JP2003158110A - ウエット処理用ノズルおよびウエット処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエット処理動作中に処理領域において処理
液の存在しない領域が生じた場合でも、超音波振動子の
破損防止を図る。 【解決手段】 被処理物Ｗのウエット処理のための処理
液２を被処理物Ｗの被処理面Ｗ１に向けて供給する導入
開口部２１ｂと、ウエット処理後の排出液２を被処理面
Ｗ１から排出する排出開口部２２ｂとを具備するウエッ
ト処理用ノズル１であって、被処理面Ｗ１上の処理液２
に対して超音波振動を付与するための超音波振動子４８
と、該超音波振動子４８に接する振動部４６とを備え、
振動部４６は、超音波振動子４８の少なくとも被処理物
Ｗ側に設けられ、被処理物Ｗ側の振動部４６の厚み寸法
Ｔと、振動部４６における超音波振動の波長λとの関係
が、 Ｔ＝（ｎ±０．１）・λ／２ （但し、ｎは２以
上の整数） に設定されてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体デバ
イス、液晶表示パネル等の製造プロセスにおける洗浄、
剥離、現像、エッチング、メッキ、研磨等のウェット処
理工程において、被処理物上に処理液を供給するための
ウェット処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイス、液晶表示パネル等の電
子機器の分野においては、その製造プロセス中に被処理
物である半導体基板やガラス基板を洗浄処理する工程が
必須である。洗浄工程においては、製造工程中の種々の
除去対象物質を除去すべく、超純水、電解イオン水、オ
ゾン水、水素水等、種々の洗浄液を用いた洗浄が行われ
るが、これら洗浄液は洗浄装置のノズルから基板上に供
給される。ところが、従来一般の洗浄用ノズルを用いた
場合、洗浄液の使用量が多くなるという問題があった。
例えば５００ｍｍ角の基板の洗浄を電解イオン水等の洗
浄液を用いて行い、かかる洗浄液による洗浄とリンス洗
浄水によるリンスを行った後の基板上のパーティクルの
残存量として０．５個／ｃｍ２ レベルの清浄度を達成
しようとすると、２５〜３０リットル／分程度の洗浄液
およびリンス洗浄液を使用しなければならなかった。

【０００３】そこで、従来型に比べて洗浄液の使用量を
大幅に削減できる省液型の洗浄用ノズルとして、被処理
基板上に処理液を供給して被処理基板のウェット処理を
行う際に用いるウェット処理用ノズルであって、一端に
処理液を導入するための導入口を有する導入通路と一端
に使用後の処理液を外部に排出するための排出口を有す
る排出通路とが形成され、これら導入通路と排出通路の
それぞれの他端に、被処理基板に向けて開口する導入開
口部と排出開口部とが設けられたウェット処理用ノズル
が、既に知られており、ここでは、このウェット処理用
ノズルを用いたウェット処理用ノズル装置として、ウェ
ット処理用ノズルと、前記導入開口部を通して前記被処
理基板に接触した処理液を処理後に、前記排出通路外に
流れないように前記被処理基板と接触している処理液の
圧力と大気圧との差を制御し前記排出通路を通して吸引
排出する手段とを有することを特徴とするウェット処理
用ノズル装置が提供されている。また、このウェット処
理用ノズルを用いたウェット処理装置として、前記ウェ
ット処理用ノズルと、前記被処理基板の被処理面に沿っ
て前記ウェット処理用ノズルと前記被処理基板とを相対
移動させることにより前記被処理基板の被処理面全域を
処理するためのノズルまたは被処理基板の移動手段とを
有することを特徴とするウェット処理装置が提供されて
いる。

【０００４】すなわち、上記のウェット処理装置等によ
れば、処理液を供給した部分以外の部分に処理液を接触
させることなく、被処理基板上から除去することがで
き、省液型ノズルを実現することができる。また、被処
理基板の被処理面に沿ってウェット処理用ノズルと被処
理基板とを相対移動させる移動手段とを備えたことによ
り、被処理基板の被処理面全域を処理することができる
ものである。

【０００５】さらに、このような省液型のノズルにおい
て、超音波を照射する際に適用する構成として、図１３
に示すようなウエット処理用ノズルが知られている。こ
のウエット処理用ノズルは、一端に処理液１００を導入
するための導入口１０１ａを有する導入管１０１と、一
端にウエット処理後の処理液１００を外部へ排出するた
めの排出口１０２ａを有する排出管１０２とが設けら
れ、導入管１０１と排出管１０２のそれぞれの他端が連
結され、被処理基板９０に対向する連結部１０３が形成
され、連結部１０３に導入管１０１が開口している第１
開口部１０１ｂと、排出管１０２が開口している第２開
口部１０２ｂが設けられたものである。上記連結部１０
３と被処理基板９０の間の空間には、ウエット処理を行
う処理領域１０５が形成されている。また、上記連結部
１０３には、処理領域１０５内の処理液１００に超音波
振動を付与するための超音波振動子が設けられている。
ここでの超音波振動子は、振動板９６と、振動板９６の
主面の両端から立ち上がる側板９７と、振動板９６の主
面上に設けられた超音波振動子本体１０８とから構成さ
れている。振動板９６の厚みは、１ＭＨｚ程度の超音波
に設定された場合に、３ｍｍ程度に設定されている。ま
た、排出管１０２の排出口１０２ａには減圧ポンプ（図
示略）が接続されている。

【０００６】また、処理液１００は導入管１０１の導入
口１０１ａから供給され、第１開口部１０１ｂに至る
が、排出管１０２の排出口１０２ａには減圧ポンプ（図
示略）が接続されているので、減圧ポンプの吸引圧力を
制御することにより、導入管１０１に供給された処理液
１００が第１開口部１０１ｂの大気と接触している処理
液１００の圧力（処理液１００の表面張力と被処理基板
９０の被処理面の表面張力も含む）と大気圧との差を制
御できるようになっている。すなわち、第１開口部１０
１ｂの大気と接触している処理液１００の圧力Ｐw（処
理液の表面張力と基板９０の被処理面の表面張力も含
む）と大気圧Ｐa との関係をＰw≒Ｐaとすることによ
り、第１開口部１０１ｂを通じて基板９０に供給され、
基板９０に接触した処理液１００は、ウエット処理用ノ
ズルの外部に漏れることなく、排出管１０２に排出され
る。このため、このウエット処理用ノズルは、省液型で
ないタイプのノズルに比べて処理液の使用量を大幅に削
減することができる。また、図示した例のノズルでは、
被処理基板９０の洗浄の際、処理領域１０５に処理液１
００を供給した状態で上記超音波振動子本体１０８によ
り振動板９６にから超音波振動を付与し、処理液１００
と共働して被処理基板９０を洗浄する。このとき、伝播
する超音波により振動板９６の温度が上昇するが、同時
に、供給されている処理液によって冷却され、振動板９
６の温度上昇は１℃程度となっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、図に示した上
記のような省液型のウエット処理用ノズルのうち超音波
を照射するタイプにおいては、使用する処理液量を減少
化した際、このウエット処理用ノズルと被処理基板９０
の間の処理領域１０５に気泡が入ることなどにより、こ
の処理領域に処理液の存在しない部分ができることがあ
る。この処理液の充填されていない部分では、照射され
た超音波が被処理基板９０から反射されてしまい、この
反射された超音波により振動板９６の温度が上昇する。
特に、振動板９６が３ｍｍ程度と薄い場合には、この熱
が超音波振動子本体１０８側に伝播するとともに、振動
板９６と超音波振動子本体１０８との接続部分が瞬間的
に加熱されてしまい、結果として、超音波振動子本体１
０８が振動板９６から剥離したり、超音波振動子本体１
０８の温度が上昇し、動作不良を起こすか、または、破
損してしまう可能性があるという問題があった。

