JP2003107645A - カラー拡散転写写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高彩度の画像を得ることのできる拡散転写感
光材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に銀現像に関連して拡散性色素
を形成もしくは放出する非拡散性色素像形成化合物と組
み合わされた感光性ハロゲン化銀乳剤層を少なくとも２
層有するカラー拡散転写写真感光材料であって、処理開
始後時間に応じて感光層内のｐＨを低下せしめる機能を
有し、かつ、特定の発色現像主薬と現像抑制剤放出カプ
ラー（DIRカプラー）及び／又は酸化されることにより
現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物（DIRレドッ
クス化合物）の少なくとも１種とを含有してなるカラー
拡散転写写真感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラー拡散転写写真
感光材料に関するものであり、特に中和機能を有し、現
像抑制剤放出化合物および特定のヒドラジン系発色現像
主薬を含有するカラー拡散転写写真感光材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料の分野
において、現像抑制剤放出化合物（以下DIR化合物）を
用いていわゆる重層効果により高彩度の画像を得ること
は公知の技術である。これはある色の感光層でイメージ
ワイズに放出された現像抑制剤またはその前駆体が他の
色に感光する乳剤層まで拡散し、現像抑制することによ
り他の色の発色が抑制され彩度が向上するものである
（例えば特開平１０−３９４６４号など）。しかし、従
来の拡散転写カラー感光材料ではDIR化合物により効果
的に重層効果を発現させることは難しい。これは銀現像
性の違いによるものである。すなわち、カラーネガ感材
（感光材料を略して感材ともいう。）やカラーリバーサ
ル感材では銀現像は通常ハロゲン化銀粒子群中でパラレ
ルに進行するため、現像抑制剤が、それが含有する感光
層から他色に発色する感光層に拡散し十分な抑制能を発
揮するための時間的余裕があるのに対して、カラー拡散
転写感光材料では画像出現時間短縮のため銀現像はグラ
ニュラー型で進行せしめる必要があり、このような系で
は個々の粒子の銀現像が速やかに終了するため現像抑制
剤が他層まで拡散し十分な抑制能を発揮するための時間
が得られないことによる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高彩度
の画像を得ることのできる拡散転写感光材料を提供する
ことにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、カラー拡散転写写真感光材料において処理後
感材中のpHを低下させることにより後期の銀現像速度を
低下せしめ、且つアルカリ領域でのｐＨ依存性の小さ
い特定のヒドラジン系発色現像主薬により発色反応（酸
化カップリング反応）を行うことにより、ＤＩＲ化合物
による全く予想外の効果を発揮させうることを見出し、
本発明の目的が以下の感光材料で効果的に達成されると
の結論に至った。 （１）支持体上に銀現像に関連して拡散性色素もしくは
その前駆体を形成もしくは放出する非拡散性色素像形成
化合物と組み合わされた感光性ハロゲン化銀乳剤層を少
なくとも２層有するカラー拡散転写写真感光材料であっ
て、処理開始後時間に応じて感光層内のｐＨを低下せし
める機能を有し、かつ、下記一般式（Ｉ）で表される発
色現像主薬と下記一般式（II）で表される現像抑制剤放
出カプラー（DIRカプラー）及び／又は下記一般式(III)
で表される酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物（DIRレドックス化合物）の少なく
とも１種とを含有することを特徴とするカラー拡散転写
写真感光材料。

【０００５】

【化２】

【０００６】（式中、Ｚはカルバモイル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、スルホニル基又はスルファモイル基を表し、Ｑは炭
素原子と共に５〜７員の不飽和環を形成する原子群を表
す。） 一般式(II) Ａ−（ＴＩＭＥ）_n−ＤＩ （式中、Ａは発色現像主薬酸化体とのカップリング反応
により（ＴＩＭＥ）_n−ＤＩを離脱するカプラー残基を
表し、ＴＩＭＥはカップリング反応によりＡより離脱し
た後に（ＴＩＭＥ）_n-1−ＤＩを開裂するタイミング
基、もしくはＴＩＭＥから離脱した後に（ＴＩＭＥ）
_n-2−ＤＩを開裂するタイミング基を表し、ｎは０、
１、２または３を表す。ｎが２以上であるとき複数個の
ＴＩＭＥは同じものまたは異なるものを表し、ＤＩはＡ
もしくはＴＩＭＥから離脱した後に現像抑制剤として作
用する基を表す。） 一般式(III) ＲＥＤ−（ＴＩＭＥ）_t−ＤＩ （式中、ＲＥＤは発色現像主薬酸化体及び／又は補助現
像主薬酸化体により酸化された後（ＴＩＭＥ）_t−ＤＩ
を離脱するレドックス残基を表し、ＴＩＭＥ及びＤＩは
前記化合物(II)と同様の内容を表す。ｔは０、１、２又
は３を表す。） （２）透明支持体上に受像層、白色反射層、遮光層及び
少なくとも２層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有してな
り、かつ、前記一般式（Ｉ）で表される発色現像主薬の
少なくとも１種と、前記一般式（II）で表される現像抑
制剤放出（DIR）カプラー及び／又は前記一般式(III)で
表される酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物の少なくとも１種とを含有する感光シ
ート（１）、透明支持体上に少なくとも中和層と中和タ
イミング層を有する透明カバーシート（２）、並びに前
記感光シート（１）と前記透明カバーシート（２）の間
に展開されるように配置されている遮光性のアルカリ処
理組成物（３）からなるカラー拡散フィルムユニットで
あることを特徴とする（１）項に記載のカラー拡散転写
感光材料。 （３）遮光性を付与された支持体上に少なくとも中和
層、中和タイミング層、受像層及び剥離層からなる受像
シート（１）、遮光性を付与された支持体上に少なくと
も２層のハロゲン化銀乳剤層を有してなり前記一般式
（Ｉ）で示される発色現像主薬と、前記一般式（II）で
表される現像抑制剤放出（DIR）カプラー及び／又は前
記一般式(III)で表される酸化されることにより現像抑
制剤を放出しうるレドックス化合物の少なくとも１種と
を含有する感光シート（２）、並びに前記受像シート
（１）と前記感光シート（２）の間に展開されるように
配置されたアルカリ処理組成物（３）からなるカラー拡
散転写フィルムユニットであることを特徴とする（１）
項に記載のカラー拡散転写感光材料。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に本発明に用いられる一般式
（Ｉ）で表される化合物についてさらに詳しく述べる。 一般式（Ｉ）

【０００８】

【化３】

【０００９】式中、Ｚはカルバモイル基、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
スルホニル基またはスルファモイル基を表し、ＱはＣと
ともに５〜７員の不飽和の環を形成する原子群を表す。

【００１０】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物に
ついて詳しく述べる。一般式（Ｉ）においてＺはカルバ
モイル基（炭素数１〜５０、好ましくは炭素数６〜４０
のカルバモイル基で、例えば、無置換カルバモイル、メ
チルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロ
ピルカルバモイル、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、
Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ドデ
シルカルバモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−オクタデシルカルバモイル、Ｎ
−｛３−（２，４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノキシ）プ
ロピル｝カルバモイル、Ｎ−（２−ヘキシルデシル）カ
ルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−（４−ド
デシルオキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２−クロ
ロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）カルバモ
イル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、Ｎ−３−ピリジルカ
ルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイル）、アシル基
（炭素数１〜５０、好ましくは炭素数６〜４０のアシル
基で、例えば、ホルミル、アセチル、２−メチルプロパ
ノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、２
−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、４−ドデシル
オキシベンゾイル、２−ヒドロキシメチルベンゾイル、
アルコキシカルボニル基（炭素数２〜５０、好ましくは
炭素数６〜４０のアルコキシカルボニル基で、例えば、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチル
オキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、
ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル）、アリールオキシカルボニル基（炭素数６〜５０、
好ましくは炭素数６〜４０のアリールオキシカルボニル
基で、例えば、フェノキシカルボニル、４−オクチルオ
キシフェノキシカルボニル、２−ヒドロキシメチルフェ
ノキシカルボニル、４−ドデシルオキシフェノキシカル
ボニル）、スルホニル基（炭素数１〜５０、好ましくは
炭素数６〜４０のスルホニル基で、例えば、メチルスル
ホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、２−
ヘキサデシルスルホニル、３−ドデシルオキシプロピル
スルホニル、２−オクチルオキシ−５−ｔ−オクチルフ
ェニルスルホニル、４−ドデシルオキシフェニルスルホ
ニル）、またはスルファモイル基（炭素数１〜５０、好
ましくは炭素数６〜４０のスルファモイル基で、例え
ば、無置換スルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル
基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル、Ｎ−
デシルスルファモイル、Ｎ−ヘキサデシルスルファモイ
ル、Ｎ−｛３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピ
ル｝スルファモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシル
オキシカルボニルフェニル）スルファモイル、Ｎ−（２
−テトラデシルオキシフェニル）スルファモイル）を表
す。

【００１１】Ｚで表される基はさらに置換基を有しても
よく、好ましい置換基としてはハロゲン原子（例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、アルキル基（好ま
しくは炭素数１〜３２の、直鎖、分岐、又は環状のアル
キル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ｔ−ブチル、１−オクチル、トリデシ
ル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、アルケニ
ル基（好ましくは炭素数２〜３２のアルケニル基で、例
えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリ
ール基（好ましくは炭素数６〜３２のアリール基で、例
えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル）、ヘテ
ロ環基（好ましくは炭素数１〜３２の、５〜８員環のヘ
テロ環基で、例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２
−フリル、２−ピリミジニル、２−ピリジル、２−ベン
ゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）、シアノ基、シリル基
（好ましくは炭素数３〜３２のシリル基で、例えば、ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチル
シリル）、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基
（好ましくは炭素数１〜３２のアルコキシ基で、例え
ば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキ
シ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、
シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリ
ールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２のアリールオ
キシ基で、例えば、フェノキシ、２−ナフトキシ）、

【００１２】ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜
３２のヘテロ環オキシ基で、例えば、１−フェニルテト
ラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキ
シ、２−フリルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは
炭素数１〜３２のシリルオキシ基で、例えば、トリメチ
ルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジ
フェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ま
しくは炭素数２〜３２のアシルオキシ基で、例えば、ア
セトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデ
カノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好
ましくは炭素数２〜３２のアルコキシカルボニルオキシ
基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシ、シクロヘキシルオキシカルボニル
オキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好まし
くは炭素数７〜３２のアリールオキシカルボニルオキシ
基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバ
モイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２のカルバモ
イルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）、スルファ
モイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２のスルファ
モイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファ
モイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、
アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３
２のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルス
ルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シク
ロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオ
キシ（好ましくは炭素数６〜３２のアリールスルホニル
オキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ）、ア
シル基（好ましくは炭素数１〜３２のアシル基で、例え
ば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テ
トラデカノイル、シクロヘキシルカルボニル）、アルコ
キシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３２のアルコ
キシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シ
クロヘキシルオキシカルボニル）、

【００１３】アリールオキシカルボニル基（好ましくは
炭素数７〜３２のアリールオキシカルボニル基で、例え
ば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好まし
くは炭素数１〜３２のカルバモイル基で、例えば、カル
バモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−エチル
−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバモイル）、アミノ
基（好ましくは炭素数３２以下のアミノ基で、例えば、
アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ、テ
トラデシルアミノ、オクタデシルアミノ、シクロヘキル
アミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２のア
ニリノ基で、例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリ
ノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２の
ヘテロ環アミノ基で、例えば、４−ピリジルアミノ）、
カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３２のカルボ
ンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、
テトラデカンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数
１〜３２のウレイド基で、例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基
（好ましくは炭素数１０以下のイミド基で、例えば、Ｎ
−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカ
ルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３２のアルコ
キシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニ
ルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミ
ノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリー
ルオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３
２のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フ
ェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ま
しくは炭素数１〜３２のスルホンアミド基で、例えば、
メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼ
ンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シク
ロヘキシルスルホニルアミノ）、スルファモイルアミノ
基（好ましくは炭素数１〜３２のスルファモイルアミノ
基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミ
ノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミ
ノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２のアゾ基で、
例えば、フェニルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは
炭素数１〜３２のアルキルチオ基で、例えば、エチルチ
オ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチ
オ基（好ましくは炭素数６〜３２のアリールチオ基で、
例えば、フェニルチオ）、

【００１４】ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３
２のヘテロ環チオ基で、例えば、２−ベンゾチアゾリル
チオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチ
オ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜
３２のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンス
ルフィニル）、アリールスルフィニル（好ましくは炭素
数６〜３２のアリールスルフィニル基で、例えば、フェ
ニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましく
は炭素数１〜３２のアルキルスルホニル基で、例えば、
メチルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシ
ルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭
素数６〜３２のアリールスルホニル基で、例えば、フェ
ニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファ
モイル基（好ましくは炭素数３２以下のスルファモイル
基で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイ
ル）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜
３２のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニ
ル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニ
ル）、ホスフィノイルアミノ基（ジエトキシホスフィノ
イルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ
基）が挙げられる。

【００１５】ＱはＣとともに５〜７員の不飽和の環を形
成する原子群を表し、不飽和の環の例としてはベンゼン
環、ピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジ
ン環、１，２，４-トリアジン環、１，３，５−トリア
ジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、
１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾー
ル環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール
環、１，２，４−チアジアゾール環、１，２，５−チア
ジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，
２，４−オキサジアゾール環、１，２，５−オキサジア
ゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾ
ール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ま
しく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ま
しい。これらの環は置換基を有していてもよく、好まし
い置換基はＺで表される基の置換基として挙げたものと
同じである。

【００１６】次に、一般式（Ｉ）で表される化合物の好
ましい範囲について述べる。Ｚはカルバモイル基が好ま
しく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル
基が好ましい。Ｑと炭素原子Ｃとで形成される不飽和環
は５〜６員の環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン
環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリア
ゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾー
ル環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−オ
キサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、
チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イ
ソオキサゾール環、およびこれらの環がベンゼン環もし
くは不飽和ヘテロ環と縮合した環であることがさらに好
ましい。

【００１７】以下に一般式（Ｉ）で表される発色現像主
薬の具体的化合物例を示すが、本発明の範囲はこれらの
具体例に限定されるものではない。

【００１８】

【化４】

【００１９】

【化５】

【００２０】

【化６】

【００２１】

【化７】

【００２２】

【化８】

【００２３】

【化９】

【００２４】

【化１０】

【００２５】

【化１１】

【００２６】

【化１２】

【００２７】

【化１３】

【００２８】上記の具体的化合物以外に、特開平８−２
８６３４０号明細書の７〜２２ページに記載された化合
物（１）〜（８０）、特開平９−１５２７００号明細書
の９〜２６ページに記載された化合物Ｈ−１〜Ｈ−７
２、特開平９−１５２７０１号明細書の７〜１１ページ
に記載された化合物Ｄ−１〜Ｄ−１９、特開平９−１５
２７０２号明細書の６〜１３ページに記載された化合物
Ｄ−１〜Ｄ−３９、特開平９−１５２７０３号明細書の
７〜１７ページに記載された化合物Ｄ−１〜Ｄ−４９、
および特開平９−１５２７０４号明細書の６〜１８ペー
ジに記載された化合物（１）〜（４５）も本発明に用い
る発色現像主薬として好ましい。

