JP2003131049A - 光導波路型回折格子素子製造方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 屈折率変調の振幅分布が一定でない場合にも
容易に光導波路型回折格子素子を製造することができる
光導波路型回折格子素子製造方法等を提供する。 【解決手段】 光源３２１から出力された屈折率変化誘
起光ＵＶは、位相格子マスク２００を介して光ファイバ
１１０へ照射される。光ファイバ１１０と位相格子マス
ク１１０との相対的位置関係に関して２つの状態（第１
状態、第２状態）それぞれが設定される。第１状態に対
して第２状態では、屈折率変調による回折格子の半周期
（Λ／２）だけｚ方向に相対的にずれて位相格子マスク
２００が配置される。第１状態では、屈折率変化誘起光
ＵＶの照射位置は、ｚ方向に沿って屈折率変調形成範囲
に亘って第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)で走査される。第２
状態では、屈折率変化誘起光ＵＶの照射位置は、ｚ方向
に沿って屈折率変調形成範囲に亘って第２照射時間分布
Ｔ₂(ｚ)で走査される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路の長手方
向に沿った所定範囲に亘って屈折率変調による回折格子
が形成された光導波路型回折格子素子を製造する方法お
よび装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光導波路型回折格子素子は、光導波路
（例えば光ファイバ）における長手方向に沿った所定範
囲に亘って屈折率変調による回折格子が形成されたもの
であって、この光導波路を導波する光のうち所定の反射
波長の光を回折格子により選択的に反射することができ
る。また、この光導波路型回折格子素子を含む合分波モ
ジュールは、光導波路型回折格子素子により反射波長の
光を選択的に反射することで光を合波または分波するこ
とができ、波長多重した多波長の信号光を用いて光伝送
を行う波長分割多重（ＷＤＭ: Wavelength Division Mu
ltiplexing）伝送システム等において用いられる。

【０００３】一般に、光導波路型回折格子素子は、光導
波路における長手方向に沿った所定範囲に亘って一定周
期Λの屈折率変調による回折格子が形成されていて、こ
の回折格子により、λ＝２ｎ₀Λ なる式で表されるブラ
ッグ条件式を満たす反射波長λの光を選択的に反射し、
他の波長の光を透過する。ここで、ｎ₀は光導波路の屈
折率変調領域における平均の実効屈折率である。

【０００４】このような光導波路型回折格子素子では、
屈折率変調領域において長手方向に沿った屈折率変調の
振幅分布は、一定であってもよいが、変化していてもよ
い。屈折率変調の振幅分布が長手方向に沿って変化して
いることで、光導波路型回折格子素子の反射特性の改善
が図られる。また、屈折率変調の振幅分布が位相反転部
を有するものとすることにより、更に光導波路型回折格
子素子の反射特性の改善が図られる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、屈折率
変調の振幅分布が位相反転部を有する光導波路型回折格
子素子は、これまで幾つかの文献で構造が提案され反射
特性のシミュレーション結果が示されているものの、製
造方法または製造装置については開示されていない。

【０００６】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、屈折率変調の振幅分布が一定でない場
合（更には、屈折率変調の振幅分布が位相反転部を有す
る場合）にも容易に光導波路型回折格子素子を製造する
ことができる光導波路型回折格子素子製造方法および装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光導波路型
回折格子素子製造方法は、光導波路の長手方向に沿った
所定範囲に亘って屈折率変調による回折格子が形成され
た光導波路型回折格子素子を製造する方法であって、
(1) 光導波路の側方に位相格子マスクが配置された第１
状態で、一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長手
方向に沿って所定範囲に亘って第１照射時間分布で走査
して、位相格子マスクを介して光導波路に屈折率変化誘
起光を照射する第１工程と、(2) 第１状態に対して回折
格子の半周期だけ長手方向に相対的にずれて位相格子マ
スクが配置された第２状態で、一定強度の屈折率変化誘
起光の照射位置を長手方向に沿って所定範囲に亘って第
２照射時間分布で走査して、位相格子マスクを介して光
導波路に屈折率変化誘起光を照射する第２工程と、を備
えることを特徴とする。そして、第１工程および第２工
程それぞれを１回または複数回繰り返して行って光導波
路型回折格子素子を製造することを特徴とする。

【０００８】本発明に係る光導波路型回折格子素子製造
装置は、光導波路の長手方向に沿った所定範囲に亘って
屈折率変調による回折格子が形成された光導波路型回折
格子素子を製造する装置であって、(1) 光導波路の側方
に配置された位相格子マスクを長手方向に沿って光導波
路に対して相対的に移動させる移動手段と、(2) 屈折率
変化誘起光の照射位置を長手方向に沿って所定範囲に亘
って走査して、位相格子マスクを介して光導波路に屈折
率変化誘起光を照射する照射手段と、(3) 移動手段およ
び照射手段それぞれを制御する制御手段と、を備えるこ
とを特徴とする。そして、制御手段は、(1) 光導波路の
側方に位相格子マスクを配置させた第１状態となるよう
移動手段を制御し、この第１状態で一定強度の屈折率変
化誘起光の照射位置を長手方向に沿って第１照射時間分
布で走査するよう照射手段を制御し、(2) 第１状態に対
して回折格子の半周期だけ長手方向に相対的にずれて位
相格子マスクを配置させた第２状態となるよう移動手段
を制御し、この第２状態で一定強度の屈折率変化誘起光
の照射位置を長手方向に沿って第２照射時間分布で走査
するよう照射手段を制御する、ことを特徴とする。

【０００９】この本発明に係る光導波路型回折格子素子
製造方法または装置によれば、光導波路（例えばコア領
域にＧｅＯ₂が添加された石英系の光ファイバ）の側方
に位相格子マスクが配置される。このとき、光導波路と
位相格子マスクとの相対的位置関係に関して第１状態お
よび第２状態それぞれが設定される。第１状態に対して
第２状態では、形成されるべき屈折率変調による回折格
子の半周期（Λ／２）だけ長手方向に相対的にずれて位
相格子マスクが配置される。第１状態では、一定強度の
屈折率変化誘起光の照射位置は、長手方向に沿って屈折
率変調形成範囲に亘って第１照射時間分布で走査され
る。第２状態では、一定強度の屈折率変化誘起光の照射
位置は、長手方向に沿って屈折率変調形成範囲に亘って
第２照射時間分布で走査される。第１照射時間分布と第
２照射時間分布とは互いに異なる。第１状態および第２
状態それぞれで位相格子マスクを介して光導波路に屈折
率変化誘起光が照射されることにより、第１照射時間分
布と第２照射時間分布との差に比例した屈折率変調振幅
分布を有する光導波路型回折格子素子が製造される。