【０００８】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、以下の目的を達成しようとするものである。 ウエット処理動作中に処理領域において処理液の存
在しない領域が生じた場合でも、超音波振動子の破損防
止を図ることができるウエット処理用ノズルを提供する
こと。 ウエット処理動作中に処理領域において処理液の存
在しない領域が生じた場合でも、超音波振動子における
温度上昇の防止を図ることができるウエット処理用ノズ
ルを提供すること。 超音波振動子における動作安定性の向上を図ること
ができるウエット処理用ノズルを提供すること。 上記のウエット処理用ノズルを有するウエット処理
装置を提供すること。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明のウエット処理用
ノズルは、被処理物のウエット処理のための処理液を前
記被処理物の被処理面に向けて供給する導入開口部と、
前記ウエット処理後の前記処理液の排出液を前記被処理
面から排出する排出開口部とを具備するウエット処理用
ノズルであって、前記被処理面上の前記処理液に対して
超音波振動を付与するための超音波振動子と、該超音波
振動子に接する振動部とを備え、前記振動部は、前記超
音波振動子の少なくとも前記被処理物側に設けられ、該
被処理物側の前記振動部の厚み寸法Ｔと、該振動部にお
ける前記超音波振動の波長λとの関係が、 Ｔ＝（ｎ±０．１）・λ／２ （但し、ｎは２以
上の整数） に設定されてなることにより上記課題を解決した。本発
明において、前記被処理物側の前記振動部の厚み寸法Ｔ
と、該振動部における前記超音波振動の波長λとの関係
が、 Ｔ＝（ｎ±０．１）・λ／２ （但し、ｎは３以
上７以下の整数） に設定されてなることが好ましく、特に、Ｔ＝（５±
０．１）・λ／２に設定されてなることが好ましい。ま
た、本発明において、前記振動部の前記被処理物側に接
して、被覆部が設けられてなる手段を採用することもで
きる。また、前記被覆部は、前記被処理物側の表面が前
記処理液に対する耐反応性および／または耐熱性を有す
るよう構成されてなることができる。本発明において
は、前記被覆部の厚み寸法Ｔ’と、該被覆部における前
記超音波振動の波長λ’との関係が、下記のいずれかに
設定されてなることが望ましい。。 Ｔ’≦λ’／２０ Ｔ’＝（１±０．１）・λ’／２ 本発明においては、前記振動部が、前記超音波振動子の
前記被処理物側とその反対側との双方に設けられてなる
手段を採用することもできる。また、本発明のウエット
処理用ノズルは、被処理物のウエット処理のための処理
液を前記被処理物の被処理面に向けて供給する導入開口
部と、前記ウエット処理後の前記処理液の排出液を前記
被処理面から排出する排出開口部とを具備するウエット
処理用ノズルであって、前記被処理面上の前記処理液に
対して超音波振動を付与するための超音波振動子と、該
超音波振動子に接して、前記被処理物側に設けられた被
覆部と、前記超音波振動子に接して、前記被覆部と反対
側に設けられた振動部と、を備え、前記被覆部の厚み寸
法Ｔ’と、該被覆部における前記超音波振動の波長λ’
との関係が、下記のいずれかに設定されてなることによ
り上記課題を解決した。 Ｔ’≦λ’／２０ Ｔ’＝（１±０．１）・λ’／２ 本発明において、前記被覆部は、前記被処理物側の表面
が前記処理液に対する耐反応性および／または耐熱性を
有するよう構成されてなることができる。さらに、上記
各発明において、前記振動部には、該振動部を冷却する
冷却手段が設けられてなることが可能である。また、前
記冷却手段が、前記振動部の内側および／または外側に
位置する冷却管に冷却液を流通する構成とされてなるこ
とがある。本発明においては、前記冷却液が、前記処理
液、および／または、前記排出液とされてなることが好
ましい。本発明のウエット処理装置は、上記のウエット
処理用ノズルと、前記導入開口部と前記被処理物の被処
理面との間に処理液を導入するための処理液導入手段
と、前記排出開口部と前記被処理物の被処理面との間か
ら処理液を吸引して排出するため処理液回収手段と、被
処理物の被処理面に沿って前記ウエット処理用ノズルと
前記被処理物とを相対移動させることにより前記被処理
物の被処理面全域を処理するためのノズル・被処理物相
対移動手段とを有することにより上記課題を解決した。

【００１０】本発明のウエット処理用ノズルは、被処理
物のウエット処理のための処理液を前記被処理物の被処
理面に向けて供給する導入開口部と、前記ウエット処理
後の前記処理液の排出液を前記被処理面から排出する排
出開口部とを具備するウエット処理用ノズルであって、
前記被処理面上の前記処理液に対して超音波振動を付与
するための超音波振動子と、該超音波振動子に接する振
動部とを備え、前記振動部は、前記超音波振動子の少な
くとも前記被処理物側に設けられ、該被処理物側の前記
振動部の厚み寸法Ｔと、該振動部における前記超音波振
動の波長λとの関係が、 Ｔ＝（１±０．１）・λ／２ （但し、ｎは２以
上の整数） に設定されてなることにより、振動部と被処理物の被処
理面との間の処理領域において、気泡が巻き込まれて処
理液が無い領域が存在した場合にも、振動板の厚み寸法
を大きく設定して、振動部から超音波振動子へ伝播する
熱を低減し、超音波振動子の温度が上昇することを防止
して、超音波振動子が破損してしまうことを防止でき
る。

【００１１】ここで、「振動部の厚み寸法」とは、超音
波振動子から処理物へ音波を伝播する方向、言い換える
と超音波振動子から被処理物の被処理面へ向かう方向、
つまり、被処理物が半導体や液晶等の基板である場合に
はその法線方向における厚み寸法を意味するものであ
る。また、「被処理物側の振動部の厚み寸法」とは、被
処理物側のみの厚み寸法を意味するものであり、振動部
が超音波振動子の被処理物側と反対側にも設けられてい
ても、被処理物側と反対側の厚み寸法を含まない。ま
た、「振動部の超音波振動の波長」とは、超音波振動の
周波数と振動部の材質等で決まる値であり、例えば、超
音波振動の周波数が１ＭＨｚに設定され、振動部がステ
ンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）であると、その半波長（λ
／２）は、標準的な使用条件における標準的な温度であ
る２０℃において３ｍｍ程度となる。

【００１２】本発明によれば、厚み寸法Ｔを従来よりも
厚く設定する。例えば、振動部がステンレス鋼（ＳＵＳ
３１６Ｌ）である場合、従来の標準的な厚み寸法Ｔは３
ｍｍ程度であったが、超音波振動の周波数が１ＭＨｚの
場合、半波長の２倍以上、例えば６ｍｍに設定する。そ
の結果、超音波振動子へ伝播する熱量を低減することが
できる。また、厚み寸法Ｔを、半波長（λ／２）の整数
倍を中心とする所定の範囲内に設定したので、超音波振
動子から被処理液への超音波振動の透過率を高くするこ
とができる。

【００１３】なお、処理液が無い領域とは、処理領域に
おいて、上記の厚み寸法方向に処理液が充分存在してお
らず、被処理基板表面で超音波の大半が反射してしまう
状態のことを云うものとする。

【００１４】本発明において、厚み寸法Ｔが、該振動部
における前記超音波振動の半波長の３倍から７倍、特に
５倍の付近に設定されてなることにより、振動部におい
て超音波振動を効率よく伝播することが可能となるとと
もに、厚み寸法Ｔを大きく設定して、振動部から超音波
振動子へ伝播する熱をより低減し、超音波振動子の温度
が上昇することをいっそう防止して、超音波振動子が破
損してしまうことをさらに防止できる。厚み寸法Ｔが、
該振動部における前記超音波振動の半波長の７倍を越え
る範囲に設定された場合には、共振点が温度変動等によ
って容易に変動してしまうため、超音波振動子から超音
波振動を付与した際の振動が減衰して、可振しなくなっ
てしまうので好ましくない。また、厚み寸法Ｔが、該振
動部における超音波振動の半波長の３倍より小さい範囲
に設定された場合には、振動部と被処理物の被処理面と
の間の処理領域において、気泡が巻き込まれて処理液が
無い領域が存在した場合に、振動部から超音波振動子へ
伝播する熱の低減度合いが小さく、超音波振動子の温度
が上昇してしまうため、好ましくない。厚み寸法Ｔを半
波長の５倍に設定されてなることにより、超音波振動子
を安定した駆動と、かつ、処理領域にウエット処理液の
無い部分のできた場合の超音波振動子における破損可能
性の低減とを最適にできる。

【００１５】また、本発明において、前記振動部の前記
被処理物側に接して、被覆部が設けられてなることによ
り、振動部に直接処理液が接触しないので、前記振動部
表面がウエット処理されてしまうことがないため、振動
部が処理液および超音波振動により劣化してしまうこと
を低減して、振動部の寿命を長くすることができ、さら
に、振動部の成分が処理液中に混合して被処理物表面を
汚染してしまうことを防止できる。

【００１６】前記被覆部は、前記被処理物側の表面が前
記処理液に対する耐反応性および／または耐熱性を有す
るよう構成されてなることにより、振動部に反応性処理
液や高温で反応性の処理液が直接接触しない上、被覆部
表面がウエット処理されてしまうことがないため、振動
部が処理液および超音波振動により劣化してしまうこと
をさらに低減し、振動部の寿命をより長くすることがで
き、さらに、振動部および処理面被覆部の成分が反応性
や高温の処理液中に混合して被処理物表面を汚染してし
まうことを防止できる。

【００１７】ここで、ウエット処理としては、洗滌、剥
離、現像、ウエットエッチング、メッキ、研磨等の処理
を適用することができる。このとき、振動部付近に供給
する処理液としては、洗浄処理の場合は、超純水、電解
イオン水、オゾン水、水素水、等が用いられ、剥離処理
の場合には、希ＮａＯＨ、希ＫＯＨ等無機アルカリや、
アミン系剥離液等が用いられ、現像処理の場合には、希
ＮａＯＨ、希ＫＯＨ等無機アルカリや、トリメチルアン
モニウムハイトライト希釈液等が用いられ、ウエットエ
ッチングの場合には、フッ素酸エッチング液等が用いら
れ、メッキ処理の場合には、Ｃｕ用、Ａｇ用、Ａｕ用メ
ッキ液等が用いられ、研磨処理の場合には、ＳｉＯ₂ ス
ラリー、Ａｌ₂Ｏ₃スラリー、ダイヤモンドスラリー等が
用いられる。これに対応して、被覆部は、石英や、ＰＦ
Ａ等のフッ素樹脂からなることや、用いる処理液によっ
ては、振動部が、被覆部としての最表面がクロム酸化物
のみからなる不動態膜面のステンレス（ＳＵＳ３１６Ｌ
等）からなることができる。また、振動部が、酸化アル
ミニウムとクロム酸化物の混合膜を被覆部として表面に
備えたステンレスとされることや、処理水がオゾン水と
された場合には被覆部としての電解研磨表面を備えたチ
タン等とされることができる。このほかにも、被覆部と
しては、高純度アルミナ、サファイヤ、４フッ化エチレ
ン等のフッ素樹脂や、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテル
ケトン）、高純度ガラス状カーボン、を適用することが
可能である。

【００１８】本発明においては、前記被覆部の厚み寸法
Ｔ’が、該被覆部における超音波振動の半波長（λ’／
２）の１／１０以下または１倍を中心とする一定の範囲
に設定されてなることにより、超音波振動子から被処理
物に照射される振動エネルギーのロス分をほぼ最小化し
て、ウエット処理を安定化することができる。ここで、
被覆部の厚み寸法が該被覆部における超音波振動の半波
長の１／１０以下または１倍の範囲に設定された場合に
は、超音波振動を被覆部を介して処理液に充分効率的に
伝播させることができるが、これに対して、被覆部の厚
み寸法が前記半波長の１／１０より大きく前記半波長の
１倍未満の範囲および半波長の１倍より大きい範囲に設
定された場合には、超音波振動子から被処理物に照射さ
れる振動エネルギーのロス分が増大してしまい好ましく
ない。

