JP2003140177A - 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上下導通材の形成効率を向上させることによ
り、製造効率を向上できる電気光学装置の製造方法の提
供。 【解決手段】 互いに対向する一対の基板間に電気光学
材料が挟持され、上記一対の基板のうち一方の基板には
上記電気光学材料に面する側に第１の電極が設けられ、
他方の基板には上記電気光学材料に面する側に第２の電
極が設けられ、上記第１の電極と上記第２の電極を導通
する上下導通材が設けられた電気光学装置の製造方法で
あって、上記一対の基板のうち一方の基板または他方の
基板にインクジェットヘッドの吐出ノズルから上下導通
材形成用インクを選択的に吐出して上記上下導通材を形
成する工程を備えることを特徴とすることを特徴とする
電気光学装置の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学装置及び
その製造方法並びに電子機器に関するものであり、特
に、上下導通材の形成効率を向上させることにより、製
造効率を向上できる電気光学装置の製造方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ノートパソコン、携帯電話機、電
子手帳等の電子機器において、情報を表示する手段とし
て液晶装置が広く使用されている。図１３は、従来のア
クティブマトリックス方式の液晶装置の要部を示す概略
断面図である。図１３の液晶装置は、環状のシール材９
１４を介して互いに対向するように配置されたカラーフ
ィルタ基板９００及びアクティブ素子基板９１０と、こ
れらの間に挟持された液晶層９１５と、カラーフィルタ
基板９００の上面側（観測者側）に付設された位相差板
９１７ａ、偏光板９１８ａとからなる液晶パネル１００
０と、を主体として構成されている。カラーフィルタ基
板（対向基板）９００は透明なガラスからなる光透過性
基板９２２を具備してなる観測者側に向いて設けられる
表側の基板であり、アクティブ素子基板９１０はその反
対側、換言すると裏側に設けられる基板である。

【０００３】このカラーフィルタ９２０は、光透過性基
板９２２の下面側（液晶層側）にモザイク配列等の配列
で並べられたＲ（赤）の色層９０５、Ｇ（緑）の色層９
０６、Ｂ（青）の色層９０７と、隣接する色層間に設け
られたブラックマトリックス（遮光膜）９０１が設けら
れ、さらにこれら色層９０５、９０６、９０７とブラッ
クマトリックス９０１を覆うようにオーバーコート層９
０８が設けられている。オーバーコート層９０８の下側
に透明電極（対向電極）９１６がこのオーバーコート層
９０８の略全面にわたって形成され、さらにこれの下側
に配向膜９３０ａが形成されている。

【０００４】アクティブ素子基板９１０は、光透過性基
板９１２上に絶縁層（図示略）が形成され、さらにこの
絶縁層上にマトリクス状に走査線（図示略）と、信号線
９１１とが形成され、これら走査線と信号線９１１とに
囲まれた領域毎に画素電極９１３が設けられ、各画素電
極９１３のコーナ部分と走査線と信号線９１１との間の
部分に薄膜トランジスタ（図示略）が組み込まれてお
り、走査線と信号線９１１に対する信号の印加によって
薄膜トランジスタをオン・オフして画素電極９１３への
通電制御を行うことができるように構成されている。さ
らに、これら走査線と信号線９１１と画素電極９１３と
薄膜トランジスタの上に配向膜９３０ｂが形成されてい
る。両基板９００、９１０間には特定ギャップ材９２４
を隔てて液晶が封入されている。

【０００５】アクティブ素子基板９１０では、データ線
および画素スイッチング用の薄膜トランジスタＴを介し
て画素電極９１３に表示信号を供給するとともに、対向
電極９１６にも所定の電位を印加する必要がある。そこ
で、液晶パネル１０００では、アクティブ素子基板９１
０の表面のうち、対向基板９００の各コーナー部に対向
する部分には、データ線などの形成プロセスを援用して
アルミニウム膜（遮光性材料）からなる上下導通用の第
１の電極９８７が形成されている。一方、カラーフィル
タ基板９００の各コーナー部には、対向電極９１６の形
成プロセスを援用してＩＴＯ膜（光透過性材料）からな
る上下導通用の第２の電極９８８が形成されている。さ
らに、これらの上下導通用の第１の電極９８７と第２の
電極９８８とは、上下導通材９８９によって電気的に導
通している。

【０００６】このような液晶装置を従来の製造法として
は、例えば、図１４に示すように複数個の基板領域９１
０ａを含む素子基板母材９１２ａの表面の各基板領域９
１０ａに上記の画素電極や上記の第１の電極等の電極、
配向膜、その他の必要な要素を形成した後、この素子基
板母材９１２ａの各基板領域９１０ａの周辺部分に液晶
注入孔となる開口９１４ａを有する環状のシール材９１
４を形成し、ついでディスペンサ９４０を用いてシール
材９１４の各コーナ部の外側に上下導通材９８９を形成
し、ついで、このシール材９１４の内側にスペーサを散
布する。上記ディスペンサ９４０には、エポキシ樹脂系
の接着剤成分に銀粉などの導電粒子が配合された導通材
料が充填されており、上下導通材９８９の形成の際に
は、上記導通材料をシール材９１４のコーナ部の外側の
導通材形成位置９８９ａにその都度押し出して上下導通
材９８９を形成していた。

【０００７】ついで、図１５に示すように基板領域９０
０ａに上記の対向電極や上記の第２の電極等の電極、配
向膜、その他の必要な要素を形成した対向基板９００を
複数個用意し、これら対向基板９００の基板領域９００
ａを素子基板母材９１２ａの基板領域９１０ａに貼り合
わせた後、上記素子基材母材９１２ａの個々の基板領域
９１０ａの周囲を切断して個々の空パネル（液晶を注入
する前の液晶パネル）を取り出し、ついで各液晶パネル
の液晶注入孔９１４ａからシール材９１４で囲まれた液
晶封入領域に液晶を注入した後、液晶注入孔９１４ａに
モールド樹脂等の封止剤を充填した後、硬化させること
により液晶注入孔９１４ａを封止し、この後、液晶パネ
ルを液晶表示装置に実装する方法によって行われてい
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の液
晶装置の製造方法においては、上下導通材はディスペン
サ９４０を用いて形成するため、製造効率が悪いという
問題があった。それは、ディスペンサ９４０に充填され
ている導通材料は粘度が１００〜３００ｃＰ程度の高粘
度のものであるので、導通材形成位置９８９ａに押し出
す際に時間がかかってしまい、上下導通材の形成効率が
悪かった。また、このように導通材料の押し出しに時間
がかかると、素子基材母材９１２ａに設けられた全ての
導通材形成位置９８９ａに導通材料を押し出してから各
対向基板９００の基板領域９００ａを対応する素子基板
母材９１２ａの基板領域９１０ａに貼り合わせようとす
ると、導通材料が硬くなってしまっているために液晶パ
ネルのセルギャップの精度が悪くなってしまうという問
題がある。そのため、素子基材母材９１２ａの一つの基
板領域９１０ａの４つのコーナ部に導通材料を押し出す
都度、基板領域９１０ａに対応する対向基板９００の基
板領域９００ａを貼り合わせる必要があり、製造効率が
悪くなってしまう。