【００１０】本発明に係る光導波路型回折格子素子製造
方法または装置では、第１照射時間分布と第２照射時間
分布との和が長手方向に沿って一定であるのが好適であ
る。この場合には、光導波路型回折格子素子の屈折率変
調形成範囲における平均の実効屈折率は、長手方向の位
置に依らず一定値となる。

【００１１】本発明に係る光導波路型回折格子素子は、
上記の本発明に係る光導波路型回折格子素子製造方法に
より製造されたことを特徴とする。この光導波路型回折
格子素子は、長手方向に沿って屈折率変調の振幅分布が
適切に設計されたものであり、例えば、屈折率変調の振
幅分布が位相反転部を有する。これにより、この光導波
路型回折格子素子は、例えば、多波長の光を選択的に反
射することができ、或いは、波長分散が抑制されたもの
となる。

【００１２】本発明に係る合分波モジュールは、上記の
本発明に係る光導波路型回折格子素子を含み、この光導
波路型回折格子素子により反射波長の光を選択的に反射
して、光を合波または分波することを特徴とする。本発
明に係る光伝送システムは、波長多重した多波長の信号
光を用いて光伝送を行う光伝送システムであって、上記
の本発明に係る合分波モジュールを含み、この合分波モ
ジュールにより多波長の信号光を合波または分波するこ
とを特徴とする。

【００１３】また、本発明に係る分散調整モジュール
は、上記の本発明に係る光導波路型回折格子素子を含
み、この光導波路型回折格子素子により反射された光の
波長分散を調整することを特徴とする。本発明に係る光
伝送システムは、波長多重した多波長の信号光を用いて
光伝送を行う光伝送システムであって、上記の本発明に
係る分散調整モジュールを含み、この分散調整モジュー
ルにより多波長の信号光の波長分散を調整することを特
徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明にお
いて同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を
省略する。

【００１５】先ず、本発明に係る光導波路型回折格子素
子の実施形態について説明する。図１は、本実施形態に
係る光導波路型回折格子素子１００の構成図である。こ
の図は、光軸を含む面で切断したときの光導波路型回折
格子素子１００の断面図を示している。この光導波路型
回折格子素子１００は、光導波路である光ファイバ１１
０に回折格子１１３が形成されたものである。光ファイ
バ１１０は、石英ガラスを主成分とするものであって、
光軸中心を含むコア領域１１１にＧｅＯ₂が添加されて
おり、このコア領域１１１を取り囲んでクラッド領域１
１２が設けられている。この光ファイバ１１０における
長手方向に沿った所定範囲（以下「屈折率変調形成範
囲」という。）に亘って屈折率変調による回折格子１１
３が形成されている。

【００１６】光ファイバ１１０の長手方向に沿ってｚ軸
を設定し、そのｚ軸の原点を屈折率変調形成範囲の中心
位置とする。屈折率変調形成範囲において形成された屈
折率変調の格子間隔は一定値Λであり、屈折率変調形成
範囲において、回折格子１１３の屈折率分布ｎ(ｚ)は、

【数１】 なる式で表される。ここで、ｎ₀は、屈折率変調形成範
囲における光ファイバ１１０の平均実効屈折率である。
また、Ｆ(ｚ)は、屈折率変調形成範囲における屈折率変
調の振幅分布であり、例えば sinc関数やcos関数などで
ある。

【００１７】図２は、本実施形態に係る光導波路型回折
格子素子１００の長手方向に沿った屈折率分布の説明図
である。この図に示されるように、光導波路型回折格子
素子１００の屈折率変調形成範囲における長手方向に沿
った屈折率変調は一定周期である。しかし、その屈折率
変調振幅分布Ｆ(ｚ)は、長手方向に沿って一様ではなく
変化しており、或る位置を境に符号（すなわち位相）が
反転している。屈折率変調振幅の符号が反転する位置が
位相反転部である。

【００１８】この光導波路型回折格子素子１００は、回
折格子１１３により、反射波長λ（＝２ｎ₀Λ）の光を
選択的に反射することができる。また、屈折率変調振幅
分布Ｆ(ｚ)を最適化することにより、この光導波路型回
折格子素子１００は、波長分散が抑制されたものであっ
たり、波長分散が一定であったり、或いは、複数の波長
の信号光を選択的に反射したりすることができる。

【００１９】次に、本発明に係る光導波路型回折格子素
子製造装置の実施形態について説明する。図３は、本実
施形態に係る光導波路型回折格子素子製造装置３００の
構成図である。この光導波路型回折格子素子製造装置３
００は、上述した光導波路型回折格子素子１００を製造
する際に位相格子マスク２００とともに好適に用いられ
るものである。

【００２０】この光導波路型回折格子素子製造装置３０
０は、固定部材３１０、光源３２１、シャッタ３２２、
光学系３２３、ミラー３２４、圧電素子３３０および制
御部３４０を備えている。これらのうち、光源３２１、
シャッタ３２２、光学系３２３およびミラー３２４は、
位相格子マスク２００を介して光ファイバ１１０に屈折
率変化誘起光を照射する照射手段を構成している。ま
た、圧電素子３３０は、光ファイバ１１０の側方に配置
された位相格子マスク２００をｚ軸方向に光ファイバ１
１０に対して相対的に移動させる移動手段を構成してい
る。

【００２１】光源３２１は、光ファイバ１１０のコア領
域１１１の屈折率変化を誘起せしめる波長の一定強度の
屈折率変化誘起光ＵＶを出力する。この光源３２１とし
て、例えば、波長２４８ｎｍのレーザ光を屈折率変化誘
起光ＵＶとして出力するＫｒＦエキシマレーザ光源や、
波長４８８ｎｍのレーザ光の第２高調波光（波長２４４
ｎｍ）を出力するＡｒレーザ光源が用いられ、その他、
ＹＡＧレーザ光源や銅蒸気レーザ光源などが好適に用い
られる。シャッタ３２２は、光源３２１とミラー３２４
との間に設けられ、光源３２１から出力された屈折率変
化誘起光ＵＶの通過／遮断の制御を行う。このシャッタ
３２２として音響光学素子が好適に用いられ、この場合
には、屈折率変化誘起光ＵＶの通過／遮断の制御が高速
に行われる。

