JP2003101246A - Multilayer wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

Multilayer wiring board and method of manufacturing the same

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JP2003101246A
JP2003101246A JP2001293982A JP2001293982A JP2003101246A JP 2003101246 A JP2003101246 A JP 2003101246A JP 2001293982 A JP2001293982 A JP 2001293982A JP 2001293982 A JP2001293982 A JP 2001293982A JP 2003101246 A JP2003101246 A JP 2003101246A
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JP
Japan
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insulating adhesive
layer
wiring board
adhesive layer
multilayer wiring
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Tadashi Shimizu
忠士 清水
Masafumi Miyazaki
雅文 宮崎
Teruhisa Tanabe
輝久 田辺
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board whose peel strength is large, whose production costs can be reduced and whose insulating strength is large, and to provide a method of manufacturing the wiring board. SOLUTION: In the multilayer wiring board 20, insulating adhesive layers 26, 34 and copper foil layers 24, 38 are arranged alternately, and wiring patterns are installed on the layers 24, 38. In the wiring board 20, the adhesive layers 26, 34 contain glass component layers 28 comprising a bond to a coupling agent 32.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層配線基板とそ
の製造方法に関し、特に絶縁性接着剤層にカップリング
剤との結合を有するガラス成分層を含むことを特徴とす
る多層配線基板とその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board and a method for manufacturing the same, and more particularly to a multilayer wiring board characterized by including a glass component layer having a bond with a coupling agent in an insulating adhesive layer and the same. The present invention relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、電気・電子部品の実装を高密度
化するため、多層配線基板が用いられている。従来、係
る多層配線基板は、それぞれ所定の配線パターンを形成
した複数枚のフレキシブル基板を、各基板間に絶縁性接
着剤(プレプリグ)を挟んで重ね合わせ、圧着プレス機
で圧着した後、所定部分に穴を開けて銅メッキを施し、
各基板の所定配線パターンを電気的に接続することによ
って作成されている。
2. Description of the Related Art Generally, a multilayer wiring board is used in order to increase the packing density of electric / electronic parts. Conventionally, such a multilayer wiring board has a plurality of flexible boards, each having a predetermined wiring pattern formed thereon, superposed with an insulating adhesive (prepreg) sandwiched between the boards, crimped by a crimping press machine, and then a predetermined portion. I made a hole in it and gave copper plating,
It is created by electrically connecting a predetermined wiring pattern of each substrate.

【0003】しかしながら、多層配線基板の製造工程に
圧着プレス機による圧着プレス工程が含まれると、圧着
プレス工程時の高温により、基板が収縮し、それによっ
て反りが生じやすいという不具合があった。
However, when the manufacturing process of the multilayer wiring board includes a pressure-bonding press process using a pressure-bonding press machine, there is a problem that the substrate is shrunk due to the high temperature during the pressure-bonding press process, which causes warpage.

【0004】そのため、圧着プレス機を用いずに、多層
配線基板を製造する方法として、次の方法がある。
Therefore, the following method is available as a method for manufacturing a multilayer wiring board without using a press machine.

【0005】まず、基板上に絶縁性接着剤を塗布してガ
ラス粉末を散布した後、上記絶縁性接着剤を硬化させ
る。さらにその上に、絶縁性接着剤層を塗布して、その
表面に金属粉末を散布して、金属粉末が接着した接着剤
層からなる絶縁層を形成する。次に、上記絶縁層上に銅
メッキを施し、銅箔層を形成し、これに配線パターンを
形成する。この配線パターン上に、再び絶縁性接着剤を
塗布して、上記一連の工程を繰り返すというものであ
る。
First, an insulating adhesive is applied on a substrate, glass powder is dispersed, and then the insulating adhesive is hardened. Further, an insulative adhesive layer is applied thereon, and metal powder is dispersed on the surface of the insulative adhesive layer to form an insulating layer made of an adhesive layer to which the metal powder adheres. Next, copper plating is performed on the insulating layer to form a copper foil layer, and a wiring pattern is formed on the copper foil layer. An insulating adhesive is applied again on this wiring pattern, and the above series of steps are repeated.

【0006】このようにして得られた多層配線基板は、
圧着プレス工程時の高温による、基板の収縮、それによ
る反りを防ぐことができ、さらに、合各層配線パターン
間が、ガラス粉末を含む絶縁性接着剤層で形成されるこ
とによって、絶縁強度を強化させることができる。
The multilayer wiring board thus obtained is
It is possible to prevent the board from shrinking and warping due to the high temperature during the crimping and pressing process, and strengthen the insulation strength by forming an insulating adhesive layer containing glass powder between the laminated wiring patterns. Can be made.

【0007】しかしながら、さらなる基板信頼性の向上
と高密度化を図るために、より高いピール強度を有する
多層配線基板が要求されている。
However, in order to further improve the board reliability and increase the density, a multilayer wiring board having higher peel strength is required.

【0008】さらに、使用済みの多層配線基板は、その
基板にガラスファイバーとエポキシ樹脂が使用されてい
るため、燃焼廃棄が困難である。そのため、通常、使用
済みの多層配線基板は、土中への埋設廃棄が余儀なくさ
れており、堤防構築などに使用されている。
Further, since the used multilayer wiring board uses glass fiber and epoxy resin for the board, it is difficult to dispose of it by burning. Therefore, usually, the used multilayer wiring board is forced to be buried in the soil and discarded, and is used for the construction of dikes.

【0009】しかしながら、堤防構築等に利用するにし
ても、使用済み多層配線基板を埋設可能な地域は限られ
ており、将来を鑑みて、対策を講じる必要がある。
However, even if it is used for the construction of a bank, etc., the area in which the used multilayer wiring board can be buried is limited, and it is necessary to take measures in view of the future.

【0010】さらに、このような使い捨ての製品は、生
産時には新たな原料費がかかるため、生産コストの削減
を図る上でも、障害となる。
Further, since such a disposable product requires a new raw material cost at the time of production, it is an obstacle in reducing the production cost.

