００１２】（３）、（１）又は（２）において、前記
マイクロ波電力供給機構のマイクロ波電力源としてマグ
ネトロンを設けた。
マイクロ波電力供給機構のマイクロ波電力源としてマグ
ネトロンを設けた。
【００１３】（４）、（１）乃至（３）において、前記
紫外線発生機構は２５４ｎｍの波長の紫外線を含む紫外
線を発生させるものとした。
紫外線発生機構は２５４ｎｍの波長の紫外線を含む紫外
線を発生させるものとした。
【００１４】（５）、内部に被処理物を流通する空間を
もつ処理容器と、この処理容器に近接配置され前記被処
理物に紫外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容
器及び紫外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線
発生機構にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波
電力供給機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合さ
れ、前記紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管
と、この導波管と前記筐体部との結合機構とを備えた。
もつ処理容器と、この処理容器に近接配置され前記被処
理物に紫外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容
器及び紫外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線
発生機構にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波
電力供給機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合さ
れ、前記紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管
と、この導波管と前記筐体部との結合機構とを備えた。
【００１５】（６）、内部に被処理物を流通する空間を
もつ処理容器と、この処理容器に近接配置され前記被処
理物に紫外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容
器及び紫外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線
発生機構にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波
電力供給機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合さ
れ、前記紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管
と、この導波管と前記筐体部との結合機構と、前記紫外
線発生機構と前記マイクロ波電力供給機構間に配置され
た紫外線遮蔽機構とを有することを特徴とする。 （７）内部に被処理物を流通する空間をもつ処理容器
と、この処理容器に近接配置され前記被処理物に紫外線
を照射する紫外線発生機構と、前記処理容器及び紫外線
発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線発生機構にマ
イクロ波電力を供給するためのマイクロ波電力供給機構
と、このマイクロ波電力供給機構と結合され、前記紫外
線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管と、この導波
管と前記筐体部との結合機構と、前記処理容器と紫外線
発生機構間に配置されたマイクロ波遮蔽機構とを備え
た。
もつ処理容器と、この処理容器に近接配置され前記被処
理物に紫外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容
器及び紫外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線
発生機構にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波
電力供給機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合さ
れ、前記紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管
と、この導波管と前記筐体部との結合機構と、前記紫外
線発生機構と前記マイクロ波電力供給機構間に配置され
た紫外線遮蔽機構とを有することを特徴とする。 （７）内部に被処理物を流通する空間をもつ処理容器
と、この処理容器に近接配置され前記被処理物に紫外線
を照射する紫外線発生機構と、前記処理容器及び紫外線
発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線発生機構にマ
イクロ波電力を供給するためのマイクロ波電力供給機構
と、このマイクロ波電力供給機構と結合され、前記紫外
線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管と、この導波
管と前記筐体部との結合機構と、前記処理容器と紫外線
発生機構間に配置されたマイクロ波遮蔽機構とを備え
た。
【００１６】なお、本発明は上記の構成および後述する
実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技術