【００２２】光学系３２３は、シャッタ３２２とミラー
３２４との間に設けられ、光ファイバ１１０への屈折率
変化誘起光ＵＶの照射の際に屈折率変化誘起光ＵＶのｚ
軸方向の光束幅を所定値（好適には５００μｍ以下、更
に好適には１００μｍ以下）とする為のものである。こ
の光学系３２３として、集光レンズが好適に用いられ、
或いは、所定の開口幅を有する開口も好適に用いられ
る。光学系３２３として集光レンズが用いられる場合に
は、屈折率変化誘起光ＵＶのエネルギが有効に利用され
るので、回折格子の作成効率が優れる。また、光学系３
２３として開口が用いられる場合には、光ファイバ１１
０が被る機械的ダメージが低減される。

【００２３】ミラー３２４は、ｚ軸方向に対して４５度
だけ傾斜した反射面を有していて、光学系３２３を経て
ｚ軸方向に進んできた屈折率変化誘起光ＵＶを、ｚ軸に
垂直な方向に反射させる。そして、ミラー３２４は、そ
の反射させた屈折率変化誘起光ＵＶを、位相格子マスク
２００を介して光ファイバ１１０に照射する。また、こ
のミラー３２４は、ｚ軸方向に移動自在に固定部材３１
０に固定されている。固定部材３１０に対してミラー３
２４が移動することにより、屈折率変化誘起光ＵＶの照
射位置は長手方向に沿って屈折率変調形成範囲に亘って
走査される。この移動機構としては、ピッチングが小さ
いエアスライダや、絶対位置精度が高いリニアモータを
用いたものが好適である。

【００２４】位相格子マスク２００は、石英ガラス平板
の一方の面に格子間隔２Λの位相格子が形成されたもの
であり、その位相格子が形成された面が光ファイバ１１
０に対向して配置される。この位相格子マスク２００の
格子間隔は、光ファイバ１１０に形成されるべき回折格
子１１３の格子間隔Λの２倍とされる。また、この位相
格子マスク２００は、圧電素子３３０を介して固定部材
３１０と固定されており、圧電素子３３０の作用により
ｚ軸方向に移動可能である。

【００２５】制御部３４０は、固定部材３１０に対して
ミラー３２４をｚ軸方向に移動させる。これにより、制
御部３４０は、光ファイバ１１０への屈折率変化誘起光
ＵＶの照射位置を、光ファイバ１１０の所定範囲（屈折
率変調形成範囲）に亘って走査する。このとき、制御部
３４０は、屈折率変化誘起光ＵＶの照射位置を所定の速
度分布で走査する。また、制御部３４０は、圧電素子３
３０を制御して、位相格子マスク２００をｚ軸方向に光
ファイバ１１０に対して相対的に移動させる。この移動
距離は、光ファイバ１１０に形成されるべき回折格子１
１３の格子間隔Λの１／２で充分である。

【００２６】次に、本実施形態に係る光導波路型回折格
子素子製造装置１の動作について説明するとともに、本
実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造方法につい
て説明する。この光導波路型回折格子素子製造装置１
は、制御部３４０による制御の下に以下のように動作す
る。

【００２７】光源３２１から出力された一定強度の屈折
率変化誘起光ＵＶは、シャッタ３２２および光学系３２
３を経てミラー３２４に入射し、このミラー３２４によ
り反射されて、位相格子マスク２００を介して光ファイ
バ１１０へ照射される。このとき、格子間隔２Λの位相
格子マスク２００の回折作用により＋１次回折光と−１
次回折光とが発生し、これら２つの回折光が干渉するこ
とにより縞間隔Λの干渉縞が生じる。また、ミラー３２
４がｚ軸方向に所定範囲に亘って移動することにより、
位相格子マスク２００を介した光ファイバ１１０への屈
折率変化誘起光ＵＶの照射位置が走査される。そして、
光ファイバ１１０のコア領域１１１には、この干渉縞に
おける光エネルギの空間的な分布に応じて格子間隔Λの
屈折率変調が形成されて、回折格子１１３が形成され
る。

【００２８】このような屈折率変化誘起光ＵＶの照射に
際して、光ファイバ１１０と位相格子マスク１１０との
相対的位置関係に関して２つの状態（第１状態、第２状
態）それぞれが設定される。第１状態に対して第２状態
では、屈折率変調による回折格子の半周期（Λ／２）だ
けｚ方向に相対的にずれて位相格子マスク２００が配置
される。第１状態では、屈折率変化誘起光ＵＶの照射位
置は、ｚ方向に沿って屈折率変調形成範囲に亘って第１
照射時間分布Ｔ₁(ｚ)で走査される（この工程を「第１
工程」と呼ぶ。）。第２状態では、屈折率変化誘起光Ｕ
Ｖの照射位置は、ｚ方向に沿って屈折率変調形成範囲に
亘って第２照射時間分布Ｔ₂(ｚ)で走査される（この工
程を「第２工程」と呼ぶ。）。

【００２９】なお、各照射時間分布は、各位置ｚに屈折
率変化誘起光ＵＶが照射される時間の分布を表してお
り、走査速度分布の逆数に比例する。すなわち、第１工
程における第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)と第１走査速度分
布Ｖ₁(ｚ)との間、および、第２工程における第２照射
時間分布Ｔ₂(ｚ)と第２走査速度分布Ｖ₂(ｚ)との間それ
ぞれには、