【0011】そのため、リサイクル可能な多層配線基板
が理想的といえる。
Therefore, it can be said that a recyclable multilayer wiring board is ideal.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】そこで、請求項1乃至
6記載の発明の技術的な課題は、大きなピール強度を有
すると共に、製造コストを低減でき、大きな絶縁強度を
備えた多層配線基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the technical problems of the inventions according to claims 1 to 6 are to provide a multilayer wiring board having a large peel strength, a reduced manufacturing cost, and a large insulation strength. To do.

【0013】また、請求項7記載の発明の技術的な課題
は、大きなピール強度を有すると共に、製造コストを低
減でき、大きな絶縁強度を備えた多層配線基板の製造方
法を提供することにある。
A technical object of the present invention is to provide a method of manufacturing a multilayer wiring board having a large peel strength, a reduced manufacturing cost, and a large insulation strength.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】このような技術的課題の
ために、請求項1に記載の発明にあっては、絶縁性接着
剤層と銅箔層が交互に配置され、各上記銅箔層に配線パ
ターンが設けられている多層配線基板であって、上記絶
縁性接着剤層は、カップリング剤との結合を有するガラ
ス成分層を含む。
In order to solve such a technical problem, in the invention described in claim 1, the insulating adhesive layers and the copper foil layers are alternately arranged, and each of the above-mentioned copper foils is arranged. A multilayer wiring board having a wiring pattern provided in a layer, wherein the insulating adhesive layer includes a glass component layer having a bond with a coupling agent.

【0015】従って、請求項1に記載の発明にあって
は、所定の配線パターンが形成された複数の銅箔層の間
には、カップリング剤とするガラス成分層を有する絶縁
性接着剤層が形成されている。
Therefore, according to the first aspect of the invention, an insulating adhesive layer having a glass component layer as a coupling agent is provided between a plurality of copper foil layers on which a predetermined wiring pattern is formed. Are formed.

【0016】その結果、請求項1に記載の発明にあって
は、高温・高圧を与えずにカップリング剤とガラス成分
層の化学結合力よって各銅箔層を接着することができる
ため、容易に強いピーリング強度を有する複数の層を積
層した高性能・高密度の多層配線基板を提供することが
できる。
As a result, in the invention described in claim 1, each copper foil layer can be easily bonded by the chemical bonding force between the coupling agent and the glass component layer without applying high temperature and high pressure. It is possible to provide a high-performance and high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having extremely strong peeling strength are laminated.

【0017】請求項2に記載の発明にあっては、基板上
に、上記絶縁性接着剤層と銅箔層が交互に配置され、各
上記銅箔層に配線パターンが設けられ、上記絶縁性接着
剤層はそれぞれ第一及び第二の絶縁性接着剤層からなる
多層配線基板であって、上記第一及び第二の絶縁性接着
剤層の界面には、カップリング剤との結合を有するガラ
ス成分層が設けられている。
According to a second aspect of the present invention, the insulating adhesive layers and the copper foil layers are alternately arranged on a substrate, and a wiring pattern is provided on each of the copper foil layers, and the insulating property is provided. The adhesive layer is a multilayer wiring board composed of a first insulating adhesive layer and a second insulating adhesive layer, respectively, and has a bond with a coupling agent at the interface between the first and second insulating adhesive layers. A glass component layer is provided.

【0018】従って、請求項2に記載の発明にあって
は、配線パターンが設けられた複数の銅箔層の間には、
第一絶縁性接着剤層と第二絶縁性接着剤層が挟まれて形
成されており、上記第一絶縁性接着剤層と第二絶縁性接
着剤層はカップリング剤を介してガラス成分層が形成さ
れている。
Therefore, in the invention described in claim 2, between the plurality of copper foil layers provided with the wiring pattern,
A first insulating adhesive layer and a second insulating adhesive layer are sandwiched and formed, and the first insulating adhesive layer and the second insulating adhesive layer are glass component layers via a coupling agent. Are formed.

【0019】その結果、請求項2に記載の発明にあって
は、配線パターンが設けられた複数の銅箔層の各層間
は、第一及び第二絶縁性接着剤層からなる絶縁性接着剤
層によって接着されている。このとき、第一絶縁性接着
剤層と第二絶縁性接着剤層とは、その界面でガラス成分
層とカップリング剤とが化学結合を形成することによっ
て、強固に接着しているため、容易に強いピーリング強
度を有する複数の層を積層した高性能・高密度の多層配
線基板を提供することができる。
As a result, in the invention according to claim 2, an insulating adhesive comprising first and second insulating adhesive layers between each of the plurality of copper foil layers provided with the wiring patterns. Adhered by layers. At this time, the first insulating adhesive layer and the second insulating adhesive layer are easily bonded because the glass component layer and the coupling agent form a chemical bond at the interface between the first insulating adhesive layer and the second insulating adhesive layer. It is possible to provide a high-performance and high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having extremely strong peeling strength are laminated.

【0020】請求項3に記載の発明にあっては、上記絶
縁性接着剤層は、エポキシ系樹脂であり、上記カップリ
ング剤は、アミノシランである。
In the invention according to claim 3, the insulating adhesive layer is an epoxy resin, and the coupling agent is aminosilane.

【0021】従って、上記カップリング剤はアミノシラ
ンであるため、ガラスとアミノシランが化学結合したガ
ラス成分層を形成しており、さらにこのガラス成分層を
形成するアミノシランのアミノ基が絶縁性接着剤層のエ
ポキシ基と反応して架橋結合を形成することができる。
Therefore, since the coupling agent is aminosilane, it forms a glass component layer in which glass and aminosilane are chemically bonded, and the amino group of aminosilane forming this glass component layer is the insulating adhesive layer. It can react with epoxy groups to form crosslinks.

【0022】その結果、請求項3に記載の発明にあって
は、請求項1または2の効果に加え、ガラス成分層と絶
縁性接着剤層とを強固に接着することができる。これに
よって、配線パターンが設けられた銅箔層間にガラス成
分層を強固に接着した絶縁性接着剤層が挟まれて積層さ
れるため、絶縁強度を向上させ、かつ容易に強いピーリ
ング強度を有する複数の層を積層した高性能・高密度の
多層配線基板を提供することができる。
As a result, in the invention described in claim 3, in addition to the effect of claim 1 or 2, the glass component layer and the insulating adhesive layer can be firmly adhered. As a result, since the insulating adhesive layer in which the glass component layer is firmly adhered is sandwiched between the copper foil layers provided with the wiring patterns, the insulating strength is improved and a plurality of layers having a strong peeling strength are easily formed. It is possible to provide a high-performance and high-density multilayer wiring board in which the above layers are laminated.

