JP2003101070A - 半導体発光装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体発光装置およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 半導体発光装置10は基板12を含み、基板
12の表面には2つの電極14aおよび電極14bが形
成される。たとえば、銀ペーストのような導電性の接着
剤18によって、LEDチップ16の発光層16bが電
極パッド16cを介して電極14aに接着(ダイボンデ
ィング)される。また、LEDチップ16のZnSe層
16aと電極14bとが、インジウムワイヤのようなワ
イヤ20によって電気的に接続される。たとえば、超音
波方式でワイヤボンディングされる。そして、LEDチ
ップ16およびワイヤ20がエポキシ樹脂のような透光
性樹脂22によって封止される。 【効果】 LEDチップを導電性の接着剤で接着し、超
音波方式でワイヤボンディングするので、半導体発光装
置の製造時における熱管理が簡単であり、より安価に製
造できる。
12の表面には2つの電極14aおよび電極14bが形
成される。たとえば、銀ペーストのような導電性の接着
剤18によって、LEDチップ16の発光層16bが電
極パッド16cを介して電極14aに接着(ダイボンデ
ィング)される。また、LEDチップ16のZnSe層
16aと電極14bとが、インジウムワイヤのようなワ
イヤ20によって電気的に接続される。たとえば、超音
波方式でワイヤボンディングされる。そして、LEDチ
ップ16およびワイヤ20がエポキシ樹脂のような透光
性樹脂22によって封止される。 【効果】 LEDチップを導電性の接着剤で接着し、超
音波方式でワイヤボンディングするので、半導体発光装
置の製造時における熱管理が簡単であり、より安価に製
造できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体発光装置および
その製造方法に関し、特にたとえば少なくとも発光層と
ZnSe層とが積層された半導体発光素子チップを2つ
の電極にボンディングした、半導体発光装置およびその
製造方法に関する。
その製造方法に関し、特にたとえば少なくとも発光層と
ZnSe層とが積層された半導体発光素子チップを2つ
の電極にボンディングした、半導体発光装置およびその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の半導体発光装置の一例
が、平成13年1月30日付で出願公開された特開20
01−28459号公報[H01L 33/00]に開
示されている。図8に示すように、この発光装置1で
は、青色、緑色もしくは白色のZnSeホモエピタキシ
ャル構造のLEDチップ2が、インジウム(In)ある
いはIn合金からなる導電層3を介して絶縁性基板4の
表面に形成された一方のパターン電極4aに固定され
る。つまり、LEDチップ2を構成するn型ZnSe結
晶基板2aがパターン電極4aに接続される。また、L
EDチップ2はn型ZnSe結晶基板2a上にエピタキ
シャル発光層2bおよび電極2cが順に積層され、した
がって、次の工程で、電極2cと絶縁性基板4の表面に
形成された他方のパターン電極4bとが金線のようなワ
イヤ5によってワイヤボンディングされる。つまり、エ
ピタキシャル発光層2bが電極2cを介してパターン電
極4bに接続される。そして、LEDチップ2およびワ
イヤ5を封止するように、透明樹脂6がモールドされ
る。
が、平成13年1月30日付で出願公開された特開20
01−28459号公報[H01L 33/00]に開
示されている。図8に示すように、この発光装置1で
は、青色、緑色もしくは白色のZnSeホモエピタキシ
ャル構造のLEDチップ2が、インジウム(In)ある
いはIn合金からなる導電層3を介して絶縁性基板4の
表面に形成された一方のパターン電極4aに固定され
る。つまり、LEDチップ2を構成するn型ZnSe結
晶基板2aがパターン電極4aに接続される。また、L
EDチップ2はn型ZnSe結晶基板2a上にエピタキ
シャル発光層2bおよび電極2cが順に積層され、した
がって、次の工程で、電極2cと絶縁性基板4の表面に
形成された他方のパターン電極4bとが金線のようなワ
イヤ5によってワイヤボンディングされる。つまり、エ
ピタキシャル発光層2bが電極2cを介してパターン電
極4bに接続される。そして、LEDチップ2およびワ
イヤ5を封止するように、透明樹脂6がモールドされ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来技術
