JP2003156703A - 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents

光走査装置及びそれを用いた画像形成装置

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JP2003156703A JP2001356257A JP2001356257A JP2003156703A JP 2003156703 A JP2003156703 A JP 2003156703A JP 2001356257 A JP2001356257 A JP 2001356257A JP 2001356257 A JP2001356257 A JP 2001356257A JP 2003156703 A JP2003156703 A JP 2003156703A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 折り返しミラーを配置する際の自由度を高
め、また副走査横倍率の絶対値を低下させ、ピッチムラ
の少ない高性能でコンパクトな光走査装置及びそれを用
いた画像形成装置を得ること。 【解決手段】 光源手段1から出射した光束を他の光束
に変換する第1の光学系2と、該第1の光学系2を通過
した光束を偏向手段5の偏向面上に主走査方向へ長い線
像として結像させる第2の光学系3と、該偏向手段5か
らの光束を被走査面上に導光する第3の光学系6と、を
有する光走査装置において、該第3の光学系6は1枚以
上の光学素子を有し、該偏向手段5の偏向点から被走査
面7までの光軸上の距離をT、該偏向手段5の偏向点か
ら最も被走査面側の光学素子面までの光軸上の距離を
S、該第3の光学系の副走査断面内の横倍率をβs(β
s≦0)とするとき、S/T≦0.3、|βs|≦3な
る条件を満たすこと。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光走査装置及びそれ
を用いた画像形成装置に関し、特に折り返しミラーを配
置する際の自由度を高め、また副走査方向の横倍率の絶
対値を低下させ、ピッチムラ(面倒れによる走査線の直
線性の劣化)の少ない、高性能でコンパクトな、例えば
レーザープリンタやデジタル複写機やマルチファンクシ
ョンプリンタ(多機能プリンタ)等の画像形成装置に好
適なものである。
【0002】
【従来の技術】従来からレーザービームプリンタやデジ
タル複写機やマルチファンクションプリンタ等に用いら
れる光走査装置においては、画像信号に応じて光源から
出射された光束(光ビーム)を回転多面鏡等の光偏向器
で周期的に偏向させ、fθ特性を有する走査レンズを用
い、被走査面である感光ドラム面上を略等速に走査しな
がらスポットを形成している。これにより記録媒体とし
ての感光ドラム面上に画像情報の記録を行っている。
【0003】図10は従来の光走査装置の主走査方向の
要部断面図(主走査断面図)、図11は従来の光走査装
置の副走査方向の要部断面図(副走査断面図)である。
【0004】図10、図11において光源手段91から
出射した発散光束は集光レンズ(コリメーターレンズ)
92により略平行光束もしくは収束光束とされ、絞り9
3によって光束を制限して副走査方向に屈折力を有する
シリンドリカルレンズ94に入射している。シリンドリ
カルレンズ94に入射した略平行光束は副走査方向にの
み結像されるため、主走査方向に長い線像として光偏向
器95の偏向面95aにほぼ結像する。そして光偏向器
95の偏向面95aで偏向された光束はfθ特性を有す
る走査レンズ系(結像光学系)96を介して被走査面で
ある感光ドラム面97上を走査して画像記録を行ってい
る。
【0005】この種の光走査装置において、高精細な画
像の記録を行うには、(アー1)被走査面全域にわたって像
面湾曲が良好に補正されていることと、(アー2)被走査面
でのスポット径及びスポット形状が良好であること、(ア
ー3)光偏向器の偏向面が倒れた場合でも走査線の位置ズ
レが生じないように補正する倒れ補正機能を有している
こと、(アー4)歪曲収差が良好に補正されていること、等
が必要である。
【0006】更に近年、画像形成装置の小型化に伴い、
光走査装置も小型化しなければならず、走査レンズもコ
ンパクトなレンズ形状が要求されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】走査レンズ系をコンパ
クト化するためには該走査レンズ系の焦点距離を短縮す
る、つまり光偏向器の偏向点から被走査面までの距離を
短縮する必要があるが、一般には走査レンズ系の焦点距
離を短縮すると、最も被走査面側の走査レンズのレンズ
面から被走査面までの距離(レンズバック)が短くなり、
最も被走査面側の走査レンズ面と被走査面との間の光路
内に折り返しミラー等を配置する場合、その自由度が少
なくなるという問題点が生じる。
【0008】また、たとえ、レンズバックをある程度確
保できたとしても、副走査方向の横倍率(副走査倍率)
が高くなり、面倒れによる走査線の劣化(ピッチムラ)が
大きくなり、高精細な画像形成装置やカラー出力可能な
カラー画像形成装置には適用できないという問題点があ
る。
【0009】このように近年、コンパクトな光走査装置
が要求される中でレンズバックを確保し、かつ副走査倍
率を低減させ、所望の光学性能を得ることは困難であっ
た。
【0010】本発明はレンズバックを確保し、かつピッ
チムラを低減し、像面湾曲、歪曲収差、ビーム径の像高
によるバラツキ等を良好に補正することのできるコンパ
クトでレンズバックの長い高品質な光走査装置及びそれ
を用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明の光走査
装置は、光源手段から出射した光束を他の光束に変換す
る第1の光学系と、該第1の光学系を通過した光束を偏
向手段の偏向面上に主走査方向へ長い線像として結像さ
せる第2の光学系と、該偏向手段からの光束を被走査面
上に導光する第3の光学系と、を有する光走査装置にお
いて、該第3の光学系は1枚以上の光学素子を有し、該
偏向手段の偏向点から被走査面までの光軸上の距離を
T、該偏向手段の偏向点から最も被走査面側の光学素子
面までの光軸上の距離をS、該第3の光学系の副走査断
