JP2003117008A - レーザを用いたトリートメン卜装置及びレーザを用いたトリートメン卜方法 - Google Patents
レーザを用いたトリートメン卜装置及びレーザを用いたトリートメン卜方法Info
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Abstract
域にレーザ光を照射できるレーザを用いたトリートメン
ト装置の提供を目的とする。 【解決手段】 集光レンズ3の光軸4上に配設されたレ
ーザ光2を光軸4から離す方向に反射する第1の反射体
5aと第1の反射体5aによって反射されるレーザ光2
を照射皮膚面7に反射するように配設された第2の反射
体5bとから構成された光路変換部5と、光路変換部5
を光軸4をほぼ中心として回転させる回転体20aと回
転体20aを回転させる駆動装置20cとから構成され
た光路回転駆動部20との構成により、集光レンズ3の
光軸4を中心とした照射皮膚面の広範囲の領域にレーザ
光2を照射することができる。
Description
して、脱毛、美顔、育毛などのトリートメントを行うレ
ーザを用いたトリートメント装置に関する。
メント装置では、その多くがレーザ光源として半導体レ
ーザを用いている。半導体レーザから出射されたレーザ
光は、指向性に劣り発散光であるため、エネルギ密度を
集中させるためにレンズで集光する必要がある。
1mm程度とかなり細くなる。そのため、1本の光束で
皮膚の広範囲にわたってまんべんなくレーザ光を照射し
ようとすると、光束のスポットサイズが小さいので手間
と時間がかかり、根気を要する面倒な作業になる。
や美肌トリートメントを行う際、毛穴や異常な色素細胞
以外にレーザ光を照射しても十分な効果が得られない。
従来のレーザを用いたトリートメント装置では、レーザ
光が可視光の範囲外又はその範囲付近のときや、レーザ
光の出力が小さいときに、照射皮膚面上のレーザ光の照
射領域を目視によって確認することができないため、毛
穴や異常な色素細胞の位置へ的確にレーザ光を照射する
ことが困難であった。
ザを用いたトリートメント装置において、レーザ光のス
ポットサイズを変えて照射皮膚面に照射する場合、例え
ば単位面積あたりのレーザ光の照射エネルギを変えずに
スポットサイズを拡大するときは、複数の半導体レーザ
を束ねて配設することが考えられる。また、スポットサ
イズを縮小し、レーザ光を集光するときは、集光レンズ
とレーザ光の照射皮膚面との間の距離を集光レンズの焦
点距離だけ集光レンズの光軸上にとらなければならな
い。しかし、これらは装置全体の大型化が避けられない
ので、現状求められているコンパクト化のニーズに反す
る。
ント装置では、レーザ光を目標の照射領域に的確にかつ
高頻度で照射することが困難で、毛穴や異常な色素細胞
以外の皮膚を傷めるという問題もある。
になされたもので、集光レンズを透過する単一のレーザ
光を集光レンズの光軸上に位置する第1の反射体を用い
て光軸から離し、第1の反射体によって反射されるレー
ザ光を第2の反射体を用いて集光レンズの光軸上又は集
光レンズの光軸近傍の所定の照射皮膚面へ照射すること
で装置の光軸方向へのコンパクト化ができ、第1の反射
体及び第2の反射体を集光レンズの光軸を中心に回転さ
せることでレーザ光を照射皮膚面上に走査し、従来のト
リートメント装置の照射皮膚面に照射されるレーザ光の
照射領域よりも広い照射領域を確保でき、さらにレーザ
光とは異なる波長の可視光を照射皮膚面上のレーザ光の
照射領域へ照射することによって、レーザ光の照射前に
レーザ光の照射領域を確認することが可能なレーザを用
いたトリートメント装置を提供することを目的とする。
するためになされたもので、第1の発明のレーザを用い