では、In或いはIn合金からなる導電層3によって、
LEDチップ2をパターン電極4aに接着するため、発
光装置1の製造時や製造後において高温の熱を加える
と、導電層3が酸化してしまい、発光装置1の歩溜まり
が低下するという問題があった。
では、In或いはIn合金からなる導電層3によって、
LEDチップ2をパターン電極4aに接着するため、発
光装置1の製造時や製造後において高温の熱を加える
と、導電層3が酸化してしまい、発光装置1の歩溜まり
が低下するという問題があった。
【0004】これを回避するには、製造工程においてL
EDチップ2のボンディングの際や透光性樹脂6のモー
ルドの際に温度(熱)管理をする必要があり、製造後に
おいても発光装置1をプリント基板等に半田リフロする
際に熱管理をする必要があり、結局、従来技術では高価
になってしまう。
EDチップ2のボンディングの際や透光性樹脂6のモー
ルドの際に温度(熱)管理をする必要があり、製造後に
おいても発光装置1をプリント基板等に半田リフロする
際に熱管理をする必要があり、結局、従来技術では高価
になってしまう。
【0005】それゆえに、この発明の主たる目的は、よ
り簡単かつ安価に製造できる、半導体発光装置およびそ
の製造方法を提供することである。
り簡単かつ安価に製造できる、半導体発光装置およびそ
の製造方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、少なくと
も発光層とZnSe層とが積層された半導体発光素子チ
ップを2つの電極にボンディングした半導体発光装置に
おいて、導電性の接着剤を用いて一方の電極に発光層が
接続されるように半導体発光素子チップをダイボンディ
ングし、ボンディングワイヤを用いて他方の電極にZn
Se層が接続されるように半導体発光素子チップをワイ
ヤボンディングし、そして半導体発光素子チップおよび
ボンディングワイヤを透光性樹脂で封止するようにした
ことを特徴とする、半導体発光装置である。
も発光層とZnSe層とが積層された半導体発光素子チ
ップを2つの電極にボンディングした半導体発光装置に
おいて、導電性の接着剤を用いて一方の電極に発光層が
接続されるように半導体発光素子チップをダイボンディ
ングし、ボンディングワイヤを用いて他方の電極にZn
Se層が接続されるように半導体発光素子チップをワイ
ヤボンディングし、そして半導体発光素子チップおよび
ボンディングワイヤを透光性樹脂で封止するようにした
ことを特徴とする、半導体発光装置である。
【0007】第2の発明は、少なくとも発光層とZnS
e層とが積層された半導体発光素子チップを2つの電極
にボンディングした半導体発光装置の製造方法であっ
て、導電性の接着剤を用いて一方の電極に発光層が接続
されるように半導体発光素子チップをダイボンディング
し、ボンディングワイヤを用いて他方の電極にZnSe
層が接続されるように半導体発光素子チップを超音波方
式でワイヤボンディングし、そして半導体発光素子チッ
プおよびボンディングワイヤを透光性樹脂で封止するよ
うにした、半導体発光装置の製造方法である。
e層とが積層された半導体発光素子チップを2つの電極
にボンディングした半導体発光装置の製造方法であっ
て、導電性の接着剤を用いて一方の電極に発光層が接続
されるように半導体発光素子チップをダイボンディング
し、ボンディングワイヤを用いて他方の電極にZnSe
層が接続されるように半導体発光素子チップを超音波方
式でワイヤボンディングし、そして半導体発光素子チッ
プおよびボンディングワイヤを透光性樹脂で封止するよ
うにした、半導体発光装置の製造方法である。
【0008】
【作用】この半導体発光装置では、たとえば、絶縁性の
基板の表面に2つの電極が形成され、この2つの電極
に、少なくとも発光層とZnSe層とが積層された半導
体発光素子チップ(LEDチップ)がボンディングされ
る。具体的には、一方の電極に銀ペーストのような導電
性の接着剤が塗布され、LEDチップは、発光層がその
一方の電極に接続されるようにマウントされる。したが
って、LEDチップが発光層側でダイボンディングされ
る。次に、インジウムワイヤのようなボンディングワイ
ヤを用いて、他方の電極とZnSe層とが電気的に接続
される。たとえば、LEDチップは、超音波方式でワイ
ヤボンディングされる。したがって、室温(常温)でワ
イヤボンディングすることができ、インジウムワイヤが
酸化することはない。そして、LEDチップおよびボン
ディングワイヤがエポキシ樹脂のような透光性樹脂によ
って封止される。透光性樹脂のガラス転移点(転移温