【００１９】なお、被覆部における超音波振動の半波長
の１／１０以下または１倍という数値は、振動部および
被覆部の温度状態や、付与される超音波振動の周波数に
依って最も効率のいい状態を選択できるよう定義幅を有
するものとされ、厳密に半波長の１／１０や、１倍の値
には限るものではない。具体的には、超音波振動子から
発せられた超音波振動の該振動部内での波長をλとした
ときに、半波長の１／１０以下という数値範囲は、λ／
１２０〜λ／２０の範囲以下であることが好ましく、よ
り好ましくは、λ／１２０〜λ／６０の範囲以下とされ
るものである。また、半波長の１倍という数値は、具体
的には、λ／２±０．５ｍｍの範囲とされていることが
好ましく、より好ましくはλ／２±０．０５ｍｍの範
囲、さらにいは、λ／２±０．０１ｍｍの範囲内とされ
ることができる。このように被覆部の厚みを設定するこ
とにより、超音波振動子からの超音波振動を有効に伝播
させることができるので、このような優れた特性を有す
る超音波振動子が備えられたウエット処理用ノズルを用
いてウエット処理を行うと、超音波振動（超音波エネル
ギー）が処理液に十分付与され、効率良くウエット処理
を行うことができる。

【００２０】本発明においては、前記振動部が、前記超
音波振動子の前記被処理物側とその反対側との双方に設
けられてなる手段を採用することもできる。この場合、
振動部が被処理物側だけでなくその反対側にも備えられ
ているので、被処理物側の振動部の厚み寸法Ｔを徒に厚
くすることなく、振動部全体を厚く形成することが可能
である。その結果、超音波振動の超音波振動子から処理
液への透過率を低下させずに、発生する熱を振動子全体
に分散し、超音波振動子が高温になることをより確実に
防止することができる。なお、被処理物側の振動部とそ
の反対側の振動部とは、一体に形成しても、別体のもの
として形成しも差し支えない。

【００２１】また、本発明のウエット処理用ノズルは、
被処理物のウエット処理のための処理液を前記被処理物
の被処理面に向けて供給する導入開口部と、前記ウエッ
ト処理後の前記処理液の排出液を前記被処理面から排出
する排出開口部とを具備するウエット処理用ノズルであ
って、前記被処理面上の前記処理液に対して超音波振動
を付与するための超音波振動子と、該超音波振動子に接
して、前記被処理物側に設けられた被覆部と、前記超音
波振動子に接して、前記被覆部と反対側に設けられた振
動部と、を備え、前記被覆部の厚み寸法Ｔ’と、該被覆
部の前記超音波振動の波長λ’との関係が、下記のいず
れかに設定されてなることにより上記課題を解決した。 Ｔ’≦λ’／２０ Ｔ’＝（１±０．１）・λ’／２

【００２２】この場合、振動部が被処理物側の反対側に
備えられているので、超音波振動の超音波振動子から処
理液への透過率を低下させずに、発生する熱を振動子に
分散し、超音波振動子が高温になることを防止すること
ができる。また、被覆部の厚み寸法Ｔ’が、超音波振動
における半波長（λ’／２）の１／１０以下または１倍
を中心とする一定の範囲に設定されてなることにより、
超音波振動子から被処理物に照射される振動エネルギー
のロス分をほぼ最小化して、ウエット処理を安定化する
ことができる。ここで、被覆部の厚み寸法が該被覆部に
おける超音波振動の半波長の１／１０以下または１倍の
範囲に設定された場合には、超音波振動を被覆部を介し
て処理液に充分効率的に伝播させることができるが、こ
れに対して、被覆部の厚み寸法が前記半波長の１／１０
より大きく前記半波長の１倍未満の範囲および半波長の
１倍より大きい範囲に設定された場合には、超音波振動
子から被処理物に照射される振動エネルギーのロス分が
増大してしまい好ましくない。

【００２３】さらに、前記振動部には、該振動部を冷却
する冷却手段が設けられてなることにより、処理領域に
気泡が入り、処理液のない部分が生じた状態で長時間使
用した場合でも、冷却手段により振動部を冷却して振動
部の温度上昇を低減して、振動部の温度制御をおこなう
ことができるため、超音波振動子と振動部との接続部分
および、超音波振動子の温度上昇を防止して、超音波振
動子における破損可能性の低減が可能であるとともに、
ウエット処理における超音波照射の安定駆動を可能とす
ることができる。

【００２４】また、前記冷却手段が、前記振動部の内側
および／または外側に位置する冷却管に冷却液を流通す
る構成とされてなることにより、処理領域に処理液が無
い部分ができたとしても、振動部を冷却液により冷却す
ることが可能となるため、振動部の温度上昇を防止する
ことができ、超音波振動子と振動部との接続部分およ
び、超音波振動子の温度上昇を防止して、超音波振動子
における破損可能性を低減することが可能である。ここ
で、振動部の内側に位置する冷却管とは、例えば、振動
部に一体として設けられた冷却孔としての冷却管や振動
部表面に設けられた溝部を蓋体で覆った冷却管内部に冷
却液を流通可能な構造のことを意味し、また、振動部の
外側とは、振動部表面に沿って接続される冷却管あるい
は、振動部表面によって覆われる溝部を有する冷却体か
らなる冷却管内に冷却液を流通可能な構成を意味するも
のである。

【００２５】本発明においては、前記冷却液が、前記処
理液とされてなること、および／または、前記排出液と
されてなることにより、冷却用に冷却液供給排出手段を
設けることなく、処理液供給排出手段によって冷却液の
供給排出をおこない振動部の冷却をおこなうことができ
るため、製造コストの低減を図ることができる。さら
に、処理液を冷却液とした場合には処理液の温度制御に
振動部の冷却時の熱を利用することが可能となる。ま
た、排出液を冷却液とした場合には、振動部の温度状態
に依存することなく処理液を供給して、かつ、振動部の
冷却をおこなうことができる。

【００２６】また、上記の超音波振動子においては、超
音波振動の周波数が、２０ｋＨｚ〜１０ＭＨｚの範囲で
あることが好ましい。このような構成とすることによ
り、ウエット処理用ノズルに備えてウエット処理を行う
場合に実用的な超音波洗浄が可能である。

【００２７】本発明のウエット処理装置は、上記のウエ
ット処理用ノズルと、前記導入開口部と前記被処理物の
被処理面との間に処理液を導入するための処理液導入手
段と、前記排出開口部と前記被処理物の被処理面との間
から処理液を吸引して排出するため処理液回収手段と、
被処理物の被処理面に沿って前記ウエット処理用ノズル
と前記被処理物とを相対移動させることにより前記被処
理物の被処理面全域を処理するためのノズル・被処理物
相対移動手段とを有することにより、上記本発明のウエ
ット処理用ノズルの利点を有したまま被処理物の被処理
面全域を処理することができ、また、超音波ウエット処
理を長時間安定しておこなうことができ、投入電力に対
する洗浄効率の高いウエット処理装置を提供できる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るウエット処理
用ノズルおよびウエット処理装置の第１実施形態を、図
面に基づいて説明する。 ［第１の実施形態］図１は、本実施形態におけるウエッ
ト処理用ノズルを示す下面図、図２は、図１のII−II線
に沿った断面図である。図において、符号１は、本実施
形態におけるウエット処理用ノズルである。

【００２９】本実施形態の洗浄用ノズル１は、図１，図
２に示すように、一端に洗浄液（処理液）２を導入する
ための導入口２１ａを有する導入通路（導入管）２１と
一端に洗浄後の洗浄液（ウエット処理後の処理液の排出
液）を外部へ排出するための排出口２２ａを有する排出
通路（排出管）２２とが設けられ、これら導入通路２１
と排出通路２２のそれぞれの他端が連結され、被処理基
板（被処理物）Ｗに対向する対向面４６Ａを有する連結
部２３を形成するとともに、この連結部２３に導入通路
２１が開口している第１の開口部（導入開口部）２１ｂ
と、排出通路２２が開口している第２の開口部（排出開
口部）２２ｂが設けられたものである。このようなノズ
ルは、プッシュ・プル型ノズル（省流量型ノズル）と呼
ばれるものである。第１と第２の開口部２１ｂ，２２ｂ
は、被処理基板Ｗに向けて開口している。連結部２３と
被処理基板Ｗの間の空間には、ウエット処理を行う処理
領域３５が形成されている。

【００３０】さらに、連結部２３には、被処理基板Ｗが
洗浄されている間、処理領域３５内の洗浄液２に超音波
振動を付与するための超音波振動子部分４０が設けられ
ている。この超音波振動子部分４０は、振動板（振動
部）４６と、振動板４６の主面上に設けられ、振動板４
６に超音波振動を付与する超音波振動子４８とが備えら
れてなるものである。超音波振動子４８は、ＰＺＴ等の
電歪素子とされ、発振器から超音波周波電気信号を受け
て超音波振動を発生する。この超音波振動子４８は、エ
ポキシ樹脂を主成分とする超音波振動子接着用等の接着
剤により振動板４６に接続されている。振動板４６を構
成する材料としては、高純度ガラス状カーボン、ステン
レス鋼、石英、サファイア、アルミナ等のセラミック
ス、あるいは、アルミニウム、およびその合金、チタ
ン、マグネシウムなどのうちから選択されて用いられ
る。通常の洗浄処理に用いるウエット処理用ノズルに備
えられる場合は、振動板４６の材料としてはステンレス
鋼で十分であるが、洗浄液が比較的強い酸やフッ酸であ
る場合は、サファイア又はアルミナ等のセラミックスか
ら構成することが、ウエット処理液に対する耐性が優
れ、劣化を防止できるため、ウエット処理を行う上で好
ましい。

