JP2003159116A - 肌ケア装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マイナスイオンを利用して効果的な肌のケア
が行える肌ケア装置を提供する。 【解決手段】 肌表面の手入れを行う肌ケア装置であ
る。これにおいて、手で持つプローブ６４に接触子６６
を設けて超音波振動、機械的な力または冷温熱などの刺
激を、接触子６６を介して肌表面に与えるように構成す
る。プローブ６４内にマイナスイオン発生装置を内装
し、この接触子６６にマイナスイオンを放出するイオン
放出口６７を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、肌ケア装置に関
し、詳しくはマイナスイオンを肌表面に放出して肌の手
入れ効果に加えて、肌のケア後の感触をより好ましくす
る技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の肌ケア装置の一例としてのスチー
ム式美顔器Ａは例えば図１２に示すように構成されてい
る。これは水を貯水するボイラー１と、ボイラー１とシ
ール性を持って接続され水を加熱気化させるヒータ２
と、ボイラー１とシール性を持って着脱自在に被着され
る給水蓋３と、ボイラー１とシール性を持って接続され
るスチーム経路４と、スチーム経路４の下流側にシール
性を持って接続されるスチーム放出用のスチームノズル
５を備え、制御回路６にはヒータ２と、スチームのオン
／オフの切り替えスイッチ７と、スチーム経路４に設置
したスチームを微細化するための高圧放電装置８と、電
源供給用の電源コード９が接続されている。そしてスチ
ーム式美顔器Ａを使用しているときはヒータ２で気化さ
れたスチームがスチーム経路４を通り、高圧放電装置８
で微細化され、スチームノズル５から微細化されたスチ
ームが噴出され、スチームが肌に当って肌のケアがされ
るようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来例
の肌ケア装置にあっては、マイナスイオンを併用して肌
ケアをするようにしたものがない。このためにマイナス
イオンを肌に付着させて保湿性を向上させたりできなく
て肌ケアが十分なものでなかった。

【０００４】本発明は叙述の点に鑑みてなされたもので
あって、マイナスイオンを利用して効果的な肌のケアが
行える肌ケア装置を提供することを課題とするものであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の請求項１の肌ケア装置は、肌表面の手入れを
行う肌ケア装置において、手で持つプローブに接触子を
設けて超音波振動、機械的な力または冷温熱などの刺激
を、接触子を介して肌表面に与えるように構成し、プロ
ーブ内にマイナスイオン発生装置を内装し、この接触子
にマイナスイオンを放出するイオン放出口を具備したこ
とを特徴とする。マイナスイオン発生装置によって発生
されるマイナスイオンが肌に付着することによって、保
湿性が向上し、しっとり、サラサラ、さっぱり、つるつ
るとした肌表面の感触が得られる。このような感触が、
当該肌ケア装置の超音波振動、機械的な力または冷温熱
などの刺激による肌の手入れ効果に加えて得られるの
で、肌ケア後の感触がより好ましくなる。

【０００６】また本発明の請求項２の肌ケア装置は、請
求項１において、接触子の肌接触面にイオン放出口を開
口したことを特徴とする。常に肌に触れる接触子の肌接
触面にイオン放出口があるため、より多くのマイナスイ
オンを確実に肌に付着させることができる。

【０００７】また本発明の請求項３の肌ケア装置は、肌
表面の手入れを行う肌ケア装置において、足浴水を入れ
て足を暖めることができる槽体を備え、この槽体の外に
マイナスイオン発生装置を配設し、この槽体の内面にマ
イナスイオンを放出するイオン放出口を具備したことを
特徴とする。槽体内の足浴水に足をつけ、足に十分な水
分を与えて、マイナスイオンを照射することによって、
足における保湿性、感触的効果が向上する。また槽体内
の足浴水を温水とすることで、足の血行促進を促し、上
記効果に加えて、むくみ、冷え性等が解消可能となり、
足を健康な状態にすることができる。

【０００８】また本発明の請求項４の肌ケア装置は、請
求項３において、足浴水中に空気を噴出する空気噴出口
を槽体の底板に設け、この空気噴出口の上流側の流路に
マイナスイオン発生装置によって発生されるマイナスイ
オンの流路を合流させたことを特徴とする。マイナスイ
オンを気泡として槽体内の足浴水中に効率よく投入でき
るため、足を水または温水につけたままでマイナスイオ
ン効果を発生させることができ、ケア時間短縮が可能と
なる。