面内の横倍率をβs(βs≦0)とするとき、 S/T≦0.3 |βs|≦3 なる条件を満たすことを特徴としている。
【0012】請求項2の発明は請求項1の発明におい
て、前記1枚以上の光学素子のうち、1枚の光学素子は
主走査断面内において非球面を有していることを特徴と
している。
【0013】請求項3の発明は請求項1又は2の発明に
おいて、前記第3の光学系は、主走査断面内又は/及び
副走査断面内において回折作用を有する回折面を有して
いることを特徴としている。
【0014】請求項4の発明は請求項1、2又は3の発
明において、前記第3の光学系は、副走査断面内におい
て負の屈折力を有する光学素子を有していることを特徴
としている。
【0015】請求項5の発明は請求項1乃至4の何れか
1項の発明において、前記第3の光学系は、副走査断面
内において前記偏向面側に凸面を向けた光学素子を有し
ていることを特徴としている。
【0016】請求項6の発明は請求項1乃至5の何れか
1項の発明において、前記1枚以上の光学素子は、最大
有効径をYmaxとするとき、 Ymax≦60mm なる条件を満たすことを特徴としている。
【0017】請求項7の発明は請求項1乃至6の何れか
1項の発明において、前記光源手段は複数の発光部を有
することを特徴としている。
【0018】請求項8の発明は請求項1乃至7の何れか
1項の発明において、副走査断面内において前記被走査
面上での有効F値をFSnoとするとき、有効走査域全
域において、 FSno≦65 なる条件を満たすことを特徴としている。
【0019】請求項9の発明は請求項1乃至8の何れか
1項の発明において、主走査断面内において、前記被走
査面上での有効F値をFMnoとするとき、有効走査域
全域において、 FMno≦55 なる条件を満たすことを特徴としている。
【0020】請求項10の発明の光走査装置は、光源手
段から出射した光束を他の光束に変換する第1の光学系
と、該第1の光学系を通過した光束を偏向手段の偏向面
上に主走査方向へ長い線像として結像させる第2の光学
系と、該偏向手段からの光束を被走査面上に導光する第
3の光学系と、を有する光走査装置において、該第3の
光学系は2枚以上の光学素子を有し、該2枚以上の光学
素子のうち、2つの光学素子間の距離をU、該偏向手段
の偏向点から最も被走査面側の光学素子面までの距離を
S、該第3の光学系の副走査断面内の横倍率をβs(β
s≦0)とするとき、 U/S≦0.6 |βs|≦3 なる条件を満たすことを特徴としている。
【0021】請求項11の発明は請求項10の発明にお
いて、前記2枚以上の光学素子のうち、少なくとも1枚
の光学素子は主走査断面内において非球面を有している
ことを特徴としている。
【0022】請求項12の発明は請求項10又は11の
発明において、前記第3の光学系は、主走査断面内又は
/及び副走査断面内において回折作用を有する回折面を
有していることを特徴としている。
【0023】請求項13の発明は請求項11又は12の
発明において、前記第3の光学系は、副走査断面内にお
いて負の屈折力を有する光学素子を有していることを特
徴としている。
【0024】請求項14の発明は請求項10乃至13の
何れか1項の発明において、前記第3の光学系は、副走
査断面内において前記偏向面側に凸面を向けた光学素子
を有していることを特徴としている。
【0025】請求項15の発明は請求項10乃至14の
何れか1項の発明において、前記2枚以上の光学素子
は、最大有効径をYmaxとするとき、 Ymax≦60mm なる条件を満たすことを特徴としている。
【0026】請求項16の発明は請求項10乃至15の
何れか1項の発明において、前記光源手段は複数の発光
部を有することを特徴としている。
【0027】請求項17の発明は請求項10乃至16の
何れか1項の発明において、副走査断面内において前記
被走査面上での有効F値をFSnoとするとき、有効走
査域全域において、 FSno≦65 なる条件を満たすことを特徴としている。
【0028】請求項18の発明は請求項10乃至17の
何れか1項の発明において、主走査断面内において、前
記被走査面上での有効F値をFMnoとするとき、有効
走査域全域において、 FMno≦55 なる条件を満たすことを特徴としている。
【0029】請求項19の発明は請求項10の発明にお
いて、前記2枚以上の光学素子のうち、1枚の光学素子
はミラーであり、前記偏向手段の偏向点から該ミラーま
での光軸上の距離をP、該ミラーから前記被走査面まで
の距離をQとするとき、 1.5≦Q/P なる条件を満たすことを特徴としている。
【0030】請求項20の発明は請求項19の発明にお
いて、前記ミラーは、主走査断面内又は/及び副走査断
面内において屈折力を有していることを特徴としてい
る。
【0031】請求項21の発明の画像形成装置は、請求
項1乃至20の何れか1項に記載の光走査装置と、前記
被走査面に配置された感光体と、前記光走査装置で走査
された光ビームによって前記感光体上に形成された静電
潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたト
ナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナ
ー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特
徴としている。
【0032】請求項22の発明の画像形成装置は、請求
項1乃至20の何れか1項に記載の光走査装置と、外部
機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前
記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを
有していることを特徴としている。
【0033】請求項23の発明のレーザービームプリン
タは、請求項1乃至20の何れか1項の光走査装置を用
いて、前記被走査面上に設けた感光ドラムに光束を導光
することを特徴としている。
【0034】
【発明の実施の形態】[実施形態1]図1は本発明の実
施形態1の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)、
図2は本発明の実施形態1の副走査方向の要部断面図
