JP2003149879A - 静電写真用液体現像剤 - Google Patents
静電写真用液体現像剤Info
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- JP2003149879A JP2003149879A JP2001348924A JP2001348924A JP2003149879A JP 2003149879 A JP2003149879 A JP 2003149879A JP 2001348924 A JP2001348924 A JP 2001348924A JP 2001348924 A JP2001348924 A JP 2001348924A JP 2003149879 A JP2003149879 A JP 2003149879A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】現像−定着工程が迅速化され且つ大版サイズの
マスタープレートを用いる電子写真製版システムにおい
ても、分散安定性、再分散性及び定着性に優れた液体現
像剤を提供すること。 【解決手段】非水溶媒に可溶で重合により不溶となる単
量体(A)、一官能性マクロモノマー(MA)、特定の成分
を少なくとも含有する重合体で、上記非水溶媒にコロイ
ド状に分散してなる分散安定用樹脂(P)並びに平均粒
径が0.05〜1.0μmのシード粒子(CR)を含有
する分散液をシード重合反応させることによって得られ
る、重層構成の分散樹脂粒子(CSR)を、電気抵抗10
9Ω・cm以上誘電率3.5以下の非水溶媒中に分散して成る
静電写真用液体現像。
マスタープレートを用いる電子写真製版システムにおい
ても、分散安定性、再分散性及び定着性に優れた液体現
像剤を提供すること。 【解決手段】非水溶媒に可溶で重合により不溶となる単
量体(A)、一官能性マクロモノマー(MA)、特定の成分
を少なくとも含有する重合体で、上記非水溶媒にコロイ
ド状に分散してなる分散安定用樹脂(P)並びに平均粒
径が0.05〜1.0μmのシード粒子(CR)を含有
する分散液をシード重合反応させることによって得られ
る、重層構成の分散樹脂粒子(CSR)を、電気抵抗10
9Ω・cm以上誘電率3.5以下の非水溶媒中に分散して成る
静電写真用液体現像。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は静電写真用液体現像
剤に関するものであり、特に再分散性、定着性及びレジ
スト性の優れた液体現像剤に関する。
剤に関するものであり、特に再分散性、定着性及びレジ
スト性の優れた液体現像剤に関する。
【0002】
【従来の技術】一般の電子写真用液体現像剤はカーボン
ブラック、ニグロシン、フタロシアニンブルー等の有機
又は無機の顔料あるいは染料とアルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ロジン、合成ゴム等の天然又は合成樹脂を石油
系脂肪族炭化水素のような高絶縁性且つ低誘電率の液体
中に分散し、更に金属セッケン、レシチン、アマニ油、
高級脂肪酸、ビニルピロリドンを含有するポリマーなど
の荷電調整剤を加えたものである。このような現像剤中
では、樹脂は不溶性ラテックス粒子として直径数nm〜
数百nmの粒子状に分散されているが、従来の液体現像
剤においては可溶性分散安定用樹脂や荷電調整剤と不溶
性ラテックス粒子との結合が不充分な為に可溶性分散安
定用樹脂及び荷電調整剤が溶液中に拡散し易い状態にあ
った。この為、長時間の保存や繰り返し使用によって可
溶性分散安定用樹脂が不溶性ラテックス粒子から脱離
し、粒子が沈降、凝集、堆積したり、極性が不明瞭にな
る、という欠点があった。又、一度凝集、堆積した粒子
は再分散しにくいので現像機の随所に粒子が付着したま
まとなり、画像部の汚れや送液ポンプの目づまり等の現
像機の故障につながっていた。これらの改良として、不
活性ラテックス粒子を微小粒径で単分散性の良好なもの
として得る非水系分散重合方法が提案され、種々の検討
がなされてきた。例えば、米国特許第3,990,98
0号、同4,618,557号、特開平1−25796
9号、同2−74956号、同1−282566号、同
2−173667号等では可溶性分散安定用樹脂により
改良する方法が、又、米国特許第4,842,975
号、特開昭62−151868号、特開平1−2376
68号、同2−168276号、同3−13964号、
同3−20753号等では不溶化する単量体と物理化学
的相互作用を有する他の化合物を共存させることでラテ
ックス粒子の表面を改質する方法が記載され、粒子の分
散度、粒子径、再分散性、保存安定性を改良できると開
示されている。
ブラック、ニグロシン、フタロシアニンブルー等の有機
又は無機の顔料あるいは染料とアルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ロジン、合成ゴム等の天然又は合成樹脂を石油
系脂肪族炭化水素のような高絶縁性且つ低誘電率の液体
中に分散し、更に金属セッケン、レシチン、アマニ油、
高級脂肪酸、ビニルピロリドンを含有するポリマーなど
の荷電調整剤を加えたものである。このような現像剤中
では、樹脂は不溶性ラテックス粒子として直径数nm〜
数百nmの粒子状に分散されているが、従来の液体現像
剤においては可溶性分散安定用樹脂や荷電調整剤と不溶
性ラテックス粒子との結合が不充分な為に可溶性分散安
定用樹脂及び荷電調整剤が溶液中に拡散し易い状態にあ
った。この為、長時間の保存や繰り返し使用によって可
溶性分散安定用樹脂が不溶性ラテックス粒子から脱離
し、粒子が沈降、凝集、堆積したり、極性が不明瞭にな
る、という欠点があった。又、一度凝集、堆積した粒子
は再分散しにくいので現像機の随所に粒子が付着したま
まとなり、画像部の汚れや送液ポンプの目づまり等の現
像機の故障につながっていた。これらの改良として、不
活性ラテックス粒子を微小粒径で単分散性の良好なもの
として得る非水系分散重合方法が提案され、種々の検討
がなされてきた。例えば、米国特許第3,990,98
0号、同4,618,557号、特開平1−25796
9号、同2−74956号、同1−282566号、同
2−173667号等では可溶性分散安定用樹脂により
改良する方法が、又、米国特許第4,842,975
号、特開昭62−151868号、特開平1−2376
68号、同2−168276号、同3−13964号、
同3−20753号等では不溶化する単量体と物理化学
的相互作用を有する他の化合物を共存させることでラテ
ックス粒子の表面を改質する方法が記載され、粒子の分
散度、粒子径、再分散性、保存安定性を改良できると開
示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一方、電子写真技術を
応用したダイレクト平版印刷システムの実用化あるいは
開発が近年活発に行われている。これらのシステムは、
電子写真方式で電子写真感光材料の表面上にトナー画像
部を形成した後、処理することで非画像部分を親水性に
変換して平版印刷用原版とするものである。非画像部分
を親水化する方法として、当該部分を処理液で溶出させ
てしまい、電子写真感光層の下の支持体表面の親水性を
利用する方法、あるいは、感光層の非画像部分の表面部
分を親油性から親水性に改質する方法が主なものとして
挙げられる。
応用したダイレクト平版印刷システムの実用化あるいは
開発が近年活発に行われている。これらのシステムは、
電子写真方式で電子写真感光材料の表面上にトナー画像
部を形成した後、処理することで非画像部分を親水性に
変換して平版印刷用原版とするものである。非画像部分
を親水化する方法として、当該部分を処理液で溶出させ
てしまい、電子写真感光層の下の支持体表面の親水性を
利用する方法、あるいは、感光層の非画像部分の表面部
分を親油性から親水性に改質する方法が主なものとして
挙げられる。
【0004】後者の場合、従来知られている感光層の光
導電性酸化亜鉛を不感脂化処理する方法の改良として、
特開昭62−21669号、特開平1−191157
号、同2−15277号等には、感光層に用いられる結
着樹脂を処理により親水性に変換することで、親水性が
向上することが開示されている。これらのシステムで
は、親水化する処理において、トナー画像部は、処理液
に対して何ら変化しないまま画像部を維持することが重
要となる(以下、処理液に対するレジスト性と称す
る)。
導電性酸化亜鉛を不感脂化処理する方法の改良として、
特開昭62−21669号、特開平1−191157
号、同2−15277号等には、感光層に用いられる結
着樹脂を処理により親水性に変換することで、親水性が
向上することが開示されている。これらのシステムで
は、親水化する処理において、トナー画像部は、処理液
に対して何ら変化しないまま画像部を維持することが重
要となる(以下、処理液に対するレジスト性と称す
る)。
【0005】こうした電子写真製版システム用に公知の
再分散性良好な不溶性樹脂粒子を含有する液体現像剤を
用いると、非画像部の親水化を充分に行うと、トナーの
レジスト性が充分でないため、画像部の欠落が生じる場
合があった。特に、細線、文字あるいは網点部分といっ
たトナー画像部の面積が小さい所でこの問題は顕著とな
り、印刷物の特性低下がみられた。また、処理液に対し
て耐久性の大きい不溶性ラテックス粒子(例えばスチレ
ン系のラテックス等)は、レジスト性は充分に備えてい
るが、トナー粒子としての荷電安定性、再分散性が劣
り、また、トナー粒子の定着性が劣るため充分な定着に
は、高熱長時間の定着時間を要することから、装置設計
上問題となっていた。
再分散性良好な不溶性樹脂粒子を含有する液体現像剤を
用いると、非画像部の親水化を充分に行うと、トナーの
レジスト性が充分でないため、画像部の欠落が生じる場
合があった。特に、細線、文字あるいは網点部分といっ
たトナー画像部の面積が小さい所でこの問題は顕著とな
り、印刷物の特性低下がみられた。また、処理液に対し
て耐久性の大きい不溶性ラテックス粒子(例えばスチレ
ン系のラテックス等)は、レジスト性は充分に備えてい
るが、トナー粒子としての荷電安定性、再分散性が劣
り、また、トナー粒子の定着性が劣るため充分な定着に
は、高熱長時間の定着時間を要することから、装置設計
上問題となっていた。
【0006】本発明は、以上のような従来の液体現像剤
の有する問題を解決するものである。従って、本発明の
目的は、現像−定着工程が迅速化され且つ大版サイズの
マスタープレートを用いる電子写真製版システムにおい
ても、分散安定性、再分散性及び定着性に優れた液体現
像剤を提供することである。本発明の他の目的は、電子
写真製版システムにおいて、分散安定性、再分散性、荷
電安定性、定着性、親水化処理液レジスト性に優れた液
体現像剤を提供することである。本発明の他の目的は、
優れた印刷インク感脂性と耐刷性を有するオフセット印
刷用原版の電子写真法による作成を可能にする液体現像
剤を提供することである。本発明の更に他の目的は、各
種静電写真法を利用する画像形成に好適な液体現像剤を
提供することである。
の有する問題を解決するものである。従って、本発明の
目的は、現像−定着工程が迅速化され且つ大版サイズの
マスタープレートを用いる電子写真製版システムにおい
ても、分散安定性、再分散性及び定着性に優れた液体現
像剤を提供することである。本発明の他の目的は、電子
写真製版システムにおいて、分散安定性、再分散性、荷
電安定性、定着性、親水化処理液レジスト性に優れた液
体現像剤を提供することである。本発明の他の目的は、
優れた印刷インク感脂性と耐刷性を有するオフセット印
刷用原版の電子写真法による作成を可能にする液体現像
剤を提供することである。本発明の更に他の目的は、各
種静電写真法を利用する画像形成に好適な液体現像剤を
提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記諸目的は、以下の静
電写真用液体現像剤により達成されることが見出され
た。
電写真用液体現像剤により達成されることが見出され
た。
【0008】(1)電気抵抗109Ωcm以上、且つ誘電
率3.5以下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分
散して成る静電写真用液体現像剤において、上記分散樹
脂粒子が、非水溶媒中に、上記非水溶媒に可溶であっ
て、重合することにより不溶となる一官能性単量体
(A)の少なくとも一種、下記一般式(I)で示される
重合成分を少なくとも含有する、該非水溶媒にコロイド
状に分散してなる分散安定用樹脂(P)の少なくとも一
種、並びに平均粒径が0.05〜1.0μmのシード粒
子(CR)を含有する分散液をシード重合反応させるこ
とによって得られる、重層構成の分散樹脂粒子(CS
R)であることを特徴とする静電写真用液体現像剤。
率3.5以下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分
散して成る静電写真用液体現像剤において、上記分散樹
脂粒子が、非水溶媒中に、上記非水溶媒に可溶であっ
て、重合することにより不溶となる一官能性単量体
(A)の少なくとも一種、下記一般式(I)で示される
重合成分を少なくとも含有する、該非水溶媒にコロイド
状に分散してなる分散安定用樹脂(P)の少なくとも一
種、並びに平均粒径が0.05〜1.0μmのシード粒
子(CR)を含有する分散液をシード重合反応させるこ
とによって得られる、重層構成の分散樹脂粒子(CS
R)であることを特徴とする静電写真用液体現像剤。
【0009】
【化7】
一般式(MI)中:U0は−COO−、−OCO−、−
(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−O−、−
SO2−、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、−CON(D11)−、−SO2N(D11)−、また
はフェニレン基を表す(ここでD11は水素原子または炭
素数1〜22の炭化水素基を示し、rは1〜4の整数を
示す)。a1およびa2は、互いに同じでも異なっていて
もよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数1〜7の炭化水素基、−COO−D12、または炭化水
素基を介した−COO−D12を表す(ここでD12は水素
原子または炭素数1〜22の炭化水素基を示す)。D0
は、炭素数8〜22の炭化水素基または総原子数8以上
(但し、炭素原子又は窒素原子に直接結合する水素原子
は除く)の下記一般式(MIa)で示される置換基を表す。 一般式(MIa) −(A1−B1)m−(A2−B2)n −D21 一般式(MIa)中、D21は水素原子または炭素数1〜22
の炭化水素基を表す。B1 およびB2 は、互いに同じで
も異なっていてもよく、各々−O−、−CO−、−CO
2 −、−OCO−、−SO2 −、−N(D22)−、−C
ON(D22)−または−N(D22)CO−を表す(ここ
でD22は上記D21と同義である)。mおよびnは、互い
に同じでも異なっていてもよく、各々0〜4の整数を表
す。ただし、mおよびnが同時に0になることはない。
A1 およびA2 は、互いに同じでも異なっていてもよ
く、各々下記一般式(MIb)で示される基及び炭素数1〜
18の炭化水素基のうちから選択される少なくとも1つ
の基を表す。
(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−O−、−
SO2−、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、−CON(D11)−、−SO2N(D11)−、また
はフェニレン基を表す(ここでD11は水素原子または炭
素数1〜22の炭化水素基を示し、rは1〜4の整数を
示す)。a1およびa2は、互いに同じでも異なっていて
もよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数1〜7の炭化水素基、−COO−D12、または炭化水
素基を介した−COO−D12を表す(ここでD12は水素
原子または炭素数1〜22の炭化水素基を示す)。D0
は、炭素数8〜22の炭化水素基または総原子数8以上
(但し、炭素原子又は窒素原子に直接結合する水素原子
は除く)の下記一般式(MIa)で示される置換基を表す。 一般式(MIa) −(A1−B1)m−(A2−B2)n −D21 一般式(MIa)中、D21は水素原子または炭素数1〜22
の炭化水素基を表す。B1 およびB2 は、互いに同じで
も異なっていてもよく、各々−O−、−CO−、−CO
2 −、−OCO−、−SO2 −、−N(D22)−、−C
ON(D22)−または−N(D22)CO−を表す(ここ
でD22は上記D21と同義である)。mおよびnは、互い
に同じでも異なっていてもよく、各々0〜4の整数を表
す。ただし、mおよびnが同時に0になることはない。
A1 およびA2 は、互いに同じでも異なっていてもよ
く、各々下記一般式(MIb)で示される基及び炭素数1〜
18の炭化水素基のうちから選択される少なくとも1つ
の基を表す。
【0010】
【化8】
一般式(MIb)中、B3 およびB4 は、互いに同じでも異
なっていてもよく、上記B1 、B2 と同義であり、A4
は炭素数1〜18の炭化水素基を示し、D23は上記D21
と同義である。pは0〜4の整数を表す。
なっていてもよく、上記B1 、B2 と同義であり、A4
は炭素数1〜18の炭化水素基を示し、D23は上記D21
と同義である。pは0〜4の整数を表す。
【0011】
【化9】
一般式(MIc)中、U1 は−COO−、−CONHCO
O−、−CONHCONH−、−CONH−またはフェ
ニレン基を表す。a11およびa12は、互いに同じでも異な
っていてもよく、式(MI)中のa1、a2と同義である。
O−、−CONHCONH−、−CONH−またはフェ
ニレン基を表す。a11およびa12は、互いに同じでも異な
っていてもよく、式(MI)中のa1、a2と同義である。
【0012】
【化10】
【0013】一般式(I)中、V0 は−COO−、−OC
O−、−(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−
O−又は
O−、−(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−
O−又は
【0014】
【化11】
【0015】(ここでXは直接結合、−O−、−OCO
−又は−COO−を表す)を表す。rは1〜12の整数
を表す。Lは、炭素数8〜32のアルキル基または炭素
数8〜32のアルケニル基を表す。b1およびb2は互い
に同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−D1 、また
は炭化水素基を介した−COO−D1 を表す(ここでD
1 は水素原子または置換されてもよい炭化水素基を示
す)。 (2)分散安定用樹脂(P)が、一般式(I)で示され
る重合成分を少なくとも含有するブロックと、該一般式
(I)で示される重合成分を含有しないブロックとから
なるブロック共重合体であることを特徴とする前記
(1)記載の静電写真用液体現像剤。 (3)前記非水溶媒分散液が、更に、下記一般式(II
I)で表されるアミノ基を有する、単量体(A)と共重
合可能な一官能性単量体(C)の少なくとも1種を含有
することを特徴とする前記(1)または(2)記載の静
電写真用液体現像剤。
−又は−COO−を表す)を表す。rは1〜12の整数
を表す。Lは、炭素数8〜32のアルキル基または炭素
数8〜32のアルケニル基を表す。b1およびb2は互い
に同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−D1 、また
は炭化水素基を介した−COO−D1 を表す(ここでD
1 は水素原子または置換されてもよい炭化水素基を示
す)。 (2)分散安定用樹脂(P)が、一般式(I)で示され
る重合成分を少なくとも含有するブロックと、該一般式
(I)で示される重合成分を含有しないブロックとから
なるブロック共重合体であることを特徴とする前記
(1)記載の静電写真用液体現像剤。 (3)前記非水溶媒分散液が、更に、下記一般式(II
I)で表されるアミノ基を有する、単量体(A)と共重
合可能な一官能性単量体(C)の少なくとも1種を含有
することを特徴とする前記(1)または(2)記載の静
電写真用液体現像剤。
【化12】
一般式(III)中、R1及びR2は、同じでも異なっても
よく、各々水素原子又は炭素数1〜22の炭化水素基を
表すか、R1とR2が結合して窒素原子とともに環を形成
してもよい。 (4)前記非水溶媒分散液が、更に、−PO3H2 基、
−SO3H基及び−SO2H基から選ばれる酸性基を少な
くとも1つ含有する、単量体(A)と共重合可能な一官
能性単量体(D)の少なくとも1種を含有することを特
徴とする前記(3)に記載の静電写真用液体現像剤。
よく、各々水素原子又は炭素数1〜22の炭化水素基を
表すか、R1とR2が結合して窒素原子とともに環を形成
してもよい。 (4)前記非水溶媒分散液が、更に、−PO3H2 基、
−SO3H基及び−SO2H基から選ばれる酸性基を少な
くとも1つ含有する、単量体(A)と共重合可能な一官
能性単量体(D)の少なくとも1種を含有することを特
徴とする前記(3)に記載の静電写真用液体現像剤。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に本発明の静電写真用液体現
像剤について説明する。本発明の静電写真用液体現像剤
に用いる電気抵抗109Ω・ cm以上かつ誘電率3.5以
下の非水溶媒としては、好ましくは直鎖状もしくは分岐
状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水
素、これら炭化水素のハロゲン置換体、及びシリコーン
液体、シリコーンオイルなどのシリコーン溶媒等が挙げ
られる。
像剤について説明する。本発明の静電写真用液体現像剤
に用いる電気抵抗109Ω・ cm以上かつ誘電率3.5以
下の非水溶媒としては、好ましくは直鎖状もしくは分岐
状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水
素、これら炭化水素のハロゲン置換体、及びシリコーン
液体、シリコーンオイルなどのシリコーン溶媒等が挙げ
られる。
【0017】例えば、炭化水素系溶媒としては、ペンタ
ン、イソへプタン、オクタン、イソオクタン、デカン、
イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカ
ン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパ
ーE、アイソパーG、アイソパーH,アイソパーL(ア
イソパー;エクソン社の商品名)、シェルゾール70、
シェルゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商
品名)、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムス
コ;スピリッツ社の商品名)等がある。
ン、イソへプタン、オクタン、イソオクタン、デカン、
イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカ
ン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパ
ーE、アイソパーG、アイソパーH,アイソパーL(ア
イソパー;エクソン社の商品名)、シェルゾール70、
シェルゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商
品名)、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムス
コ;スピリッツ社の商品名)等がある。
【0018】ハロゲン置換の炭化水素系溶媒としてフル
オロカーボン系溶媒があり、例えばC7F16、C8F18な
どのCnF2n+2で表されるパーフルオロアルカン類(住
友3M社製「フロリナートPF5080」、「フローリ
ナートPF5070」(商品名)等)、フッ素系不活性
液体(住友3M社製「フロリナートFCシリーズ」(商
品名)等)、フルオロカーボン類(デュポンジャパンリ
ミテッド社製「クライトックスGPLシリーズ」(商品
名)等)、フロン類(ダイキン工業株式会社製「HCF
C−141b 」(商品名)等)、F(CF2)4CH2CH
2I、F(CF2)6I等のヨウ素化フルオロカーボン類
(ダイキンファインケミカル研究所製「I−142
0」、「I−1600」(商品名)等)等がある。
オロカーボン系溶媒があり、例えばC7F16、C8F18な
どのCnF2n+2で表されるパーフルオロアルカン類(住
友3M社製「フロリナートPF5080」、「フローリ
ナートPF5070」(商品名)等)、フッ素系不活性
液体(住友3M社製「フロリナートFCシリーズ」(商
品名)等)、フルオロカーボン類(デュポンジャパンリ
ミテッド社製「クライトックスGPLシリーズ」(商品
名)等)、フロン類(ダイキン工業株式会社製「HCF
C−141b 」(商品名)等)、F(CF2)4CH2CH
2I、F(CF2)6I等のヨウ素化フルオロカーボン類
(ダイキンファインケミカル研究所製「I−142
0」、「I−1600」(商品名)等)等がある。
【0019】シリコーン液体、シリコーンオイルのシリ
コン溶媒としては、ジアルキルポリシロキサン(例え
ば、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキ
サン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルトリ
シロキサン、ヘプタメチルトリシロキサン、デカメチル
テトラシロキサン、トリフロロプロピルヘプタメチルト
リシロキサン、ジエチルテトラメチルジシロキサン
等)、環状ジアルキルポリシロキサン(例えば、ヘキサ
メチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、
テトラ(トリフロロプロピル)テトラメチルシクロテト
ラシロキサン、等)、メチルフェニルシリコンオイル
(例えば、KF56、KF58(信越シリコン(株)製
商品名)等)等が挙げられる。
コン溶媒としては、ジアルキルポリシロキサン(例え
ば、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキ
サン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルトリ
シロキサン、ヘプタメチルトリシロキサン、デカメチル
テトラシロキサン、トリフロロプロピルヘプタメチルト
リシロキサン、ジエチルテトラメチルジシロキサン
等)、環状ジアルキルポリシロキサン(例えば、ヘキサ
メチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、
テトラ(トリフロロプロピル)テトラメチルシクロテト
ラシロキサン、等)、メチルフェニルシリコンオイル
(例えば、KF56、KF58(信越シリコン(株)製
商品名)等)等が挙げられる。
【0020】本発明では、これらの溶媒を単独または混
合して用いる。なお、このような非水溶媒の電気抵抗の
上限値は1016Ω・cm程度であり、誘電率の下限値は
1.80程度であることが好ましい。
合して用いる。なお、このような非水溶媒の電気抵抗の
上限値は1016Ω・cm程度であり、誘電率の下限値は
1.80程度であることが好ましい。
【0021】本発明の液体現像剤における分散樹脂粒子
(CSR)(以下、ラテックス粒子と称することもあ
る)は、非水溶媒において、特定の成分を含有する分散
安定用樹脂(P)の存在下に、少なくとも一官能性単量
体(A)と一官能性マクロモノマー(MA)と平均粒径
0.05〜1.0μmのシード粒子(CR)とを重合造
粒することによって得られたものである。
(CSR)(以下、ラテックス粒子と称することもあ
る)は、非水溶媒において、特定の成分を含有する分散
安定用樹脂(P)の存在下に、少なくとも一官能性単量
体(A)と一官能性マクロモノマー(MA)と平均粒径
0.05〜1.0μmのシード粒子(CR)とを重合造
粒することによって得られたものである。
【0022】ここで、非水溶媒としては、基本的には、
前記液体現像剤の非水溶媒に混和するものであれば使用
可能である。
前記液体現像剤の非水溶媒に混和するものであれば使用
可能である。
【0023】すなわち、分散樹脂粒子を製造するに際し
て用いる溶媒としては、好ましくは直鎖状もしくは分岐
状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素
およびこれらのハロゲン置換体等が挙げられる。例えば
オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリ
ン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、アイソパーE、
アイソパーG、アイソパーH、アイソパーL、シェルゾ
ール70、シェルゾール71、アムスコOMS、アムス
コ460溶剤等を単独あるいは混合して用いる。
て用いる溶媒としては、好ましくは直鎖状もしくは分岐
状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素
およびこれらのハロゲン置換体等が挙げられる。例えば
オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリ
ン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、アイソパーE、
アイソパーG、アイソパーH、アイソパーL、シェルゾ
ール70、シェルゾール71、アムスコOMS、アムス
コ460溶剤等を単独あるいは混合して用いる。
【0024】これらの非水溶媒と共に、混合して使用で
きる有機溶媒としては、アルコール類(例えば、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、フッ化アルコ
ール等)、ケトン類(例えば、メチルエチルケトン、ア
セトフェノン、シクロヘキサノン等)、カルボン酸エス
テル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト等)、エーテル類(例えば、ジプロピルエーテル、エ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、
クロロホルム、ジクロロエタン、メチルクロロホルム
等)等が挙げられる。
きる有機溶媒としては、アルコール類(例えば、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、フッ化アルコ
ール等)、ケトン類(例えば、メチルエチルケトン、ア
セトフェノン、シクロヘキサノン等)、カルボン酸エス
テル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト等)、エーテル類(例えば、ジプロピルエーテル、エ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、
クロロホルム、ジクロロエタン、メチルクロロホルム
等)等が挙げられる。
【0025】これらの混合して使用する有機溶媒は、重
合造粒後、加熱あるいは減圧下で留去することが望まし
いが、ラテックス粒子分散物として、液体現像剤に持ち
込まれても、現像剤の抵抗が109Ω・cm以上という
条件を満足できる範囲であれば問題とならない。
合造粒後、加熱あるいは減圧下で留去することが望まし
いが、ラテックス粒子分散物として、液体現像剤に持ち
込まれても、現像剤の抵抗が109Ω・cm以上という
条件を満足できる範囲であれば問題とならない。
【0026】通常、樹脂分散物製造の段階で液体現像剤
の非水溶媒と同様の溶媒を用いることが好ましく、前述
のごとく、直鎖状もしくは分岐状の脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素な
どが挙げられる。
の非水溶媒と同様の溶媒を用いることが好ましく、前述
のごとく、直鎖状もしくは分岐状の脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素な
どが挙げられる。
【0027】本発明の分散樹脂粒子(CSR)は、シー
ド粒子(CR)からなるコア層と、その外側にシェル層
を有する重層構成の粒子であり、単量体(A)、マクロ
モノマー(MA)、必要により用いられる単量体(C)
及び単量体(D)は、重合ないし共重合して非水溶媒に
不溶のシェル層を構成する樹脂となる。
ド粒子(CR)からなるコア層と、その外側にシェル層
を有する重層構成の粒子であり、単量体(A)、マクロ
モノマー(MA)、必要により用いられる単量体(C)
及び単量体(D)は、重合ないし共重合して非水溶媒に
不溶のシェル層を構成する樹脂となる。