【００３１】また、超音波振動子４８は、２０ｋＨｚ〜
１０ＭＨｚの範囲の周波数の超音波振動を出力可能なも
のであることがウエット処理を行う場合に実用的な点で
好ましく、特に、保持可能な処理液層の厚さの観点から
０．２ＭＨｚ以上の周波数がより好ましい。また、超音
波振動子４８から発せられた超音波振動の振動板４６内
での波長λの長さは、振動板４６がステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ３１６Ｌ）製の場合、約０．６ｍｍから約３００ｍｍ
の範囲となる。

【００３２】振動板４６は、図１に示すその厚み寸法Ｔ
が、超音波振動子４８から発せられた超音波振動の該振
動板４６内での波長をλとしたときに、 Ｔ＝（ｎ±０．１）・λ／２ （但し、ｎは２以
上の整数） に設定される。ｎの値としては、３〜７、特に５が好ま
しい。ここで、厚み寸法Ｔは、λ±０．３ｍｍ、３λ／
２±０．３ｍｍ、５λ／２±０．３ｍｍ、７λ／２±
０．３ｍｍのように、各数値に対して幅を持った範囲内
に設定されることが好ましい。これは、温度変化等の条
件を考慮したものである。このように厚み寸法Ｔを設定
することにより、超音波振動子４８からの超音波振動を
有効に伝播させることができ、超音波振動子部分４０が
備えられた洗浄用ノズル１を用いてウエット処理を行う
と、超音波振動（超音波エネルギー）が洗浄液２に十分
付与でき、効率良くウエット処理を行うことができる。

【００３３】また、排出通路２２側には、圧力制御部
（図示略）が設けられ、この圧力制御部（処理液回収手
段）は、被処理基板Ｗに接触した洗浄液２が洗浄後に排
出通路２２に流れるように、第１の開口部２１ｂの大気
と接触している洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処
理基板の被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧との均衡
がとれるように設けられている。上記圧力制御部は、排
出口２２ａ側に設けられた減圧ポンプにより構成されて
いる。したがって、排出通路２２側の圧力制御部に減圧
ポンプを用いて、この減圧ポンプで連結部２３の洗浄液
を吸引する力を制御して、第１の開口部２１ｂの大気と
接触している洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処理
基板Ｗの被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧との均衡
をとるようになっている。つまり、第１の開口部２１ｂ
の大気と接触している洗浄液の圧力Ｐw （洗浄液の表面
張力と基板Ｗの被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧Ｐ
a との関係をＰw≒ Ｐaとすることにより、第１の開口
部２１ｂを通じて被処理基板Ｗに供給され、被処理基板
Ｗに接触した洗浄液は、洗浄用ノズルの外部に漏れるこ
となく、排出通路２２に排出される。すなわち、洗浄用
ノズルから被処理基板Ｗ上に供給した洗浄液は、被処理
基板Ｗ上の洗浄液を供給した部分（第１と第２の開口部
２１ｂ,２２ｂ）以外の部分に接触することなく、基板
Ｗ上から除去される。

【００３４】ここでの被処理基板Ｗの洗浄の際、処理領
域３５に洗浄液２を供給した状態で上記超音波振動子４
８により超音波振動を付与し、洗浄液２と共働して被処
理基板Ｗを洗浄できる。また、本実施形態の洗浄用ノズ
ル１に備えられた超音波振動子部分４０は、超音波振動
子４８から超音波振動が放射されると超音波振動が振動
板４６に伝播されるが、振動板４６の厚み寸法Ｔが上記
の様に設定されているので、伝播した超音波振動が、振
動板４６の主面と反対側の対向面４６Ａ（超音波振動子
４８が設けられた面と反対側の面）から処理領域３５の
洗浄液２に効率良く放射される。

【００３５】洗浄用ノズル１の各開口部２１ｂ,２２ｂ
と、被処理基板Ｗとの間の距離Ｈは、８ｍｍ以下で被処
理基板Ｗと接触しない範囲がよく、好ましくは６ｍｍ以
下で基板Ｗと接触しない範囲、より好ましくは３ｍｍ以
下で基板Ｗと接触しない範囲とするのがよい。８ｍｍを
越えると、基板Ｗと洗浄用ノズルとの間に所望の洗浄液
を満たすことが困難となり、洗浄が難しくなるからであ
る。

【００３６】洗浄用ノズル１の接液面となる対向面４６
Ａは、ＰＦＡ等のフッ素樹脂や、用いる洗浄液によって
は最表面がクロム酸化物のみからなる不動態膜面のステ
ンレス、あるいは酸化アルミニウムとクロム酸化物の混
合膜を表面に備えたステンレス、オゾン水に対しては電
解研磨表面を備えたチタン等からなる対応面被覆部とす
ることが、洗浄液への不純物の溶出がないことから好ま
しい。接液面を石英により構成すれば、フッ酸を除く全
ての洗浄液の供給に好ましい。本実施の形態における洗
浄用ノズルの構成においては、処理領域３５に供給され
る洗浄液２が水素水である場合は、水素水超音波洗浄用
ノズルとして用いることができ、洗浄液がオゾン水であ
る場合は、オゾン水超音波洗浄用ノズルとして用いるこ
とができ、洗浄液が純水である場合は、純水リンス超音
波洗浄用ノズルとして用いることができる。

【００３７】本実施形態の洗浄用ノズル１では、振動部
（振動板）４６の厚み寸法が、振動部４６における超音
波振動の半波長λ／２の２倍を越えた整数倍に設定され
てなることにより、振動部４６の対向面４６Ａと被処理
物Ｗの被処理面Ｗ１との間の処理領域３５において、気
泡が巻き込まれて処理液２が無い領域が存在した場合に
も、振動板４６の厚み寸法Ｔを従来より大きく設定し
て、上記気泡の領域において被処理基板Ｗから反射した
超音波により振動板４６で熱が発生した場合に、振動部
４６から超音波振動子４８へ伝播する熱を低減し、超音
波振動子４８の温度が上昇することを防止して、超音波
振動子４８が破損してしまうことを防止できるととも
に、振動板４６と超音波振動子４８との接続部分が破損
してしまい動作不良を起こすことを防止することができ
る。例えば、超音波振動における周波数が１ＭＨｚに設
定されるとともに、振動部４６がステンレス鋼（ＳＵＳ
３１６Ｌ）とされた場合には、その半波長λ／２は３ｍ
ｍ程度となり、振動部４６の厚さ寸法Ｔを従来の３ｍｍ
程度よりも厚く設定し，６ｍｍとすることができ、これ
により振動板４６から伝播する熱量を超音波振動子４６
以外の部分に逃がす割合を増大して、超音波振動子４６
へ伝播する熱量を低減することができ、超音波振動子４
８の温度が上昇することを防止して、超音波振動子４８
が破損してしまうことを防止できる。

【００３８】さらに、振動部４６の厚み寸法Ｔが、振動
部４６における超音波振動の半波長λ／２の３倍から７
倍の範囲に設定されてなることが好ましく、より好まし
くは、振動部４６の厚み寸法Ｔが、振動部４８における
超音波振動の半波長λ／２の５倍に設定されてなること
により、振動部４６において超音波振動を効率よく伝播
することが可能となるとともに、振動部４６の厚み寸法
Ｔを従来より大きく設定して、振動部４６から超音波振
動子４８へ伝播する熱をより低減し、超音波振動子４８
の温度が上昇することをいっそう防止して、超音波振動
子４８が破損してしまうことをさらに防止できる。

【００３９】ここで、振動部４６の厚み寸法Ｔが、振動
部４６における超音波振動の半波長λ／２の７倍以上の
範囲に設定された場合には、共振点が温度変動等によっ
て容易に変動してしまうため、超音波振動子４８から超
音波振動を出させるための超音波周波電気信号の発振器
の調整がうまくいかず、振動板４６が振動しにくくなっ
てしまうので好ましくない。また、振動板４６の厚み寸
法Ｔが、振動部４６における超音波振動の半波長の３倍
以下の範囲に設定された場合には、振動部４６の対向面
４６Ａと被処理物Ｗの被処理面Ｗ１との間の処理領域３
５において、気泡が巻き込まれて処理液２が無い領域が
存在した場合に、振動部４６から超音波振動子４８へ伝
播する熱を低減する度合いが小さく、超音波振動子４８
の温度が上昇してしまうため、好ましくない。さらに、
振動部４６の厚み寸法が、振動部４６における超音波振
動の半波長λ／２の５倍に設定されてなることにより、
超音波振動子４８を安定した駆動と、かつ、処理領域３
５からウエット処理液２が無くなっても、超音波振動子
４８における破損可能性の低減とを最適にできる。

【００４０】ここで、振動部４６の厚み寸法Ｔと、振動
部４６の共振周波数との関係について説明する。図３は
９λ／２の厚さの振動板にλ／２の厚さの被覆部を有す
る場合におけるインピーダンス特性を示すグラフ、図４
は５λ／２の厚さの振動板にλ／２の厚さの被覆部を有
する場合におけるインピーダンス特性を示すグラフであ
る。