思想を逸脱することなく種々の変更が可能である。
実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技術
思想を逸脱することなく種々の変更が可能である。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。図１は本発明の
紫外線殺菌処理装置の第１の実施例を説明する模式図
で、図１（ａ）は正面図、図１（ｂ）は側面図である。
図１において、参照符号１は紫外線殺菌処理装置本体で
ある。本体１は、マイクロ波放電無電極水銀ランプ（以
下、無電極水銀ランプと云う）２、石英ガラスのように
少なくとも２５４ｎｍのＵＶ線を通す材料で構成されか
つ内部に被処理物を流通する空間をもつ処理容器３、こ
れら処理容器３と無電極水銀ランプ２を取り囲む筐体
４、マイクロ波を発生するマグネトロン５及びマイクロ
波を導く導波管６等を備えている。
き、実施例を参照して詳細に説明する。図１は本発明の
紫外線殺菌処理装置の第１の実施例を説明する模式図
で、図１（ａ）は正面図、図１（ｂ）は側面図である。
図１において、参照符号１は紫外線殺菌処理装置本体で
ある。本体１は、マイクロ波放電無電極水銀ランプ（以
下、無電極水銀ランプと云う）２、石英ガラスのように
少なくとも２５４ｎｍのＵＶ線を通す材料で構成されか
つ内部に被処理物を流通する空間をもつ処理容器３、こ
れら処理容器３と無電極水銀ランプ２を取り囲む筐体
４、マイクロ波を発生するマグネトロン５及びマイクロ
波を導く導波管６等を備えている。
【００１８】前記無電極水銀ランプ２は、マイクロ波を
発生するマグネトロン５のマイクロ波で点灯され、殺菌
に効果の有る２５４ｎｍの紫外線（以下ＵＶ線と云う）
を発生させる。この無電極水銀ランプ２は、前記処理容
器３の回りに、後述の図２、図３に示す様に等配されて
いる。参照符号７は導波管接続用のフランジで、筐体４
に嵌め込まれて固定されている。参照符号８はフランジ
を持ったパイプで、一端側を前記処理容器３に、又他端
側を外部装置との接続部材９とそれぞれ接続される。
発生するマグネトロン５のマイクロ波で点灯され、殺菌
に効果の有る２５４ｎｍの紫外線（以下ＵＶ線と云う）
を発生させる。この無電極水銀ランプ２は、前記処理容
器３の回りに、後述の図２、図３に示す様に等配されて
いる。参照符号７は導波管接続用のフランジで、筐体４
に嵌め込まれて固定されている。参照符号８はフランジ
を持ったパイプで、一端側を前記処理容器３に、又他端
側を外部装置との接続部材９とそれぞれ接続される。
【００１９】殺菌すべき被処理物（液体、あるいは気
体）は、矢印Ａから矢印Ｂで示す方向へ進む間、前記Ｕ
Ｖ透過材からなる処理容器３の部分を通過する際に殺菌
に効果の有る２５４ｎｍのＵＶ線の照射を受ける。波長
２５４ｎｍのＵＶ線が殺菌効果を持つのは、細胞内のＤ
ＮＡを破壊するからである。
体）は、矢印Ａから矢印Ｂで示す方向へ進む間、前記Ｕ
Ｖ透過材からなる処理容器３の部分を通過する際に殺菌
に効果の有る２５４ｎｍのＵＶ線の照射を受ける。波長
２５４ｎｍのＵＶ線が殺菌効果を持つのは、細胞内のＤ
ＮＡを破壊するからである。
【００２０】前記波長２５４ｎｍのＵＶ線は前記無電極
水銀ランプ２から照射されるが、この無電極水銀ランプ
２はマグネトロン５のマイクロ波により励起され前記し
た波長２５４ｎｍのＵＶ線を含むＵＶ線を発生する。
水銀ランプ２から照射されるが、この無電極水銀ランプ
２はマグネトロン５のマイクロ波により励起され前記し
た波長２５４ｎｍのＵＶ線を含むＵＶ線を発生する。
【００２１】マグネトロン５は、基本発振周波数として
例えば２４５０ＭＨｚのものが用いられ、このマグネト
ロン５から発生したマイクロ波はアンテナ５ａから放射
される。アンテナ５ａは導波管６の中に挿入配置されて
おり、導波管６とマグネトロン５との接続部からマイク
ロ波が漏洩しないように金属メッシュで編まれたガスケ
ット（図示せず）を介して固定されている。
例えば２４５０ＭＨｚのものが用いられ、このマグネト
ロン５から発生したマイクロ波はアンテナ５ａから放射
される。アンテナ５ａは導波管６の中に挿入配置されて
おり、導波管６とマグネトロン５との接続部からマイク
ロ波が漏洩しないように金属メッシュで編まれたガスケ
ット（図示せず）を介して固定されている。
【００２２】マイクロ波を導く導波管６は、そのフラン
ジ６ａを介して筐体４に嵌め込まれたフランジ７と接続
されている。マグネトロン５から発生したマイクロ波は
アンテナ５ａから放射され、放射されたマイクロ波は、
Ｃで示す矢印の方向に進み、本体１の内部に入り、無電
極水銀ランプ２の中に封入された水銀原子を励起しプラ
ズマ化する。
ジ６ａを介して筐体４に嵌め込まれたフランジ７と接続
されている。マグネトロン５から発生したマイクロ波は
アンテナ５ａから放射され、放射されたマイクロ波は、
Ｃで示す矢印の方向に進み、本体１の内部に入り、無電
極水銀ランプ２の中に封入された水銀原子を励起しプラ
ズマ化する。
【００２３】水銀電子がマイクロ波エネルギーを吸収し
て励起し、エネルギーレベルの上がった水銀原子を構成
する電子が、元のエネルギーレベルに戻るときに波長２
５４ｎｍのＵＶ線を発生させる。マイクロ波エネルギー
が継続供給される間、無電極水銀ランプ２はプラズマ状
態を継続し、２５４ｎｍのＵＶ線を発生し続ける。
て励起し、エネルギーレベルの上がった水銀原子を構成
する電子が、元のエネルギーレベルに戻るときに波長２
５４ｎｍのＵＶ線を発生させる。マイクロ波エネルギー