【0023】請求項4に記載の発明にあっては、上記ア
ミノシランは、エポキシ基を有する。
In the invention according to claim 4, the aminosilane has an epoxy group.

【0024】従って、請求項4に記載の発明にあって
は、絶縁性接着剤層のエポキシ樹脂と開環重合して、架
橋することができる。
Therefore, in the invention described in claim 4, the epoxy resin of the insulating adhesive layer can be ring-opening polymerized to be crosslinked.

【0025】その結果、請求項4に記載の発明にあって
は、請求項3の効果に加え、さらに絶縁強度を向上さ
せ、かつピーリング強度が強い多層配線基板を提供する
ことができる。
As a result, in the invention described in claim 4, in addition to the effect of claim 3, it is possible to provide a multi-layer wiring board having further improved insulation strength and high peeling strength.

【0026】請求項5に記載の発明にあっては、上記カ
ップリング剤との結合を有する上記ガラス成分層は、ア
ミノシラン水溶液に浸漬されたガラス粉末によって形成
される。
In the invention of claim 5, the glass component layer having a bond with the coupling agent is formed by glass powder immersed in an aminosilane aqueous solution.

【0027】従って、請求項4に記載の発明にあって
は、カップリング剤であるアミノシランを水溶液にする
ことによって、カップリング剤は加水分解されて、シラ
ノール基を生成する。そしてこのシラノール基は、ガラ
ス粉末表面のシラノール基と反応して共有結合を形成す
る。
Therefore, in the invention described in claim 4, the coupling agent is hydrolyzed by forming the coupling agent, aminosilane, into an aqueous solution to form a silanol group. And this silanol group reacts with the silanol group on the surface of the glass powder to form a covalent bond.

【0028】その結果、請求項5に記載の発明にあって
は、請求項1または2の効果に加え、ガラス粉末表面を
容易に強固に結合したアミノシランの被膜を形成するこ
とができ、また、そのガラス粉末とアミノシラン水溶液
からなるガラス成分層は液状であるため、スプレー塗布
などの塗布方法で、絶縁接着剤層表面に容易かつ均一に
塗布することができ、その後加熱して水分を除去するこ
とによって、絶縁接着剤層上に強固に結合されたアミノ
シラン膜を有するガラス粉末からなるガラス成分層を形
成することができる。
As a result, according to the invention of claim 5, in addition to the effect of claim 1 or 2, it is possible to form a film of aminosilane in which the surface of the glass powder is easily and firmly bonded, and Since the glass component layer consisting of the glass powder and the aminosilane aqueous solution is liquid, it can be easily and uniformly applied to the surface of the insulating adhesive layer by a coating method such as spray coating, and then heated to remove water. This makes it possible to form a glass component layer made of glass powder having a strongly bonded aminosilane film on the insulating adhesive layer.

【0029】請求項6に記載の発明にあっては、上記ガ
ラス成分層は、使用済の上記多層配線基板を粉砕して形
成される。
In the invention according to claim 6, the glass component layer is formed by crushing the used multilayer wiring board.

【0030】従って、請求項6に記載の発明にあって
は、使用済の多層配線基板を埋設廃棄せずに、粉砕され
て、新しい多層配線基板のガラス成分層に利用される。
Therefore, in the sixth aspect of the present invention, the used multilayer wiring board is crushed and used as a glass component layer of a new multilayer wiring board without being buried and discarded.

【0031】その結果、請求項6に記載の発明にあって
は、請求項1または2の効果に加え、環境廃棄物を削減
し、原料コストを削減することができる。
As a result, in the invention described in claim 6, in addition to the effect of claim 1 or 2, it is possible to reduce the environmental waste and the raw material cost.

【0032】請求項7に記載の発明にあっては、基板上
に、絶縁性接着剤層と銅箔層が交互に配置され、各上記
銅箔層に配線パターンが設けられる多層配線基板の製造
方法であって、配線パターンが設けられた銅箔層が形成
されている上記基板上に絶縁性接着剤を塗布し、第一絶
縁性接着剤層を形成させ、アミノシラン水溶液に浸漬し
たガラス粉末を上記第一絶縁性接着剤層上に散布し、ガ
ラス成分層を形成させた後に、上記第一絶縁性接着剤層
を硬化させ、上記ガラス成分層上に、第二絶縁性接着剤
を塗布して第二絶縁性接着剤層を形成させ、銅粉末を上
記第二絶縁性接着剤層上に散布した後に、上記第二絶縁
性接着剤を硬化させ、上記銅粉末を散布した上記第二絶
縁性接着剤層上に、銅メッキを行い銅箔層を形成させ、
上記銅箔層に配線パターンを形成させ、上記配線パター
ン上に、上記絶縁性接着剤を塗布して、上記一連の工程
を繰り返す。
According to a seventh aspect of the present invention, a multi-layer wiring board in which insulating adhesive layers and copper foil layers are alternately arranged on a substrate and a wiring pattern is provided on each of the copper foil layers is manufactured. In the method, an insulating adhesive is applied onto the substrate on which a copper foil layer provided with a wiring pattern is formed, a first insulating adhesive layer is formed, and a glass powder immersed in an aminosilane aqueous solution is applied. After spraying on the first insulating adhesive layer to form a glass component layer, the first insulating adhesive layer is cured, and the second insulating adhesive is applied on the glass component layer. To form a second insulating adhesive layer, and after spraying copper powder on the second insulating adhesive layer, the second insulating adhesive is cured and the second insulating powder is sprayed on the second insulating adhesive layer. On the conductive adhesive layer to form a copper foil layer by copper plating,
A wiring pattern is formed on the copper foil layer, the insulating adhesive is applied on the wiring pattern, and the series of steps is repeated.