(副走査断面図)である。
【0035】尚、本明細書においては走査レンズ系の光
軸と光偏向器により偏向された光束とが形成する面を主
走査断面、走査レンズ系の光軸を含み主走査断面と直交
する面を副走査断面と定義する。
【0036】図1、図2において1は光源手段であり、
同一のチップに複数の発光部を備えた、モノリシックな
マルチビーム光源より成っている。2は第1の光学系と
しての集光レンズ(コリメーターレンズ)であり、光源
手段1から出射された複数の発散光束を略平行光束もし
くは収束光束に変換している。3は第2の光学系として
のシリンドリカルレンズであり、副走査方向にのみ所定
のパワーを有しており、集光レンズ2で変換された光束
を副走査断面内で後述する光偏向器5の偏向面(反射
面)5aにほぼ線像として結像させている。4は開口絞
りであり、通過光束を制限してビーム形状を整形してい
る。尚、コリメーターレンズ2、シリンドリカルレンズ
3、そして開口絞り4等の各要素は入射光学手段の一要
素を構成している。
【0037】5は偏向手段としての光偏向器であり、例
えば4面構成のポリゴンミラー(回転多面鏡)より成っ
ており、モーター等の駆動手段(不図示)により図中矢
印A方向に一定速度で回転している。
【0038】6は集光機能とfθ特性とを有する第3の
光学系としての走査レンズ系(fθレンズ系)であり、
光偏向器5側より順にプラスチック材より成る第1、第
2の2枚のfθレンズ6a,6bと折り返しミラー8と
を有し、光偏向器5によって反射偏向された画像情報に
基づく光束を被走査面としての感光ドラム面7上にスポ
ット状に結像させ、かつ副走査断面内において光偏向器
5の偏向面5aと感光ドラム面7との間を共役関係にす
ることにより、倒れ補正機能を有している。
【0039】本実施形態においては走査レンズ系6を構
成する2枚のfθレンズ6a,6bのうち、少なくとも
1枚のfθレンズは主走査断面内において非球面(トー
リック面)を有している。また走査レンズ系6は副走査
断面内において、負の屈折力を有するfθレンズを有
し、さらに偏向面側に凸面を向けたfθレンズを有して
いる。
【0040】7は被走査面としての感光ドラム面であ
る。8は折り返しミラーであり、平面ミラーより成って
いる。尚、折り返しミラー8は主走査断面内又は/及び
副走査断面内において屈折力を有していても良い。
【0041】本実施形態においてマルチビーム光源1か
ら出射した複数の発散光束は集光レンズ2により略平行
光束もしくは収束光束に変換され、シリンドリカルレン
ズ3に入射する。シリンドリカルレンズ3に入射した光
束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で出射
して開口絞り4を通過する(一部遮光される)。また副
走査断面内においては収束して開口絞り4を通過し(一
部遮光される)光偏向器5の偏向面5aにほぼ線像(主
走査方向に長手の線像)として結像する。そして光偏向
器5の偏向面5aで反射偏向された複数の光束は第1、
第2のfθレンズ6a,6bにより折り返しミラー8を
介して感光ドラム面7上にスポット状に結像され、該光
偏向器5を矢印A方向に回転させることによって、該感
光ドラム面7上を矢印B方向(主走査方向)に等速度で
光走査している。これにより記録媒体としての感光ドラ
ム面7上に画像記録を行なっている。
【0042】本実施形態において、走査レンズ系6を構
成する第1、第2のfθレンズ6a,6bの形状は次式
の関数で表わされる。
【0043】例えば第1、第2のfθレンズ6a,6b
と光軸との交点を原点とし、図1に示すように光軸に対
して走査開始側7aと走査終了側7bでの主走査断面内
の面形状は、光軸をX軸、主走査断面内において光軸と
直交する方向をY軸、副走査断面内で光軸と直交する方
向をZ軸としたとき、走査開始側7aの面形状は
【0044】
【数1】
【0045】走査終了側7bの面形状は、
【0046】
【数2】
【0047】で表される。
【0048】但し,Rは曲率半径、K,B4、B6
8、B10は非球面係数である。係数のサフィックスsは
走査開始側、サフィックスeは走査終了側を表してい
る。
【0049】また副走査断面内は光軸に対して走査開始
側と走査終了側で第1、第2のfθレンズ6a,6bの
うち、少なくとも2面の副走査方向の曲率半径がレンズ
の有効部内において連続的に変化しており、また第1、
第2のfθレンズ6a,6bの主走査断面内における形
状を光軸に対して対称に形成している。
【0050】副走査断面内の形状は図2に示すように光
軸に対して走査開始側と走査終了側で、光軸をX軸、主
走査断面内において光軸と直交する方向をY軸、副走査
断面内で光軸と直交する方向をZ軸としたとき、以下の
連続関数で表せる。
【0051】走査開始側7aの面形状は
【0052】
【数3】
【0053】走査終了側7bの面形状は
【0054】
【数4】
【0055】で表される。
【0056】但し、rは副走査方向の曲率半径、D2
4、D6、D8、D10は係数である係数のサフィックスs
は走査開始側、eは走査終了側を表している。
【0057】尚、副走査方向の曲率半径とは主走査方向
の形状(母線)に直交する断面内における曲率半径のこと
である。
【0058】本実施形態では副走査方向のピント補正
(像面湾曲補正)と走査レンズ系6における副走査方向の
倍率の一様性(スポット径の像高による変動)を補正する
ために、第1のfθレンズ6aの両レンズ面R1、R2
と第2のfθレンズ6bの両レンズ面R3、R4の副走
査方向の曲率半径をレンズ有効部内で連続的に変化さ
せ、かつ第1のfθレンズ6aの射出面R2と第2のfθ
レンズ6bの射出面R4の曲率半径を光軸に対して非対
称に変化させている。
【0059】次に本発明の目的を達成するための手段と
効果について説明する。
【0060】本実施形態の光源手段1は前述の如く同一
のチップに複数の発光部を備えたモノリシックなマルチ
ビーム光源で構成されており、第1、第2のfθレンズ
6a,6bは共にプラスチックレンズで作製されてお
り、成形上有利なように主走査断面内の形状が、光軸に
対して走査開始側と終了側で対称に形成されている。
【0061】更に副走査方向の曲率半径は少なくとも2
面がレンズの有効部内において連続的に変化しており、