【０００９】また本発明の請求項５の肌ケア装置は、頭
皮の手入れを行う肌ケア装置において、頭皮にブリスル
にて振動刺激を与えるように構成し、ブリスル面の裏側
の内部にマイナスイオン発生装置を具備し、ブリスル面
にマイナスイオンを放出するイオン放出口を具備したこ
とを特徴とする。振動等による頭皮のマッサージで頭皮
の血行促進を促し頭皮を活性化させると同時に、頭皮へ
のマイナスイオン照射によって、頭皮における保湿性、
感触的効果が向上し、頭皮を健康な状態にすることがで
きる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の肌ケア装置ではマイナス
イオンを発生させてこのマイナスイオンを肌や髪に放出
するものであるが、このマイナスイオンを発生するマイ
ナスイオン発生装置の機構は次のようになっている。

【００１１】図３はコロナ放電を利用した放電式マイナ
スイオン発生機構の簡略図を示す。グランドに接続した
対向板３４（例えば、ＳＵＳ３０４）を設け、これに対
し高圧を維持する針状イオン電極３５をマイナスイオン
の発生量が最大となる距離ｘとして設置したものであ
る。より多くのマイナスイオンを発生させるには対向板
３４は実験上半円筒形状が好ましい結果を得たが、必ず
しも半円筒形状としなくてもよい。

【００１２】図４に自冷放射を利用したマイナスイオン
発生機構の概略を示す。これは本体３６に放射物質３７
（トルマリン）を設置したものである。このとき、図４
（ｂ）のように本体３６に放射物質３８をコーティング
してもよい。

【００１３】図５に静電噴霧を利用したマイナスイオン
発生機構の概略図を示す。貯水部３９と水位方向に延出
した送水管４０を備え、グランドまたは人体に対して高
圧を維持するように送水管４０に高電圧を印加してい
る。そしてモータ４１に接続したスクリュー４２によっ
て送水管４０の水を端部４３まで常時押し上げ、端部４
３から送水管４０に印加した高電圧によってマイナスイ
オン帯電した霧状の微細水滴を噴霧させるようになって
いる。このとき、送水管４０内の送水スピードは微細水
滴の発生が維持できるように調整する。このときモータ
４１等を使用せず、毛細管現象を利用して送水管４０内
の水を押し上げてもよい。

【００１４】図６に水破砕式マイナスイオン発生機構の
概略図を示す。貯水部４４内の水に接触または浸水した
拡散プロペラ４５をモータ４６に接続して高速回転さ
せ、水分子が破砕することで得られるマイナスイオンを
イオン放出口４７から放出させるようになっている。拡
散プロペラ４１の回転速度はマイナスイオンを多く発生
維持できるように調整する。

【００１５】図７は他の水破砕式マイナスイオン発生機
構の概略図を示す。貯水部４８の水を複数のポンプ４９
で吸い込み、高圧放水させて放水同士を衝突破砕させる
ことでマイナスイオンを放出口５０から放出させるよう
になっている。放水同士を衝突させることで大きな破砕
力を得ることができるが、放水を壁面に衝突させる破砕
方式としてもよい。

【００１６】本発明の肌ケア装置は上記マイナスイオン
発生装置で発生したマイナスイオンを放出するようにし
たものであり、図１にマイナスイオンを放出する超音波
式美顔器を示す。本体６２内部に超音波発生回路６３を
備え、これに接続されるプローブ６４に把手部６５と接
触子６６とイオン放出口６７を配設してある。イオン放
出口６７にイオンノズル６８を接続してあり、イオンノ
ズル６８に内蔵されたイオン電極６９に接続される高圧
リード線７０はイオン発生回路７１に接続されている。
イオン電極６９やイオン発生回路７１からなるマイナス
イオン発生装置で発生したマイナスイオンはイオンノズ
ル６８を介してイオン放出口６７から放出されるように
なっている。制御回路７２にはイオン発生回路７１と超
音波発生回路６３と超音波やマイナスイオンのオン／オ
フ切り替えスイッチ７３と電源供給用の電源コード７４
が接続されている。