【0033】従って、請求項7に記載の発明にあって
は、配線パターンが設けられた銅箔層が形成された基板
上に、絶縁性接着剤を塗布して第一絶縁性接着剤層形成
を形成する。そして、第一絶縁性接着剤層を硬化させる
前に、アミノシラン水溶液に浸漬したガラス粉末を散布
する。ガラス粉末は、アミノシラン水溶液に浸漬されて
いる際に、加水分解したアミノシランのシラノール基と
反応して共有結合を形成することによって、粉末表面に
強固に結合したアミノシランの被膜に覆われている。こ
のアミノシランの被膜を有するガラス粉末によるガラス
成分層を形成してから、加熱して第一絶縁性接着剤層を
硬化させる。この時の加熱によって、アミノシラン水溶
液に含まれていた余分な水および加水分解時に生成する
アルコール成分も揮発する。次に、このガラス成分層の
上に第二絶縁性接着剤層を塗布し、硬化させる前に銅粉
末を散布してから、第二絶縁性接着剤層を硬化させる。
その次に銅メッキを施し、銅箔層を形成させ、配線パタ
ーンを銅箔層に形成してからさらに絶縁性接着剤層を塗
布する。
Therefore, in the invention according to claim 7, an insulating adhesive is applied on the substrate on which the copper foil layer having the wiring pattern is formed to form the first insulating adhesive layer. To form. Then, before the first insulating adhesive layer is cured, the glass powder immersed in the aminosilane aqueous solution is sprayed. When the glass powder is immersed in the aminosilane aqueous solution, it reacts with the silanol groups of the hydrolyzed aminosilane to form a covalent bond, so that the glass powder is covered with the film of the aminosilane firmly bonded to the powder surface. After forming a glass component layer of the glass powder having the aminosilane coating, heating is performed to cure the first insulating adhesive layer. By heating at this time, the excess water contained in the aminosilane aqueous solution and the alcohol component produced during hydrolysis are also volatilized. Next, a second insulating adhesive layer is applied on the glass component layer, copper powder is sprayed before curing, and then the second insulating adhesive layer is cured.
Next, copper plating is performed to form a copper foil layer, a wiring pattern is formed on the copper foil layer, and then an insulating adhesive layer is applied.

【0034】このようにして、基板上に、配線パターン
が形成された銅箔層と、その上に、共有結合によって結
合されているアミノシランとガラス粉末によって形成さ
れるガラス成分層を挟んで積層されている第一及び第二
絶縁性接着剤層とが、交互に、所望の層数、積層されて
いる多層配線基板を製造することができる。
In this way, a copper foil layer having a wiring pattern formed on the substrate and a glass component layer formed of glass powder and aminosilane bonded by covalent bonds are laminated on the copper foil layer. It is possible to manufacture a multilayer wiring board in which the desired number of layers are alternately laminated with the first and second insulating adhesive layers.

【0035】その結果、請求項7に記載の発明にあって
は、絶縁強度を向上させ、かつ容易に強いピーリング強
度を有する複数の層を積層した高性能・高密度の多層配
線基板を製造することができる。
As a result, in the invention described in claim 7, a high-performance / high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having improved insulation strength and high peeling strength are laminated is easily manufactured. be able to.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下、添付図面に示す実施の形態
に基づき、本発明に係る多層配線基板20を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multilayer wiring board 20 according to the present invention will be described below based on the embodiments shown in the accompanying drawings.

【0037】図1(G)に示されているように、本実施の
形態にあっては、銅張りガラスエポキシ基板22の上
に、所定の配線パターンが設けられた銅箔層24、その
上に第一絶縁性接着剤層26、エポキシ基を有するアミ
ノシランからなるカップリング剤32の被膜を有する1
00メッシュのガラス粉末30を略隙間無く敷き詰めた
ガラス成分層28、第二絶縁性接着剤層34、200メ
ッシュの銅粉末36を略隙間無く敷き詰めた層、更にそ
の上に所定の配線パターンが設けられた銅箔層38が積
層されて構成されている。
As shown in FIG. 1 (G), in the present embodiment, a copper foil layer 24 having a predetermined wiring pattern provided on a copper-clad glass epoxy substrate 22 and the copper foil layer 24 provided thereon. 1 having a coating of a first insulating adhesive layer 26 and a coupling agent 32 made of aminosilane having an epoxy group
A glass component layer 28 having 00 mesh of glass powder 30 spread almost without gap, a second insulating adhesive layer 34, a layer of 200 mesh of copper powder 36 spread with almost no gap, and a predetermined wiring pattern provided thereon. The copper foil layer 38 thus formed is laminated.

【0038】本実施の形態にあっては、第一及び第二絶
縁性接着剤層26、34は、それぞれ50μmと10μ
mの膜厚に形成されており、銅箔層24、38は、とも
に35μmの膜厚に形成されている。
In this embodiment, the first and second insulating adhesive layers 26 and 34 are 50 μm and 10 μm, respectively.
The copper foil layers 24 and 38 are both formed to have a thickness of 35 μm.

【0039】銅張りガラスエポキシ基板22の表面と銅
箔層24、および銅粉末36と銅箔層38とは金属結合
によって強固に結合している。
The surface of the copper-clad glass epoxy substrate 22 and the copper foil layer 24, and the copper powder 36 and the copper foil layer 38 are firmly bonded by metal bonding.

【0040】ガラス粉末30の表面を覆うカップリング
剤32、すなわちエポキシ基を有するアミノシラン32
は、シラノール基を介してガラス粉末30表面と共有結
合によって結合されてガラス成分層28を形成してい
る。また、このガラス成分層28と上下の第一及び第二
絶縁性接着剤層26、34とは、ガラス成分層28に含
まれるカップリング剤32のエポキシ基と架橋結合し
て、一体化されている。
Coupling agent 32 for covering the surface of glass powder 30, that is, aminosilane 32 having an epoxy group.
Are covalently bonded to the surface of the glass powder 30 through the silanol group to form the glass component layer 28. Further, the glass component layer 28 and the upper and lower first and second insulating adhesive layers 26 and 34 are integrated by cross-linking with the epoxy group of the coupling agent 32 contained in the glass component layer 28. There is.