【００４１】図３，図４に示すように、超音波振動に対
する周波数インピーダンス特性としては、その極大値と
なっている点が振動板の共振点を示しており、図３に示
すように、９λ／２の厚さの振動板におけるインピーダ
ンス特性は、共振点どうしの周波数の間隔幅が狭く、さ
らに、超音波振動の周波数が大きくなるに従って共振点
どうしの周波数の間隔幅がさらに狭くなっている。この
ため、温度状態などの振動条件が変化した場合に、振動
板を効率よく振動させることが困難である。これに対
し、本実施形態においては、図４に示すように、５λ／
２の厚さの振動板４６におけるインピーダンス特性が、
図３に示すものに比べて共振点どうしの周波数の間隔幅
が広くなっており、温度状態などの振動条件が変化した
場合でも、振動板４６を効率よく振動させて、ウエット
処理用ノズルの動作を安定化することが可能となる。

【００４２】上記のように、本実施形態においては、振
動部４６の厚み寸法Ｔが、振動部４６における超音波振
動の半波長λ／２の３倍から７倍の範囲に設定されてな
ることにより、振動部４６において超音波振動を効率よ
く伝播することが可能となるとともに、振動部４６の厚
み寸法Ｔを従来より大きく設定して、振動部４６から超
音波振動子４８へ伝播する熱を低減し、超音波振動子４
８の温度が上昇することを防止して、超音波振動子４８
の破損可能性を低減することができる。さらに、振動部
４６の厚み寸法Ｔが、振動部４８における超音波振動の
半波長λ／２の５倍に設定されてなることにより、振動
部４６において超音波振動をさらに効率よく伝播するこ
とが可能となるとともに、振動部４６の厚み寸法Ｔを従
来より大きく設定して、振動部４６から超音波振動子４
８へ伝播する熱をより低減し、超音波振動子４８の温度
が上昇することをいっそう防止して、超音波振動子４８
が破損してしまうことをさらに防止でき、超音波振動子
４８を安定した駆動と、かつ、処理領域３５からウエッ
ト処理液２が無くなっても、超音波振動子４８における
破損可能性の低減とを最適にすることが可能となる。

【００４３】なお、上記の実施形態においては、振動部
４６の厚み寸法Ｔのみに注目して説明したが、それ以外
の構成に関しては、本発明の趣旨を変更しない範囲で、
どのような変更も可能である。

【００４４】本実施形態では、洗浄用ノズル１を被処理
基板Ｗの上面側（一方の被処理面側）に設けた場合につ
いて説明したが、図５に示すように被処理基板Ｗの下面
側にも洗浄用ノズル１ａを設けてもよい。この洗浄用ノ
ズル１ａは、連結部２３に超音波振動子４８が設けられ
ておらず、それ以外は先に述べた洗浄用ノズル１と同様
の構成である。

【００４５】以下、本発明に係るウエット処理用ノズル
およびウエット処理装置の第２実施形態を、図面に基づ
いて説明する。 ［第２の実施形態］図６は、本実施形態におけるウエッ
ト処理用ノズルを示す断面図である。本実施形態におい
て、図１〜図５に示す第１実施形態と異なるのは被覆部
４９の構成に関する点であり、これ以外の対応する構成
要素には同一の符号を付してその説明を省略する。

【００４６】振動部４６の接液面となる対向面４６Ａに
は、図６に示すように、この対向面４６Ａを覆うように
処理液２に対する耐反応性および／または耐熱性を有す
る被覆部４９が設けられる。この被覆部４９は、適応さ
れるウエット処理に応じてその構成が異なるものとされ
る。

【００４７】ここで、ウエット処理としては、洗滌、剥
離、現像、ウエットエッチング、メッキ、研磨等の処理
を適用することができる。このとき、振動部４６付近に
供給する処理液２としては、洗浄処理の場合は、超純
水、電解イオン水、オゾン水、水素水、等が用いられ、
特に、カソード水（電解イオン水のうち、カソード電極
側で生成したもの）、水素水、アンモニア添加水素水等
が安定して使用でき、剥離処理の場合には、希ＮａＯ
Ｈ、希ＫＯＨ等無機アルカリや、アミン系剥離液等が用
いられ、現像処理の場合には、希ＮａＯＨ、希ＫＯＨ等
無機アルカリや、トリメチルアンモニウムハイトライト
希釈液等が用いられ、ウエットエッチングの場合には、
フッ素酸エッチング液等が用いられ、メッキ処理の場合
には、Ｃｕ用、Ａｇ用、Ａｕ用メッキ液等が用いられ、
研磨処理の場合には、ＳｉＯ２ スラリー、Ａｌ２Ｏ３
スラリー、ダイヤモンドスラリー等が用いられる。これ
に対応して、被覆部４９は、石英、高純度アルミナ、サ
ファイヤ、ＰＦＡ、４フッ化エチレン等のフッ素樹脂
や、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）高純度ガ
ラス状カーボン等、からなることが可能である。さら
に、用いる処理液２によっては、振動部４６が、被覆部
４９としての最表面がクロム酸化物のみからなる不動態
膜面のステンレス（ＳＵＳ３１６Ｌ等）からなること
や、振動部４６が、酸化アルミニウムとクロム酸化物の
混合膜を被覆部４９として表面に備えたステンレスとさ
れることや、処理水２がオゾン水とされた場合には被覆
部４９としての電解研磨表面を備えたチタン等とされる
ことができる。

【００４８】本実施形態の被覆部４９の厚み寸法Ｔ’
は、図６に示すように、被覆部４９における超音波振動
の波長λ’に対してλ’／２０以下または（１±０．
１）・λ’／２に設定されてなることにより、超音波振
動子４８から被処理物Ｗに照射される振動エネルギーの
ロス分を略最小化して、ウエット処理を安定化すること
ができる。具体的には、超音波振動における周波数が１
ＭＨｚに設定されるとともに、被覆部４９がステンレス
鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）とされた場合には、その半波長
λ’／２は３ｍｍ程度として設定することができ、これ
により振動板４６から伝播する熱量を超音波振動子４６
以外の部分に逃がす割合を増大して、超音波振動子４６
へ伝播する熱量を低減することができ、超音波振動子４
８の温度が上昇することを防止して、超音波振動子４８
が破損してしまうことを防止できる。

【００４９】被覆部４９の厚み寸法Ｔ’が被覆部４９に
おける超音波振動の波長λ’に対して、λ’／２０倍以
下の範囲に設定された場合には、振動部４６の対向面４
６Ａにおいて処理液２との反応が生ぜず、かつ、充分超
音波振動を処理液２に伝播させることができるため好ま
しい。また、被覆部４９の厚み寸法Ｔ’が、被覆部４９
における超音波振動の波長λ’に対してλ’／２０より
大きくλ’／２未満の範囲およびλ’／２より大きい範
囲に設定された場合には、超音波振動子４８から被処理
物Ｗに照射される振動エネルギーのロス分が増大してし
まい好ましくない。

【００５０】ここで、被覆部４９の厚み寸法Ｔ’に対す
る、λ’／２０以下、λ’／２倍という数値は、振動部
４６および被覆部４９の温度状態や、付与される超音波
振動の周波数に依って最も効率のいい状態を選択できる
よう定義幅を有するものとされ、厳密にλ’／２０や、
λ’／２倍の値とは限らない。具体的には、超音波振動
子４８から発せられた超音波振動の被覆部４９内での波
長をλ’としたときに、λ’／２０以下という数値範囲
は、λ’／１２０〜λ’／２０の範囲以下であることが
好ましく、より好ましくは、λ’／１２０〜λ’／６０
の範囲以下とされるものである。また、λ’／２という
数値は、具体的には、λ’／２±０．５ｍｍの範囲とさ
れていることが好ましく、より好ましくはλ’／２±
０．０５ｍｍの範囲、さらにいは、λ’／２±０．０１
ｍｍの範囲内とされることができる。このように被覆部
４９の厚みを設定することにより、超音波振動子４８か
らの超音波振動を有効に伝播させることができるので、
このような優れた特性を有する超音波振動子部分４０が
備えられたウエット処理用ノズル１を用いてウエット処
理を行うと、超音波振動（超音波エネルギー）が処理液
に十分付与され、効率良くウエット処理を行うことがで
きる。

【００５１】本実施形態のウエット処理用ノズル１にお
いては、上記の実施形態と同様の効果を奏することがで
きるとともに、被覆部４９が設けられており、この被覆
部４９が、処理液２に対する耐反応性および／または耐
熱性を有してなることにより、振動部４６の対向面４６
Ａに直接処理液２が接触しない上、処理面被覆部４９表
面がウエット処理されてしまうことがないため、振動部
４６が処理液２および超音波振動により劣化してしまう
ことをさらに低減し、振動部４６の寿命をより長くする
ことができ、さらに、振動部４６および処理面被覆部４
９の成分が処理液２中に混合して被処理物Ｗの被処理面
Ｗ１を汚染してしまうことを防止できる。同時に、振動
部４６の対向面４６Ａと被処理物Ｗの被処理面Ｗ１との
間の処理領域３５において、気泡が巻き込まれて処理液
２が無い領域が存在して振動部４６が発熱した場合に、
たとえ処理液２に接している振動部４６が温度上昇して
も、振動部４６内で有効に熱伝導が生じ、被覆部４９を
通し、処理液２に熱を放出することができるため、振動
部４６が破損することを防止できる。

【００５２】また、本実施形態のウエット処理用ノズル
１では、被覆部４９の厚みＴ’をλ’／２０以下または
（１±０．１）・λ’／２とすることにより、超音波振
動子４８、振動部４６からの超音波振動を有効に伝播さ
せることができるので、このような優れた特性を有する
超音波振動子部分４０が備えられたウエット処理用ノズ
ル１を用いてウエット処理をおこなうと、超音波振動
（超音波エネルギー）が処理液に十分付与され、効率良
くウエット処理を行うことができる。さらに、振動部４
６のみならず、被覆部４９が設けられることによりその
厚み寸法Ｔ’分だけ振動部４６の厚み寸法Ｔが厚く設定
された状態となるため、振動部４６の対向面４６Ａと被
処理物Ｗの被処理面Ｗ１との間の処理領域３５におい
て、気泡が巻き込まれて処理液２が無い領域が存在した
場合にも、気泡の領域において被処理基板Ｗから反射し
た超音波により振動板４６で熱が発生しても、振動部４
６から超音波振動子４８へ伝播する熱を低減し、超音波
振動子４８の温度が上昇することを防止して、超音波振
動子４８が破損してしまうことを防止できるとともに、
振動板４６と超音波振動子４８との接続部分が破損して
しまい動作不良を起こすことを防止することができる。