【0028】本発明に用いられる一官能性単量体(A)
は、非水溶媒には可溶であるが重合することによって不
溶化する一官能性単量体であればいずれでもよい。具体
的には、例えば下記一般式(IV)で表される単量体が挙げ
られる。
は、非水溶媒には可溶であるが重合することによって不
溶化する一官能性単量体であればいずれでもよい。具体
的には、例えば下記一般式(IV)で表される単量体が挙げ
られる。
【0029】
【化13】
【0030】一般式(IV)中、V2は−COO−、−OC
O−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−
CONHCOO−、−CONHOCO−、−SO2−、
−CON(Q1)−、−SO2N(Q1)−、またはフェニ
レン基(以下、フェニレン基を「−Ph−」と記載する
こともある。なお、フェニレン基は1,2−、1,3−
および1,4−フエニレン基を包含する。)を表す。こ
こでQ1は、水素原子または炭素数1〜8の置換されて
いてもよい脂肪族基(たとえば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロ
モエチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メチルベンジル
基、メトキシベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ジメチルベンジル基、フロロベンジル基、
2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基等)を
表す。
O−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−
CONHCOO−、−CONHOCO−、−SO2−、
−CON(Q1)−、−SO2N(Q1)−、またはフェニ
レン基(以下、フェニレン基を「−Ph−」と記載する
こともある。なお、フェニレン基は1,2−、1,3−
および1,4−フエニレン基を包含する。)を表す。こ
こでQ1は、水素原子または炭素数1〜8の置換されて
いてもよい脂肪族基(たとえば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロ
モエチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メチルベンジル
基、メトキシベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ジメチルベンジル基、フロロベンジル基、
2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基等)を
表す。
【0031】Tは水素原子または炭素数1〜6の置換さ
れてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジ
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシ
エチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒド
ロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピ
ル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2
−ニトロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタン
スルホニルエチル基、2−エトキシエチル基、3−ブロ
モプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−フルフリ
ルエチル基、2−チエニルエチル基、2−カルボキシエ
チル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブ
チル基、2−カルボキシアミドエチル基、2−N−メチ
ルカルボキシアミドエチル基、シクロペンチル基、クロ
ロシクロヘキシル基、ジクロロヘキシル基等)を表す。
れてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジ
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシ
エチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒド
ロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピ
ル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2
−ニトロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタン
スルホニルエチル基、2−エトキシエチル基、3−ブロ
モプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−フルフリ
ルエチル基、2−チエニルエチル基、2−カルボキシエ
チル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブ
チル基、2−カルボキシアミドエチル基、2−N−メチ
ルカルボキシアミドエチル基、シクロペンチル基、クロ
ロシクロヘキシル基、ジクロロヘキシル基等)を表す。
【0032】d1およびd2は、互いに同じでも異なって
もよく、好ましくは各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)、−COO−Q2または−CH2−COO−Q2〔こ
こでQ2は水素原子、または置換されてもよい炭素数1
0以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基、アリール基等を表す〕を表す。
もよく、好ましくは各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)、−COO−Q2または−CH2−COO−Q2〔こ
こでQ2は水素原子、または置換されてもよい炭素数1
0以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基、アリール基等を表す〕を表す。
【0033】具体的な一官能性単量体(A)としては、
例えば炭素数1〜6の脂肪族カルボン酸(酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、モノクロロ酢酸等)のビニルエステル類
あるいはアリルエステル類;アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸の炭素数1〜4の置換されてもよいアルキルエ
ステル類またはアミド類(アルキル基として例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−シアノエチル基、2−ニトロエチル基、2−メ
トキシエチル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−
ベンゼンスルホニルエチル基、2−カルボキシエチル
基、4−カルボキシブチル基、3−クロロプロピル基、
2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−フルフリ
ルエチル基、2−チエニルエチル基、2−カルボキシア
ミドエチル基等);
例えば炭素数1〜6の脂肪族カルボン酸(酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、モノクロロ酢酸等)のビニルエステル類
あるいはアリルエステル類;アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸の炭素数1〜4の置換されてもよいアルキルエ
ステル類またはアミド類(アルキル基として例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−シアノエチル基、2−ニトロエチル基、2−メ
トキシエチル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−
ベンゼンスルホニルエチル基、2−カルボキシエチル
基、4−カルボキシブチル基、3−クロロプロピル基、
2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−フルフリ
ルエチル基、2−チエニルエチル基、2−カルボキシア
ミドエチル基等);
【0034】スチレン誘導体(例えば、スチレン、ビニ
ルトルエン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ビニルベンゼンカルボン酸、クロロメチルスチレン、ヒ
ドロキシメチルスチレン、メトキシメチルスチレン、ビ
ニルベンゼンカルボキシアミド、ビニルベンゼンスルホ
アミド等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;マレイ
ン酸、イタコン酸の環状酸無水物;アクリロニトリル;
メタクリロニトリル;重合性二重結合基含有のヘテロ環
化合物(具体的には、例えば高分子学会編「高分子デー
タハンドブック−基礎編−」、p175〜184、培風
舘(1986年刊)に記載の化合物、例えば、N−ビニ
ルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルテトラヒドロフラ
ン、ビニルオキサゾリン、ビニルチアゾール、N−ビニ
ルモルホリン等)等が挙げられる。単量体(A)は2種
以上を併用してもよい。
ルトルエン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ビニルベンゼンカルボン酸、クロロメチルスチレン、ヒ
ドロキシメチルスチレン、メトキシメチルスチレン、ビ
ニルベンゼンカルボキシアミド、ビニルベンゼンスルホ
アミド等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;マレイ
ン酸、イタコン酸の環状酸無水物;アクリロニトリル;
メタクリロニトリル;重合性二重結合基含有のヘテロ環
化合物(具体的には、例えば高分子学会編「高分子デー
タハンドブック−基礎編−」、p175〜184、培風
舘(1986年刊)に記載の化合物、例えば、N−ビニ
ルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルテトラヒドロフラ
ン、ビニルオキサゾリン、ビニルチアゾール、N−ビニ
ルモルホリン等)等が挙げられる。単量体(A)は2種
以上を併用してもよい。
【0035】次に、本発明に用いられる一官能性マクロ
モノマー(MA)について説明する。
モノマー(MA)について説明する。
【0036】一官能性マクロモノマー(MA)は、前記
一般式(MI)で示される単量体相当の繰返し単位からな
る重合体の主鎖の一方の末端にのみ前記一般式(MIc)
で示される重合性二重結合基を結合してなる質量平均分
子量が2×104 以下のマクロモノマーである。
一般式(MI)で示される単量体相当の繰返し単位からな
る重合体の主鎖の一方の末端にのみ前記一般式(MIc)
で示される重合性二重結合基を結合してなる質量平均分
子量が2×104 以下のマクロモノマーである。
【0037】一般式(MI)および(MIc)において
a1 、a2 、U0 、D0 、a11およびa1 2に含まれる炭
化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭化水素基と
しての)を有するが、これら炭化水素基はハロゲン原
子、アシル基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アル
コキシ基、アルキルもしくはハロアルキルで置換されて
もよいアリール基、アミド基等で置換されていてもよ
い。
a1 、a2 、U0 、D0 、a11およびa1 2に含まれる炭
化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭化水素基と
しての)を有するが、これら炭化水素基はハロゲン原
子、アシル基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アル
コキシ基、アルキルもしくはハロアルキルで置換されて
もよいアリール基、アミド基等で置換されていてもよ
い。
【0038】一般式(MI)において、U0 で示される置
換基中のD11の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1〜
22の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロ
ロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリ
デセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リ
ノレニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)または炭素数6〜12の置換
されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオンアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル
基等)が挙げられる。
換基中のD11の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1〜
22の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロ
ロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリ
デセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リ
ノレニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)または炭素数6〜12の置換
されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオンアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル
基等)が挙げられる。
【0039】U0 が−Ph−(フェニレン基)を表わす
場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。置換基と
しては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子
等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)等が挙げられる。
場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。置換基と
しては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子
等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)等が挙げられる。
【0040】a1 及びa2 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3
のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基等)、−COO−D13、または−CH2 COO−D13
(D13は、水素原子または炭素数18以下、より好まし
くは炭素数12以下のアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、脂環式基もしくはアリール基を表わし、これ
らは置換されていてもよく、具体的には、上記D11につ
いて説明したものと同様である)を表わす。
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3
のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基等)、−COO−D13、または−CH2 COO−D13
(D13は、水素原子または炭素数18以下、より好まし
くは炭素数12以下のアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、脂環式基もしくはアリール基を表わし、これ
らは置換されていてもよく、具体的には、上記D11につ
いて説明したものと同様である)を表わす。
【0041】D0 が炭素数8〜22の炭化水素基を表す
場合、具体的には、上記したD11について説明したもの
と同様である。
場合、具体的には、上記したD11について説明したもの
と同様である。
【0042】D0 が総原子数8以上(但し、炭素原子ま
たは窒素原子に直接結合する水素原子は除く)の前記一
般式(MIa)で示される置換基を表す場合について詳しく
説明する。
たは窒素原子に直接結合する水素原子は除く)の前記一
般式(MIa)で示される置換基を表す場合について詳しく
説明する。
【0043】A1 およびA2 は、前記式(MIb)で示され
る基及び炭素数1 〜18の炭化水素基(炭化水素基とし
て、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式
基が挙げられ、具体例としてはD11において挙げた具体
例と同様のものが挙げられる)のうちから選択される少
なくとも1つの基を表す(但し、2つ以上の場合はこれ
らの式(MIb)の基及び/又は炭化水素基の任意の組合せ
を表す)。
る基及び炭素数1 〜18の炭化水素基(炭化水素基とし
て、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式
基が挙げられ、具体例としてはD11において挙げた具体
例と同様のものが挙げられる)のうちから選択される少
なくとも1つの基を表す(但し、2つ以上の場合はこれ
らの式(MIb)の基及び/又は炭化水素基の任意の組合せ
を表す)。
【0044】A1 およびA2 について更に具体例を挙げ
ると、これらは、−C(D31)(D 32)−〔D31、D32
は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子等を表す〕、−
(CH=CH)−、フェニレン基(−Ph−)、シクロ
へキシレン基〔以下、シクロへキシレン基を「−C6 H
10−」で表し、「−C6 H10−」は1,2−シクロへキ
シレン基、1,3−シクロへキシレン基、1,4−シク
ロへキシレン基を包含する〕、前記式(MIb)で示される
基等の原子団の任意の組み合わせで構成されるものであ
る。
ると、これらは、−C(D31)(D 32)−〔D31、D32
は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子等を表す〕、−
(CH=CH)−、フェニレン基(−Ph−)、シクロ
へキシレン基〔以下、シクロへキシレン基を「−C6 H
10−」で表し、「−C6 H10−」は1,2−シクロへキ
シレン基、1,3−シクロへキシレン基、1,4−シク
ロへキシレン基を包含する〕、前記式(MIb)で示される
基等の原子団の任意の組み合わせで構成されるものであ
る。
【0045】D0 が総原子数8以上の一般式(MIa)で示
される置換基を表す場合、式(MI)中の結合基〔−U0
−(A1 −B1 )m −(A2 −B2 )n −D21〕におい
て、U0 からD21(すなわち、U0 、A1 、B1 、
A2 、B2 、D21)で構成される「連結主鎖」はその連
結主鎖を構成する原子数の総和が8以上であることが好
ましい。
される置換基を表す場合、式(MI)中の結合基〔−U0
−(A1 −B1 )m −(A2 −B2 )n −D21〕におい
て、U0 からD21(すなわち、U0 、A1 、B1 、
A2 、B2 、D21)で構成される「連結主鎖」はその連
結主鎖を構成する原子数の総和が8以上であることが好
ましい。
【0046】ここで、「連結主鎖」を構成する原子数と
は、例えば、U0 が−COO−や−CONH−を表す場
合、オキソ基(=O基)や水素原子はその原子数として
含まれず、連結主鎖を構成する炭素原子、エーテル型酸
素原子、窒素原子はその原子数として含まれることを意
味する。従って、−COO−や−CONH−は原子数2
として数えられる。同時に、D21が−C9 H19を表す場
合、水素原子はその原子数として含まれず、炭素原子は
含まれる。従って、この場合は原子数9として数えられ
る。
は、例えば、U0 が−COO−や−CONH−を表す場
合、オキソ基(=O基)や水素原子はその原子数として
含まれず、連結主鎖を構成する炭素原子、エーテル型酸
素原子、窒素原子はその原子数として含まれることを意
味する。従って、−COO−や−CONH−は原子数2
として数えられる。同時に、D21が−C9 H19を表す場
合、水素原子はその原子数として含まれず、炭素原子は
含まれる。従って、この場合は原子数9として数えられ
る。
【0047】なお、A1 、A2 が前記式(MIb)で示され
る基を有する場合における〔−B3−(A4 −B4 )p
−D23〕基も前記「連結主鎖」に含まれる。
る基を有する場合における〔−B3−(A4 −B4 )p
−D23〕基も前記「連結主鎖」に含まれる。
【0048】以上のような一般式(MI)で示される単量
体において、D0 が前記一般式(MIa)で示される置換基
を表す場合、具体的には下記の単量体を例として挙げる
ことができる。なお、下記式(1)〜(19)中、各記
号は以下の内容を表す。
体において、D0 が前記一般式(MIa)で示される置換基
を表す場合、具体的には下記の単量体を例として挙げる
ことができる。なお、下記式(1)〜(19)中、各記
号は以下の内容を表す。
【0049】r1 :−H、−CH3 、−Clまたは−C
N、 r2 :−Hまたは−CH3 l:2〜10の整数、 p:2〜6の整数、 q:2〜4の整数、 m:1〜12の整数、 n:4〜18の整数、
N、 r2 :−Hまたは−CH3 l:2〜10の整数、 p:2〜6の整数、 q:2〜4の整数、 m:1〜12の整数、 n:4〜18の整数、
【0050】
【化14】
【0051】
【化15】
【0052】
【化16】
【0053】本発明に供されるマクロモノマー(MA)
は、上述のように、一般式(MI)で示される単量体に相
当する繰り返し単位からなる重合体主鎖の一方の末端に
のみ、一般式(MIc)で示される重合性二重結合基が、
直接結合するか、あるいは、任意の連結基を介して結合
された化学構造を有するものである。
は、上述のように、一般式(MI)で示される単量体に相
当する繰り返し単位からなる重合体主鎖の一方の末端に
のみ、一般式(MIc)で示される重合性二重結合基が、
直接結合するか、あるいは、任意の連結基を介して結合
された化学構造を有するものである。
【0054】式(MIc)中、U1 は、−COO−、−C
ONHCOO−、−CONHCONH−、−CONH−
またはフェニレン基を表す。ここでフェニレン基の具体
的態様は、式(MI)中のU0 におけるフェニレン基と同
様である。
ONHCOO−、−CONHCONH−、−CONH−
またはフェニレン基を表す。ここでフェニレン基の具体
的態様は、式(MI)中のU0 におけるフェニレン基と同
様である。
【0055】a11およびa12は、互いに同じでも異なっ
ていてもよく、式(MI)中のa1 またはa2 と同義であ
る。式(MIc)のa11およびa12のいずれか一方が水素
原子であることがより好ましい。
ていてもよく、式(MI)中のa1 またはa2 と同義であ
る。式(MIc)のa11およびa12のいずれか一方が水素
原子であることがより好ましい。
【0056】式(MI)成分と式(MIc)成分を連結する
基としては、炭素原子−炭素原子結合(一重結合あるい
は二重結合)、炭素原子−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子
としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケ
イ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の
任意の組合せで構成されるものである。
基としては、炭素原子−炭素原子結合(一重結合あるい
は二重結合)、炭素原子−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子
としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケ
イ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の
任意の組合せで構成されるものである。
【0057】本発明のマクロモノマー(MA)のうち好
ましいものは下記一般式(MA−a)で示される如きも
のである。
ましいものは下記一般式(MA−a)で示される如きも
のである。
【0058】
【化17】
【0059】一般式(MA−a)中、Z以外は、式(M
I)および(MIc)中の各記号と同義である。
I)および(MIc)中の各記号と同義である。
【0060】Zは、単なる結合または、−C(D41)
(D42)−〔D41、D42は、各々、水素原子、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基等を示す〕、−(CH=C
H)−、−C6 H10−(シクロヘキシレン基)、−Ph
−(フェニレン基)、−O−、−S−、−CO−、−N
(D43)−、−COO−、−SO−、−CON(D43)
−、−SON(D43)−、−NHCOO−、−NHCO
NH−、−Si(D43)(D44)−〔D43、D44は、各
々、水素原子、前記D11と同様の炭化水素基を示す〕、
下記に示す連結基、等の原子団から選ばれた単独の連結
基又はこれらの2以上の原子団の任意の組合せで構成さ
れた連結基を表す。
(D42)−〔D41、D42は、各々、水素原子、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基等を示す〕、−(CH=C
H)−、−C6 H10−(シクロヘキシレン基)、−Ph
−(フェニレン基)、−O−、−S−、−CO−、−N
(D43)−、−COO−、−SO−、−CON(D43)
−、−SON(D43)−、−NHCOO−、−NHCO
NH−、−Si(D43)(D44)−〔D43、D44は、各
々、水素原子、前記D11と同様の炭化水素基を示す〕、
下記に示す連結基、等の原子団から選ばれた単独の連結
基又はこれらの2以上の原子団の任意の組合せで構成さ
れた連結基を表す。
【0061】
【化18】
【0062】式(MA−a)において、a1 、a2 、a
11、a12、U0 およびU1 の各々について、特に好まし
い例を次に示す。
11、a12、U0 およびU1 の各々について、特に好まし
い例を次に示す。
【0063】U0 としては、−COO−、−OCO−、
−O−、−CH2 COO−または−CH2 OCO−が、
U1 としては前記のものすべてが、a1 、a2 、a11、
a12としては水素原子またはメチル基が挙げられる。
−O−、−CH2 COO−または−CH2 OCO−が、
U1 としては前記のものすべてが、a1 、a2 、a11、
a12としては水素原子またはメチル基が挙げられる。
【0064】以下に、一般式(MA−a)中における下
記一般式(MI')で示される部分の具体的な例を示す。
しかし、本発明はこれらに限定されるものではない。
記一般式(MI')で示される部分の具体的な例を示す。
しかし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0065】
【化19】
【0066】以下において、bは−Hまたは−CH
3 を;m1は1〜12の整数を;n1は2〜12の整数
を示す。
3 を;m1は1〜12の整数を;n1は2〜12の整数
を示す。
【0067】
【化20】
【0068】
【化21】
【0069】
【化22】
【0070】
【化23】
【0071】また、本発明に供されるマクロモノマー
(MA)は、一般式(MI)で示される単量体相当の繰返
し単位とともに、他の繰返し単位を共重合成分として含
有してもよい。
(MA)は、一般式(MI)で示される単量体相当の繰返
し単位とともに、他の繰返し単位を共重合成分として含
有してもよい。
【0072】他の共重合成分としては、一般式(MI)の
単量体と共重合可能な単量体であればいずれの化合物で
もよい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、マレイン酸、ビニル酢酸、4−ペンテ
ン酸等の不飽和カルボン酸およびこれら不飽和カルボン
酸のエステル類またはアミド類、炭素数1〜22の脂肪
酸ビニルエステル類あるいはアリルエステル類、ビニル
エーテル類、スチレンおよびスチレン誘導体、重合性二
重結合基含有のヘテロ環化合物等が挙げられる。
単量体と共重合可能な単量体であればいずれの化合物で
もよい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、マレイン酸、ビニル酢酸、4−ペンテ
ン酸等の不飽和カルボン酸およびこれら不飽和カルボン
酸のエステル類またはアミド類、炭素数1〜22の脂肪
酸ビニルエステル類あるいはアリルエステル類、ビニル
エーテル類、スチレンおよびスチレン誘導体、重合性二
重結合基含有のヘテロ環化合物等が挙げられる。
【0073】具体的には、例えば前記した単量体(A)
で例示した化合物等が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。
で例示した化合物等が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。
【0074】マクロモノマー(MA)の繰返し単位の総
和において、一般式(MI)で示される単量体相当の繰返
し単位成分は、全体の60質量%以上含有されているこ
とが好ましく、より好ましくは80〜100質量%であ
る。
和において、一般式(MI)で示される単量体相当の繰返
し単位成分は、全体の60質量%以上含有されているこ
とが好ましく、より好ましくは80〜100質量%であ
る。
【0075】本発明のマクロモノマー(MA)は質量平
均分子量が1×103 〜2×104のものが好ましく、
3×103 〜1.5×104 がより好ましい。
均分子量が1×103 〜2×104のものが好ましく、
3×103 〜1.5×104 がより好ましい。
【0076】本発明のマクロモノマー(MA)は、従来
公知の合成方法によって製造することができる。例え
ば、アニオン重合あるいはカチオン重合によって得ら
れるリビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて
マクロマーにするイオン重合法による方法、分子中
に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基等の反応
性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用い
て、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合のオリ
ゴマーと種々の試薬を反応させて、マクロモノマーにす
るラジカル重合法による方法、重付加あるいは重縮合
反応により得られたオリゴマーに上記ラジカル重合方法
と同様にして、重合性二重結合基を導入する重付加縮合
法による方法等が挙げられる。
公知の合成方法によって製造することができる。例え
ば、アニオン重合あるいはカチオン重合によって得ら
れるリビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて
マクロマーにするイオン重合法による方法、分子中
に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基等の反応
性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用い
て、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合のオリ
ゴマーと種々の試薬を反応させて、マクロモノマーにす
るラジカル重合法による方法、重付加あるいは重縮合
反応により得られたオリゴマーに上記ラジカル重合方法
と同様にして、重合性二重結合基を導入する重付加縮合
法による方法等が挙げられる。
【0077】具体的には、P.Dreyfuss &
R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sc
i.Eng.,7,551(1987)、P,F.Re
mpp & E.Franta,Adv.Polym.