【0041】次に、本発明に係る多層配線基板20の製
造工程を説明する。
Next, the manufacturing process of the multilayer wiring board 20 according to the present invention will be described.

【0042】本実施の形態にあっては、まず、図1
(A)に示されているように、銅張りガラスエポキシ基
板22の上に配線パターンが設けられた銅箔層24が形
成される。この銅箔層24は、硫酸銅を用いて銅メッキ
によって成膜され、その後で、フォトリソグラフィー法
により所望の配線パターンを形成することによって得ら
れる。なお、銅張りガラスエポキシ基板22を用いるこ
とによって、予め設けられている基板22上の銅と銅メ
ッキによって成膜される銅箔層24とは、金属結合によ
って強固に結合されて、銅箔層24が銅張りガラスエポ
キシ基板22上に成膜されることとなる。
In the present embodiment, first, referring to FIG.
As shown in (A), a copper foil layer 24 provided with a wiring pattern is formed on the copper-clad glass epoxy substrate 22. The copper foil layer 24 is obtained by forming a film by copper plating using copper sulfate and then forming a desired wiring pattern by a photolithography method. By using the copper-clad glass epoxy substrate 22, the copper provided on the substrate 22 in advance and the copper foil layer 24 formed by copper plating are firmly bonded by metal bonding, and the copper foil layer is formed. 24 will be deposited on the copper-clad glass epoxy substrate 22.

【0043】次に、図1(B)に示されているように、
この銅箔層24の上にエポキシ樹脂をスクリーン印刷法
によって塗布して、第一絶縁性接着剤層26を形成され
る。
Next, as shown in FIG.
An epoxy resin is applied onto the copper foil layer 24 by a screen printing method to form a first insulating adhesive layer 26.

【0044】本実施の形態にあっては、カップリング剤
32として使用するアミノシラン32は、エポキシ基と
アミノ基を有するトリメトキシシランであり、これを水
溶液として使用する。アミノシラン32は、水溶液にす
ることによって、加水分解され、シラノール基を有し、
副生成物としてメタノールを生成する。そのため、アミ
ノシラン水溶液中にガラス粉末30を浸漬させると、加
水分解されたアミノシラン32のシラノール基とガラス
粉末30表面に存在するシラノール基が反応して脱水反
応を起こし共有結合を作ることができる。これによっ
て、ガラス粉末30表面に強固に結合されたアミノシラ
ン32の被膜が形成されることになる。また、本実施の
形態にあっては、100メッシュのガラス粉末30を使
用している。
In the present embodiment, the aminosilane 32 used as the coupling agent 32 is trimethoxysilane having an epoxy group and an amino group, which is used as an aqueous solution. Aminosilane 32 is hydrolyzed by having an aqueous solution and has a silanol group,
Methanol is produced as a by-product. Therefore, when the glass powder 30 is immersed in the aminosilane aqueous solution, the silanol groups of the hydrolyzed aminosilane 32 and the silanol groups present on the surface of the glass powder 30 react to cause a dehydration reaction to form a covalent bond. As a result, a film of aminosilane 32 that is firmly bonded is formed on the surface of the glass powder 30. Further, in this embodiment, 100-mesh glass powder 30 is used.

【0045】そして、この第一絶縁性接着剤層26は、
硬化させる前に、図1(C)に示されているように、ア
ミノシラン水溶液とガラス粉末30の混合液をスプレー
ガンで、ガラス粉末30で第一絶縁性接着剤層26表面
が略隙間無く覆われるように散布する。次に、第一絶縁
性接着剤層26を加熱硬化させる。この加熱硬化の際
に、アミノシラン水溶液中の水およびアミノシラン32
が加水分解される際に生成するメタノール、アミノシラ
ン32とガラス粉末30が脱水反応する際の水となどの
不純物は自然に揮発し除去される。
The first insulating adhesive layer 26 is
Before curing, as shown in FIG. 1 (C), a mixed solution of an aminosilane aqueous solution and glass powder 30 is spray gun-coated to cover the surface of the first insulating adhesive layer 26 with the glass powder 30 without any gap. Sprinkle as you see. Next, the first insulating adhesive layer 26 is cured by heating. During this heat curing, water in the aminosilane aqueous solution and aminosilane 32
Impurities such as methanol and aminosilane 32 produced when the water is hydrolyzed and water produced when the glass powder 30 is dehydrated are spontaneously volatilized and removed.

【0046】さらに、本実施例にあっては、使用するア
ミノシラン32はエポキシ基を有している。そのため、
アミノシラン32水溶液として使用することにより、水
の水酸基がアミノシラン32に含まれるエポキシ基と第
一絶縁性接着剤層26に含まれるエポキシ基の開環重合
を促進する。またアミノシラン32に含まれているアミ
ノ基は、エポキシ樹脂の開環重合の開始剤として機能す
ることができるため、エポキシ樹脂の架橋が促される。
そのため、第一絶縁性接着剤層26とガラス成分層28
の結合力が向上するとともに、ピーリング強度も大きく
なる。
Further, in this embodiment, the aminosilane 32 used has an epoxy group. for that reason,
When used as an aqueous solution of aminosilane 32, the hydroxyl groups of water promote ring-opening polymerization of the epoxy groups contained in aminosilane 32 and the epoxy groups contained in first insulating adhesive layer 26. In addition, the amino group contained in the aminosilane 32 can function as an initiator of ring-opening polymerization of the epoxy resin, and thus the crosslinking of the epoxy resin is promoted.
Therefore, the first insulating adhesive layer 26 and the glass component layer 28
The bonding strength of the steel sheet is improved and the peeling strength is also increased.