これにより像面湾曲、波面収差、スポット径の変動を補
正している。
【0062】本実施形態では光源手段1から出射した光
束が主走査断面内において、光軸に対して角度α(≠0)
で光偏向器5の偏向面5aに入射しているため、該光偏
向器5の回転に伴う面の出入り(サグ)が、走査開始側と
終了側で非対称に発生する。この非対称なサグにより、
像面湾曲、波面収差、スポット径の変動が光軸に対して
主走査方向に非対称に変化するのを良好に補正するため
に、走査レンズ系6は副走査方向の曲率半径が光軸に対
して主走査方向に沿って非対称に変化する面(以下「副
走査曲率半径非対称面」と称す。)を少なくとも1面有
している。
【0063】本実施形態では装置全体をコンパクト化す
るために後述する条件式(8)を満足する折り返しミラ
ー8を走査レンズ系6と感光ドラム面7との間の光路内
に配置し、光路を折りたたんで該感光ドラム面7へ光束
を導光している。本実施形態ではこの折り返しミラー8
を最も被走査面7側の第2のfθレンズ6bに近づける
ことにより、走査レンズ系6をコンパクトにし、画像形
成装置へ配置する際の自由度を高めている。
【0064】また本実施形態では副走査曲率半径非対称
面を最も光偏向器5側の第1のfθレンズ6aに形成す
ることにより、波面収差のサグによる非対称性を良好に
補正している。
【0065】一方、副走査方向の曲率半径を少なくとも
2面以上変化させないと、像面湾曲とスポット径の変動
の両者を同時に補正できないので良くない。
【0066】表−1に本実施形態の光学パラメータを示
す。図3に本実施形態の光学特性を示す。
【0067】
【表1】
【0068】本実施形態の第1、第2のfθレンズ6
a,6bは共に正のメニスカス形状より成り、また第
1,第2のfθレンズ6a、6bのうち、少なくとも一面
の副走査方向の曲率半径を、該レンズの有効部内におい
て連続的、かつ光軸に対して主走査方向に非対称に変化
させ、像面湾曲の非対称性とスポット径の変動を同時に
補正している。
【0069】本実施形態では、副走査曲率半径非対称面
が一面で構成されているため、主走査方向の対称軸(f
θレンズの光軸)を被走査面7の垂直二等分線に対して
シフトかつチルトしている。これにより副走査曲率半径
非対称面(副走査方向の曲率半径を光軸に対して主走査
方向に沿って非対称に変化させた面)を追加することと
同様の効果が得られ、該副走査曲率半径非対称面を一面
のみで非対称性を補正することが可能であり、レンズ成
形上有利になるという特徴を有する。
【0070】尚、本実施形態では走査レンズ系6の光軸
を主走査方向における被走査面の垂直二等分線と一致さ
せている。
【0071】本実施形態では光偏向器5の偏向点5bか
ら被走査面7までの光軸上の距離をT、該光偏向器5の
偏向点5bから最も被走査面7側の第2のfθレンズ6
bのレンズ面までの光軸上の距離をS、走査レンズ系6
の副走査断面内の横倍率をβs(βs≦0)とすると
き、 S/T≦0.3 ‥‥(1) |βs|≦3 ‥‥(2) なる条件を満たすように各要素を設定している。
【0072】本実施形態では上記条件式(1)を満たす
ように S/T=0.25 と各要素を配置し、これによりレンズバックを確保し、
折り返しミラー8の配置自由度を高めると共に、走査レ
ンズ系6のfθレンズの主走査方向の最大有効径Ymax
を小さくして、コンパクト化を達成している。
【0073】ここでfθレンズの主走査方向の最大有効
径Ymaxとは、図4に示すように、被走査面の走査開始
位置又は走査終了位置に向かう光線が、fθレンズと交
わる点の光軸との距離の最大値である。
【0074】本実施形態ではfθレンズの主走査方向の
最大有効径Ymaxを、 Ymax≦60mm ‥‥(3) なる条件を満たすように設定している。
【0075】副走査断面内の横倍率βsは走査レンズ系
6の副走査方向の前側主平面をΔ、後側主平面をΔ'、
第1,第2のfθレンズ6a、6bの肉厚を各々d1
2、第1,第2のfθレンズ6a、6b間の距離(レン
ズ間隔)をUとするとき、
【0076】
【数5】
【0077】と近似できる。そのため上式(4)から副
走査横倍率|βs|を低減し、ピッチムラを小さくするた
めには、(a)走査レンズ系6の副走査方向の前側主平面
及び後側主平面を被走査面7側に配置する、(b)走査レ
ンズ系6の2枚のfθレンズ6a、6b間の距離Uを小
さくする、ことが必要である。
【0078】そこで本実施形態では上記(a)を達成する
ために、最も光偏向器5側の第1のfθレンズ6aの副
走査方向の屈折力φ1、最も被走査面7側の第2のfθ
レンズ6bの副走査方向の屈折力φ2、とするとき、副
走査方向の曲率半径を上記表−1の如く設定し、即ち φ1=−0.022<0 φ2=0.039>0 とし、走査レンズ系6の副走査方向の後側主平面を被走
査面7に近づけるよう配置することにより、副走査横倍
率|βs|を |βs|=2.89 として上記条件式(2)を満たしている。
【0079】また上記(b)を達成するために、第1、第
2のfθレンズ6a、6bのレンズ間の距離をU、光偏
向器5の偏向点5bから最も被走査面7側の第2のfθ
レンズ6bのレンズ面までの距離をSとするとき、 U/S≦0.6 ‥‥(5) なる条件を満たすように各要素を設定している。本実施
形態では上記条件式(5)を満たすように、 U/S=0.18 と各要素を配置し、これにより副走査横倍率|βs|を低
減させて、ピッチムラを小さくしている。
【0080】また第1、第2のfθレンズ6a、6b間
の距離Uを短縮し、最も光偏向器5側の第1のfθレン
ズ6aを光偏向器5から遠ざけることにより、該光偏向
器5の回転に伴い発生する発熱や振動がレンズ等の光学
素子に与える影響(例えば、ピント変動)を軽減する効果
をも有する。
【0081】副走査横倍率|βs|をさらに低減させるた
めには最も被走査面7側のfθレンズの光偏向器5側の
レンズ面が正の屈折力を有するレンズ面であることが望
ましい。本実施形態では第2のfθレンズ6bの副走査
断面内の入射面R3を正の屈折力のレンズ面にしてい
る。
【0082】また高精細な画像形成装置やカラー出力可
能な画像形成装置に用いられる光走査装置においては、
被走査面上でのスポット径を70μm以下に抑えること