Sci.,58,1(1984)、V.Percec,
Appl.Polym.Sci.,285,95(19
84)、R.Asami,M.Takaki,Makr
omol.Chem.Suppl.,12,163(1
985)、P.Rempp et al,Makrom
ol.Chem.Suppl.,8,3(1984)、
川上雄資「化学工業」38,56(1987)、山下雄
也「高分子」31,988(1982)、小林四郎「高
分子」30,625(1981)、東村敏延「日本接着
協会誌」18,536(1982)、伊藤浩一「高分子
加工」35,262(1986)、東貴四郎,津田隆
「機能材料」1987,No.10,5等の総説及びそ
れに引用の文献・特許等に記載の方法に従って合成する
ことができる。
R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sc
i.Eng.,7,551(1987)、P,F.Re
mpp & E.Franta,Adv.Polym.
Sci.,58,1(1984)、V.Percec,
Appl.Polym.Sci.,285,95(19
84)、R.Asami,M.Takaki,Makr
omol.Chem.Suppl.,12,163(1
985)、P.Rempp et al,Makrom
ol.Chem.Suppl.,8,3(1984)、
川上雄資「化学工業」38,56(1987)、山下雄
也「高分子」31,988(1982)、小林四郎「高
分子」30,625(1981)、東村敏延「日本接着
協会誌」18,536(1982)、伊藤浩一「高分子
加工」35,262(1986)、東貴四郎,津田隆
「機能材料」1987,No.10,5等の総説及びそ
れに引用の文献・特許等に記載の方法に従って合成する
ことができる。
【0078】上記した分子中に反応性基を含有した重合
開始剤としては、例えば、4,4′−アゾビス(4−シ
アノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸
クロライド)、2,2′−アゾビス(2−シアノプロパ
ノール)、2,2′−アゾビス(2−シアノペンタノー
ル)、2,2′−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピオアミド〕、2,2′−アゾビ
ス{2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチ
ル)エチル〕プロピオアミド)、2,2′−アゾビス
(2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチ
ル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオアミド}、2,
2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)、2,2′−
アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)
−プロピオアミド〕、2,2′−アゾビス〔2−(5−
メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、
2,2′−アゾビス〔2−(4,5,6,7−テトラヒ
ドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)プロパ
ン〕、2,2′−アゾビス〔2−(3,4,5,6−テ
トラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、2,
2′−アゾビス〔2−(5−ヒドロキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、
2,2′−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパン}、2,
2′−アゾビス〔N−(2−ヒドロキシエチル)−2−
メチル−プロピオンアミジン〕、2,2′−アゾビス
〔N−(4−アミノフェニル)−2−メチルプロピオン
アミジン〕等のアゾビス系化合物が挙げられる。
開始剤としては、例えば、4,4′−アゾビス(4−シ
アノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸
クロライド)、2,2′−アゾビス(2−シアノプロパ
ノール)、2,2′−アゾビス(2−シアノペンタノー
ル)、2,2′−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピオアミド〕、2,2′−アゾビ
ス{2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチ
ル)エチル〕プロピオアミド)、2,2′−アゾビス
(2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチ
ル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオアミド}、2,
2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)、2,2′−
アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)
−プロピオアミド〕、2,2′−アゾビス〔2−(5−
メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、
2,2′−アゾビス〔2−(4,5,6,7−テトラヒ
ドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)プロパ
ン〕、2,2′−アゾビス〔2−(3,4,5,6−テ
トラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、2,
2′−アゾビス〔2−(5−ヒドロキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、
2,2′−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパン}、2,
2′−アゾビス〔N−(2−ヒドロキシエチル)−2−
メチル−プロピオンアミジン〕、2,2′−アゾビス
〔N−(4−アミノフェニル)−2−メチルプロピオン
アミジン〕等のアゾビス系化合物が挙げられる。
【0079】また、分子中に特定の反応性基を含有した
連鎖移動剤としては、例えば、該反応性基あるいは該反
応性基に誘導しうる置換基含有のメルカプト化合物(例
えば、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル
酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロ
ピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプト
プロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、
3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プ
ロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミ
ノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニ
ル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−
メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタン
スルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプ
ト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−
プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メル
カプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−
メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジ
ノール等)、又は該反応性基あるいは該反応性基に誘導
しうる置換基含有のヨード化アルキル化合物(例えば、
ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノー
ル、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパン
スルホン酸等)等が挙げられる。好ましくはメルカプト
化合物が挙げられる。
連鎖移動剤としては、例えば、該反応性基あるいは該反
応性基に誘導しうる置換基含有のメルカプト化合物(例
えば、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル
酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロ
ピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプト
プロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、
3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プ
ロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミ
ノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニ
ル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−
メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタン
スルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプ
ト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−
プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メル
カプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−
メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジ
ノール等)、又は該反応性基あるいは該反応性基に誘導
しうる置換基含有のヨード化アルキル化合物(例えば、
ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノー
ル、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパン
スルホン酸等)等が挙げられる。好ましくはメルカプト
化合物が挙げられる。
【0080】これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤の
使用量は、各々、全単量体100重量部に対して0.5
〜20質量部であり、好ましくは1〜10質量部であ
る。マクロモノマー(MA)を用いることにより、樹脂
粒子の分散安定性や再分散性が向上する。これは、マク
ロモノマー(MA)に相当する共重合成分が、分散媒との親
媒和性が高いことで粒子表面部分に配向し、そのことで
粒子自身の表面の分散媒との親媒和性が高まり、粒子同
志の凝集や沈殿を抑制するものと推定される。マクロモ
ノマー(MA)は、全単量体100質量部中、0.5〜
20質量部、好ましくは1〜15質量部を用いる。
使用量は、各々、全単量体100重量部に対して0.5
〜20質量部であり、好ましくは1〜10質量部であ
る。マクロモノマー(MA)を用いることにより、樹脂
粒子の分散安定性や再分散性が向上する。これは、マク
ロモノマー(MA)に相当する共重合成分が、分散媒との親
媒和性が高いことで粒子表面部分に配向し、そのことで
粒子自身の表面の分散媒との親媒和性が高まり、粒子同
志の凝集や沈殿を抑制するものと推定される。マクロモ
ノマー(MA)は、全単量体100質量部中、0.5〜
20質量部、好ましくは1〜15質量部を用いる。
【0081】次に、本発明に用いられるシード粒子(C
R)について説明する。シード粒子は樹脂からなり、そ
の平均粒径は0.05〜1.0μm、好ましくは0.1
〜0.6μmである。このようなシード粒子を用いるこ
とで、平均粒径が0.1〜3μm程度で単分散性が良好
な本発明のコア/シェル構造を有する樹脂粒子(CS
R)を容易に製造することができる。
R)について説明する。シード粒子は樹脂からなり、そ
の平均粒径は0.05〜1.0μm、好ましくは0.1
〜0.6μmである。このようなシード粒子を用いるこ
とで、平均粒径が0.1〜3μm程度で単分散性が良好
な本発明のコア/シェル構造を有する樹脂粒子(CS
R)を容易に製造することができる。
【0082】シード粒子を構成する結着樹脂は、分散さ
れる非水溶媒に不溶性であり、かつ少なくとも常温で固
体で、より好ましくは35℃以下の温度で固体で、且つ
疎水性の樹脂であることが好ましい。この樹脂は、その
ガラス転移点が−40℃〜100℃または軟化点が30
℃〜120℃であることが好ましく、より好ましくはガ
ラス転移点が−10℃〜80℃または軟化点が35〜1
00℃である。このようなガラス転移点または軟化点の
樹脂を用いることによって、画像の定着性が良好に保持
され、好ましい。
れる非水溶媒に不溶性であり、かつ少なくとも常温で固
体で、より好ましくは35℃以下の温度で固体で、且つ
疎水性の樹脂であることが好ましい。この樹脂は、その
ガラス転移点が−40℃〜100℃または軟化点が30
℃〜120℃であることが好ましく、より好ましくはガ
ラス転移点が−10℃〜80℃または軟化点が35〜1
00℃である。このようなガラス転移点または軟化点の
樹脂を用いることによって、画像の定着性が良好に保持
され、好ましい。
【0083】上記シード粒子を構成する結着樹脂の質量
平均分子量(Mw)は、好ましくは3×103〜1×1
06であり、より好ましくは5×103〜8×105、更
に好ましくは1×104〜5×105である。
平均分子量(Mw)は、好ましくは3×103〜1×1
06であり、より好ましくは5×103〜8×105、更
に好ましくは1×104〜5×105である。
【0084】結着樹脂としては、例えば、原崎勇次等
「最新バインダー技術便覧」(株)総合技術センター
(1985年)、中村孝一「記録材料用バインダ−の実際技
術」(株)シーエムシー(1985年)、中部経営開発セン
タ−出版部編「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開
発」(株)シーエムシー刊(1985年)、中村孝一監修
「最近の電子写真現像システムとトナー材料の開発・実
用化」日本科学情報(株)出版部(1985年) 等に記載の
各樹脂が挙げられる。
「最新バインダー技術便覧」(株)総合技術センター
(1985年)、中村孝一「記録材料用バインダ−の実際技
術」(株)シーエムシー(1985年)、中部経営開発セン
タ−出版部編「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開
発」(株)シーエムシー刊(1985年)、中村孝一監修
「最近の電子写真現像システムとトナー材料の開発・実
用化」日本科学情報(株)出版部(1985年) 等に記載の
各樹脂が挙げられる。
【0085】具体的には、オレフィン重合体および共重
合体(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
アクリレート共重合体、エチレン−メタクリレート共重
合体、エチレン−メタクリル酸共重合体等)、塩化ビニ
ル重合体及び共重合体(例えばポリ塩化ビニル、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体等)、塩化ビニリデン共重合
体、アルカン酸ビニル重合体および共重合体、アルカン
酸アリル重合体および共重合体、スチレンおよびその誘
導体の重合体ならびに共重合体(例えばブタジエン−ス
チレン共重合体、イソプレン−スチレン共重合体、スチ
レン−メタクリレート共重合体、スチレン−アクリレー
ト共重合体等)、アクリロニトリル共重合体、メタクリ
ロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重合
体、アクリル酸エステル重合体および共重合体、メタク
リル酸エステル重合体および共重合体、イタコン酸ジエ
ステル重合体および共重合体、無水マレイン酸共重合
体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合
体、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ケトン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコン樹脂、
アミド樹脂、水酸基およびカルボキシル基変性ポリエス
テル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ウレタン樹脂、ロジン樹脂、水素添加ロジン樹脂、
石油樹脂、水素添加石油樹脂、マレイン酸樹脂、テルペ
ン樹脂、水素添加テルペン樹脂、クロマン−インデン樹
脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル共重合体、環化ゴ
ム−アクリル酸エステル共重合体、窒素原子を含有しな
い複素環を含有する共重合体(複素環として例えば、フ
ラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン環、ジオキ
サン環、ジオキソフラン環、ラクトン環、ベンゾフラン
環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジオキセタン環
等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂
は、単独でもよいし、2種以上を組み合わせて使用して
もよい。
合体(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
アクリレート共重合体、エチレン−メタクリレート共重
合体、エチレン−メタクリル酸共重合体等)、塩化ビニ
ル重合体及び共重合体(例えばポリ塩化ビニル、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体等)、塩化ビニリデン共重合
体、アルカン酸ビニル重合体および共重合体、アルカン
酸アリル重合体および共重合体、スチレンおよびその誘
導体の重合体ならびに共重合体(例えばブタジエン−ス
チレン共重合体、イソプレン−スチレン共重合体、スチ
レン−メタクリレート共重合体、スチレン−アクリレー
ト共重合体等)、アクリロニトリル共重合体、メタクリ
ロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重合
体、アクリル酸エステル重合体および共重合体、メタク
リル酸エステル重合体および共重合体、イタコン酸ジエ
ステル重合体および共重合体、無水マレイン酸共重合
体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合
体、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ケトン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコン樹脂、
アミド樹脂、水酸基およびカルボキシル基変性ポリエス
テル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ウレタン樹脂、ロジン樹脂、水素添加ロジン樹脂、
石油樹脂、水素添加石油樹脂、マレイン酸樹脂、テルペ
ン樹脂、水素添加テルペン樹脂、クロマン−インデン樹
脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル共重合体、環化ゴ
ム−アクリル酸エステル共重合体、窒素原子を含有しな
い複素環を含有する共重合体(複素環として例えば、フ
ラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン環、ジオキ
サン環、ジオキソフラン環、ラクトン環、ベンゾフラン
環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジオキセタン環
等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂
は、単独でもよいし、2種以上を組み合わせて使用して
もよい。
【0086】本発明に用いられるシード粒子は、従来公
知の機械的粉砕法、溶解度差を利用する方法または重合
造粒法によって製造することができる。機械的粉砕方法
としては、粒子とする材料(結着樹脂及び必要により用
いられる添加剤)を混合し、溶融、混練を経て従来公知
の粉砕機で直接粉砕して微粒子とし、分散ポリマーを併
用して、更に湿式分散機(例えばボールミル、ペイント
シェーカー、ケディミル、ダイノミル等)で分散する方
法、粒子成分となる材料と、分散補助ポリマー(または
被覆ポリマー)を予め混練して混練物とした後粉砕し、
次に分散ポリマーを共存させて分散する方法がある。溶
解度差を利用する方法は、粒子成分となる材料を、これ
を溶解する極性溶媒を混合した絶縁性溶媒中で加熱下に
溶解した後、温度を下げることで粒子として析出させる
方法である。
知の機械的粉砕法、溶解度差を利用する方法または重合
造粒法によって製造することができる。機械的粉砕方法
としては、粒子とする材料(結着樹脂及び必要により用
いられる添加剤)を混合し、溶融、混練を経て従来公知
の粉砕機で直接粉砕して微粒子とし、分散ポリマーを併
用して、更に湿式分散機(例えばボールミル、ペイント
シェーカー、ケディミル、ダイノミル等)で分散する方
法、粒子成分となる材料と、分散補助ポリマー(または
被覆ポリマー)を予め混練して混練物とした後粉砕し、
次に分散ポリマーを共存させて分散する方法がある。溶
解度差を利用する方法は、粒子成分となる材料を、これ
を溶解する極性溶媒を混合した絶縁性溶媒中で加熱下に
溶解した後、温度を下げることで粒子として析出させる
方法である。
【0087】具体的には、塗料または静電写真用液体現
像剤の製造方法を利用することができる。これらについ
ては、例えば、植木憲二監訳「塗料の流動と顔料分散」
共立出版 (1971年) 、ソロモン「塗料の科学」広川書店
(1969年)、原崎勇次「コーティング工学」朝倉書
店 (1971年) 、原崎勇次「コーティングの基礎科学」槇
書店 (1977年) 等の成書、あるいは特開昭61−180
248号、日本特許第2,684,378号、同第2,
614,070号、特開平6−256529号等に記載
されている。
像剤の製造方法を利用することができる。これらについ
ては、例えば、植木憲二監訳「塗料の流動と顔料分散」
共立出版 (1971年) 、ソロモン「塗料の科学」広川書店
(1969年)、原崎勇次「コーティング工学」朝倉書
店 (1971年) 、原崎勇次「コーティングの基礎科学」槇
書店 (1977年) 等の成書、あるいは特開昭61−180
248号、日本特許第2,684,378号、同第2,
614,070号、特開平6−256529号等に記載
されている。
【0088】本発明に用いられるシード粒子の製造にお
いて好ましい態様として、粒子を重合造粒法で合成する
方法が挙げられる。用いられる重合造粒法としては、従
来公知の非水系分散重合方法が挙げられ、具体的には、
室井宗一監修「超微粒子ポリマーの最新技術」第2章、
CMC出版(1991年) 、中村孝一編「最近の電子写真現
像システムとトナー材料の開発・実用化」第 3章( 日本
科学情報(株)1985年刊) 、K. E.J. Barrett「Dispers
ion Polymerization in Organic Media」JohnWiley (19
75年) 等の成書に記載されている。
いて好ましい態様として、粒子を重合造粒法で合成する
方法が挙げられる。用いられる重合造粒法としては、従
来公知の非水系分散重合方法が挙げられ、具体的には、
室井宗一監修「超微粒子ポリマーの最新技術」第2章、
CMC出版(1991年) 、中村孝一編「最近の電子写真現
像システムとトナー材料の開発・実用化」第 3章( 日本
科学情報(株)1985年刊) 、K. E.J. Barrett「Dispers
ion Polymerization in Organic Media」JohnWiley (19
75年) 等の成書に記載されている。
【0089】重合造粒法でシード粒子の製造に用いられ
る分散ポリマーは、前記した分散安定用樹脂(P)と同
様に、非水溶媒に可溶性の一般式(I)で示される重合
成分を含有する樹脂あるいは非水溶媒に可溶性のオレフ
ィン系樹脂(例えばスチイン−ブタジエン共重合体、α
−オレフィン共重合体、ビニルトルエン共重合体等)等
が挙げられる。分散ポリマーの使用割合は、粒子成分1
00質量部に対して、1〜100質量部が好ましく、更
に好ましくは5〜80質量部である。この範囲におい
て、シード粒子の粒径分布がシャープになり、且つ粒子
の凝集や沈殿が抑制され好ましい。
る分散ポリマーは、前記した分散安定用樹脂(P)と同
様に、非水溶媒に可溶性の一般式(I)で示される重合
成分を含有する樹脂あるいは非水溶媒に可溶性のオレフ
ィン系樹脂(例えばスチイン−ブタジエン共重合体、α
−オレフィン共重合体、ビニルトルエン共重合体等)等
が挙げられる。分散ポリマーの使用割合は、粒子成分1
00質量部に対して、1〜100質量部が好ましく、更
に好ましくは5〜80質量部である。この範囲におい
て、シード粒子の粒径分布がシャープになり、且つ粒子
の凝集や沈殿が抑制され好ましい。
【0090】次に、本発明において、非水溶媒中で、単
量体を重合して生成した該溶媒不溶の重合体を安定な樹
脂分散物とするために用いられる分散安定用樹脂(P)
について説明する。
量体を重合して生成した該溶媒不溶の重合体を安定な樹
脂分散物とするために用いられる分散安定用樹脂(P)
について説明する。
【0091】本発明の分散安定用樹脂(P)は、前記一
般式(I)で示される重合成分を少なくとも1種含有す
る、該非水溶媒にコロイド状に分散して成る共重合体で
ある。該共重合体は、一般式(I)で示される非水溶媒
に可溶性の重合成分を少なくとも含有するブロック(以
下、ブロックAと称する)と含有しないブロック(以
下、ブロックBと称する)から成るブロック共重合体で
あり、ABブロック型(ABA型、スター型を含む)、
グラフト型(もしくはクシ型とも称する)も含まれる。
即ち、ブロックA部は該非水溶媒に可溶性のパート、ブ
ロックBは該非水溶媒に不溶性のパートであり、分散安
定用樹脂(P)としてこのような可溶性パート及び不溶
性パートのブロック共重合体を用いることにより、分散
安定用樹脂(P)をコロイド状に分散させることが容易
になる。
般式(I)で示される重合成分を少なくとも1種含有す
る、該非水溶媒にコロイド状に分散して成る共重合体で
ある。該共重合体は、一般式(I)で示される非水溶媒
に可溶性の重合成分を少なくとも含有するブロック(以
下、ブロックAと称する)と含有しないブロック(以
下、ブロックBと称する)から成るブロック共重合体で
あり、ABブロック型(ABA型、スター型を含む)、
グラフト型(もしくはクシ型とも称する)も含まれる。
即ち、ブロックA部は該非水溶媒に可溶性のパート、ブ
ロックBは該非水溶媒に不溶性のパートであり、分散安
定用樹脂(P)としてこのような可溶性パート及び不溶
性パートのブロック共重合体を用いることにより、分散
安定用樹脂(P)をコロイド状に分散させることが容易
になる。
【0092】本発明の分散安定用樹脂(P)は、好まし
くは、該非水溶媒に平均粒径0.15μm以下、更に好
ましくは平均粒径0.1μm以下のコロイド状に分散し
て成る樹脂である。以下に本発明の分散安定用樹脂
(P)におけるブロック共重合体の重合パターンを例示
する。
くは、該非水溶媒に平均粒径0.15μm以下、更に好
ましくは平均粒径0.1μm以下のコロイド状に分散し
て成る樹脂である。以下に本発明の分散安定用樹脂
(P)におけるブロック共重合体の重合パターンを例示
する。
【0093】
【化24】
【0094】次に、本発明の分散安定用樹脂のブロック
A中の主成分となる一般式(I)で表される繰り返し単位
について説明する。一般式(I)において−V0−は好
ましくは−COO−、−OCO−又は−O−を表す。L
は好ましくは炭素数10以上のアルキル基又はアルケニ
ル基を表し、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。具体
的には、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサ
ニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデセニル基、ト
リデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、
リノレル基が挙げられる。
A中の主成分となる一般式(I)で表される繰り返し単位
について説明する。一般式(I)において−V0−は好
ましくは−COO−、−OCO−又は−O−を表す。L
は好ましくは炭素数10以上のアルキル基又はアルケニ
ル基を表し、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。具体
的には、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサ
ニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデセニル基、ト
リデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、
リノレル基が挙げられる。
【0095】b1及びb2は、互いに同じでも異なってい
てもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素原子1〜
3のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等)、−COO−Z1又は−CH2COO−Z1〔Z1
は、水素原子又は置換されていてもよい炭素数22以下
の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、脂環式基、アリール基等)を表す〕を表
す。
てもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素原子1〜
3のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等)、−COO−Z1又は−CH2COO−Z1〔Z1
は、水素原子又は置換されていてもよい炭素数22以下
の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、脂環式基、アリール基等)を表す〕を表
す。
【0096】Z1は、具体的には、水素原子のほか、好
ましい炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換され
てもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコサニル基、ドコサニル基、2−クロロエチル
基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メ
トキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3
−ブロモプロピル基等)、 炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキ
セニル基,2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレル基
等)、 炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメ
チルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、 炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペ
ンチルエチル基等)、及び炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオア
ミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が
挙げられる。
ましい炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換され
てもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコサニル基、ドコサニル基、2−クロロエチル
基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メ
トキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3
−ブロモプロピル基等)、 炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキ
セニル基,2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレル基
等)、 炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメ
チルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、 炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペ
ンチルエチル基等)、及び炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオア
ミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が
挙げられる。
【0097】ブロックA部において一般式(I)で示さ
れる繰り返し単位とともに、他の繰り返し単位を共重合
成分として含有してもよい。他の共重合成分としては、
一般式(I)の繰り返し単位に相当する単量体と共重合
可能な単量体であればいずれの化合物でもよい。しか
し、好ましくは、他の成分は含有しない方が好ましく、
多くてもブロックA中20質量%以下、より好ましくは