【００２９】次に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合
物の合成法について述べる。例えば、本発明の例示化合
物D-32は特開平９−１５２７０２号明細書の１５ページ
に記載された合成例２にしたがって下記の合成ルートに
より合成できる。

【００３０】

【化１４】

【００３１】また、本発明の例示化合物D-1、D-2、D-
4、D-5、D-14、D-15、およびD-19は特開平８−２８６３
４０号明細書の２３〜２５ページに記載された合成例１
〜６の方法に準じて合成することができる。他の化合物
も特開平９−１５２７００号、同９−１５２７０１号明
細書、同９−１５２７０２号明細書、同９−１５２７０
３号明細書、および同９−１５２７０４号明細書に記載
された合成法にしたがって同様にして合成することがで
きる。

【００３２】本発明の発色現像主薬は酸化カップリング
反応によって色素を形成する化合物（カプラー）ととも
に使用する。本発明においては、現像薬としてパラフェ
ニレンジアミン現像主薬を用いるコンベンショナルな銀
塩写真で使用されるカプラーのうち、カップリング位が
水素原子以外のカップリング離脱基で置換された、いわ
ゆる「２当量カプラー」が好ましい。２当量カプラーに
ついては、セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・
プロセス（4th．Ed．，T．H．James編集，MaCmillan，1
977）の354頁〜361頁、写真工学の基礎−銀塩写真編
（日本写真学会編、コロナ社、１９９８年）の２４４〜
２５８ページなどに記載されている。

【００３３】本発明に用いることができるカプラーにつ
いて以下に述べる。本発明に用いることができるカプラ
ーとしては、特開平９−１５２７０５号明細書の２０〜
２３ページに説明されている一般式（１）〜（１２）で
表されるカプラーが挙げられる。これらのカプラーにお
いて、Ｙを除く部分の炭素原子の総数は１以上３０以下
が好ましく、１以上２４以下がより好ましく、１以上１
８以下が最も好ましい。

【００３４】以下に本発明に好ましく使用できるカプラ
ーの具体例を示すが、本発明はこれらによって限定され
るものではない。

【００３５】

【化１５】

【００３６】

【化１６】

【００３７】

【化１７】

【００３８】

【化１８】

【００３９】

【化１９】

【００４０】

【化２０】

【００４１】

【化２１】

【００４２】

【化２２】

【００４３】上記カプラー以外に、特開平９−１５２７
０５号明細書の２４〜３７ページに記載されている例示
化合物（Ｃ−１）〜（Ｃ−５０）も本発明に用いるカプ
ラーとして好ましい。

【００４４】本発明に用いることができるカプラーは特
開平９−１５２７０５号明細書の２０〜２４ページに記
載されている一般式（１）〜（１２）で表されるカプラ
ーに関する説明中に引用された特許、文献に記載された
方法にしたがって合成することができる。以下に、本発
明に用いることができるカプラーの具体的合成例を示す
が、本発明はこれらによって限定されない。

【００４５】合成例１ 例示化合物C-13の合成 下記合成経路により合成を行った。

【００４６】

【化２３】

【００４７】化合物C-13Aの合成 ２−アミノフェニルジスルフィド４９．７ｇおよび２−
（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタン酸クロリ
ド１５０ｇをアセトニトリル８００ｍｌに加え、１時間
加熱環流した。反応後、室温まで冷却し、結晶を濾取
し、アセトニトリル２００ｍｌにて洗浄、乾燥した。こ
うして化合物C-13Aを１５６ｇ（９１．４％）白色結晶
として得た。

【００４８】例示化合物C-13の合成 ２８．２ｇの化合物C-13Aを塩化メチレン３００ｍｌに
溶解させ、さらに塩化スルフリル３．６ｍｌを加えた。
２時間反応させた後、溶媒の減圧留去を行った。その
後、残留物を塩化メチレン５０ｍｌに溶解させて、化合
物C-13Bの溶液を得た。別に１０．４５ｇの化合物C-13C
をジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解させた液を用
意し、室温下で先に合成した化合物C-13Bの塩化メチレ
ン溶液を内温が３０℃を越えないように滴下した。滴下
後さらに１時間反応させ、反応混合物を１Ｎ塩酸５００
ｍｌに注いだ。塩化メチレンによる抽出操作を行った
後、アセトニトリルによって再結晶し、例示化合物C-13
を３９．９６ｇ（８２．０％）淡黄色結晶として得た。

【００４９】合成例２ 例示化合物C-31の合成 下記合成経路により合成を行った。

【００５０】

【化２４】

【００５１】化合物C-31Aの合成 ハイドロキノンモノベンジルエーテル２００gをアセト
ニトリル５００ｍｌ、ジメチルホルムアミド（以下、Ｄ
ＭＦと略す）５００ｍｌ混合溶媒に溶解させ、トリエチ
ルアミン１６７ｍｌを加え、室温下でクロロギ酸ヘキサ
デシル３０５gを内温が３５℃以下になるように調節し
ながら滴下した。滴下終了後、1時間反応させた後、反
応液を１Ｎ塩酸３リットルに注意深く注いだ。析出した
結晶を濾取し、アセトニトリル３００ｍｌで洗浄後、乾
燥した。こうして化合物C-31Aを４３５g（収率９３％）
白色結晶として得た。

【００５２】化合物C-31Bの合成 化合物C-31A４７g、１gの１０％Ｐｄ−Ｃ、ギ酸アンモ
ニウム２２gをメタノール５００ｍｌに溶解させ、4時間
加熱環流した。反応後、熱時にセライトを用いて触媒を
濾別し、濾液に水2リットルを注いだ。析出した結晶を
濾取し、メタノール１００ｍｌで洗浄した。乾燥して化
合物C-31Bを３６．３g（収率９８％）白色結晶として得
た。

【００５３】化合物C-31Cの合成 化合物C-31B３７．８gを塩化メチレン５００ｍｌに溶解
させ、比重１．３８の硝酸８ｍｌを室温下に滴下した。
さらに1時間反応させ、反応液にヘキサン１リットルを
注いだ。析出した結晶を濾取し、イソプロピルアルコー
ル１００ｍｌで洗浄した。乾燥して、化合物C-31Cを３
４．７ｇ（収率８２％）黄色結晶として得た。

【００５４】化合物C-31Dの合成 化合物C-31C４２．３gをメタノール２００ｍｌに溶解さ
せ、有効塩素濃度５％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液８
５ｍｌを室温で滴下した。２時間反応させた後、反応液
に酢酸エチル５００ｍｌ、１Ｎ塩酸８００ｍｌを注ぎ、
抽出操作を行った。水５００ｍｌにて２回洗浄した後、
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒の減
圧留去を行い、化合物C-31Dを３５．２ｇ（収率７７
％）淡赤色結晶として得た。

【００５５】例示化合物C-31の合成 化合物C-31D４５．７gを酢酸エチル５００ｍｌ、水４０
０ｍｌ、エタノール１００ｍｌに溶解させ、さらにハイ
ドロサルファイトナトリウム８７ｇを加えて攪拌した。
２時間反応させた後、水５００ｍｌで２回洗浄した後、
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒の減圧
留去を行った。残留物をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
１００ｍｌに溶解させ、室温下にアセチルクロライド８
ｍｌを内温が３５℃を越えないように滴下した。滴下後
さらに1時間反応させ、反応混合物を１Ｎ塩酸５００ｍ
ｌに注いだ。析出した結晶を濾取、水洗、乾燥して粗結
晶を得た。粗結晶をアセトニトリルによって再結晶し、
例示化合物C-31を３１．９ｇ（収率６８％）白色結晶と
して得た。

【００５６】本発明で使用するカプラーの添加量は、生
成する色素のモル吸光係数（ε）にもよるが、反射濃度
で１．０以上の画像濃度を得るためには、カップリング
により生成する色素のεが５，０００〜５００，０００
程度のカプラーの場合、塗布品として０．００１〜１０
０ミリモル／ｍ²程度、好ましくは０．０１〜１０ミリ
モル／ｍ²、さらに好ましくは０．０５〜５．０ミリモ
ル／ｍ²が適当である。また、本発明の一般式（Ｉ）で
表される発色現像主薬の添加量は広い範囲を持つが、好
ましくはカプラーに対して０．０１〜１００モル倍、さ
らに好ましくは０．１〜１０モル倍が適当である。

【００５７】カプラー及び一般式（Ｉ）で表される現像
主薬の添加方法としては、まず、カプラー、現像主薬お
よび高沸点有機溶媒（例えばリン酸アルキルエステル、
フタル酸アルキルエステル等）を混合して低沸点有機溶
媒（例えば酢酸エチル、メチルエチルケトン等）に溶解
し、当該分野で公知の乳化分散法を用いて水に分散の
後、添加することができる。また、特開昭６３−２７１
３３９号に記載の固体分散法による添加も可能である。

【００５８】以下に本発明の一般式（II) で表される化
合物について詳しく説明する。

【００５９】一般式（II) において、Ａはカプラー残基
を表し、詳しくは、イエロー画像形成カプラー残基、マ
ゼンタ画像形成カプラー残基、シアン画像形成カプラー
残基、無呈色カプラー残基を表し、リサーチディスクロ
ージャー３７０３８（１９９５年２月）の８０頁から８
５頁、および８７頁から８９頁に詳しく記載されてい
る。

【００６０】Ａがイエロー色画像形成カプラー残基を表
すとき、例えば、ピバロイルアセトアニリド型、ベンゾ
イルアセトアニリド型、マロンジエステル型、マロンジ
アミド型、ジベンゾイルメタン型、ベンゾチアゾリルア
セトアミド型、マロンエステルモノアミド型、ベンゾオ
キサゾリルアセトアミド型、ベンゾイミダゾリルアセト
アミド型、ベンゾチアゾリルアセトアミド型、シクロア
ルカノイルアセトアミド型、インドリン−２−イルアセ
トアミド型、米国特許５，０２１，３３２号に記載され
たキナゾリン−４−オン−２−イルアセトアミド型、同
５，０２１，３３０号に記載されたベンゾ−１，２，４
−チアジアジン−１，１−ジオキシド−３−イルアセト
アミド型のカプラー残基、欧州特許４２１２２１Ａ号に
記載されたカプラー残基、米国特許５，４５５，１４９
号に記載されたカプラー残基、および欧州公開特許０６
２２６７３号に記載されたカプラー残基が挙げられる。

【００６１】Ａがマゼンタ色画像形成カプラー残基を表
すとき、例えば５−ピラゾロン型、１Ｈ−ピラゾロ
［１，５−ａ］ベンズイミダゾール型、１Ｈ−ピラゾロ
［５，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール型、１Ｈ−
ピラゾロ［１，５−ｂ］［１，２，４］トリアゾール
型、１Ｈ−イミダゾ［１，２−ｂ］ピラゾール型、シア
ノアセトフェノン型、ＷＯ９３／０１５２３に記載され
た活性プロペン型、ＷＯ９３／０７５３４に記載された
エナミン型、１Ｈ−イミダゾ［１，２−ｂ］［１，２，
４］トリアゾール型のカプラー残基、および米国特許第
４，８７１，６５２号に記載されたカプラー残基が挙げ
られる。

【００６２】Ａがシアン色画像形成カプラー残基を表す
とき、例えばフェノール型、ナフトール型、欧州特許公
開第２４９４５３号に記載された２，５−ジフェニルイ
ミダゾール型、１Ｈ−ピロロ［１，２−ｂ］［１，２，
４］トリアゾール型、１Ｈ−ピロロ［２，１−ｃ］
［１，２，４］トリアゾール型、特開平４−１８８１３
７号、同４−１９０３４７号に記載されたピロール型、
特開平１−３１５７３６号に記載された３−ヒドロキシ
ピリジン型、米国特許第５，１６４，２８９号に記載さ
れたピロロピラゾール型、特開平４−１７４４２９号に
記載されたピロロイミダゾール型、米国特許第４，９５
０，５８５号に記載されたピラゾロピリミジン型、特開
平４−２０４７３０号に記載されたピロロトリアジン型
カプラー残基、米国特許４７４６６０２号に記載された
カプラー残基、米国特許第５，１０４，７８３号に記載
されたカプラー残基、同５，１６２，１９６号に記載さ
れたカプラー残基、および欧州特許第０５５６７００号
に記載されたカプラー残基が挙げられる。

【００６３】さらにＡは実質的に色画像を残さないカプ
ラー残基であってもよい。この型のカプラー残基として
は、例えばインダノン型、アセトフェノン型などのカプ
ラー残基や欧州特許９５０９２２Ａ号に記載のカプラー
残基等が挙げられる。

【００６４】一般式（Ｉ）においてＡで表されるカプラ
ー残基の好ましい例は下記一般式（Ｃｐ−１）、（Ｃｐ
−２）、（Ｃｐ−３）、（Ｃｐ−４）、（Ｃｐ−５）、
（Ｃｐ−６）、（Ｃｐ−７）、（Ｃｐ−８）、（Ｃｐ−
９）、（Ｃｐ−１０）、（Ｃｐ−１１）、または（Ｃｐ
−１２）で表されるカプラー残基であるときである。こ
れらのカプラーはカップリング速度が大きく好ましい。

【００６５】

【化２５】

【００６６】

【化２６】

【００６７】上式においてカップリング位より派生して
いる自由結合手は、一般式（Ｉ）における−（ＴＩＭ
Ｅ）_n −ＤＩの結合位置を表す。

【００６８】上式において、Ｒ₅₁、Ｒ₅₂、Ｒ₅₃、Ｒ₅₄、
Ｒ₅₅、Ｒ₅₆、Ｒ₅₇、Ｒ₅₈、Ｒ₅₉、Ｒ ₆₀、Ｒ₆₁、Ｒ₆₂、Ｒ
₆₃、Ｒ₆₄、Ｒ₆₅、またはＲ₆₆がバラスト基を含む場合、
それは炭素数の総数が８ないし４０、好ましくは１０な
いし３０になるように選択され、それ以外の場合、炭素
数の総数は１５以下が好ましい。ビス型、テロマー型ま
たはポリマー型のカプラーの場合には上記の置換基のい
ずれかが二価基を表わし、繰り返し単位などを連結す
る。この場合には炭素数の範囲は規定外であってもよ
い。

