JP2003098653A - Photopolymerizable photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photopolymerizable photosensitive planographic printing plate

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JP2003098653A
JP2003098653A JP2001289273A JP2001289273A JP2003098653A JP 2003098653 A JP2003098653 A JP 2003098653A JP 2001289273 A JP2001289273 A JP 2001289273A JP 2001289273 A JP2001289273 A JP 2001289273A JP 2003098653 A JP2003098653 A JP 2003098653A
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JP
Japan
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printing plate
photopolymerizable
photosensitive layer
photopolymerizable photosensitive
acid
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Application number
JP2001289273A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuji Azuma
達治 東
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate keeping a paper surface corresponding to its edge portions from staining, free of a problem even on conveyability in a laser exposure setter and having improved aging stability and sensitivity. SOLUTION: In the photopolymerizable photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photopolymerizable photosensitive layer on an aluminum support with an anodic oxide coating, edge portions of opposite two sides or four sides are curved from the photosensitive layer side toward the bottom side and a photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer generates a radical by energy transfer.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は光重合性感光性平版
印刷版に関するものである。更に詳しくは、端部に汚れ
が発生することのない光重合性感光性平版印刷版に関す
るものである。 【0002】 【従来の技術】アルミニウム板を支持体とする感光性平
版印刷版を製造する方法としては、一般にシート状ある
いはコイル状のアルミニウム板に砂目立て、陽極酸化な
どの種々の表面処理を単独又は適宜組み合わせて施し、
感光液を塗布、乾燥してから所望のサイズに裁断する方
法が採られている。このような感光性平版印刷版を画像
露光及び現像等の処理をして得られた印刷版を用いて印
刷する場合、通常の枚葉印刷機のように印刷版のサイズ
よりも小さい紙に印刷する場合は印刷版の端部に相当す
る部分が印刷面とならないから端部の問題はないが、新
聞印刷のような輪転機を用いてロール状の紙に連続して
印刷する場合には、印刷版の端部となる部分もロール紙
に接触し印刷面となってしまう為、端部に付着したイン
クも紙に印刷されて汚れとなり、印刷物の商品価値を著
しく損ねていた。かかる印刷版の端部の汚れを防止する
方法として、例えば特公昭57−46754号公報に
は、アルミニウム支持体の端部をアルミニウム表面に対
して10度〜45度となるように切削する方法が開示さ
れているが、1万枚以上印刷すると端部にインキが蓄積
され汚れが発生してくる。また、特公昭62−6194
6号公報には、アルミニウム支持体の端面を不感脂化処
理しておく方法、特開昭63−256495号公報に
は、アルミニウム支持体の印刷版の端面を予め親水化処
理しておく方法、特開平11−52558号公報には、
ジアゾ系感光層を有するアルミニウム支持体の印刷版の
端面を上に凸に切断する方法が開示されているが、光重
合性感光性平版印刷版にとってはまだ不十分であり、よ
りいっそうの改善が望まれていた。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、端部に対応
する紙面に汚れが発生することなく、レーザー露光セッ
ターでの搬送性にも問題なく、経時安定性と感度が改良
された光重合性感光性平版印刷版を提供することを目的
とする。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成を採ることにより達成できた。即ち本発明は、
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、光重合
性感光層が設けられている光重合性感光性平版印刷版に
おいて、対向する2辺もしくは4辺の端部が感光層側か
ら下面側に湾曲しており、かつ、該感光層に含有される
光重合開始剤がエネルギー移動によりラジカルを発生す
るものであることを特徴とする光重合性感光性平版印刷
版である。 【0005】 【発明の実施の形態】本発明の光重合性感光性平版印刷
版について以下に詳細に説明する。 〔光重合性感光層〕先ず、本発明の光重合性感光性平版
印刷版の光重合性感光層について説明する。本発明の光
重合性感光性平版印刷版の光重合性感光層(以下、単に
感光層とも言う)を構成する光重合型感光性組成物は、
付加重合可能なエチレン性不飽和化合物、光重合開始
剤、高分子結合剤を必須成分とし、必要に応じ、着色
剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物を併用する
ことができる。 【0006】その中でも、特に重要な成分である光重合
開始剤について説明する。本発明の光重合性感光性平版
印刷版の感光層に含有させる光重合開始剤としては、エ
ネルギー移動によりラジカルを発生するものであれば、
使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である
種々の光開始剤、あるいは2種以上の光開始剤の併用系
(光開始系)を適宜選択して用いることができる。以下
に具体例を列挙するがこれらに制限されるものではな
い。 【0007】400nm以上の可視光線、Arレーザ
ー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば、米国特許第2,850,445号に記
載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エ
オシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤と
の組み合わせによる系、チタノセンと3−ケトクマリン
色素の系(特開昭63−221110号)、チタノセン
とキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を
含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わ
せた系(特開平4−221958号、特開平4−219
756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系
(特開平6−295061号)、チタノセンとベンゾピ
ラン環を有する色素の系(特開平8−334897号)
等を挙げることができる。 【0008】また、最近400〜410nmの波長のレ
ーザー(バイオレットレーザー)が開発され、それに感
応する450nm以下の波長に高感度を示す光開始系が
開発されており、これらの光開始系も使用される。例え
ば、メロシアニン色素/チタノセン系(特開2000−
147763)、カルバゾール型色素/チタノセン系
(特開2001−42524)等を挙げることができ
る。 【0009】チタノセン化合物としては、種々のものを
用いることができるが、例えば、特開昭59−1523
96号、特開昭61−151197号各公報に記載され
ている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いること
ができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェ
ニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−
トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4
−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−テト
ラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1
−イル等を挙げることができる。 【0010】更に上記光開始剤に必要に応じ、2−メル
カプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール等のチオー
ル化合物、N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキル
アミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水
素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高
められることが知られている。これらの光重合開始剤
(系)の使用量はエチレン性不飽和化合物100重量部
に対し、0.05〜100重量部、好ましくは0.1〜
70重量部、更に好ましくは0.2〜50重量部の範囲
で用いられる。 【0011】また、本発明の光重合性感光性平版印刷版
の感光層に含有させるエチレン性不飽和化合物とは、光
重合型感光性組成物が活性光線の照射を受けた時、光重
合開始剤の作用により付加重合し、架橋、硬化するよう
なエチレン性不飽和結合を有する化合物である。付加重
合可能なエチレン性二重結合を含む化合物は、末端エチ
レン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以
上有する化合物の中から任意に選択することができる。
例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量
体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそ
れらの共重合体などの化学的形態をもつものである。 【0012】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。 【0013】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。 【0014】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。 【0015】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。 【0016】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。 【0017】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。 【0018】 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH (A) 【0019】(ただし、R5およびR6はHあるいはCH
3を示す。) また、特開昭51−37193号、特公平2−3229
3号に記載されているようなウレタンアクリレート類、
特開昭48−64183号、特公昭49−43191
号、特公昭52−30490号各公報に記載されている
ようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。さらに日本接着協会誌Vol.20、No.
7、300〜308ぺージ(1984年)に光硬化性モ
ノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使
用することができる。なお、これらエチレン性不飽和化
合物の使用量は、感光層全成分の5〜80重量%、好ま
しくは30〜70重量%の範囲で使用される。 【0020】本発明の光重合性感光性平版印刷版の感光
層に用いられる高分子結合剤としては、該組成物の皮膜
形成剤としてだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必
要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である
有機高分子重合体が使用される。該有機高分子重合体
は、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現
像が可能になる。この様な有機高分子重合体としては、
側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭
59−44615号、特公昭54−34327号、特公
昭58−12577号、特公昭54−25957号、特
開昭54−92723号、特開昭59−53836号、
特開昭59−71048号に記載されているもの、すな
わち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イ
タコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共
重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。 【0021】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平7−120040号、特公平7−12004
1号、特公平7−120042号、特公平8−1242
4号、特開昭63−287944号、特開昭63−28
7947号、特開平1−271741号、特開平11−
352691に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途
には有用である。 【0022】これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としてはメルカプト
基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニ
ウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミ
ド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基と