【数２】 なる関係式が成り立つ。ここで、Δｚは、ｚ軸方向につ
いての屈折率変化誘起光ＵＶの光束幅である。

【００３０】したがって、第１工程により形成される屈
折率変調成分Δｎ₁(ｚ)は、

【数３】 なる式で表される。一方、第２工程により形成される屈
折率変調成分Δｎ₂(ｚ)は、

【数４】 なる式で表される。

【００３１】そして、第１工程および第２工程の双方に
より形成される屈折率変調Δｎ_all(ｚ)は、上記(3)式と
上記(4)式との和で表され、

【数５】 なる式で表される。また、この(5)式と前述の(1)式とを
比較して判るように、屈折率変調振幅分布Ｆ(ｚ)は、

【数６】 なる式で表される。

【００３２】この(6)式から判るように、第１照射時間
分布Ｔ₁(ｚ)および第２照射時間分布Ｔ₂(ｚ)それぞれが
適切に設定されることにより、所望の屈折率変調振幅分
布Ｆ(ｚ)（すなわち、所望の反射特性）を有する光導波
路型回折格子素子１００が製造される。また、Ｔ₁(ｚ)
とＴ₂(ｚ)との大小関係を或る位置ｚ₀を境に反転させる
ことで、屈折率変調振幅分布Ｆ(ｚ)は、その位置ｚ₀を
境に符号（すなわち位相）が反転する。その位置ｚ₀が
位相反転部となる。

【００３３】また、第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)と第２照
射時間分布Ｔ₂(ｚ)との和は、位置ｚに依らず一定値Ｔ₀
であるのが好適である。このとき、

【数７】 なる式で表される。このようにすることで、屈折率変調
形成範囲における平均の実効屈折率ｎ₀は、位置ｚに依
らず一定値となる。

【００３４】第１工程は複数回繰り返されてもよく、第
２工程も複数回繰り返されてもよい。第１工程が複数回
繰り返された場合には全ての第１工程の第１照射時間分
布の和が上記Ｔ₁(ｚ)であり、第２工程が複数回繰り返
された場合には全ての第２工程の第２照射時間分布の和
が上記Ｔ₂(ｚ)である。所望の反射特性を有する光導波
路型回折格子素子１００が得られるまで、第１工程と第
２工程とが交互に行われることが好ましい。

【００３５】なお、屈折率変化誘起光ＵＶが光ファイバ
１１０に照射されて屈折率変化が誘起されると、これに
より、光ファイバ１１０内の水素が消費されて、その後
の屈折率変化誘起光ＵＶ照射に対する屈折率変化の効率
が低下する場合がある。このような場合には、初めに第
１工程を１回または複数回繰り返して行った後に、第２
工程を複数回繰り返して行うようにするのが好適であ
る。

【００３６】次に、図２に示された屈折率分布を有する
光導波路型回折格子素子１００を製造する場合につい
て、図４〜図７を用いて更に説明する。図４は、本実施
形態に係る光導波路型回折格子素子製造方法における各
工程の走査速度分布を示す図である。図５は、本実施形
態に係る光導波路型回折格子素子製造方法における各工
程の照射時間分布を示す図である。図６は、本実施形態
に係る光導波路型回折格子素子製造方法における各工程
の照射時間の和および差それぞれを示す図である。図７
は、本実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造方法
による屈折率変調を示す図である。図７（ａ）は第１工
程により形成される屈折率変調成分Δｎ₁(ｚ)を示し、
同図（ｂ）は第２工程により形成される屈折率変調成分
Δｎ₂(ｚ)を示し、同図（ｃ）は第１工程および第２工
程の双方により形成される屈折率変調Δｎ_all(ｚ)を示
す。

【００３７】図４に示された走査速度分布Ｖ₁(ｚ)，Ｖ₂
(ｚ)と、図５に示された照射時間分布Ｔ₁(ｚ)，Ｔ₂(ｚ)
との間には、上記(2)式の関係がある。図６に示される
ように、第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)と第２照射時間分布
Ｔ₂(ｚ)との和（Ｔ₁(ｚ)＋Ｔ₂(ｚ)）は一定値Ｔ₀とされ
（上記(7)式）、これにより、図２に示されたように屈
折率変調形成範囲における平均の実効屈折率ｎ₀は位置
ｚに依らず一定値となる。また、図６に示されるよう
に、第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)と第２照射時間分布Ｔ
₂(ｚ)との差（Ｔ₁(ｚ)−Ｔ₂(ｚ)）は、図２に示された
屈折率変調振幅分布Ｆ(ｚ)に比例するように設定される
（上記(6)式）。

【００３８】第１工程では、位相格子マスク２００を介
して光ファイバ１１０に照射される屈折率変化誘起光Ｕ
Ｖは、図５に示された第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)（図４
に示された第１走査速度分布Ｖ₁(ｚ)）でｚ軸方向に走
査される。これにより、図７（ａ）に示された屈折率変
調成分Δｎ₁(ｚ)が形成される。この第１工程により形
成される屈折率変調成分Δｎ₁(ｚ)の振幅分布は、第１
照射時間分布Ｔ₁(ｚ)に比例している（上記(3)式）。

【００３９】第２工程では、位相格子マスク２００を介
して光ファイバ１１０に照射される屈折率変化誘起光Ｕ
Ｖは、図５に示された第２照射時間分布Ｔ₂(ｚ)（図４
に示された第２走査速度分布Ｖ₂(ｚ)）でｚ軸方向に走
査される。これにより、図７（ｂ）に示された屈折率変
調成分Δｎ₂(ｚ)が形成される。この第２工程により形
成される屈折率変調成分Δｎ₂(ｚ)の振幅分布は、第２
照射時間分布Ｔ₂(ｚ)に比例している（上記(4)式）。

【００４０】第１工程と第２工程とでは、位相格子マス
ク２００の配置位置が半周期（Λ／２）だけｚ方向に相
対的にずれているので、図７（ａ）と同図（ｂ）とを比
較して判るように、第１工程による屈折率変調成分Δｎ
₁(ｚ)と第２工程による屈折率変調成分Δｎ₂(ｚ)とは、
位相が互いに反転している（上記(3)式および上記(4)
式）。その結果、同図（ｃ）に示されるように、第１工
程および第２工程の双方により形成される屈折率変調Δ
ｎ_all(ｚ)の振幅分布は、第１照射時間分布Ｔ₁(ｚ)と第
２照射時間分布Ｔ₂(ｚ)との差（Ｔ₁(ｚ)−Ｔ₂(ｚ)）に
比例したものとなり、図２に示された屈折率変調振幅分
布Ｆ(ｚ)に比例したものとなる。