【００６９】以下にＲ₅₁〜Ｒ₆₆、ａ、ｂ、ｄ、ｅ、およ
びｆについて詳しく説明する。以下の説明において、Ｒ
₄₀はハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子）、アルキル（好ましくは炭素数１〜４０の、直
鎖、分岐鎖、もしくは環状のアルキル基で、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−
ブチル、１−オクチル、トリデシル）、シクロアルキル
（好ましくは炭素数３〜４０のシクロアルキルで、例え
ば、シクロプロピル、１−エチルシクロプロピル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、１−ノルボルニル、１−
アダマンチル）、アルケニル（好ましくは炭素数２〜４
０のアルケニルで、例えば、ビニル、アリル、３−ブテ
ン−１−イル）、アリール（好ましくは炭素数６から３
２のアリール基で、例えば、フェニル、１−ナフチル、
２−ナフチル）、複素環基（好ましくは炭素数１から３
２の、５から８員環の複素環基で、例えば、２−チエニ
ル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１
−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリ
ル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）、シアノ、シリル（好ましくは炭素数３〜４０のシ
リル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ
−ヘキシルジメチルシリル）、ヒドロキシル、カルボキ
シル、ニトロ、アルコキシ（好ましくは炭素数１〜４０
のアルコキシで、例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブ
トキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキ
シ、ドデシルオキシ）、シクロアルキルオキシ（好まし
くは炭素数３から８のシクロアルキルオキシで、例え
ば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、
アリールオキシ（好ましくは炭素数６〜４０のアリール
オキシで、例えば、フェノキシ、２−ナフトキシ）、複
素環オキシ（好ましくは炭素数１〜４０の複素環オキシ
で、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、
２−テトラヒドロピラニルオキシ、２−フリルオキ
シ）、シリルオキシ（好ましくは炭素数１〜４０のシリ
ルオキシで、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオ
キシ）、アシルオキシ（好ましくは炭素数２〜４０のア
シルオキシで、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキ
シ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコ
キシカルボニルオキシ（好ましくは炭素数２〜４０のア
ルコキシカルボニルオキシで、例えば、エトキシカルボ
ニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ）、シクロ
アルキルオキシカルボニルオキシ（好ましくは炭素数４
〜４０のシクロアルキルオキシカルボニルオキシで、例
えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）、アリ
ールオキシカルボニルオキシ（好ましくは炭素数７〜４
０のアリールオキシカルボニルオキシで、例えば、フェ
ノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ（好ま
しくは炭素数１〜４０のカルバモイルオキシで、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシＮ−ブチルカ
ルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ（好ましく
は炭素数１〜４０のスルファモイルオキシで、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピル
スルファモイルオキシ）、アルカンスルホニルオキシ
（好ましくは炭素数１〜４０のアルカンスルホニルオキ
シで、例えば、メタンスルホニルオキシ、ヘキサデカン
スルホニルオキシ）、アレーンスルホニルオキシ（好ま
しくは炭素数６〜４０のアレーンスルホニルオキシで、
例えば、ベンゼンスルホニルオキシ）、アシル（好まし
くは炭素数１〜４０のアシルで、例えば、ホルミル、ア
セチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイ
ル）、アルコキシカルボニル（好ましくは炭素数２〜４
０のアルコキシカルボニルで、例えば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボ
ニル）、シクロアルキルオキシカルボニル（好ましくは
炭素数４〜４０のシクロアルキルオキシカルボニルで、
例えば、シクロヘキシルオキシカルボニル）、アリール
オキシカルボニル（好ましくは炭素数７〜４０のアリー
ルオキシカルボニルで、例えば、フェノキシカルボニ
ル）、カルバモイル（好ましくは炭素数１〜４０のカル
バモイルで、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチル
カルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイ
ル、Ｎ−プロピルカルバモイル）、アミノ（好ましくは
炭素数４０以下のアミノで、例えば、アミノ、メチルア
ミノ、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ、テトラデシルアミ
ノ、オクタデシルアミノ）、アニリノ（好ましくは炭素
数６〜４０のアニリノで、例えば、アニリノ、Ｎ−メチ
ルアニリノ）、複素環アミノ（好ましくは炭素数１〜４
０の複素環アミノで、例えば、４−ピリジルアミノ）、
カルボンアミド（好ましくは炭素数２〜４０のカルボン
アミドで、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テト
ラデカンアミド）、ウレイド（好ましくは炭素数１〜４
０のウレイドで、例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド（好ましく
は炭素数１０以下のイミドで、例えば、Ｎ−スクシンイ
ミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミ
ノ（好ましくは炭素数２〜４０のアルコキシカルボニル
アミノで、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキ
シカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ）、シクロアルキ
ルオキシカルボニルアミノ（好ましくは炭素数４〜４０
のシクロアルキルオキシカルボニルアミノで、例えば、
シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオ
キシカルボニルアミノ（好ましくは炭素数７〜４０のア
リールオキシカルボニルアミノで、例えば、フェノキシ
カルボニルアミノ）、スルホンアミド（好ましくは炭素
数１〜４０のスルホンアミドで、例えば、メタンスルホ
ンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド、ヘキサデカンスルホンアミド）、スルファモイル
アミノ（好ましくは炭素数１〜４０のスルファモイルア
ミノで、例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルア
ミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミ
ノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜４０のアゾで、例
えば、フェニルアゾ）、アルキルチオ（好ましくは炭素
数１〜４０のアルキルチオで、例えば、エチルチオ、オ
クチルチオ）、シクロアルキルチオ基（好ましくは炭素
数３〜４０のシクロアルキルチオで、例えば、シクロヘ
キシルチオ）、アリールチオ（好ましくは炭素数６〜４
０のアリールチオで、例えば、フェニルチオ）、複素環
チオ（好ましくは炭素数１〜４０の複素環チオで、例え
ば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１
−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル
（好ましくは炭素数１〜４０のアルキルスルフィニル
で、例えば、ドデカンスルフィニル）、アレーンスルフ
ィニル（好ましくは炭素数６〜４０のアレーンスルフィ
ニルで、例えば、ベンゼンスルフィニル）、アルカンス
ルホニル（好ましくは炭素数１〜４０のアルカンスルホ
ニルで、例えば、メタンスルホニル、オクタンスルホニ
ル）、アレーンスルホニル（好ましくは炭素数６〜４０
のアレーンスルホニルで、例えば、ベンゼンスルホニ
ル、１−ナフタレンスルホニル）、アルコキシスルホニ
ル（好ましくは炭素数１〜４０のアルコキシスルホニル
で、例えば、メトキシスルホニル、エトキシスルホニ
ル）、シクロアルキルオキシスルホニル（好ましくは炭
素数３〜４０のシクロアルキルオキシスルホニルで、例
えば、シクロプロピルオキシスルホニル）、アリールオ
キシスルホニル（好ましくは炭素数６〜４０のアリール
オキシスルホニルで、例えば、フェノキシスルホニル、
ｐ−メチルフェノキシスルホニル）、スルファモイル
（好ましくは炭素数３２以下のスルファモイル基で、例
えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモ
イル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル）、ス
ルホ、ホスホニル（好ましくは炭素数１〜４０のホスホ
ニルで、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキ
シホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイル
アミノ（ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチル
オキシホスフィノイルアミノ）を表す。Ｒ₄₃は水素原
子、アルキル、シクロアルキル、アリールまたは複素環
基を表し、アルキル、シクロアルキル、アリールおよび
複素環基の好ましい炭素数および具体例はＲ₄₀で表され
る基の説明で挙げたアルキル、シクロアルキル、アリー
ル、および複素環基と同じである。Ｒ₄₅はアルキル、シ
クロアルキル、アリール、アシル、アルカンスルホニル
またはアレーンスルホニルを表し、これらの基の好まし
い炭素数および具体例はＲ₄₀で表される基の説明で挙げ
たアルキル、シクロアルキル、アリール、アシル、アル
カンスルホニル及びアレーンスルホニルと同じである。

【００７０】以下に一般式（Ｃｐ−１）〜（Ｃｐ−１
２）の置換基Ｒ₅₁〜Ｒ₆₆、ａ、ｂ、ｄ、ｅ及びｆについ
て説明する。

【００７１】一般式（Ｃｐ−１）において、Ｒ₅₁はアル
キル、シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表
す。ａは０または１を表す。Ｒ₅₂は水素原子、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表す。

【００７２】一般式（Ｃｐ−２）において、Ｒ₅₁はアル
キル、シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表
し、Ｒ₅₂およびＲ₅₃は互いに独立して水素原子、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表し、
ｂは０または１を表す。

【００７３】一般式（Ｃｐ−３）において、Ｒ₅₄はアル
キル、シクロアルキル、アリール、複素環基、カルボン
アミド、スルホンアミド、アミノ、アニリノ、アルキル
チオ、アリールチオ、アルコキシ、シクロアルキルオキ
シ、アリールオキシ、ウレイド、アルコキシカルボニル
アミノを表す。Ｒ₅₅はアルキル、シクロアルキル、アリ
ール、または複素環基を表す。

【００７４】一般式（Ｃｐ−４）および（Ｃｐ−５）に
おいて、Ｒ₅₆およびＲ₅₇は各々互いに独立して、水素原
子、アルキル、シクロアルキル、アリール、複素環基、
カルボンアミド、スルホンアミド、アミノ、アニリノ、
アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、ア
ルコキシ、シクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ウ
レイド、アルコキシカルボニルアミノ、またはシクロア
ルキルオキシカルボニルアミノを表す。

【００７５】一般式（Ｃｐ−６）および（Ｃｐ−７）に
おいて、Ｒ₅₈およびＲ₆₀は各々互いに独立して、アルキ
ル、シクロアルキル、アリール、または複素環基を表
し、Ｒ ₅₉はアルキル、シクロアルキル、アリール、複素
環基、シリル、カルボンアミド、スルホンアミド、アミ
ノ、アニリノ、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、ア
リールチオ、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、アリ
ールオキシ、ウレイド、アルコキシカルボニルアミノ、
シクロアルキルオキシカルボニルアミノまたはハロゲン
原子を表し、ｄは０ないし３の整数を表す。ｄが複数の
とき複数個のＲ₅₉は同じ置換基または異なる置換基を表
す。

【００７６】一般式（Ｃｐ−８）において、Ｒ₆₁はアル
キル、シクロアルキル、アリール、複素環基、カルバモ
イル、アルコキシカルボニル、シクロアルキルオキシカ
ルボニル、アリールオキシカルボニル、シアノ、スルフ
ァモイル、カルボンアミド、ウレイド、アルコキシカル
ボニルアミノ、シクロアルキルオキシカルボニルアミ
ノ、アリールオキシカルボニルアミノ、またはスルホン
アミドを表し、Ｒ₆₂はアルキル、シクロアルキル、アリ
ール、複素環基、カルボンアミド、スルホンアミド、ア
ミノ、アニリノ、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、
アリールチオ、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、ア
リールオキシ、ウレイド、アルコキシカルボニルアミ
ノ、シクロアルキルオキシカルボニルアミノまたはハロ
ゲン原子を表し、ｅは０ないし４の整数を表す。ｅが複
数のとき、複数個のＲ₆₂は同じものまたは異なるものを
表す。

【００７７】一般式（Ｃｐ−９）および（Ｃｐ−１０）
において、Ｒ₆₃はアルキル、シクロアルキル、アリー
ル、複素環基、カルボンアミド、スルホンアミド、アミ
ノ、アニリノ、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、ア
リールチオ、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、アリ
ールオキシ、ウレイド、アルコキシカルボニルアミノ、
シクロアルキルオキシカルボニルアミノ、またはハロゲ
ン原子を表し、ｅは０ないし４の整数を表し、ｆは０な
いし２の整数を表す。ｅまたはｆが複数のとき、複数個
のＲ₆₃は同じものまたは異なるものを表す。

【００７８】一般式（Ｃｐ−１１）および（Ｃｐ−１
２）において、Ｒ₆₄およびＲ₆₅は互いに独立してカルバ
モイル、アルコキシカルボニル、シクロアルキルオキシ
カルボニル、アリールオキシカルボニル、シアノ、スル
ファモイル、アルカンスルホニル、アレーンスルホニ
ル、またはニトロを表し、Ｒ₆₆は水素原子、アルキル、
シクロアルキル、アリール、または複素環基を表す。

【００７９】置換基Ｒ₅₁〜Ｒ₆₆の説明で挙げた基の炭素
数および具体例はＲ₄₀で表される基の説明で挙げたもの
と同じである。Ｒ₅₁〜Ｒ₆₆で表される基はさらに置換基
を有していてもよく、好ましい置換基としてはハロゲン
原子、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アリー
ル、複素環基、シアノ、シリル、ヒドロキシル、カルボ
キシル、ニトロ、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、
アリールオキシ、複素環オキシ、シリルオキシ、アシル
オキシ、アルコキシカルボニルオキシ、シクロアルキル
オキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオ
キシ、カルバモイルオキシ、スルファモイルオキシ、ア
ルカンスルホニルオキシ、アレーンスルホニルオキシ、
アシル、アルコキシカルボニル、シクロアルキルオキシ
カルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイ
ル、アミノ、アニリノ、複素環アミノ、カルボンアミ
ド、アルコキシカルボニルアミノ、シクロアルキルオキ
シカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミ
ノ、ウレイド、スルホンアミド、スルファモイルアミ
ノ、イミド、アルキルチオ、アリールチオ、複素環チ
オ、スルフィニル、スルホ、アルカンスルホニル、アレ
ーンスルホニル、スルファモイル、ホスホニル、および
ホスフィノイルアミノを挙げることができ、これらの基
の好ましい炭素数及び具体例はＲ₄₀で表される基の説明
で挙げたものと同じである。Ｒ₅₁〜Ｒ₆₆で表される基の
さらに好ましい置換基はハロゲン原子、アルキル、シク
ロアルキル、アリール、シリル、ヒドロキシル、カルボ
キシル、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、アリール
オキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキルオキシ
カルボニル、カルバモイル、カルボンアミド、アルコキ
シカルボニルアミノ、シクロアルキルオキシカルボニル
アミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、ウレイド、
スルホンアミド、イミド、アルキルチオ、シクロアルキ
ルチオ、アリールチオ、アルカンスルホニル、アレーン
スルホニル、ホスホニル、ホスフィノイルアミノであ
る。

【００８０】次にＲ₅₁〜Ｒ₆₆、ａ、ｂ、ｄ、ｅ、および
ｆの好ましい範囲について説明する。

【００８１】一般式（Ｃｐ−１）において、ａが０のと
き、Ｒ₅₁はアルキル、シクロアルキル、アリール、また
は複素環基が好ましく、Ｒ₅₂はアリールが好ましい。ａ
が１のとき、Ｒ₅₁はアルキル、シクロアルキル、または
アリールが好ましく、Ｒ₅₂はアリールが好ましい。

【００８２】一般式（Ｃｐ−２）において、ｂが０のと
き、Ｒ₅₃は複素環基が好ましく、Ｒ ₅₁はアリールが好ま
しく、Ｒ₅₂は水素原子が好ましい。ｂが１のとき、Ｒ₅₃
はアリールが好ましく、Ｒ₅₁はアリールが好ましく、Ｒ
₅₂はアルキル、シクロアルキル、または水素原子が好ま
しく、Ｒ₅₁がアリールであり、かつＲ₅₂がアルキルの場
合には、Ｒ₅₁とＲ₅₂が結合して窒素原子とともに５員の
複素環を形成し、さらにベンゼン環が縮環することが好
ましい。