度)は、60℃〜110℃であるため、比較的低い温度
に設定しておけば、インジウムワイヤが酸化するのを防
止することができる。
基板の表面に2つの電極が形成され、この2つの電極
に、少なくとも発光層とZnSe層とが積層された半導
体発光素子チップ(LEDチップ)がボンディングされ
る。具体的には、一方の電極に銀ペーストのような導電
性の接着剤が塗布され、LEDチップは、発光層がその
一方の電極に接続されるようにマウントされる。したが
って、LEDチップが発光層側でダイボンディングされ
る。次に、インジウムワイヤのようなボンディングワイ
ヤを用いて、他方の電極とZnSe層とが電気的に接続
される。たとえば、LEDチップは、超音波方式でワイ
ヤボンディングされる。したがって、室温(常温)でワ
イヤボンディングすることができ、インジウムワイヤが
酸化することはない。そして、LEDチップおよびボン
ディングワイヤがエポキシ樹脂のような透光性樹脂によ
って封止される。透光性樹脂のガラス転移点(転移温
度)は、60℃〜110℃であるため、比較的低い温度
に設定しておけば、インジウムワイヤが酸化するのを防
止することができる。
【0009】
【発明の効果】この発明によれば、導電性の接着剤を用
いてLEDチップをダイボンディングし、インジウムワ
イヤを超音波方式でワイヤボンディングするので、製造
中における熱管理が簡単であり、より安価となる。
いてLEDチップをダイボンディングし、インジウムワ
イヤを超音波方式でワイヤボンディングするので、製造
中における熱管理が簡単であり、より安価となる。
【0010】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
【0011】
【実施例】図1を参照して、この実施例の半導体発光装
置(以下、単に「発光装置」という。)10はガラスエ
ポキシ或いはセラミック等の絶縁性の材料で形成された
基板12を含む。基板12の表面には、2つのパターン
電極(以下、単に「電極」という。)14aおよび電極
14bが形成される。電極14aおよび電極14bは銅
で形成され、図1のII−II断面図である図2からよく分
かるように、基板12の上面から側面を介して下面まで
伸びて形成される。
置(以下、単に「発光装置」という。)10はガラスエ
ポキシ或いはセラミック等の絶縁性の材料で形成された
基板12を含む。基板12の表面には、2つのパターン
電極(以下、単に「電極」という。)14aおよび電極
14bが形成される。電極14aおよび電極14bは銅
で形成され、図1のII−II断面図である図2からよく分
かるように、基板12の上面から側面を介して下面まで
伸びて形成される。
【0012】なお、図1および図2においては、分かり
易くするために、電極14aおよび電極14bに厚みを
設けて示してあるが、実際には、薄膜の厚さに形成され
る。
易くするために、電極14aおよび電極14bに厚みを
設けて示してあるが、実際には、薄膜の厚さに形成され
る。
【0013】図1に戻って、発光装置10はまた、青
色、緑色或いは白色に発光する半導体発光素子(以下、
「LEDチップ」という。)16を含み、LEDチップ
16は電極14a上に銀ペーストのような導電性の接着
剤18によってダイボンディング(接着)される。ま
た、LEDチップ16と電極14bとが、インジウム
(In)で形成された金属細線(ワイヤ)20によって
電気的に接続される。
色、緑色或いは白色に発光する半導体発光素子(以下、
「LEDチップ」という。)16を含み、LEDチップ
16は電極14a上に銀ペーストのような導電性の接着
剤18によってダイボンディング(接着)される。ま
た、LEDチップ16と電極14bとが、インジウム
(In)で形成された金属細線(ワイヤ)20によって
電気的に接続される。
【0014】さらに、発光装置10はエポキシ樹脂のよ
うな透光性樹脂22を含み、透光性樹脂22はLEDチ
ップ16およびワイヤ20を封止するように、基板12
および電極14a、14bの上に形成される。
うな透光性樹脂22を含み、透光性樹脂22はLEDチ
ップ16およびワイヤ20を封止するように、基板12
および電極14a、14bの上に形成される。
【0015】たとえば、この実施例では、図2に示すよ
うに、層構造のLEDチップ16が用いられる。具体的
には、LEDチップ16は、ZnSe層16a、発光層
16bおよび電極パッド16cによって構成され、電極
パッド16c、発光層16bおよびZnSe層16aの
順に積層される。
うに、層構造のLEDチップ16が用いられる。具体的
には、LEDチップ16は、ZnSe層16a、発光層