【００４１】したがって、所望の屈折率変調振幅分布Ｆ
(ｚ)が得られまで第１工程および第２工程それぞれを交
互に繰り返して行うことにより、所望の光学特性を有す
る光導波路型回折格子素子１００を製造することができ
る。

【００４２】次に、本発明に係る合分波モジュールの実
施形態について説明する。以下に説明する各実施形態に
係る合分波モジュールに含まれる光導波路型回折格子素
子は、上記の実施形態に係る光導波路型回折格子素子１
００であって、位相反転部を有するものであり、多波長
の光を選択的に反射することができるものである。以下
では、この光導波路型回折格子素子１００が波長λ_2mの
光を反射する一方で波長λ_2m+1の光を透過するものとし
て説明する。ただし、ｍは１以上Ｍ以下の整数であり、
Ｍは２以上の整数であり、各波長は

【数８】 なる関係式を満たすものとする。

【００４３】図８は、第１の実施形態に係る合分波モジ
ュール１０の構成図である。この合分波モジュール１０
は、光導波路型回折格子素子１００の一端に光サーキュ
レータ１２０が接続され、光導波路型回折格子素子１０
０の他端に光サーキュレータ１３０が接続されて構成さ
れている。光サーキュレータ１２０は、第１端子１２
１、第２端子１２２および第３端子１２３を有してお
り、第１端子１２１に入力した光を第２端子１２２より
光導波路型回折格子素子１００へ出力し、第２端子１２
２に入力した光を第３端子１２３より出力する。また、
光サーキュレータ１３０は、第１端子１３１、第２端子
１３２および第３端子１３３を有しており、第１端子１
３１に入力した光を第２端子１３２より光導波路型回折
格子素子１００へ出力し、第２端子１３２に入力した光
を第３端子１３３より出力する。

【００４４】この合分波モジュール１０では、光サーキ
ュレータ１２０の第１端子１２１に波長λ_2m+1の光が入
力すると、これらの光は、光サーキュレータ１２０の第
２端子１２２より光導波路型回折格子素子１００へ出力
され、光導波路型回折格子素子１００を透過して、光サ
ーキュレータ１３０の第２端子１３２に入力し、光サー
キュレータ１３０の第３端子１３３より出力される。ま
た、光サーキュレータ１３０の第１端子１３１に波長λ
_2mの光が入力すると、これらの光は、光サーキュレータ
１３０の第２端子１３２より光導波路型回折格子素子１
００へ出力され、光導波路型回折格子素子１００で反射
されて、光サーキュレータ１３０の第２端子１３２に入
力し、光サーキュレータ１３０の第３端子１３３より出
力される。すなわち、この場合には、この合分波モジュ
ール１０は、合波器として動作し、光サーキュレータ１
２０の第１端子１２１に入力した波長λ_2m+1の光と、光
サーキュレータ１３０の第１端子１３１に入力した波長
λ_2mの光とを合波して、その合波した波長λ₁〜λ_2Mの
光を光サーキュレータ１３０の第３端子１３３より出力
する。なお、合分波モジュール１０が合波器としてのみ
用いられる場合には光サーキュレータ１２０は不要であ
る。

【００４５】また、この合分波モジュール１０では、光
サーキュレータ１２０の第１端子１２１に波長λ₁〜λ
_2Mの光が入力すると、これらの光は、光サーキュレータ
１２０の第２端子１２２より光導波路型回折格子素子１
００へ出力される。そして、これらの光のうち、波長λ
_2mの光は、光導波路型回折格子素子１００で反射され
て、光サーキュレータ１２０の第２端子１２２に入力
し、光サーキュレータ１２０の第３端子１２３より出力
される。一方、波長λ_2m+1の光は、光導波路型回折格子
素子１００を透過して、光サーキュレータ１３０の第２
端子１３２に入力し、光サーキュレータ１３０の第３端
子１３３より出力される。すなわち、この場合には、こ
の合分波モジュール１０は、分波器として動作し、光サ
ーキュレータ１２０の第１端子１２１に入力した波長λ
₁〜λ_2Mを分波して、波長λ_2mの光を光サーキュレータ
１２０の第３端子１２３より出力し、波長λ_2m+1の光を
光サーキュレータ１３０の第３端子１３３より出力す
る。なお、合分波モジュール１０が分波器としてのみ用
いられる場合には光サーキュレータ１３０は不要であ
る。

【００４６】さらに、この合分波モジュール１０は、合
波器として動作するとともに、分波器としても動作する
ことにより、光ＡＤＭ（Add-Drop Multiplexer）として
も動作する。すなわち、この合分波モジュール１０は、
光サーキュレータ１２０の第１端子１２１に入力した波
長λ₁〜λ_2Mのうち波長λ_2mの光を光サーキュレータ１
２０の第３端子１２３より出力（Drop）するとともに、
他の情報を担う波長λ _2mの光を光サーキュレータ１３０
の第１端子１３１より入力（Add）する。そして、光サ
ーキュレータ１２０の第１端子１２１に入力した波長λ
₁〜λ_2Mのうちの波長λ_2m+1の光と、光サーキュレータ
１３０の第１端子１３１に入力した波長λ_2mの光とを合
波して、その合波した波長λ₁〜λ_2Mの光を光サーキュ
レータ１３０の第３端子１３３より出力する。

【００４７】図９は、第２の実施形態に係る合分波モジ
ュール２０の構成図である。この合分波モジュール２０
は、光ファイバ１１０Ａと光ファイバ１１０Ｂとが光カ
プラ１１４Ａおよび１１４Ｂそれぞれを介して光結合さ
れていて、光カプラ１１４Ａと光カプラ１１４Ｂとの間
の光ファイバ１１０Ａの所定範囲に回折格子１１３Ａが
形成されて光導波路型回折格子素子１００Ａとされてお
り、また、光カプラ１１４Ａと光カプラ１１４Ｂとの間
の光ファイバ１１０Ｂの所定範囲に回折格子１１３Ｂが
形成されて光導波路型回折格子素子１００Ｂとされてい
る。これら光導波路型回折格子素子１００Ａおよび１０
０Ｂそれぞれは、既述した光導波路型回折格子素子１０
０と同等のものである。