が望ましい。そこで本実施形態では副走査断面内におい
て被走査面7上での有効F値(有効Fナンバー)をFS
noとするとき、有効走査域全域において、 FSno≦65 ‥‥(6) なる条件を満たすように各要素を設定している。
【0083】また主走査断面内において、被走査面7上
での有効F値をFMnoとするとき、有効走査域全域に
おいて、 FMno≦55 ‥‥(7) なる条件を満たすように各要素を設定している。
【0084】また本実施形態では第3の光学系6を構成
する1つの光学素子としての折り返しミラー8の位置を
次の如く設定している。
【0085】即ち、光偏向器5の偏向点5bから折り返
しミラー8までの光軸上の距離をP、該折り返しミラー
8から被走査面7までの距離をQとするとき、 1.5≦Q/P ‥‥(8) なる条件を満たすように各要素を設定している。
【0086】一般的に光走査装置は図2に示すように光
路を折り返しミラー等で折り返し、本体(画像形成装
置)に配置されるため、光走査装置を小型化するために
は光偏向器の偏向点から折り返しミラーまでの距離を短
くする必要がある(距離Pを小さくする必要があ
る。)。また光走査装置が本体に配置されるときは他の
部材、例えば現像器等を排泄するスペースを確保する必
要があり、ミラーバック(Q)を長くする必要がある。
また折り返しミラーで折り返す角度も鈍角である方が、
よりスペースを確保しやすく、また他部材との距離を確
保でき、光走査装置が昇温の影響を受けづらい等のメリ
ットがある。
【0087】本実施形態では上記条件式(8)を満たす
ように、 P=53、Q=120、Q/P=2.26 と各要素を配置し、これにより前述した効果を得てい
る。
【0088】このように本実施形態では上述の如く各条
件式を満足させ、最も被走査面側の第2のfθレンズ6
bを光偏向器5側に近づけることにより、折り返しミラ
ー8を配置する際の自由度を高め、さらに第1、第2の
fθレンズ6a、6bの副走査方向の曲率半径を適切に
設定することにより、副走査横倍率の絶対値を低下さ
せ、ピッチムラの少ない高精細な光走査装置を得てい
る。
【0089】尚、本実施形態では上記の条件式(1),
(5)のうち少なくとも一方を満たし、かつ条件式
(2)を満たせば所望の効果は得られる。
【0090】また本実施形態では光源手段1としてモノ
リシックなマルチビーム光源を用いたが、これに限ら
ず、例えば異なる複数の光源から出射した光束をプリズ
ム等で合成した光源手段を用いてもよく、もちろん光源
手段を単一の光源より構成しても良い。
【0091】また本実施形態では走査レンズ系6を2枚
のレンズ6a,6bより構成したが、これに限らず、例
えば単一、もしくは3枚以上で構成してもよく、さらに
fθミラーや回折光学素子等の光学素子を用いても全く
同様の効果を得ることができる。
【0092】尚、走査レンズ系6を1枚のレンズより構
成した場合は、上記条件式(1),(2)を満たせば所
望の効果は得られる。
【0093】また本実施形態においては集光レンズ2や
シリンドリカルレンズ3等を省略し、光源手段1から出
射した光束を開口絞り4を介して直接光偏向器5の偏向
面5aに導光してもよい。
【0094】[実施形態2]図5は本発明の実施形態2
の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)である。同
図において前記図1に示した要素と同一要素には同符番
を付している。
【0095】表―2に本実施形態の光学パラメータを示
す。図6に本実施形態の光学特性を示す。
【0096】
【表2】
【0097】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は走査レンズ系16を構成する第1、第2のfθ
レンズ16a,16bのレンズ形状を異ならせて形成
し、かつ上記の各条件式を満たすように各要素を設定し
たことであり、その他の構成及び光学的作用は実施形態
1と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【0098】即ち、本実施形態の第1、第2のfθレン
ズ16a,16bは共にプラスチックレンズで作製され
ており、主走査断面内の形状がサグ(偏向面の出入り)に
よる被走査面7の像面湾曲、fθ特性の非対称性を良好
に補正するために、走査開始側と終了側で光軸(被走査
面の垂直二等分線)に対して非対称に形成されている。
【0099】また副走査方向の曲率半径は少なくとも2
面がレンズの有効部内において連続的に変化しており、
これにより像面湾曲、スポット径の変動を補正してい
る。
【0100】また非対称なサグにより像面湾曲、スポッ
ト径の変動が光軸に対して非対称に変化するのを良好に
補正するために、走査レンズ系16は副走査方向の曲率
半径が光軸に対して主走査方向に沿って非対称に変化す
る面(副走査曲率半径非対称面)を少なくとも1面有して
いる。
【0101】さらに本実施形態では前記条件式(1)を
満足するように、 S/T=0.26 と各要素を配置し、これによりレンズバックを確保し、
折り返しミラー8の配置自由度を高めると共に、走査レ
ンズ系16のfθレンズの主走査方向の最大有効径Ymax
を小さくして、コンパクト化を達成している。
【0102】また本実施形態では副走査方向の曲率半径
を上記表-2の如く設定し、即ち φ1=−0.014<0 φ2=0.025>0 とし、走査レンズ系16の副走査方向の後側主平面を被
走査面7に近づけるよう配置することにより、副走査横
倍率|βs|を |βs|=2.69 として上記条件式(2)を満たしている。
【0103】また本実施形態では前記条件式(5)を満
たすように、 U/S=0.34 と各要素を配置し、これにより副走査横倍率|βs|を低
減させて、ピッチムラを小さくしている。
【0104】さらに本実施形態では前記条件式(8)を
満たすように、 P=80、Q=131.35、Q/P=1.64 と各要素を配置し、これにより前述した効果を得てい
る。
【0105】本実施形態は副走査曲率半径非対称面(子
線非対称面)が2面で構成されており、レンズ作製上有
利であると共に第2のfθレンズ16bの主走査方向の
対称軸を被走査面7の垂直二等分線に対して対称に構成
しているため、取り付け誤差による性能の劣化を低減で
きるという特徴を有する。
