JP2003133269A - 化学機械研磨装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】化学機械研磨装置での研磨剤供給アームの位置
決めを容易にする。 【解決手段】キャリアヘッド３１に保持されたウェーハ
を押し付けて研磨するプラテン６１と、プラテン６１を
支持するベース１０と、プラテン６１上の所望の位置に
研磨剤を供給するべくベース１０に対して揺動自在に支
持された研磨剤供給アーム８０とを備え、研磨剤供給ア
ーム８０（供給口８３ａ）をプラテン６１上の所望の位
置に位置決めするための位置決め手段９０（目印９１及
び指標９２）を設けた。これにより、研磨剤はプラテン
６１上の所望の位置に供給され、研磨特性、研磨速度の
バラツキが抑えられ、再現性の良い研磨処理が行なわれ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理体としての
半導体基板等を化学的及び機械的研磨（ＣＭＰ）により
平坦化する化学機械研磨装置に関し、特に、研磨パッド
を有する回転基盤上に研磨剤を供給する研磨剤供給アー
ムを備えた化学機械研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】種々の積層処理が施された被処理体とし
ての半導体基板（以下、単にウェーハと称す）の表面を
平坦化する装置として、化学機械研磨装置（ＣＭＰ装
置）が知られている。この装置は、図６に示すように、
キャリアヘッド１でウェーハＷを保持し、ベース２上に
回転可能に支持されたプラテン（回転基盤）３上の研磨
パッド３ａにウェーハＷを押し付け、キャリアヘッド１
及びプラテン３を回転させながら、研磨剤供給アーム４
の先端に設けられた供給ノズル４ａから研磨剤（スラリ
ー）を供給し、ウェーハの表面を化学的かつ機械的に研
磨するものである。

【０００３】ところで、研磨剤供給アーム４は、ベース
２上に形成された円筒状の支持部２ａに対して揺動自在
（回動自在）に嵌合されており、研磨剤供給アーム４の
角度位置を何処に設定するか、すなわち、研磨剤を研磨
パッド３ａ上の何処に供給するかによって、研磨速度、
研磨特性等が影響される。特に、研磨剤の種類、あるい
は、研磨パッド３ａの種類によって、研磨剤を供給する
のに最適な位置が選定される。例えば、研磨剤供給アー
ム４は、研磨剤Ａの場合には実線で示すＡ位置、研磨剤
Ｂの場合には二点鎖線で示すＢ位置、研磨剤Ｃの場合に
は二点鎖線で示すＣ位置等の如くである。

【０００４】一方、洗浄あるいは研磨パッド３ａの交換
等のために、装置を定期的にメインテナンスする必要が
ある。この場合、オペレータは、研磨剤供給アーム４
を、図６に示すように、プラテン３（研磨パッド３ａ）
上から待避位置（二点鎖線で示すＨ位置）まで一旦移動
させ、研磨パッド３ａの交換あるいは洗浄等を行なった
後に、再び研磨剤供給アーム４を所定の位置（例えばＡ
位置）に戻すという作業を、手作業により行なう。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、研磨剤
供給アーム４の角度調整は、オペレータの目分量による
手作業に依存するため、所定の角度位置に確実に合わせ
るには、かなりの熟練を要し、一方、オペレータが異な
ると、各々の個人差により、合わせる角度位置にバラツ
キを生じる場合がある。

【０００６】このように、研磨剤供給アーム４をセット
する角度位置のバラツキは、研磨特性、研磨速度等に変
化をもたらし、再現性の良い安定した研磨処理あるいは
均一な研磨処理を行なうのが困難になり、生産性の低下
等を招くことになる。