【0047】次に、図1(D)に示されているように、
ガラス成分層28上にエポキシ樹脂をスクリーン印刷法
で塗布して、第二絶縁性接着剤層34を形成する。そし
て、図1(E)に示されているように、第二絶縁性接着
剤層34が未硬化の状態で、その表面に略隙間が無くな
るように200メッシュの銅粉末36を均一に散布し、
その後、第二絶縁性接着剤層34を加熱硬化する。これ
によって、銅粉末36を第二絶縁性接着剤層34表面に
しっかりと固着させることができる。
Next, as shown in FIG.
An epoxy resin is applied on the glass component layer 28 by a screen printing method to form a second insulating adhesive layer 34. Then, as shown in FIG. 1E, while the second insulating adhesive layer 34 is in an uncured state, 200-mesh copper powder 36 is evenly dispersed so that there is almost no gap on the surface thereof. ,
Then, the second insulating adhesive layer 34 is cured by heating. Thereby, the copper powder 36 can be firmly fixed to the surface of the second insulating adhesive layer 34.

【0048】銅粉末36が固着した第二絶縁性接着剤層
34上に、さらに図1(F)に示されているように、硫
酸銅を用いて銅メッキを行い、銅箔層38を形成する。
この時、銅メッキを行う第二絶縁性接着剤層34表面に
は銅粉末36が固着しているため、銅箔層38は銅粉末
36と金属結合を作り、銅箔層38は強固に第二絶縁性
接着剤層34上に結合されて成膜されることとなる。
On the second insulating adhesive layer 34 to which the copper powder 36 is fixed, copper sulfate is further plated with copper sulfate to form a copper foil layer 38, as shown in FIG. 1 (F). To do.
At this time, since the copper powder 36 is fixed on the surface of the second insulating adhesive layer 34 for copper plating, the copper foil layer 38 forms a metal bond with the copper powder 36, and the copper foil layer 38 is firmly bonded to the first layer. The two insulating adhesive layers 34 are bonded and formed into a film.

【0049】本実施の形態にあっては、製膜された銅箔
層38の厚さは35μmであった。
In the present embodiment, the thickness of the formed copper foil layer 38 was 35 μm.

【0050】そして、図1(G)に示されているよう
に、この銅箔層38をフォトリソグラフィー法により所
望の配線パターンを形成することによって、二種類の配
線パターンを有する多層配線基板20を製造することが
できる。
Then, as shown in FIG. 1G, a desired wiring pattern is formed on the copper foil layer 38 by a photolithography method to form a multilayer wiring board 20 having two kinds of wiring patterns. It can be manufactured.

【0051】なお、図1(B)から図1(F)の工程を
繰り返すことによって、所望の層数の多層配線基板20
を製造することができる。
By repeating the steps of FIGS. 1B to 1F, the multilayer wiring board 20 having a desired number of layers can be obtained.
Can be manufactured.

【0052】本発明に係る多層配線基板20は、基板と
してガラスエポキシ基板、また、配線パターン間の絶縁
層としてエポキシ樹脂、ガラス粉末30を主な成分とし
て構成されている。そのため、使用済みの多層配線基板
20は、所望の粒径に粉砕して、ガラス成分層28に使
用するガラス粉末30として再生利用することができ
る。
The multilayer wiring board 20 according to the present invention is mainly composed of a glass epoxy board as a board, and an epoxy resin and a glass powder 30 as an insulating layer between wiring patterns as main components. Therefore, the used multilayer wiring board 20 can be crushed to a desired particle size and recycled as the glass powder 30 used for the glass component layer 28.

【0053】本実施の形態にあっては、絶縁性接着剤と
してエポキシ樹脂を使用したが、シリコン系接着剤を使
用することも可能である。また、銅粉末36ではなく、
ニッケル粉末などを使用することも可能である。
In this embodiment, the epoxy resin is used as the insulating adhesive, but it is also possible to use a silicon adhesive. Also, instead of the copper powder 36,
It is also possible to use nickel powder or the like.

【0054】さらに、本実施の形態にあっては、100
メッシュのガラス粉末30および300メッシュの銅粉
末36を使用したが、異なる粒径のガラス粉末30およ
び銅粉末36を使用することも可能である。しかしなが
ら、ガラス粉末30および銅粉末36の粒径は小さいほ
ど、それぞれ接触する材料との接触面積が大きくなるた
め、より強固に結合することができ、ピーリング強度を
向上させることができる。特に、ガラス粉末30に関し
ては、粒径が小さいほどカップリング剤の塗布量が増大
するため、より好ましい。
Further, in the present embodiment, 100
Although mesh glass powder 30 and 300 mesh copper powder 36 were used, it is also possible to use glass powder 30 and copper powder 36 of different particle sizes. However, the smaller the particle size of the glass powder 30 and the copper powder 36, the larger the contact area with the materials that come into contact with each other, so that they can bond more firmly and the peeling strength can be improved. In particular, with respect to the glass powder 30, the smaller the particle diameter, the more the coating amount of the coupling agent increases, which is more preferable.

【0055】また、本実施の形態にあっては、スプレー
ガンを利用してアミノシラン水溶液に浸漬したガラス粉
末32を第一絶縁性接着剤層26上に散布したが、電解
遊動法により第一絶縁性接着剤層26表面にガラス成分
層28を形成することも可能である。
Further, in the present embodiment, the glass powder 32 dipped in the aminosilane aqueous solution was sprayed on the first insulating adhesive layer 26 by using a spray gun. It is also possible to form the glass component layer 28 on the surface of the adhesive layer 26.

【0056】また、吸湿処理後、第一および第二絶縁性
接着剤層26、34の加熱硬化を行うと、ガラス成分層
28と第一および第二絶縁性接着剤層26、34との密
着力を向上させることが可能である。
When the first and second insulating adhesive layers 26 and 34 are heat-cured after the moisture absorption treatment, the glass component layer 28 and the first and second insulating adhesive layers 26 and 34 adhere to each other. It is possible to improve power.