が継続供給される間、無電極水銀ランプ２はプラズマ状
態を継続し、２５４ｎｍのＵＶ線を発生し続ける。
【００２４】図２と図３は図１の要部を示し、図２は図
１の前記処理容器３の管軸に平行な断面であり、図３は
前記処理容器３の管軸に垂直な断面の図２のＤ−Ｄ線断
面である。図１と図２の同じ機能部分には同一の参照符
号を付してある。
１の前記処理容器３の管軸に平行な断面であり、図３は
前記処理容器３の管軸に垂直な断面の図２のＤ−Ｄ線断
面である。図１と図２の同じ機能部分には同一の参照符
号を付してある。
【００２５】図２及び図３において、４本の無電極水銀
ランプ２は前記処理容器３を中心に等配され、処理容器
３の内部空間を移動する被処理物の液体或いは気体をＵ
Ｖ線で殺菌する。一方、処理容器３の両端部にはパイプ
８が配置されており、当該両端部はパイプ８と接続リン
グ１０、１１を介して気密に接合され、被処理物の漏洩
を防止している。
ランプ２は前記処理容器３を中心に等配され、処理容器
３の内部空間を移動する被処理物の液体或いは気体をＵ
Ｖ線で殺菌する。一方、処理容器３の両端部にはパイプ
８が配置されており、当該両端部はパイプ８と接続リン
グ１０、１１を介して気密に接合され、被処理物の漏洩
を防止している。
【００２６】又、前記無電極水銀ランプ２を励起するマ
イクロ波は導波管接続用のフランジ７の部分から導入さ
れる。更に、前記無電極水銀ランプ２は筐体４に着脱自
在に取り付けられ、ランプの清掃、交換等が容易な構成
となっている。ここで、この無電極水銀ランプ２の配置
位置及び配置本数は、被処理物の性質、求められる殺菌
の精度、被処理物の移動速度、マイクロ波の強さ及び導
入位置等を考慮して決定すれば良い。
イクロ波は導波管接続用のフランジ７の部分から導入さ
れる。更に、前記無電極水銀ランプ２は筐体４に着脱自
在に取り付けられ、ランプの清掃、交換等が容易な構成
となっている。ここで、この無電極水銀ランプ２の配置
位置及び配置本数は、被処理物の性質、求められる殺菌
の精度、被処理物の移動速度、マイクロ波の強さ及び導
入位置等を考慮して決定すれば良い。
【００２７】前述した本発明の実施例の構造によれば、
無電極水銀ランプに封入された水銀原子は、マイクロ波
電力によりプラズマ状態になり、殺菌に必要な波長２５
４ｎｍのＵＶ線を放射する。この無電極水銀ランプには
電極が無いので、管内壁への電極のスパッタによる物質
でランプの内面が汚れることは無く、スパッタ物質の堆
積による輝度の低下は無い。従って、例えば、石英ガラ
スを用いたランプの場合は、ランプ寿命は半永久的であ
り、装置としてはマグネトロンの交換のみで長寿命化が
可能となる。
無電極水銀ランプに封入された水銀原子は、マイクロ波
電力によりプラズマ状態になり、殺菌に必要な波長２５
４ｎｍのＵＶ線を放射する。この無電極水銀ランプには
電極が無いので、管内壁への電極のスパッタによる物質
でランプの内面が汚れることは無く、スパッタ物質の堆
積による輝度の低下は無い。従って、例えば、石英ガラ
スを用いたランプの場合は、ランプ寿命は半永久的であ
り、装置としてはマグネトロンの交換のみで長寿命化が
可能となる。
【００２８】一方、長寿命設計のマグネトロンと組み合
わせることにより、殺菌装置としてのランニングコスト
が著しく低減できる。又、ＵＶ線の輝度は、マイクロ波
出力に関係するので、マグネトロンの出力を制御するこ
とで高輝度のＵＶ線（ＵＶ光）を得ることが出来、殺菌
処理のコストダウンを図ることが出来る。更に、複数
（この例では４本）の無電極水銀ランプを処理容器を取
り巻く様に配置したことで、均質で、かつ短時間で所望
の殺菌処理が可能とる。
わせることにより、殺菌装置としてのランニングコスト
が著しく低減できる。又、ＵＶ線の輝度は、マイクロ波
出力に関係するので、マグネトロンの出力を制御するこ
とで高輝度のＵＶ線（ＵＶ光）を得ることが出来、殺菌
処理のコストダウンを図ることが出来る。更に、複数
（この例では４本）の無電極水銀ランプを処理容器を取
り巻く様に配置したことで、均質で、かつ短時間で所望
の殺菌処理が可能とる。
【００２９】図４は本発明の紫外線殺菌処理装置の第２
の実施例を示す図２に対応する模式断面図であり、図１
乃至図３と同じ機能部分には同一の参照符号を付してあ
る。図４において、参照符号１３は遮蔽体である。この
遮蔽体１３は筐体４内に導入されたマイクロ波が無電極
水銀ランプ２側から透明容器３側に漏れないように前記
処理容器３の少なくともＵＶ線の照射を受ける範囲を取
り巻く様に配置している。
の実施例を示す図２に対応する模式断面図であり、図１
乃至図３と同じ機能部分には同一の参照符号を付してあ
る。図４において、参照符号１３は遮蔽体である。この
遮蔽体１３は筐体４内に導入されたマイクロ波が無電極
水銀ランプ２側から透明容器３側に漏れないように前記
処理容器３の少なくともＵＶ線の照射を受ける範囲を取
り巻く様に配置している。
【００３０】この遮蔽体１３は、パンチングや電解化学
処理等などで無数の穴をあけて所望の開口率とした薄い
金属板あるいは金属メッシュから構成されている。そし
て、これを円筒状に加工して前記処理容器３を取り巻く
様に配置し、その端部は遮蔽体１３がマイクロ波的に間
隙を作らないように筐体４及び接続リング１０、１１と
固定している。この遮蔽体１３を介在させることで、Ｕ
Ｖ線は遮蔽体１３の穴を通過して処理容器３を照射する
ので殺菌の機能は維持できる。
処理等などで無数の穴をあけて所望の開口率とした薄い
金属板あるいは金属メッシュから構成されている。そし
て、これを円筒状に加工して前記処理容器３を取り巻く