【００５３】また、本実施形態においても、図５に示す
第１実施形態のように、被処理基板Ｗの下面側にも洗浄
用ノズル１ａを設けることができる。

【００５４】以下、本発明に係るウエット処理用ノズル
およびウエット処理装置の第３実施形態を、図面に基づ
いて説明する。 ［第３の実施形態］図７は、本実施形態におけるウエッ
ト処理用ノズルを示す断面図である。本実施形態におい
て、図１〜図５に示す第１実施形態と異なるのは冷却管
５０の構成に関する点であり、これ以外の対応する構成
要素には同一の符号を付してその説明を省略する。

【００５５】振動部４６には、図７に示すように、この
振動部４６を冷却するための冷却手段として、連結部２
３における導入通路２１側および排出通路２２側の両側
面に、それぞれ冷却管（冷却体）５０，５０が設けられ
ている。

【００５６】この冷却管５０，５０は、振動部４６また
は導入通路２１，排出通路２２等と略同等の材質からな
るものとされ、振動部４６側面に対向面４６Ａと平行状
態、つまり、図７の紙面と略垂直方向に延在しており、
この方向における振動部４６の長さ寸法とほぼ等しい長
さ寸法に設定されている。冷却管５０はその流路方向と
直行する方向の断面形状が略半円形の半割円筒である冷
却体５０，５０とされ、この冷却体５０，５０の開口し
た部分が、振動部４６の側面によって覆われるように密
閉接続されている。冷却管５０の両端は、冷却配管５０
ａを介してそれぞれ排出口２２ａおよび図示しない減圧
ポンプに接続され、これら、排出管２２と冷却管５０と
減圧ポンプとは、処理領域３５から排出液（処理液）２
を吸引して排出するため処理液回収手段を構成してい
る。

【００５７】本実施形態のウエット処理用ノズル１にお
いて、処理液導入手段から導入開口部２１ｂを介して被
処理基板Ｗ上の処理領域３５に供給された洗浄液２は、
排出開口部２２ｂから排出通路２２を通り、排出口２２
ａから振動部４６の両サイドに位置する冷却管５０，５
０内部を経て、減圧ポンプにより、排出される。つま
り、冷却手段が、振動部４６の外側に位置する冷却管５
０に冷却液としての排出液（処理液）２を流通する。

【００５８】これにより、本実施形態のウエット処理用
ノズル１においては、上記の実施形態と同様の効果を奏
することができるとともに、さらに、振動部４６を冷却
液２により冷却することが可能となるため、振動部４６
の温度上昇を防止することができ、処理領域３５に処理
液２が無い部分ができたとしても、振動部４６を冷却液
２により冷却することが可能となるため、振動部４６の
温度上昇をより確実に防止することができ、超音波振動
子４８と振動部４６との接続部分および、超音波振動子
４８の温度上昇を防止して、超音波振動子部分４０にお
ける破損可能性を低減することが可能である。

【００５９】また、排出液２を冷却液とすることによ
り、振動部４６の冷却用として冷却液供給排出手段を特
設する必要がなく、処理液導入排出手段によって冷却液
を供給排出して冷却管５０，５０内部に流通させること
で振動部４６の冷却をおこなうことができるため、ウエ
ット処理用ノズル１としての製造コストおよびランニン
グコストの低減を図ることができる。さらに、排出液２
を冷却液としているため、振動部４６の温度状態に依存
することなく処理液２を供給して、かつ、振動部４６の
冷却をおこなうことができる。

【００６０】なお、本実施形態では冷却体５０が接続さ
れる振動部４６の側面を略平面としているが、図８に示
すように、振動部４６側面に冷却体５０に対応した冷却
溝（溝部）５０Ａを設けて、この冷却溝５０Ａを冷却管
５０で覆い、冷却液２の流通する冷却通路としての断面
積を増大して、冷却液の流量を増加可能とするととも
に、振動部４６に対して冷却液２が接触する面積を増大
して、さらに冷却効率を向上することもできる。

【００６１】また、本実施形態においては、冷却管５
０，５０の内表面、振動部４６の側面、および、冷却溝
５０Ａ内表面のように、冷却液としての処理液２に接触
する部分に関しては、図６に示した第２実施形態におけ
る対向面被服部４９と同質の表面コーティング、表面改
質等をおこなうことも可能である。また、図９に示すよ
うに、冷却体５０および冷却溝５０Ａの内部に冷却管５
０Ｂとして図６に示した第２実施形態における被覆部４
９と同質の冷却内管５０Ｂを設けることもできる。これ
らの場合、処理液２により劣化してしまうことをさらに
低減し、振動部４６の寿命をより長くすることができ
る。

【００６２】なお、冷却管５０を振動部４６側面以外の
部分、例えば超音波振動子４８の接続されている主面上
に位置するように設けることや、振動部４６表面に溝部
を設けるのではなく、振動部４６内部に冷却液の流通す
る冷却孔を設けることもできる。このように冷却孔を設
けた場合、冷却液と振動部４６との接触面積がさらに増
大して、よりいっそうの冷却効果を得ることが可能にな
る。

【００６３】以下、本発明に係るウエット処理用ノズル
の第３実施形態を、図面に基づいて説明する。 ［第４の実施形態］図１０は、本実施形態におけるウエ
ット処理用ノズルを示す断面図である。本実施形態が、
第１実施形態から第３実施形態と基本的に異なる点は、
振動部を４６を、超音波振動子４８の被処理基板Ｗと反
対側に配置した点である。図１０においても、図１〜９
と共通する構成要素には同一の符号を付してその詳細な
説明を省略する。

【００６４】本実施形態では、超音波振動子４８の被処
理基板Ｗ側に、被覆部４９が設けられ、この被覆部４９
が、導入通路２１と排出通路２２とを連結する連結部２
３となっている。被覆部４９は処理液２に接するので、
第２実施形態において説明したように、処理液２に応じ
て、耐反応性、耐熱性に優れた材質を用いて形成され
る。

【００６５】被覆部４９の厚み寸法Ｔ’と、被覆部にお
ける超音波振動の波長λ’との関係は、下記のいずれか
の関係に設定されている。 Ｔ’≦λ’／２０ Ｔ’＝（１±０．１）・λ’／２

【００６６】厚み寸法Ｔ’を上記のように設定すべき理
由を、図１１を用いて説明する。図１１は、被覆部４９
の厚み寸法Ｔ’と、超音波振動の透過率との関係を示す
グラフである。図１１において、実線は、被覆部４９に
よる振動の吸収を考慮しない理論値であり、被覆部にお
ける超音波振動の波長λ’の１／２、すなわち、半波長
毎に極大値１．０（１００％）を取る。しかしながら、
実際には×印の実験値が示すように、半波長毎の極大値
は図中破線で示すように徐々に減衰する。図１１のグラ
フから理解されるように、透過率は、被覆部４９の厚み
寸法Ｔ’がゼロから離れるにつれ減少し、波長λ’の１
／４で最小となる。したがって、被覆部４９の厚み寸法
Ｔ’として最も望ましい値は、限りなくゼロに近い値で
あるが、実用上λ’／２０以下であれば差し支えない。
被覆部４９の厚み寸法Ｔ’として次に望ましい値は、最
初の極大値となるλ’／２であるが、実用上（１±０．
１）・λ’／２の範囲でであれば差し支えない。

【００６７】なお、超音波振動の波長λ’は、超音波振
動の周波数と被覆部の材質でほぼ決定されるが、温度に
よっても若干変動する。したがって、上記の式における
波長λ’は、標準的な使用状態における標準的な温度条
件において判断される。

【００６８】本実施形態では、超音波振動子４８の被処
理基板Ｗ側と反対側に、振動部４６が設けられている。
この振動部４６の厚み寸法Ｔ”は、超音波振動子付近の
熱を分散させるために、充分大きな値とされている。こ
の場合、振動部４６は、超音波振動子４８と処理液２と
の間に介在しないので、超音波振動の透過率を考慮する
必要がない。したがって、その厚み寸法Ｔ”は、振動部
４６における超音波振動の波長λを考慮することにな
く、連続的な任意の範囲で選択可能である。また、振動
部４６の材質は、被覆部４９の材質同一としても良い
が、別の材質を用いることが好ましい。振動部４６は、
処理液２に対する耐反応性、耐摩耗性等を考慮しなくて
良いので、安価な材料で形成することができる。また、
振動部４６は、熱容量が大きいと共に、熱伝導性に優れ
て外部に熱を放出しやすいものが好ましい。

【００６９】本実施形態においても、この振動部４６に
冷却手段手段が設けられている。その具体的な構成は、
第３の実施形態の図９と同じであるので、説明を省略す
る。

【００７０】本実施形態によれば、振動部４６を超音波
振動子４８の被処理基板Ｗ側と反対側に配置したので、
処理液２に伝達する超音波振動の減衰を考慮することな
く充分に厚く、かつ加工精度にこだわらずに形成するこ
とができる。そのため、振動部４０に設けられた冷却手
段と相俟って、超音波振動子４８の加熱による損傷を、
効率的に回避することができる。さらに、超音波振動子
４８の被処理基板Ｗ側には被覆部４９を配置したので、
処理液２によって、超音波振動子４８が損なわれること
がない。また、この被覆部４９の厚み寸法Ｔ’は所定の
値とされているので、被覆部４９によって超音波振動が
減衰し、透過率が低下することを防止できる。したがっ
て、超音波振動子４８を損傷することなく、効率的なウ
エット処理が可能となる。

