JP2003133193A5 - - Google Patents
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- 制御コマンドによって制御された装置のシミュレーションを実行する情報処理装置であって、
前記装置を制御したときの前記装置の装置状態及び前記制御コマンドに時間情報を付与する付与部と、
前記付与部で時間情報を付与された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を編集する編集部と、
前記編集部で編集された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を用いて、前記装置のシミュレーションを実行するシミュレーション部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。 - 前記編集部は、前記制御コマンドの指定した部分に対してシミュレーションを実行するための編集を行うことを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記編集部は、前記制御コマンドの時間情報に従って順次前記装置のシミュレーションを実行するための編集を行うことを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記編集部は、前記制御コマンドの時間情報の時間間隔を調節することによってシミュレーションを実行するための編集を行うことを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記シミュレーション部は、前記シミュレーション部のシミュレーション結果を表示することを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記シミュレーション結果は、三次元画像データであることを特徴とする請求項5に記載の情報処理装置。
- 前記シミュレーション部は、前記装置を制御するための前記制御コマンドと、前記制御コマンドを用いて前記装置を制御したときの前記装置の装置状態とを、前記装置と同様に制御できる制御部を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。
- 制御コマンドによって制御された装置のシミュレーションを実行する情報処理方法であって、
前記装置を制御したときの前記装置の装置状態及び前記制御コマンドに時間情報を付与する付与工程と、
前記付与工程で時間情報を付与された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を編集する編集工程と、
前記編集工程で編集された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を用いて、前記装置のシミュレーションを実行するシミュレーション工程と、
を含むことを特徴とする情報処理方法。 - 前記編集工程は、前記制御コマンドの指定した部分に対してシミュレーションを実行するための編集を行うことを特徴とする請求項8に記載の情報処理方法。
- 前記編集工程は、前記制御コマンドの時間情報に従って順次前記装置のシミュレーションを実行するための編集を行うことを特徴とする請求項8に記載の情報処理方法。
- 前記編集工程は、前記制御コマンドの時間情報の時間間隔を調節することによってシミュレーションを実行するための編集を行うことを特徴とする請求項8に記載の情報処理方法。
- 前記シミュレーション工程は、前記シミュレーション工程のシミュレーション結果を表示することを特徴とする請求項8に記載の情報処理方法。
- 前記シミュレーション結果は、三次元画像データであることを特徴とする請求項12に記載の情報処理方法。
- 前記シミュレーション工程は、前記装置を制御するための前記制御コマンドと、前記制御コマンドを用いて前記装置を制御したときの前記装置の装置状態とを、前記装置と同様に制御できる制御工程を更に含むことを特徴とする請求項8に記載の情報処理方法。
- 制御コマンドによって制御された装置のシミュレーションを実行する情報処理装置を制御するためのプログラムであって、
前記装置を制御したときの前記装置の装置状態及び前記制御コマンドに時間情報を付与する付与工程と、
前記付与工程で時間情報を付与された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を編集する編集工程と、
前記編集工程で編集された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を用いて、前記装置のシミュレーションを実行するシミュレーション工程と、
を含むことを特徴とするプログラム。 - 制御コマンドによって制御された装置のシミュレーションを実行する情報処理装置を制御するためのプログラムのコードが格納されたコンピュータ可読メモリであって、
該プログラムは前記装置を制御したときの前記装置の装置状態及び前記制御コマンドに時間情報を付与する付与工程と、
前記付与工程で時間情報を付与された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を編集する編集工程と、
前記編集工程で編集された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を用いて、前記装置のシミュレーションを実行するシミュレーション工程と、
を含むことを特徴とするコンピュータ可読メモリ。 - デバイスの製造方法であって、
試料に感光性材料を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で感光性材料が塗布された基板にパターンを焼き付ける露光工程と、
前記露光工程でパターンが焼き付けられた基板の感光性材料を現像する現像工程と、
を有し、
前記露光工程は、
前記デバイスを製造する装置を制御したときの前記装置の装置状態及び前記制御コマンドに時間情報を付与する付与工程と、前記付与工程で時間情報を付与された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を編集する編集工程と、前記編集工程で編集された前記装置状態又は前記制御コマンドのうちの少なくとも一方を用いて、前記装置のシミュレーションを実行するシミュレーション工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001322580A JP2003133193A (ja) | 2001-10-19 | 2001-10-19 | 情報処理装置及びその方法、コンピュータ可読メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001322580A JP2003133193A (ja) | 2001-10-19 | 2001-10-19 | 情報処理装置及びその方法、コンピュータ可読メモリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003133193A JP2003133193A (ja) | 2003-05-09 |
JP2003133193A5 true JP2003133193A5 (ja) | 2005-06-30 |
Family
ID=19139606
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001322580A Pending JP2003133193A (ja) | 2001-10-19 | 2001-10-19 | 情報処理装置及びその方法、コンピュータ可読メモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003133193A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10946411B2 (en) * | 2018-01-15 | 2021-03-16 | Tokyo Electron Limited | System and method for fluid dispense and coverage control |
-
2001
- 2001-10-19 JP JP2001322580A patent/JP2003133193A/ja active Pending
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