【0106】このように本実施形態では上述の如く各条
件式を満足させ、最も被走査面7側の第2のfθレンズ
16bを光偏向器5側に近づけることにより、折り返し
ミラー8を配置する際の自由度を高め、さらに第1、第
2のfθレンズ16a、16bの副走査方向の曲率半径
を適切に設定することにより、副走査横倍率の絶対値を
低下させ、ピッチムラの少ない高精細な光走査装置を得
ている。
【0107】[実施形態3]図7は本発明の実施形態3
の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)である。同
図において前記図1に示した要素と同一要素には同符番
を付している。
【0108】表―3に本実施形態の光学パラメータを示
す。図8に本実施形態の光学特性を示す。
【0109】
【表3】
【0110】本実施形態において前述の実施形態1、2
と異なる点は走査レンズ系26の少なくとも一面を主走
査断面内又は/及び副走査断面内において回折作用を有
する回折面より構成し、かつ上記の各条件式を満たすよ
うに各要素を設定したことであり、その他の構成及び光
学的作用は実施形態1と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
【0111】即ち、26は第3の光学系としての走査レ
ンズ系であり、第1、第2の2枚の走査レンズ26,2
6bを有しており、第1の走査レンズ26aは両レンズ
面共に屈折面で、非球面形状のトーリック面より成り、
第2の走査レンズ26bは光偏向器5側が屈折面でトー
リック面より成り、被走査面7側が主走査断面内又は/
及び副走査断面内において回折作用を有する回折面より
成っている。
【0112】本実施形態の回折面は、光軸をX軸、主走
査断面内において光軸と直交する方向をY軸、副走査断
面内で光軸と直交する方向をZ軸とし、以下の連続関数
で表せる。
【0113】
【数6】
【0114】(φは位相関数、λは波長、mは回折次
数、本実施形態ではm=1を使用)本実施形態の第1、
第2のfθレンズ26,26bは共にプラスチックレン
ズで作製されており、成形上有利なように主走査断面内
の形状が走査開始側と終了側で光軸に対して対称に構成
されている。
【0115】また副走査方向の曲率半径は少なくとも2
面がレンズの有効部内において連続的に変化しており、
これにより像面湾曲、スポット径の変動を補正してい
る。
【0116】また本実施形態では回折面の位相関数を走
査開始側と走査終了側で光軸に対して非対称に変化させ
ることで、像面湾曲、スポット径の変動が光軸に対して
非対称性に変化するのを補正している。
【0117】さらに本実施形態では前記条件式(1)を
満たすように、 S/T=0.30 と各要素を配置し、これによりレンズバックを確保し、
折り返しミラー8の配置自由度を高めると共に、走査レ
ンズ系26のfθレンズの主走査方向の最大有効径Yma
xを小さくして、コンパクト化を達成している。
【0118】また本実施形態では副走査方向の曲率半径
を上記表-3の如く設定し、即ち φ1=−0.006<0 φ2= 0.030>0 とし、走査レンズ系26の副走査方向の後側主平面を被
走査面に近づけるよう配置することにより、副走査横倍
率|βs|を |βs|=2.61 として上記条件式(2)を満たしている。
【0119】また本実施形態では前記条件式(5)を満
足するように、 U/S=0.51 と各要素を配置し、これにより副走査横倍率|βs|を低
減させて、ピッチムラを小さくしている。
【0120】さらに本実施形態では前記条件式(8)を
満たすように、 P=55.5、Q=104.0、Q/P=1.87 と各要素を配置し、これにより前述した効果を得てい
る。
【0121】このように本実施形態では上述の如く各条
件式を満足させ、最も被走査面7側の第2のfθレンズ
26bを光偏向器5側に近づけることにより、折り返し
ミラー8を配置する際の自由度を高め、さらに第1、第
2のfθレンズ26a、26bの副走査方向の曲率半径
を適切に設定することにより、副走査横倍率の絶対値を
低下させ、かつ回折光学素子を用いることにより、環境
変化による光学性能の劣化の少ない高性能な光走査装置
を得ることが可能である。
【0122】[画像形成装置]図9は、前述した実施形
態1、2又は3の光走査装置を用いた画像形成装置(電
子写真プリンタ)の実施形態を示す副走査断面内におけ
る要部断面図である。
【0123】図9において、符号104は画像形成装置
を示す。この画像形成装置104には、パーソナルコン
ピュータ等の外部機器117からコードデータDcが入
力する。このコードデータDcは、装置内のプリンタコ
ントローラ111によって、画像データ(ドットデー
タ)Diに変換される。この画像データDiは、各実施
形態1、2、3で示した構成を有する光走査ユニット1
00に入力される。そして、この光走査ユニット(光走
査装置)100からは、画像データDiに応じて変調さ
れた光ビーム(光束)103が射出され、この光ビーム
103によって感光ドラム101の感光面が主走査方向
に走査される。
【0124】静電潜像担持体(感光体)たる感光ドラム
101は、モータ115によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の
感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方に
は、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ102が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラ
ム101の表面に、前記光走査ユニット100によって
走査される光ビーム103が照射されるようになってい
る。
【0125】先に説明したように、光ビーム103は、
画像データDiに基づいて変調されており、この光ビー
ム103を照射することによって感光ドラム101の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101
の回転断面内における下流側で感光ドラム101に当接
するように配設された現像器107によってトナー像と
して現像される。