10質量%以下で用いられる。20質量%を超えるとコ
ロイド状分散樹脂粒子の分散安定性が劣化してしまう。
ブロックAにおいて、一般式(I)で示される繰り返し
単位は二種以上を併用してもよい。
れる繰り返し単位とともに、他の繰り返し単位を共重合
成分として含有してもよい。他の共重合成分としては、
一般式(I)の繰り返し単位に相当する単量体と共重合
可能な単量体であればいずれの化合物でもよい。しか
し、好ましくは、他の成分は含有しない方が好ましく、
多くてもブロックA中20質量%以下、より好ましくは
10質量%以下で用いられる。20質量%を超えるとコ
ロイド状分散樹脂粒子の分散安定性が劣化してしまう。
ブロックAにおいて、一般式(I)で示される繰り返し
単位は二種以上を併用してもよい。
【0098】また、本発明に供される分散安定用樹脂の
ブロックBを構成する重合体成分としては、前記一官能
性単量体(A)に相当する重合体成分、並びに、ホスホ
ノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ホ
ルミル基、アミノ基、−P(=O)(OH)R31基〔R
31は−R32基又は−OR32基を示し、R32は炭化水素基
を表す〕、−CONR33R34基、−SO2NR33R34基
〔R33およびR34は、各々独立に、水素原子又は炭化水
素基を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1種の極性基を含有する重合体成分挙げられ
る。
ブロックBを構成する重合体成分としては、前記一官能
性単量体(A)に相当する重合体成分、並びに、ホスホ
ノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ホ
ルミル基、アミノ基、−P(=O)(OH)R31基〔R
31は−R32基又は−OR32基を示し、R32は炭化水素基
を表す〕、−CONR33R34基、−SO2NR33R34基
〔R33およびR34は、各々独立に、水素原子又は炭化水
素基を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1種の極性基を含有する重合体成分挙げられ
る。
【0099】上記の各炭化水素基は、炭素数1〜10の
炭化水素基を表す。R32の炭化水素基として、好ましく
は、炭素数1〜8の置換されてもよい脂肪族基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニ
ル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネ
チル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、お
よび置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニ
ル基等)が挙げられる。
炭化水素基を表す。R32の炭化水素基として、好ましく
は、炭素数1〜8の置換されてもよい脂肪族基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニ
ル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネ
チル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、お
よび置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニ
ル基等)が挙げられる。
【0100】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、グルタコン
酸無水物、マレイン酸無水物、シクロペンタン−1,2
−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸無水物、2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタンジ
カルボン酸無水物等が挙げられ、これらの脂肪族ジカル
ボン酸無水物は、例えば、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基
等のアルキル基等で置換されていてもよい。また、芳香
族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸無水物、
ナフタレン−ジカルボン酸無水物、ピリジン−ジカルボ
ン酸無水物、チオフェン−ジカルボン酸無水物等が挙げ
られ、これらの芳香族ジカルボン酸無水物は、例えば、
塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、等のアルキル基、ヒドロ
キシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル
基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基等)等で置換されていてもよい。
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、グルタコン
酸無水物、マレイン酸無水物、シクロペンタン−1,2
−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸無水物、2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタンジ
カルボン酸無水物等が挙げられ、これらの脂肪族ジカル
ボン酸無水物は、例えば、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基
等のアルキル基等で置換されていてもよい。また、芳香
族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸無水物、
ナフタレン−ジカルボン酸無水物、ピリジン−ジカルボ
ン酸無水物、チオフェン−ジカルボン酸無水物等が挙げ
られ、これらの芳香族ジカルボン酸無水物は、例えば、
塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、等のアルキル基、ヒドロ
キシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル
基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基等)等で置換されていてもよい。
【0101】ブロックB部は、一官能性単量体(A)に
相当する重合体成分であることが好ましい。前記の特定
の極性基含有の重合体成分を含有する場合には、ブロッ
クB部の全重合体成分の30質量部を超えないことが好
ましい。30質量部を超えると本発明の分散樹脂粒子分
散物を含有するインクの吐出応答性に悪影響を及ぼして
しまう場合が生じる。
相当する重合体成分であることが好ましい。前記の特定
の極性基含有の重合体成分を含有する場合には、ブロッ
クB部の全重合体成分の30質量部を超えないことが好
ましい。30質量部を超えると本発明の分散樹脂粒子分
散物を含有するインクの吐出応答性に悪影響を及ぼして
しまう場合が生じる。
【0102】本発明の分散安定用樹脂(P)の質量平均
分子量(Mw)は、好ましくは2×104〜1×106で
あり、より好ましくは3×104〜1×105である。本
発明の分散安定用樹脂(P)におけるブロックA部とブ
ロックB部の構成比は、30/70〜90/10(質量
比)が好ましく、より好ましくは、40/60〜80/
20(質量比)である。
分子量(Mw)は、好ましくは2×104〜1×106で
あり、より好ましくは3×104〜1×105である。本
発明の分散安定用樹脂(P)におけるブロックA部とブ
ロックB部の構成比は、30/70〜90/10(質量
比)が好ましく、より好ましくは、40/60〜80/
20(質量比)である。
【0103】また、本発明の分散安定用樹脂(P)がス
ター型ブロック共重合体である場合について、更に詳述
する。スター型ブロックポリマーは、下記に示されるブ
ロックAとブロックBで構成される高分子鎖を少なくと
も3個以上結合して成るものである。
ター型ブロック共重合体である場合について、更に詳述
する。スター型ブロックポリマーは、下記に示されるブ
ロックAとブロックBで構成される高分子鎖を少なくと
も3個以上結合して成るものである。
【0104】
【化25】
【0105】ここで、各高分子鎖は、同一内容のものか
ら構成され且つブロックAとブロックBの高分子鎖中に
おける配列の順序は、ブロックAの重合体主鎖のブロッ
クBと結合する末端とは反対側の片末端で、有機分子に
結合して成るものである。
ら構成され且つブロックAとブロックBの高分子鎖中に
おける配列の順序は、ブロックAの重合体主鎖のブロッ
クBと結合する末端とは反対側の片末端で、有機分子に
結合して成るものである。
【0106】上記において、Xは有機分子を表し、
(A)はブロックAを、(B)はブロックBを表し、
(A)−(B)は高分子鎖を表す。また、かかるA−B
型ブロック高分子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多
くて15個、通常10個程度である。高分子鎖を少なく
とも3個以上結合してなる有機分子としては、該分子の
分子量が1000以下のものであれば特に限定されるも
のではない。例を挙げれば、下記に記載の3価の炭化水
素残基が挙げられる。
(A)はブロックAを、(B)はブロックBを表し、
(A)−(B)は高分子鎖を表す。また、かかるA−B
型ブロック高分子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多
くて15個、通常10個程度である。高分子鎖を少なく
とも3個以上結合してなる有機分子としては、該分子の
分子量が1000以下のものであれば特に限定されるも
のではない。例を挙げれば、下記に記載の3価の炭化水
素残基が挙げられる。
【0107】
【化26】
【0108】〔ここで、r1〜r6は各々水素原子又は炭
化水素基を表す。但し、r1とr2の少なくとも1つは高
分子鎖に連結し、又、r3〜r6のうちの少なくとも1つ
は高分子鎖に連結する。〕
化水素基を表す。但し、r1とr2の少なくとも1つは高
分子鎖に連結し、又、r3〜r6のうちの少なくとも1つ
は高分子鎖に連結する。〕
【0109】これらの有機残基は、単独又はこれらの任
意の組合せの構成からなり、組合せの場合は、−O−、
−S−、−N(r7)−、−COO−、−CON(r7)−、
−SO2−、−SO2N(r7)−{ここでr7は水素原子
又は炭化水素基を表す}、−NHCOO−、−NHCO
NH−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘテロ原
子含有の複素環(例えばチオフェン環、ピリジン環、ピ
ラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、フラ
ン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピペラ
ジン環等)等の結合単位の組合せを含んでいてもよい。
意の組合せの構成からなり、組合せの場合は、−O−、
−S−、−N(r7)−、−COO−、−CON(r7)−、
−SO2−、−SO2N(r7)−{ここでr7は水素原子
又は炭化水素基を表す}、−NHCOO−、−NHCO
NH−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘテロ原
子含有の複素環(例えばチオフェン環、ピリジン環、ピ
ラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、フラ
ン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピペラ
ジン環等)等の結合単位の組合せを含んでいてもよい。
【0110】他の該高分子鎖を結合する有機分子の例と
しては、下記の結合単位と上記結合単位との組合せから
構成されるものが挙げられる。しかしながら、本発明に
従う有機分子の具体例としては、これらに限定されるも
のではない。
しては、下記の結合単位と上記結合単位との組合せから
構成されるものが挙げられる。しかしながら、本発明に
従う有機分子の具体例としては、これらに限定されるも
のではない。
【0111】
【化27】
【0112】ブロック共重合体(P)は、従来公知の重
合性二重合結合基をもつ単量体のブロック共重合体合成
法を利用して合成することができる。例えばその一つと
してカルバニオンを開始剤とする重合反応が挙げられ
る。具体的には、M. Morton, T. E. Helminiak et al
“J. Polym. Sci. ”57, 471 (1962)、B. Gordon III,
M, Blumenthal, J. E. Loftus et al “ Polym. Bul
l.”11, 349(1984)、R. B. Bates, W. A. Beavers et a
l“J. Org. Chem. ”44, 3800(1979)に記載の方法に従
って合成できる。但し、本反応を用いる際には、本発明
の「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重
合させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の
特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
(脱保護反応)については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、 岩倉義男、栗田恵輔「反
応性高分子」(株)講談社刊(1977)、T. M. Greene“Pr
otective Groups in Organic Synthesis ”(John Wiley
& Sons, 1981年)、J. F. W. McOmic “Protective Gro
ups in Organic Chemistry ”(Plenum Press, 1973年)
等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行
なうことができる。
合性二重合結合基をもつ単量体のブロック共重合体合成
法を利用して合成することができる。例えばその一つと
してカルバニオンを開始剤とする重合反応が挙げられ
る。具体的には、M. Morton, T. E. Helminiak et al
“J. Polym. Sci. ”57, 471 (1962)、B. Gordon III,
M, Blumenthal, J. E. Loftus et al “ Polym. Bul
l.”11, 349(1984)、R. B. Bates, W. A. Beavers et a
l“J. Org. Chem. ”44, 3800(1979)に記載の方法に従
って合成できる。但し、本反応を用いる際には、本発明
の「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重
合させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の
特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
(脱保護反応)については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、 岩倉義男、栗田恵輔「反
応性高分子」(株)講談社刊(1977)、T. M. Greene“Pr
otective Groups in Organic Synthesis ”(John Wiley
& Sons, 1981年)、J. F. W. McOmic “Protective Gro
ups in Organic Chemistry ”(Plenum Press, 1973年)
等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行
なうことができる。
【0113】他の方法としては、本発明の特定の極性基
を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント
基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する
化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって
合成することもできる。例えば、大津隆行「高分子」3
7, 248 (1988)、檜森俊一、大津隆一“ Polym. Rep. Ja
p. ”37, 3508 (1988)、特開昭64−111号、特開
昭64−26619号、東信行等“Polymer Preprints,
Japan”36 (6), 1511 (1987) 、M. Niwa, N. Higashi
et al “J. Macromol. Sci. Chem. ”A24 (5), 567 (19
87) 等に記載の合成方法に従って合成することができ
る。
を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント
基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する
化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって
合成することもできる。例えば、大津隆行「高分子」3
7, 248 (1988)、檜森俊一、大津隆一“ Polym. Rep. Ja
p. ”37, 3508 (1988)、特開昭64−111号、特開
昭64−26619号、東信行等“Polymer Preprints,
Japan”36 (6), 1511 (1987) 、M. Niwa, N. Higashi
et al “J. Macromol. Sci. Chem. ”A24 (5), 567 (19
87) 等に記載の合成方法に従って合成することができ
る。
【0114】以上のような範囲内において、本発明の油
性インク中の分散樹脂粒子の分散安定性、再分散安定
性、保存安定性に優れ、且つ、画像形成後の迅速な定着
性が良好で、印刷時にも充分な強度が保たれ高刷性を示
す。また同時に、非常に安定な分散性を示し、特に記録
装置内において、長く繰り返し使用をしても分散性がよ
く、且つ再分散も容易であり、装置の各部に付着し汚れ
を生じることが全く認められない。
性インク中の分散樹脂粒子の分散安定性、再分散安定
性、保存安定性に優れ、且つ、画像形成後の迅速な定着
性が良好で、印刷時にも充分な強度が保たれ高刷性を示
す。また同時に、非常に安定な分散性を示し、特に記録
装置内において、長く繰り返し使用をしても分散性がよ
く、且つ再分散も容易であり、装置の各部に付着し汚れ
を生じることが全く認められない。
【0115】さらには、インク画像形成後に、加熱等の
迅速処理で定着すると、容易に平版印刷版用支持体表面
に強固な被膜が形成され、良好な定着性を示した。これ
により、オフセット印刷においても、多数枚の印刷(高
耐刷性)が可能となる。以上のような効果をもたらす本
発明の油性インクは、本発明によって供される不溶性ラ
テックスによって可能となる。
迅速処理で定着すると、容易に平版印刷版用支持体表面
に強固な被膜が形成され、良好な定着性を示した。これ
により、オフセット印刷においても、多数枚の印刷(高
耐刷性)が可能となる。以上のような効果をもたらす本
発明の油性インクは、本発明によって供される不溶性ラ
テックスによって可能となる。
【0116】このような本発明の顕著な性能向上の効果
は、構成要素である特定のブロックからなり、且つ非水
溶媒にコロイド状に分散してなる共重合体(P)にも依
存するものである。すなわち、本発明の分散安定用樹脂
(P)は、前記非水溶媒に対し親和性の大きな直鎖脂肪
族基含有の重合体成分から構成されるブロックAと、前
記非水溶媒に対し親和性が小さく、不溶化する単量体
(A)に対して親和性を有する重合成分から構成される
ブロックBとが結合したブロックの高分子鎖からなる共
重合体で且つ非水担体液にはコロイド状に分散して成る
ことを特徴とする。これにより、分散樹脂粒子の重合造
粒反応において、ブロックB部分が重合造粒時に物理化
学的相互作用で充分に吸着し、かつ非水系分散媒に対し
て親和性が大きいブロック部分が前記溶媒に対して充分
に溶媒和し、かつ立体的な反発効果も充分に作用する高
分子鎖が存在することから、吸着効果及び立体反発効果
が充分に効率よく発現することで、本発明に効果が発現
されるものと推定される。
は、構成要素である特定のブロックからなり、且つ非水
溶媒にコロイド状に分散してなる共重合体(P)にも依
存するものである。すなわち、本発明の分散安定用樹脂
(P)は、前記非水溶媒に対し親和性の大きな直鎖脂肪
族基含有の重合体成分から構成されるブロックAと、前
記非水溶媒に対し親和性が小さく、不溶化する単量体
(A)に対して親和性を有する重合成分から構成される
ブロックBとが結合したブロックの高分子鎖からなる共
重合体で且つ非水担体液にはコロイド状に分散して成る
ことを特徴とする。これにより、分散樹脂粒子の重合造
粒反応において、ブロックB部分が重合造粒時に物理化
学的相互作用で充分に吸着し、かつ非水系分散媒に対し
て親和性が大きいブロック部分が前記溶媒に対して充分
に溶媒和し、かつ立体的な反発効果も充分に作用する高
分子鎖が存在することから、吸着効果及び立体反発効果
が充分に効率よく発現することで、本発明に効果が発現
されるものと推定される。
【0117】これに対し、従来公知のブロックAで用い
られる重合体成分と、ブロックBで用いられる重合体成
分とのランダム共重合体では、吸着部分となる成分が溶
媒和する成分で構成される高分子鎖中にランダムに結合
しているため、分散樹脂粒子への吸着が充分でなく、さ
らに、その吸着パターンがループ状となるために立体反
発効果も阻害されしまい、分散安定性が充分でなかっ
た。更には、ブロックAとブロックBとで構成されるA
−B型ブロック共重合体を用いることにより、前記のラ
ンダム共重合体に比べ、分散安定性の向上効果は認めら
れた。しかし、本発明の非水溶媒にコロイド状に分散し
て成るブロック共重合体(P)は、該溶媒に可溶性のブ
ロック共重合体からなる分散安定用樹脂に比べて、分散
粒子への吸着が優れており、分散性が極めて優れている
ことがわかった。
られる重合体成分と、ブロックBで用いられる重合体成
分とのランダム共重合体では、吸着部分となる成分が溶
媒和する成分で構成される高分子鎖中にランダムに結合
しているため、分散樹脂粒子への吸着が充分でなく、さ
らに、その吸着パターンがループ状となるために立体反
発効果も阻害されしまい、分散安定性が充分でなかっ
た。更には、ブロックAとブロックBとで構成されるA
−B型ブロック共重合体を用いることにより、前記のラ
ンダム共重合体に比べ、分散安定性の向上効果は認めら
れた。しかし、本発明の非水溶媒にコロイド状に分散し
て成るブロック共重合体(P)は、該溶媒に可溶性のブ
ロック共重合体からなる分散安定用樹脂に比べて、分散
粒子への吸着が優れており、分散性が極めて優れている
ことがわかった。
【0118】以上のように、本発明の油性インクは、特
定のブロック結合からなるブロック共重合体の併用によ
り、分散安定性等の向上が図られ、種々の問題が改善さ
れることとなった。
定のブロック結合からなるブロック共重合体の併用によ
り、分散安定性等の向上が図られ、種々の問題が改善さ
れることとなった。
【0119】本発明の液体現像剤に用いられる樹脂粒子
のシェル層を構成する非水溶媒に不溶性の樹脂は、単量
体(A)、必要により用いられる単量体(C)及び単量
体(D)からなる。このシェル層を構成する樹脂は、ガ
ラス転移点0〜80℃あるいは軟化点35〜100℃の
範囲が好ましく、ガラス転移点35〜70℃あるいは軟
化点45〜80℃の範囲がより好ましい。
のシェル層を構成する非水溶媒に不溶性の樹脂は、単量
体(A)、必要により用いられる単量体(C)及び単量
体(D)からなる。このシェル層を構成する樹脂は、ガ
ラス転移点0〜80℃あるいは軟化点35〜100℃の
範囲が好ましく、ガラス転移点35〜70℃あるいは軟
化点45〜80℃の範囲がより好ましい。
【0120】次に、本発明において好ましく用いられ
る、単量体(A)と共重合可能な前記一般式(III)で
示されるアミノ基を含有する一官能性単量体(C)につ
いて説明する。一官能性単量体(C)においては、重合
性二重結合基とアミノ基は直接結合していない。
る、単量体(A)と共重合可能な前記一般式(III)で
示されるアミノ基を含有する一官能性単量体(C)につ
いて説明する。一官能性単量体(C)においては、重合
性二重結合基とアミノ基は直接結合していない。
【0121】式(III)中、R1、R2は、同じでも異な
ってもよく、各々好ましくは水素原子又は炭素数1〜2
2の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル
基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレニル
基等)、
ってもよく、各々好ましくは水素原子又は炭素数1〜2
2の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル
基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレニル
基等)、
【0122】炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペ
ンチルエチル基等)または炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオン
アミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)
が挙げられる。
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペ
ンチルエチル基等)または炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオン
アミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)
が挙げられる。
【0123】また、R1、R2は結合して窒素原子と共に
環を形成する有機残基を表してもよい。この有機残基
は、更にヘテロ原子(例えば酸素原子、窒素原子、イオ
ウ原子等)を含有してもよい。形成される環状アミノ基
としては、例えばモルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジ
ル基、イミダゾリル基、キノリル基、等が挙げられる。
アミノ基は、単量体(C)の分子中に複数個含有されて
いてもよい。本発明の分散樹脂粒子(CSR)は、共重
合成分としてアミノ基含有の単量体(C)を用いること
で、粒子が正荷電性となり、更に、荷電調節剤と組み合
わせることで粒子の荷電量が増加する。更に、環境条件
(低温・低湿〜高温・高湿)の変動あるいは長期間の保
存でも正荷電特性の変化が著しく軽減され、その結果、
形成される画像は画質が安定したものが得られる。単量
体(C)は、シエル層全単量体の総量に対して、好まし
くは1〜30質量%、より好ましくは5〜25質量%用
いる。
環を形成する有機残基を表してもよい。この有機残基
は、更にヘテロ原子(例えば酸素原子、窒素原子、イオ
ウ原子等)を含有してもよい。形成される環状アミノ基
としては、例えばモルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジ
ル基、イミダゾリル基、キノリル基、等が挙げられる。
アミノ基は、単量体(C)の分子中に複数個含有されて
いてもよい。本発明の分散樹脂粒子(CSR)は、共重
合成分としてアミノ基含有の単量体(C)を用いること
で、粒子が正荷電性となり、更に、荷電調節剤と組み合
わせることで粒子の荷電量が増加する。更に、環境条件
(低温・低湿〜高温・高湿)の変動あるいは長期間の保
存でも正荷電特性の変化が著しく軽減され、その結果、
形成される画像は画質が安定したものが得られる。単量
体(C)は、シエル層全単量体の総量に対して、好まし
くは1〜30質量%、より好ましくは5〜25質量%用
いる。
【0124】以下に、単量体(C)の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0125】
【化28】
【0126】次に、本発明において、一官能性単量体
(C)と共に好ましく用いられる一官能性単量体(D)
について説明する。一官能性単量体(D)は、−PO3
H2 基、−SO3H基及び−SO2H基から選ばれる酸性
基を少なくとも1つ含有する、単量体(A)と共重合可
能な単量体である。単量体(D)は、分子中に複数個の
上記酸性基を含有してもよい。かかる単量体(D)を単
量体(C)と共存させることにより、樹脂粒子の荷電特
性が更に向上し、安定に維持され、優れた画質の画像が
安定して得られる。単量体(D)を用いる場合の使用割
合は、単量体(C)/単量体(D)のモル比で好ましく
は0.2〜2.5、より好ましくは0.5〜2.0であ
る。
(C)と共に好ましく用いられる一官能性単量体(D)
について説明する。一官能性単量体(D)は、−PO3
H2 基、−SO3H基及び−SO2H基から選ばれる酸性
基を少なくとも1つ含有する、単量体(A)と共重合可
能な単量体である。単量体(D)は、分子中に複数個の
上記酸性基を含有してもよい。かかる単量体(D)を単
量体(C)と共存させることにより、樹脂粒子の荷電特
性が更に向上し、安定に維持され、優れた画質の画像が
安定して得られる。単量体(D)を用いる場合の使用割
合は、単量体(C)/単量体(D)のモル比で好ましく
は0.2〜2.5、より好ましくは0.5〜2.0であ
る。
【0127】以下に、単量体(D)の具体例を示す。本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
【0128】
【化29】
【0129】
【化30】
【0130】本発明の分散樹脂粒子(CSR)を製造す
るには、一般に、前述のような分散安定用樹脂(P)、
単量体(A)、マクロモノマー(MA)、必要に応じて
単量体(C)及び単量体(D)を、シード粒子(CR)
を含有する非水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイ
ソブチロニトリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存
在下に加熱重合させればよい。具体的には、分散安定
用樹脂(P)、単量体(A)、マクロモノマー(M
A)、必要に応じて単量体(C)、単量体(D)並びに
シード粒子(CR)の混合物中に重合開始剤を添加する
方法、分散安定用樹脂(P)を溶解し、シード粒子
(CR)が分散された混合物中に、単量体(A)、マク
ロモノマー(MA)、必要に応じて単量体(C)及び、
単量体(D)を重合開始剤とともに滴下していく方法、
または、分散安定用樹脂(P)を溶解し、シード粒子
(CR)が分散された混合物中に、単量体(A)の半
量、必要に応じて単量体(C)の混合物及び単量体
(A)の半量、マクロモノマー(MA)、必要に応じて
単量体(D)及び重合開始剤の混合物を各々同時に滴下
していく方法等があり、いずれの方法を用いても製造す
ることができる。
るには、一般に、前述のような分散安定用樹脂(P)、
単量体(A)、マクロモノマー(MA)、必要に応じて
単量体(C)及び単量体(D)を、シード粒子(CR)
を含有する非水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイ
ソブチロニトリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存
在下に加熱重合させればよい。具体的には、分散安定
用樹脂(P)、単量体(A)、マクロモノマー(M
A)、必要に応じて単量体(C)、単量体(D)並びに
シード粒子(CR)の混合物中に重合開始剤を添加する
方法、分散安定用樹脂(P)を溶解し、シード粒子
(CR)が分散された混合物中に、単量体(A)、マク
ロモノマー(MA)、必要に応じて単量体(C)及び、
単量体(D)を重合開始剤とともに滴下していく方法、
または、分散安定用樹脂(P)を溶解し、シード粒子
(CR)が分散された混合物中に、単量体(A)の半
量、必要に応じて単量体(C)の混合物及び単量体
(A)の半量、マクロモノマー(MA)、必要に応じて
単量体(D)及び重合開始剤の混合物を各々同時に滴下
していく方法等があり、いずれの方法を用いても製造す
ることができる。
【0131】シード粒子(CR)とシェル層を構成する
単量体((A)、(MA)、(C)及び(D))の総量
との使用割合は、シード粒子(CR)/単量体総量の質
量比で、5/95〜95/5が好ましく、より好ましく
は10/90〜80/20である。シード粒子(CR)
と全単量体との合計量は、非水溶媒100質量部に対し
て、好ましくは10〜150質量部であり、より好まし
くは10〜100質量部である。
単量体((A)、(MA)、(C)及び(D))の総量
との使用割合は、シード粒子(CR)/単量体総量の質
量比で、5/95〜95/5が好ましく、より好ましく
は10/90〜80/20である。シード粒子(CR)
と全単量体との合計量は、非水溶媒100質量部に対し
て、好ましくは10〜150質量部であり、より好まし
くは10〜100質量部である。
【0132】分散安定用樹脂(P)の使用量は用いられ
る全単量体100質量部に対して、好ましくは3〜40
質量部であり、より好ましくは5〜30質量部である。
重合開始剤の量は全単量体の0.1〜10質量%が適当
である。また、重合温度は40〜180℃程度が好まし
く、より好ましくは50〜120℃である。反応時間は
5〜20時間程度が好ましい。
る全単量体100質量部に対して、好ましくは3〜40
質量部であり、より好ましくは5〜30質量部である。
重合開始剤の量は全単量体の0.1〜10質量%が適当
である。また、重合温度は40〜180℃程度が好まし
く、より好ましくは50〜120℃である。反応時間は
5〜20時間程度が好ましい。
【0133】非水溶媒と共に前記したアルコール類、ケ
トン類、エーテル類、エステル類等の極性溶媒を併用し
た場合あるいは、単量体の未反応物が残存する場合、極
性溶媒あるいは単量体の沸点以上に加温して留去するか
あるいは減圧留去することによって除くことが好まし
い。
トン類、エーテル類、エステル類等の極性溶媒を併用し
た場合あるいは、単量体の未反応物が残存する場合、極
性溶媒あるいは単量体の沸点以上に加温して留去するか
あるいは減圧留去することによって除くことが好まし
い。
【0134】以上の如くして得られた非水系分散樹脂粒
子(CSR)は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とし
て存在する。その平均粒径は、好ましくは0.1〜3.