【０００９】また、素子基板を多数個取りする素子基板
母材９１２ａだけでなく、対向基板側も対向基板を多数
個取りする対向基板母材を用い、これら基板母材を基板
領域が互いに対向するように貼り合わせた後、この貼り
合わせた両基材母材に対して個々の基板領域の周囲を切
断するようにすれば、製造効率の向上が期待できるが、
ディスペンサ９４０を用いて上下導通材を形成する方法
では、上記のように素子基材母材９１２ａに設けられた
全ての導通材形成位置９８９ａに導通材料を押し出して
いると、セルギャップの精度が問題が出てしまうため、
上記の素子基板母材と上記対向基板母材を貼り合わせる
方法の採用が困難であった。また、液晶パネルの小型化
の要望から上下導通材９８９の幅が小さい方が望ましい
が、ディスペンサ９４０を用いて形成した上下導通材９
８９の径は５００μｍ程度以上となってしまうため、さ
らに上下導通材の幅を小さくできる形成方法が要望され
ている。また、ディスペンサ９４０を用いて形成した上
下導通材９８９は、径５００μｍ程度以上の円状となっ
てしまうため、図１４に示すようにシール材９１４のコ
ーナ部に導通材形成位置９８９ａを設けるためのくびれ
９１４ｂが大きくなってしまい、シール材９１４の形状
の自由度に影響がでてしまう。

【００１０】以上の問題は、ＴＦＴ（Thin Film Transi
stor）素子に代表される３端子型素子を用いるアクティ
ブマトリクス方式のカラー液晶装置に限った問題ではな
く、ＴＦＤ素子に代表される２端子型素子を用いるアク
ティブマトリクス方式の液晶装置や、単純マトリクス
（パッシブ）方式の液晶装置などの電気光学装置におい
て、上下導通材をディスペンサを用いて形成する場合に
おいても生じる問題である。

【００１１】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あって、上下導通材の形成効率を向上させることによ
り、製造効率を向上できる電気光学装置の製造方法の提
供を目的とする。また、本発明は、上下導通材の幅を小
さくできる電気光学装置の製造方法の提供を目的とす
る。また、本発明は、上下導通材の形状の自由度が大き
い電気光学装置の提供を目的とする。また、本発明は、
上下導通材の幅を狭くすることにより小型化が可能な電
気光学装置の提供を目的とする。また、本発明は、上記
のような電気光学装置を備えた電子機器を提供すること
を目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は以下の構成を採用した。本発明の電気光
学装置の製造方法は、互いに対向する一対の基板間に電
気光学材料が挟持され、上記一対の基板のうち一方の基
板には上記電気光学材料に面する側に第１の電極が設け
られ、他方の基板には上記電気光学材料に面する側に第
２の電極が設けられ、上記第１の電極と上記第２の電極
を導通する上下導通材が設けられた電気光学装置の製造
方法であって、上記一対の基板のうち一方の基板または
他方の基板にインクジェットヘッドの吐出ノズルから上
下導通材形成用インクを選択的に吐出して上記上下導通
材を形成する工程を備えることを特徴とする。本発明で
用いられるインクジェットヘッドとしては、ピエゾ方
式、サーマル方式等あらゆるインクジェットヘッドが使
用可能であり、これらのインクジェットヘッドのうちか
ら適宜選択して用いられる。

【００１３】本発明の電気光学装置の製造方法では、上
記一対の基板のうち一方の基板または他方の基板にイン
クジェットヘッドの吐出ノズルから上下導通材形成用イ
ンクを選択的に吐出して上記上下導通材を形成してお
り、すなわち、上下導通材の形成にインクジェット法を
採用しているので、ディスペンサを用いて上下導通材を
形成する従来の導通材の形成方法に比べて上下導通材の
形成効率を向上できる。それは、インクジェット法に用
いる上下導通材形成用インクの粘度は、ディスペンサか
ら押し出される導通材料の粘度よりも小さいために、イ
ンクジェットヘッドの吐出ノズルから吐出される速度を
速くでき、従って上下導通材の形成効率を向上でき、そ
の結果として電気光学装置の製造効率を向上できる。

【００１４】また、本発明の電気光学装置の製造方法
は、互いに対向する一対の基板間に電気光学材料が挟持
され、上記一対の基板のうち一方の基板には上記電気光
学材料に面する側に第１の電極が設けられ、他方の基板
には上記電気光学材料に面する側に第２の電極が設けら
れ、上記第１の電極と上記第２の電極を導通する上下導
通材が設けられた電気光学装置の製造方法であって、上
記一対の基板母材のうち一方の基板母材の複数個あるい
は単数の基板領域の電気光学材料に面する側に第１の電
極を設ける工程と、他方の基板母材の複数個あるいは単
数の基板領域の電気光学材料に面する側に第２の電極を
設ける工程と、上記一対の基板母材のうち一方又は他方
の基板母材の複数個あるいは単数の基板領域にインクジ
ェットヘッドの吐出ノズルから上下導通材形成用インク
を選択的に吐出して上下導通材を形成する工程と、上記
一対の基板母材を対応する基板領域が互いに対向するよ
うに貼り合わせる工程と、対向するに至った対をなす複
数個あるいは単数の基板領域間に電気光学材料を封入す
る工程と、上記一対の基板母材のうち少なくとも一方の
基板母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って基板
母材を切断する工程を備えることを特徴とする。

【００１５】本発明の電気光学装置の製造方法では、上
記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材の複数
個あるいは単数の基板領域にインクジェットヘッドの吐
出ノズルから上下導通材形成用インクを選択的に吐出し
て上下導通材を形成しており、すなわち、上下導通材の
形成にインクジェット法を採用しているので、ディスペ
ンサを用いて上下導通材を形成する従来の導通材の形成
方法に比べて上下導通材の形成効率を向上できる。それ
は、インクジェット法に用いる上下導通材形成用インク
の粘度は、ディスペンサから押し出される導通材料の粘
度よりも小さいために、インクジェットヘッドの吐出ノ
ズルから吐出される速度を速くでき、従って上下導通材
の形成効率を向上でき、その結果として電気光学装置の
製造効率を向上できる。また、この電気光学装置の製造
方法では、インクジェットヘッドの吐出ノズルから吐出
される速度を速くできるので、一対の基板母材のうち一
方又は他方の基板母材の複数個の基板領域にインクジェ
ットヘッドの吐出ノズルから上下導通材形成用インクを
選択的に吐出して上下導通材を形成しても、上下導通材
の硬化が進む前に上記一対の基板母材を対応する基板領
域が互いに対向するように貼り合わせることができ、電
気光学装置のセルギャップの精度が悪くなることを回避
できる。このように両方の基板母材に複数個の基板領域
を形成し、これら基板母材を対応する基板領域が互いに
対向するように貼り合わせた後、貼り合わせた両基材母
材に対して個々の基板領域の周囲を切断するようにすれ
ば、電気光学装置の製造効率を大幅に向上できる。