【００８３】一般式（Ｃｐ−３）において、Ｒ₅₄がアル
キル、カルボンアミド、またはアニリノであり、かつＲ
₅₅が置換フェニルであることが好ましく、Ｒ₅₄がカルボ
ンアミドまたはアニリノであり、かつＲ₅₅が２，４，６
−トリクロロフェニル，２，５−ジクロロフェニル、ま
たはペンタクロロフェニルであることがさらに好まし
い。

【００８４】一般式（Ｃｐ−４）および（Ｃｐ−５）に
おいてＲ₅₆がアルキル、シクロアルキル、アリール、ア
ルコキシ、シクロアルキルオキシ、またはアリールオキ
シであり、Ｒ₅₇がアルキル、シクロアルキル、またはア
リールである場合が好ましく、Ｒ₅₆がアルキルまたはシ
クロアルキルであり、Ｒ₅₇がアルキル、シクロアルキ
ル、またはアリールである場合がさらに好ましい。

【００８５】一般式（Ｃｐ−６）において、Ｒ₅₈はアル
キル、シクロアルキル、またはアリールが好ましく、Ｒ
₅₉はアルキル、シクロアルキル、カルボンアミド、スル
ホンアミド、ウレイド、アルコキシカルボニルアミノ、
シクロアルキルオキシカルボニルアミノ、またはハロゲ
ン原子が好ましく、ｄは１または２が好ましい。

【００８６】一般式（Ｃｐ−７）において、Ｒ₆₀は置換
フェニルが好ましく、Ｒ₅₉はアルキル、シクロアルキ
ル、カルボンアミド、スルホンアミド、ウレイド、アル
コキシカルボニルアミノ、またはハロゲン原子が好まし
く、ｄは１または２が好ましい。Ｒ₆₀が少なくとも１個
のシアノもしくは塩素原子が置換したフェニルであり、
Ｒ₅₉がカルボンアミド、スルホンアミド、ウレイド、ま
たはアルコキシカルボニルアミノであり、ｄが１である
場合がさらに好ましい。

【００８７】一般式（Ｃｐ−８）において、Ｒ₆₁は複素
環基、カルバモイル、アルコキシカルボニル、シクロア
ルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、
シアノ、スルファモイル、カルボンアミド、ウレイド、
アルコキシカルボニルアミノ、シクロアルキルオキシカ
ルボニル、アリールオキシカルボニルアミノ、またはス
ルホンアミドが好ましく、Ｒ₆₂はカルボンアミド、スル
ホンアミド、ウレイド、アルコキシカルボニルアミノ、
シクロアルキルオキシカルボニルアミノ、またはハロゲ
ン原子が好ましく、ｅは０ないし２の整数が好ましく、
Ｒ₆₁がカルバモイルまたはスルファモイルであり、Ｒ₆₂
がカルボンアミド、ウレイド、またはアルコキシカルボ
ニルアミノであり、ｅが０または１である場合がさらに
好ましい。

【００８８】一般式（Ｃｐ−９）および（Ｃｐ−１０）
において、Ｒ₆₃はアルキル、シクロアルキル、アリー
ル、カルボンアミド、スルホンアミド、アルキルチオ、
シクロアルキルチオ、アリールチオ、アルコキシ、シク
ロアルキルオキシ、アリールオキシ、ウレイド、アルコ
キシカルボニルアミノ、またはシクロアルキルオキシカ
ルボニルアミノが好ましく、ｅは１ないし２の整数が好
ましく、ｆは１または２が好ましい。

【００８９】一般式（Ｃｐ−１１）および（Ｃｐ−１
２）において、Ｒ₆₄はシアノ、カルバモイル、アルコキ
シカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、また
はアリールオキシカルボニルが好ましく、Ｒ₆₅はカルバ
モイル、アルコキシカルボニル、シクロアルキルオキシ
カルボニル、アリールオキシカルボニル、またはシアノ
が好ましく、Ｒ₆₆はアルキル、シクロアルキル、または
アリールが好ましく、Ｒ ₆₄がシアノであり、Ｒ₆₅がアル
コキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、
またはアリールオキシカルボニルであり、Ｒ₆₆がアルキ
ル、シクロアルキル、またはアリールである場合がさら
に好ましい。

【００９０】次にＴＩＭＥで示される基について説明す
る。ＴＩＭＥで示される基は、現像処理時に一般式（I
I）におけるＴＩＭＥの左側の結合が開裂した後、その
右側に結合する基を開裂することが可能なタイミング基
であればいずれでもよい。例えば、米国特許第４，１４
６，３９６号、同４，６５２，５１６号または同４，６
９８，２９７号に記載のあるヘミアセタールの開裂反応
を利用する基、米国特許第４，２４８，９６２号、同
４，８４７，１８５号、同４，８５７，４４０号、また
は同５，２６２，２９１号に記載のある分子内求核置換
反応を利用して開裂反応を起こさせるタイミング基、米
国特許第４，４０９，３２３号もくしは同４，４２１，
８４５号に記載のある電子移動反応を利用して開裂反応
を起こさせるタイミング基、米国特許第４，５４６，０
７３号に記載のあるイミノケタールの加水分解反応を利
用して開裂反応を起こさせる基、英国特許第１，５３
１，９２７号に記載のあるエステルの加水分解反応を利
用して開裂反応を起こさせる基、または欧州公開特許第
０５７２０８４号もしくは同０６８４５１２号に記載の
亜硫酸イオンとの反応を利用して開裂反応を起こさせる
基が挙げられる。ＴＩＭＥはそれに含まれるヘテロ原
子、好ましくは酸素原子、イオウ原子または窒素原子に
おいてカプラーのカップリング活性位と結合する。一般
式（II）においてｎが２以上であるとき複数個のＴＩＭ
Ｅは同じものまたは異なるものを表す。好ましいＴＩＭ
Ｅとしては下記一般式（Ｔ−１）、（Ｔ−２）または
（Ｔ−３）が挙げられる。

【００９１】一般式（Ｔ−１） ＊−Ｗ−（Ｚ₁ ＝
Ｚ₂ ）_j −Ｃ（Ｒ₇₁）（Ｒ₇₂）−＊＊ 一般式（Ｔ−２） ＊−Ｗ−ＣＯ−＊＊ 一般式（Ｔ−３） ＊−Ｗ−ＬＩＮＫ−Ｅ−＊＊ これらの式中、＊は一般式（II) におけるＴＩＭＥの左
側の基に結合する位置を表し、＊＊は一般式（II) にお
けるＴＩＭＥの右側の基が結合する位置を表し、Ｗは酸
素原子、硫黄原子または＞Ｎ−Ｒ₇₃を表し、Ｚ₁ および
Ｚ₂ は各々互いに独立して置換もしくは無置換のメチン
または窒素原子を表し、ｊは０、１または２を表し、Ｒ
₇₁およびＲ₇₂は互いに独立してＲ₄₃と同じ意味の基を表
し、Ｒ₇₃はＲ₄₅と同じ意味の基を表す。Ｚ₁ およびＺ₂
が置換メチンを表すときその置換基はＲ₄₀と同じ意味の
基を表す。ここで、Ｚ₁ およびＺ₂ が置換メチンを表す
ときその置換基、Ｒ₇₁、Ｒ₇₂およびＲ₇₃の各々の任意の
２つの置換基が互いに連結して環状構造（例えば、ベン
ゼン環、ピラゾール環）を形成してもよい。一般式（Ｔ
−３）においてＥは求電子基を表し、ＬＩＮＫはＷとＥ
とが分子内求核置換反応することができるように立体的
に関係づける連結基を表す。ｎは１、２または３である
ことが好ましい。

【００９２】一般式（Ｔ−１）で示されるＴＩＭＥの具
体例として例えば以下のものである。

【００９３】

【化２７】

【００９４】一般式（Ｔ−２）で示されるＴＩＭＥの具
体例として例えば以下のものである。

【００９５】

【化２８】

【００９６】一般式（Ｔ−３）で示されるＴＩＭＥの具
体例として例えば以下のものである。

【００９７】

【化２９】

【００９８】一般式（II）においてｎが２以上の時の
（ＴＩＭＥ）_n の具体例、およびその他のタイミング基
の例として以下のものが挙げられる。

【００９９】

【化３０】

【０１００】次に一般式（II) においてＤＩで表される
現像抑制剤として作用する基について説明する。

【０１０１】ＤＩで表される現像抑制剤としては例えば
リサーチディスクロージャー（Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉ
ｓｃｌｏｓｕｒｅ）Ｎｏ．３７０３８（１９９５年２
月）の８６頁〜８８頁に記載された現像抑制剤もしくは
ＤＩＲカプラーから放出されることができる現像抑制剤
が挙げられ、さらに詳しくはリサーチディスクロージャ
ーＮｏ．１７６４３（１９７８年１２月）、米国特許
４，４７７，５６３号、同５，０２１，３３２号、同
５，０２６，６２８号、同３，２２７，５５４号、同
３，３８４，６５７号、同３，６１５，５０６号、同
３，６１７，２９１号、同３，７３３，２０１号、同
３，９３３，５００号、同３，９５８，９９３号、同
３，９６１，９５９号、同４，１４９，８８６号、同
４，２５９，４３７号、同４，０９５，９８４号、同
４，７８２，０１２号、英国特許第１４５０４７９号、
特公昭６３−４９２１６号、または米国特許第５，０３
４，３１１号に記載されているごとき現像抑制剤が含ま
れる。好ましくはヘテロ環チオ基、ヘテロ環セレノ基ま
たはトリアゾリル基（単環もしくは縮合環の１，２，３
−トリアゾリルもしくは１，２，４−トリアゾリル）で
あり、特に好ましくはテトラゾリルチオ、テトラゾリル
セレノ、１，３，４−オキサジアゾリルチオ、１，３，
４−チアジアゾリルチオ、１−（または２−）ベンゾト
リアゾリル、１，２，４−トリアゾール−１−（または
４−）イル、１，２，３−トリアゾール−１−イル、２
−ベンゾチアゾリルチオ、２−ベンゾオキサゾリルチ
オ、２−ベンゾイミダゾリルチオおよびこれらの誘導体
が含まれる。好ましい現像抑制剤として作用する基は下
記一般式ＤＩ−１〜ＤＩ−６で示される。

【０１０２】

【化３１】

【０１０３】式中、Ｒ₉₁はハロゲン原子（例えばブロム
原子、クロル原子）、アルキル（炭素数１〜２０、好ま
しくは１〜１０の、直鎖もしくは分岐のアルキルで、例
えばメチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチ
ル、ｔ−アミル、プロピルオキシカルボニルメチル、ブ
トキシカルボニルエチル、４−メトキシベンジル、ベン
ジル）、シクロアルキル（炭素数３から２０、好ましく
は３〜１０のシクロアルキルで、例えば、シクロプロピ
ル、１−エチルシクロプロピル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、
アリール（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリ
ールで、例えばフェニル、ナフチル、４−ヒドロキシフ
ェニル、３−メトキシカルボニルフェニル、４−エトキ
シカルボニルフェニル）、複素環基（炭素数１〜２０、
好ましくは１〜１２のヘテロ環基で、ヘテロ原子として
例えば窒素原子、酸素原子または硫黄原子を少なくとも
一個含み、好ましくは５もしくは６員環の、単環もしく
は縮合環のヘテロ環で、例えば２−ピリジル、２−フリ
ル、１−ピロリル、モルホリノ、１−インドリニル、ア
ルコキシ（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアル
コキシで、例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキ
シ）、シクロアルキルオキシ（炭素数３〜２０、好まし
くは３〜１０のシクロアルキルオキシで、例えば、シク
ロプロピルオキシ、１−エチルシクロプロピルオキシ、
シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリ
ールオキシ（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１０のア
リールオキシで、例えばフェノキシ、４−メトキシフェ
ノキシ、ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ（好ましくは炭
素数１〜１０のヘテロ環オキシで、例えば、１−フェニ
ルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ、２−フリルオキシ）、シリルオキシ基（好ま
しくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基で、例えば、ト
リメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ
（好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシで、例え
ば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキ
シ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキ
シ（好ましくは炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル
オキシで、例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブ
トキシカルボニルオキシ）、シクロアルキルオキシカル
ボニルオキシ（好ましくは炭素数４〜１０のシクロアル
キルオキシカルボニルオキシで、例えば、シクロヘキシ
ルオキシカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニ
ルオキシ（好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシ
カルボニルオキシで、例えば、フェノキシカルボニルオ
キシ）、カルバモイルオキシ（好ましくは炭素数１〜１
０のカルバモイルオキシで、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイルオキシＮ−ブチルカルバモイルオキシ）、
スルファモイルオキシ（好ましくは炭素数１〜１０のス
ルファモイルオキシで、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスル
ファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキ
シ）、アルカンスルホニルオキシ（好ましくは炭素数１
〜１０のアルカンスルホニルオキシで、例えばメタンス
ルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ）、アレーン
スルホニルオキシ（好ましくは炭素数６〜１２のアレー
ンスルホニルオキシで、例えば、ベンゼンスルホニルオ
キシ）、アミド（炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０
のアミドで、例えばアセトアミド、ペンタンアミド、ヘ
キサンアミド、ヘプタンアミド、ベンズアミド）、アル
カンスルホンアミド（炭素数１〜２０、好ましくは１〜
１０のアルカンスルホンアミドで、例えばメタンスルホ
ンアミド、ブタンスルホンアミド）、アレーンスルホン
アミド（炭素数６〜２０、好ましくは６〜１５のアレー
ンスルホンアミドで、例えばベンゼンスルホンアミド、
ｐ−トルエンスルホンアミド）、アルコキシカルボニル
アミノ（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコ
キシカルボニルアミノで、例えばエトキシカルボニルア
ミノ）、シクロアルキルオキシカルボニルアミノ（好ま
しくは炭素数４〜１０のシクロアルキルオキシカルボニ
ルアミノで、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニル
アミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ（炭素数７
〜２０、好ましくは７〜１５のアリールオキシカルボニ
ルアミノで、例えばフェノキシカルボニルアミノ）、ウ
レイド（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のウレイ
ドで、例えばＮ−フェニルウレイド）、ニトロ、アシル
（炭素数１〜２０、好ましくは２〜１０のアシルで、例
えばアセチル、ベンゾイル）、アルコキシカルボニル
（炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０のアルコキシカ
ルボニルで、例えばメトキシカルボニル、ブトキシカル
ボニルメトキシカルボニル、イソアミルオキシカルボニ
ルメトキシカルボニル）、シクロアルキルオキシカルボ
ニル（好ましくは炭素数４〜１０のシクロアルキルオキ
シカルボニルで、例えば、シクロプロピルオキシカルボ
ニル、シクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオ
キシカルボニル（炭素数７〜２１、好ましくは７〜１１
のアリールオキシカルボニルで、例えばフェノキシカル
ボニル）、カルバモイル（炭素数１〜２０、好ましくは
１〜１０のカルバモイルで、例えばＮ−ブチルカルバモ
イル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチルカル
バモイル）、シアノ、アルキルチオ（炭素数１〜２０、
好ましくは１〜１０のアルキルチオで、例えばメチルチ
オ、ブチルチオ、ヘキシルチオ）、アリールチオ（炭素
数６〜２０、好ましくは６〜１５のアリールチオで、例
えばフェニルチオ、ナフチルチオ）、アルカンスルホニ
ル（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルカンス
ルホニルで、例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニ
ル）、アレーンスルホニル（炭素数６〜２０、好ましく
は６〜１５のアレーンスルホニルで、例えばベンゼンス
ルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルコキシスル
ホニル（好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシスルホ
ニルで、例えば、メトキシスルホニル、エトキシスルホ
ニル）、シクロアルキルオキシスルホニル（好ましくは
炭素数３〜１０のシクロアルキルオキシスルホニルで、
例えば、シクロプロピルオキシスルホニル）、アリール
オキシスルホニル（好ましくは炭素数６〜１２のアリー
ルオキシスルホニルで、例えば、フェノキシスルホニ
ル、ｐ−メチルフェノキシスルホニル）、またはスルフ
ァモイル（炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のスル
ファモイルで、例えばＮ−ブチルスルファモイル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルスルファモイル）が挙げられる。Ｒ₉₁はさ
らに置換基を有してもよく、好ましい置換基はＲ₉₁とし
て挙げた置換基である。