たトリートメン卜装置は、レーザ光源と、レーザ光源か
ら出射されるレーザ光の光束と同軸に配設された集光レ
ンズと、集光レンズの光軸上に配設されたレーザ光を光
軸から離す方向に反射する第1の反射体及び第1の反射
体によって反射されるレーザ光を照射皮膚面に反射する
ように配設された第2の反射体とから構成された光路変
換部と、光路変換部を光軸をほぼ中心として回転させる
回転体と回転体を回転させる駆動装置とから構成された
光路回転駆動部とから構成される。
から離す手段を備えた光路変換部によって、集光レンズ
の光軸方向に対する装置のコンパクト化が可能になる。
回転することにより、照射皮膚面上でレーザ光が走査さ
れ、レーザ光の照射領域を拡大することができる。この
照射領域の拡大によって、従来のレーザを用いたトリー
トメント装置を使用するときに発生していた、照射皮膚
面上の広域な領域にレーザ光を照射する際の手間と時間
の浪費を避けられる。
卜装置は、レーザ光とは異なる波長の可視光を、レーザ
光の照射皮膚面におけるレーザ光の照射領域を示すよう
に照射する照射領域表示手段を第1の発明のレーザを用
いたトリートメン卜装置に設けたものである。
長の可視光を照射する照射領域表示手段を設けたこと
で、照射皮膚面のレーザ光の照射領域をレーザ照射前に
確認でき、有効なトリートメント効果が得られ、かつ毛
穴や異常な色素細胞以外の皮膚を傷めることを抑制する
ことができる。
卜装置は、照射皮膚面上に照射されるレーザ光の照射領
域の外縁が集光レンズのほぼ光軸上になるように第2の
反射体の光束に対する角度を設定した第1及び第2の発
明のレーザを用いたトリートメント装置である。
レンズのほぼ光軸上になるように照射皮膚面上に照射さ
れたレーザ光を光路回転駆動部により回転し、照射皮膚
面上にレーザ光を走査することでレーザ光の照射領域を
拡大することができる。
する円の内部に斑無くレーザ光を照射できる。これによ
って、第1の発明と同様に、照射皮膚面上の広域な領域
にレーザ光を照射する際の手間と時間の浪費を避けるこ
とができる。
卜方法は、レーザ光源から出射されるレーザ光を所定の
照射皮膚面に照射するトリートメン卜の方法において、
集光レンズを透過するレーザ光の光束を集光レンズの光
軸上に位置する第1の反射体を用いて光軸から離すステ
ップと、第1の反射体によって反射されるレーザ光を第
2の反射体を用いて光軸上又は集光レンズの光軸近傍の
所定の照射皮膚面へ照射しつつ、第1の反射体及び第2
の反射体を集光レンズの光軸を中心に回転させるステッ
プとを有するものである。
から離す手段を備えた光路変換部によって、光軸方向の
装置のコンパクト化が可能になる。
皮膚面上に照射されるレーザ光の照射領域の拡大を図る
ことができ、従来のレーザを用いたトリートメント装置
を使用するときに発生していた手間と時間の浪費を避け
ることができる。
示した原理図を基に説明する。図1において、レーザを
用いたトリートメン卜装置の基本構造は、半導体レーザ
光源1と、半導体レーザ光源1から出射されるレーザ光
2の光束と同軸に配設された球レンズ3と、球レンズ3
の光軸4上に配設されたレーザ光2を光軸4から離す方
向に反射する第1の反射体5aと第1の反射体5aによ
って反射されるレーザ光2を照射皮膚面7に反射するよ
うに配設された第2の反射体5bとから構成された光路
変換部5と、第2の反射体5bで反射されたレーザ光2
を透過するガラス体8から構成されている。
用したレーザであり、GaAs(ガリウム・ヒ素)など
の化合物半導体を用いたPN接合ダイオードに直接電流
を流してレーザ発振を行う。半導体レーザの中には、波
長700〜900nm、光出力5〜1600mWのレー
ザ光を出力するものがあり、これは皮膚に十分な光熱反
応を起こす。