【００４８】この合分波モジュール２０では、光ファイ
バ１１０Ａの第１端１１５Ａに波長λ_2m+1の光が入力す
ると、これらの光は、光カプラ１１４Ａにより分岐さ
れ、光導波路型回折格子素子１００Ａ，１１０Ｂを透過
して、光カプラ１１４Ｂにより合波され、光ファイバ１
１０Ａの第２端１１６Ａより出力される。また、光ファ
イバ１１０Ｂの第２端１１６Ｂに波長λ_2mの光が入力す
ると、これらの光は、光カプラ１１４Ｂにより分岐さ
れ、光導波路型回折格子素子１００Ａ，１１０Ｂで反射
されて、光カプラ１１４Ｂにより合波され、光ファイバ
１１０Ａの第２端１１６Ａより出力される。すなわち、
この場合には、この合分波モジュール２０は、合波器と
して動作し、光ファイバ１１０Ａの第１端１１５Ａに入
力した波長λ _2m+1の光と、光ファイバ１１０Ｂの第２端
１１６Ｂに入力した波長λ_2mの光とを合波して、その合
波した波長λ₁〜λ_2Mの光を光ファイバ１１０Ａの第２
端１１６Ａより出力する。

【００４９】また、この合分波モジュール２０では、光
ファイバ１１０Ａの第１端１１５Ａに波長λ₁〜λ_2Mの
光が入力すると、これらの光は、光カプラ１１４Ａによ
り分岐され光導波路型回折格子素子１００Ａ，１１０Ｂ
へ出力される。そして、これらの光のうち、波長λ_2mの
光は、光導波路型回折格子素子１００Ａ，１１０Ｂで反
射されて、光カプラ１１４Ａにより合波され、光ファイ
バ１１０Ｂの第１端１１５Ｂより出力される。一方、波
長λ_2m+1の光は、光導波路型回折格子素子１００Ａ，１
１０Ｂを透過して、光カプラ１１４Ｂにより合波され、
光ファイバ１１０Ａの第２端１１６Ａより出力される。
すなわち、この場合には、この合分波モジュール２０
は、分波器として動作し、光ファイバ１１０Ａの第１端
１１５Ａに入力した波長λ₁〜λ_2Mを分波して、波長λ
_2mの光を光ファイバ１１０Ｂの第１端１１５Ｂより出力
し、波長λ_2m+1の光を光ファイバ１１０Ａの第２端１１
６Ａより出力する。

【００５０】さらに、この合分波モジュール２０は、合
波器として動作するとともに、分波器としても動作する
ことにより、光ＡＤＭとしても動作する。すなわち、こ
の合分波モジュール２０は、光ファイバ１１０Ａの第１
端１１５Ａに入力した波長λ ₁〜λ_2Mのうち波長λ_2mの
光を光ファイバ１１０Ｂの第１端１１５Ｂより出力（Dr
op）するとともに、他の情報を担う波長λ_2mの光を光フ
ァイバ１１０Ｂの第２端１１６Ｂより入力（Add）す
る。そして、光ファイバ１１０Ａの第１端１１５Ａに入
力した波長λ₁〜λ_2Mのうちの波長λ_2m+1の光と、光フ
ァイバ１１０Ｂの第２端１１６Ｂに入力した波長λ_2mの
光とを合波して、その合波した波長λ₁〜λ_2Mの光を光
ファイバ１１０Ａの第２端１１６Ａより出力する。

【００５１】図１０は、第３の実施形態に係る合分波モ
ジュール３０の構成図である。この合分波モジュール３
０は、光ファイバ１１０Ｃと光ファイバ１１０Ｄとが光
カプラ１１４Ｃを介して光結合されていて、その光カプ
ラ１１４Ｃにおける光ファイバ１１０Ｃと光ファイバ１
１０Ｄとの融着部の所定範囲に回折格子１１３Ｃが形成
されて光導波路型回折格子素子１００Ｃとされている。
この光導波路型回折格子素子１００Ｃは、既述した光導
波路型回折格子素子１００と同等のものである。ただ
し、回折格子１１３Ｃは、光ファイバ１１０Ｃのコア領
域および光ファイバ１１０Ｄのコア領域の双方に形成さ
れている。

【００５２】この合分波モジュール３０では、光ファイ
バ１１０Ｃの第１端１１５Ｃに波長λ_2m+1の光が入力す
ると、これらの光は、光導波路型回折格子素子１００Ｃ
を透過して、光ファイバ１１０Ｃの第２端１１６Ｃより
出力される。また、光ファイバ１１０Ｄの第２端１１６
Ｄに波長λ_2mの光が入力すると、これらの光は、光導波
路型回折格子素子１００Ｃで反射されて、光ファイバ１
１０Ｃの第２端１１６Ｃより出力される。すなわち、こ
の場合には、この合分波モジュール３０は、合波器とし
て動作し、光ファイバ１１０Ｃの第１端１１５Ｃに入力
した波長λ_2m+1の光と、光ファイバ１１０Ｄの第２端１
１６Ｄに入力した波長λ_2mの光とを合波して、その合波
した波長λ₁〜λ_2Mの光を光ファイバ１１０Ｃの第２端
１１６Ｃより出力する。

【００５３】また、この合分波モジュール３０では、光
ファイバ１１０Ｃの第１端１１５Ｃに波長λ₁〜λ_2Mの
光が入力すると、これらの光は光導波路型回折格子素子
１００Ｃに到達する。そして、これらの光のうち、波長
λ_2mの光は、光導波路型回折格子素子１００Ｃで反射さ
れて、光ファイバ１１０Ｄの第１端１１５Ｄより出力さ
れる。一方、波長λ_2m+1の光は、光導波路型回折格子素
子１００Ｃを透過して、光ファイバ１１０Ｃの第２端１
１６Ｃより出力される。すなわち、この場合には、この
合分波モジュール３０は、分波器として動作し、光ファ
イバ１１０Ｃの第１端１１５Ｃに入力した波長λ₁〜λ
_2Mを分波して、波長λ_2mの光を光ファイバ１１０Ｄの第
１端１１５Ｄより出力し、波長λ_2m+1の光を光ファイバ
１１０Ｃの第２端１１６Ｃより出力する。