【０１０４】式中、Ｒ₉₂はアルキル、シクロアルキル、
アリール、または複素環基を表し、これらの基の好まし
い具体例はＲ₉₁の説明で挙げたものと同じである。Ｖは
酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ₉₃）−を表し、Ｒ
₉₃はＲ₉₂と同じ意味の基を表す。ｋは０〜４、ｇは０ま
たは１、ｈは１または２を表す。以下に好ましい現像抑
制剤の具体例を示すが、本発明はこれらによって限定さ
れない。

【０１０５】

【化３２】

【０１０６】

【化３３】

【０１０７】次に、一般式（II) で表される化合物の好
ましい範囲について説明する。一般式（II) で表される
化合物の内、Ａで表される基が一般式（Ｃｐ−１）、
（Ｃｐ−２）、（Ｃｐ−６）、（Ｃｐ−７）、（Ｃｐ−
８）、または（Ｃｐ−１１）であり、ｎが１または２で
あり、ＤＩが一般式（ＤＩ−１）、（ＤＩ−２）、（Ｄ
Ｉ−３）、または（ＤＩ−６）であり、ＴＩＭＥが一般
式（Ｔ−１）、（Ｔ−２）又はこれらを組み合わせて形
成される基が好ましく、Ａで表される基が一般式（Ｃｐ
−１）または（Ｃｐ−８）であり、ＴＩＭＥが−ＯＣＯ
−または一般式（Ｔ−３）で表される基であり、ｎが１
または２であり、ＤＩが一般式（ＤＩ−１）、（ＤＩ−
２）または（ＤＩ−６）である場合がさらに好ましい。

【０１０８】以下に本発明の一般式（II) で表されるカ
プラーの具体的な代表例を示すが、本発明はこれらによ
って限定されない。

【０１０９】

【化３４】

【０１１０】

【化３５】

【０１１１】

【化３６】

【０１１２】

【化３７】

【０１１３】

【化３８】

【０１１４】

【化３９】

【０１１５】

【化４０】

【０１１６】

【化４１】

【０１１７】

【化４２】

【０１１８】

【化４３】

【０１１９】

【化４４】

【０１２０】

【化４５】

【０１２１】

【化４６】

【０１２２】

【化４７】

【０１２３】

【化４８】

【０１２４】

【化４９】

【０１２５】

【化５０】

【０１２６】

【化５１】

【０１２７】

【化５２】

【０１２８】

【化５３】

【０１２９】

【化５４】

【０１３０】本発明の一般式（II) で表される現像抑制
性化合物放出（ＤＩＲ）カプラーは米国特許第４，２４
８，９６２号、同４，８５７，４４０号、同５，０２
１，３２２号、同５，２５６，５２３号、ヨーロッパ公
告特許第０２９９７２６号、同０３４８１３９号、同０
３５４５３２号、同０４３８１５０号、同０４９９２７
９号、ヨーロッパ公開特許第０５１４８９６号、同０５
９４２５６号、同０５２３４２３号、同０５２０４９６
号、同０５７６０５２号、同０５７６０８７号、同０５
７６０８８号、同０５７６０８９号、同０５７６１８２
号、特公昭６３−３９８８９号、同６３−６１６５６
号、特公平５−１８０９５号、特開平７−１３３２５９
号、および特開平６−１３０５９４号等の明細書に記載
の方法に従って合成することができる。

【０１３１】以下に一般式(III)で表される化合物につ
いて詳しく述べる。

【０１３２】本発明に用いる酸化されることにより、現
像抑制剤を放出しうるレドックス化合物のレドックス基
の例としては、ハイドロキノン類、カテコール類、ナフ
トハイドロキノン類、アミノフェノール類、ピラゾリド
ン類、ヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、レダクト
ン類などが挙げられる。レドックス基としてはヒドラジ
ン類が好ましく、レドックス化合物としては下記一般式
〔Ｒ〕で表される化合物が特に好ましい。

【０１３３】

【化５５】

【０１３４】一般式〔Ｒ〕においてＢ₁，Ｂ₂は水素原
子、ともに水素原子又はスルホン酸残基、一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基例えば炭素数２０以下のア
ルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基（好まし
くはフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の
和が−０．５以上となるように置換されたフェニルスル
ホニル基）もしくは、−［Ｃ（Ｏ）］_n−Ｒ₀〔ここで、
Ｒ₀として好ましくは炭素数３０以下の直鎖、分岐状又
は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基（好ま
しくはフェニル基、又はハメットの置換基定数の和が−
０．５以上となるように置換されたフェニル基）、アル
コキシ基（例えばエトキシ基など）、アリールオキシ基
（好ましくは単環のもの）、_nは１または２の整数〕な
どであり、これらの基は置換基を有していてもよく置換
基としては、例えば以下のものがあげられる。これらの
基は更に置換されていてもよい。例えばアルキル基、ア
ラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スル
ホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオ
キシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基
やカルボキシル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カル
ボンアミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、などである。Ｂ₁，Ｂ₂で表さ
れるスルフィン酸残基は具体的には米国特許４，４７
８，９２８号に記載されているものを表す。

【０１３５】又、Ｂ₁は後述の−（ＴＩＭＥ）_t−と連結
して環を形成してもよい。

【０１３６】Ｂ₁，Ｂ₂としては水素原子が最も好まし
い。

【０１３７】ＴＩＭＥは二価の連結基を表し、タイミン
グ調節機能を有していてもよい。ｔは０又は１を表し、
ｔ＝０の場合はＤＩが直接Ｖに結合していることを意味
する。

【０１３８】ＴＩＭＥで表される二価の連結基は酸化還
元母核の酸化体から放出されるＴＩＭＥ−ＤＩから一段
階或は、それ以上の段階の反応を経てＤＩを放出せしめ
る基を表す。ＴＩＭＥで表される二価の連結基及びDIは
DIRカプラーと同様のものが使用できる。

【０１３９】Ｖはカルボニル基、−Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）
−、スルホニル基、スルホキシ基、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ₁₄）
−（Ｒ₁₄はアルコキシ基又はアリールオキシ基を表
す）、イミノメチレン基、チオカルボニル基を表し、Ｖ
としてはカルボニル基が好ましい。

【０１４０】Ｒで表される脂肪族基は直鎖、分岐又は環
状のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基であ
り、好ましい炭素数は１〜３０のものであって、特に炭
素数１〜２０のものである。ここで分岐アルキル基はそ
の中に１つ又はそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘ
テロ環を形成するように環化されていてもよい。

【０１４１】例えばメチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オク
チル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニ
ル基、ピロリジル基、テトラヒドロフリル基、ｎ−ドデ
シル基などが挙げられる。

【０１４２】芳香族基は単環又は２環のアリール基であ
り、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

【０１４３】ヘテロ環基は、Ｎ，Ｏ又はＳ原子のうち少
なくともひとつを含む３〜１０員の飽和もしくは不飽和
のヘテロ環であり、これらは単環でもよいし、更に他の
芳香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘ
テロ環として好ましいものは、５ないし６員環の芳香族
ヘテロ環であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル
基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニ
ル基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾ
リル基、チアゾリル基などが挙げられる。

【０１４４】Ｒは置換基で置換されていてもよい。置換
基としては、例えば以下のものが挙げられる。これらの
基は更に置換されていてもよい。

【０１４５】例えばアルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置
換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモ
イル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホチオ基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミ
ド基などである。

【０１４６】また一般式〔Ｒ〕において、Ｒは、その中
にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されて
いるバラスト基が組み込まれていてもよい。

【０１４７】バラスト基は一般式〔Ｒ〕で表される化合
物が実質的に他層又は処理液中へ拡散できないようにす
るのに十分な分子量を与える有機基であり、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテ
ル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンア
ミド基などの一以上の組み合わせからなるものである。
バラスト基として好ましくは置換ベンゼン環を有するバ
ラスト基であり、特に分岐状アルキル基で置換されたベ
ンゼン環を有するバラスト基が好ましい。

【０１４８】これらは更に適当な置換基で置換されてい
てもよい。置換基としては、例えばＲの置換基として述
べたものが挙げられる。

【０１４９】以下に本発明に用いられるＤＩＲレドック
ス化合物の具体例を列記するが本発明はこれに限定され
るものではない。

【０１５０】

【化５６】

【０１５１】

【化５７】

【０１５２】

【化５８】

【０１５３】

【化５９】

【０１５４】

【化６０】

【０１５５】

【化６１】

【０１５６】

【化６２】

【０１５７】

【化６３】

【０１５８】

【化６４】

【０１５９】

【化６５】

【０１６０】

【化６６】

【０１６１】

【化６７】

【０１６２】

【化６８】

【０１６３】

【化６９】

【０１６４】

【化７０】

【０１６５】本発明に用いられるレドックス化合物の合
成法は例えば特開昭６１−２１３８４７号、同６２−２
６０１５３号、米国特許４，６８４，６０４号、特願昭
６３−９８８０３号、米国特許３，３７９，５２９号、
同３，６２０，７４６号、同４，３７７，６３４号、同
４，３３２，８７８号、特開昭４９−１２９５３６号、
同５６−１５３３３６号、同５６−１５３３４２号、な
どに記載されている。

【０１６６】一般式(II)で表されるDIRカプラー及び一
般式(III)で表されるDIRレドックス化合物は、カラー感
材を構成するいかなる層にも使用することができるもの
である。これら構成する層にあっても好ましくはハロゲ
ン化銀感光性層およびその隣接層である。一般式(II)で
表されるDIRカプラー及び一般式(III)で表されるDIRレ
ドックス化合物の使用量はある１層で使用するDIRカプ
ラー及び／又はDIRレドックス化合物が、当該層で使用
するDIRカプラー以外のすべてのカプラーの５モル％以
上の量で用いるのが好ましく、より好ましくは１０モル
％以上１００モル％以下の範囲である。一般式(II)で表
されるDIRカプラー及び一般式(III)で表されるDIRレド
ックス化合物は、それぞれ単独で複数の層に使用しても
よく、複数のDIRカプラー及び／又は複数のDIRレドック
ス化合物を単独であるいは混合して使用してもよい。一
般式(II)で表されるDIRカプラー及び一般式(III)で表さ
れるDIRレドックス化合物の感光材料への添加方法は、
前記、例えば米国特許第2,322,027号明細書に記載の高
沸点有機溶媒を用いた水中油滴分散を適用するのが望ま
しい。また、ラテックス分散法などポリマー化合物を使
用する方法も適用することができる。さらに、カプラー
と共に添加する方法が望ましい。

【０１６７】次いで本発明のカラー拡散転写感光材料に
ついて述べる。カラー拡散転写フィルム・ユニットの代
表的な形態は、一つの透明な支持体上に受像要素と感光
要素とが積層されており、転写画像の完成後、感光要素
を受像要素から剥離する必要のない形態である。更に具
体的に述べると、受像要素は少なくとも一層の媒染層か
らなり、感光要素の好ましい態様に於いては青感性乳剤
層、緑感性乳剤層及び赤感性乳剤層の組合せ、又は緑感
性乳剤層、赤感性乳剤層及び赤外光感光性乳剤層の組合
せ、或いは青感性乳剤層、赤感性乳剤層及び赤外光感光
性乳剤層の組合せと、前記の各乳剤層にイエロー色素像
形成化合物、マゼンタ色素像形成化合物及びシアン色素
像形成化合物がそれぞれ組合わされて構成される（ここ
で「赤外光感光性乳剤層」とは７００nm以上、特に７４
０nm以上の光に対して分光感度極大を持つ乳剤層をい
う）。そして、該媒染層と感光層あるいは色素像形成化
合物含有層の間には、透明支持体を通して転写画像が観
賞できるように、酸化チタン等の固体顔料を含む白色反
射層が設けられる。

【０１６８】明所で現像処理を完成できるようにするた
めに白色反射層と感光層の間に更に遮光層を設けてもよ
い。又、所望により感光要素の全部又は一部を受像要素
から剥離できるようにするために適当な位置に剥離層を
設けてもよい。このような態様は、例えば特開昭５６−
６７８４０号やカナダ特許６７４，０８２号に記載され
ている。

【０１６９】また積層型であって剥離する別の態様とし
て、特開昭６３−２２６６４９号に記載の白色支持体上
に、少なくとも（ａ）中和機能を有する層、（ｂ）染料
受像層、（ｃ）剥離層、（ｄ）色素像形成化合物と組合
わされた少なくとも１つのハロゲン化銀乳剤層を順次有
する感光要素、遮光剤を含むアルカリ処理組成物、及び
透明カバーシートから成り、該乳剤層の該処理組成物を
展開する側と反対側に遮光機能をもつ層を有するカラー
拡散転写写真フィルムユニットがある。

【０１７０】また、別の剥離不要の形態では、一つの透
明支持体上に前記の感光要素が塗設され、その上に白色
反射層が塗設され、更にその上に受像層が積層される。
同一支持体上に受像要素と白色反射層と剥離層と感光要
素とが積層されており、感光要素を受像要素から意図的
に剥離する態様については、米国特許３，７３０，７１
８号に記載されている。

【０１７１】他方、二つの支持体上にそれぞれ感光要素
と受像要素が別個に塗設される代表的な形態には大別し
て二つあり、一つは剥離型であり、他は剥離不要型であ
る。これらについて詳しく説明すると、剥離型フィルム
・ユニットの好ましい態様では、一つの支持体上に少な
くとも一層の受像層が塗設されており、又感光要素は遮
光層を有する支持体上に塗設されていて、露光終了前は
感光層塗布面と媒染層塗布面は向き合っていないが露光
終了後（例えば現像処理中）は感光層塗布面が画像形成
装置内で反転して受像層塗布面と互いに接するように工
夫されている。媒染層で転写画像が完成した後は速やか
に感光要素が受像要素から剥離される。