16bおよび電極パッド16cによって構成され、電極
パッド16c、発光層16bおよびZnSe層16aの
順に積層される。
【0016】つまり、LEDチップ16は、発光層16
bが電極パッド16cを介して電極14aに接続され、
ZnSe層16aがワイヤ20を介して電極14bに接
続される。
bが電極パッド16cを介して電極14aに接続され、
ZnSe層16aがワイヤ20を介して電極14bに接
続される。
【0017】なお、このようなLEDチップ16として
は、平成13年1月30日付で出願公開された特開20
01−28459号公報[H01L 33/00]に開
示されている発光装置のLEDチップを用いることがで
き、そのLEDチップの製造方法は当該公報(段落番号
「0030」〜「0032」)に詳細に開示されている
ので、ここではその詳細な説明は省略する。
は、平成13年1月30日付で出願公開された特開20
01−28459号公報[H01L 33/00]に開
示されている発光装置のLEDチップを用いることがで
き、そのLEDチップの製造方法は当該公報(段落番号
「0030」〜「0032」)に詳細に開示されている
ので、ここではその詳細な説明は省略する。
【0018】この実施例の発光装置10を製造する場合
には、まず、図3(A)に示すような複数の基板12
(電極14aおよび14bを含む。)が連続的に形成さ
れた連続基板30が準備される。たとえば、この連続基
板30は、基板12を複数(この実施例では、5個)の
発光装置10に対応する数だけ連結した長さであり、そ
の表面に銅泊がラミネート(接着)された後、複数の発
光装置10に対応する電極対(電極14aおよび14
b)がエッチング処理によって形成される。
には、まず、図3(A)に示すような複数の基板12
(電極14aおよび14bを含む。)が連続的に形成さ
れた連続基板30が準備される。たとえば、この連続基
板30は、基板12を複数(この実施例では、5個)の
発光装置10に対応する数だけ連結した長さであり、そ
の表面に銅泊がラミネート(接着)された後、複数の発
光装置10に対応する電極対(電極14aおよび14
b)がエッチング処理によって形成される。
【0019】なお、隣接する電極14a同士は連続的に
形成され、同様に、隣接する電極14b同士は連続的に
形成される。
形成され、同様に、隣接する電極14b同士は連続的に
形成される。
【0020】この連続基板30を用いて、まず、複数の
電極14aのそれぞれに導電性の接着剤18(図3では
省略)が塗布され、続いて、図3(B)に示すように、
それぞれの電極14aにLEDチップ16がマウントさ
れる。このとき、LEDチップ16は、電極14aに、
その電極パッド16cすなわち発光層16bが接続され
るようにマウントされる。このようにして、LEDチッ
プ16が発光層16b側でダイボンディングされる。
電極14aのそれぞれに導電性の接着剤18(図3では
省略)が塗布され、続いて、図3(B)に示すように、
それぞれの電極14aにLEDチップ16がマウントさ
れる。このとき、LEDチップ16は、電極14aに、
その電極パッド16cすなわち発光層16bが接続され
るようにマウントされる。このようにして、LEDチッ
プ16が発光層16b側でダイボンディングされる。
【0021】次の工程では、図3(C)に示すように、
LEDチップ16がワイヤボンディングされる。つま
り、LEDチップ16とそのLEDチップ16がダイボ
ンディングされた電極14aに対応する電極14bとが
ワイヤ20で電気的に接続される。つまり、ZnSe層
16aと電極14bとが接続される。たとえば、この実
施例では、超音波方式のワイヤボンディングが採用さ
れ、ワイヤボンディングする際には、ワイヤ20に超音
波が加えられ、導電接着される。この超音波方式のワイ
ヤボンディングでは、接合温度は常温(室温)〜150
℃であるため、接合時に昇温の必要がない。したがっ
て、この実施例では、室温でワイヤボンディングして、
ワイヤ20が酸化するのを防止している。
LEDチップ16がワイヤボンディングされる。つま
り、LEDチップ16とそのLEDチップ16がダイボ
ンディングされた電極14aに対応する電極14bとが
ワイヤ20で電気的に接続される。つまり、ZnSe層
16aと電極14bとが接続される。たとえば、この実
施例では、超音波方式のワイヤボンディングが採用さ
れ、ワイヤボンディングする際には、ワイヤ20に超音
波が加えられ、導電接着される。この超音波方式のワイ
ヤボンディングでは、接合温度は常温(室温)〜150
℃であるため、接合時に昇温の必要がない。したがっ
て、この実施例では、室温でワイヤボンディングして、