【０００７】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
成されたものであり、その目的とするところは、研磨剤
供給アームの角度調整を簡単にかつ高精度に行なうこと
ができ、研磨速度、研磨特性等のバラツキを抑えて、安
定した研磨処理を実現できる化学機械研磨装置を提供す
ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の化学機械研磨装
置は、キャリアヘッドに保持された被処理体を押し付け
て研磨する回転基盤と、回転基盤を支持するベースと、
回転基盤上の所望の位置に研磨剤を供給するべくベース
に対して揺動自在に支持されて先端領域に供給口を有す
る研磨剤供給アームとを備えた化学機械研磨装置であっ
て、上記供給口を回転基盤上の所望の位置に位置決めす
るべく、上記研磨剤供給アームの角度位置を位置決めす
る位置決め手段を設けた、ことを特徴としている。この
構成によれば、例えば、研磨剤供給アームを回転基盤上
から待避させて再び回転基盤上の所望の位置にセットす
る場合、位置決め手段により、研磨剤供給アームは所望
の角度位置に高精度に位置決めされる。これにより、研
磨剤は回転基盤上の所望の位置に供給されることにな
り、研磨特性、研磨速度のバラツキが抑えられて、再現
性の良い研磨処理が安定して行なわれる。

【０００９】上記構成において、ベースは、研磨剤供給
アームの揺動軸部の近傍において外輪郭を画定する外壁
部を有し、位置決め手段は、研磨剤供給アームの上面で
かつ揺動軸部の軸心周りに形成された指標と、外壁部の
上面に形成されて指標と対向し得る目印と、を有する構
成を採用できる。この構成によれば、研磨剤供給アーム
を位置決めする際に、揺動軸部の上面に形成された指標
を、外壁部の上面に形成された目印に合わせるようにし
て、研磨剤供給アームを回転させつつ位置決めを行なう
ことができる。また、位置決め手段を簡単な構造にて提
供できる。

【００１０】また、上記構成において、研磨剤供給アー
ムは、ベースに固定された支持部に揺動自在に支持さ
れ、支持部は、揺動軸部の外壁に隣接して形成された隣
接壁部を有し、位置決め手段は、研磨剤供給アームの上
面でかつ揺動軸部の軸心周りに形成された指標と、隣接
壁部の上面に形成されて指標と対向し得る目印と、を有
する構成を採用できる。この構成によれば、研磨剤供給
アームを位置決めする際に、揺動軸部の上面に形成され
た指標を、隣接壁部の上面に形成された目印に合わせる
ようにして、研磨剤供給アームを回転させつつ位置決め
を行なうことができる。このとき、指標と目印が隣接し
ているため、目視による両者の位置合わせを、容易にか
つ高精度に行なうことができる。また、位置決め手段を
簡単な構造にて提供できる。

【００１１】上記構成において、研磨剤供給アームに対
して締結自在に形成された指標板を有し、この指標板に
は指標が形成されている、構成を採用できる。この構成
によれば、指標板の取り付け角度を調整することによ
り、指標と研磨剤供給アームとの相対的な位置関係を変
更することができる。したがって、研磨剤供給アームを
セットする角度位置が変更になる場合に、指標板の角度
位置を適宜変更して再度締めなおすことにより、容易に
対応することができる。

【００１２】上記構成において、指標は、研磨剤又は研
磨パッドの種類に応じた複数の指標を含む、構成を採用
できる。この構成によれば、研磨剤又は研磨パッドの種
類に対応させた複数の指標を含むため、所定の研磨剤又
は研磨パッドに応じた指標を目印に合わせることで、研
磨剤供給アームを、各々の研磨剤又は研磨パッドに対応
した角度位置に、容易に位置決めすることができる。

【００１３】上記構成において、位置決め手段は、研磨
剤供給アームを所定の角度位置にて位置決めすると共に
ロックする位置決めロック機構を含む、構成を採用でき
る。この構成によれば、研磨剤供給アームを一旦位置決
めすると、位置決めロック機構が作用してその位置に研
磨剤供給アームを保持する。それ故に、経時変化あるい
は外力等により、研磨剤供給アームが所定の位置から容
易にずれるのを防止できる。