【００５４】さらに、この合分波モジュール３０は、合
波器として動作するとともに、分波器としても動作する
ことにより、光ＡＤＭとしても動作する。すなわち、こ
の合分波モジュール３０は、光ファイバ１１０Ｃの第１
端１１５Ｃに入力した波長λ ₁〜λ_2Mのうち波長λ_2mの
光を光ファイバ１１０Ｄの第１端１１５Ｄより出力（Dr
op）するとともに、他の情報を担う波長λ_2mの光を光フ
ァイバ１１０Ｄの第２端１１６Ｄより入力（Add）す
る。そして、光ファイバ１１０Ｃの第１端１１５Ｃに入
力した波長λ₁〜λ_2Mのうちの波長λ_2m+1の光と、光フ
ァイバ１１０Ｄの第２端１１６Ｄに入力した波長λ_2mの
光とを合波して、その合波した波長λ₁〜λ_2Mの光を光
ファイバ１１０Ｃの第２端１１６Ｃより出力する。

【００５５】以上の合分波モジュール１０，２０および
３０それぞれに含まれる光導波路型回折格子素子は、既
述した本実施形態に係る光導波路型回折格子素子１００
であって、位相反転部を有しており、反射特性が優れ
る。光導波路型回折格子素子１００において、反射波長
帯域内における透過率が小さく、且つ、反射波長帯域外
における反射率が小さいことから、合分波モジュール１
０，２０および３０の何れも、反射波長λ_2mと透過波長
λ_2m+1との差が小さい場合であっても、クロストークが
生じ難く、受信エラー発生率が低く、また、反射波長λ
_2mの光のパワーロスが小さい。

【００５６】次に、本発明に係る分散調整モジュールの
実施形態について説明する。以下に説明する本実施形態
に係る分散調整モジュールに含まれる光導波路型回折格
子素子は、上記の実施形態に係る光導波路型回折格子素
子１００であって、反射した光の波長分散を調整するこ
とができるものである。

【００５７】図１１は、本実施形態に係る分散調整モジ
ュール４０の構成図である。この分散調整モジュール４
０は、光導波路型回折格子素子１００の一端に光サーキ
ュレータ１４０が接続されて構成されている。光サーキ
ュレータ１４０は、第１端子１４１、第２端子１４２お
よび第３端子１４３を有しており、第１端子１４１に入
力した光を第２端子１４２より光導波路型回折格子素子
１００へ出力し、第２端子１４２に入力した光を第３端
子１４３より出力する。

【００５８】この分散調整モジュール４０では、光サー
キュレータ１４０の第１端子１４１に光が入力すると、
この光は、光サーキュレータ１４０の第２端子１４２よ
り光導波路型回折格子素子１００へ出力され、光導波路
型回折格子素子１００で反射されて、光サーキュレータ
１４０の第２端子１４２に入力し、光サーキュレータ１
４０の第３端子１４３より出力される。光導波路型回折
格子素子１００で反射される際に光の波長分散が調整さ
れる。したがって、この分散調整モジュール４０は、例
えば光伝送システムにおいて、信号光を伝送する光ファ
イバ伝送路の波長分散を補償することができる。

【００５９】次に、本発明に係る光伝送システムの実施
形態について説明する。図１２は、本実施形態に係る光
伝送システム１の概略構成図である。この光伝送システ
ム１は、送信局２と中継局３との間が光ファイバ伝送路
５で接続され、中継局３と受信局４との間も光ファイバ
伝送路６で接続されている。また、中継局３に合分波モ
ジュール１０が設けられており、中継局４に分散調整モ
ジュール４０が設けられている。

【００６０】送信局２は、波長λ₁〜λ_2Mの信号光を波
長多重して光ファイバ伝送路５へ送出する。中継局３
は、光ファイバ伝送路５を伝搬してきた波長λ₁〜λ_2M
の信号光を入力し、これらを合分波モジュール１０によ
り分波して、波長λ_2m+1の信号光を光ファイバ伝送路６
へ送出し、波長λ_2mの信号光を他の光ファイバ伝送路へ
送出する。また、中継局３は、合分波モジュール１０に
より、他の光ファイバ伝送路を経て入力した波長λ_2mの
信号光を光ファイバ伝送路６へ送出する。受信局４は、
光ファイバ伝送路６を伝搬してきた波長λ₁〜λ_2Mの信
号光を入力し、分散調整モジュール４０により各波長の
信号光の波長分散を調整して、これらを各波長に分波し
て受信する。

【００６１】この光伝送システム１は、上記の本実施形
態に係る合分波モジュール１０を用いて、波長λ₁〜λ
_2Mの信号光を合波または分波するものである。したがっ
て、この合分波モジュール１０に含まれる光導波路型回
折格子素子１００において、反射波長λ_2mと透過波長λ
_2m+1との差が小さい場合であっても、クロストークが生
じ難く、受信エラー発生率が低く、また、反射波長λ_2m
の光のパワーロスが小さい。なお、合分波モジュール１
０に替えて合分波モジュール２０または３０を設けても
よい。

【００６２】また、この光伝送システム１は、上記の本
実施形態に係る分散調整モジュール４０を用いて、波長
λ₁〜λ_2Mの信号光の波長分散を調整するものである。
したがって、送信局２から受信局４へ到るまでの光ファ
イバ伝送路５および光ファイバ伝送路６の波長分散が分
散調整モジュール４０により補償されるので、累積波長
分散に因る信号光波形劣化が抑制されて、高品質の信号
光伝送が可能となる。

【００６３】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施
形態の光導波路型回折格子素子は、光導波路である光フ
ァイバに屈折率変調による回折格子が形成されたもので
あった。しかし、これに限られず、平面基板上に形成さ
れた光導波路に屈折率変調による回折格子が形成された
ものであってもよい。