ワイヤ20が酸化するのを防止している。
【0022】そして、図4(A)に示すように、LED
チップ16がボンディングされた連続基板30が上型3
2aと下型32bとの間に配置され、図4(B)に示す
ように、キャビネット34内に透光性樹脂22がモール
ドされる。そして、透光性樹脂22が硬化すると、図4
(C)に示すように、金型(32aおよび32b)が離
型され、発光装置10の大きさ毎に切断(ダイシング)
される。したがって、図1に示したような発光装置10
が複数製造(形成)される。
チップ16がボンディングされた連続基板30が上型3
2aと下型32bとの間に配置され、図4(B)に示す
ように、キャビネット34内に透光性樹脂22がモール
ドされる。そして、透光性樹脂22が硬化すると、図4
(C)に示すように、金型(32aおよび32b)が離
型され、発光装置10の大きさ毎に切断(ダイシング)
される。したがって、図1に示したような発光装置10
が複数製造(形成)される。
【0023】なお、透光性樹脂22のガラス転移点(転
移温度)は、60℃〜110℃であるため、転移温度を
比較的低く設定して、ワイヤ20の酸化を防止してい
る。
移温度)は、60℃〜110℃であるため、転移温度を
比較的低く設定して、ワイヤ20の酸化を防止してい
る。
【0024】また、発光装置10は、たとえば携帯電話
機のような電子機器のプリント基板等に実装されるが、
このとき半田リフロの際にはリフロ炉(図示せず)内の
温度が240℃〜250℃に設定されたとしても、半田
リフロの時間は比較的短いので、ワイヤ20が酸化して
しまうという問題はない。
機のような電子機器のプリント基板等に実装されるが、
このとき半田リフロの際にはリフロ炉(図示せず)内の
温度が240℃〜250℃に設定されたとしても、半田
リフロの時間は比較的短いので、ワイヤ20が酸化して
しまうという問題はない。
【0025】この実施例によれば、導電性の接着剤を用
いてLEDチップをダイボンディングし、超音波方式で
ワイヤボンディングするので、発光装置の製造時におけ
る熱処理の制約がなく、熱管理が簡単である。したがっ
て、発光装置を簡単かつ安価に製造できる。
いてLEDチップをダイボンディングし、超音波方式で
ワイヤボンディングするので、発光装置の製造時におけ
る熱処理の制約がなく、熱管理が簡単である。したがっ
て、発光装置を簡単かつ安価に製造できる。
【0026】図5(A)に示す他の実施例の発光装置4
0は、形状が異なる以外は、上述の実施例と同じである
ため、重複した説明は省略する。
0は、形状が異なる以外は、上述の実施例と同じである
ため、重複した説明は省略する。
【0027】なお、他の実施例では、上述の実施例と同
じものには、同じ参照番号を付して説明することにす
る。
じものには、同じ参照番号を付して説明することにす
る。
【0028】図5(A)に示すように、発光装置40は
電極(リード)42aおよびリード42bを含む。図5
(A)の一部の拡大断面図である図5(B)からよく分
かるように、リード42aにはLEDチップ16がダイ
ボンディングされ、LEDチップ16とリード42bと
がワイヤ20によって電気的に接続される。そして、リ
ード42aおよびリード42bの一部、LEDチップ1
6およびワイヤ20を封止するように、透光性樹脂22
が設けられる。
電極(リード)42aおよびリード42bを含む。図5
(A)の一部の拡大断面図である図5(B)からよく分
かるように、リード42aにはLEDチップ16がダイ
ボンディングされ、LEDチップ16とリード42bと
がワイヤ20によって電気的に接続される。そして、リ
ード42aおよびリード42bの一部、LEDチップ1
6およびワイヤ20を封止するように、透光性樹脂22
が設けられる。
【0029】この発光装置40を製造する場合には、図
6(A)に示すように、一対のリード42aおよびリー
ド42bが所定間隔で連続的に複数設けられたリードフ
レーム50が準備される。図示は省略するが、このリー
ドフレーム50は、たとえば、薄い金属板を打ち抜き金
型で打ち抜くことにより形成することができる。
6(A)に示すように、一対のリード42aおよびリー
ド42bが所定間隔で連続的に複数設けられたリードフ
レーム50が準備される。図示は省略するが、このリー
ドフレーム50は、たとえば、薄い金属板を打ち抜き金
型で打ち抜くことにより形成することができる。
【0030】このリードフレーム50は、図6(A)か
ら分かるように、タイバ50aを含み、タイバ50aは
発光装置40を製造するときに、リード42aおよびリ