【００１４】上記構成において、ベース上には回転基盤
が複数配置され、研磨剤供給アームは複数の回転基盤の
それぞれに対応して複数配置され、位置決め手段は、複
数の研磨剤供給アームのそれぞれに対応して設けられて
いる、構成を採用できる。この構成によれば、複数の回
転基盤及び研磨剤供給アームに対応して位置決め手段が
設けられているため、各々の研磨剤供給アームを、対応
する回転基盤に応じて、それぞれの最適な角度位置に位
置決めすることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付図面を参照しつつ説明する。図１及び図２は、
本発明に係る化学機械研磨装置の一実施形態を示すもの
であり、図１は全体の構成を示す概略平面図、図２は研
磨剤供給アームの領域を示す平面図及び側面図である。

【００１６】この装置は、図１に示すように、ベース１
０、ベース１０の上方において回転軸２０により回動自
在に支持されたカラセル３０、ベース１０に隣接して配
置され被処理体としてのウェーハＷを収容するカセット
を搬送する搬送機構４０等を備えている。

【００１７】カラセル３０は、４つのキャリアヘッド３
１を担持している。キャリアヘッド３１は、それぞれ駆
動モータ（不図示）により回転させられると共に、ウェ
ーハＷを吸着するための吸着機構、吸着したウェーハＷ
をプラテン６１上の研磨パッド６１ａに押し付ける押圧
機構等を備えている。また、カラセル３０には、駆動機
構３１ａが設けられている。駆動機構３１ａは、キャリ
アヘッド３１を、プラテン６１の上面と平行な方向にお
いて回転軸２０に近づく向きに及び遠ざかる向きに移動
させ、又、プラテン６１の上面に垂直な上下方向におい
て昇降させる。

【００１８】ベース１０上には、図１に示すように、ウ
ェーハＷの着脱を行なうための一つの着脱ステーション
５０と、三つの研磨ステーション６０、四つの洗浄ステ
ーション７０等を備えている。３つの研磨ステーション
６０は、それぞれ、研磨パッド６１ａを上面に有する回
転基盤としてのプラテン６１と、パッドコンディショナ
６２と、プラテン６１（研磨パッド６１ａ）上に研磨剤
（スラリー）を供給する研磨剤供給アーム８０等を備え
ている。

【００１９】ここで、プラテン６１は、それぞれの駆動
モータ（不図示）により、約３０ｒｐｍ〜２００ｒｐｍ
の回転速度で回転駆動される。パッドコンディショナ６
２は、それぞれ調整ヘッドを有し、研磨パッド６１ａに
押し付けられたウェーハＷを効率良く研磨するように、
研磨パッド６１ａを最適な状態に維持する。

【００２０】ベース１０には、図１及び図２に示すよう
に、上方に向けて突出し外輪郭を画定する略矩形の外壁
部１１が一体的に形成されており、外壁部１１には、上
方から蓋体（不図示）が取り付けられるようになってい
る。また、ベース１０の上面には、図２に示すように、
プラテン３１の外側領域でかつ外壁部１１の近傍におい
て、研磨剤供給アーム８０を揺動自在（回動自在）に支
持する円筒状の支持部１２が形成されている。

【００２１】研磨剤供給アーム８０は、図１及び図２に
示すように、支持部１２に嵌合されて、プラテン６１の
上面（研磨パッド６１ａ）と平行な面を所定の角度範囲
に亘って角度調整が行なえるようになっている。すなわ
ち、研磨剤供給アーム８０は、支持部１２の嵌合部１２
ａに揺動自在に嵌合される下側アーム８１、上方から下
側アーム８１に嵌め込まれる上側アーム８２、下側アー
ム８１と上側アーム８２とにより画定される内部空間を
通り先端領域から下向きに突出して供給口８３ａをプラ
テン６１上に対向させる複数の供給パイプ（ノズル）８
３等により構成されている。尚、複数の供給パイプ８３
は、研磨剤（スラリー）の他に、洗浄水、リンス等も供
給するものである。