【００１６】上記のいずれかの構成の本発明の電気光学
装置の製造方法において、上記上下導通材形成用インク
は導電性金属粒子を分散させた有機溶媒を含むものであ
ることが好ましい。上記上下導通材形成用インクに含ま
れる導電性金属粒子の粒径は、２μｍ〜３μｍの範囲で
あることが好ましい。導電性金属粒子の粒径が３μｍを
越えるとインクジェットヘッドの吐出ノズルから吐出す
る際にノズル詰まりを起こすなどインクの吐出性が悪く
なってしまい、また、上記有機溶媒に安定して分散しに
くくなり、沈降し易くなってしまう。上記のいずれかの
構成の本発明の電気光学装置の製造方法において、上記
上下導通材形成用インクの粘度は、室温で５０ｃＰ以下
であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項
に記載の電気光学装置の製造方法。上記上下導通材形成
用インクの粘度が室温で５０ｃＰを越えると、インクジ
ェットヘッドの吐出ノズルから吐出する際に吐出速度が
遅くなってしまう。

【００１７】本発明の電気光学装置は、互いに対向する
一対の基板間に電気光学材料が挟持され、上記一対の基
板のうち一方の基板には上記電気光学材料に面する側に
第１の電極が設けられ、他方の基板には上記電気光学材
料に面する側に第２の電極が設けられ、上記第１の電極
と上記第２の電極を導通する上下導通材が設けられた電
気光学装置であって、上記上下導通材は上下導通材形成
用インクを吐出して形成されたものであることを特徴と
する。本発明の電気光学装置では、上記上下導通材は上
下導通材形成用インクを吐出して形成されたものである
ので、従来のディスペンサを用いる方法により形成した
上下導通材に比べて幅を小さくでき、電気光学装置を小
型化できる。また、インクジェット法により上下導通材
を形成すると、円状に限らず、線状やＬ字状など所望の
形状の上下導通材を形成でき、上下導通材の形状の自由
度が大きい。

【００１８】上記の構成の本発明の電気光学装置におい
て、上記上下導通材の形状は、線状であってもよい。上
記上下導通材の形状が線状であれば、上下導通材をシー
ル材に沿って形成することができ、シール材の形状の自
由度に影響が出にくい。また、上記のいずれかの構成の
本発明の電気光学装置において、上記上下導通材の幅
は、３００μｍ以下であることを特徴とする。インクジ
ェット法により上下導通材すると、上記上下導通材の幅
を３００μｍ以下とすることが可能である。

【００１９】また、本発明の電子機器は、上記のいずれ
かの構成の本発明の電気光学装置を具備してなることを
特徴とする。本発明の電子機器は、上下導通材の幅を小
さくすることにより、小型化された電気光学装置が備え
られているので、小型化された電子機器とすることがで
きる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の電気光学装置及び
その製造方法を液晶装置及びその製造方法に適用した実
施形態を図面を参照して説明する。尚、図１〜図９にお
いて、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさ
とするため、各層や各部材に縮尺は実際のものとは異な
るように表している。

【００２１】［第１の実施形態］次に、本発明の第１の
実施形態の液晶装置を図面を参照して説明する。図１
は、本発明の第１の実施形態であるＴＦＴ型（Thin Fil
m Transistor 型）の液晶装置を対向基板の側からみた
平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ′線で切断したと
きの液晶装置の断面図である。図３は、液晶装置に備え
られたアクティブ素子基板を示す斜視図である。

【００２２】この実施形態の液晶装置４００は、互いに
対向するように配置されたカラーフィルタ基板４１及び
アクティブ素子基板４０１と、これらの間に挟持された
液晶層４０２と、カラーフィルタ基板４１の上面側（観
測者側）に付設された位相差板４１５ａ、偏光板４１６
ａと、アクティブ素子基板４０１の下面側に付設された
位相差板４１５ｂ、偏光板４１６ｂとが備えられた液晶
パネル５００を主体として構成されている。この液晶パ
ネル５００に、液晶駆動用ドライバチップと、電気信号
を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着
することによって、最終製品としての液晶装置が構成さ
れる。

【００２３】カラーフィルタ基板４１は、光透過性基板
（基板）２を具備してなる観測者側に向いて設けられる
表側の基板であり、アクティブ素子基板４０１はその反
対側、換言すると裏側に設けられる基板である。カラー
フィルタ基板４１は、プラスチックフィルム又は厚さ３
００μｍ（０.３ｍｍ）程度のガラス基板等からなる光
透過性基板２と、この基板２の下側（換言すると液晶層
側の面）に形成されたカラーフィルタ５１とを主体とし
て構成されている。カラーフィルタ５１は、この基板２
の下側（換言すると液晶層側の面）に形成された隔壁部
３と、色層６…と、隔壁部３及び色層６…を覆うオーバ
ーコート層７を具備して構成されている。

【００２４】隔壁部３は、各色層６を形成する各色層形
成領域５をそれぞれ取り囲むように形成された格子状の
もので、基板２の一面２ａに形成されている。隔壁部３
は、孔３ｃ…を複数有している。各孔３ｃ内には基板２
面が露出している。そして隔壁部３の内壁（孔３ｃの壁
面）と基板２面とにより区画されて色層形成領域５…が
形成されている。隔壁部３は、黒色感光性樹脂膜からな
り、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォ
トレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ型の
感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あ
るいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが好まし
い。この隔壁部３は、黒色の無機顔料または有機顔料を
含むもので、色層６…の形成位置を除く部分に形成され
るため、色層６…同士の間の光の透過を遮断でき、従っ
てこの隔壁部３は、遮光膜としての機能をも有する。

【００２５】色層６…は、隔壁部３の内壁と基板２に渡
って設けられた色層形成領域（画素形成領域）５…に着
色インクを吐出させて乾燥させることにより形成したも
のである。色層６…は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
の３原色にそれぞれ対応する赤色の色層６Ｒ…、緑色の
色層６Ｇ…、青色の色層６Ｂ…を具備してなるものであ
る。色層６…は、例えば、無機顔料により着色したアク
リル樹脂やポリウレタン樹脂等からなる。

【００２６】更にオーバーコート層７の下側（液晶層
側）にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料
からなる液晶駆動用電極４１８がオーバーコート層７の
略全面にわたって形成されている。更にこの液晶駆動用
電極４１８を覆って液晶層側に配向膜４１９ａが設けら
れており、また、反対側のアクティブ素子基板４０１側
の後述する画素電極４３２上にも配向膜４１９ｂが設け
られている。