【００１７】この超音波式美顔器はプローブ６４を手で
持って接触子６６を顔などに接触させて使用される。こ
のとき接触子６６が超音波振動して肌に刺激を与えて肌
の手入れがされるが、これに加えてマイナスイオン発生
装置で発生したマイナスイオンがイオン放出口６７から
放出される。このようにしてマイナスイオン発生装置に
よって発生されるマイナスイオンが肌に付着することに
よって、保湿性が向上し、しっとり、サラサラ、さっぱ
り、つるつるとした肌表面の感触が得られる。このよう
な感触が、当該超音波式美顔器の超音波振動の刺激によ
る肌の手入れ効果に加えて得られるので、肌ケア後の感
触がより好ましくなる。

【００１８】上記超音波式美顔器において、図２に示す
ようにプローブ６４の接触子６６の肌接触面７５にイオ
ン放出口６７を配設して開口させてあることが好まし
い。このように接触子６６の肌接触面７５にイオン放出
口６７を開口させてあると、常に肌に触れる接触子６６
の肌接触面７５にイオン放出口６７があるため、より多
くのマイナスイオンを確実に肌に付着させることができ
る。

【００１９】図８は肌ケア装置の他の例を示し、マイナ
スイオンを放出する足浴器である。足浴水を入れる槽体
７６を備えており、この槽体７６の内壁面にイオン放出
口７７を設置してあり、イオン放出口７７にイオンノズ
ル７８を接続してあり、イオンノズル７８に内蔵された
イオン電極７９に接続される高圧リード線８０はイオン
発生回路８１に接続されている。イオン放出口７７には
シール用の蓋８２が着脱自在に装着されており、足浴時
には蓋８２を取り付け、足浴後は槽体７６の底部に設け
た排水口８３より排水栓８４を取り外して排水した後、
蓋８２を取り外し、マイナスイオンを放出するようにな
っている。槽体７６は足が入る体積で構成してあり、足
浴水の保温用ヒータ８５を槽外壁面に設置してある。制
御回路８６にはイオン発生回路８１と保温用ヒータ８５
とマイナスイオンやヒータのオン／オフ切り替えスイッ
チ８７と電源供給用の電源コード８８が接続されてい
る。

【００２０】足浴器の槽体７６の排水口８３を排水栓８
４で塞ぐと共にイオン放出口７７を蓋８２で塞いだ状態
で槽体７６内に足浴水を入れ、必要に応じて保温用ヒー
タ８５で保温し、足浴水内に足を漬けて足浴を行う。足
浴を行った後、排水栓８４を取り外して排水口８３から
排水し、排水した後に蓋８２を取り外してイオン放出口
７７を開放し、マイナスイオン発生装置で発生したマイ
ナスイオンをイオン放出口７７から放出して足浴した足
にマイナスイオンを当てる。このように槽体７６内の足
浴水に足をつけ、足に十分な水分を与えて、マイナスイ
オンを照射することによって、足における保湿性、感触
的効果が向上する。また槽体７６内の足浴水を温水とす
ることで、足の血行促進を促し、上記効果に加えて、む
くみ、冷え性等が解消可能となり、足を健康な状態にす
ることができる。

【００２１】図９はマイナスイオンを放出する足浴器の
他の例を示す。足浴水中に空気を噴出する空気噴出口８
９を槽体７６の底板に設けてあり、この空気噴出口８９
とポンプ９０を接続する噴出経路９１にイオン放出口９
２を設けてある。空気噴出口８９とイオン放出口９２と
の間には逆止弁９３を設置してあり、イオン放出口９２
及びポンプ９０への水の浸入を防止するようになってい
る。またイオン放出口９２はポンプ吸い込み口９４側に
配置してもよい。この場合、ポンプ９０に逆止機構を設
けることで逆止弁９３を廃止することができる。

【００２２】足浴器の槽体７６内に足浴水を入れ、足を
足浴水に漬けることで足浴をすることができる。このと
き、ポンプ９０を駆動することで空気噴出口８９から気
泡を噴出して足浴をすることができる。そしてマイナス
イオン発生装置で発生したマイナスイオンをイオン放出
口９２から放出することでマイナスイオンを含む気泡を
足浴水に投入することができる。このようにすると、マ
イナスイオンを気泡として槽体７６内の足浴水中に効率
よく投入できるため、足を水または温水につけたままで
マイナスイオン効果を発生させることができ、ケア時間
短縮が可能となる。