ード42bが互いにずれてしまうのを防止するために設
けられる。
ら分かるように、タイバ50aを含み、タイバ50aは
発光装置40を製造するときに、リード42aおよびリ
ード42bが互いにずれてしまうのを防止するために設
けられる。
【0031】なお、リードフレーム50は、図6(A)
に示す形状に限らず、打ち抜き金型の形状に応じて所望
の形状に形成することができる。
に示す形状に限らず、打ち抜き金型の形状に応じて所望
の形状に形成することができる。
【0032】このリードフレーム50を用いて、まず、
図6(B)に示すように、複数のLEDチップ16がボ
ンディングされる。具体的には、複数のLEDチップ1
6は、複数のリード42aのそれぞれに、銀ペースト1
8を用いて接着(ダイボンディング)される。続いて、
LEDチップ16は超音波方式でワイヤボンディングさ
れる。つまり、LEDチップ16とLEDチップ16が
ダイボンディングされているリード42aと対をなすリ
ード42bとがワイヤ20によって電気的に接続され
る。
図6(B)に示すように、複数のLEDチップ16がボ
ンディングされる。具体的には、複数のLEDチップ1
6は、複数のリード42aのそれぞれに、銀ペースト1
8を用いて接着(ダイボンディング)される。続いて、
LEDチップ16は超音波方式でワイヤボンディングさ
れる。つまり、LEDチップ16とLEDチップ16が
ダイボンディングされているリード42aと対をなすリ
ード42bとがワイヤ20によって電気的に接続され
る。
【0033】次に、図6(C)に示すような樹脂型60
が用意される。この樹脂型60は、たとえば図5に示し
た透光性樹脂22の外形と同じ形状の窪み(凹部)60
aを複数有し、ポリカーボネートで形成される。凹部6
0aのそれぞれには、エポキシ樹脂等の透光性樹脂22
(図6(C)では省略)が充填され、図6(B)に示し
た、LEDチップ16のボンディングされたリードフレ
ーム50がその凹部60aにLEDチップ16のボンデ
ィングされた側から挿入される(図7(A)参照)。
が用意される。この樹脂型60は、たとえば図5に示し
た透光性樹脂22の外形と同じ形状の窪み(凹部)60
aを複数有し、ポリカーボネートで形成される。凹部6
0aのそれぞれには、エポキシ樹脂等の透光性樹脂22
(図6(C)では省略)が充填され、図6(B)に示し
た、LEDチップ16のボンディングされたリードフレ
ーム50がその凹部60aにLEDチップ16のボンデ
ィングされた側から挿入される(図7(A)参照)。
【0034】そして、透光性樹脂22が熱硬化される
と、図7(B)に示すように、樹脂型60が離型された
後、タイバ50aやバリなどが切断および除去され、図
5に示したような発光装置40が複数製造(形成)され
る。
と、図7(B)に示すように、樹脂型60が離型された
後、タイバ50aやバリなどが切断および除去され、図
5に示したような発光装置40が複数製造(形成)され
る。
【0035】なお、他の実施例では、樹脂型60の凹部
60aに透光性樹脂を充填して透光性樹脂22を形成す
るようにしてあるが、樹脂形成の方法は他の方法であっ
てもよく、トランスファモールド成形によって形成する
こともできる。
60aに透光性樹脂を充填して透光性樹脂22を形成す
るようにしてあるが、樹脂形成の方法は他の方法であっ
てもよく、トランスファモールド成形によって形成する
こともできる。
【0036】他の実施例によれば、上述の実施例と同様
に、LEDチップを導電性の接着剤で接着し、超音波方
式でワイヤボンディングするので、発光装置の製造時に
おける熱管理が簡単であり、発光装置を簡単かつ安価に
製造できる。
に、LEDチップを導電性の接着剤で接着し、超音波方
式でワイヤボンディングするので、発光装置の製造時に
おける熱管理が簡単であり、発光装置を簡単かつ安価に
製造できる。
【図1】この発明の一実施例を示す図解図である。
【図2】図1実施例に示す発光装置の断面図である。
【図3】図1実施例に示す発光装置の製造工程の一部を
説明するための図解図である。
説明するための図解図である。
【図4】図1実施例に示す発光装置の製造工程の他の一
部を説明するための図解図である。
部を説明するための図解図である。
【図5】この発明の他の実施例を示す図解図である。
【図6】図5実施例に示す発光装置の製造工程の一部を
説明するための図解図である。
説明するための図解図である。
【図7】図5実施例に示す発光装置の製造工程の他の一
部を説明するための図解図である。
部を説明するための図解図である。
【図8】従来の発光装置の一例を示す図解図である。
10,40 …発光装置
12 …基板