【００２７】アクティブ素子基板４０１は、図３に示す
ように光透過性基板（基板）４１４上に絶縁層４２５が
形成され、さらにこの絶縁層４２５の上に、ＴＦＴ型の
スイッチング素子としての薄膜トランジスタＴと画素電
極４３２が形成されてなるものである。また、基板４１
４上に形成された絶縁層４２５上には、マトリクス状に
走査線４５１…と信号線４５２…とが形成され、これら
走査線４５１…と信号線４５２…とに囲まれた領域毎に
画素電極４３２が設けられ、各画素電極４３２のコーナ
部分と走査線４５１と信号線４５２との間の部分に薄膜
トランジスタＴが組み込まれており、走査線４５１と信
号線４５２に対する信号の印加によって薄膜トランジス
タＴをオン・オフして画素電極４３２への通電制御を行
うことができるように構成されている。また、対向側の
カラーフィルタ基板４１側に形成された電極４１８はこ
の実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とさ
れている。尚、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様
々なものがあり、本実施の形態では図３に示すものを例
示したが、他の形状のＴＦＴを備えた液晶装置に適用で
きるのは勿論である。

【００２８】アクティブ素子基板４０１とカラーフィル
タ基板（対向基板）４１とは、カラーフィルタ基板４１
の外周縁に沿って形成されたシール材４５５によって所
定の間隙を介して貼り合わされている。また、符号４５
６は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定
に保持するためのスペーサである。その結果、アクティ
ブ素子基板４０１とカラーフィルタ基板４１との間に
は、図１に示すようにシール材４５５によって矩形の液
晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液
晶が封入されている。ここで、シール材４５５は部分的
に途切れているので、この途切れ部分によって、液晶注
入口４５８が構成されている。このため、カラーフィル
タ基板４１とアクティブ素子基板４０１とを貼り合わせ
た後、シール材４５５の内側領域を減圧状態にすれば、
液晶注入口４５８から液晶を減圧注入でき、液晶を封入
した後、液晶注入口４５８を封止剤４５９で塞げばよ
い。

【００２９】図１及び図２に示すようにカラーフィルタ
基板４１はアクティブ素子基板４０１よりも小さく、ア
クティブマ素子基板４０１の周辺部分は、カラーフィル
タ基板４１の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされ
る。従って、アクティブ素子基板４０１では、表示領域
４６０の外周側領域において、画素スイッチング用の薄
膜トランジスタＴと同時形成された駆動回路用のＴＦＴ
によって形成された走査線駆動回路４７０やデータ線駆
動回路４７１は、カラーフィルタ基板４１の外周側で露
出した状態にある。また、アクティブ素子基板４０１の
端部に形成された入出力端子４７３も、カラーフィルタ
基板４１の外周側で露出した状態にある。なお、本実施
形態では、アクティブ素子基板４０１の走査線駆動回路
４７０やデータ線駆動回路４７１が形成された領域は、
カラーフィルタ基板４１に対して露出した構成になって
いるが、アクティブ素子基板４０１の走査線駆動回路４
７０やデータ線駆動回路４７１が形成された領域に対応
するカラーフィルタ基板４１の外周縁をアクティブ素子
基板４０１の外周縁とほぼ同じ位置に形成して、走査線
駆動回路４７０やデータ線駆動回路４７１が形成された
領域がカラーフィルタ基板４１によって覆われた構成で
あってもよい。カラーフィルタ基板４１には、シール材
４５５の形成領域の内側において表示領域４６０を見切
りするための遮光膜３ｆ、およびアクティブ素子基板４
０１の各画素電極４３２の境界領域に対応する領域に遮
光膜（図示略）が形成され、これらの遮光膜の表面側
（液晶層４０２側）に上記の電極４１８が形成されてい
る。ここでの遮光膜３ｆは、隔壁部３と一体に形成され
ている。

【００３０】この液晶パネル５００では、アクティブ素
子基板４０１およびカラーフィルタ基板４１の光入射側
および光出射側の面には、ノーマリホワイトモード／ノ
ーマリブラックモードの別に応じて、上記の偏光板４１
６ａ、４１６ｂ（偏光シート）が所定の向きに配置され
ている。このように構成した液晶パネル５００におい
て、アクティブ素子基板４０１では、データ線（図示せ
ず。）および薄膜トランジスタＴを介して画素電極４３
２に印加した表示信号によって、画素電極４３２と対向
電極４１８との間において液晶の配向状態を画素毎に制
御し、表示信号に対応した所定の表示を行う。たとえ
ば、液晶パネル５００をＴＮモードで構成した場合に、
一対の基板間（アクティブ素子基板４０１とカラーフィ
ルタ基板４１）の各々に形成した配向膜４１９ａ、４１
９ｂに対してラビング処理を行う際にラビング方向を互
いに直交する方向に設定すると、液晶は、基板間で９０
°の角度をもって捩じれ配向する。このような捩じれ配
向は、基板間で液晶層４０２に電場をかけることによっ
て解放される。従って、基板間に外部から電場を印加す
るか否かによって、液晶の配向状態を画素電極４３２が
形成されている領域毎（画素毎）に制御することができ
る。

【００３１】それ故、液晶パネル５００を透過型の液晶
パネルとして用いる場合、アクティブ素子基板４０１の
下側に配置した照明装置（図示略）からの光は、入射側
の偏光板４１６ｂによって所定の直線偏光光に揃えられ
た後、位相差板４１５ｂ、アクティブ素子基板４０１を
通って液晶層４０２に入射し、ある領域を透過する直線
偏光光は、透過偏光軸が捩じられて出射される一方、他
の領域を通過した直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられ
ることなく出射する。このため、入射側の偏光板４１６
ｂと出射側の偏光板４１６ａを互いの透過偏光軸が直交
するように配置しておけば（ノーマリホワイト）、液晶
パネル５００の出射側に配置された偏光板４１６ａを通
過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられた方の
直線偏光光のみである。これに対して、入射側の偏光板
４１６ｂと透過偏光軸が平行になるように出射側の偏光
板４１６ａを配置しておけば（ノーマリブラック）、液
晶パネル５００の出射側に配置された偏光板４１６ａを
通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられるこ
とのなかった直線偏光光のみである。よって、液晶３の
配向状態を画素毎に制御すれば、任意の情報を表示する
ことができる。