【００２２】図１及び図２に示すように、研磨剤供給ア
ーム８０の揺動軸部８０ａの領域及び外壁部１１には、
それぞれの研磨剤供給アーム８０の角度位置を位置決め
する三つの位置決め手段９０が設けられている。位置決
め手段９０は、揺動軸部８０ａの近傍に位置する外壁部
１１の上面１１ａに形成された目印９１と、揺動軸部８
０ａの軸心ＲＣ周りに円弧状に所定の角度間隔で配列し
て形成された複数の指標９２と、により構成されてい
る。すなわち、複数の指標９２の一つを目印９１と対向
する位置に合わせることにより、研磨剤供給アーム８０
が所定の角度位置に位置決めされ、先端領域にある供給
口８３ａがプラテン６１（研磨パッド６１ａ）上の所望
の位置に位置決めされることになる。

【００２３】目印９１は、外壁部１１の上面１１ａに刻
印あるいはマーキング等により施されている。指標９２
は、分度器の目盛りのような形態に形成されており、こ
れも同様に、上側アーム８２の上面８２ａに刻印あるい
はマーキング等により施されている。したがって、既存
の装置に対して、目印９１及び指標９２を設ける場合
も、単に刻印あるいはマーキング等の追加工を施すだけ
で、容易に位置決め手段９０を設けることができる。

【００２４】また、上記複数の指標９２は、研磨剤又は
研磨パッド６１ａの種類に応じて研磨剤供給アーム８０
を位置決めする角度位置が異なる場合に、それぞれの指
標９２は、異なる研磨剤又は研磨パッド６１ａごとに対
応させて設定される。これにより、目印９１と位置合わ
せする指標９２を適宜選択するだけで、研磨剤供給アー
ム８０を位置決めする際の角度位置を容易に変更するこ
とができる。

【００２５】尚、この実施形態においては、図２に示す
ように、目印９１を設ける外壁部１１の上面１１ａと指
標９２を設ける上側アーム８２の上面８２ａとは略同一
の高さとして示したが、これに限定されるものではな
く、位置合わせが行なえる限りにおいて、外壁部１１の
上面１１ａが上側アーム８２の上面８２ａよりも高くて
もあるいは低くてもよい。

【００２６】図３は、本発明に係る装置の他の実施形態
を示すものであり、図３（ａ），（ｂ）は位置決め手段
９０を示す平面図及び側面図である。この装置において
は、図３に示すように、ベース１０上に設けられた外径
の大きい支持部１２の上面に対して一体的に隣接壁部１
２ｂが形成されている。

【００２７】隣接壁部１２ｂは、図３に示すように、研
磨剤供給アーム８０の揺動軸部８０ａの外壁８０ａ´に
隣接するように、略半円弧状に湾曲して形成されてい
る。そして、隣接壁部１２ｂの上面１２ｂ´には、目印
９１が刻印あるいはマーキングにより設けられている。
一方、研磨剤供給アーム８０の軸心ＲＣ周りには、円弧
状に所定の角度間隔で配列して形成された複数の指標９
２が刻印あるいはマーキングにより設けられている。上
記隣接壁部１２ｂに形成された目印９１及び研磨剤供給
アーム８０に形成された指標９２により、位置決め手段
９０が形成されている。

【００２８】この位置決め手段９０においては、隣接壁
部１２ｂが揺動軸部８０ａの外壁８０ａ´と隣接（密
接）しているため、前述の実施形態に比べて、目印９１
と指標９２との間隔が狭くなる。したがって、オペレー
タが目測にて、両者を対向するように位置合わせする際
に、より高精度に位置合わせを行なうことができ、結果
的に、研磨剤供給アーム８０を所望の角度位置に高精度
に位置決めすることができる。

【００２９】尚、隣接壁部１２ｂは、支持部１２に対し
て初めから一体的に成形されてもよく、別個に形成され
たものを、支持部１２に対して後付けにより固定しても
よい。後付けとすれば、既存の装置に対しても、この実
施形態に係る位置決め手段９０を容易に設けることがで
きる。

【００３０】図４は、本発明に係る装置の他の実施形態
を示すものであり、図４（ａ），（ｂ）は位置決め手段
９０を示す平面図及び側面図である。この装置において
は、図４に示すように、研磨剤供給アーム８０に対して
円板状の指標板１００が固着されている。