【００６４】

【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
よれば、光導波路の側方に位相格子マスクが配置され
る。このとき、光導波路と位相格子マスクとの相対的位
置関係に関して第１状態および第２状態それぞれが設定
される。第１状態に対して第２状態では、形成されるべ
き屈折率変調による回折格子の半周期（Λ／２）だけ長
手方向に相対的にずれて位相格子マスクが配置される。
第１状態では、屈折率変化誘起光の照射位置は、長手方
向に沿って屈折率変調形成範囲に亘って第１照射時間分
布で走査される。第２状態では、屈折率変化誘起光の照
射位置は、長手方向に沿って屈折率変調形成範囲に亘っ
て第２照射時間分布で走査される。第１照射時間分布と
第２照射時間分布とは互いに異なる。第１状態および第
２状態それぞれで位相格子マスクを介して光導波路に屈
折率変化誘起光が照射されることにより、第１照射時間
分布と第２照射時間分布との差に比例した屈折率変調振
幅分布を有する光導波路型回折格子素子が製造される。
このようにして製造される光導波路型回折格子素子は、
長手方向に沿って屈折率変調の振幅分布が適切に設計さ
れたものであり、例えば、屈折率変調の振幅分布が位相
反転部を有する。これにより、この光導波路型回折格子
素子は、例えば、多波長の光を選択的に反射することが
でき、或いは、波長分散が抑制されたものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子１０
０の構成図である。

【図２】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子１０
０の長手方向に沿った屈折率分布の説明図である。

【図３】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造
装置３００の構成図である。

【図４】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造
方法における各工程の走査速度分布を示す図である。

【図５】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造
方法における各工程の照射時間分布を示す図である。

【図６】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造
方法における各工程の照射時間の和および差それぞれを
示す図である。

【図７】本実施形態に係る光導波路型回折格子素子製造
方法による屈折率変調を示す図である。

【図８】第１の実施形態に係る合分波モジュール１０の
構成図である。

【図９】第２の実施形態に係る合分波モジュール２０の
構成図である。

【図１０】第３の実施形態に係る合分波モジュール３０
の構成図である。

【図１１】本実施形態に係る分散調整モジュール４０の
構成図である。

【図１２】本実施形態に係る光伝送システム１の概略構
成図である。

【符号の説明】

１…光伝送システム、２…送信局、３…中継局、４…受
信局、５，６…光ファイバ伝送路、１０，２０，３０…
合分波モジュール、４０…分散調整モジュール、１００
…光導波路型回折格子素子、１１０…光ファイバ（光導
波路）、１１１…コア領域、１１２…クラッド領域、１
１３…回折格子、１２０，１３０，１４０…光サーキュ
レータ、２００…位相格子マスク、３００…光導波路型
回折格子素子製造装置、３１０…固定部材、３２１…光
源、３２２…シャッタ、３２３…光学系、３２４…ミラ
ー、３３０…圧電素子、３４０…制御部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 6/293 Ｇ０２Ｂ 6/28 Ｄ Ｆターム(参考） 2H047 LA02 LA19 PA30 2H049 AA02 AA06 AA33 AA45 AA51 AA59 AA62 2H050 AC82 AC84 AD00

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光導波路の長手方向に沿った所定範囲に
   亘って屈折率変調による回折格子が形成された光導波路
   型回折格子素子を製造する方法であって、 前記光導波路の側方に位相格子マスクが配置された第１
   状態で、一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長手
   方向に沿って前記所定範囲に亘って第１照射時間分布で
   走査して、前記位相格子マスクを介して前記光導波路に
   屈折率変化誘起光を照射する第１工程と、 前記第１状態に対して前記回折格子の半周期だけ長手方
   向に相対的にずれて前記位相格子マスクが配置された第
   ２状態で、一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長
   手方向に沿って前記所定範囲に亘って第２照射時間分布
   で走査して、前記位相格子マスクを介して前記光導波路
   に屈折率変化誘起光を照射する第２工程と、 を備え、 前記第１工程および前記第２工程それぞれを１回または
   複数回繰り返して行って前記光導波路型回折格子素子を
   製造する、 ことを特徴とする光導波路型回折格子素子製造方法。
2. 【請求項２】 前記第１照射時間分布と前記第２照射時
   間分布との和が長手方向に沿って一定である、ことを特
   徴とする請求項１記載の光導波路型回折格子素子製造方
   法。
3. 【請求項３】 光導波路の長手方向に沿った所定範囲に
   亘って屈折率変調による回折格子が形成された光導波路
   型回折格子素子を製造する装置であって、 前記光導波路の側方に配置された位相格子マスクを長手
   方向に沿って前記光導波路に対して相対的に移動させる
   移動手段と、 屈折率変化誘起光の照射位置を長手方向に沿って前記所
   定範囲に亘って走査して、前記位相格子マスクを介して
   前記光導波路に屈折率変化誘起光を照射する照射手段
   と、 前記移動手段および前記照射手段それぞれを制御する制
   御手段と、 を備え、 前記制御手段は、 前記光導波路の側方に位相格子マスクを配置させた第１
   状態となるよう前記移動手段を制御し、この第１状態で
   一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長手方向に沿
   って第１照射時間分布で走査するよう前記照射手段を制
   御し、 前記第１状態に対して前記回折格子の半周期だけ長手方
   向に相対的にずれて前記位相格子マスクを配置させた第
   ２状態となるよう前記移動手段を制御し、この第２状態
   で一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長手方向に
   沿って第２照射時間分布で走査するよう前記照射手段を
   制御する、 ことを特徴とする光導波路型回折格子素子製造装置。
4. 【請求項４】 前記第１照射時間分布と前記第２照射時
   間分布との和が長手方向に沿って一定である、ことを特
   徴とする請求項３記載の光導波路型回折格子素子製造装
   置。
5. 【請求項５】 請求項１記載の光導波路型回折格子素子
   製造方法により製造されたことを特徴とする光導波路型
   回折格子素子。
6. 【請求項６】 請求項５記載の光導波路型回折格子素子
   を含み、この光導波路型回折格子素子により反射波長の
   光を選択的に反射して、光を合波または分波することを
   特徴とする合分波モジュール。
7. 【請求項７】 請求項５記載の光導波路型回折格子素子
   を含み、この光導波路型回折格子素子により反射された
   光の波長分散を調整することを特徴とする分散調整モジ
   ュール。
8. 【請求項８】 波長多重した多波長の信号光を用いて光
   伝送を行う光伝送システムであって、請求項６記載の合
   分波モジュールを含み、この合分波モジュールにより前
   記多波長の信号光を合波または分波することを特徴とす
   る光伝送システム。
9. 【請求項９】 波長多重した多波長の信号光を用いて光
   伝送を行う光伝送システムであって、請求項７記載の分
   散調整モジュールを含み、この分散調整モジュールによ
   り前記多波長の信号光の波長分散を調整することを特徴
   とする光伝送システム。