0μm、より好ましくは0.15〜2.0μmである。
この粒径は遠心沈降式粒度分布測定装置(例えばCAP
A−700、堀場製作所(株)製)あるいはレーザー回
折散乱式粒度分布測定装置(例えばLA−920、堀場
製作所(株)製)などにより求めることができる。本発
明の液体現像剤において、樹脂粒子(CSR)は担体液
体である非水溶媒1000質量部に対して0.5〜10
0質量部程度用いるのが好ましい。
子(CSR)は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とし
て存在する。その平均粒径は、好ましくは0.1〜3.
0μm、より好ましくは0.15〜2.0μmである。
この粒径は遠心沈降式粒度分布測定装置(例えばCAP
A−700、堀場製作所(株)製)あるいはレーザー回
折散乱式粒度分布測定装置(例えばLA−920、堀場
製作所(株)製)などにより求めることができる。本発
明の液体現像剤において、樹脂粒子(CSR)は担体液
体である非水溶媒1000質量部に対して0.5〜10
0質量部程度用いるのが好ましい。
【0135】本発明の液体現像剤は分散樹脂粒子の荷電
性、分散安定性、再分散性、保存安定性に優れ、且つ、
高精細な画像再現性及び画像形成後の迅速な定着性が良
好である。また、画像形成をオフセット印刷可能な版材
面上で行なって印刷版とし、オフセット印刷を行って
も、充分な画像強度が保たれ高耐刷性を示す。即ち、非
常に安定な分散性を有し、特に記録装置内において、長
く繰り返し使用をしても分散性、荷電性がよく、且つ再
分散も良好であり、粒子の凝集や沈澱を生じることがな
い。さらには、良好な定着性の故に、画像形成後、加熱
等の迅速処理で定着することにより、容易に平版印刷用
原版表面に強固な被膜が形成される。そのことにより、
オフセット印刷においても、多数枚の印刷(高耐刷性)
が可能となる。以上のような効果をもたらす本発明の液
体現像剤は、本発明によって供される非水系ラテックス
によって可能となる。
性、分散安定性、再分散性、保存安定性に優れ、且つ、
高精細な画像再現性及び画像形成後の迅速な定着性が良
好である。また、画像形成をオフセット印刷可能な版材
面上で行なって印刷版とし、オフセット印刷を行って
も、充分な画像強度が保たれ高耐刷性を示す。即ち、非
常に安定な分散性を有し、特に記録装置内において、長
く繰り返し使用をしても分散性、荷電性がよく、且つ再
分散も良好であり、粒子の凝集や沈澱を生じることがな
い。さらには、良好な定着性の故に、画像形成後、加熱
等の迅速処理で定着することにより、容易に平版印刷用
原版表面に強固な被膜が形成される。そのことにより、
オフセット印刷においても、多数枚の印刷(高耐刷性)
が可能となる。以上のような効果をもたらす本発明の液
体現像剤は、本発明によって供される非水系ラテックス
によって可能となる。
【0136】本発明の分散樹脂粒子(CSR)は、異な
る樹脂成分層から成るコア/シェル粒子であることを特
徴とする。この様にシェル層が存在することにより、本
来必要とする画像形成し定着した後の画像部としての充
分な膜強度を保持しつつ、液体現像剤として要求される
上記の多くの性能を満足させることが可能となる。例え
ば、液体現像剤中の分散樹脂粒子は、静置により自然沈
降するが、現像装置中においては攪拌、容器保管におい
ては振とう等で容易に再分散することが必要である。そ
のためには、粒子同志が接触しても、固着しないことが
重要であるが、コア層の樹脂成分とシェル層の樹脂成分
の熱物性を少し変える事で、迅速定着しても膜強度が充
分に保持でき、再分散性も良好な分散樹脂粒子を得るこ
とができる。具体的には、シェル層を構成する樹脂のガ
ラス転移点もしくは硬化点を、コア層を構成する樹脂の
それより好ましくは1〜8℃、より好ましくは2〜5℃
高くする。更には、シェル層の組成を調整することで、
粒子全体の良好な定着性/膜強度を損なうことなく粒子
の性能をより高めることができる。
る樹脂成分層から成るコア/シェル粒子であることを特
徴とする。この様にシェル層が存在することにより、本
来必要とする画像形成し定着した後の画像部としての充
分な膜強度を保持しつつ、液体現像剤として要求される
上記の多くの性能を満足させることが可能となる。例え
ば、液体現像剤中の分散樹脂粒子は、静置により自然沈
降するが、現像装置中においては攪拌、容器保管におい
ては振とう等で容易に再分散することが必要である。そ
のためには、粒子同志が接触しても、固着しないことが
重要であるが、コア層の樹脂成分とシェル層の樹脂成分
の熱物性を少し変える事で、迅速定着しても膜強度が充
分に保持でき、再分散性も良好な分散樹脂粒子を得るこ
とができる。具体的には、シェル層を構成する樹脂のガ
ラス転移点もしくは硬化点を、コア層を構成する樹脂の
それより好ましくは1〜8℃、より好ましくは2〜5℃
高くする。更には、シェル層の組成を調整することで、
粒子全体の良好な定着性/膜強度を損なうことなく粒子
の性能をより高めることができる。
【0137】本発明の液体現像剤には、非水溶媒中に分
散される樹脂粒子(CSR)の検電性を明確に調整する
ために荷電調節剤が用いられる。本発明の液体現像剤の
荷電調節剤としては従来公知のものを使用することがで
きる。例えばナフテン酸、オクテン酸、オレイン酸、ス
テアリン酸等の脂肪酸の金属塩類、スルホコハク酸エス
テルの金属塩類、特公昭45−556号、特開昭52−
37435号、同52−37049号等に示されている
油溶性スルホン酸金属塩類、特公昭45−9594号に
示されているリン酸エステルの金属塩類、特公昭48−
25666号に示されているアビエチン酸もしくは水素
添加アビエチン酸の金属塩類、特公昭55−2620号
に示されているアルキルベンゼンスルホン酸の金属塩
類、特開昭52−107837号、同52−38937
号、同57−90643号、同57−139753号に
示されている芳香族カルボン酸あるいはスルホン酸の金
属塩類、ポリオキシエチル化アルキルアミンのような非
イオン性界面活性剤、レシチン、アマニ油等の油脂類、
ポリビニルピロリドン、多価アルコールの有機酸エステ
ル類、特開昭57−210345号に示されているリン
酸エステル系界面活性剤、特公昭56−24944号に
示されているスルホン酸樹脂等を使用することができ
る。また特開昭60−21056号、同61−5095
1号に記載されたアミノ酸誘導体も使用することができ
る。更に、特開昭59−30917号、同59−299
38号、同59−38264号に示される無水マレイン
酸又は無水イタコン酸共重合体と1級もしくは2級アミ
ン類との反応体、特開昭59−36787号に示される
マレイン酸半アシルアミドとN−置換マレインイミドと
を含有する共重合体、さらに特開昭54−31739
号、特公昭56−24944号などに示されている4級
化アミンポリマーを挙げることができる。荷電調節剤は
単独または2種以上を組み合わせて用いることができ
る。荷電調節剤は、担体液体である非水溶媒1000質
量部に対して0.001〜1.0質量部用いるのが好ま
しい。本発明の液体現像剤においては、所望により着色
剤を使用しても良い。その着色剤は特に限定されるもの
ではなく従来公知の各種顔料又は染料を使用することが
できる。例えば、アルミニウムなどの金属粉末、磁性酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化ケイ素などの金属
酸化物、粉末カドミウムセレンクロム酸鉛などの金属塩
類、ハンザイエロー(C.I.11680)、ベンジジ
ンイエローG(C.I.21090)、ベンジジンオレ
ンジ(C.I.21110)、ファーストレッド(C.
I.37085)、ブリリアントカーミン3B(C.
I.16015−Lake)、フタロシアニンブルー(C.
I.74160)、フタロシアニングリーン(C.I.
74260)、ビクトリアブルー(C.I.42595
−Lake)、スピリットブラック(C.I.5041
5)、オイルブルー(C.I.74350)、アルカリ
ブルー(C.I.42770A)、ファーストスカーレ
ット(C.I.12315)、ローダミン6B(C.
I.45160)、ファーストスカイブルー(C.I.
74200−Lake)、ニグロシン(C.I.5041
5)、カーボンブラック等がある。表面処理した顔料、
例えばニグロシンで染色したカーボンブラック、ポリマ
ーをグラフト重合したグラフトカーボン等も使用でき
る。着色剤は、分散樹脂粒子とは別に着色剤自体を粒子
として非水溶媒中に分散させてもよいし、あるいは分散
樹脂粒子中に含有させてもよい。分散樹脂粒子を着色す
る場合には、例えば、顔料又は染料を用いて樹脂中に物
理的に分散する方法が用いられる。また、特開昭57−
48738号などに記載されている如く、分散樹脂粒子
を、好ましい染料で染色する方法がある。更には、特開
昭53−54029号に開示されている如く、分散樹脂
粒子と染料を化学的に結合させる方法がある。又、特公
昭44−22955号等に記載されている如く、重合造
粒法で製造する際に、予め色素を含有した単量体を用
い、色素含有の樹脂粒子とする方法もある。
散される樹脂粒子(CSR)の検電性を明確に調整する
ために荷電調節剤が用いられる。本発明の液体現像剤の
荷電調節剤としては従来公知のものを使用することがで
きる。例えばナフテン酸、オクテン酸、オレイン酸、ス
テアリン酸等の脂肪酸の金属塩類、スルホコハク酸エス
テルの金属塩類、特公昭45−556号、特開昭52−
37435号、同52−37049号等に示されている
油溶性スルホン酸金属塩類、特公昭45−9594号に
示されているリン酸エステルの金属塩類、特公昭48−
25666号に示されているアビエチン酸もしくは水素
添加アビエチン酸の金属塩類、特公昭55−2620号
に示されているアルキルベンゼンスルホン酸の金属塩
類、特開昭52−107837号、同52−38937
号、同57−90643号、同57−139753号に
示されている芳香族カルボン酸あるいはスルホン酸の金
属塩類、ポリオキシエチル化アルキルアミンのような非
イオン性界面活性剤、レシチン、アマニ油等の油脂類、
ポリビニルピロリドン、多価アルコールの有機酸エステ
ル類、特開昭57−210345号に示されているリン
酸エステル系界面活性剤、特公昭56−24944号に
示されているスルホン酸樹脂等を使用することができ
る。また特開昭60−21056号、同61−5095
1号に記載されたアミノ酸誘導体も使用することができ
る。更に、特開昭59−30917号、同59−299
38号、同59−38264号に示される無水マレイン
酸又は無水イタコン酸共重合体と1級もしくは2級アミ
ン類との反応体、特開昭59−36787号に示される
マレイン酸半アシルアミドとN−置換マレインイミドと
を含有する共重合体、さらに特開昭54−31739
号、特公昭56−24944号などに示されている4級
化アミンポリマーを挙げることができる。荷電調節剤は
単独または2種以上を組み合わせて用いることができ
る。荷電調節剤は、担体液体である非水溶媒1000質
量部に対して0.001〜1.0質量部用いるのが好ま
しい。本発明の液体現像剤においては、所望により着色
剤を使用しても良い。その着色剤は特に限定されるもの
ではなく従来公知の各種顔料又は染料を使用することが
できる。例えば、アルミニウムなどの金属粉末、磁性酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化ケイ素などの金属
酸化物、粉末カドミウムセレンクロム酸鉛などの金属塩
類、ハンザイエロー(C.I.11680)、ベンジジ
ンイエローG(C.I.21090)、ベンジジンオレ
ンジ(C.I.21110)、ファーストレッド(C.
I.37085)、ブリリアントカーミン3B(C.
I.16015−Lake)、フタロシアニンブルー(C.
I.74160)、フタロシアニングリーン(C.I.
74260)、ビクトリアブルー(C.I.42595
−Lake)、スピリットブラック(C.I.5041
5)、オイルブルー(C.I.74350)、アルカリ
ブルー(C.I.42770A)、ファーストスカーレ
ット(C.I.12315)、ローダミン6B(C.
I.45160)、ファーストスカイブルー(C.I.
74200−Lake)、ニグロシン(C.I.5041
5)、カーボンブラック等がある。表面処理した顔料、
例えばニグロシンで染色したカーボンブラック、ポリマ
ーをグラフト重合したグラフトカーボン等も使用でき
る。着色剤は、分散樹脂粒子とは別に着色剤自体を粒子
として非水溶媒中に分散させてもよいし、あるいは分散
樹脂粒子中に含有させてもよい。分散樹脂粒子を着色す
る場合には、例えば、顔料又は染料を用いて樹脂中に物
理的に分散する方法が用いられる。また、特開昭57−
48738号などに記載されている如く、分散樹脂粒子
を、好ましい染料で染色する方法がある。更には、特開
昭53−54029号に開示されている如く、分散樹脂
粒子と染料を化学的に結合させる方法がある。又、特公
昭44−22955号等に記載されている如く、重合造
粒法で製造する際に、予め色素を含有した単量体を用
い、色素含有の樹脂粒子とする方法もある。
【0138】本発明の液体現像剤には、荷電特性の強化
あるいは画像特性の改良等のために、所望により種々の
添加剤を加えても良く、例えば原崎勇次「電子写真」第
16巻、第2号、44頁に具体的に記載されているもの
が用いられる。具体的には、高級アルコール類、フッ化
アルコール類、ポリエーテル類、オレフィンワックス
類、シリコンオイル類、ヘテロ環化合物等が挙げられ
る。しかし、これらに限定されるものではない。添加剤
の総量は、液体現像剤の電気抵抗によってその上限が規
制される。即ち、トナー粒子を除去した状態の液体現像
剤の電気抵抗が109Ωcmより低くなると良質の連続
階調像が得られ難くなるので、各添加剤の添加量を、こ
の限度内でコントロールすることが望ましい。
あるいは画像特性の改良等のために、所望により種々の
添加剤を加えても良く、例えば原崎勇次「電子写真」第
16巻、第2号、44頁に具体的に記載されているもの
が用いられる。具体的には、高級アルコール類、フッ化
アルコール類、ポリエーテル類、オレフィンワックス
類、シリコンオイル類、ヘテロ環化合物等が挙げられ
る。しかし、これらに限定されるものではない。添加剤
の総量は、液体現像剤の電気抵抗によってその上限が規
制される。即ち、トナー粒子を除去した状態の液体現像
剤の電気抵抗が109Ωcmより低くなると良質の連続
階調像が得られ難くなるので、各添加剤の添加量を、こ
の限度内でコントロールすることが望ましい。
【0139】本発明の液体現像剤はいずれの電子写真感
光体とも組合せて用いることができる。用いられる感光
体としては、周知の有機光導電体もしくは無機光導電体
が挙げられる。また帯電針によって帯電された誘導体も
用いることが出来る。有機光導電体としては、周知の広
範囲の有機光導電体がある。具体例は「リサーチ・ディ
スクロージャー」(Research Disclosure)誌、No.109
38(1973年5月号61ページ以降、「電子写真要
素、材料およびプロセス」等に記載されている物質があ
る。実用に供されているものとしては例えば、ポリ−N
−ビニルカルバゾールと2,4,7−トリニトロフルオ
レン−9−オンとからなる電子写真感光体(米国特許第
3,484,237号)、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルをピリリウム塩系色素で増感したもの(特公昭48−
25658号)、有機顔料を主成分とする電子写真感光
体(特開昭49−37543号)、染料と樹脂とからな
る共晶錯体を主成分とする電子写真感光体(特開昭47
−10735号)、銅フタロシアニンを樹脂中に分散し
た電子写真感光体(特公昭52−1667号)などがあ
る。その他、電子写真学会誌、第25巻、第3号(19
86)の62〜76頁に記載されている物質などが挙げ
られる。本発明に用いられる無機光導電体としてR.M.Sc
haffert著「エレクトロ・フォトグラフィー」(Electro
photography) Focal Press(London)出版(1975年)
260〜374頁などに開示されている各種の無機化合
物が代表的である。具体例としては酸化亜鉛、酸化チタ
ン、α−シリコン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、セレン
−テルル合金、セレン−砒素合金、セレン−テルル−砒
素合金等が挙げられる。
光体とも組合せて用いることができる。用いられる感光
体としては、周知の有機光導電体もしくは無機光導電体
が挙げられる。また帯電針によって帯電された誘導体も
用いることが出来る。有機光導電体としては、周知の広
範囲の有機光導電体がある。具体例は「リサーチ・ディ
スクロージャー」(Research Disclosure)誌、No.109
38(1973年5月号61ページ以降、「電子写真要
素、材料およびプロセス」等に記載されている物質があ
る。実用に供されているものとしては例えば、ポリ−N
−ビニルカルバゾールと2,4,7−トリニトロフルオ
レン−9−オンとからなる電子写真感光体(米国特許第
3,484,237号)、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルをピリリウム塩系色素で増感したもの(特公昭48−
25658号)、有機顔料を主成分とする電子写真感光
体(特開昭49−37543号)、染料と樹脂とからな
る共晶錯体を主成分とする電子写真感光体(特開昭47
−10735号)、銅フタロシアニンを樹脂中に分散し
た電子写真感光体(特公昭52−1667号)などがあ
る。その他、電子写真学会誌、第25巻、第3号(19
86)の62〜76頁に記載されている物質などが挙げ
られる。本発明に用いられる無機光導電体としてR.M.Sc
haffert著「エレクトロ・フォトグラフィー」(Electro
photography) Focal Press(London)出版(1975年)
260〜374頁などに開示されている各種の無機化合
物が代表的である。具体例としては酸化亜鉛、酸化チタ
ン、α−シリコン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、セレン
−テルル合金、セレン−砒素合金、セレン−テルル−砒
素合金等が挙げられる。
【0140】
【実施例】以下に本発明に用いられるマクロモノマー
(MA)及び樹脂粒子の製造例および実施例を示し、本
発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
(MA)及び樹脂粒子の製造例および実施例を示し、本
発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【0141】マクロモノマー(MA)の製造例1:マク
ロモノマー(MA−1) オクタデシルメタクリレート100g、3−メルカプト
プロピオン酸2gおよびトルエン200gの混合溶液
を、窒素気流下撹拌しながら、温度70℃に加温した。
2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル)(略称A.
I.B.N.)を1.0g加え4時間反応し、更にA.
I.B.N.を0.5g加え3時間、更にA.I.B.
N.を0.3g加え3時間反応した。次に、この反応溶
液にグリシジルメタクリレート8g、N,N−ジメチル
ドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン
0.5gを加え、温度100℃にて、10時間撹拌し
た。冷却後この反応溶液をメタノール2リットル中に再
沈し、白色粉末を82g得た。重合体の質量平均分子量
(Mw)は1×104 であった(質量平均分子量は、
G.P.C法によるポリスチレン換算値を表わす。以下
同じ)。
ロモノマー(MA−1) オクタデシルメタクリレート100g、3−メルカプト
プロピオン酸2gおよびトルエン200gの混合溶液
を、窒素気流下撹拌しながら、温度70℃に加温した。
2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル)(略称A.
I.B.N.)を1.0g加え4時間反応し、更にA.
I.B.N.を0.5g加え3時間、更にA.I.B.
N.を0.3g加え3時間反応した。次に、この反応溶
液にグリシジルメタクリレート8g、N,N−ジメチル
ドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン
0.5gを加え、温度100℃にて、10時間撹拌し
た。冷却後この反応溶液をメタノール2リットル中に再
沈し、白色粉末を82g得た。重合体の質量平均分子量
(Mw)は1×104 であった(質量平均分子量は、
G.P.C法によるポリスチレン換算値を表わす。以下
同じ)。
【0142】
【化31】
【0143】マクロモノマー(MA)の製造例2〜1
1:マクロモノマー(MA−2)〜(MA−11) マクロモノマー(MA)の製造例1において、オクタデ
シルメタクリレートのみを下記表1に相当する化合物に
代えた他は、製造例1と同様にして反応してマクロモノ
マー(MA−2)〜(MA−11)を合成した。得られ
た各マクロモノマーの質量平均分子量は9×103 〜1
×104 の範囲であった。
1:マクロモノマー(MA−2)〜(MA−11) マクロモノマー(MA)の製造例1において、オクタデ
シルメタクリレートのみを下記表1に相当する化合物に
代えた他は、製造例1と同様にして反応してマクロモノ
マー(MA−2)〜(MA−11)を合成した。得られ
た各マクロモノマーの質量平均分子量は9×103 〜1
×104 の範囲であった。
【0144】
【表1】
【0145】マクロモノマー(MA)の製造例12:マ
クロモノマー(MA−12) テトラデシルメタクリレート100g、チオエタノール
2g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌
しながら温度70℃に加温した。A.I.B.N.を
1.0g加え4時間反応した。更に、A.I.B.N.