【００７１】以下、本発明に係るウエット処理装置の第
５実施形態を、図面に基づいて説明する。 ［第５の実施形態］本実施形態は、上記のいずれかの実
施形態のウエット処理用ノズルを具備した洗浄装置（ウ
ェット処理装置）の一例である。図１２は、本実施形態
におけるウエット処理装置５１の概略構成を示す図であ
って、例えば被処理基板として数百ｍｍ角程度の大型の
ガラス基板（以下、単に基板という）を枚葉洗浄するた
めの装置である。図中符号５２は洗浄部、５３はステー
ジ（基板保持手段）、５４、５５、５６、８９は洗浄用
ノズル、５７は基板搬送ロボット、５８はローダカセッ
ト、５９はアンローダカセット、６０は水素水・オゾン
水生成部、６１は洗浄液再生部、Ｗはガラス基板（被処
理基板）である。

【００７２】図に示すように、装置上面中央が洗浄部５
２となっており、基板Ｗを保持するステージ５３が設け
られている。ステージ５３には、基板Ｗの形状に合致し
た矩形の段部が設けられ、この段部上に基板Ｗが嵌め込
まれて、基板Ｗの表面とステージ５３の表面が面一状態
でステージ５３に保持されるようになっている。また、
段部の下方には空間部が形成され、空間部にはステージ
５３の下方から基板昇降用シャフト（図示略）が突出し
ている。基板昇降用シャフトの下端にはシリンダ等のシ
ャフト駆動源（図示略）が設けられ、基板搬送ロボット
５７による基板Ｗの受け渡しの際にシリンダの作動によ
り上記基板昇降用シャフトが上下動し、シャフトの上下
動に伴って基板Ｗが上昇または下降するようになってい
る。

【００７３】ステージ５３を挟んで対向する位置に一対
のラックベース６２が設けられ、これらラックベース６
２間に洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９が架設され
ている。洗浄用ノズルは並列配置された４本のノズルか
らなり、各洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９が異な
る洗浄方法により洗浄を行うものとなっている。本実施
の形態の場合、これら４本のノズルは、基板にオゾンを
供給するとともに紫外線ランプ６３から紫外線を照射す
ることによって主に有機物を分解除去する紫外線洗浄用
ノズル５４、オゾン水を供給しつつ超音波振動子本体４
８により超音波振動を付与して洗浄するオゾン水超音波
洗浄用ノズル５５、水素水を供給しつつ超音波振動子本
体４８により超音波振動を付与して洗浄する水素水超音
波洗浄用ノズル５６、純水を供給してリンス洗浄を行う
純水リンス洗浄用ノズル８９、である。

【００７４】各洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９
は、プッシュ・プル型ノズル（省液型ノズル）と呼ばれ
るものである。また、これら４本のノズルのうちオゾン
水超音波洗浄用ノズル５５と、水素水超音波洗浄用ノズ
ル５６は、図１〜図９を用いて説明したいずれかの実施
形態の洗浄用ノズルと同様の構成のもの、あるいは１本
の洗浄用ノズルにつき、図１〜図９を用いて説明したい
ずれかの実施形態の洗浄用ノズルが複数設けられたもの
（図１２では、１本の洗浄用ノズルにつき、導入通路２
１と排出通路２２との連結部２３およびこの連結部２３
に設けられた超音波振動子部分４０（又は超音波振動子
４０ａ）および第１、第２の開口部２１ｂ，２２ｂはそ
れぞれ３組づつ設けられており、第１と第２の開口部２
１ｂ，２２ｂはそれぞれ３組合わせて基板Ｗの幅以上の
長さに延びている。）である。ただし、ここでは図示の
都合上、超音波振動子４８のみを図示し、洗浄液導入
部、洗浄液排出部等に区分した図示は省略する。また、
洗浄用ノズル５４は、超音波振動子本体４８に代えて紫
外線ランプ６３が設けられた以外は上記実施形態の洗浄
用ノズルと略同様の構成であり、洗浄用ノズル８９は、
超音波振動子本体４８が設けられていない以外は、上記
実施形態の洗浄用ノズルと略同様の構成である。ただ
し、ここでは図示の都合上、洗浄液導入部、洗浄液排出
部等に区分した図示は省略する。この洗浄装置５１で
は、上記４本の洗浄ノズルが基板Ｗの上方で基板Ｗとの
間隔を一定に保ちながらラックベース６２に沿って順次
移動することにより、基板Ｗの被洗浄面全域（被処理面
全域）が４種類の洗浄方法により洗浄される構成となっ
ている。

【００７５】各洗浄用ノズルの移動手段（ノズル・被処
理物相対移動手段）としては、各ラックベース６２上の
リニアガイドに沿って水平移動可能とされたスライダが
それぞれ設けられ、各スライダの上面に支柱がそれぞれ
立設され、これら支柱に各洗浄用ノズル５４，５５，５
６，８９の両端部が固定されている。各スライダ上には
モータ等の駆動源が設置されており、各スライダがラッ
クベース６２上を自走する構成となっている。そして、
装置の制御部（図示略）から供給される制御信号により
各スライダ上のモータがそれぞれ作動することによっ
て、各洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９が個別に水
平移動する構成となっている。また、上記支柱にはシリ
ンダ（図示略）等の駆動源が設けられ、支柱が上下動す
ることにより各洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９の
高さ、すなわち各洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９
と基板Ｗとの間隔がそれぞれ調整可能となっている。

【００７６】洗浄部５２の側方に、水素水・オゾン水生
成部６０と洗浄液再生部６１とが設けられている。水素
水・オゾン水生成部６０には、水素水製造装置６４とオ
ゾン水製造装置６５とが組み込まれている。いずれの洗
浄液も、純水中に水素ガスやオゾンガスを溶解させるこ
とによって生成することができる。そして、水素水製造
装置６４で生成された水素水が、水素水供給配管６６の
途中に設けられた送液ポンプ６７により水素水超音波洗
浄用ノズル５６に供給されるようになっている。同様
に、オゾン水製造装置６５で生成されたオゾン水が、オ
ゾン水供給配管６８の途中に設けられた送液ポンプ６９
によりオゾン水超音波洗浄用ノズル５５に供給されるよ
うになっている。なお、純水リンス洗浄用ノズル８９に
は製造ライン内の純水供給用配管（図示略）から純水が
供給されるようになっている。

【００７７】そして、水素水用フィルタ７０を通した後
の水素水は、再生水素水供給配管７６の途中に設けられ
た送液ポンプ７７により水素水超音波洗浄用ノズル５６
に供給されるようになっている。同様に、オゾン水用フ
ィルタ７１を通した後のオゾン水は、再生オゾン水供給
配管７８の途中に設けられた送液ポンプ７９によりオゾ
ン水超音波洗浄用ノズル５５に供給されるようになって
いる。また、水素水供給配管６６と再生水素水供給配管
７６は水素水超音波洗浄用ノズル５６の手前で接続さ
れ、弁８０によって水素水超音波洗浄用ノズル５６に新
しい水素水を導入するか、再生水素水を導入するかを切
り換え可能となっている。同様に、オゾン水供給配管６
８と再生オゾン水供給配管７８はオゾン水超音波洗浄用
ノズル５５の手前で接続され、弁８１によってオゾン水
超音波洗浄用ノズル５５に新しいオゾン水を導入する
か、再生オゾン水を導入するかを切り換え可能となって
いる。なお、各フィルタ７０，７１を通した後の水素水
やオゾン水は、パーティクルが除去されてはいるもの
の、液中気体含有濃度が低下しているため、配管を通じ
て再度水素水製造装置６４やオゾン水製造装置６５に戻
し、水素ガスやオゾンガスを補充するようにしてもよ
い。

【００７８】洗浄部５２の側方に、ローダカセット５
８、アンローダカセット５９が着脱可能に設けられてい
る。これら２つのカセット５８、５９は、複数枚の基板
Ｗが収容可能な同一の形状のものであり、ローダカセッ
ト５８に洗浄前（ウエット処理前）の基板Ｗを収容し、
アンローダカセット５９には洗浄済（ウエット処理後）
の基板Ｗが収容される。そして、洗浄部５２とローダカ
セット５８、アンローダカセット５９の中間の位置に基
板搬送ロボット５７が設置されている。基板搬送ロボッ
ト５７はその上部に伸縮自在なリンク機構を有するアー
ム８２を有し、アーム８２は回転可能かつ昇降可能とな
っており、アーム８２の先端部で基板Ｗを支持、搬送す
るようになっている。

【００７９】上記構成の洗浄装置５１は、例えば洗浄用
ノズル５４，５５，５６，８９と基板Ｗとの間隔、洗浄
用ノズルの移動速度、洗浄液の流量等、種々の洗浄条件
をオペレータが設定する他は、各部の動作が制御部によ
り制御されており、自動運転する構成になっている。し
たがって、この洗浄装置５１を使用する際には、洗浄前
の基板Ｗをローダカセット５８にセットし、オペレータ
がスタートスイッチを操作すれば、基板搬送ロボット５
７によりローダカセット５８からステージ５３上に基板
Ｗが搬送され、ステージ５３上で各洗浄用ノズル５４，
５５，５６，８９により紫外線洗浄、オゾン水超音波洗
浄、水素水超音波洗浄、リンス洗浄が順次自動的に行わ
れ、洗浄後、基板搬送ロボット５７によりアンローダカ
セット５９に収容される。