気反応、光力学反応、光化学反応、光免疫反応、光酵素
反応などを起こし、光生物学的活性化により生体組織の
新陳代謝を促して皮膚血行を高め、適正なエネルギ密度
で生体組織を損傷する作用はなく、皮膚に障害を起こす
危険性はない。
光2は、エネルギ密度を集中させるために球レンズ3で
集光され、第1の反射体5a及び第2の反射体5bによ
り反射され、球レンズ3の焦点10の位置においてビー
ムウェイストとなり、再び広がり、ガラス体8を透過
し、照射皮膚面7に照射される。
り短いので、焦点深度もわずかで狭い範囲に光のエネル
ギを絞り込むことができる。また、焦点10を過ぎた位
置からは、焦点10を基点に集光する光束の角度と同じ
角度で広がり、広い範囲に光のエネルギが分散する。こ
のため、焦点10を過ぎた位置ではエネルギ密度が小さ
くなるので、誤って照射しても皮膚を損傷する危険性は
少ない。
軸4と同軸になるように配設され、そのガラス体8のレ
ーザ光2を出射する側の面はレーザ光2が照射される照
射皮膚面7に接している。
から構成された光路変換部5は、球レンズ3の光軸4を
回転軸とし回転する。それによって照射皮膚面7に照射
されたレーザ光2が光軸4を中心に走査され、レーザ光
の照射皮膚面の照射領域が拡大される。
する。図2は第1の実施例のレーザを用いたトリートメ
ン卜装置の一部を断面にした概略図、図3及び図4は照
射皮膚面上のレーザ光の照射領域を示した図である。な
お、図1のレーザを用いたトリートメン卜装置の原理図
で説明した部分は以下の説明では簡単に説明するか又は
省略する。
たトリートメン卜装置は、半導体レーザ光源1と、半導
体レーザ光源1から出射されるレーザ光2の光束と同軸
に配設された球レンズ3と、球レンズ3の光軸4上に配
設されたレーザ光2を光軸4から離す方向に反射する第
1の反射体5aと第1の反射体5aによって反射される
レーザ光2を照射皮膚面7に反射するように配設された
第2の反射体5bとから構成された光路変換部5と、第
2の反射体5bで反射されたレーザ光2を透過するガラ
ス体8と、光路変換部5を光軸4をほぼ中心として回転
させる回転体20aと回転体20aを回転させる駆動装
置20cを有する光路回転駆動部20とから構成されて
いる。
は、それぞれを支持する部材を介して回転体20aに固
着されている。
転させる駆動装置20cに回転棒20dを介して固着さ
れた小歯車20eとかみ合う大歯車20bになってい
る。これらの歯車によって、駆動装置20cからの回転
を回転体20aに伝達できる。
回転体20aの回転によって、その回転体20aに固着
された第1の反射体5a及び第2の反射体5bから構成
された光路変換部5が回転する。それによって図3及び
図4に示した照射皮膚面7における単一のレーザ光2の
照射領域6が光軸4を中心に走査され、その単一のレー
ザ光の照射領域6がレーザ光の走査によるレーザ光の照
射領域9に拡大される。
をかみ合う一対の小歯車20eと大歯車20bによって
伝達するようにしているが、他には、摩擦による伝動、
チェーン伝動でもよい。
射領域6の長軸の一端が球レンズ3のほぼ光軸4上にな
るように照射皮膚面7にレーザ光2が照射されたときの
例を示す。このときのレーザ光の走査によるレーザ光の
照射領域9の外径は、ガラス体8の外径Dに等しい。
換部5とガラス体8の相対的な位置が近いとき又は球レ
ンズ3の焦点距離が長いときの照射皮膚面7に照射され
る単一のレーザ光の照射領域6a、6b、6cの例を示
す。これらの状況では、単一のレーザ光の照射領域6
a、6b、6cは図3に示したそれよりも狭くなり、ガ
ラス体8との相対位置も変わる。そこで、第2の反射体
の調整を行い、図4に示すような単一のレーザ光の照射
領域6a、6b、6cを設定した。
レーザ光の照射領域9aの外径Daがガラス体8の外径