様に配置し、その端部は遮蔽体１３がマイクロ波的に間
隙を作らないように筐体４及び接続リング１０、１１と
固定している。この遮蔽体１３を介在させることで、Ｕ
Ｖ線は遮蔽体１３の穴を通過して処理容器３を照射する
ので殺菌の機能は維持できる。
【００３１】一方、マイクロ波は遮蔽体１３で遮蔽さ
れ、処理容器３まで伝播することはない。従って、仮に
被処理物が特にマイクロ波を多く吸収する特性の物質で
あっても、マイクロ波は遮蔽体１３で遮蔽されて処理容
器３まで到達できないので無駄に消失することは無い。
よって導入されたマイクロ波の略全量が所期の目的であ
る無電極水銀ランプの発光に寄与する。この遮蔽体１３
の開口率を制御すれば、無電極水銀ランプの使用本数や
輝度の低下を最小に抑えることができる。
れ、処理容器３まで伝播することはない。従って、仮に
被処理物が特にマイクロ波を多く吸収する特性の物質で
あっても、マイクロ波は遮蔽体１３で遮蔽されて処理容
器３まで到達できないので無駄に消失することは無い。
よって導入されたマイクロ波の略全量が所期の目的であ
る無電極水銀ランプの発光に寄与する。この遮蔽体１３
の開口率を制御すれば、無電極水銀ランプの使用本数や
輝度の低下を最小に抑えることができる。
【００３２】又、処理容器の寸法によってはマイクロ波
が処理容器を伝播して外部に漏れ、電気制御回路に影響
を与える場合もあるが、遮蔽体１３を配置することでこ
の問題も解決できる。更に、この構造では遮蔽体１３と
筐体４とが電気的に接続されてマイクロ波の漏洩を阻止
出来る為、パイプ８や接続リング１０、１１等の材質は
特定されない。
が処理容器を伝播して外部に漏れ、電気制御回路に影響
を与える場合もあるが、遮蔽体１３を配置することでこ
の問題も解決できる。更に、この構造では遮蔽体１３と
筐体４とが電気的に接続されてマイクロ波の漏洩を阻止
出来る為、パイプ８や接続リング１０、１１等の材質は
特定されない。
【００３３】図５は本発明の紫外線殺菌処理装置のさら
に第３の実施例を示す図２に対応する模式断面図で、図
１乃至図４と同じ機能部分には同一の参照符号を付して
ある。図５において、参照符号１４は遮蔽板である。こ
の遮蔽板１４は筐体４に嵌め込まれたフランジ７にマイ
クロ波入口を塞ぐように配置されている。遮蔽板１４は
マイクロ波が透過可能な例えばプラスチック板等を基材
とし、この基材にＵＶ線を反射または吸収する材料、例
えば酸化チタンをコーティング或いは含浸させた構成と
なっている。
に第３の実施例を示す図２に対応する模式断面図で、図
１乃至図４と同じ機能部分には同一の参照符号を付して
ある。図５において、参照符号１４は遮蔽板である。こ
の遮蔽板１４は筐体４に嵌め込まれたフランジ７にマイ
クロ波入口を塞ぐように配置されている。遮蔽板１４は
マイクロ波が透過可能な例えばプラスチック板等を基材
とし、この基材にＵＶ線を反射または吸収する材料、例
えば酸化チタンをコーティング或いは含浸させた構成と
なっている。
【００３４】この構成とすることで、無電極水銀ランプ
２から直接或いは他の部材で反射したＵＶ線は遮蔽板１
４で遮断され、導波管内に達することは無い。このた
め、ＵＶ線でイオン化される気体、例えば塩素を含む気
体が導波管内側空間に存在しても、それがイオン化され
ることはない。従って、イオン化に伴って発生するマイ
クロ波放電（スパ−ク）の発生を抑制でき、スパ−クに
よるマグネトロンの損傷が防止され、装置の長寿命化が
可能となる。
２から直接或いは他の部材で反射したＵＶ線は遮蔽板１
４で遮断され、導波管内に達することは無い。このた
め、ＵＶ線でイオン化される気体、例えば塩素を含む気
体が導波管内側空間に存在しても、それがイオン化され
ることはない。従って、イオン化に伴って発生するマイ
クロ波放電（スパ−ク）の発生を抑制でき、スパ−クに
よるマグネトロンの損傷が防止され、装置の長寿命化が
可能となる。
【００３５】図６は本発明の紫外線殺菌処理装置の第４
の実施例を示す図２に対応する模式断面図であり、図１
乃至図５と同じ機能部分には同一の参照記号を付してあ
る。図６において、参照符号１５は円筒状の反射体であ
る。この反射体１５は筐体４内の無電極水銀ランプ２の
外側でこの無電極水銀ランプ２及び処理容器３を内包す
るように配置されている。
の実施例を示す図２に対応する模式断面図であり、図１
乃至図５と同じ機能部分には同一の参照記号を付してあ
る。図６において、参照符号１５は円筒状の反射体であ
る。この反射体１５は筐体４内の無電極水銀ランプ２の
外側でこの無電極水銀ランプ２及び処理容器３を内包す
るように配置されている。
【００３６】反射体１５はマイクロ波が透過可能な例え
ばプラスチック板等を基材とし、この基材にＵＶ線を反
射する材料、例えば酸化チタンをコーティング或いは含
浸させた構成となっている。この構成とすることで、無
電極水銀ランプ２から直接或いは他の部材で反射して外
側、すなわち筐体４側に向かうＵＶ線は、反射体１５で
反射されて処理容器３方向に向い殺菌処理に寄与する。
ばプラスチック板等を基材とし、この基材にＵＶ線を反
射する材料、例えば酸化チタンをコーティング或いは含
浸させた構成となっている。この構成とすることで、無
電極水銀ランプ２から直接或いは他の部材で反射して外
側、すなわち筐体４側に向かうＵＶ線は、反射体１５で
反射されて処理容器３方向に向い殺菌処理に寄与する。
【００３７】ここで、前記反射体１５は一体の筒状体と
したが、少なくとも各無電極水銀ランプ２の外側を覆う
ように複数個に分割した構成でも良い。又、反射体１５