【０１７２】また、剥離不要型フィルム・ユニットの好
ましい態様では、透明支持体上に少なくとも一層の媒染
層が塗設されており、透明又は遮光層を有する支持体上
に感光要素が塗設されていて、感光層塗布面と媒染層塗
布面とが向き合って重ね合わされている。

【０１７３】以上述べた形態に更にアルカリ性処理液を
含有する、圧力で破裂可能な容器（処理要素）を組合わ
せてもよい。なかでも一つの支持体上に受像要素と感光
要素が積層された剥離不要型フィルム・ユニットではこ
の処理要素は感光要素とこの上に重ねられるカバーシー
トの間に配置されるのが好ましい。又、二つの支持体上
にそれぞれ感光要素と受像要素が別個に塗設された形態
では、遅くとも現像処理時に処理要素が感光要素と受像
要素の間に配置されるのが好ましい。処理要素には、フ
ィルム・ユニットの形態に応じて遮光剤（カーボン・ブ
ラックやｐＨによって色が変化する染料等）及び白色顔
料（酸化チタン等）のいずれか又は両方を含むのが好ま
しい。更にカラー拡散転写方式のフィルム・ユニットで
は、中和層と中和タイミング層の組合せからなる中和タ
イミング機構がカバーシート中、又は受像要素中、ある
いは感光要素中に組み込まれているのが好ましい。

【０１７４】以下に、本発明の感光材料に使用しうる各
構成要素について更に詳細に説明する。

【０１７５】Ｉ．感光シート Ａ）支持体 本発明に用いられる感光シートの支持体は写真感光材料
に通常用いられる平滑な透明支持体なら、いずれでも用
いられ、酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネートなどが用いられ、下
塗り層を設けるのが好ましい。支持体は通常ライトパイ
ピングを防止するため微量の染料または酸化チタンの如
き顔料を含有しているのが好ましい。支持体の厚さは５
０〜３５０μｍ、好ましくは７０〜２１０μｍ、更に好
ましくは８０〜１５０μｍ、である。必要に応じて支持
体のバック側にはカールバランスをとる層または特開昭
５６−７８８３３号に記載の酸素遮断性の層をつけるこ
とができる。

【０１７６】Ｂ）受像層 本発明に用いられる染料受像層は親水性コロイド中に媒
染剤を含むものである。これは単一の層であっても、ま
た媒染力の異なる媒染剤が重ねて塗設された多層構成の
ものでもよい。これについては特開昭６１−２５２５５
１号に記載されている。媒染剤としては、ポリマー媒染
剤が好ましい。ポリマー媒染剤とは二級および三級アミ
ノ基を含むポリマー、含窒素複素環部分をもつポリマ
ー、および四級カチオンを含むポリマーなどで分子量が
５，０００以上のもの、特に好ましくは１０，０００以
上のものである。媒染剤の塗設量は、一般的には０．５
〜１０ｇ／ｍ²好ましくは１．０〜５．０ｇ／ｍ²特に好
ましくは２〜４ｇ／ｍ²である。

【０１７７】受像層に使用する親水性コロイドとして
は、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドンなどが使用されるがゼラチ
ンが好ましい。受像層中には、特開昭６２−３０６２０
号や同６２−３０６２１号、特開昭６２−２１５２７２
号記載の退色防止剤を組み込むことができる。

【０１７８】Ｃ）白色反射層 色画像の白背景を成す白色反射層は通常白色顔料と親水
性バインダーを含む。白色反射層用の白色顔料として
は、硫酸バリウム、酸化亜鉛、ステアリン酸バリウム、
銀フレーク、ケイ酸塩類、アルミナ、酸化ジルコニウ
ム、ジルコニウム硫酸ソーダ、カオリン、雲母、二酸化
チタンなどが使用される。更に、スチレンなどによりな
る非造膜性のポリマー粒子なども使用される。又これら
は、単独で使用しても良いし、望まれる反射率を得られ
る範囲で混合して用いることもできる。特に有用な白色
顔料は、二酸化チタンである。

【０１７９】白色反射層の白色度は、顔料の種類、顔料
とバインダーの混合比率および顔料の塗布量によって変
るが、光反射率が７０％以上であることが望ましい。一
般に、顔料の塗布量が増えるほど、白色度が向上する
が、この層を通って画像形成色素が拡散するとき、顔料
が色素の拡散に対して抵抗となるので、適度の塗布量を
もつことが望ましい。二酸化チタンを５〜４０ｇ／
ｍ²、好ましくは１０〜２５ｇ／ｍ²塗布し、光反射率が
５４０ｎｍの波長の光で７８〜８５％を有する白色反射
層が好ましい。二酸化チタンは、市販の種々の銘柄より
選んで用いることができる。この中でも特にルチル型の
二酸化チタンを用いるのが好ましい。市販品の多くは、
アルミナ、シリカや酸化亜鉛などで表面処理が行なわれ
ており、高い反射率を得るには、表面処理量が５％以上
のものが望ましい。市販されている二酸化チタンとして
は、例えば、デュポン社の Ti-pure R931 の他、リサー
チ・ディスクロージャー誌１５１６２号に記載のものが
ある。

【０１８０】白色反射層のバインダーとしては、アルカ
リ浸透性の高分子マトリックス、例えばゼラチン、ポリ
ビニルアルコールやヒドロキシエチルセルロース、カル
ボキシルメチルセルロースのようなセルロース誘導体が
使用できる。白色反射層の特に望ましいバインダーはゼ
ラチンである。白色顔料とゼラチンの比は、１／１〜２
０／１（質量比）、望ましくは５／１〜１０／１（質量
比）である。白色反射層中には、特公昭６２−３０６２
０号や同６２−３０６２１号のような褪色防止剤を組み
込むことが好ましい。

【０１８１】Ｄ）遮光層 白色反射層と感光性層の間には遮光剤および親水性バイ
ンダーを含む遮光層を設ける。遮光剤としては、遮光機
能を有する材料のいずれも用いられるが、カーボンブラ
ックが好ましく用いられる。また米国特許第４，６１
５，９６６号等に記載の分解性の染料を用いてもよい。
遮光剤を塗設するバインダーとしてはカーボンブラック
を分散しうるものならいずれでもよく、好ましくはゼラ
チンである。カーボンブラック原料としては、例えば D
onnel Voet "Carbon Black" MarcelDekker, Inc. （１
９７６）に記載されているようなチャンネル法、サーマ
ル法及びファーネス法など任意の製法のものが使用でき
る。カーボンブラックの粒子サイズは特に限定されない
が９０〜１８００Åのものが好ましい。遮光剤としての
黒色顔料の添加量は遮光すべき感光材料の感度に応じて
量を調節すればよいが、光学濃度で５〜１０程度が望ま
しい。

【０１８２】Ｅ）感光層 本発明においては、前記遮光層の上方に色素像形成化合
物と組合わされたハロゲン化銀乳剤層から成る感光層を
設ける。以下その構成要素について述べる。

【０１８３】（１）色素像形成化合物 色素像形成化合物の具体例は下記の文献に記載されてい
る。 イエロー色素の例：米国特許３，５９７，２００号、同
３，３０９，１９９号、同４，０１３，６３３号、同
４，２４５，０２８号、同４，１５６，６０９号、同
４，１３９，３８３号、同４，１９５，９９２号、同
４，１４８，６４１号、同４，１４８，６４３号、同
４，３３６，３２２号：特開昭５１−１１４９３０号、
同５６−７１０７２号：Research Disclosure １７６３
０（１９７８）号、同１６４７５（１９７７）号に記載
されているもの。

【０１８４】マゼンタ色素の例：米国特許３，４５３，
１０７号、同３，５４４，５４５号、同３，９３２，３
８０号、同３，９３１，１４４号、同３，９３２，３０
８号、同３，９５４，４７６号、同４，２３３，２３７
号、同４，２５５，５０９号、同４，２５０，２４６
号、同４，１４２，８９１号、同４，２０７，１０４
号、同４，２８７，２９２号、特開昭５２−１０６７２
７号、同５３−２３６２８号、同５５−３６８０４号、
同５６−７３０５７号、同５６−７１０６０号、同５５
−１３４号、特開平７−１２０９０１号、同８−２８６
３４３号、同８−２８６３４４号、同８−２９２５３７
号に記載されているもの。

【０１８５】シアン色素の例：米国特許３，４８２，９
７２号、同３，９２９，７６０号、同４，０１３，６３
５号、同４，２６８，６２５号、同４，１７１，２２０
号、同４，２４２，４３５号、同４，１４２，８９１
号、同４，１９５，９９４号、同４，１４７，５４４
号、同４，１４８，６４２号；英国特許１，５５１，１
３８号；特開昭５４−９９４３１号、同５２−８８２７
号、同５３−４７８２３号、同５３−１４３３２３号、
同５４−９９４３１号、同５６−７１０６１号；ヨーロ
ッパ特許（ＥＰ）５３，０３７号、同５３，０４０号；
Research Disclosure １７，６３０（１９７８）号、及
び同１６，４７５（１９７７）号に記載されているも
の。

【０１８６】カップリングにより色素を形成する色素像
形成化合物も使用できる。例えば特開平８−２８６３４
０号、同９−１５２７０５号、特願平８−３５７１９０
号、同８−３５７１９１号、同９−１１７５２９号など
に記載されている。またポジ型の色素像形成化合物も使
用できる。この場合、ハロゲン化銀乳剤はネガ乳剤を使
用すればよい。この例として、特開平４−１５６５４２
号、同４−１５５３３２号、同４−１７２３４４号、同
４−１７２４５０号、同４−３１８８４４号、同３５６
０４６号、同５−４５８２４号、同５−４５８２５号、
同５−５３２７９号、同５−１０７７１０号、同５−２
４１３０２号、同５−１０７７０８号、同５−２３２６
５９号、米国特許第５，１９２，６４９号に記載されて
いる。

【０１８７】これらの化合物は、特開昭６２−２１５２
７２号１４４〜１４６頁記載の方法で分散することがで
きる。またこれらの分散物には、特開昭６２−２１５２
７２号１３７〜１４４頁記載の化合物を含ませてもよ
い。これらの色素形成化合物の具体例としては、以下の
化合物が挙げられる。下記の化合物中のＤｙｅは、色素
基、一時的に短波化された色素基、又は色素前駆体基を
表す。

【０１８８】

【化７１】

【０１８９】

【化７２】

【０１９０】

【化７３】

【０１９１】（２）ハロゲン化銀乳剤 本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、主にハロゲン
化銀粒子表面に潜像を形成するネガ型乳剤でもよいし、
ハロゲン化銀粒子内部に潜像を形成する内部潜像型直接
ポジ乳剤でもよい。

【０１９２】内部潜像型直接ポジ乳剤には、例えば、ハ
ロゲン化銀の溶解度差を利用してつくる、いわゆる「コ
ンバージョン型」乳剤や、金属イオンをドープするか、
もしくは化学増感するか、又はその両方を施したハロゲ
ン化銀の内部核（コア）粒子の少なくとも感光サイトを
ハロゲン化銀の外部殻（シェル）で被覆してなる「コア
／シェル型」乳剤等があり、これについては、米国特許
２，５９２，２５０号、同３，２０６，３１３号、英国
特許１，０２７，１４６号、米国特許３，７６１，２７
６号、同３，９３５，０１４号、同３，４４７，９２７
号、同２，２９７，８７５号、同２，５６３，７８５
号、同３，５５１，６６２号、同４，３９５，４７８
号、西独特許２，７２８，１０８号、米国特許４，４３
１，７３０号などに記載されている。

【０１９３】本発明ではこれらネガ型乳剤及び内部潜像
型直接ポジ乳剤と組合わせて、分光増感色素を用いるこ
とができる。その具体例については、特開昭５９−１８
０５５０号、同６０−１４０３３５号、リサーチ・ディ
スクロージャー（ＲＤ）１７０２９、米国特許１，８４
６，３００号、同２，０７８，２３３号、同２，０８
９，１２９号、同２，１６５，３３８号、同２，２３
１，６５８号、同２，９１７，５１６号、同３，３５
２，８５７号、同３，４１１，９１６号、同２，２９
５，２７６号、同２，４８１，６９８号、同２，６８
８，５４５号、同２，９２１，０６７号、同３，２８
２，９３３号、同３，３９７，０６０号、同３，６６
０，１０３号、同３，３３５，０１０号、同３，３５
２，６８０号、同３，３８４，４８６号、同３，６２
３，８８１号、同３，７１８，４７０号、同４，０２
５，３４９号等に記載されている。

【０１９４】（３）感光層の構成 減色法による天然色の再現には、上記分光増感色素によ
り分光増感された乳剤と同波長範囲に選択的な分光吸収
をもつ色素を供与する前記色素像形成化合物とのくみあ
わせの少なくとも二つからなる感光層を用いる。乳剤と
色素像形成化合物とは別層として重ねて塗設してもよい
し、また混合し一層として塗設してもよい。該色素像形
成物質が塗布された状態で、これと組合わされた乳剤の
分光感度域に吸収を持つ場合には別層の方が好ましい。
また乳剤層は複数の、感度の異なる乳剤層からなるもの
でもよく、また乳剤層と色素像形成化合物層との間に任
意の層を設けてもよい。例えば、特開昭６０−１７３５
４１号に記載された造核現像促進剤を含む層、特公昭６
０−１５２６７号に記載された隔壁層を設けて色像濃度
を高めたり、また反射層を設け感光要素の感度をたかめ
ることも出来る。

【０１９５】反射層としては、白色顔料および親水性バ
インダーを含む層であり、好ましくは白色顔料は酸化チ
タン、親水性バインダーはゼラチンである。酸化チタン
の塗布量は０．１ｇ／ｍ²〜８ｇ／ｍ²、好ましくは０．
２ｇ／ｍ²〜４ｇ／ｍ²である。反射層の例としては特開
昭６０−９１３５４号に記載がある。

【０１９６】好ましい重層構成では、露光側から青感性
乳剤の組合わせ単位、緑感性乳剤の組合わせ単位、赤感
性乳剤の組合わせ単位が順次配置される。

【０１９７】各乳剤層単位の間には必要に応じて任意の
層を設ける事ができる。特にある乳剤層の現像の効果が
他の乳剤層単位に及ぼす好ましくない影響を防ぐため、
中間層を設置するのが好ましい。本発明は必要に応じ
て、イラジエーション防止層、ＵＶ吸収剤層、保護層な
どが塗設される。

【０１９８】Ｆ）剥離層 本発明では必要に応じて処理後にユニット内感光シート
の任意の場所で剥がし取る為に剥離層を設けることがで
きる。従ってこの剥離層は処理後の剥離が容易なもので
なければならない。