【００２３】図１０は肌ケア装置の他の例を示し、マイ
ナスイオンを放出する頭皮ケア装置である。ブリスル９
５を振動させるためのモータ９６を具備する振動発生機
構９７と、頭皮に振動刺激を与えるブリスル９５面にマ
イナスイオンを放出するイオン放出口９８を備えたもの
である。イオン放出口９８にイオンノズル９９を接続し
てあり、イオンノズル９９に内蔵されたイオン電極１０
０に接続される高圧リード線１０１はイオン発生回路１
０２に接続されている。制御回路１０３にはモータ９６
とイオン発生回路１０２と振動やマイナスイオンのオン
／オフの切り替えスイッチ１０４と電源供給用の電源コ
ード１０５が接続されている。

【００２４】この頭皮ケア装置でブリスル９５を振動さ
せてブリスル９５を頭皮に接触させることで頭皮に振動
刺激を与えてケアを行うことができる。このときマイナ
スイオン発生装置で発生したマイナスイオンを放出する
ことでマイナスイオンを頭皮に照射することができる。
このようにする振動による頭皮のマッサージで頭皮の血
行促進を促し頭皮を活性化させると同時に、頭皮へのマ
イナスイオン照射によって、頭皮における保湿性、感触
的効果が向上し、頭皮を健康な状態にすることができ
る。

【００２５】図１１は肌ケア装置の他の例を示し、マイ
ナスイオン放出部と荷電端子部を備えた超音波式美顔器
である。これは基本的には図１の例と同じであるために
同じ部分に同じ符号を付し、詳しい説明は省略する。図
１に示す構成に加えて、本体内部に制御回路７２に接続
した荷電回路１０９を設置してあり、荷電回路１０９か
ら荷電リード線１１０を延出させ、プローブ６４のハウ
ジング部１１１に荷電リード線１１０の芯線をアルミニ
ウムテープ等で電気的に接続してある。ハウジング部１
１１は帯電防止機能を設けることが好ましく、例えば帯
電防止剤入りの樹脂成形品で構成してある。

【００２６】この超音波式美顔器はプローブ６４を手で
持って接触子６６を顔などに接触させて使用される。こ
のとき接触子６６が超音波振動して肌に刺激を与え肌の
手入れがされるが、これに加えてマイナスイオン発生装
置で発生したマイナスイオンがイオン放出口６７から放
出される。超音波式美顔器の使用中にはプローブ６４を
手で持ってハウジング部１１１を触っているので肌をプ
ラス電位側に保持することができる。このようにして人
体をプラスに帯電することで肌のマイナスイオン帯電飽
和がなくなり、常に多量のマイナスイオンがプラスに帯
電した肌に引き寄せられるのでマイナスイオンが肌によ
り付着しやすくなる。また超音波式美顔器の使用中には
プローブ６４を手で持ってハウジング部１１１を触って
いるので、意識することなく肌を常にプラス電位側に保
持することができる。

【００２７】なお、上記肌ケア装置において、マイナス
イオン発生装置として図２乃至図６の構造のものを適宜
採用してもよい。

【００２８】

【発明の効果】本発明の請求項１の発明は、肌表面の手
入れを行う肌ケア装置において、手で持つプローブに接
触子を設けて超音波振動、機械的な力または冷温熱など
の刺激を、接触子を介して肌表面に与えるように構成
し、プローブ内にマイナスイオン発生装置を内装し、こ
の接触子にマイナスイオンを放出するイオン放出口を具
備したので、マイナスイオン発生装置によって発生され
るマイナスイオンが肌に付着することによって、保湿性
が向上し、しっとり、サラサラ、さっぱり、つるつると
した肌表面の感触が得られるものである。このような感
触が、当該肌ケア装置の超音波振動、機械的な力または
冷温熱などの刺激による肌の手入れ効果に加えて得られ
るので、肌ケア後の感触がより好ましくなるものであ
る。

【００２９】また本発明の請求項２の発明は、請求項１
において、接触子の肌接触面にイオン放出口を開口した
ので、常に肌に触れる接触子の肌接触面にイオン放出口
があるため、より多くのマイナスイオンを確実に肌に付
着させることができるものである。