【0057】表1に、本発明に係る第一および第二絶縁
性接着剤層26、34間に形成されるガラス成分層28
を用いた多層配線基板20および第一および第二絶縁性
接着剤層26、34間に形成されるガラス成分層28に
ガラス粉末30のみ用いた従来の多層配線基板によって
得られた銅箔層38のピール強度が示されている。な
お、この表1に示されているピール強度は、銅箔層38
の膜厚18μmの場合に得られた数値である。
Table 1 shows the glass component layer 28 formed between the first and second insulating adhesive layers 26 and 34 according to the present invention.
And the copper foil layer 38 obtained by the conventional multilayer wiring board using only the glass powder 30 in the glass component layer 28 formed between the first and second insulating adhesive layers 26 and 34. Peel strength is shown. The peel strength shown in Table 1 is the copper foil layer 38.
Is a numerical value obtained when the film thickness is 18 μm.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】表1に示されているように、従来のように
第一および第二絶縁性接着剤層26、34間にガラス粉
末30を直接挟んで形成されている多層配線基板に較
べ、第一および第二絶縁性接着剤層26、34間にガラ
ス粉末30の表面にカップリング剤32の被膜を形成し
たガラス成分層28を挟んで形成されている本発明に係
る多層配線基板20の方が、大きいピール強度を示し、
大幅なピール強度の向上が見られる。
As shown in Table 1, as compared with the conventional multi-layer wiring board formed by directly sandwiching the glass powder 30 between the first and second insulating adhesive layers 26 and 34, A multilayer wiring board 20 according to the present invention formed by sandwiching a glass component layer 28 having a coating of a coupling agent 32 on the surface of a glass powder 30 between first and second insulating adhesive layers 26, 34. Shows a large peel strength,
A significant improvement in peel strength can be seen.

【0060】[0060]

【発明の効果】請求項1に記載の発明にあっては、高温
・高圧を与えずにカップリング剤とガラス成分層の化学
結合力よって各銅箔層を接着することができるため、容
易に強いピーリング強度を有する複数の層を積層した高
性能・高密度の多層配線基板を提供することができる。
According to the first aspect of the invention, the copper foil layers can be easily bonded by the chemical bonding force between the coupling agent and the glass component layer without applying high temperature and high pressure. It is possible to provide a high-performance and high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having strong peeling strength are laminated.

【0061】請求項2に記載の発明にあっては、配線パ
ターンが設けられた複数の銅箔層の各層間は、第一及び
第二絶縁性接着剤層からなる絶縁性接着剤層によって接
着されている。このとき、第一絶縁性接着剤層と第二絶
縁性接着剤層とは、その界面でガラス成分層とカップリ
ング剤とが化学結合を形成することによって、強固に接
着しているため、容易に強いピーリング強度を有する複
数の層を積層した高性能・高密度の多層配線基板を提供
することができる。
According to the second aspect of the present invention, the respective layers of the plurality of copper foil layers provided with the wiring patterns are adhered by the insulating adhesive layer composed of the first and second insulating adhesive layers. Has been done. At this time, the first insulating adhesive layer and the second insulating adhesive layer are easily bonded because the glass component layer and the coupling agent form a chemical bond at the interface between the first insulating adhesive layer and the second insulating adhesive layer. It is possible to provide a high-performance and high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having extremely strong peeling strength are laminated.

【0062】請求項3に記載の発明にあっては、請求項
1または2の効果に加え、ガラス成分層と絶縁性接着剤
層とを強固に接着することができる。これによって、配
線パターンが設けられた銅箔層間にガラス成分層を強固
に接着した絶縁性接着剤層が挟まれて積層されるため、
絶縁強度を向上させ、かつ容易に強いピーリング強度を
有する複数の層を積層した高性能・高密度の多層配線基
板を提供することができる。
According to the invention of claim 3, in addition to the effect of claim 1 or 2, it is possible to firmly bond the glass component layer and the insulating adhesive layer. As a result, an insulating adhesive layer that firmly adheres the glass component layer is sandwiched between the copper foil layers provided with the wiring pattern, and thus laminated,
It is possible to provide a high-performance / high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having improved insulation strength and high peeling strength are stacked easily.

【0063】請求項4に記載の発明にあっては、請求項
3の効果に加え、さらに絶縁強度を向上させ、かつピー
リング強度が強い多層配線基板を提供することができ
る。
According to the invention described in claim 4, in addition to the effect of claim 3, it is possible to provide a multi-layer wiring board having a further improved insulation strength and a high peeling strength.

【0064】請求項5に記載の発明にあっては、請求項
1または2の効果に加え、ガラス粉末表面を容易に強固
に結合したアミノシランの被膜を形成することができ、
また、そのガラス粉末とアミノシラン水溶液からなるガ
ラス成分層は液状であるため、スプレー塗布などの塗布
方法で、絶縁接着剤層表面に容易かつ均一に塗布するこ
とができ、その後加熱して水分を除去することによっ
て、絶縁接着剤層上に強固に結合されたアミノシラン膜
を有するガラス粉末からなるガラス成分層を形成するこ
とができる。
According to the invention of claim 5, in addition to the effect of claim 1 or 2, it is possible to easily form a film of aminosilane in which the surface of the glass powder is firmly bonded.
In addition, since the glass component layer consisting of the glass powder and the aminosilane aqueous solution is liquid, it can be easily and uniformly applied to the surface of the insulating adhesive layer by a coating method such as spray coating, and then heated to remove water. By doing so, it is possible to form a glass component layer made of glass powder having a strongly bonded aminosilane film on the insulating adhesive layer.

【0065】請求項6に記載の発明にあっては、請求項
1または2の効果に加え、環境廃棄物を削減し、原料コ
ストを削減することができる。
According to the invention described in claim 6, in addition to the effect of claim 1 or 2, it is possible to reduce the environmental waste and the raw material cost.