【００３１】指標板１００は、研磨剤供給アーム８０の
揺動軸部８０ａの外径とほぼ同一の外径をもつ円板状に
形成されており、その中央部に形成された貫通孔１０１
にネジ１１０が通されて、上側アーム８２に締結されて
いる。そして、指標板１００の上面１００ａには、前述
同様の複数の指標９２が形成されている。この指標９２
も、刻印あるいはマーキングにより形成されている。
尚、指標９２は、指標板１００を樹脂モールド（射出成
形）により形成し、このモールドの際に一体的に成形し
てもよい。一方、外壁部１１の上面１１ａには、目印９
１が刻印あるいはマーキングにより設けられている。そ
して、上記外壁部１１に形成された目印９１及び研磨剤
供給アーム８０の上面８０ａに固着された指標板１００
に形成された指標９２により、位置決め手段９０が形成
されている。

【００３２】この実施形態においては、指標板１００が
研磨剤供給アーム８０に対してネジ１１０により締結自
在となっているため、ネジ１１０を緩めれば、指標板１
００の取り付け角度を変えることができる。すなわち、
ネジ１１０を緩めて指標板１００を所定量だけ（例えば
一つの指標９２から隣の指標９２までの角度の範囲内
で）回転させて再度ネジ１１０を締め付けることによ
り、指標９２と研磨剤供給アーム８０との相対的な位置
関係を変更することができる。したがって、新たな研磨
剤に対応して、研磨剤供給アーム８０を位置決めするた
めの角度位置を新たに設定する必要が生じた場合には、
指標板１００の角度位置を適宜変更して再度締めなおす
ことにより、容易に対応することができる。

【００３３】尚、この実施形態においては、図４に示す
ように、目印９１を設ける外壁部１１の上面１１ａと指
標９２を設ける指標板１００の上面１００ａとは略同一
の高さとして示したが、これに限定されるものではな
く、位置合わせが行なえる限りにおいて、外壁部１１の
上面１１ａが指標板１００の上面１００ａよりも高くて
もあるいは低くてもよい。

【００３４】図５は、本発明に係る装置の他の実施形態
を示すものであり、図５（ａ），（ｂ）は位置決め手段
９０を示す平面図及び側面図である。この装置において
は、図５に示すように、研磨剤供給アーム８０に対して
円板状の指標板２００が固着され、又、外壁部１１と指
標板２００との間に位置決めロック機構３００が設けら
れている。

【００３５】指標板２００は、研磨剤供給アーム８０の
揺動軸部８０ａの外径よりも大きい外径をもつ円板状に
形成されており、その中央部に形成された貫通孔２０１
にネジ１１０が通されて、上側アーム８２に締結されて
いる。そして、指標板２００の上面２００ａには、前述
同様の複数の指標９２が形成されている。この指標９２
も、刻印あるいはマーキングにより形成されている。
尚、指標９２は、指標板２００を樹脂モールド（射出成
形）により形成し、このモールドの際に一体的に成形し
てもよい。さらに、指標板２００の外周面には、それぞ
れの指標９２に対応する位置において半円状の凹部２１
０が複数設けられている。

【００３６】一方、外壁部１１の上面１１ａには、目印
９１が刻印あるいはマーキングにより設けられている。
すなわち、上記外壁部１１に形成された目印９１及び研
磨剤供給アーム８０の上面８０ａに固着された指標板２
００に形成された指標９２により、位置決め手段９０が
形成されている。

【００３７】また、外壁部１１の内側側面には、位置決
めロック機構３００が設けられている。位置決めロック
機構３００は、先端に半円状の凸部３１０ａをもつ片持
ち梁状の板バネ３１０と、板バネ３１０の他端部を外壁
部１１の内側側面に固着するネジ３２０とにより形成さ
れている。板バネ３１０は、その凸部３１０ａを指標板
２００の外周面に向けて、所定のばね力により常時付勢
している。