【0126】現像器107によって現像されたトナー像
は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対
向するように配設された転写ローラ(転写器)108に
よって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙1
12は感光ドラム101の前方(図9において右側)の
用紙カセット109内に収納されているが、手差しでも
給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給紙
ローラ110が配設されており、用紙カセット109内
の用紙112を搬送路へ送り込む。
【0127】以上のようにして、未定着トナー像を転写
された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図9
において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内部
に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113と
この定着ローラ113に圧接するように配設された加圧
ローラ114とで構成されており、転写部から撒送され
てきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ11
4の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙1
12上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロー
ラ113の後方には排紙ローラ116が配設されてお
り、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
【0128】図9においては図示していないが、プリン
トコントローラ111は、先に説明したデータの変換だ
けでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部
や、光走査ユニット100内のポリゴンモータなどの制
御を行う。
【0129】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く第3の光学系
(走査レンズ系)を構成する光学素子のうち最も被走査
面側の光学素子を光偏向器側に近づけることにより、折
り返しミラーを配置する際の自由度を高めることがで
き、また光学素子の副走査方向の曲率半径を適切に設定
することにより、副走査横倍率の絶対値を低下させ、ピ
ッチムラの少ない高性能でコンパクトな光走査装置及び
それを用いた画像形成装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態1の主走査断面図
【図2】 本発明の実施形態1の副走査断面図
【図3】 本発明の実施形態1の光学特性を示す図
【図4】 本発明の実施形態1のYmaxを示す図
【図5】 本発明の実施形態2の主走査断面図
【図6】 本発明の実施形態2の光学特性を示す図
【図7】 本発明の実施形態3の主走査断面図
【図8】 本発明の実施形態3の光学特性を示す図
【図9】 本発明の光走査装置を用いた画像形成装置
(電子写真プリンタ)の構成例を示す副走査断面図
【図10】 従来の光走査装置の主走査断面図
【図11】 従来の光走査装置の副走査断面図
【符号の説明】
1 光源手段(半導体レーザ) 2 コリメーターレンズ 3 絞り 4 シリンドリカルレンズ 5 偏向手段(ポリゴンミラー) 6,16,26 走査レンズ系(fθレンズ系) 7 被走査面 8 折り返しミラー 100 光走査装置 101 感光ドラム 102 帯電ローラ 103 光ビーム 104 画像形成装置 107 現像装置 108 転写ローラ 109 用紙カセット 110 給紙ローラ 111 プリンタコントローラ 112 転写材(用紙) 113 定着ローラ 114 加圧ローラ 115 モータ 116 排紙ローラ 117 外部機器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 1/036 B41J 3/00 D 1/113 H04N 1/04 104A Fターム(参考) 2C362 BA86 BA87 BA90 BB14 DA03 DA06 2H045 BA23 CA62 CA68 2H087 KA19 PA02 PA17 PB02 QA03 QA06 QA12 QA21 QA22 QA32 QA37 QA41 RA06 RA34 RA46 UA01 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 FA01 5C072 AA03 BA01 BA04 DA02 DA04 DA21 HA02 HA06 HA09 HA13 XA01 XA05

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源手段から出射した光束を他の光束に
    変換する第1の光学系と、該第1の光学系を通過した光
    束を偏向手段の偏向面上に主走査方向へ長い線像として
    結像させる第2の光学系と、該偏向手段からの光束を被
    走査面上に導光する第3の光学系と、を有する光走査装
    置において、 該第3の光学系は1枚以上の光学素子を有し、該偏向手
    段の偏向点から被走査面までの光軸上の距離をT、該偏
    向手段の偏向点から最も被走査面側の光学素子面までの
    光軸上の距離をS、該第3の光学系の副走査断面内の横
    倍率をβs(βs≦0)とするとき、 S/T≦0.3 |βs|≦3 なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】 前記1枚以上の光学素子のうち、1枚の
    光学素子は主走査断面内において非球面を有しているこ
    とを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
  3. 【請求項3】 前記第3の光学系は、主走査断面内又は
    /及び副走査断面内において回折作用を有する回折面を
    有していることを特徴とする請求項1又は2記載の光走