を0.5g加え3時間、その後、更にA.I.B.N.
を0.3g加え3時間反応した。この反応溶液を、室温
に冷却し、2−カルボキシエチルアクリレート8gを加
え、これにジシクロヘキシルカルボジイミド(略称D.
C.C.)を12.7g及び塩化メチレン60gの混合
溶液を1時間で滴下した。t−ブチルハイドロキノン
1.0gを加え、そのまま4時間撹拌した。
クロモノマー(MA−12) テトラデシルメタクリレート100g、チオエタノール
2g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌
しながら温度70℃に加温した。A.I.B.N.を
1.0g加え4時間反応した。更に、A.I.B.N.
を0.5g加え3時間、その後、更にA.I.B.N.
を0.3g加え3時間反応した。この反応溶液を、室温
に冷却し、2−カルボキシエチルアクリレート8gを加
え、これにジシクロヘキシルカルボジイミド(略称D.
C.C.)を12.7g及び塩化メチレン60gの混合
溶液を1時間で滴下した。t−ブチルハイドロキノン
1.0gを加え、そのまま4時間撹拌した。
【0146】析出した結晶を濾別して得た濾液を、メタ
ノール2リットル中に再沈した。沈澱した油状物をデカ
ンテーションで捕集し、これを塩化メチレン150mlに
溶解し、メタノール1リットル中に再度再沈した。油状
物を捕集し、減圧乾燥して、収量60gで,Mwが8×
103 の重合体を得た。
ノール2リットル中に再沈した。沈澱した油状物をデカ
ンテーションで捕集し、これを塩化メチレン150mlに
溶解し、メタノール1リットル中に再度再沈した。油状
物を捕集し、減圧乾燥して、収量60gで,Mwが8×
103 の重合体を得た。
【0147】
【化32】
【0148】マクロモノマー(MA)の製造例13〜1
5:マクロモノマー(MA−13)〜(MA−15) マクロモノマー(MA)の製造例12において、メタク
リレートモノマー(テトラデシルメタクリレートに相
当)及び不飽和カルボン酸(2−カルボキシエチルアク
リレートに相当)を各々代えた他は製造例12と同様に
して、下記表2のマクロモノマーを各々製造した。60
〜70g で得られた各マクロモノマーの重量平均分子量
は7×103 〜9×103 の範囲であった。
5:マクロモノマー(MA−13)〜(MA−15) マクロモノマー(MA)の製造例12において、メタク
リレートモノマー(テトラデシルメタクリレートに相
当)及び不飽和カルボン酸(2−カルボキシエチルアク
リレートに相当)を各々代えた他は製造例12と同様に
して、下記表2のマクロモノマーを各々製造した。60
〜70g で得られた各マクロモノマーの重量平均分子量
は7×103 〜9×103 の範囲であった。
【0149】
【表2】
【0150】マクロモノマー(MA)の製造例16:マ
クロモノマー(MA−16) 2,3−ジヘキサノイルオキシプロピルメタクリレート
100g、テトラヒドロフラン150g及びイソプロピ
ルアルコール50gの混合溶液を窒素気流下に、温度7
5℃に加温した。4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草
酸)(略称:A.C.V.)を5.0g加え5時間反応
し、更にA.C.V.を1.0g加えて4時間反応し
た。冷却後、反応溶液をメタノール1.5リットル中に
再沈し、油状物をデカンテーションで捕集し、減圧乾燥
した。収量は85gであった。
クロモノマー(MA−16) 2,3−ジヘキサノイルオキシプロピルメタクリレート
100g、テトラヒドロフラン150g及びイソプロピ
ルアルコール50gの混合溶液を窒素気流下に、温度7
5℃に加温した。4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草
酸)(略称:A.C.V.)を5.0g加え5時間反応
し、更にA.C.V.を1.0g加えて4時間反応し
た。冷却後、反応溶液をメタノール1.5リットル中に
再沈し、油状物をデカンテーションで捕集し、減圧乾燥
した。収量は85gであった。
【0151】この油状物50g、グリシジルメタアクリ
レート15g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0
g、2,2′−メチレンビス(6−t−ブチル−p−ク
レゾール)1.0gおよびトルエン100g の混合物
を、温度100℃で15時間撹拌した。冷却後、この反
応液を石油エーテル1リットル中に再沈し、白色の粉末
63gを得た。質量平均分子量は7×103 であった。
レート15g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0
g、2,2′−メチレンビス(6−t−ブチル−p−ク
レゾール)1.0gおよびトルエン100g の混合物
を、温度100℃で15時間撹拌した。冷却後、この反
応液を石油エーテル1リットル中に再沈し、白色の粉末
63gを得た。質量平均分子量は7×103 であった。
【0152】
【化33】
【0153】分散安定用樹脂(P)の合成例1:樹脂
(P−1) メチルメタクリレート50g、エチルアクリレート50
g、下記構造の開始剤(I−1)7.8g及びテトラヒ
ドロフラン100gの混合物を窒素気流下に温度50℃
に加温した。この溶液に400Wの高圧水銀灯で10c
mの距離からガラスフィルターを通して8時間光照射し
光重合した。この重合物をメタノール1リットル中に再
沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。次に、上記重合物5
5g、ステアリルメタクリレート45g及びテトラヒド
ロフラン100gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度
50℃に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を
16時間行った後、得られた反応物をメタノール1.5
リットル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して、収量
80gで質量平均分子量〔Mw:Mwはポリスチレン換
算によるGPO法(GPC:サイズ排除クロマトグラフ
ィー)による値〕は6×104の重合体を得た。又、得
られた樹脂とアイソパーH(エクソン社製)の5質量%
混合物を充分に撹拌した後の混合物は、ケイ光味を帯び
た青白い液となった。この液からサンプルを作成し、走
査型電子顕微鏡(以下、SEMと略称)写真から、平均
粒径0.14μmの微粒子が観察された。
(P−1) メチルメタクリレート50g、エチルアクリレート50
g、下記構造の開始剤(I−1)7.8g及びテトラヒ
ドロフラン100gの混合物を窒素気流下に温度50℃
に加温した。この溶液に400Wの高圧水銀灯で10c
mの距離からガラスフィルターを通して8時間光照射し
光重合した。この重合物をメタノール1リットル中に再
沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。次に、上記重合物5
5g、ステアリルメタクリレート45g及びテトラヒド
ロフラン100gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度
50℃に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を
16時間行った後、得られた反応物をメタノール1.5
リットル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して、収量
80gで質量平均分子量〔Mw:Mwはポリスチレン換
算によるGPO法(GPC:サイズ排除クロマトグラフ
ィー)による値〕は6×104の重合体を得た。又、得
られた樹脂とアイソパーH(エクソン社製)の5質量%
混合物を充分に撹拌した後の混合物は、ケイ光味を帯び
た青白い液となった。この液からサンプルを作成し、走
査型電子顕微鏡(以下、SEMと略称)写真から、平均
粒径0.14μmの微粒子が観察された。
【0154】
【化34】
【0155】分散安定用樹脂(P)の合成例2:樹脂
(P−2) オクタデシルアクリレート50g、下記の構造の開始剤
(I−2)10.0g及びテトラヒドロフラン50gの
混合物を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液
に400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフ
ィルターを通して8時間光照射し光重合した。この重合
物をメタノール1リットル中に再沈し、沈殿物を捕集
し、乾燥した。次に、上記重合物30g、メチルアクリ
レート36g、アクリル酸4g及びテトラヒドロフラン
70gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度50℃に加
温した。次に、上記と同様にして、光照射を8時間行っ
た後、得られた反応物をメタノール1.5リットル中に
再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。更に、この重合物
35g、オクタデシルアクリレート15g及びテトラヒ
ドロフラン50gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度
50℃に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を
8時間行った後、得られた反応物をメタノール1.5リ
ットル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して、収量4
2gでMw6.5×104の重合体を得た。合成例1と
同様にして、アイソパーH混合物のサンプルのSEM写
真観察から平均粒子0.13μmの粒子が見られた。
(P−2) オクタデシルアクリレート50g、下記の構造の開始剤
(I−2)10.0g及びテトラヒドロフラン50gの
混合物を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液
に400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフ
ィルターを通して8時間光照射し光重合した。この重合
物をメタノール1リットル中に再沈し、沈殿物を捕集
し、乾燥した。次に、上記重合物30g、メチルアクリ
レート36g、アクリル酸4g及びテトラヒドロフラン
70gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度50℃に加
温した。次に、上記と同様にして、光照射を8時間行っ
た後、得られた反応物をメタノール1.5リットル中に
再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。更に、この重合物
35g、オクタデシルアクリレート15g及びテトラヒ
ドロフラン50gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度
50℃に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を
8時間行った後、得られた反応物をメタノール1.5リ
ットル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して、収量4
2gでMw6.5×104の重合体を得た。合成例1と
同様にして、アイソパーH混合物のサンプルのSEM写
真観察から平均粒子0.13μmの粒子が見られた。
【0156】
【化35】
【0157】分散安定用樹脂(P)の合成例3:樹脂
(P−3) メチルメタクリレート22g、メチルアクリレート33
g及び下記構造のマクロモノマー(MM−1)45g及
びトルエン185gの混合物を窒素気流下に温度80℃
に加温した。この混合溶液に2,2−アゾビスイソブチ
ロニトリル(略称 A.I.B.N.)1.5gを加えて3時間
反応した。更に A.I.B.N.を0.8g加えて2時間反応
し、続けてA.I.B.N.を0.5g加えた後、温度85℃に
上げて3時間反応した。得られた反応物は、青白いケイ
光味の混合物となった。この反応物をメタノール2リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して収量85g
でMw4.5×104の重合体を得た。合成例(P−
1)と同様にして、コロイド状分散物のSEM観察の結
果、0.10μmの粒状物であった。
(P−3) メチルメタクリレート22g、メチルアクリレート33
g及び下記構造のマクロモノマー(MM−1)45g及
びトルエン185gの混合物を窒素気流下に温度80℃
に加温した。この混合溶液に2,2−アゾビスイソブチ
ロニトリル(略称 A.I.B.N.)1.5gを加えて3時間
反応した。更に A.I.B.N.を0.8g加えて2時間反応
し、続けてA.I.B.N.を0.5g加えた後、温度85℃に
上げて3時間反応した。得られた反応物は、青白いケイ
光味の混合物となった。この反応物をメタノール2リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して収量85g
でMw4.5×104の重合体を得た。合成例(P−
1)と同様にして、コロイド状分散物のSEM観察の結
果、0.10μmの粒状物であった。
【0158】
【化36】
【0159】分散安定用樹脂(P)の合成例4〜14:
樹脂(P−4)〜(P−14) メチルメタクリレート35g、メチルアクリレート55
gを用いた全単量体に対して0.01モルの表−Aに示
す各開始剤(I)及びテトラヒドロフラン100gの混
合物を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液
に、合成例1と同様にして、光照射を12時間行い重合
反応を行った。次に、得られた各重合物55g、トリデ
シルメタクリレート45g及びテトラヒドロフラン12
0gを加えた混合溶液を、再び窒素気流下に温度55℃
に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を16時
間行った後、得られた反応物をメタノール1.5リット
ル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。収量60〜
80gでMw4×104〜7×104の各重合体を得た。
樹脂(P−4)〜(P−14) メチルメタクリレート35g、メチルアクリレート55
gを用いた全単量体に対して0.01モルの表−Aに示
す各開始剤(I)及びテトラヒドロフラン100gの混
合物を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液
に、合成例1と同様にして、光照射を12時間行い重合
反応を行った。次に、得られた各重合物55g、トリデ
シルメタクリレート45g及びテトラヒドロフラン12
0gを加えた混合溶液を、再び窒素気流下に温度55℃
に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を16時
間行った後、得られた反応物をメタノール1.5リット
ル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。収量60〜
80gでMw4×104〜7×104の各重合体を得た。
【0160】各重合体のコロイド状分散物のSEM観察
の結果、各重合体のアイソパーH中での粒子は0.10
〜0.15μmであった。
の結果、各重合体のアイソパーH中での粒子は0.10
〜0.15μmであった。
【0161】
【表3】
【0162】
【表4】
【0163】
【表5】
【0164】分散樹脂粒子(CSR)の製造例1:分散
樹脂粒子(CSR−1) <シード粒子(CR)の製造例1:シード粒子(CR−
1)>下記構造の分散安定用樹脂(DSP−1)12
g、酢酸ビニル100gおよびアイソバーH 386g
の混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温
した。重合開始剤として、2,2−アゾビスイソバレロ
ニトリル(A.I.V.N.)1.5gを加え4時間反応した。更
に、この開始剤1.0gを加え、温度を75℃にして4
時間反応した後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未
反応の酢酸ビニルを留去した。冷却後200メッシュの
ナイロン布を通し、得られた白色分散物は重合率93%
で平均粒径0.20μmの単分散性良好なラテックスで
あった。粒径はCAPA−700(堀場製作所(株)製)
で測定した(以下同様)。上記白色分散物の一部を遠心
分離機(回転数1×104r.p.m.、回転時間1時間)に
かけ、沈降した樹脂粒子分を捕集、乾燥し、質量平均分
子量(Mw)(G.P.C.によるポリスチレン換算
値。以下同様)とガラス転移点(Tg)を測定したとこ
ろ、Mwは2×105、Tgは38℃であった。
樹脂粒子(CSR−1) <シード粒子(CR)の製造例1:シード粒子(CR−
1)>下記構造の分散安定用樹脂(DSP−1)12
g、酢酸ビニル100gおよびアイソバーH 386g
の混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温
した。重合開始剤として、2,2−アゾビスイソバレロ
ニトリル(A.I.V.N.)1.5gを加え4時間反応した。更
に、この開始剤1.0gを加え、温度を75℃にして4
時間反応した後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未
反応の酢酸ビニルを留去した。冷却後200メッシュの
ナイロン布を通し、得られた白色分散物は重合率93%
で平均粒径0.20μmの単分散性良好なラテックスで
あった。粒径はCAPA−700(堀場製作所(株)製)
で測定した(以下同様)。上記白色分散物の一部を遠心
分離機(回転数1×104r.p.m.、回転時間1時間)に
かけ、沈降した樹脂粒子分を捕集、乾燥し、質量平均分
子量(Mw)(G.P.C.によるポリスチレン換算
値。以下同様)とガラス転移点(Tg)を測定したとこ
ろ、Mwは2×105、Tgは38℃であった。
【0165】<分散樹脂粒子(CSR−1)の製造>上
記白色分散物75g(固形分量として)、下記構造の分
散安定用樹脂(P−1)5g及びアイソパーH 50g
の混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度75℃に加温
した。これに、ベンジルメタクリレート12.5g、ベ
ンジルアクリレート11.5g、マクロモノマー(MA
−1)1.0g、A.I.V.N., 0.8g及びアイソパーH
25gの混合物を1時間で滴下しそのまま2時間攪拌
した。次にA.I.V.N. を1.0g加えて温度75℃に加
温して3時間攪拌し、更に、2,2−アゾビスイソブチ
ロニトリル(A.I.B.N.) を0.8g加えて温度80℃に
加温して3時間攪拌した。次いで温度を100℃に上
げ、減圧度200mmHg(約26.6kPa)下で2時間攪
拌し未反応のモノマーを留去した。冷却後200メッシ
ュのナイロン布を通し、得られた分散物は重合率99%
で平均粒径0.22μmのラテックスであった。なお、
シェル層に相当する樹脂分について以下の操作により試
料を作成し、そのTgを測定したところ、40℃であっ
た。また、Mwは1×105であった。上記分散樹脂粒
子(CSR−1)の製造において、シード粒子(CR−
1)の白色分散物を除いた他は同様に合成して、白色分
散物を得、その一部を、前記と同様の遠心分離操作を行
い、粒子を捕集、乾燥した。
記白色分散物75g(固形分量として)、下記構造の分
散安定用樹脂(P−1)5g及びアイソパーH 50g
の混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度75℃に加温
した。これに、ベンジルメタクリレート12.5g、ベ
ンジルアクリレート11.5g、マクロモノマー(MA
−1)1.0g、A.I.V.N., 0.8g及びアイソパーH
25gの混合物を1時間で滴下しそのまま2時間攪拌
した。次にA.I.V.N. を1.0g加えて温度75℃に加
温して3時間攪拌し、更に、2,2−アゾビスイソブチ
ロニトリル(A.I.B.N.) を0.8g加えて温度80℃に
加温して3時間攪拌した。次いで温度を100℃に上
げ、減圧度200mmHg(約26.6kPa)下で2時間攪
拌し未反応のモノマーを留去した。冷却後200メッシ
ュのナイロン布を通し、得られた分散物は重合率99%
で平均粒径0.22μmのラテックスであった。なお、
シェル層に相当する樹脂分について以下の操作により試
料を作成し、そのTgを測定したところ、40℃であっ
た。また、Mwは1×105であった。上記分散樹脂粒
子(CSR−1)の製造において、シード粒子(CR−
1)の白色分散物を除いた他は同様に合成して、白色分
散物を得、その一部を、前記と同様の遠心分離操作を行
い、粒子を捕集、乾燥した。
【0166】
【化37】
【0167】分散樹脂粒子(CSR)の製造例2:分散
樹脂粒子(CSR−2) <シード粒子(CR)の製造例2:シード粒子(CR−
2)>下記構造の分散安定用樹脂(DSP−2)10g
及びアイソバーH 384gの混合物を窒素気流下攪拌
しながら、温度75℃に加温した。これにメチルメタク
リレート30g、メチルアクリレート70g、及びA.I.
V.N., 1.5gの混合物を1時間で滴下し、そのまま2
時間攪拌した。次にA.I.V.N.を1.0g加えて温度75
℃に加温して3時間攪拌し、更に、A.I.B.N.を0.8g
加えて温度80℃に加温して3時間攪拌した。
樹脂粒子(CSR−2) <シード粒子(CR)の製造例2:シード粒子(CR−
2)>下記構造の分散安定用樹脂(DSP−2)10g
及びアイソバーH 384gの混合物を窒素気流下攪拌
しながら、温度75℃に加温した。これにメチルメタク
リレート30g、メチルアクリレート70g、及びA.I.