【００３８】すなわち、研磨剤供給アーム８０が回転さ
せられると、それぞれの指標９２に対応するところで、
板バネ３１０の凸部３１０ａが指標板２００の凹部２１
０に嵌合して、研磨剤供給アーム８０を位置決めすると
共にその位置にロックする。尚、位置決めする角度位置
を変えたい場合は、このロック状態に打ち勝つ力を研磨
剤供給アーム８０に及ぼして、所望の指標９２の位置に
対応する凹部２１０が板バネ３１０の凸部３１０ａに嵌
合するまで回転させることにより、適宜角度位置を選定
して、位置決め及びロックを行なうことができる。

【００３９】この実施形態においては、指標板２００が
研磨剤供給アーム８０に対してネジ１１０により締結自
在となっているため、ネジ１１０を緩めれば、指標板２
００の取り付け角度を変えることができる。したがっ
て、前述同様に、新たな研磨剤に対応して、研磨剤供給
アーム８０を位置決めするための角度位置を新たに設定
する必要が生じた場合には、指標板２００の角度位置を
適宜変更して再度締めなおすことにより、容易に対応す
ることができる。また、位置決めロック機構３００を設
けたことにより、支持部１２と下側アーム８１との嵌合
部分の緩み等の経時変化あるいは外力等により、研磨剤
供給アーム８０が位置決めされた所定の角度位置から容
易にずれるのを防止できる。

【００４０】ここで、指標板２００に設ける凹部２１０
の角度間隔は、種々の研磨剤及び研磨パッド６１ａの組
み合わせにおいても、十分対応できる（位置決めでき
る）ような最少角度に設定することが好ましい。

【００４１】また、指標９２においては、１，２，３，
４，５…等の番号を付して、例えば、研磨剤Ａ及び研磨
パッドＡの場合は指標４の角度に合わせ、研磨剤Ｂ及び
研磨パッドＢの場合は指標３の角度に合わせ、研磨剤Ｃ
及び研磨パッドＣの場合は指標５の角度に合わせる等の
対応表を予め設定し、この対応表に基づいて研磨剤供給
アーム８０の位置決めを行なうようにする。

【００４２】尚、この実施形態においては、図５に示す
ように、目印９１を設ける外壁部１１の上面１１ａと指
標９２を設ける指標板２００の上面２００ａとは略同一
の高さとして示したが、これに限定されるものではな
く、位置合わせが行なえる限りにおいて、外壁部１１の
上面１１ａが指標板２００の上面２００ａよりも高くて
もあるいは低くてもよい。

【００４３】上記実施形態においては、位置決め手段９
０として、ベース１０（外壁部１１）に目印９１を設
け、研磨剤供給アーム８０に指標９２を設ける構成を示
したが、これに限定されるものではなく、ベース１０
（外壁部１１）に指標９２を設け、研磨剤供給アーム８
０に目印９１を設ける構成を採用してもよく、この構成
は当然に本発明の範疇に含まれるものである。例えば、
図３に示す実施形態において、隣接壁部１２ｂの上面１
２ｂ´に複数の指標９２を設け、研磨剤供給アーム８０
の揺動軸部８０ａの上面に一つの目印９１を設ける構成
を採用してもよい。尚、指標９２として複数の指標を採
用したが、研磨剤供給アーム８０を位置決めする角度位
置がプラテン６１に対して一箇所の場合は、一つの指標
９２を設けるだけでよい。

【００４４】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の化学機械研
磨装置によれば、回転基盤上の所望の位置に研磨剤を供
給するべくベースに対して揺動自在に支持された研磨剤
供給アーム（供給口）を、回転基盤上の所望の位置に位
置決めするための位置決め手段を設けたことにより、研
磨剤供給アームはバラツキなく所望の角度位置に位置決
めされる。これにより、研磨特性、研磨速度のバラツキ
が抑えられて、再現性の良い研磨処理を安定して行なう
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る化学機械研磨装置の概略構成を示
す平面図である。

【図２】位置決め手段が設けられた研磨剤供給アームの
近傍を示すものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面
図である。