【００８０】本実施形態の洗浄装置５１においては、本
発明の実施形態の洗浄用ノズル５５，５６と、上記のノ
ズル・被処理物相対移動手段とを備えたことにより、上
記本実施形態のウエット処理用ノズル（洗浄用ノズル）
の利点を有したまま基板Ｗの被洗浄面全域をウエット処
理（洗浄）することができる。

【００８１】また、本実施形態の洗浄装置５１は、４本
の洗浄用ノズル５４，５５，５６，８９の各々が、紫外
線洗浄、オゾン水超音波洗浄、水素水超音波洗浄、リン
ス洗浄といった異なる洗浄方法により洗浄処理する構成
であるため、本装置１台で種々の洗浄方法を実施するこ
とができる。したがって、例えば、水素水超音波洗浄、
オゾン水超音波洗浄により微細な粒径のパーティクルを
除去し、さらにリンス洗浄で基板表面に付着した洗浄液
も洗い流しながら仕上げの洗浄を行う、というように種
々の被除去物を充分に洗浄除去することができる。ま
た、本実施の形態の洗浄装置５１の場合、上記の省液型
の洗浄用ノズルが備えられているため、洗浄液の使用量
を低減することができ、しかも、ノズルの下方に液溜ま
りが生じないため、高効率、高清浄度の基板洗浄を実施
することができる。したがって、半導体デバイス、液晶
表示パネル等をはじめとする各種電子機器の製造ライン
に好適な洗浄装置を実現することができる。

【００８２】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば、洗浄用ノズルの形状や寸法、洗浄用ノズルの導入
管や排出管の数や設置位置等の具体的な構成等に関して
は、適宜設計変更が可能なことは勿論である。さらに、
上記実施の形態においては、本発明のノズルを洗浄用ノ
ズルに適用した例を示したが、洗浄以外のウェット処
理、例えばエッチング、レジスト除去等に本発明のノズ
ルを適用することも可能である。

【００８３】

【発明の効果】本発明のウエット処理用ノズルまたはウ
エット処理装置によれば、振動部の厚み寸法を大きく設
定して、超音波振動により発生する熱を分散し、超音波
振動子の温度上昇を防止できる。そのため、被処理物の
被処理面上において、気泡が巻き込まれて処理液が無い
領域が存在した場合にも、超音波振動子が過熱して破損
してしまうことを防止できる。さらに、本発明のウエッ
ト処理用ノズルまたはウエット処理装置によれば、超音
波振動子と処理液との間に介在する振動部及び／または
被覆部の厚み寸法を特定の値としたので、超音波振動の
透過率を徒に減少させることがない。したがって、超音
波振動子を損傷の恐れが少なく、しかも効率的にウエッ
ト処理が可能なウエット処理用ノズルまたはウエット処
理装置とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係るウエット処理用ノズルの第１
実施形態を示す平面図である。

【図２】 図１のII−II線に沿った断面図である。

【図３】 ９λ／２の厚さの振動板におけるインピー
ダンス特性を説明するためのグラフである。

【図４】 ５λ／２の厚さの振動板におけるインピー
ダンス特性を説明するためのグラフである。

【図５】 本発明に係るウエット処理用ノズルの他の
実施形態を示す断面図である。

【図６】 本発明に係るウエット処理用ノズルの第２
実施形態を示す段面図である。

【図７】 本発明に係るウエット処理用ノズルの第３
実施形態を示す段面図である。

【図８】 本発明に係るウエット処理装置の他の実施
形態を示す断面図である。

【図９】 本発明に係るウエット処理装置の他の実施
形態を示す断面図である。

【図１０】 本発明に係るウエット処理装置の他の実
施形態を示す断面図である。

【図１１】 被覆部の厚み寸法と超音波振動の透過率
との関係を示すグラフである。

【図１２】 本発明のウエット処理装置における第４
実施形態の概略構成を示す平面図である。

【図１３】 従来のウエット処理用ノズルの断面図で
ある。

【符号の説明】

１・・・洗浄用ノズル（ウエット処理用ノズル） ２・・・処理液（排出液、冷却液） ２１・・・導入通路（処理液導入管） ２１ａ・・・導入口 ２１ｂ・・・第１の開口部（導入開口部） ２２・・・排出管（排出管） ２２ａ・・・排出口 ２２ｂ・・・第２の開口部（排出開口部） ２３・・・連結部 ３５・・・処理領域 ４０・・・超音波振動子部分 ４６・・・振動板（振動部） ４６Ａ・・・対向面 ４８・・・超音波振動子 ４９・・・被覆部 ５０・・・冷却管（冷却体） ５０Ａ・・・冷却溝（溝部） ５１・・・洗浄装置（ウエット処理装置） ５５，５６・・・洗浄用ノズル（ウエット処理用ノズル） Ｗ・・・被処理基板（被処理物） Ｗ１・・・被処理面 Ｔ，Ｔ’，Ｔ”・・・厚み寸法

フロントページの続き (72)発明者 小野 昭一 東京都大田区雪谷大塚町１番７号 アルプ ス電気株式会社内 Ｆターム(参考） 3B201 AA01 AB42 BB22 BB85 BB92 BC01 CD43 5D107 AA03 AA09 BB11 CC02 FF08

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物のウエット処理のための処理
   液を前記被処理物の被処理面に向けて供給する導入開口
   部と、前記ウエット処理後の前記処理液の排出液を前記
   被処理面から排出する排出開口部とを具備するウエット
   処理用ノズルであって、 前記被処理面上の前記処理液に対して超音波振動を付与
   するための超音波振動子と、該超音波振動子に接する振
   動部とを備え、 前記振動部は、前記超音波振動子の少なくとも前記被処
   理物側に設けられ、 該被処理物側の前記振動部の厚み寸法Ｔと、該振動部に
   おける前記超音波振動の波長λとの関係が、 Ｔ＝（ｎ±０．１）・λ／２ （但し、ｎは２以
   上の整数） に設定されてなることを特徴とするウエット処理用ノズ
   ル。
2. 【請求項２】 前記被処理物側の前記振動部の厚み寸
   法Ｔと、該振動部における前記超音波振動の波長λとの
   関係が、 Ｔ＝（ｎ±０．１）・λ／２ （但し、ｎは３以
   上７以下の整数） に設定されてなることを特徴とする請求項１記載のウエ
   ット処理用ノズル。
3. 【請求項３】 前記被処理物側の前記振動部の厚み寸
   法Ｔと、該振動部における前記超音波振動の波長λとの
   関係が、 Ｔ＝（５±０．１）・λ／２ に設定されてなることを特徴とする請求項２記載のウエ
   ット処理用ノズル。
4. 【請求項４】 前記振動部の前記被処理物側に接し
   て、被覆部が設けられてなることを特徴とする請求項１
   記載のウエット処理用ノズル。
5. 【請求項５】 前記被覆部は、前記被処理物側の表面
   が前記処理液に対する耐反応性および／または耐熱性を
   有するよう構成されてなることを特徴とする請求項４記
   載のウエット処理用ノズル。
6. 【請求項６】 前記被覆部の厚み寸法Ｔ’と、該被覆
   部における前記超音波振動の波長λ’との関係が、下記
   のいずれかに設定されてなることを特徴とする請求項４
   記載のウエット処理用ノズル。 Ｔ’≦λ’／２０ Ｔ’＝（１±０．１）・λ’／２
7. 【請求項７】 前記振動部が、前記超音波振動子の前
   記被処理物側とその反対側との双方に設けられているこ
   とを特徴とする請求項１記載のウエット処理用ノズル。
8. 【請求項８】 被処理物のウエット処理のための処理
   液を前記被処理物の被処理面に向けて供給する導入開口
   部と、前記ウエット処理後の前記処理液の排出液を前記
   被処理面から排出する排出開口部とを具備するウエット
   処理用ノズルであって、 前記被処理面上の前記処理液に対して超音波振動を付与
   するための超音波振動子と、該超音波振動子に接して、
   前記被処理物側に設けられた被覆部と、前記超音波振動
   子に接して、前記被覆部と反対側に設けられた振動部
   と、を備え、 前記被覆部の厚み寸法Ｔ’と、該被覆部における前記超
   音波振動の波長λ’との関係が、下記のいずれかに設定
   されてなることを特徴とするウエット処理用ノズル。 Ｔ’≦λ’／２０ Ｔ’＝（１±０．１）・λ’／２
9. 【請求項９】 前記被覆部は、前記被処理物側の表面
   が前記処理液に対する耐反応性および／または耐熱性を
   有するよう構成されてなることを特徴とする請求項８記
   載のウエット処理用ノズル。
10. 【請求項１０】 前記振動部には、該振動部を冷却す
    る冷却手段が設けられてなることを特徴とする請求項１
    または８記載のウエット処理用ノズル。
11. 【請求項１１】 前記冷却手段が、前記振動部の内側
    および／または外側に位置する冷却管に冷却液を流通す
    る構成とされてなることを特徴とする請求項１０記載の
    ウエット処理用ノズル。
12. 【請求項１２】 前記冷却液が、前記処理液とされて
    なることを特徴とする請求項１１記載のウエット処理用
    ノズル。
13. 【請求項１３】 前記冷却液が、前記排出液とされて
    なることを特徴とする請求項１１記載のウエット処理用
    ノズル。
14. 【請求項１４】 請求項１または８記載のウエット処
    理用ノズルと、 前記導入開口部と前記被処理物の被処理面との間に処理
    液を導入するための処理液導入手段と、 前記排出開口部と前記被処理物の被処理面との間から処
    理液を吸引して排出するため処理液回収手段と、 被処理物の被処理面に沿って前記ウエット処理用ノズル
    と前記被処理物とを相対移動させることにより前記被処
    理物の被処理面全域を処理するためのノズル・被処理物
    相対移動手段とを有することを特徴とするウエット処理
    装置。