V.N., 1.5gの混合物を1時間で滴下し、そのまま2
時間攪拌した。次にA.I.V.N.を1.0g加えて温度75
℃に加温して3時間攪拌し、更に、A.I.B.N.を0.8g
加えて温度80℃に加温して3時間攪拌した。
【0168】次いで温度を100℃に上げ、減圧度20
0mmHg(約26.6kPa)下で2時間攪拌し未反応のモ
ノマーを留去した。冷却後200メッシュのナイロン布
を通し、得られた白色分散物は重合率99%で平均粒径
0.20μmのラテックスであった。樹脂粒子分のTg
は36℃で、Mwは1×105であった。
0mmHg(約26.6kPa)下で2時間攪拌し未反応のモ
ノマーを留去した。冷却後200メッシュのナイロン布
を通し、得られた白色分散物は重合率99%で平均粒径
0.20μmのラテックスであった。樹脂粒子分のTg
は36℃で、Mwは1×105であった。
【0169】<分散樹脂粒子(CSR−2)の製造>上
記白色分散物50g(固形分量として)、下記構造の分
散安定用樹脂(P−15)14g及びアイソパーH 6
8gの混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度75℃に
加温した。これに、メチルメタクリレート23g、メチ
ルアクリレート49g、2−(N,N−ジエチルアミ
ノ)エチルメタクリレート6g、マクロモノマー(MA
−13)2g、A.I.V.N., 0.9g及びアイソパーH
68gの混合物を1時間で滴下しそのまま2時間攪拌し
た。次いで、A.I.V.N. 1.0gを加えて温度75℃に
加温して3時間攪拌し、更に、A.I.B.N. 0.8gを加
えて温度80℃に加温して3時間攪拌した。次いで温度
を100℃に上げ、減圧度200mmHg(約26.6kP
a)下で2時間攪拌し未反応のモノマーを留去した。冷
却後200メッシュのナイロン布を通し、得られた樹脂
粒子分散物の重合率は99%で平均粒径は0.23μm
であった。製造例1と同様の方法でシェル層を構成する
樹脂分の物性を測定し、Mwは1.5×105、Tgは
39℃であった。
記白色分散物50g(固形分量として)、下記構造の分
散安定用樹脂(P−15)14g及びアイソパーH 6
8gの混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度75℃に
加温した。これに、メチルメタクリレート23g、メチ
ルアクリレート49g、2−(N,N−ジエチルアミ
ノ)エチルメタクリレート6g、マクロモノマー(MA
−13)2g、A.I.V.N., 0.9g及びアイソパーH
68gの混合物を1時間で滴下しそのまま2時間攪拌し
た。次いで、A.I.V.N. 1.0gを加えて温度75℃に
加温して3時間攪拌し、更に、A.I.B.N. 0.8gを加
えて温度80℃に加温して3時間攪拌した。次いで温度
を100℃に上げ、減圧度200mmHg(約26.6kP
a)下で2時間攪拌し未反応のモノマーを留去した。冷
却後200メッシュのナイロン布を通し、得られた樹脂
粒子分散物の重合率は99%で平均粒径は0.23μm
であった。製造例1と同様の方法でシェル層を構成する
樹脂分の物性を測定し、Mwは1.5×105、Tgは
39℃であった。
【0170】
【化38】
【0171】分散樹脂粒子(CSR)の製造例3:分散
樹脂粒子(CSR−3) <シード粒子(CR)の製造例3:シード粒子(CR−
3)>下記構造の分散安定用樹脂(DSP−3)18
g、酢酸ビニル100gおよびアイソバーH 386g
の混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温
した。重合開始剤として2,2−アゾビスイソバレロニ
トリル(A.I.V.N.)1.5gを加え4時間反応した。更
に、この開始剤1.0gを加え、温度を75℃にして4
時間反応した後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未
反応の酢酸ビニルを留去した。冷却後200メッシュの
ナイロン布を通し、得られた白色分散物は重合率94%
で平均粒径0.21μmの単分散性良好なラテックスで
あった。
樹脂粒子(CSR−3) <シード粒子(CR)の製造例3:シード粒子(CR−
3)>下記構造の分散安定用樹脂(DSP−3)18
g、酢酸ビニル100gおよびアイソバーH 386g
の混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温
した。重合開始剤として2,2−アゾビスイソバレロニ
トリル(A.I.V.N.)1.5gを加え4時間反応した。更
に、この開始剤1.0gを加え、温度を75℃にして4
時間反応した後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未
反応の酢酸ビニルを留去した。冷却後200メッシュの
ナイロン布を通し、得られた白色分散物は重合率94%
で平均粒径0.21μmの単分散性良好なラテックスで
あった。
【0172】<分散樹脂粒子(CSR−3)の製造>上
記白色分散物65g(固形分量として)、酢酸ビニル3
3.5g、マクロモノマー(MA−15)1.5g、下
記構造の分散安定用樹脂(P−16)5g及びアイソパ
ーH 50gの混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度
75℃に加温した。これに、A.I.B.N., 1.0gを加え
3時間反応し、更に、この開始剤0.8gを加え温度8
0℃として4時間反応した後、温度を100℃に上げ2
時間攪拌し未反応のモノマーを留去した。冷却後200
メッシュのナイロン布を通し、得られた白色分散物は重
合率93%で平均粒径0.23μmの単分散性良好なラ
テックスであった。シェル層を構成する樹脂分のMwは
8×104、Tgは38℃であった。
記白色分散物65g(固形分量として)、酢酸ビニル3
3.5g、マクロモノマー(MA−15)1.5g、下
記構造の分散安定用樹脂(P−16)5g及びアイソパ
ーH 50gの混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度
75℃に加温した。これに、A.I.B.N., 1.0gを加え
3時間反応し、更に、この開始剤0.8gを加え温度8
0℃として4時間反応した後、温度を100℃に上げ2
時間攪拌し未反応のモノマーを留去した。冷却後200
メッシュのナイロン布を通し、得られた白色分散物は重
合率93%で平均粒径0.23μmの単分散性良好なラ
テックスであった。シェル層を構成する樹脂分のMwは
8×104、Tgは38℃であった。
【0173】
【化39】
【0174】分散樹脂粒子(CSR)の製造例4〜8:分
散樹脂粒子(CSR−4)〜(CSR−8) 分散樹脂粒子(CSR)の製造例2において、分散安定
用樹脂(P−15)14g、マクロモノマー(MA−1
3)2g及び2−(N,N−ジエチルアミノ)エチルメ
タクリレート6gの代わりに、下記表−Bの分散安定用
樹脂(P)5g、下記表−Bのマクロモノマー(MA)
2g及び下記表−Bの各単量体(C)3gを用いた他は
上記製造例1と同様にして粒子分散物を製造した。得ら
れた各分散物は粒子の平均粒径が0.20〜0.24μ
mの範囲のラテックスであった。シェル層を構成する樹
脂分のMwは1×106〜3×105、Tgは40〜42
℃の範囲であった。
散樹脂粒子(CSR−4)〜(CSR−8) 分散樹脂粒子(CSR)の製造例2において、分散安定
用樹脂(P−15)14g、マクロモノマー(MA−1
3)2g及び2−(N,N−ジエチルアミノ)エチルメ
タクリレート6gの代わりに、下記表−Bの分散安定用
樹脂(P)5g、下記表−Bのマクロモノマー(MA)
2g及び下記表−Bの各単量体(C)3gを用いた他は
上記製造例1と同様にして粒子分散物を製造した。得ら
れた各分散物は粒子の平均粒径が0.20〜0.24μ
mの範囲のラテックスであった。シェル層を構成する樹
脂分のMwは1×106〜3×105、Tgは40〜42
℃の範囲であった。
【0175】
【表6】
【0176】分散樹脂粒子(CSR)の製造例9〜18:
分散樹脂粒子(CSR−9)〜(CSR−18) 分散樹脂粒子(CSR)の製造例2において、分散安定
用樹脂(P-15)14gの代わりに、下記表−Cの分
散安定用樹脂(P)5.5gを用い、マクロモノマー
(MA−13)2gの代わりに、下記表−Cの各化合物
2gを用いた他は、上記製造例2と同様にして粒子分散
物を製造した。得られた各分散物は粒子の平均粒径が
0.22〜0.24μmの範囲のラテックスであった。
シェル層を構成する樹脂分のMwは8×104 〜2×1
05 、Tgは44〜46℃の範囲であった。
分散樹脂粒子(CSR−9)〜(CSR−18) 分散樹脂粒子(CSR)の製造例2において、分散安定
用樹脂(P-15)14gの代わりに、下記表−Cの分
散安定用樹脂(P)5.5gを用い、マクロモノマー
(MA−13)2gの代わりに、下記表−Cの各化合物
2gを用いた他は、上記製造例2と同様にして粒子分散
物を製造した。得られた各分散物は粒子の平均粒径が
0.22〜0.24μmの範囲のラテックスであった。
シェル層を構成する樹脂分のMwは8×104 〜2×1
05 、Tgは44〜46℃の範囲であった。
【0177】
【表7】
【0178】分散樹脂粒子(CSR)の製造例19:分散
樹脂粒子(CSR−19) シード粒子(CR−2)70g(固形分量として)、下
記構造の分散安定用樹脂(P−18)6g及びアイソパ
ーG119gの混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度
70℃に加温した。これに、シクロヘキシルメタクリレ
ート8g、メチルアクリレート11g、マクロモノマー
(MA−10)1g、2−(N,N−ジエチルアミノ)
エチルメタクリレート3.3g及びA.I.V.N., 0.4g
の混合物及びシクロヘキシルメタクリレート6.3g、
メチルアクリレート10g及び2−ホスホノエチルメタ
クリレート2.2g及びエタノール5gの混合物を、各
々、同時に1時間で滴下し、そのまま2時間攪拌した。
次に、A.I.V.N. を0.3g加えて温度75℃に加温し
て3時間攪拌し、更に、A.I.B.N.を0.3g加えて温度
80℃に加温して3時間攪拌した。次いで温度を100
℃に上げ、減圧度200mmHg下で2時間攪拌しエタノー
ル及び未反応のモノマーを留去した。冷却後200メッ
シュのナイロン布を通し、得られた白色分散物は重合率
は99%で平均粒径は0.23μmのラテックスであっ
た。シェル層を構成する樹脂分のMwは3×105、T
gは47℃であった。
樹脂粒子(CSR−19) シード粒子(CR−2)70g(固形分量として)、下
記構造の分散安定用樹脂(P−18)6g及びアイソパ
ーG119gの混合物を、窒素気流下攪拌しながら温度
70℃に加温した。これに、シクロヘキシルメタクリレ
ート8g、メチルアクリレート11g、マクロモノマー
(MA−10)1g、2−(N,N−ジエチルアミノ)
エチルメタクリレート3.3g及びA.I.V.N., 0.4g
の混合物及びシクロヘキシルメタクリレート6.3g、
メチルアクリレート10g及び2−ホスホノエチルメタ
クリレート2.2g及びエタノール5gの混合物を、各
々、同時に1時間で滴下し、そのまま2時間攪拌した。
次に、A.I.V.N. を0.3g加えて温度75℃に加温し
て3時間攪拌し、更に、A.I.B.N.を0.3g加えて温度
80℃に加温して3時間攪拌した。次いで温度を100
℃に上げ、減圧度200mmHg下で2時間攪拌しエタノー
ル及び未反応のモノマーを留去した。冷却後200メッ
シュのナイロン布を通し、得られた白色分散物は重合率
は99%で平均粒径は0.23μmのラテックスであっ
た。シェル層を構成する樹脂分のMwは3×105、T
gは47℃であった。
【0179】
【化40】
【0180】樹脂粒子(CSR)の製造例20〜26:着
色樹脂粒子(CSR−20)〜(CSR−26) 樹脂粒子(CSR)の製造例19において、分散安定用
樹脂(P−18)6g及びマクロモノマー(MA−1
0)1gの代わりに、下記表−Dの各化合物を用い、又
2−(N,N−ジエチルアミノ)エチルメタクリレート
3.3gの代わりに、下記表−Dの各単量体(C)0.
018モル、及び2−ホスホノエチルアクリレート2.
2gの代わりに下記表−Dの各単量体(B)0.010
モルをそれぞれ用いた他は、上記製造例19と同様にし
て各着色樹脂粒子(CSR)を製造した。得られた各着色
粒子の平均粒径は0.20〜0.30μmの範囲のラテ
ックスであった。
色樹脂粒子(CSR−20)〜(CSR−26) 樹脂粒子(CSR)の製造例19において、分散安定用
樹脂(P−18)6g及びマクロモノマー(MA−1
0)1gの代わりに、下記表−Dの各化合物を用い、又
2−(N,N−ジエチルアミノ)エチルメタクリレート
3.3gの代わりに、下記表−Dの各単量体(C)0.
018モル、及び2−ホスホノエチルアクリレート2.
2gの代わりに下記表−Dの各単量体(B)0.010
モルをそれぞれ用いた他は、上記製造例19と同様にし
て各着色樹脂粒子(CSR)を製造した。得られた各着色
粒子の平均粒径は0.20〜0.30μmの範囲のラテ
ックスであった。
【0181】
【表8】
【0182】分散樹脂粒子(CSR)の製造例27:分散
樹脂粒子(CSR−27) <シード粒子(CR)の製造例4:シード粒子(CR−
4)>エチレン/ドデシルメタクリレート(95/5)
モル比共重合体(Mw:7×104)50g及びアイソ
パーH200gの混合物を、ガラスビーズとともにペイ
ントシェーカー(東洋精機(株)製)にて、2時間分散し
た後、ガラスビーズを濾別した。次に2μmサイズのフ
ィルターを用いて加圧ろ過し、粗大粒子を除去した分散
物を得た。得られた白色分散物の平均粒径は0.35μ
mであった。
樹脂粒子(CSR−27) <シード粒子(CR)の製造例4:シード粒子(CR−
4)>エチレン/ドデシルメタクリレート(95/5)
モル比共重合体(Mw:7×104)50g及びアイソ
パーH200gの混合物を、ガラスビーズとともにペイ
ントシェーカー(東洋精機(株)製)にて、2時間分散し
た後、ガラスビーズを濾別した。次に2μmサイズのフ
ィルターを用いて加圧ろ過し、粗大粒子を除去した分散
物を得た。得られた白色分散物の平均粒径は0.35μ
mであった。
【0183】<分散樹脂粒子(CSR−28)の製造>上
記白色分散物50g(固形分量として)、下記構造の分
散安定用樹脂(P−19)10g、酢酸ビニル48g、
マクロモノマー(MA−19)2g及びアイソパーH
140gの混合物を窒素気流下攪拌しながら温度75℃
に加温した。これに、A.I.V.N. 1.8gを加えて4時
間攪拌した。次に、A.I.B.N. 1.0gを加えて、温度
を80℃に加温して3時間反応し、更に、A.I.B.N.
0.8gを加えて3時間攪拌した。次いで温度を100
℃に上げ、減圧度200mmHg下で2時間攪拌し未反応の
モノマーを留去した。冷却後200メッシュのナイロン
布を通し、得られた白色分散物は重合率94%で平均粒
径0.40μmのラテックスであった。シェル層を構成
する樹脂分のMwは6×104、Tgは39℃であっ
た。
記白色分散物50g(固形分量として)、下記構造の分
散安定用樹脂(P−19)10g、酢酸ビニル48g、
マクロモノマー(MA−19)2g及びアイソパーH
140gの混合物を窒素気流下攪拌しながら温度75℃
に加温した。これに、A.I.V.N. 1.8gを加えて4時
間攪拌した。次に、A.I.B.N. 1.0gを加えて、温度
を80℃に加温して3時間反応し、更に、A.I.B.N.
0.8gを加えて3時間攪拌した。次いで温度を100
℃に上げ、減圧度200mmHg下で2時間攪拌し未反応の
モノマーを留去した。冷却後200メッシュのナイロン
布を通し、得られた白色分散物は重合率94%で平均粒
径0.40μmのラテックスであった。シェル層を構成
する樹脂分のMwは6×104、Tgは39℃であっ
た。
【0184】
【化41】
【0185】実施例1及び比較例A
<液体現像剤(LD−1)の作製>テトラデシルメタク
リレート/アクリル酸(95/5質量比)共重合体10
g、アルカリブルー10g及びアイソパーG30gをガ
ラスビーズと共にペイントシェーカー(東洋精機(株)
製)に入れ、6時間分散してアルカリブルーの微小な分
散物を得た。分散樹脂粒子(CSR−1)8g(固形分
量として)、上記アルカリブルー分散物1.5g(固形
分量として)、オクテン酸ジルコニウム塩0.015g
及び分岐ヘキサデシルアルコール(FOC−1600、
日産化学(株)製)10gをアイソパーG1リットルに
希釈することにより静電写真用液体現像剤(LD−1)
を作製した。
リレート/アクリル酸(95/5質量比)共重合体10
g、アルカリブルー10g及びアイソパーG30gをガ
ラスビーズと共にペイントシェーカー(東洋精機(株)
製)に入れ、6時間分散してアルカリブルーの微小な分
散物を得た。分散樹脂粒子(CSR−1)8g(固形分
量として)、上記アルカリブルー分散物1.5g(固形
分量として)、オクテン酸ジルコニウム塩0.015g
及び分岐ヘキサデシルアルコール(FOC−1600、
日産化学(株)製)10gをアイソパーG1リットルに
希釈することにより静電写真用液体現像剤(LD−1)
を作製した。
【0186】<比較用現像剤Aの作製>上記液体現像剤
(LD−1)の製造において、分散樹脂粒子(CSR−
1)を以下の樹脂粒子に代える以外は同様にして比較用
の液体現像剤Aを作製した。 比較用液体現像剤A:分散樹脂粒子(CSR)の製造例
1で製造されたシード粒子(CR-1)
(LD−1)の製造において、分散樹脂粒子(CSR−
1)を以下の樹脂粒子に代える以外は同様にして比較用
の液体現像剤Aを作製した。 比較用液体現像剤A:分散樹脂粒子(CSR)の製造例
1で製造されたシード粒子(CR-1)
【0187】上記液体現像剤を全自動製版機ELP58
0RX(富士写真フイルム(株)製)の現像剤として使
用し、不感脂化処理液ELP−PEX(富士写真フイル
ム(株)製)を用いて、電子写真感光材料であるELP
マスター2Xタイプ(富士写真フイルム(株)製)を露
光、現像及び不感脂化処理をした。黒化率(画像面積)
35%の原稿を用いた。製版スピードは8版/分で行な
った。ELPマスター2Xタイプを1万枚処理した後の
現像装置へのトナー付着汚れの有無を観察した。その結
果を表−Eに示した。
0RX(富士写真フイルム(株)製)の現像剤として使
用し、不感脂化処理液ELP−PEX(富士写真フイル
ム(株)製)を用いて、電子写真感光材料であるELP
マスター2Xタイプ(富士写真フイルム(株)製)を露
光、現像及び不感脂化処理をした。黒化率(画像面積)
35%の原稿を用いた。製版スピードは8版/分で行な
った。ELPマスター2Xタイプを1万枚処理した後の
現像装置へのトナー付着汚れの有無を観察した。その結
果を表−Eに示した。
【0188】
【表9】
【0189】本発明の液体現像剤を用いて製版した所、
1万版後でも現像装置の汚れを生じなかった。比較例A
では、トナーかすの付着による現像装置の汚れが著しく
発生した。また、製版して得られた1万版目のオフセッ
ト用印刷版を用いて常法により印刷し、印刷物の画像に
文字の欠落、ベタ部のカスレ等の発生するまでの印刷枚
数を調べた所、本発明の現像剤を用いて得られた印刷版
は10000枚以上でも良好であった。他方、比較例A
は刷り出しから印刷物の画像不良等を生じた。更に、下
記実施例2の条件II(35℃/85%RH下に3か月保
存)で経時させた現像剤(LD−1)を用いて上記と同
様の試験を行なったところ、フレッシュ品とほぼ同等の
性能を示した。以上の結果から、本発明の液体現像剤
は、現像装置の汚れを全く生じないと同時に、得られた
印刷版は優れた耐刷性を有することが分かる。
1万版後でも現像装置の汚れを生じなかった。比較例A
では、トナーかすの付着による現像装置の汚れが著しく
発生した。また、製版して得られた1万版目のオフセッ
ト用印刷版を用いて常法により印刷し、印刷物の画像に
文字の欠落、ベタ部のカスレ等の発生するまでの印刷枚
数を調べた所、本発明の現像剤を用いて得られた印刷版
は10000枚以上でも良好であった。他方、比較例A
は刷り出しから印刷物の画像不良等を生じた。更に、下
記実施例2の条件II(35℃/85%RH下に3か月保
存)で経時させた現像剤(LD−1)を用いて上記と同
様の試験を行なったところ、フレッシュ品とほぼ同等の
性能を示した。以上の結果から、本発明の液体現像剤
は、現像装置の汚れを全く生じないと同時に、得られた
印刷版は優れた耐刷性を有することが分かる。
【0190】実施例2及び比較例B〜C
<印刷用原版の作製>光導電性酸化亜鉛200g、下記
構造の樹脂(B−1)2g、下記構造の樹脂(B−2)
18g、下記構造のシアニン色素(1)0.018g、
無水フタル酸0.15g及びトルエン300gの混合物
をホモジナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×1
03rpmで10分間分散して、感光層形成組成物を調製
し、これをELPマスター2Xタイプ(富士写真フイル
ム(株)製)用の支持体に、乾燥付着量が20g/m2とな
る様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で10秒間乾
燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24
時間放置することにより、印刷用原版を作製した。
構造の樹脂(B−1)2g、下記構造の樹脂(B−2)
18g、下記構造のシアニン色素(1)0.018g、
無水フタル酸0.15g及びトルエン300gの混合物
をホモジナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×1
03rpmで10分間分散して、感光層形成組成物を調製
し、これをELPマスター2Xタイプ(富士写真フイル
ム(株)製)用の支持体に、乾燥付着量が20g/m2とな
る様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で10秒間乾
燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24
時間放置することにより、印刷用原版を作製した。
【0191】
【化42】
【0192】<液体現像剤(LD−2)の作製>ドデシ
ルメタクリレート/アクリル酸(95/5質量比)共重
合体10g、メタンスルホニル変性ニグロシン10g及
びアイソパーHの30gをガラスビーズと共にペイント
シェーカー(東洋精機(株)製)に入れ、4時間分散し
て、ニグロシンの微小な黒色分散物を得た。
ルメタクリレート/アクリル酸(95/5質量比)共重
合体10g、メタンスルホニル変性ニグロシン10g及
びアイソパーHの30gをガラスビーズと共にペイント
シェーカー(東洋精機(株)製)に入れ、4時間分散し
て、ニグロシンの微小な黒色分散物を得た。
【0193】分散樹脂粒子(CSR−2)6g(固形分
量として)、上記黒色分散物1.0g(固形分量とし
て)、オクタデシルアルコール(FOC−1800、日
産化学(株)製)10g及びオクチルビニルエーテル/
マレイン酸半トリデシルアミド共重合体0.01gをア
イソパーGの1リットルに希釈することにより静電写真
用液体現像剤(LD−2)を作製した。
量として)、上記黒色分散物1.0g(固形分量とし
て)、オクタデシルアルコール(FOC−1800、日
産化学(株)製)10g及びオクチルビニルエーテル/
マレイン酸半トリデシルアミド共重合体0.01gをア
イソパーGの1リットルに希釈することにより静電写真
用液体現像剤(LD−2)を作製した。
【0194】<比較用現像剤B及びCの作製>上記液体
現像剤(LD−2)の製造において、分散樹脂粒子(C
SR−2)を以下の樹脂粒子に代える以外は同様にして
比較用の液体現像剤B及びCを作製した。 比較用液体現像剤B:分散樹脂粒子(CSR−2)の製
造例2で製造されたシード粒子(CR−2) 比較用液体現像剤C:分散樹脂粒子(CSR−2)の製
造例2において、シード粒子(CR−2)分散物50g
(固形分として)を除いた条件にて得られた樹脂粒子
(シェル層を構成する樹脂分からなる樹脂粒子) これらの液体現像剤の荷電特性、画像再現性、印刷性等
を調べ、その結果を表−Eに示した。
現像剤(LD−2)の製造において、分散樹脂粒子(C
SR−2)を以下の樹脂粒子に代える以外は同様にして
比較用の液体現像剤B及びCを作製した。 比較用液体現像剤B:分散樹脂粒子(CSR−2)の製
造例2で製造されたシード粒子(CR−2) 比較用液体現像剤C:分散樹脂粒子(CSR−2)の製
造例2において、シード粒子(CR−2)分散物50g
(固形分として)を除いた条件にて得られた樹脂粒子
(シェル層を構成する樹脂分からなる樹脂粒子) これらの液体現像剤の荷電特性、画像再現性、印刷性等
を調べ、その結果を表−Eに示した。
【0195】
【表10】
【0196】表−Fに記載の評価は、下記のようにして
行なった。 注1)荷電特性 ・交流電気電導度 液体現像剤の荷電量として交流電気電導度(pS/c
m)をLCRメーター(安藤電気(株)製AG−431
1)を用いて測定した。測定の際には、LCRメーター
をテストリード(安藤電気(株)製AG−4912)を
介して、被測定液体現像剤2.3mlを入れた、自作し
たアルミ製のシールドボックス内に配置した液体用電極
(川口電機(株)製LP−05、電極定数198)に接
続し、印可電圧5V、測定周波数1kHzでコンダクタ
ンスの測定を行い、その値を電極定数で除すことにより
電気電導度に換算した。測定の際に、LCRメーターの
測定パラメーターの設定はキャパシタンス、サーキット
モードの設定は並列モードとした。
行なった。 注1)荷電特性 ・交流電気電導度 液体現像剤の荷電量として交流電気電導度(pS/c
m)をLCRメーター(安藤電気(株)製AG−431
1)を用いて測定した。測定の際には、LCRメーター
をテストリード(安藤電気(株)製AG−4912)を
介して、被測定液体現像剤2.3mlを入れた、自作し
たアルミ製のシールドボックス内に配置した液体用電極
(川口電機(株)製LP−05、電極定数198)に接
続し、印可電圧5V、測定周波数1kHzでコンダクタ
ンスの測定を行い、その値を電極定数で除すことにより
電気電導度に換算した。測定の際に、LCRメーターの
測定パラメーターの設定はキャパシタンス、サーキット
モードの設定は並列モードとした。
【0197】・粒子の荷電分率
下式で示すように、液体現像剤中での分散粒子の荷電量
の割合を表す。
の割合を表す。
【0198】
【数1】
【0199】ここで、上澄み分の荷電量は、液体現像剤
を遠心分離法(条件:1×104 r.p.m.2時間)
で粒子分を沈降させて得られる上澄みである透明液体の
交流電気電導度を表す。
を遠心分離法(条件:1×104 r.p.m.2時間)
で粒子分を沈降させて得られる上澄みである透明液体の
交流電気電導度を表す。
【0200】また、条件I及びIIは、液体現像剤製造後
の経時状態を変えたものを示し、条件Iとは、全組成分
を調合して得られた液体現像剤を常温、常湿(25℃、
65%RH)で1週間経時させたもの(フレッシュ品)
であり、一方、条件IIは、フレッシュ品を高温、高湿
(35℃、85%RH)の条件下に3カ月間保存して、
強制経時させたもの(経時品)である。
の経時状態を変えたものを示し、条件Iとは、全組成分
を調合して得られた液体現像剤を常温、常湿(25℃、
65%RH)で1週間経時させたもの(フレッシュ品)
であり、一方、条件IIは、フレッシュ品を高温、高湿
(35℃、85%RH)の条件下に3カ月間保存して、
強制経時させたもの(経時品)である。
【0201】注2)画像再現性
上記印刷用原版を−6kVで帯電し、光源として2.8
mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザ
ー(発振波長780nm)を用いて、印刷用原版表面上
で6.4μjoul/cm2の照射下、ピッチ25μm及び
スキャニング速度300m/secで露光後、液体現像
剤として、上記の各液体現像剤を用いて現像し、イソパ
ラフィン系溶剤であるアイソパーG(エッソ化学(株)
製)のリンス液で洗浄後、版面温度60℃で10秒間定
着して画像を形成した。得られたの製版画像につき、カ
ブリ、画像の画質等を目視評価した。 注3)印刷性 上記画像再現性の方法に従って画像形成した原版を、不
感脂化処理液ELP−E2(富士写真フイルム(株)
製)を用いて、エッチングマシーンを1回通して印刷版
を作成した。この様にして得られた印刷版を、湿し水と
してELP−E2(富士写真フイルム(株)製)を水で
20倍に希釈した溶液を用い、印刷用原紙として中性紙
を用い、印刷機としてハマダスター800SX型(ハマ
ダスター(株)製)を用いて印刷し、刷り出し10枚目
の印刷物の品質及び印刷物の画像部に欠落の生じない印
刷枚数を調べた。表−Eに示す様に、本発明の液体現像
剤及び比較例Cの荷電特性は、過酷な条件下に保存して
も、全体の荷電量及び粒子の荷電分率がほとんど変化せ
ず、極めて安定であった。これに対して、比較例Bは全
体の荷電量は経時での変化量が比較的小さかったが、粒
子の荷電分率の変化が大きかった。実際に画像を形成し
た所、本発明の液体現像剤及び比較例Cは条件I及びII
ともに良好であった。比較例Bは、条件Iで画像部に流
れ発生が認められ、条件IIでは全体に流れが発生した。
更に、印刷版として印刷した所、本発明の液体現像剤を
用いた場合には、条件IIでも1万枚以上の鮮明な印刷物
が得られた。他方、比較例Bでは、刷り出しから印刷物
として実用に供しえるものではなかった。又、比較例C
は刷り出しから千枚程度で画像の欠落が生じ、印刷不良
となった。以上の様に、安定した画像再現性と、迅速な
定着条件でも充分定着され、良好な耐刷性が得られるの
は、本発明の現像剤のみであった。
mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザ
ー(発振波長780nm)を用いて、印刷用原版表面上
で6.4μjoul/cm2の照射下、ピッチ25μm及び
スキャニング速度300m/secで露光後、液体現像
剤として、上記の各液体現像剤を用いて現像し、イソパ
ラフィン系溶剤であるアイソパーG(エッソ化学(株)
製)のリンス液で洗浄後、版面温度60℃で10秒間定
着して画像を形成した。得られたの製版画像につき、カ
ブリ、画像の画質等を目視評価した。 注3)印刷性 上記画像再現性の方法に従って画像形成した原版を、不
感脂化処理液ELP−E2(富士写真フイルム(株)
製)を用いて、エッチングマシーンを1回通して印刷版
を作成した。この様にして得られた印刷版を、湿し水と
してELP−E2(富士写真フイルム(株)製)を水で
20倍に希釈した溶液を用い、印刷用原紙として中性紙
を用い、印刷機としてハマダスター800SX型(ハマ
ダスター(株)製)を用いて印刷し、刷り出し10枚目
の印刷物の品質及び印刷物の画像部に欠落の生じない印
刷枚数を調べた。表−Eに示す様に、本発明の液体現像
剤及び比較例Cの荷電特性は、過酷な条件下に保存して
も、全体の荷電量及び粒子の荷電分率がほとんど変化せ
ず、極めて安定であった。これに対して、比較例Bは全
体の荷電量は経時での変化量が比較的小さかったが、粒
子の荷電分率の変化が大きかった。実際に画像を形成し
た所、本発明の液体現像剤及び比較例Cは条件I及びII
ともに良好であった。比較例Bは、条件Iで画像部に流
れ発生が認められ、条件IIでは全体に流れが発生した。
更に、印刷版として印刷した所、本発明の液体現像剤を
用いた場合には、条件IIでも1万枚以上の鮮明な印刷物
が得られた。他方、比較例Bでは、刷り出しから印刷物
として実用に供しえるものではなかった。又、比較例C
は刷り出しから千枚程度で画像の欠落が生じ、印刷不良
となった。以上の様に、安定した画像再現性と、迅速な
定着条件でも充分定着され、良好な耐刷性が得られるの
は、本発明の現像剤のみであった。
【0202】実施例3
<印刷用原版の作製>砂目立て及び陽性酸化処理を施し
たアルミニウム板上に下記の光導電層用塗布液をバーコ
ーターで塗布し、120℃で10分間乾燥し、膜厚3.