【0066】請求項7に記載の発明にあっては、絶縁強
度を向上させ、かつ容易に強いピーリング強度を有する
複数の層を積層した高性能・高密度の多層配線基板を製
造することができる。
According to the seventh aspect of the present invention, it is possible to improve the insulation strength and easily manufacture a high-performance / high-density multilayer wiring board in which a plurality of layers having a strong peeling strength are laminated. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る多層配線基板の製造工程を示す概
略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a manufacturing process of a multilayer wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 多層配線基板 22 銅張りガラスエポキシ基板 24 銅箔層 26 第一絶縁性接着剤層 28 ガラス成分層 30 ガラス粉末 32 カップリング剤(アミノシラン) 34 第二絶縁性接着剤層 36 銅粉末 38 銅箔層 20 multilayer wiring board 22 Copper-clad glass epoxy board 24 Copper foil layer 26 First Insulating Adhesive Layer 28 Glass component layer 30 glass powder 32 Coupling agent (aminosilane) 34 Second insulating adhesive layer 36 Copper powder 38 Copper foil layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 忠士 千葉県市川市田尻4−16−7 (72)発明者 宮崎 雅文 東京都板橋区蓮沼町34−6 (72)発明者 田辺 輝久 埼玉県浦和市本太1−18−8 Fターム(参考) 5E343 AA02 AA17 BB16 BB24 BB71 BB78 CC03 CC06 DD43 GG01 5E346 AA05 AA12 AA15 AA16 AA32 AA35 AA38 BB01 CC09 CC16 CC32 CC41 CC43 DD03 DD22 DD32 EE31 GG17 GG22 GG28 HH11 HH40    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tadashi Shimizu             4-16-7 Tajiri, Ichikawa City, Chiba Prefecture (72) Inventor Masafumi Miyazaki             34-6 Hasunuma-cho, Itabashi-ku, Tokyo (72) Inventor Teruhisa Tanabe             1-18-8 Honta, Urawa City, Saitama Prefecture F-term (reference) 5E343 AA02 AA17 BB16 BB24 BB71                       BB78 CC03 CC06 DD43 GG01                 5E346 AA05 AA12 AA15 AA16 AA32                       AA35 AA38 BB01 CC09 CC16                       CC32 CC41 CC43 DD03 DD22                       DD32 EE31 GG17 GG22 GG28                       HH11 HH40

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁性接着剤層と銅箔層が交互に配置さ
れ、各上記銅箔層に配線パターンが設けられている多層
配線基板であって、上記絶縁性接着剤層は、カップリン
グ剤との結合を有するガラス成分層を含むことを特徴と
する多層配線基板。
1. A multilayer wiring board in which an insulating adhesive layer and copper foil layers are alternately arranged, and a wiring pattern is provided on each of the copper foil layers, wherein the insulating adhesive layer is a coupling. A multilayer wiring board comprising a glass component layer having a bond with an agent.
【請求項2】基板上に、絶縁性接着剤層と銅箔層が交互
に配置され、各上記銅箔層に配線パターンが設けられ、
上記絶縁性接着剤層はそれぞれ第一及び第二の絶縁性接
着剤層からなる多層配線基板であって、 上記第一及び第二の絶縁性接着剤層の界面には、カップ
リング剤との結合を有するガラス成分層が設けられてい
ることを特徴とする多層配線基板。
2. An insulating adhesive layer and copper foil layers are alternately arranged on a substrate, and a wiring pattern is provided on each of the copper foil layers.
The insulative adhesive layer is a multilayer wiring board composed of a first insulative adhesive layer and a second insulative adhesive layer, respectively. A multilayer wiring board, wherein a glass component layer having a bond is provided.
【請求項3】上記絶縁性接着剤層は、エポキシ系樹脂で
あり、上記カップリング剤は、アミノシランであること
を特徴とする請求項1または2に記載の多層配線基板。
3. The multilayer wiring board according to claim 1 or 2, wherein the insulating adhesive layer is an epoxy resin and the coupling agent is aminosilane.
【請求項4】上記アミノシランは、エポキシ基を有する
ことを特徴とする請求項3に記載の多層配線基板。
4. The multilayer wiring board according to claim 3, wherein the aminosilane has an epoxy group.
【請求項5】上記カップリング剤との結合を有する上記
ガラス成分層は、アミノシラン水溶液に浸漬されたガラ
ス粉末によって形成されることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の多層配線基板。
5. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the glass component layer having a bond with the coupling agent is formed by glass powder dipped in an aminosilane aqueous solution.
【請求項6】上記ガラス成分層は、使用済の上記多層配
線基板を粉砕して形成されることを特徴とする請求項1
または2に記載の多層配線基板。
6. The glass component layer is formed by crushing a used multilayer wiring board.
Alternatively, the multilayer wiring board described in 2.
【請求項7】基板上に、絶縁性接着剤層と銅箔層が交互
に配置され、各上記銅箔層に配線パターンが設けられる
多層配線基板の製造方法であって、 配線パターンが設けられた銅箔層が形成されている上記
基板上に絶縁性接着剤を塗布し、第一絶縁性接着剤層を
形成させ、 アミノシラン水溶液に浸漬したガラス粉末を上記第一絶
縁性接着剤層上に散布し、ガラス成分層を形成させた後
に、上記第一絶縁性接着剤層を硬化させ、 上記ガラス成分層上に、第二絶縁性接着剤を塗布して第
二絶縁性接着剤層を形成させ、銅粉末を上記第二絶縁性
接着剤層上に散布した後に、上記第二絶縁性接着剤を硬
化させ、 上記銅粉末を散布した上記第二絶縁性接着剤層上に、銅
メッキを行い銅箔層を形成させ、 上記銅箔層に配線パターンを形成させ、 上記配線パターン上に、上記絶縁性接着剤を塗布して、
上記一連の工程を繰り返すことを特徴とする多層配線基
板の製造方法。
7. A method for manufacturing a multilayer wiring board, wherein an insulating adhesive layer and a copper foil layer are alternately arranged on a substrate, and a wiring pattern is provided on each of the copper foil layers, wherein the wiring pattern is provided. An insulating adhesive is applied to the substrate on which the copper foil layer has been formed to form a first insulating adhesive layer, and glass powder immersed in an aqueous solution of aminosilane is placed on the first insulating adhesive layer. After spraying to form a glass component layer, the first insulating adhesive layer is cured, and a second insulating adhesive is applied on the glass component layer to form a second insulating adhesive layer. Then, after spraying the copper powder on the second insulating adhesive layer, the second insulating adhesive is cured, on the second insulating adhesive layer sprinkled with the copper powder, copper plating. To form a copper foil layer, form a wiring pattern on the copper foil layer, On the turn, and applying the insulating adhesive,
A method for manufacturing a multilayer wiring board, characterized by repeating the above-mentioned series of steps.
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