に代えて、筐体４の無電極水銀ランプ２に対面する表面
をＵＶ線を反射する様に、例えば光沢仕上げ等の構成と
すれば、図６の構成と略同様な効果が期待できるが、反
射体１５を介在させれば無電極水銀ランプ２に近接して
配置可能なことから反射効果を一層高めることが出来る
と共に。筐体４の内表面の加工を省略することも可能と
なる。
したが、少なくとも各無電極水銀ランプ２の外側を覆う
ように複数個に分割した構成でも良い。又、反射体１５
に代えて、筐体４の無電極水銀ランプ２に対面する表面
をＵＶ線を反射する様に、例えば光沢仕上げ等の構成と
すれば、図６の構成と略同様な効果が期待できるが、反
射体１５を介在させれば無電極水銀ランプ２に近接して
配置可能なことから反射効果を一層高めることが出来る
と共に。筐体４の内表面の加工を省略することも可能と
なる。
【００３８】図７は本発明の紫外線殺菌処理装置の第５
の実施例を示す図２に対応する模式断面図で、図１乃至
図６と同じ機能部分には同一の参照符号を付してある。
図７において、参照符号１６は貫通孔である。この貫通
孔１６は筐体４の長手方向の中心軸Ｌと直交する両側面
４１に、前記中心軸Ｌと略平行方向にそれぞれ穿孔され
て設けられている。
の実施例を示す図２に対応する模式断面図で、図１乃至
図６と同じ機能部分には同一の参照符号を付してある。
図７において、参照符号１６は貫通孔である。この貫通
孔１６は筐体４の長手方向の中心軸Ｌと直交する両側面
４１に、前記中心軸Ｌと略平行方向にそれぞれ穿孔され
て設けられている。
【００３９】貫通孔１６は無電極水銀ランプ２及び処理
容器３等の温度上昇を抑制するための強制空冷或いは自
然空冷で用いられるもので、冷却効果は大きく、かつＵ
Ｖ線の漏洩は少ない寸法、配置とされている。
容器３等の温度上昇を抑制するための強制空冷或いは自
然空冷で用いられるもので、冷却効果は大きく、かつＵ
Ｖ線の漏洩は少ない寸法、配置とされている。
【００４０】図８は本発明の紫外線殺菌処理装置の第６
の実施例を示す図１に対応する模式図であり、図８
（ａ）は正面図、図８（ｂ）は側面図である。前述した
図１と同一機能部分には同一の参照符号を付してある。
図８において、参照符号２１は紫外線殺菌処理装置本体
である。この本体２１には、第２のマグネトロン２５を
付加した構成とされて、マグネトロン５（以下、第１の
マグネトロン）と共働させたものである。
の実施例を示す図１に対応する模式図であり、図８
（ａ）は正面図、図８（ｂ）は側面図である。前述した
図１と同一機能部分には同一の参照符号を付してある。
図８において、参照符号２１は紫外線殺菌処理装置本体
である。この本体２１には、第２のマグネトロン２５を
付加した構成とされて、マグネトロン５（以下、第１の
マグネトロン）と共働させたものである。
【００４１】第２のマグネトロン２５は、第１のマグネ
トロン５と同一特性のものでも或いは例えば発信周波数
が異なるものでも良い。又、第１のマグネトロン５と第
２のマグネトロン２５とを被処理物毎で分割作動させる
ことで、被処理物の対象を拡大することも可能となる。
このような構成とすることにより、本体内部に導入され
るマイクロ波電力を２倍にすることもでき、ＵＶ線の輝
度を更に強くすることができるので、殺菌処理する時間
の短縮あるいは処理量の倍増を図ることが可能となる。
トロン５と同一特性のものでも或いは例えば発信周波数
が異なるものでも良い。又、第１のマグネトロン５と第
２のマグネトロン２５とを被処理物毎で分割作動させる
ことで、被処理物の対象を拡大することも可能となる。
このような構成とすることにより、本体内部に導入され
るマイクロ波電力を２倍にすることもでき、ＵＶ線の輝
度を更に強くすることができるので、殺菌処理する時間
の短縮あるいは処理量の倍増を図ることが可能となる。
【００４２】同じ処理量であれば、マグネトロン１本当
りの出力を小さくできるので、安価なマグネトロンが使
用可能となり、殺菌処理装置を低コストで構成すること
ができる。更に又、マグネトロンは、その発振周波数が
少なくとも１５ＭＨｚ以上離れていれば、干渉をしない
ので、マグネトロンの使用本数は更に多くすることもで
きる。
りの出力を小さくできるので、安価なマグネトロンが使
用可能となり、殺菌処理装置を低コストで構成すること
ができる。更に又、マグネトロンは、その発振周波数が
少なくとも１５ＭＨｚ以上離れていれば、干渉をしない
ので、マグネトロンの使用本数は更に多くすることもで
きる。
【００４３】図９は本発明の紫外線殺菌処理装置の第７
の実施例を示す図１に対応する模式図であり、図９
（ａ）は正面図、図９（ｂ）は側面図である。前述した
図１と同一参照符号は同一の機能部分を示す。図９にお
いて、参照符号３１は紫外線殺菌処理装置本体である。
この本体３１はマグネトロン５を導波管を介すること無
く筐体４のフランジ７に直接取り付けた構造のものであ
る。
の実施例を示す図１に対応する模式図であり、図９
（ａ）は正面図、図９（ｂ）は側面図である。前述した
図１と同一参照符号は同一の機能部分を示す。図９にお
いて、参照符号３１は紫外線殺菌処理装置本体である。
この本体３１はマグネトロン５を導波管を介すること無
く筐体４のフランジ７に直接取り付けた構造のものであ
る。
【００４４】この様な構成とすることにより、導波管内
でのマイクロ波の損失を皆無もしくは著しく小さくする
事ができ、ＵＶ線の輝度を更に強くすることができるの
で、殺菌処理する時間の短縮あるいは処理量の倍増を図
ることが可能となる。同じ処理量であれば、マグネトロ
ン１本当りの出力を小さくできるので、安価なマグネト