0μmの印刷原版を作成した。 X型メタルフリーフタロシアニン 20部 ブチルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 (メタクリル酸35モル%) 140部 1−メトキシ−2−プロパノール 555部 メチルエチルケトン 555部 以上の組成をもつ混合物を、高速度分散混合機ダイナミ
ル(KDL−5、W.A.BACHOFEN社製)で2時間分散して
光導電層用塗布液とした。
たアルミニウム板上に下記の光導電層用塗布液をバーコ
ーターで塗布し、120℃で10分間乾燥し、膜厚3.
0μmの印刷原版を作成した。 X型メタルフリーフタロシアニン 20部 ブチルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 (メタクリル酸35モル%) 140部 1−メトキシ−2−プロパノール 555部 メチルエチルケトン 555部 以上の組成をもつ混合物を、高速度分散混合機ダイナミ
ル(KDL−5、W.A.BACHOFEN社製)で2時間分散して
光導電層用塗布液とした。
【0203】<液体現像剤(LD−3)の作製>分散樹
脂粒子(CSR)の製造例19の分散樹脂粒子(CSR
−19)9g(固形分量として)、テトラデシルアルコ
ール(FOC1400)10g及び酢酸ビニル−半マレ
イン酸トリデシルアミド共重合体0.012gをアイソ
パーHで1リットルになる様に調液して液体現像剤(L
D−3)を作製した。実施例2と同様の方法で荷電特性
を測定したところ、下記表−Gに示す結果を得た。
脂粒子(CSR)の製造例19の分散樹脂粒子(CSR
−19)9g(固形分量として)、テトラデシルアルコ
ール(FOC1400)10g及び酢酸ビニル−半マレ
イン酸トリデシルアミド共重合体0.012gをアイソ
パーHで1リットルになる様に調液して液体現像剤(L
D−3)を作製した。実施例2と同様の方法で荷電特性
を測定したところ、下記表−Gに示す結果を得た。
【0204】
【表11】
【0205】上記の光導電層を有する印刷用原版を、光
導電層表面が均一に+400Vに帯電する様にコロナ放
電後、半導体レーザー(光源波長780nm)を用い
て、表面上で3μjoul/cm2の照射下、ピッチ25μ
m及びスキャニング速度300m/secで露光した。
続けて、本発明の液体現像剤(LD−3)を用いて、バ
イアス電圧+180Vの条件で反転現像を行った後、温
度120℃で1分間加熱して画像を定着した。この製版
版をケイ酸カリウム40部、水酸化カリウム10部、ベ
ンジルアルコール20部、エタノール20部を水900
部に希釈したエッチング液に10秒間浸漬して非画像部
を除去し、十分水洗して乾燥し、印刷版を作成した。こ
の印刷版を60倍のルーペ(PEAK(株)製)にて目
視評価した所、画像部の細線・細文字の欠損は認められ
ず、極めて鮮明な画像であった。次に、この印刷版を、
ガム引き処理した後、オフセット印刷機(オリバー52
型、桜井製作所(株)製)にかけて印刷した。10万枚
以上印刷しても、印刷物の画質は鮮明で、地カブリも全
く見られなかった。また、条件IIの液体現像剤を用い
て、上記と同様にして製版、エッチング処理して印刷し
た所、フレッシュ品と全く同等の結果が得られた。
導電層表面が均一に+400Vに帯電する様にコロナ放
電後、半導体レーザー(光源波長780nm)を用い
て、表面上で3μjoul/cm2の照射下、ピッチ25μ
m及びスキャニング速度300m/secで露光した。
続けて、本発明の液体現像剤(LD−3)を用いて、バ
イアス電圧+180Vの条件で反転現像を行った後、温
度120℃で1分間加熱して画像を定着した。この製版
版をケイ酸カリウム40部、水酸化カリウム10部、ベ
ンジルアルコール20部、エタノール20部を水900
部に希釈したエッチング液に10秒間浸漬して非画像部
を除去し、十分水洗して乾燥し、印刷版を作成した。こ
の印刷版を60倍のルーペ(PEAK(株)製)にて目
視評価した所、画像部の細線・細文字の欠損は認められ
ず、極めて鮮明な画像であった。次に、この印刷版を、
ガム引き処理した後、オフセット印刷機(オリバー52
型、桜井製作所(株)製)にかけて印刷した。10万枚
以上印刷しても、印刷物の画質は鮮明で、地カブリも全
く見られなかった。また、条件IIの液体現像剤を用い
て、上記と同様にして製版、エッチング処理して印刷し
た所、フレッシュ品と全く同等の結果が得られた。
【0206】更には、印刷用原版を、5000版製版し
て、現像部の汚れを調べた所、トナーかすの付着等の汚
れは発生しておらず、液体現像剤は極めて良好な再分散
性を示した。又5000版目のエッチング処理後の印刷
版上の画像を目視評価した所、細線・細文字等は鮮明で
初版の印刷版と差は見られなかった。以上の様に、本発
明の液体現像剤は非画像部を溶出して印刷版とする電子
写真式製版システムにおいて、過酷な条件で経時されて
も、安定な荷電特性を示し、優れた分散性、再分散性を
示した。また、耐刷性も満足できるものであった。
て、現像部の汚れを調べた所、トナーかすの付着等の汚
れは発生しておらず、液体現像剤は極めて良好な再分散
性を示した。又5000版目のエッチング処理後の印刷
版上の画像を目視評価した所、細線・細文字等は鮮明で
初版の印刷版と差は見られなかった。以上の様に、本発
明の液体現像剤は非画像部を溶出して印刷版とする電子
写真式製版システムにおいて、過酷な条件で経時されて
も、安定な荷電特性を示し、優れた分散性、再分散性を
示した。また、耐刷性も満足できるものであった。
【0207】実施例4〜19
実施例2において、分散樹脂粒子(CSR−2)の代わ
りに、下記表−Gに記載の分散樹脂粒子(CSR)を用
いた他は、実施例2と同様に操作して液体現像剤を作製
した。得られた各液体現像剤の交流電気電導度は95〜
100(pS/cm)、粒子の荷電分率は90〜95%
であった。又条件IIの場合も、変化は殆ど生じなかっ
た。
りに、下記表−Gに記載の分散樹脂粒子(CSR)を用
いた他は、実施例2と同様に操作して液体現像剤を作製
した。得られた各液体現像剤の交流電気電導度は95〜
100(pS/cm)、粒子の荷電分率は90〜95%
であった。又条件IIの場合も、変化は殆ど生じなかっ
た。
【0208】
【表12】
【0209】得られた各液体現像剤を、実施例2と同様
にして電子写真式製版システムに用いて、その性能を調
べた。各液体現像剤とも実施例1と同等以上の性能を示
し、画像再現性、分散性、印刷性とも良好であった。ま
た、各現像剤ともに条件IIにおいても、同等以上の性能
を示し良好であった。
にして電子写真式製版システムに用いて、その性能を調
べた。各液体現像剤とも実施例1と同等以上の性能を示
し、画像再現性、分散性、印刷性とも良好であった。ま
た、各現像剤ともに条件IIにおいても、同等以上の性能
を示し良好であった。
【0210】実施例20〜29
実施例1において、分散樹脂粒子(CSR−1)の代わ
りに、下記表−Iに記載の分散樹脂粒子(CSR)を用
いた他は、実施例1と同様に操作して液体現像剤を作製
した。
りに、下記表−Iに記載の分散樹脂粒子(CSR)を用
いた他は、実施例1と同様に操作して液体現像剤を作製
した。
【0211】
【表13】
【0212】得られた各液体現像剤を、実施例1と同様
にして電子写真式製版システムに用いて、その性能を調
べた。各液体現像剤とも実施例1と同様な性能を示し、
画像再現性、分散性、印刷性とも良好であった。又、現
像装置の汚れも実施例1と同様に発生しなかった。更
に、各現像剤とも条件IIにおいても、同等の性能を示し
良好であった。
にして電子写真式製版システムに用いて、その性能を調
べた。各液体現像剤とも実施例1と同様な性能を示し、
画像再現性、分散性、印刷性とも良好であった。又、現
像装置の汚れも実施例1と同様に発生しなかった。更
に、各現像剤とも条件IIにおいても、同等の性能を示し
良好であった。
【0213】実施例32
アモルファスシリコンから成る感光体ドラムの周速度を
10mm/秒で回転させ感光体表面にスリット電着装置
を用いて下記分散液を供給しながら、感光体側を接地
し、スリット電着装置の電極側に+200Vの電圧を印
加して樹脂粒子を電着した。次いでエアースクイズで分
散液を除き赤外線ラインヒーターにて溶融、皮膜化し感
光体上に膜厚1.5μm熱可塑性樹脂転写層を形成し
た。
10mm/秒で回転させ感光体表面にスリット電着装置
を用いて下記分散液を供給しながら、感光体側を接地
し、スリット電着装置の電極側に+200Vの電圧を印
加して樹脂粒子を電着した。次いでエアースクイズで分
散液を除き赤外線ラインヒーターにて溶融、皮膜化し感
光体上に膜厚1.5μm熱可塑性樹脂転写層を形成し
た。
【0214】<転写層形成用分散液>分散安定用樹脂[オ
クタデシルメタクリレート/アクリルアミド(97/3
質量比)共重合体、質量平均分子量:4×104]12
g、酢酸ビニル98g、ステアリルメタクリレート2g
及びアイソパーH384gの混合溶液を窒素気流下攪拌
しながら温度70℃に加温した。重合開始剤として2,
2′−アゾビス(イソバレロニトリル)(略称A.I.
V.N.)を0.8g加え、3時間反応させた。開始剤
を添加して20分後に白濁を生じ、反応温度は88℃ま
で上昇した。更に、上記開始剤を0.5g加え、2時間
反応させた後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未反
応の酢酸ビニルを留去した。冷却後200メッシュのナ
イロン布を通し、白色分散物(重合率90%で平均粒径
0.23μm)を得た。上記熱可塑性樹脂分散物10g
(固形分量として)及びナフテン酸ジルコニウム0.0
01gをアイソパーH1リットル中に加えて正荷電樹脂
分散液とした。
クタデシルメタクリレート/アクリルアミド(97/3
質量比)共重合体、質量平均分子量:4×104]12
g、酢酸ビニル98g、ステアリルメタクリレート2g
及びアイソパーH384gの混合溶液を窒素気流下攪拌
しながら温度70℃に加温した。重合開始剤として2,
2′−アゾビス(イソバレロニトリル)(略称A.I.
V.N.)を0.8g加え、3時間反応させた。開始剤
を添加して20分後に白濁を生じ、反応温度は88℃ま
で上昇した。更に、上記開始剤を0.5g加え、2時間
反応させた後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未反
応の酢酸ビニルを留去した。冷却後200メッシュのナ
イロン布を通し、白色分散物(重合率90%で平均粒径
0.23μm)を得た。上記熱可塑性樹脂分散物10g
(固形分量として)及びナフテン酸ジルコニウム0.0
01gをアイソパーH1リットル中に加えて正荷電樹脂
分散液とした。
【0215】感光体の表面温度を40℃に保ちながらた
だちに電子写真プロセスを行なった。まずこの感光体を
暗所にて+700Vにコロナ帯電をしたのち、あらかじ
め原稿から読み取り、デジタル画像データ−としてシス
テム内のハードディスクに納められた情報をもとに半導
体レーザーを用いて780nmの光で露光した。露光部
の電位は+220Vで未露光部は+660Vであった。
続いて現像ユニットに組み込まれているプレバス装置に
よりアイソパーHにてプレバスをしたのち、下記の本発
明の正荷電液体現像剤を現像ユニットから感光体表面へ
供給した。この時現像ユニット側へ+500Vの現像バ
イアス電圧を印加し、反転現像を行なって未露光部にト
ナーが電着するようにした。次いでアイソパーH単独浴
中でリンスをして非画像部の汚れを除き、エアースクイ
ズにて液を切り、赤外線ラインヒーター下を通過させて
乾燥した。
だちに電子写真プロセスを行なった。まずこの感光体を
暗所にて+700Vにコロナ帯電をしたのち、あらかじ
め原稿から読み取り、デジタル画像データ−としてシス
テム内のハードディスクに納められた情報をもとに半導
体レーザーを用いて780nmの光で露光した。露光部
の電位は+220Vで未露光部は+660Vであった。
続いて現像ユニットに組み込まれているプレバス装置に
よりアイソパーHにてプレバスをしたのち、下記の本発
明の正荷電液体現像剤を現像ユニットから感光体表面へ
供給した。この時現像ユニット側へ+500Vの現像バ
イアス電圧を印加し、反転現像を行なって未露光部にト
ナーが電着するようにした。次いでアイソパーH単独浴
中でリンスをして非画像部の汚れを除き、エアースクイ
ズにて液を切り、赤外線ラインヒーター下を通過させて
乾燥した。
【0216】<液体現像剤(LD−4)の作製>青色顔料
(Linol Blue FG−7350、東洋インキ(株)製)/オ
クタデシルメタクリレート−メチルメタクリレート(5
/5質量比)ブロック共重合体の1/1質量比から成るア
イソパーG分散物6g(固形分量として)、分散樹脂粒
子(CSR−26)8g(固形分量として)及びナフテ
ン酸ジルコニウム塩0.011gをアイソパーGの1リ
ットルに希釈することにより液体現像剤(LD−4)を
作製した。
(Linol Blue FG−7350、東洋インキ(株)製)/オ
クタデシルメタクリレート−メチルメタクリレート(5
/5質量比)ブロック共重合体の1/1質量比から成るア
イソパーG分散物6g(固形分量として)、分散樹脂粒
子(CSR−26)8g(固形分量として)及びナフテ
ン酸ジルコニウム塩0.011gをアイソパーGの1リ
ットルに希釈することにより液体現像剤(LD−4)を
作製した。
【0217】つぎに赤外線ラインヒーターの下を通過さ
せて、表面温度を放射温度計で測定してほぼ80℃に予
備加熱をしたのち、コート紙を、転写層を有する感光体
と重ね合わせ、10kgf/cm2(980kPa)の圧力で接
している表面温度が120℃に常にコントロールされた
加熱ゴムローラーの下を、15mm/secのスピード
で通過させた。その後冷却ローラー下を通過させ冷やし
てからコート紙を引き剥がしたところ、感光体上のトナ
ーは転写層ごと全てコート紙側に熱転写され、カラー画
像が得られた。得られたカラー画像は極めて鮮明であ
り、非画像部のカブリも全く見られなかった。又、液体
現像剤(LD−4)を実施例2と同様に強制経時させた
(条件II)場合も、フレッシュ品と差は見られず、鮮明
なものであった。
せて、表面温度を放射温度計で測定してほぼ80℃に予
備加熱をしたのち、コート紙を、転写層を有する感光体
と重ね合わせ、10kgf/cm2(980kPa)の圧力で接
している表面温度が120℃に常にコントロールされた
加熱ゴムローラーの下を、15mm/secのスピード
で通過させた。その後冷却ローラー下を通過させ冷やし
てからコート紙を引き剥がしたところ、感光体上のトナ
ーは転写層ごと全てコート紙側に熱転写され、カラー画
像が得られた。得られたカラー画像は極めて鮮明であ
り、非画像部のカブリも全く見られなかった。又、液体
現像剤(LD−4)を実施例2と同様に強制経時させた
(条件II)場合も、フレッシュ品と差は見られず、鮮明
なものであった。
【0218】
【発明の効果】本発明の液体現像剤は、特定の樹脂粒子
を用いることにより粒子の荷電安定性、分散安定性、再
分散性及び定着性に優れるものであり、また、現像−定
着工程が迅速化され且つ大版サイズのマスタープレート
を用いる電子写真製版システムにおいても、優れた印刷
インク感脂性と耐刷性を有するオフセット印刷版を提供
できる。
を用いることにより粒子の荷電安定性、分散安定性、再
分散性及び定着性に優れるものであり、また、現像−定
着工程が迅速化され且つ大版サイズのマスタープレート
を用いる電子写真製版システムにおいても、優れた印刷
インク感脂性と耐刷性を有するオフセット印刷版を提供
できる。
Claims (4)
- 【請求項1】 電気抵抗109Ωcm以上、且つ誘電率
3.5以下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分散
して成る静電写真用液体現像剤において、上記分散樹脂
粒子が、非水溶媒中に、 上記非水溶媒に可溶であって、重合することにより不溶
となる一官能性単量体(A)の少なくとも一種、 下記一般式(MI)で示される単量体相当の繰返し単位を
含有する重合体の主鎖の一方の末端にのみ下記一般式
(MIc)で示される重合性二重結合基を結合して成る質
量平均分子量2×104以下である一官能性マクロモノ
マー(MA)の少なくとも一種、 下記一般式(I)で示される重合成分を少なくとも含有
する、該非水溶媒にコロイド状に分散してなる分散安定
用樹脂(P)の少なくとも一種、並びに平均粒径が0.
05〜1.0μmのシード粒子(CR)を含有する分散
液をシード重合反応させることによって得られる、重層
構成の分散樹脂粒子(CSR)であることを特徴とする
静電写真用液体現像剤。 【化1】 一般式(MI)中:U0は−COO−、−OCO−、−
(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−O−、−
SO2−、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、−CON(D11)−、−SO2N(D11)−、また
はフェニレン基を表す(ここでD11は水素原子または炭
素数1〜22の炭化水素基を示し、rは1〜4の整数を
示す)。a1およびa2は、互いに同じでも異なっていて
もよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数1〜7の炭化水素基、−COO−D12、または炭化水
素基を介した−COO−D12を表す(ここでD12は水素
原子または炭素数1〜22の炭化水素基を示す)。D0
は、炭素数8〜22の炭化水素基または総原子数8以上
(但し、炭素原子又は窒素原子に直接結合する水素原子
は除く)の下記一般式(MIa)で示される置換基を表す。 一般式(MIa) −(A1−B1)m−(A2−B2)n −D21 一般式(MIa)中、D21は水素原子または炭素数1〜22
の炭化水素基を表す。B1 およびB2 は、互いに同じで
も異なっていてもよく、各々−O−、−CO−、−CO
2 −、−OCO−、−SO2 −、−N(D22)−、−C
ON(D22)−または−N(D22)CO−を表す(ここ
でD22は上記D21と同義である)。mおよびnは、互い
に同じでも異なっていてもよく、各々0〜4の整数を表
す。ただし、mおよびnが同時に0になることはない。
A1 およびA2 は、互いに同じでも異なっていてもよ
く、各々下記一般式(MIb)で示される基及び炭素数1〜
18の炭化水素基のうちから選択される少なくとも1つ
の基を表す。 【化2】 一般式(MIb)中、B3 およびB4 は、互いに同じでも異
なっていてもよく、上記B1 、B2 と同義であり、A4
は炭素数1〜18の炭化水素基を示し、D23は上記D21
と同義である。pは0〜4の整数を表す。 【化3】 一般式(MIc)中、U1 は−COO−、−CONHCO
O−、−CONHCONH−、−CONH−またはフェ
ニレン基を表す。a11およびa12は、互いに同じでも異な
っていてもよく、式(MI)中のa1、a2と同義である。 【化4】 一般式(I)中、V0 は−COO−、−OCO−、−(C
H2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−O−又は 【化5】 (ここでXは直接結合、−O−、−OCO−又は−CO
O−を表す)を表す。rは1〜12の整数を表す。L
は、炭素数8〜32のアルキル基または炭素数8〜32
のアルケニル基を表す。b1およびb2は互いに同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭化水素基、−COO−D1 、または炭化水素
基を介した−COO−D1 を表す(ここでD1 は水素原
子または置換されてもよい炭化水素基を示す)。 - 【請求項2】 分散安定用樹脂(P)が、一般式(I)
で示される重合成分を少なくとも含有するブロックと、
該一般式(I)で示される重合成分を含有しないブロッ
クとからなるブロック共重合体であることを特徴とする
請求項1記載の静電写真用液体現像剤。 - 【請求項3】 前記非水溶媒分散液が、更に、下記一般
式(III)で表されるアミノ基を有する、単量体(A)
と共重合可能な一官能性単量体(C)の少なくとも1種
を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の
静電写真用液体現像剤。 【化6】 一般式(III)中、R1及びR2は、同じでも異なっても
よく、各々水素原子又は炭素数1〜22の炭化水素基を
表すか、R1とR2が結合して窒素原子とともに環を形成
してもよい。 - 【請求項4】 前記非水溶媒分散液が、更に、−PO3H
2 基、−SO3H基及び−SO2H基から選ばれる酸性基
を少なくとも1つ含有する、単量体(A)と共重合可能
な一官能性単量体(D)の少なくとも1種を含有するこ
とを特徴とする請求項3に記載の静電写真用液体現像
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001348924A JP2003149879A (ja) | 2001-11-14 | 2001-11-14 | 静電写真用液体現像剤 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009096994A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Sanyo Chem Ind Ltd | 非水系樹脂分散液 |
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JP2019086689A (ja) * | 2017-11-08 | 2019-06-06 | 花王株式会社 | 液体現像剤 |
-
2001
- 2001-11-14 JP JP2001348924A patent/JP2003149879A/ja active Pending
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