【００３２】従って、アクティブ素子基板４０１では、
データ線および画素スイッチング用の薄膜トランジスタ
Ｔを介して画素電極４３２に表示信号を供給するととも
に、対向電極４１８にも所定の電位を印加する必要があ
る。そこで、液晶パネル５００では、図１及び図２に示
すようにアクティブ素子基板４０１の表面のうち、対向
基板４１８の各コーナー部に対向する部分には、データ
線などの形成プロセスを援用してアルミニウム膜（遮光
性材料）からなる上下導通用の第１の電極４８７が形成
されている。一方、カラーフィルタ基板４１の各コーナ
ー部には、対向電極４１８の形成プロセスを援用してＩ
ＴＯ膜（光透過性材料）からなる上下導通用の第２の電
極４８８が形成されている。さらに、これらの上下導通
用の第１の電極４８７と第２の電極４８８とは、有機溶
媒に導電性金属粒子を分散させた上下導通材形成用イン
クを吐出して形成された上下導通材４８９によって電気
的に導通している。それ故、液晶パネル５００では、ア
クティブ素子基板４０１およびカラーフィルタ基板４１
のそれぞれにフレキシブル配線基板などを接続しなくて
も、アクティブ素子基板４０１のみにフレキシブル配線
基板（図示略）を接続するだけで、アクティブ素子基板
４０１およびカラーフィルタ基板（対向基板）４１の双
方に所定の信号を入力することができる。

【００３３】上下導通材４８９は、円状であり、その径
（幅）は、３００μｍ以下であり、好ましくは２０〜１
５０μｍの範囲であることが望ましい。上下導通材４８
９が３００μｍ以下であれば、ディスペンサを用いて上
下導通材を形成した液晶パネルに比べて液晶パネルを小
型化でき、結果として液晶装置を小型化できる。また、
上下導通材４８９の径が３００μｍを越えると、シール
材４５５のコーナ部に導通材形成位置４８９ａを設ける
ためのくびれ４５５ｂが大きくなってしまい、シール材
４５５の形状の自由度に影響がでてしまう。また、上下
導通材４８９の径（幅）が２０μｍより小さいと、細す
ぎて第１と第２の電極４８７、４８８の導通性が悪くな
ってしまう。

【００３４】本実施形態の液晶装置によれば、上記上下
導通材４８９は上下導通材形成用インクを吐出して形成
されたものであるので、従来のディスペンサを用いる方
法により形成した上下導通材に比べて幅を小さくでき、
小型化された液晶装置とすることができる。

【００３５】［第１実施形態の液晶装置の製造プロセ
ス］次に、上記構成を有する第１実施形態の液晶装置の
製造プロセスについて説明する。図４に示すように素子
基板４０１を多数個取りするための基板母材４０１ａの
素子基板４０１となる複数の基板領域４０１ｂの液晶層
４０２に面する側にそれぞれ光透過性絶縁層４２５を形
成した後、この絶縁層４２５上に薄膜トランジスタＴ、
画素電極４３２、走査線４５１、信号線４５２、走査線
駆動回路４７０、データ線駆動回路４７１、第１の電極
４８７等を形成する。この後、各基板領域４０１ｂ上
（液晶層側となる面上）にそれぞれ配向膜４１９ａを形
成する。一方、図７に示すようにカラーフィルタ基板４
１を多数個取りするための基板母材４１ａのカラーフィ
ルタ基板４１となる複数の基板領域４１ｂの液晶層４０
２に面する側にそれぞれカラーフィルタ５１を作製した
のち、このカラーフィルタ５１が形成された各基板領域
４１ｂの略全面に対向電極４１８、第２の電極４８８を
形成する。さらに、各基板母材４１ａ上（液晶層側とな
る面上）に配向膜４１９ｂを形成する。

【００３６】ついで、図４に示す基板母材４０１ａの各
基板領域４０１ｂの周辺部分に液晶注入孔となる開口４
５８を有する環状のシール材４５５を形成する。つい
で、基板母材４０１ａの複数個の基板領域４０１ｂに図
５に示したインクジェットヘッド３２２の複数の吐出ノ
ズル３２７から上下導通材形成用インクを選択的に吐出
して図６に示すように上下導通材４８９を形成する。こ
のインクジェット装置３２２は、図６に示すようなイン
クジェットヘッド３２２を備えたヘッドユニット（図示
略）と、インクジェットヘッド３２２の位置を制御する
ヘット位置制御装置（図示略）と、基板母材４０１ａの
位置を制御する基板位置制御装置（図示略）と、インク
ジェットヘッド３２２を基板母材４０１ａに対して主走
査移動させる主走査駆動装置（図示略）と、インクジェ
ットヘッド３２２を基板母材４０１ａに対して副走査移
動させる副走査移動装置（図示略）と、基板母材４０１
ａをインクジェット装置内の所定に作業位置へ供給する
基板供給装置（図示略）と、そしてインクジェット装置
の全般の制御を司るコントロール装置（図示略）とを有
する。

【００３７】インクジェットヘッド３２２は、複数のヘ
ッド部３２０と、それらのヘッド部３２０を並べて支持
する支持手段としてのキャリッジ３２５とを有する。キ
ャリッジ３２５は、ヘッド部３２０を支持すべき位置に
ヘッド部３２０よりも少し大きい穴すなわち凹部を有
し、各ヘッド部３２０はそれらの穴の中に入れられ、さ
らに、ネジ、接着剤その他の締結手段によって固定され
る。また、キャリッジ３２５に対するヘッド部３２０の
位置が正確に決められる場合には、特別な締結手段を用
いることなく、単なる圧入によってヘッド部３２０を固
定してもよい。

【００３８】ヘッド部３２０は、図５（ｂ）に示すよう
に、複数の吐出ノズル３２７を列状に並べることによっ
て形成されたノズル列３２８を有する。基板母材４０１
ａに対する主走査方向はＸ方向であり、それに直交する
Ｙ方向が副走査方向であり、それらのＸ方向及びＹ方向
は図５（ａ）においてインクジェット３２２に対して図
示の通りに設定される。

【００３９】インクジェットヘッド３２２はＸ方向へ平
行移動することにより基板母材４０１ａを主走査する
が、この主走査の間に導通材形成用インクを各ヘッド部
３２０の複数の吐出ノズル３２７から選択的に吐出する
ことにより、図４（ｂ）に示すように基板母材４０１ａ
上に設けられた各基板形成領域４０１ｂの上下導通材形
成位置４８９ａに上下導通材形成用インクを吐出できる
ようになっている。また、各吐出ノズル３２７から吐出
する上下導通材形成用インクの吐出量は制御できるよう
になっている。

【００４０】この後、基板母材４０１ａに形成された各
シール材４５５の内側にスペーサ４５６を散布する。つ
いで、これら一対の基板母材４０１ａ、４１ａを、図７
に示すように対応する基板領域が互いに対向するように
配置し、図８に示すように対応する基板領域が互いに対
向するように貼り合わせる。ついで、貼り合わせた一対
の基板母材４０１ａ、４１ａの個々の基板領域の外周縁
に沿って基板母材を切断して、個々の空パネル（液晶を
注入する前の液晶パネル）を得る。ついで各空パネルの
液晶注入孔４５８からシール材４５５で囲まれた液晶封
入領域に液晶を注入した後、液晶注入孔４５８にモール
ド樹脂等の封止剤を充填した後、硬化させることにより
液晶注入孔４５８を封止する。