【００３０】また本発明の請求項３の発明は、肌表面の
手入れを行う肌ケア装置において、足浴水を入れて足を
暖めることができる槽体を備え、この槽体の外にマイナ
スイオン発生装置を配設し、この槽体の内面にマイナス
イオンを放出するイオン放出口を具備したので、槽体内
の足浴水に足をつけ、足に十分な水分を与えて、マイナ
スイオンを照射することによって、足における保湿性、
感触的効果が向上するものであり、また槽体内の足浴水
を温水とすることで、足の血行促進を促し、上記効果に
加えて、むくみ、冷え性等が解消可能となり、足を健康
な状態にすることができるものである。

【００３１】また本発明の請求項４の発明は、請求項３
において、足浴水中に空気を噴出する空気噴出口を槽体
の底板に設け、この空気噴出口の上流側の流路にマイナ
スイオン発生装置によって発生されるマイナスイオンの
流路を合流させたので、マイナスイオンを気泡として槽
体内の足浴水中に効率よく投入できるため、足を水また
は温水につけたままでマイナスイオン効果を発生させる
ことができ、ケア時間短縮が可能となるものである。

【００３２】また本発明の請求項５の発明は、頭皮の手
入れを行う肌ケア装置において、頭皮にブリスルにて振
動刺激を与えるように構成し、ブリスル面の裏側の内部
にマイナスイオン発生装置を具備し、ブリスル面にマイ
ナスイオンを放出するイオン放出口を具備したので、頭
皮にブリスルにて振動刺激を与えるように構成し、ブリ
スル面にマイナスイオンを放出するイオン放出口を具備
したので、振動等による頭皮のマッサージで頭皮の血行
促進を促し頭皮を活性化させると同時に、頭皮へのマイ
ナスイオン照射によって、頭皮における保湿性、感触的
効果が向上し、頭皮を健康な状態にすることができるも
のである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の肌ケア装置の一例の断面図である。

【図２】本発明の肌ケア装置の他例の要部の一部切欠正
面図である。

【図３】マイナスイオン発生装置の構造の一例を示し、
（ａ）は概略原理図、（ｂ）は要部拡大図である。

【図４】（ａ）（ｂ）はマイナスイオン発生装置の構造
の他例を示す断面図である。

【図５】マイナスイオン発生装置の構造の他例を示す原
理図である。

【図６】マイナスイオン発生装置の構造の他例を示す原
理図である。

【図７】マイナスイオン発生装置の構造の他例を示す原
理図である。

【図８】本発明の肌ケア装置の他例を示し、（ａ）は平
面図、（ｂ）は断面図である。

【図９】本発明の肌ケア装置の他例を示し、（ａ）は平
面図、（ｂ）は断面図である。

【図１０】本発明の肌ケア装置の他例の断面図である。

【図１１】本発明の肌ケア装置の他例の断面図である。

【図１２】従来例のスチーム式美顔器の断面図である。

【符号の説明】

６４ プローブ ６６ 接触子 ６７ イオン放出口 ７６ 槽体 ７７ イオン放出口 ９５ ブリスル ９８ イオン放出口

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 肌表面の手入れを行う肌ケア装置におい
   て、手で持つプローブに接触子を設けて超音波振動、機
   械的な力または冷温熱などの刺激を、接触子を介して肌
   表面に与えるように構成し、プローブ内にマイナスイオ
   ン発生装置を内装し、この接触子にマイナスイオンを放
   出するイオン放出口を具備したことを特徴とする肌ケア
   装置。
2. 【請求項２】 接触子の肌接触面にイオン放出口を開口
   したことを特徴とする請求項１記載の肌ケア装置。
3. 【請求項３】 肌表面の手入れを行う肌ケア装置におい
   て、足浴水を入れて足を暖めることができる槽体を備
   え、この槽体の外にマイナスイオン発生装置を配設し、
   この槽体の内面にマイナスイオンを放出するイオン放出
   口を具備したことを特徴とする肌ケア装置。
4. 【請求項４】 足浴水中に空気を噴出する空気噴出口を
   槽体の底板に設け、この空気噴出口の上流側の流路にマ
   イナスイオン発生装置によって発生されるマイナスイオ
   ンの流路を合流させたことを特徴とする請求項３記載の
   肌ケア装置。
5. 【請求項５】 頭皮の手入れを行う肌ケア装置におい
   て、頭皮にブリスルにて振動刺激を与えるように構成
   し、ブリスル面の裏側の内部にマイナスイオン発生装置
   を具備し、ブリスル面にマイナスイオンを放出するイオ
   ン放出口を具備したことを特徴とする肌ケア装置。