ロンが使用可能となり、殺菌処理装置を安価に製作する
ことができる。
でのマイクロ波の損失を皆無もしくは著しく小さくする
事ができ、ＵＶ線の輝度を更に強くすることができるの
で、殺菌処理する時間の短縮あるいは処理量の倍増を図
ることが可能となる。同じ処理量であれば、マグネトロ
ン１本当りの出力を小さくできるので、安価なマグネト
ロンが使用可能となり、殺菌処理装置を安価に製作する
ことができる。
【００４５】又、図９に示したの構成において、前述の
図５或いは図６に示す遮蔽板１４、あるいは反射体１５
を組み合わせることで、高性能でかつ安価な殺菌処理装
置を提供出来る。本発明は前述した各実施例の構成に限
定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱するこ
となく種々の変更が可能であることは言うまでもない。
図５或いは図６に示す遮蔽板１４、あるいは反射体１５
を組み合わせることで、高性能でかつ安価な殺菌処理装
置を提供出来る。本発明は前述した各実施例の構成に限
定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱するこ
となく種々の変更が可能であることは言うまでもない。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
殺菌に必要な波長２５４ｎｍのＵＶ線を出す無電極水銀
ランプ及びこの無電極水銀ランプをマイクロ波電力によ
りプラズマ状態に励起するマグネトロンとを用いること
により、前記無電極水銀ランプには電極が無いので、ス
パッター物でランプの内面が汚れることは無く、スパッ
ター物の堆積による輝度の低下は無い。又、例えば、石
英ガラスを用いたランプの場合は、ランプ寿命は半永久
的であり、装置としてはマグネトロンの交換のみで長寿
命化が可能となる。
殺菌に必要な波長２５４ｎｍのＵＶ線を出す無電極水銀
ランプ及びこの無電極水銀ランプをマイクロ波電力によ
りプラズマ状態に励起するマグネトロンとを用いること
により、前記無電極水銀ランプには電極が無いので、ス
パッター物でランプの内面が汚れることは無く、スパッ
ター物の堆積による輝度の低下は無い。又、例えば、石
英ガラスを用いたランプの場合は、ランプ寿命は半永久
的であり、装置としてはマグネトロンの交換のみで長寿
命化が可能となる。
【００４７】更に、長寿命設計のマグネトロンと組み合
わせることにより、殺菌装置としてのランニングコスト
が著しく低減できる。そして更に、ＵＶ線の輝度はマイ
クロ波出力に関係するので、マグネトロンの出力を制御
することにより高輝度のＵＶ光を得ることができ、殺菌
処理のコストダウンを図ることができ、殺菌処理効率の
向上と殺菌の信頼性の確保が可能な紫外線殺菌処理装置
を提供することができる。
わせることにより、殺菌装置としてのランニングコスト
が著しく低減できる。そして更に、ＵＶ線の輝度はマイ
クロ波出力に関係するので、マグネトロンの出力を制御
することにより高輝度のＵＶ光を得ることができ、殺菌
処理のコストダウンを図ることができ、殺菌処理効率の
向上と殺菌の信頼性の確保が可能な紫外線殺菌処理装置
を提供することができる。
【００４８】
【図１】本発明の紫外線殺菌処理装置の第１の実施例を
説明する模式図である。
説明する模式図である。
【図２】図１の管軸に平行な要部拡大断面図である。
【図３】図２のＤ−Ｄ線に沿った断面図である。
【図４】本発明の紫外線殺菌処理装置の第２の実施例を
示す図２に対応する模式断面図である。
示す図２に対応する模式断面図である。
【図５】本発明の紫外線殺菌処理装置の第３の実施例を
示す図２に対応する模式断面図である。
示す図２に対応する模式断面図である。
【図６】本発明の紫外線殺菌処理装置の第４の実施例を
示す図２に対応する模式断面図である。
示す図２に対応する模式断面図である。
【図７】本発明の紫外線殺菌処理装置の第５の実施例を
示す図２に対応する模式断面図である。
示す図２に対応する模式断面図である。
【図８】本発明の紫外線殺菌処理装置の第６の実施例を
示す図１に対応する模式図である。
示す図１に対応する模式図である。
【図９】本発明の紫外線殺菌処理装置の第７の実施例を
示す図１に対応する模式図である。
示す図１に対応する模式図である。
【図１０】従来の水を殺菌するための紫外線殺菌処理装
置の一例の摸式断面図である。
置の一例の摸式断面図である。
１、２１、３１・・・・本体
２・・・・無電極水銀ランプ
３・・・・処理容器
４・・・・筐体
５、２５・・・・マグネトロン
５ａ・・・・マグネトロンアンテナ
６・・・・導波管
７・・・・フランジ
１３・・・・遮蔽体
１４・・・・遮蔽板
１５・・・・反射体
１６・・・・貫通孔。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２１Ｙ 103:00 Ｆ２１Ｓ 1/00 Ｐ
Ｆターム(参考） 4C058 AA12 AA21 BB06 DD12 KK02
KK12
4D037 AA01 AB03 BA18
4G075 AA03 AA42 CA26 CA33 EA01
EB24 EB33 FB06
Claims (7)
- 【請求項１】内部に被処理物を流通する空間をもつ処理
容器と、この処理容器に近接配置され前記被処理物に紫
外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容器及び紫
外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線発生機構
にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波電力供給
機構と、このマイクロ波電力供給機構と前記筐体部との
結合機構とを有することを特徴とする紫外線殺菌処理装
置。 - 【請求項２】前記紫外線発生機構は無電極放電ランプを
有することを特徴とする請求項１に記載の紫外線殺菌処
理装置。 - 【請求項３】前記マイクロ波電力供給機構はマイクロ波
電力源としてマグネトロンを有することを特徴とする請
求項１又は請求項２に記載の紫外線殺菌処理装置。 - 【請求項４】前記紫外線発生機構は２５４ｎｍの波長の
紫外線を含む紫外線を発生させることを特徴とする請求
項１乃至請求項３に記載の紫外線殺菌処理装置。 - 【請求項５】内部に被処理物を流通する空間をもつ処理
容器と、この処理容器に近接配置され前記被処理物に紫
外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容器及び紫
外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線発生機構
にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波電力供給
機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合され、前記
紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管と、この
導波管と前記筐体部との結合機構とを有することを特徴
とする紫外線殺菌処理装置。 - 【請求項６】内部に被処理物を流通する空間をもつ処理
容器と、この処理容器に近接配置され前記被処理物に紫
外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容器及び紫
外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線発生機構
にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波電力供給
機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合され、前記
紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管と、この
導波管と前記筐体部との結合機構と、前記紫外線発生機
構と前記マイクロ波電力供給機構間に配置された紫外線
遮蔽機構とを有することを特徴とする紫外線殺菌処理装
置。 - 【請求項７】内部に被処理物を流通する空間をもつ処理
容器と、この処理容器に近接配置され前記被処理物に紫
外線を照射する紫外線発生機構と、前記処理容器及び紫
外線発生機構を取り囲む筐体部と、前記紫外線発生機構
にマイクロ波電力を供給するためのマイクロ波電力供給
機構と、このマイクロ波電力供給機構と結合され、前記
紫外線発生機構へマイクロ波電力を導く導波管と、この
導波管と前記筐体部との結合機構と、前記処理容器と紫
外線発生機構間に配置されたマイクロ波遮蔽機構とを有
することを特徴とする紫外線殺菌処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001361370A JP2003159314A (ja) | 2001-11-27 | 2001-11-27 | 紫外線殺菌処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001361370A JP2003159314A (ja) | 2001-11-27 | 2001-11-27 | 紫外線殺菌処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003159314A true JP2003159314A (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=19172046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001361370A Pending JP2003159314A (ja) | 2001-11-27 | 2001-11-27 | 紫外線殺菌処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003159314A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003096769A1 (fr) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | Toshiyuki Takamatsu | Systeme de traitement par reaction haute frequence |
| WO2007035069A1 (en) * | 2005-09-23 | 2007-03-29 | Lg Electronics Inc. | Sterilizing device with ultraviolet ray and microwave oven having the same |
| JP2009226370A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 流体処理装置 |
| JP2009285548A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