【０１９９】このための素材としては、例えば特開昭４
７−８２３７号、同５９−２２０７２７号、同５９−２
２９５５５号、同４９−４６５３号、米国特許第３，２
２０，８３５号、同４，３５９，５１８号、特開昭４９
−４３３４号、同５６−６５１３３号、同４５−２４０
７５号、米国特許第３，２２７，５５０号、同２，７５
９，８２５号、同４，４０１，７４６号、同４，３６
６，２２７号などに記載されたものを用いることが出来
る。具体例の一つとしは、水溶性（あるいはアルカリ可
溶性）のセルロース誘導体が挙げられる。例えばヒドロ
キシエチルセルロース、セルロースアセテートフタレー
ト、可塑化メチルセルロース、エチルセルロース、硝酸
セルロース、カルボキシメチルセルロースなどである。
また別の例として種々の天然高分子、例えばアルギン
酸、ペクチン、アラビアゴムなどがある。また種々の変
性ゼラチン、例えばアセチル化ゼラチン、フタル化ゼラ
チンなども用いられる。更に、別の例として、水溶性の
合成ポリマーが挙げられる。例えば、ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート、
ポリブチルメタクリレート、あるいは、それらの共重合
体などである。剥離層は、単一の層でも、また例えば、
特開昭５９−２２０７２７号、同６０−６０６４２号な
どに記載されているように複数の層からなるものでもよ
い。

【０２００】本発明のカラー拡散転写感光材料は処理開
始後時間に応じて感光層内のｐＨを低下せしめる機能
（中和機能ともいう）を有しているが、これは、例えば
支持体と感光層との間、あるいは支持体と受像層との
間、あるいはカバーシート上に中和機能をもつ層又は剤
を含有させることにより実現できる。具体的には、例え
ば下記Ｈ）のような上記機能を有する層を設けてもよい
し、写真構成層に更に上記機能を付与することのできる
物質を含有させてもよい。

【０２０１】Ｇ）支持体 本発明に用いられるカバーシートの支持体は写真感光材
料に通常用いられる平滑な透明支持体なら、いずれでも
用いられ、酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリカーボネートなどが用いられ、
下塗り層を設けるのが好ましい。支持体には、ライトパ
イピングを防止するため微量の染料を含有させるのが好
ましい。

【０２０２】Ｈ）中和機能を有する層 本発明に用いられる中和機能を有する層は、処理組成物
から持込まれるアルカリを中和するに十分な量の酸性物
質を含む層であり、必要に応じて、中和速度調節層（タ
イミング層）、密着強化層等の層から成る多層構成のも
のでもよい。好ましい酸性物質としてはｐＫａ９以下の
酸性基（もしくは加水分解によってそのような酸性基を
与える前駆体基）を含む物質であり、さらに好ましくは
米国特許２，９８３，６０６号に記載されているオレイ
ン酸のような高級脂肪酸、米国特許３，３６２，８１９
号に開示されているようなアクリル酸、メタアクリル酸
もしくはマレイン酸の重合体とその部分エステルまたは
酸無水物；仏国特許２，２９０，６９９号に開示されて
いるようなアクリル酸とアクリル酸エステルの共重体；
米国特許４，１３９，３８３号やリサーチ・ディスクロ
ージャ（Research Disclosure)Ｎｏ．１６１０２（１９
７７）に開示されているようなラテックス型の酸性ポリ
マーを挙げることができる。その他、米国特許４，０８
８，４９３号、特開昭５２−１５３７３９号、同５３−
１０２３号、同５３−４５４０号、同５３−４５４１
号、同５３−４５４２号等に開示の酸性物質も挙げるこ
とができる。

【０２０３】酸性ポリマーの具体例としてはエチレン、
酢酸ビニル、ビニルメチルエーテル等のビニルモノマー
と、無水マレイン酸との共重合体及びそのｎ−ブチルエ
ステル、ブチルアクリレートとアクリル酸との共重合
物、セルロース、アセテート・ハイドロジエンフタレー
ト等である。

【０２０４】前記ポリマー酸は親水性ポリマーと混合し
て用いることができる。このようなポリマーとしては、
ポリアクリルアミド、ポリメチルピロリドン、ポリビニ
ルアルコール（部分ケン化物も含む）、カルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、ポリメチルビニルエーテルなどで
ある。なかでも、ポリビニルアルコールが好ましい。ま
た、前記ポリマー酸に親水性ポリマー以外のポリマー、
例えばセルロースアセテートなどを混合してもよい。

【０２０５】ポリマー酸の塗布量は感光要素に展開され
るアルカリの量により調節される。単位面積当りのポリ
マー酸とアルカリの当量比は０．９〜２．０が好まし
い。ポリマー酸の量が少なすぎると、転写色素の色相が
変化したり、白地部分にステインを生じ、又多過ぎる場
合にも色相の変化、あるいは耐光性の低下などの不都合
を生じる。更に好ましい当量比は１．０〜１．３であ
る。混合する親水性ポリマーの量も多すぎても少なすぎ
ても写真の品質を低下させる。親水性ポリマーのポリマ
ー酸にたいする質量比は０．１〜１０、好ましくは０．
３〜３．０である。

【０２０６】本発明の中和機能を有する層には、種々の
目的で添加剤を組込むことができる。たとえば、この層
の硬膜を行うために当業者で周知の硬膜剤、また膜の脆
性を改良するためにポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、グリセリンなどの多価ヒドロキシル
化合物を添加することができる。その他必要に応じて、
酸化防止剤、蛍光増白剤、現像抑制剤およびその前駆体
などを添加することもできる。

【０２０７】中和層と組合わせて用いるタイミング層は
例えばゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルア
ルコールの部分アセタール化物、酢酸セルロース、部分
的に加水分解されたポリ酢酸ビニル、などのようなアル
カリ透過性を低くするポリマー；アクリル酸モノマーな
どの親水性コモノマーを少量共重合させてつくられた、
アルカリ透過の活性化エネルギーを高くするラテックス
ポリマー；ラクトン環を有するポリマーなどが有用であ
る。

【０２０８】なかでも、特開昭５４−１３６３２８号、
米国特許４，２６７，２６２号、同４，００９，０３０
号、同４，０２９，８４９号等に開示されている酢酸セ
ルロースを使用したタイミング層；特開昭５４−１２８
３３５号、同５６−６９６２９号、同５７−６８４３
号、米国特許４，０５６，３９４号、同４，０６１，４
９６号、同４，１９９，３６２号、同４，２５０，２４
３号、同４，２５６，８２７号、同４，２６８，６０４
号等に開示されている、アクリル酸などの親水性コモノ
マーを少量共重合させてつくられたラテックスポリマ
ー；米国特許４，２２９，５１６号に開示されたラクト
ン環を有するポリマー；その他特開昭５６−２５７３５
号、同５６−９７３４６号、同５７−６８４２号、ヨー
ロッパ特許（ＥＰ）３１，９５７Ａ１号、同３７，７２
４Ａ１号、同４８，４１２Ａ１号などに開示されたポリ
マーが特に有用である。

【０２０９】その他、以下の文献に記載のものも使用で
きる。米国特許３，４２１，８９３号、同３，４５５，
６８６号、同３，５７５，７０１号、同３，７７８，２
６５号、同３，７８５，８１５号、同３，８４７，６１
５号、同４，０８８，４９３号、同４，１２３，２７５
号、同４，１４８，６５３号、同４，２０１，５８７
号、同４，２８８，５２３号、同４，２９７，４３１
号、西独特許出願（ＯＬＳ）１，６２２，９３６号、同
２，１６２，２７７号、Research Disclosure １５１６
２, Ｎｏ. １５１（１９７６年）。これらの素材を用い
たタイミング層は単独層もしくは二種以上の層の併用と
して使用しうる。

【０２１０】またこれらの素材からなるタイミング層
に、例えば米国特許４，００９，０２９号、西独特許出
願（ＯＬＳ）２，９１３，１６４号、同３，０１４，６
７２号、特開昭５４−１５５８３７号、同５５−１３８
７４５号、などに開示された現像抑制剤および／もしく
はそのプレカーサーや、また、米国特許４，２０１，５
７８号に開示されているハイドロキノンプレカーサー、
その他有用な写真用添加剤もしくはそのプレカーサーな
どを組み込むことも可能である。さらには、中和機能を
有する層として、特開昭６３−１６８６４８号、同６３
−１６８６４９号に記載の如く補助中和層を設けること
が処理後経時による転写濃度の変化を少なくするという
点において効果がある。

【０２１１】Ｉ）その他 中和機能を有する層の他に、補助的な機能を持つ層とし
て、バック層、保護層、フィルター染料層などを有して
もよい。バック層は、カールの調整や、滑り性の付与の
為に設けられる。フィルター染料はこの層に添加しても
よい。保護層は、主としてカバーシートバック面との接
着、感光材料とカバーシートとを重ね合わせたときの感
光材料保護層との接着を防止する為に用いられる。カバ
ーシートに染料を含有させて感光層の感度調整を行う事
もできる。フィルター染料は、直接カバーシートの支持
体中や中和機能を有する層、さらには前記のバック層、
保護層、捕獲媒染層などに添加してもよいし、単独の層
を設置してもよい。

【０２１２】II．アルカリ処理組成物 本発明に用いられる処理組成物は、感光要素の露光後に
感光要素上に均一に展開され、支持体の背面あるいは感
光層の処理液と反対側に設置されて遮光層と対になっ
て、感光層を外光から完全に遮断し、同時に、その含有
する成分によって感光層の現像を行うものである。この
ために、組成物中には、アルカリ、増粘剤、遮光剤、現
像薬、更に、現像を調節するための、現像促進剤、現像
抑制剤、現像薬の劣化を防ぐための酸化防止剤などを含
有する。遮光のために組成物中には遮光剤は必ず含まれ
る。

【０２１３】アルカリは液のｐＨを１２〜１４とするに
足りるものであり、アルカリ金属の水酸化物（例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム）、
アルカリ金属のリン酸塩（例えばリン酸カリウム）、グ
アニジン類、四級アミンの水酸化物（例えば水酸化テト
ラメチルアンモニウムなど）が挙げられるが、なかでも
水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが好ましい。

【０２１４】増粘剤は処理液を均一に展開するために、
また感光層／カバーシート間の密着を保つために必要で
ある。例えば、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロースのアルカリ
金属塩が用いられ、好ましくは、ヒドロキシエチルセル
ロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロースが用い
られる。遮光剤としては、染料受像層まで拡散しステイ
ンを生じるものでなければ染料あるいは顔料のいずれで
も、またそれらの組合わせでも用いることができる。代
表的な物としてカーボンブラックが挙げられる。

【０２１５】好ましい現像薬は、色素像形成物質をクロ
ス酸化し、かつ酸化されても実質的にステインを生じな
いものであればどのようなものでも使用できる。このよ
うな現像薬は単独でもまた二種類以上を併用してもよ
く、またプレカーサーの型で使用してもよい。これらの
現像薬は感光シートの適当な層に含ませても、またアル
カリ性処理液中に含ませてもよい。具体的化合物として
はアミノフェノール類、ピラゾリジノン類が挙げられる
が、このうちピラゾリジノン類がステインの発生が少な
いため特に好ましい。例えば１−フェニル−３−ピラゾ
リジノン、１−ｐ−トリル−４，４−ジヒドロキシメチ
ル−３−ピラゾリジノン、１−（３′−メチル−フェニ
ル）−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾ
リジノン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシ
メチル−３−ピラゾリジノン、１−ｐ−トリル−４−メ
チル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリジノン、な
どが挙げられる。

【０２１６】感光シート、カバーシートあるいはアルカ
リ処理組成物のいずれかに特開昭６２−２１５２７２号
７２〜９１頁記載の現像促進剤、１４６〜１５５頁記載
の硬膜剤、２０１〜２１０頁記載の界面活性剤、２１０
〜２２２頁記載の含フッ素化合物、２２５〜２２７頁記
載の増粘剤、２２７〜２３０頁記載の帯電防止剤、２３
０〜２３９頁記載のポリマーラテックス、２４０頁記載
のマット剤などを含むことができる。また特開平６−２
７３９０７号、特開平７−１３４３８６号、特開平７−
１７５１９３号、特開平７−２８７３７２号に記載の３
級アミンラテックスを含むことができる。

【０２１７】また、これらのアルカリ液組成物は展開厚
（処理液転写後のｍ²当りの処理液量）が２０μｍ〜２
００μｍで感光要素上に展開されることが望ましい。な
お感光材料を処理する場合の処理温度は０〜５０℃が好
ましく、０〜４０℃が更に好ましい。

【０２１８】本発明が適用される熱現像カラー感光材料
（色素固定要素）及び適用される露光・加熱方法ならび
に装置の詳細については、例えば特開平７−２１９１８
０号公報の〔０１２８〕から〔０１５９〕に記載されて
いる。

【０２１９】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 実施例１ まず、ハロゲン化銀乳剤の調製法について説明する。以
下に示す乳剤粒子の調製法により、次の８種類のハロゲ
ン化銀乳剤粒子（乳剤−Ａ〜乳剤−Ｆ）及び乳剤−Ｔ、
Ｕを調製した。

【０２２０】乳剤−Ａ（八面体内部潜像型直接ポジ乳
剤）の調製：臭化カリウム０．０５Ｍ、３，６−ジチア
−１，８−オクタンジオール１ｇ、酢酸鉛０．０３４mg
及びＣａ含量１００ｐｐｍ以下の脱イオンゼラチン６０
ｇを含有するゼラチン水溶液１０００ml中に、温度を７
５℃に保ちながら０．４Ｍの硝酸銀水溶液と０．４Ｍの
臭化カリウム水溶液をコントロールダブルジェット法で
ｐＢｒが１．６０になるように臭化カリウム水溶液の添
加速度を調節しながら、硝酸銀水溶液３００mlを４０分
間かけて添加した。添加が終了すると、平均粒径（球相
当径）が約０．７μｍの粒子サイズの揃った八面体臭化
銀結晶（以後コア粒子と呼ぶ）が生成された。

【０２２１】次に、コア化学増感は以下の条件で行っ
た。 １．タンク：金属表面をDu Pont社開発のフッ素樹脂材
ＦＥＰにより厚み１２０μｍでテフロン（登録商標）コ
ーテイングした半球底形状。 ２．撹拌羽根：継ぎ目のない一体型で金属表面をテフロ
ンコーテイングしたプロペラ形式。

【０２２２】乳剤−Ａの調製液にチオ硫酸ナトリウム１
mg、及び四塩化金酸カリウム９０mgと臭化カリウム１．
２ｇを水１０００mlに溶解した水溶液３mlを加え、７５
℃で８０分間加熱することにより化学増感処理を行っ
た。このようにして化学増感を施した乳剤溶液に０．１
５Ｍの臭化カリウムを添加した後、コア粒子調製時と同
様に、温度を７５℃に保ちながら０．９Ｍの硝酸銀水溶
液と０．９Ｍの臭化カリウム水溶液をコントロールダブ
ルジェット法でｐＢｒが１．３０になるように臭化カリ
ウム水溶液の添加速度を調節しながら、硝酸銀水溶液６
７０mlを７０分間かけて添加した。この乳剤を常法のフ
ロキュレーション法により水洗し、前述のゼラチン及び
２−フェノキシエタノール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メ
チルを添加して平均粒径（球相当径）が約１．２μｍの
粒子サイズの揃った八面体臭化銀結晶（以後内部潜像型
コア／シェル粒子と呼ぶ）を得た。