    査装置。
  4. 【請求項4】 前記第3の光学系は、副走査断面内にお
    いて負の屈折力を有する光学素子を有していることを特
    徴とする請求項1、2又は3記載の光走査装置。
  5. 【請求項5】 前記第3の光学系は、副走査断面内にお
    いて前記偏向面側に凸面を向けた光学素子を有している
    ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の
    光走査装置。
  6. 【請求項6】 前記1枚以上の光学素子は、最大有効径
    をYmaxとするとき、 Ymax≦60mm なる条件を満たすことを特徴とする請求項1乃至5の何
    れか1項に記載の光走査装置。
  7. 【請求項7】 前記光源手段は複数の発光部を有するこ
    とを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の光
    走査装置。
  8. 【請求項8】 副走査断面内において前記被走査面上で
    の有効F値をFSnoとするとき、有効走査域全域にお
    いて、 FSno≦65 なる条件を満たすことを特徴とする請求項1乃至7の何
    れか1項に記載の光走査装置。
  9. 【請求項9】 主走査断面内において、前記被走査面上
    での有効F値をFMnoとするとき、有効走査域全域に
    おいて、 FMno≦55 なる条件を満たすことを特徴とする請求項1乃至8の何
    れか1項に記載の光走査装置。
  10. 【請求項10】 光源手段から出射した光束を他の光束
    に変換する第1の光学系と、該第1の光学系を通過した
    光束を偏向手段の偏向面上に主走査方向へ長い線像とし
    て結像させる第2の光学系と、該偏向手段からの光束を
    被走査面上に導光する第3の光学系と、を有する光走査
    装置において、該第3の光学系は2枚以上の光学素子を
    有し、該2枚以上の光学素子のうち、2つの光学素子間
    の距離をU、該偏向手段の偏向点から最も被走査面側の
    光学素子面までの距離をS、該第3の光学系の副走査断
    面内の横倍率をβs(βs≦0)とするとき、 U/S≦0.6 |βs|≦3 なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
  11. 【請求項11】 前記2枚以上の光学素子のうち、少な
    くとも1枚の光学素子は主走査断面内において非球面を
    有していることを特徴とする請求項10記載の光走査装
    置。
  12. 【請求項12】 前記第3の光学系は、主走査断面内又
    は/及び副走査断面内において回折作用を有する回折面
    を有していることを特徴とする請求項10又は11記載
    の光走査装置。
  13. 【請求項13】 前記第3の光学系は、副走査断面内に
    おいて負の屈折力を有する光学素子を有していることを
    特徴とする請求項10、11又は12記載の光走査装
    置。
  14. 【請求項14】 前記第3の光学系は、副走査断面内に
    おいて前記偏向面側に凸面を向けた光学素子を有してい
    ることを特徴とする請求項10乃至13の何れか1項に
    記載の光走査装置。
  15. 【請求項15】 前記2枚以上の光学素子は、最大有効
    径をYmaxとするとき、 Ymax≦60mm なる条件を満たすことを特徴とする請求項10乃至14
    の何れか1項に記載の光走査装置。
  16. 【請求項16】 前記光源手段は複数の発光部を有する
    ことを特徴とする請求項10乃至15の何れか1項に記
    載の光走査装置。
  17. 【請求項17】 副走査断面内において前記被走査面上
    での有効F値をFSnoとするとき、有効走査域全域に
    おいて、 FSno≦65 なる条件を満たすことを特徴とする請求項10乃至16
    の何れか1項に記載の光走査装置。
  18. 【請求項18】 主走査断面内において、前記被走査面
    上での有効F値をFMnoとするとき、有効走査域全域
    において、 FMno≦55 なる条件を満たすことを特徴とする請求項10乃至17
    の何れか1項に記載の光走査装置。
  19. 【請求項19】 前記2枚以上の光学素子のうち、1枚
    の光学素子はミラーであり、前記偏向手段の偏向点から
    該ミラーまでの光軸上の距離をP、該ミラーから前記被
    走査面までの距離をQとするとき、 1.5≦Q/P なる条件を満たすことを特徴とする請求項10記載の光
    走査装置。
  20. 【請求項20】 前記ミラーは、主走査断面内又は/及
    び副走査断面内において屈折力を有していることを特徴
    とする請求項19記載の光走査装置。
  21. 【請求項21】 請求項1乃至20の何れか1項に記載
    の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、
    前記光走査装置で走査された光ビームによって前記感光
    体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現
    像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写
    器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着
    器とを有することを特徴とする画像形成装置。
  22. 【請求項22】 請求項1乃至20の何れか1項に記載
    の光走査装置と、外部機器から入力したコードデータを
    画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリ
    ンタコントローラとを有していることを特徴とする画像
    形成装置。
  23. 【請求項23】 請求項1乃至20の何れか1項の光走
    査装置を用いて、前記被走査面上に設けた感光ドラムに
    光束を導光することを特徴とするレーザービームプリン
    タ。
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