| KR100961552B1 (ko) | 2008-01-15 | 2010-06-07 | 에이치케이산업(주) | 마그네트론을 통한 살균력 및 절전이 우수한 유수살균장치 |
| CN103112923A (zh) * | 2013-01-24 | 2013-05-22 | 王庆凯 | 一种新型的杀菌消毒设备 |
| JP2016195054A (ja) * | 2015-04-01 | 2016-11-17 | 学校法人上智学院 | マイクロ波励起無電極ランプ及びそれを用いた水溶液処理システム |
| JP2017047385A (ja) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日機装株式会社 | 殺菌装置 |
| JP2017093390A (ja) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | ウシオ電機株式会社 | 殺菌方法および殺菌装置 |
| US11229095B2 (en) | 2014-12-17 | 2022-01-18 | Campbell Soup Company | Electromagnetic wave food processing system and methods |
| WO2022071590A1 (ja) * | 2020-10-01 | 2022-04-07 | マイクロ波化学株式会社 | マイクロ波処理装置、及びマイクロ波処理方法 |
| KR102464122B1 (ko) * | 2021-12-24 | 2022-11-09 | 주식회사 대한플랜트 | 이산화염소를 이용한 악취 제거장치 |
| JP7544522B2 (ja) | 2020-07-27 | 2024-09-03 | スタンレー電気株式会社 | 棒状部材配置構造、紫外線照射装置及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-11-27 JP JP2001361370A patent/JP2003159314A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003096769A1 (fr) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | Toshiyuki Takamatsu | Systeme de traitement par reaction haute frequence |
| WO2007035069A1 (en) * | 2005-09-23 | 2007-03-29 | Lg Electronics Inc. | Sterilizing device with ultraviolet ray and microwave oven having the same |
| KR100961552B1 (ko) | 2008-01-15 | 2010-06-07 | 에이치케이산업(주) | 마그네트론을 통한 살균력 및 절전이 우수한 유수살균장치 |
| JP2009226370A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 流体処理装置 |
| JP2009285548A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
| CN103112923A (zh) * | 2013-01-24 | 2013-05-22 | 王庆凯 | 一种新型的杀菌消毒设备 |
| US11229095B2 (en) | 2014-12-17 | 2022-01-18 | Campbell Soup Company | Electromagnetic wave food processing system and methods |
| JP2016195054A (ja) * | 2015-04-01 | 2016-11-17 | 学校法人上智学院 | マイクロ波励起無電極ランプ及びそれを用いた水溶液処理システム |
| WO2017038764A1 (ja) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日機装株式会社 | 殺菌装置 |
| JP2017047385A (ja) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日機装株式会社 | 殺菌装置 |
| JP2017093390A (ja) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | ウシオ電機株式会社 | 殺菌方法および殺菌装置 |
| JP7544522B2 (ja) | 2020-07-27 | 2024-09-03 | スタンレー電気株式会社 | 棒状部材配置構造、紫外線照射装置及びその製造方法 |
| WO2022071590A1 (ja) * | 2020-10-01 | 2022-04-07 | マイクロ波化学株式会社 | マイクロ波処理装置、及びマイクロ波処理方法 |
| KR102464122B1 (ko) * | 2021-12-24 | 2022-11-09 | 주식회사 대한플랜트 | 이산화염소를 이용한 악취 제거장치 |
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