【０２２３】次に、この内部潜像型コア／シェル乳剤に
チオ硫酸ナトリウム１００mgと四硼酸ナトリウム４０mg
を水１０００mlに溶解した水溶液３mlを加え、更に１４
mgのポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）を加え、６０℃で加
熱熟成した後、０．００５Ｍの臭化カリウムを添加する
ことにより、八面体内部潜像型直接ポジ乳剤を調製し
た。

【０２２４】乳剤−Ｂ〜Ｆ（八面体内部潜像型直接ポジ
乳剤）の調製：乳剤−Ａの調製法において、硝酸銀水溶
液及び臭化カリウム水溶液の添加時間を変更し、更に添
加薬品量の変更を行って、表１に示す平均粒径（球相当
径）の粒子サイズの揃った八面体内部潜像型直接ポジハ
ロゲン銀乳剤を得た。

【０２２５】

【表１】

【０２２６】乳剤−Ｔ（六角平板状内部潜像型直接ポジ
乳剤）の調製：臭化カリウム０．０５Ｍ、平均分子量が
１０万以下のゼラチンを０．７質量％含むゼラチン水溶
液１．２リットル中に、前述のゼラチンを含んだ１．４
Ｍの硝酸銀水溶液と２Ｍの臭化カリウム水溶液を激しく
撹拌しながらダブルジェット法で１分間で各３３mlを同
時に混合した。この間ゼラチン水溶液は３０℃に保たれ
た。更に、Ｃａ含量１００ｐｐｍ以下の脱イオンゼラチ
ンを１０質量％含むゼラチン溶液３００mlを添加した後
７５℃に昇温した。次に０．９Ｍの硝酸銀水溶液４０ml
を３分間かけて添加した後、２５質量％のアンモニア水
溶液を添加し、７５℃で熟成を行った。熟成終了後、ア
ンモニアを中和した後酢酸鉛５mg（水溶液にて添加）を
加え、１Ｍの硝酸銀水溶液と１Ｍの臭化カリウム水溶液
を、ｐＢｒを２．５に保ちながら加速された流速（終了
時の流速が開始時の流速の６倍）でダブルジェット法で
添加した（使用した硝酸銀水溶液の量は５００mlであっ
た）。

【０２２７】このようにして形成した粒子（以後コア粒
子と呼ぶ）を常法のフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン及び２−フェノキシエタノール、ｐ−ヒド
ロキシ安息香酸メチルを添加して７５０ｇの六角平板状
コア粒子を得た。得られた六角平板状コア粒子は平均投
影面積円相当直径が０．９μｍ、平均の厚みは０．２０
μｍであり、全投影面積の９５％が六角平板粒子によっ
て占められていた。

【０２２８】次に、コア化学増感は以下の条件で行っ
た。 １．タンク：金属表面をDu Pont社開発のフッ素樹脂材
ＦＥＰにより厚み１２０μｍでテフロンコーテイングし
た半球底形状。 ２．撹拌羽根：継ぎ目のない一体型で金属表面をテフロ
ンコーテイングしたプロペラ形式。

【０２２９】前記六角平板状コア乳剤２００ｇに水１３
００ml、臭化カリウム０．１１Ｍと脱イオンゼラチン４
０ｇを添加し、７５℃に昇温した後、３，６−ジチア−
１，８−オクタンジオール０．３ｇ、ベンゼンチオ硫酸
ナトリウム１０mg、及び四塩化金酸カリウム９０mgと臭
化カリウム１．２ｇを水１０００mlに溶解した水溶液
２．４ml、及び酢酸鉛１５mg（水溶液にて添加）を加
え、７５℃で１８０分間加熱することにより化学増感処
理を行った。このようにして化学増感を施したコア粒子
にコア粒子調製時と同様に、２Ｍの硝酸銀水溶液と２．
５Ｍの臭化カリウム水溶液を、ｐＢｒが２．２になるよ
うに臭化カリウム水溶液の添加速度を調節しながら、加
速された流速（終了時の流速が開始時の流速の３倍）で
ダブルジェット法で添加した（使用した硝酸銀水溶液の
量は８１０mlであった）。

【０２３０】０．３Ｍの臭化カリウムを添加した後、こ
の乳剤を常法のフロキュレーション法により水洗し、ゼ
ラチンを添加した。このようにして六角平板状内部潜像
型コア／シェル乳剤を得た。得られた六角平板状粒子は
平均投影面積円相当直径が２．０μｍ、平均の厚さが
０．３８μｍ、平均体積サイズが１．３μｍ³で全投影
面積の８８％が六角平板状粒子によって占められてい
た。次に、この六角平板状内部潜像型コア／シェル乳剤
にチオ硫酸ナトリウム１００mgと四硼酸ナトリウム４０
mgを水１０００mlに溶解した水溶液１５mlを加え、更に
２０mgのポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）を加え、７０℃
で１００分間加熱することにより粒子表面の化学増感を
行い、六角平板状内部潜像型直接ポジ乳剤を調製した。

【０２３１】乳剤−Ｕ（六角平板状内部潜像型直接ポジ
乳剤）の調製：乳剤−Ｔの外部殻形成時に、０．１５モ
ル％のヨードを均一に含ませて、更に外部殻形成量を増
加させることにより、平均投影面積円相当直径が２．５
μｍ、平均の粒子厚みが０．４５μｍ、平均体積サイズ
が１．７μｍ³で全投影面積の８８％が六角平板状粒子
によって占められていた。次に、この六角平板状内部潜
像型コア／シェル乳剤のシェル化学増感開始時に粒子形
成に要した銀量の０．０４モル％に相当するＡｇＩ微粒
子乳剤−Ｘを添加した後、乳剤−Ｔと同様のシェル化学
増感を施し、六角平板状内部潜像型直接ポジ乳剤を調製
した。

【０２３２】乳剤−Ｘ（ＡｇＩ微粒子乳剤）の調製 水中にヨウ化カリウム０．５ｇ、ゼラチン２６ｇを添加
し３５℃に保った溶液中へ撹拌しながら４０ｇの硝酸銀
を含む硝酸銀水溶液８０mlと３９ｇのヨウ化カリウムを
含む水溶液８０mlを５分間で添加した。この時硝酸銀水
溶液とヨウ化カリウム水溶液の添加流速は添加開始時に
は各々８ml／分とし、５分間で８０ml添加終了するよう
に直線的に添加流速を加速した。こうして粒子を形成し
終わった後、３５℃にて沈降法により可溶性塩類を除去
した。次に４０℃に昇温してゼラチン１０．５ｇ、フェ
ノキシエタノール２．５６ｇを添加し可性ソーダにより
ｐＨを６．８に調整した。得られた乳剤は完成量が７３
０ｇで平均直径０．０１５μｍの単分散ＡｇＩ微粒子で
あった。

【０２３３】以下の様に乳剤Ａ−Ｆ、Ｔ、Ｕを使用し
て、下記表２〜表６の構成を有する感光要素（試料Ｉ）
を作成した。尚、増感色素はシェル化学増感の終了時に
下記表７に示す色素種、分散形態、添加温度、量にて添
加した。

【０２３４】

【表２】

【０２３５】

【表３】

【０２３６】

【表４】

【０２３７】

【表５】

【０２３８】

【表６】

【０２３９】

【表７】

【０２４０】

【化７４】

【０２４１】

【化７５】

【０２４２】

【化７６】

【０２４３】感光要素試料II〜VIの作成 色素放出化合物およびDIR化合物の種類／量／添加層を
下記表８に示す内容に変更した以外は感光要素試料Ｉと
同様にして感光材料II〜VIを作成した。

【０２４４】

【表８】

【０２４５】

【化７７】

【０２４６】

【化７８】

【０２４７】

【化７９】

【０２４８】

【化８０】

【０２４９】

【化８１】

【０２５０】

【化８２】

【０２５１】

【化８３】

【０２５２】

【化８４】

【０２５３】

【化８５】

【０２５４】

【化８６】

【０２５５】

【化８７】

【０２５６】

【化８８】

【０２５７】

【化８９】

【０２５８】

【化９０】

【０２５９】

【化９１】

【０２６０】

【化９２】

【０２６１】

【化９３】

【０２６２】

【化９４】

【０２６３】

【化９５】

【０２６４】

【化９６】

【０２６５】

【化９７】

【０２６６】

【化９８】

【０２６７】カバーシートの作成 厚さ７５μｍの透明な支持体上に表９に示す様な層構成
にて塗布を行いカバーシート（イ）を作成した。

【０２６８】

【表９】

【０２６９】以下に上記カバーシート中で用いられた化
合物の化学構造式等を示す。

【０２７０】

【化９９】

【０２７１】

【化１００】

【０２７２】アルカリ処理組成物の処方を以下に示す。 硝酸銀 ０．１０ｇ カーボンブラック（大日精化（株）製） １６０ ｇ 添加剤(27) ８．６０ｇ カルボキシメチルセルロースＮａ塩 ５８．０ ｇ ベンジルアルコール ２．５０ｇ 添加剤(28) ２．１０ｇ 亜硫酸カリウム（無水） １．９０ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ２．５０ｇ １−ｐ−トリル−４−ヒドロキシメチル−４−メチル −３−ピラゾリドン ７．００ｇ 水酸化カリウム ５６．０ ｇ 硝酸アルミニウム ０．６０ｇ 硝酸亜鉛 ０．６０ｇ 添加剤(29) ６．６０ｇ 添加剤(14) １．８０ｇ １，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン ０．００３ｇ

【０２７３】

【化１０１】

【０２７４】カバーシート（イ）の第１層〜第３層を除
いたものものをカバーシート（ロ）として使用した。つ
いで前記感光要素I〜VIを、青のベタ露光、次に赤のベ
タ露光、または連続ウエッジを通してグレー露光を行
い、下記表１０に示すように前記カバーシート（イ）お
よび（ロ）とそれぞれ重ねあわせ、両材料の間に前記ア
ルカリ処理組成物を５５μｍの厚みとなるよう加圧ロー
ラーを使用して展開した。処理は２５℃で行い、２時間
後に転写濃度をカラー濃度計（商品名 Ｘ−ｒｉｔｅ
３５０濃度計、Ｔｈｅ Ｘ−ｒｉｔｅ Ｃｏｍｐａｎｙ
社製）で測定した。測定結果を表１０に示す。なお、表
中、単色Ｄｍａｘ（マゼンタ）は、青のベタ露光、次に
赤のベタ露光を行い、上記濃度計で濃度測定して得た値
であり、グレーＤｍａｘは、連続ウェッジを通してグレ
ー露光のみを行い、上記濃度計で濃度測定して得た値で
ある。

【０２７５】

【表１０】

【０２７６】上記試料１０１〜１０８、１１０、１１２
（比較用）と１０９及び１１１（本発明）との比較から
明らかなように、本発明の化合物により、彩度の高いカ
ラー拡散転写写真感光材料が得られることがわかる。彩
度は単色／グレー比で評価され、その値が１．０に近い
ほど彩度が高く好ましい。また、青感光層の替りに緑感
光層にDIR化合物を添加した場合のイエロー、シアン、
及び赤感光層にDIR化合物を添加した場合のマゼンタに
ついても同様の効果が得られた。

【０２７７】

【発明の効果】本発明によって、彩度の高いカラー拡散
転写感光材料が得られることがわかった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｃ 8/50 Ｇ０３Ｃ 8/50

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に銀現像に関連して拡散性色素
   もしくはその前駆体を形成もしくは放出する非拡散性色
   素像形成化合物と組み合わされた感光性ハロゲン化銀乳
   剤層を少なくとも２層有するカラー拡散転写写真感光材
   料であって、処理開始後時間に応じて感光層内のｐＨを
   低下せしめる機能を有し、かつ、下記一般式（Ｉ）で表
   される発色現像主薬と下記一般式（II）で表される現像
   抑制剤放出カプラー（DIRカプラー）及び／又は下記一
   般式(III)で表される酸化されることにより現像抑制剤
   を放出しうるレドックス化合物（DIRレドックス化合
   物）の少なくとも１種とを含有することを特徴とするカ
   ラー拡散転写写真感光材料。 【化１】 （式中、Ｚはカルバモイル基、アシル基、アルコキシカ
   ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル
   基又はスルファモイル基を表し、Ｑは炭素原子と共に５
   〜７員の不飽和環を形成する原子群を表す。） 一般式(II) Ａ−（ＴＩＭＥ）_n−ＤＩ （式中、Ａは発色現像主薬酸化体とのカップリング反応
   により（ＴＩＭＥ）_n−ＤＩを離脱するカプラー残基を
   表し、ＴＩＭＥはカップリング反応によりＡより離脱し
   た後に（ＴＩＭＥ）_n-1−ＤＩを開裂するタイミング
   基、もしくはＴＩＭＥから離脱した後に（ＴＩＭＥ）
   _n-2−ＤＩを開裂するタイミング基を表し、ｎは０、
   １、２または３を表す。ｎが２以上であるとき複数個の
   ＴＩＭＥは同じものまたは異なるものを表し、ＤＩはＡ
   もしくはＴＩＭＥから離脱した後に現像抑制剤として作
   用する基を表す。） 一般式(III) ＲＥＤ−（ＴＩＭＥ）_t−ＤＩ （式中、ＲＥＤは発色現像主薬酸化体及び／又は補助現
   像主薬酸化体により酸化された後（ＴＩＭＥ）_t−ＤＩ
   を離脱するレドックス残基を表し、ＴＩＭＥ及びＤＩは
   前記化合物(II)と同様の内容を表す。ｔは０、１、２又
   は３を表す。）
2. 【請求項２】 透明支持体上に受像層、白色反射層、遮
   光層及び少なくとも２層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を
   有してなり、かつ、前記一般式（Ｉ）で表される発色現
   像主薬の少なくとも１種と、前記一般式（II）で表され
   る現像抑制剤放出（DIR）カプラー及び／又は前記一般
   式(III)で表される酸化されることにより現像抑制剤を
   放出しうるレドックス化合物の少なくとも１種とを含有
   する感光シート（１）、透明支持体上に少なくとも中和
   層と中和タイミング層を有する透明カバーシート
   （２）、並びに前記感光シート（１）と前記透明カバー
   シート（２）の間に展開されるように配置されている遮
   光性のアルカリ処理組成物（３）からなるカラー拡散フ
   ィルムユニットであることを特徴とする請求項１に記載
   のカラー拡散転写感光材料。
3. 【請求項３】 遮光性を付与された支持体上に少なくと
   も中和層、中和タイミング層、受像層及び剥離層からな
   る受像シート（１）、遮光性を付与された支持体上に少
   なくとも２層のハロゲン化銀乳剤層を有してなり前記一
   般式（Ｉ）で示される発色現像主薬と、前記一般式（I
   I）で表される現像抑制剤放出（DIR）カプラー及び／又
   は前記一般式(III)で表される酸化されることにより現
   像抑制剤を放出しうるレドックス化合物の少なくとも１
   種とを含有する感光シート（２）、並びに前記受像シー
   ト（１）と前記感光シート（２）の間に展開されるよう
   に配置されたアルカリ処理組成物（３）からなるカラー
   拡散転写フィルムユニットであることを特徴とする請求
   項１に記載のカラー拡散転写感光材料。