Dに等しくなるように、単一のレーザ光の照射領域6a
を設定したときの照射皮膚面7の照射領域が示されてい
る。この図から明らかなように、このときのレーザ光の
走査によるレーザ光の照射領域9aには中央部にレーザ
光2が照射されない領域が存在する。
ザ光の照射領域6bの長軸の一端が球レンズ3のほぼ光
軸4上になるように照射皮膚面7に照射されたときの例
が示されている。このときはレーザ光の走査によるレー
ザ光の照射領域9bの外径Dbはガラス体8の外径Dよ
りも小さくなる。
と(b)の中間的な例が示されている。このときの外径
Dcには、Da>Dc>Dbの関係が成り立つ。
光の照射領域9a、9b、9cに照射されるレーザ光2
の単位面積当りのエネルギは、図3に示したレーザ光の
走査によるレーザ光の照射領域9に照射されるそれより
も大きい。狭い領域に高いエネルギを必要とするトリー
トメントを行う際には、図4に示したような単一のレー
ザ光の照射領域6a、6b、6cを形成するような構成
が利用できる。
ザを用いたトリートメン卜装置の一部を断面にした概略
図、図3及び図4の照射皮膚面上のレーザ光の照射領域
を示した図に基づいて説明する。
卜装置は、レーザ光2の照射皮膚面7の照射領域を示す
ようにレーザ光2の波長とは異なる可視光を照射する照
射領域表示手段と、光を透過しない部材からなる筐体4
0とを第1の実施例に付加したものである。したがっ
て、図2には第1の実施例との相違点に関する部分を付
加し、第1の実施例と重複する部分は以下の説明では省
略する。
イオード30は、球レンズ3に近接して配設されてい
る。
された可視光をガラス体8に導くために設けられたもの
で、その一端が開口された開口部を有している。その開
口部にはガラス体8が固着されている。
は装置内に発散する。その可視光が照射皮膚面7に出射
される直前に透過するガラス体8の透過断面積を、照射
皮膚面7のレーザ光の走査によるレーザ光の照射領域9
の面積と同じにすることで、レーザ光の走査によるレー
ザ光の照射領域9に限定して可視光を照射することがで
きる。これによって、照射皮膚面7のレーザ光2の照射
領域をレーザ照射前に確認でき、有効なトリートメント
効果が得られ、かつ毛穴や異常な色素細胞以外の皮膚を
傷めることを抑制することができる。
球レンズ3に近接して設けられたときを示したが、発光
ダイオード30は回転体20aの内部、回転体20aと
ガラス体8との間、レーザ光源のレーザ出射口の近傍の
レーザ光2の光路を妨げない位置に設けてもよい。
ートメン卜装置の一部を断面にした概略図に基づいて説
明する。この実施例のレーザを用いたトリートメン卜装
置は、レーザ光2の波長とは異なる可視光を出射する発
光ダイオード30を囲むように配設された光遮断手段5
0と、第1の反射体5a及び第2の反射体5bの反射面
を拡大させた光路変換部5とを第2の実施例に付加した
ものである。したがって、図5には第2の実施例との相
違点に関する部分を付加し、第2の実施例と重複する部
分は以下の説明では省略する。
成され、発光ダイオード30を囲むように配設されてい
る。この筒体の光軸方向の長さは、第1の反射体5a及
び第2の反射体5bが回転したときに接触しないように
設定されている。
反射面は、筒体の内壁の光軸方向への延長線上に反射面
の光遮断手段50側に最も近い外縁がくる程度まで反射
体の中心を基に拡大されている。
は、光遮断手段50によって散乱が抑制され、その大部
分が光路変換部5に導かれる。そして、光路変換部5の
回転によりレーザ光2と共に照射皮膚面7に走査され、
レーザ光2の照射領域を可視光で表示する。
視光の一部でガラス体8に直接入射しない可視光は、筐
体40内で反射を繰り返してガラス体8に入射し照射皮