【００４１】ついで、カラーフィルタ基板４１上（液晶
層側と反対側）に位相差板４１５ａ、偏光板４１６ａを
積層し、素子基板４１４の下（液晶層側と反対側）に位
相差板４１５ｂ、偏光板４１６ｂを積層すると、液晶パ
ネル５００が得られる。本実施形態の液晶装置の製造方
法では、一対の基板母材のうち一方の基板母材４０１ａ
の複数個の基板領域４０１ｂにインクジェットヘッド３
２２の複数の吐出ノズルか３２７ら上下導通材形成用イ
ンクを選択的に吐出して上下導通材４８９を形成してお
り、すなわち、上下導通材４８９の形成にインクジェッ
ト法を採用しているので、ディスペンサを用いて上下導
通材を形成する従来の導通材の形成方法に比べて上下導
通材の形成効率を向上できる。それは、インクジェット
法に用いる上下導通材形成用インクの粘度は、ディスペ
ンサから押し出される導通材料の粘度よりも小さいため
に、インクジェットヘッドの吐出ノズルから吐出される
速度を速くでき、従って上下導通材の形成効率を向上で
き、その結果として液晶装置の製造効率を向上できる。

【００４２】また、本実施形態の液晶装置の製造方法で
は、インクジェットヘッド３２２の吐出ノズル３２７か
ら吐出される速度を速くできるので、一対の基板母材の
うち一方の基板母材４０１ａの複数個の基板領域４０１
ｂにインクジェットヘッド３２２の吐出ノズル３２７か
ら上下導通材形成用インクを選択的に吐出して上下導通
材４８９を形成しても、上下導通材の硬化が進む前に上
記一対の基板母材４０１ａ、４１ａを対応する基板領域
が互いに対向するように貼り合わせることができ、液晶
装置のセルギャップの精度が悪くなることを回避でき
る。このように両方の基板母材４０１ａ、４１ａに複数
個の基板領域を形成し、これら基板母材４０１ａ、４１
ａを対応する基板領域が互いに対向するように貼り合わ
せた後、貼り合わせた両基材母材に対して個々の基板領
域の周囲を切断しているので、液晶装置の製造効率を大
幅に向上できる。

【００４３】 なお、上記実施形態では本発明をＴＦＴ
（Thin Film Transistor）素子に代表される３端子型素
子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置に適用
した場合について説明したが、本発明はＴＦＤ素子に代
表される２端子型素子を用いるアクティブマトリクス方
式の液晶装置や単純マトリックス方式の液晶装置におい
て上下導通材を形成する場合に適用することもできる。

【００４４】［第２の実施形態］次に、本発明の第２の
実施形態の液晶装置を図面を参照して説明する。図９
は、第２の実施形態であるアクティブマトリックス方式
の液晶装置の概略構成を示す平面図である。この液晶装
置２００が、第１の実施形態で説明した液晶装置４００
と異なる点は、上下導通材４８９ｃがＬ字状とされてい
る点である。この上下導通材４８９ｃも図５に示したイ
ンクジェットヘッド３２２の複数の吐出ノズル３２７か
ら上下導通材形成用インクを選択的に吐出して形成した
ものである。本実施形態の液晶装置によれば、第１の実
施形態の液晶装置と同様な効果が得られる。

【００４５】［第３の実施形態］次に、上記の第１、第
２の実施形態の液晶装置２００、４００のいずれかを備
えた電子機器の具体例について説明する。図１０（ａ）
は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１０
（ａ）において、符号６００は携帯電話本体を示し、符
号６０１は上記の液晶装置２００、４００のいずれかを
用いた液晶表示部を示している。図１０（ｂ）は、ワー
プロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示し
た斜視図である。図１０（ｂ）において、符号７００は
情報処理装置、符号７０１はキーボードなどの入力部、
符号７０３は情報処理装置本体、符号７０２は上記の液
晶装置２００、４００のいずれかを用いた液晶表示部を
示している。図１０（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例
を示した斜視図である。図１５（ｃ）において、符号８
００は時計本体を示し、符号８０１は上記の液晶装置２
００、４００のいずれかを用いた液晶表示部を示してい
る。図１０（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器
は、上記の液晶装置２００、４００のいずれかを用いた
液晶表示部を備えたものであり、先の第１〜第２実施形
態の液晶装置２００、４００の特徴を有するので、いず
れの液晶装置を用いても小型化された電子機器となる。

【００４６】［第４の実施形態］次に、上記の第１、第
２の実施形態の液晶装置４００、２００のいずれかを備
えた電子機器のその他の例として、投射型表示装置の構
成について、図１１を参照して説明する。第１の液晶装
置４００又は第２の液晶装置２００が第４の実施形態の
電子機器に備えられる場合、ライトバルブには入射側偏
光手段と出射側偏光手段が備えられるため、ここで用い
る液晶装置４００又は２００には偏光板４１６ａ、４１
６ｂは設けられていなくてもよい。図１１において、投
射型表示装置２１００は、上述した実施形態の液晶装置
を３個用意し、夫々ＲＧＢ用の液晶装置２９６２Ｒ、２
９６２Ｇおよび２９６２Ｂとして用いた投射型液晶装置
の光学系の概略構成図を示す。本例の投射型表示装置の
光学系には、光源装置２９２０と、均一照明光学系２９
２３が採用されている。そして、投射型表示装置は、こ
の均一照明光学系２９２３から出射される光束Ｗを赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に分離する色分離手段とし
ての色分離光学系９２４と、各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂを変調
する変調手段としての３つのライトバルブ２９２５Ｒ、
２９２５Ｇ、２９２５Ｂと、変調された後の色光束を再
合成する色合成手段としての色合成プリズム２９１０
と、合成された光束を投射面１００の表面に拡大投射す
る投射手段としての投射レンズユニット２９０６を備え
ている。また、青色光束Ｂを対応するライトバルブ２９
２５Ｂに導く導光系２９２７をも備えている。

【００４７】均一照明光学系２９２３は、２つのレンズ
板２９２１、２９２２と反射ミラー２９３１を備えてお
り、反射ミラー２９３１を挟んで２つのレンズ板２９２
１、２９２２が直交する状態に配置されている。均一照
明光学系２９２３の２つのレンズ板２９２１、２９２２
は、それぞれマトリクス状に配置された複数の矩形レン
ズを備えている。光源装置２９２０から出射された光束
は、第１のレンズ板２９２１の矩形レンズによって複数
の部分光束に分割される。そして、これらの部分光束
は、第２のレンズ板２９２２の矩形レンズによって３つ
のライトバルブ２９２５Ｒ、２９２５Ｇ、２９２５Ｂ付
近で重畳される。したがって、均一照明光学系２９２３
を用いることにより、光源装置２９２０が出射光束の断
面内で不均一な照度分布を有している場合でも、３つの
ライトバルブ２９２５Ｒ、２９２５Ｇ、２９２５Ｂを均
一な照明光で照明することが可能となる。