14a,14b …電極
16 …LEDチップ
18 …銀ペースト
20 …ワイヤ
22 …透光性樹脂
30 …連続基板
42a,42b …リード
50 …リードフレーム
Claims (4)
- 【請求項1】少なくとも発光層とZnSe層とが積層さ
れた半導体発光素子チップを2つの電極にボンディング
した半導体発光装置において、 導電性の接着剤を用いて一方の前記電極に前記発光層が
接続されるように前記半導体発光素子チップをダイボン
ディングし、 ボンディングワイヤを用いて他方の前記電極に前記Zn
Se層が接続されるように前記半導体発光素子チップを
ワイヤボンディングし、そして前記半導体発光素子チッ
プおよび前記ボンディングワイヤを透光性樹脂で封止す
るようにしたことを特徴とする、半導体発光装置。 - 【請求項2】前記導電性の接着剤は銀ペーストを含む、
請求項1記載の半導体発光装置。 - 【請求項3】前記ボンディングワイヤはインジウムワイ
ヤを含む、請求項1または2記載の半導体発光装置。 - 【請求項4】少なくとも発光層とZnSe層とが積層さ
れた半導体発光素子チップを2つの電極にボンディング
した半導体発光装置の製造方法であって、 導電性の接着剤を用いて一方の前記電極に前記発光層が
接続されるように前記半導体発光素子チップをダイボン
ディングし、 ボンディングワイヤを用いて他方の前記電極に前記Zn
Se層が接続されるように前記半導体発光素子チップを
超音波方式でワイヤボンディングし、そして前記半導体
発光素子チップおよび前記ボンディングワイヤを透光性
樹脂で封止するようにした、半導体発光装置の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001288299A JP2003101070A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001288299A JP2003101070A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003101070A true JP2003101070A (ja) | 2003-04-04 |
Family
ID=19110972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001288299A Withdrawn JP2003101070A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003101070A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006253421A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Citizen Electronics Co Ltd | 発光ダイオード |
JP2007324417A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Sharp Corp | 半導体発光装置とその製造方法 |
JP2013012666A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置の製造方法 |
-
2001
- 2001-09-21 JP JP2001288299A patent/JP2003101070A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006253421A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Citizen Electronics Co Ltd | 発光ダイオード |
JP2007324417A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Sharp Corp | 半導体発光装置とその製造方法 |
JP2013012666A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置の製造方法 |
US9039475B2 (en) | 2011-06-30 | 2015-05-26 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Manufacturing method of light emitting devices |
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