膚面7に照射される。
集光レンズを透過する単一のレーザ光を集光レンズの光
軸上に位置する第1の反射体を用いて光軸から離し、第
1の反射体によって反射されるレーザ光を第2の反射体
を用いて集光レンズの光軸上又は集光レンズの光軸近傍
の所定の照射皮膚面へ照射する光路変換部を設けたこと
で装置の光軸方向へのコンパクト化ができ、第1の反射
体及び第2の反射体を集光レンズの光軸を中心に回転さ
せることでレーザ光を照射皮膚面に走査し、従来のトリ
ートメント装置の照射皮膚面に照射されるレーザ光の照
射領域よりも広い照射領域を確保でき、さらにレーザ光
とは異なる波長の可視光を照射皮膚面のレーザ光の照射
領域へ照射することによって、レーザ照射前にレーザの
照射領域を確認することが可能であり、装置のコンパク
ト化が図れ、トリートメント作業を容易かつ的確に行う
ことができるという優れた効果を奏する。
の原理図。
ーザを用いたトリートメン卜装置の概略図。
ートメン卜装置の照射皮膚面のレーザ光照射領域を示し
た図。
ートメン卜装置の図2に示した以外の照射皮膚面のレー
ザ光照射領域の例を示した図。
ートメン卜装置の概略図。
集光レンズ、5a…第1の反射体、5b…第2の反射
体、5…光路変換部、6…第1の照射領域、7…照射皮
膚面、8…ガラス体、9…レーザ光の走査によるレーザ
光の照射領域、10…焦点、20a…回転体、20c…
駆動装置、20…光路回転駆動部
Claims (4)
- 【請求項1】 レーザ光源と、 前記レーザ光源から出射されるレーザ光の光束と同軸に
配設された集光レンズと、 前記集光レンズの光軸上に配設された前記レーザ光を前
記光軸から離す方向に反射する第1の反射体及び前記第
1の反射体によって反射される前記レーザ光を前記光軸
上又は前記光軸近傍の照射皮膚面に反射するように配設
された第2の反射体とから構成された光路変換部と、 前記光路変換部を前記光軸をほぼ中心として回転させる
回転体と前記回転体を回転させる駆動装置とから構成さ
れた光路回転駆動部と、 を有することを特徴とするレーザを用いたトリートメン
卜装置。 - 【請求項2】 前記レーザ光とは異なる波長の可視光
を、前記レーザ光の照射皮膚面における前記レーザ光の
照射領域を示すように照射する照射領域表示手段を設け
たことを特徴とする請求項1記載のレーザを用いたトリ
ートメン卜装置。 - 【請求項3】 照射皮膚面上に照射される前記レーザ光
の照射領域の外縁が前記集光レンズのほぼ光軸上になる
ように前記第2の反射体の前記光束に対する角度を設定
したことを特徴とする請求項1乃至2記載のレーザを用
いたトリートメント装置。 - 【請求項4】 前記レーザ光源から出射される前記レー
ザ光を所定の照射皮膚面に照射するトリートメン卜の方
法において、 前記集光レンズを透過する前記レーザ光の光束を前記集
光レンズの光軸上に位置する第1の反射体を用いて前記
光軸から離すステップと、 前記第1の反射体によって反射される前記レーザ光を第
2の反射体を用いて前記集光レンズの光軸上又は前記集
光レンズの光軸近傍の所定の照射皮膚面へ照射しつつ、
前記第1の反射体及び第2の反射体を前記集光レンズの
光軸を中心に回転させるステップと、 を有することを特徴とするレーザを用いたトリートメン
卜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001315640A JP2003117008A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | レーザを用いたトリートメン卜装置及びレーザを用いたトリートメン卜方法 |
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