【図３】位置決め手段の他の実施形態を示すものであ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。

【図４】位置決め手段の他の実施形態を示すものであ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。

【図５】位置決め手段の他の実施形態を示すものであ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。

【図６】研磨剤供給アームとプラテン（回転基盤）との
位置関係を説明する平面図である。

【符号の説明】

１０ ベース １１ 外壁部 １１ａ 外壁部の上面 １２ 支持部 １２ａ 嵌合部 １２ｂ 隣接壁部 １２ｂ´ 隣接壁部の上面 ３１ キャリアヘッド ６０ 研磨ステーション ６１ プラテン（回転基盤） ６１ａ 研磨パッド ８０ 研磨剤供給アーム ８０ａ 揺動軸部 ８０ａ´ 外壁 ＲＣ 軸心 ８１ 下側アーム ８２ 上側アーム ８２ａ 上面 ８３ 供給パイプ ８３ａ 供給口 ９０ 位置決め手段 ９１ 目印 ９２ 指標 １００ 指標板 １００ａ 上面 １０１ 貫通孔 １１０ ネジ ２００ 指標板 ２００ａ 上面 ２０１ 貫通孔 ２１０ 凹部 ３００ 位置決めロック機構 ３１０ 板バネ ３１０ａ 凸部 ３２０ ネジ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小 野 寺 聡 子 千葉県成田市新泉14−３ 野毛平工業団地 内 アプライドマテリアルズジャパン株式 会社内 Ｆターム(参考） 3C047 FF08 GG04 GG20 3C058 AA07 AA13 CB04 DA17 DB09

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 キャリアヘッドに保持された被処理体を
   押し付けて研磨する回転基盤と、前記回転基盤を支持す
   るベースと、前記回転基盤上の所望の位置に研磨剤を供
   給するべく前記ベースに対して揺動自在に支持されて先
   端領域に供給口を有する研磨剤供給アームと、を備えた
   化学機械研磨装置であって、 前記供給口を前記回転基盤上の所望の位置に位置決めす
   るべく、前記研磨剤供給アームの角度位置を位置決めす
   る位置決め手段を設けた、ことを特徴とする化学機械研
   磨装置。
2. 【請求項２】 前記ベースは、前記研磨剤供給アームの
   揺動軸部の近傍において外輪郭を画定する外壁部を有
   し、 前記位置決め手段は、前記研磨剤供給アームの上面でか
   つ前記揺動軸部の軸心周りに形成された指標と、前記外
   壁部の上面に形成されて前記指標と対向し得る目印と、
   を有する、ことを特徴とする請求項１記載の化学機械研
   磨装置。
3. 【請求項３】 前記研磨剤供給アームは、前記ベースに
   固定された支持部に揺動自在に支持され、 前記支持部は、前記揺動軸部の外壁に隣接して形成され
   た隣接壁部を有し、 前記位置決め手段は、前記研磨剤供給アームの上面でか
   つ前記揺動軸部の軸心周りに形成された指標と、前記隣
   接壁部の上面に形成されて前記指標と対向し得る目印
   と、を有する、ことを特徴とする請求項１記載の化学機
   械研磨装置。
4. 【請求項４】 前記研磨剤供給アームに対して締結自在
   に形成された指標板を有し、 前記指標板には、前記指標が形成されている、ことを特
   徴とする請求項２又は３に記載の化学機械研磨装置。
5. 【請求項５】 前記指標は、研磨剤又は研磨パッドの種
   類に応じた複数の指標を含む、ことを特徴とする請求項
   １ないし４いずれかに記載の化学機械研磨装置。
6. 【請求項６】 前記位置決め手段は、前記研磨剤供給ア
   ームを所定の角度位置にて位置決めすると共にロックす
   る位置決めロック機構を含む、ことを特徴とする請求項
   １ないし５いずれかに記載の化学機械研磨装置。
7. 【請求項７】 前記ベース上には、前記回転基盤が複数
   配置され、 前記研磨剤供給アームは、前記回転基盤のそれぞれに対
   応して複数配置され、 前記位置決め手段は、前記複数の研磨剤供給アームのそ
   れぞれに対応して設けられている、ことを特徴とする請
   求項１ないし６いずれかに記載の化学機械研磨装置。