【００４８】各色分離光学系２９２４は、青緑反射ダイ
クロイックミラー２９４１と、緑反射ダイクロイックミ
ラー２９４２と、反射ミラー２９４３から構成される。
まず、青緑反射ダイクロイックミラー２９４１におい
て、光束Ｗに含まれている青色光束Ｂおよび緑色光束Ｇ
が直角に反射され、緑反射ダイクロイックミラー２９４
２の側に向かう。赤色光束Ｒはこのミラー２９４１を通
過して、後方の反射ミラー２９４３で直角に反射され
て、赤色光束Ｒの出射部２９４４から色合成プリズム２
９１０の側に出射される。次に、緑反射ダイクロイック
ミラー２９４２において、青緑反射ダイクロイックミラ
ー２９４１において反射された青色、緑色光束Ｂ、Ｇの
うち、緑色光束Ｇのみが直角に反射されて、緑色光束Ｇ
の出射部２９４５から色合成光学系の側に出射される。
緑反射ダイクロイックミラー２９４２を通過した青色光
束Ｂは、青色光束Ｂの出射部２９４６から導光系２９２
７の側に出射される。本例では、均一照明光学素子の光
束Ｗの出射部から、色分離光学系２９２４における各色
光束の出射部２９４４、２９４５、２９４６までの距離
がほぼ等しくなるように設定されている。

【００４９】色分離光学系２９２４の赤色、緑色光束
Ｒ、Ｇの出射部２９４４、２９４５の出射側には、それ
ぞれ集光レンズ２９５１、２９５２が配置されている。
したがって、各出射部から出射した赤色、緑色光束Ｒ、
Ｇは、これらの集光レンズ２９５１、２９５２に入射し
て平行化される。このように平行化された赤色、緑色光
束Ｒ、Ｇは、ライトバルブ２９２５Ｒ、２９２５Ｇに入
射して変調され、各色光に対応した画像情報が付加され
る。すなわち、これらの液晶装置は、図示しない駆動手
段によって画像情報に応じてスイッチング制御されて、
これにより、ここを通過する各色光の変調が行われる。
一方、青色光束Ｂは、導光系２９２７を介して対応する
ライトバルブ２９２５Ｂに導かれ、ここにおいて、同様
に画像情報に応じて変調が施される。なお、本例のライ
トバルブ２９２５Ｒ、２９２５Ｇ、２９２５Ｂは、それ
ぞれさらに入射側偏光手段２９６０Ｒ、２９６０Ｇ、２
９６０Ｂと、出射側偏光手段２９６１Ｒ、２９６１Ｇ、
２９６１Ｂと、これらの間に配置された液晶装置２９６
２Ｒ、２９６２Ｇ、２９６２Ｂとからなる液晶ライトバ
ルブである。

【００５０】導光系２９２７は、青色光束Ｂの出射部２
９４６の出射側に配置した集光レンズ２９５４と、入射
側反射ミラー２９７１と、出射側反射ミラー２９７２
と、これらの反射ミラーの間に配置した中間レンズ２９
７３と、ライトバルブ２９２５Ｂの手前側に配置した集
光レンズ２９５３とから構成されている。集光レンズ２
９５４から出射された青色光束Ｂは、導光系２９２７を
介して液晶装置２９６２Ｂに導かれて変調される。各色
光束の光路長、すなわち、光束Ｗの出射部から各液晶装
置２９６２Ｒ、２９６２Ｇ、２９６２Ｂまでの距離は青
色光束Ｂが最も長くなり、したがって、青色光束の光量
損失が最も多くなる。しかし、導光系２９２７を介在さ
せることにより、光量損失を抑制することができる。各
ライトバルブ２９２５Ｒ、２９２５Ｇ、２９２５Ｂを通
って変調された各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂは、色合成プリズム
２９１０に入射され、ここで合成される。そして、この
色合成プリズム２９１０によって合成された光が投射レ
ンズユニット２９０６を介して所定の位置にある投射面
３０００の表面に拡大投射されるようになっている。

【００５１】本実施形態の投射型表示装置は、上記の液
晶装置２００、４００のいずれかを用いた液晶装置２９
６２Ｒ、２９６２Ｇ、２９６２Ｂを備えたものであり、
先の第１〜第２実施形態の液晶装置２００、４００の特
徴を有するので、小型化された投射型表示装置を実現す
ることができる。

【００５２】［第５の実施形態］次に、上記の第１、第
２の実施形態の液晶装置４００、２００のいずれかを備
えた電子機器のその他の例として、プロジェクションＴ
Ｖの構成について、図１２を参照して説明する。図１２
において、符号３００３は映像／電源回路、符号３００
４はランプ、符号３００５は光学エンジン、符号３００
７は上記の第１、第２の実施形態の液晶装置４００、２
００のいずれかを用いた液晶装置、符号３００８は投写
レンズ、符号３００９は反射ミラー、符号３０１０は
スクリーンを示している。本実施形態のプロジェクショ
ンＴＶ３００１では、液晶装置３００７で創り出した映
像を投写レンズ３００８で拡大し、スクリーン３０１０
に裏から光を投射することで、映像を表示できるように
なっている。本実施形態のプロジェクションＴＶ３００
１は、上記の液晶装置２００、４００のいずれかを用い
た液晶装置３００７を備えたものであり、先の第１〜第
２実施形態の液晶装置２００、４００の特徴を有するの
で、小型化されたプロジェクションＴＶを実現すること
ができる。

【００５３】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明の電
気光学装置の製造方法では、上記一対の基板のうち一方
の基板または他方の基板にインクジェットヘッドの吐出
ノズルから上下導通材形成用インクを選択的に吐出して
上記上下導通材を形成しており、すなわち、上下導通材
の形成にインクジェット法を採用しているので、ディス
ペンサを用いて上下導通材を形成する従来の導通材の形
成方法に比べて上下導通材の形成効率を向上できる。そ
れは、インクジェット法に用いる上下導通材形成用イン
クの粘度は、ディスペンサから押し出される導通材料の
粘度よりも小さいために、インクジェットヘッドの吐出
ノズルから吐出される速度を速くでき、従って上下導通
材の形成効率を向上でき、その結果として電気光学装置
の製造効率を向上できる。

【００５４】また、本発明の電気光学装置の製造方法で
は、上記一対の基板母材のうち一方又は他方の基板母材
の複数個あるいは単数の基板領域にインクジェットヘッ
ドの吐出ノズルから上下導通材形成用インクを選択的に
吐出して上下導通材を形成しており、すなわち、上下導
通材の形成にインクジェット法を採用しているので、デ
ィスペンサを用いて上下導通材を形成する従来の導通材
の形成方法に比べて上下導通材の形成効率を向上でき
る。それは、インクジェット法に用いる上下導通材形成
用インクの粘度は、ディスペンサから押し出される導通
材料の粘度よりも小さいために、インクジェットヘッド
の吐出ノズルから吐出される速度を速くでき、従って上
下導通材の形成効率を向上でき、その結果として電気光
学装置の製造効率を向上できる。また、本発明の電気光
学装置では、上記上下導通材が上下導通材形成用インク
を吐出して形成されたものであるので、従来のディスペ
ンサを用いる方法により形成した上下導通材に比べて上
下導通材の幅を小さくでき、電気光学装置を小型化でき
る。また、本発明の電子機器は、上下導通材の幅を小さ
くすることにより、小型化された電気光学装置が備えら
れているので、小型化された電子機器とすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施形態であるＴＦＴ型の液
晶装置を対向基板の側からみた平面図である。

【図２】 図１のＨ−Ｈ′線で切断したときの液晶装置
の断面図である。

【図３】 第１の実施形態の液晶装置に備えられたアク
ティブ素子基板を示す斜視図である。

【図４】 第１の実施形態の液晶装置の製造方法を説明
するための工程図である。

【図５】 第１の実施形態の液晶装置に備えられた上下
導通材の製造方法で用いるインクジェット装置に備えら
れたインクジェットの説明図である。

【図６】 第１の実施形態の液晶装置の製造方法を説明
するための工程図である。

【図７】 第１の実施形態の液晶装置の製造方法を説明
するための工程図である。

【図８】 第１の実施形態の液晶装置の製造方法を説明
するための工程図である。

【図９】 本発明の第２の実施形態であるＴＦＴ型の液
晶装置を対向基板の側からみた平面図である。

【図１０】 本発明の実施形態である電子機器を示す斜
視図である。

【図１１】 本発明の実施形態の液晶装置を用いた電子
機器の一例である投射型表示装置を示す概略構成図であ
る。

【図１２】 本発明の実施形態の液晶装置を用いた電子
機器の一例であるプロジェクションＴＶを示す概略構成
図である。

【図１３】 従来の液晶装置の要部を示す断面図であ
る。

【図１４】 従来の液晶装置の製造方法の上下導通材の
形成工程を示す斜視図である。

【図１５】 従来の液晶装置の製造工程を示す斜視図で
ある。

【符号の説明】

４１…カラーフィルタ基板 ２…光透過性基板（基板） ２ａ…一面 ３…隔壁部 ３ｃ…孔 ５…色層形成領域（画素領域） ６、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ…色層 ７…オーバーコート層 ５１…カラーフィルタ １００…表示装置（表示部） ２００、４００…液晶装置 ５００…液晶パネル ２０１…光透過性基板（基板） ３２２…インクジェットヘッド ３２０…ヘッド部 ３２７…吐出ノズル ４０１…アクティブ素子基板 ４８９、４８９ｃ…上下導通材 ４８７…第１の電極 ４８８…第２の電極 ４１４…光透過性基板（基板） ４６０…表示領域 ６００、７００、８００、２１００、３００１…電子機
器 ６０１、７０２、８０１…液晶表示部 ２９６２Ｒ、２９６２Ｇ、２９６２Ｂ・…液晶装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ Ｇ０９Ｆ 9/35 9/35 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ Ｆターム(参考） 2C056 EA23 EA24 EC72 FA10 FB01 FD10 2H092 GA39 JA24 MA01 NA27 NA29 PA08 5C094 AA42 AA43 AA44 AA45 BA03 BA43 CA19 EA02 EA04 EA07 GB10 5G435 AA17 BB12 CC09 KK05 KK09 KK10

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 互いに対向する一対の基板間に電気光学
   材料が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板には
   前記電気光学材料に面する側に第１の電極が設けられ、
   他方の基板には前記電気光学材料に面する側に第２の電
   極が設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極を導通
   する上下導通材が設けられた電気光学装置の製造方法で
   あって、 前記一対の基板のうち一方の基板または他方の基板にイ
   ンクジェットヘッドの吐出ノズルから上下導通材形成用
   インクを選択的に吐出して前記上下導通材を形成する工
   程を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 【請求項２】 互いに対向する一対の基板間に電気光学
   材料が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板には
   前記電気光学材料に面する側に第１の電極が設けられ、
   他方の基板には前記電気光学材料に面する側に第２の電
   極が設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極を導通
   する上下導通材が設けられた電気光学装置の製造方法で
   あって、 前記一対の基板母材のうち一方の基板母材の複数個ある
   いは単数の基板領域の電気光学材料に面する側に第１の
   電極を設ける工程と、他方の基板母材の複数個あるいは
   単数の基板領域の電気光学材料に面する側に第２の電極
   を設ける工程と、前記一対の基板母材のうち一方又は他
   方の基板母材の複数個あるいは単数の基板領域にインク
   ジェットヘッドの吐出ノズルから上下導通材形成用イン
   クを選択的に吐出して上下導通材を形成する工程と、前
   記一対の基板母材を対応する基板領域が互いに対向する
   ように貼り合わせる工程と、対向するに至った対をなす
   複数個あるいは単数の基板領域間に電気光学材料を封入
   する工程と、前記一対の基板母材のうち少なくとも一方
   の基板母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って基
   板母材を切断する工程を備えることを特徴とする電気光
   学装置の製造方法。
3. 【請求項３】 上下導通材形成用インクは導電性金属粒
   子を分散させた有機溶媒を含むことを特徴とする請求項
   １又は２記載の電気光学装置の製造方法。
4. 【請求項４】 前記上下導通材形成用インクに含まれる
   導電性金属粒子の粒径は、２μｍ〜３μｍの範囲である
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載
   の電気光学装置の製造方法。
5. 【請求項５】 前記上下導通材形成用インクの粘度は、
   室温で５０ｃＰ以下であることを特徴とする請求項１乃
   至４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
6. 【請求項６】 互いに対向する一対の基板間に電気光学
   材料が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板には
   前記電気光学材料に面する側に第１の電極が設けられ、
   他方の基板には前記電気光学材料に面する側に第２の電
   極が設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極を導通
   する上下導通材が設けられた電気光学装置であって、 前記上下導通材は上下導通材形成用インクを吐出して形
   成されたものであることを特徴とする電気光学装置。
7. 【請求項７】 前記上下導通材の形状は、線状であるこ
   とを特徴とする請求項６記載の電気光学装置。
8. 【請求項８】 前記上下導通材の幅は、３００μｍ以下
   であることを特徴とする請求項６又は７に記載の電気光
   学装置。
9. 【請求項９】 請求項６ないし請求項７のいずれか一項
   に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする
   電子機器。