しては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリ
ル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又
アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カル
バモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレ
ン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能
基も有用である。 【0023】組成物の現像性を維持するためには、本発
明の高分子結合剤は適当な分子量、酸価を有することが
好ましく、重量平均分子量で5000〜30万、酸価2
0〜200の高分子重合体が有効に使用される。これら
の有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させる
ことができる。しかし90重量%を超える場合には形成
される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ま
しくは10〜90%、より好ましくは30〜80%であ
る。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と有機高
分子重合体は、重量比で1/9〜9/1の範囲とするの
が好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/2てあ
り、更に好ましくは3/7〜7/3である。 【0024】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。 【0025】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue 1
5:3、15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤
やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリク
レジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよ
い。これらの添加量は全組成物の10%以下が好まし
い。 【0026】本発明の光重合性感光性平版印刷版の感光
層組成物を後述の支持体上に塗布する際には種々の有機
溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート−3−メトキシプロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は1〜
50重量%が適当である。 【0027】本発明の光重合性感光性平版印刷版の感光
層における光重合性組成物には、塗布面質を向上するた
めに界面活性剤を添加することができる。その被覆量は
乾燥後の重量で0.3g/m2〜5.0g/m2の範囲が
適当である。好ましくは0.5g/m2〜3g/m2であ
る。 【0028】また、前記感光層の上には、酸素の重合禁
止作用を防止するために酸素遮断性の保護層が必要であ
る。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要
な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルア
ルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポ
リビニルアルコールとしては、71〜100%加水分解
され、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げら
れる。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、P
VA−110、PVA−117、PVA−117H、P
VA−120、PVA−124、PVA−124H、P
VA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−
203、PVA−204、PVA−205、PVA−2
10、PVA−217、PVA−220、PVA−22
4、PVA−217EE、PVA−220、PVA−2
24、PVA−217EE、PVA−217E、PVA
−220E、PVA−224E、PVA−405、PV
A−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
上記の共重合体としては、88〜100%加水分解され
たポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピ
オネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセ
タールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有
用な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンお
よびアラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併
用して用いても良い。 【0029】本発明の光重合性感光性平版印刷版におい
て、酸素遮断性保護層を塗布する際用いる溶媒として
は、純水が好ましいが、メタノール、エタノールなどの
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液中の固
形分の濃度は1〜20重量%が適当である。本発明の上
記酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるため
の界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可
塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑剤
としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサン
ジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。また、
水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーなどを添加しても
良い。その被覆量は乾燥後の重量で0.5g/m2〜1
0g/m2の範囲が適当である。より好ましくは1.0
g/m2〜5.0g/m2である。 【0030】〔アルミニウム支持体〕次に、本発明の光
重合性感光性平版印刷版の支持体について説明する。本
発明の光重合性感光性平版印刷版を得るには上記感光層
を、表面が親水性の支持体上に設ける。親水性の支持体
としては、寸度的に安定な板状物であるアルミニウム支
持体が使用される。アルミニウム支持体の表面に対し、
必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目的で適切
な公知の物理的、化学的処理を施しても良い。 【0031】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネートまた
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みは0.15mm〜0.4mm、好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。 【0032】アルミニウム支持体は、現像後の非画像部
の傷防止の為に陽極酸化処理を行うことを必須とし、更
に粗面化(砂目立て)処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニ
ウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの
表面処理がなされていることが好ましい。陽極酸化皮膜
の膜厚は、0.5〜5.0g/m2とすることが好まし
く、1.0〜4g/m2とすることがより好ましい。 【0033】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ、磨法等の公知の方法を用いることが
できる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸、硝
酸等の電解液中で交流または直流により行う方法があ
る。また、特開昭54−63902号に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。また、アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望
により、表面の圧延油を除去するために、例えば、界面
活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。 【0034】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭47−5125号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。 【0035】陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶
液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中でアル
ミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施され
る。 【0036】また、米国特許第3658662号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。さら
に、特公昭46−27481号、特開昭52−5860
2号、特開昭52−30503号に開示されているよう
な電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理お
よび珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
また、特開昭56−28893号に開示されているよう
な機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。 【0037】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。さらに
特開平7−159983号に開示されているようなラジ
カルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合さ
せたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。 【0038】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げる
ことができる。このような表面層としては例えばUS3
055295号や、特開昭56−13168号記載の無
機顔料と結着剤とからなる層、特開平9−80744号
記載の親水性膨潤層、特表平8−507727号記載の
酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾ
ルゲル膜等を挙げることができる。これらの親水化処理
は、支持体の表面を親水性とするために施される以外
に、その上に設けられる光重合性組成物の有害な反応を
防ぐため、かつ感光層の密着性の向上等のために施され
るものである。上記の支持体上に、前記の光重合性組成
物からなる感光層を形成することで、本発明の光重合性
感光性平版印刷版を作製するが、感光層を塗設する前に
必要に応じて有機または無機の下塗り層が設けられても
構わない。 【0039】〔裁断〕次に、本発明に於ける光重合性感
光性平版印刷版の裁断について詳細に説明する。シート
状あるいはコイル状に作製された光重合性感光性平版印
刷版を、所定のサイズに裁断する。このとき、図1及び
図5に示すように、光重合性感光性平版印刷版30の端
部にそって、表面から離れる方向に曲げられて形成され
た湾曲面を有しているように裁断する。 【0040】図2は、スリッタ装置の裁断部を示す断面
図である。スリッタ装置には、上下一対の裁断刃10、
20が左右に配置されている。これらの裁断刃10、2
0は円板上の丸刃からなり、上側裁断刃10aおよび1
0bは回転軸11に、下側裁断刃20aおよび20bは
回転軸21に、それぞれ同軸上に支持されている。そし
て、上側裁断刃10aおよび10bと下側裁断刃20a
および20bとは、相反する方向に回転される。光重合
性感光性平版印刷版30は、上側裁断刃10a、10b
と下側裁断刃20a、20bとの間を通されて所定の幅
に裁断される。更に具体的には、図2に示すスリッタ装
置の裁断部の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aとの
隙間および上側裁断刃10bと下側裁断刃20bとの隙
間を、好ましくは30〜200μmに設定して図1及び
図5に示すような形状の端部を形成させる。図3は、本
発明の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aの形状を示
すものである。また、図4は、図3のA部の拡大図であ
って、上側裁断刃10aの先端形状と下側裁断刃20a
の先端形状および上側裁断刃と下側裁断刃の隙間を示
す。図1及び図5は、図2のスリッタ装置、図3の裁断
刃を用いて裁断を行った光重合性感光性平版印刷版30
の端部の形状を示す。 【0041】図5の切欠部の形状は凸型に湾曲している
ことが好ましく、より好ましくは屈曲部を有さない凸型
湾曲である。屈曲部を有する場合には屈曲部にインキが
付着して汚れが発生する場合がある。図5のダレ高さ
(X)の好ましい範囲は30〜200μm、より好まし
い範囲は40〜180μmである。図5の切欠部の面積
(Y)の好ましい範囲は200〜100000μm2、よ
り好ましい範囲は500〜70000μm2である。図5
のダレ高さ(X)が30μm未満の場合は、端部に汚れ
が発生する。また、ダレ高さ(X)が200μmより大
きい場合は、図5のバリ高さ(Z、下面部への突出)が
大きくなり、レーザー露光セッターでの自動搬送不良発
生という問題が生じる。図5の切欠部(Y)の面積が2
00μm2より小さい場合には、端部に汚れが発生する。
また、図5の切欠部の面積(Y)が100000μm2
り大きい場合には、図5のバリ高さが大きくなり、レー
ザー露光セッターでの自動搬送不良発生しやすくなる。
ダレ高さ(X)、切欠部の面積(Y)、バリ高さ(Z)
は、超深度形状測定顕微鏡VK−8500(キーエンス
製)で測定する事が出来る。 【0042】ジアゾ系感光性平版印刷版は、現像後の端
部(非画像部)をSEM写真で観察すると、アルミニウ
ム支持体31の陽極酸化皮膜32に裁断の際に発生した
と思われる割れ34が観察されるだけであり、感光層3
3の残膜は決して観察されない。しかしながら、光重合
性感光性平版印刷版に於いて光重合性感光層33の光重
合開始剤としてトリアジン化合物のように電子移動によ
ってラジカルを発生する光重合開始剤を使用した場合に
は、印刷汚れの原因となる感光層33の残膜が観察さ
れ、その部分を真空中酸素プラズマで有機物を除去する
と、必ずその下には陽極酸化皮膜32の割れ34が観察
された。 【0043】本発明に於いては、トリアジン化合物のよ
うに電子移動によってラジカルを発生する光重合開始剤
ではなく、エネルギー移動によってラジカルを発生する
光重合開始剤を使用することにより、印刷汚れの原因と
なる感光層33の残膜が発生することを防止することが
できる。原因は明確ではないが、陽極酸化皮膜32の割
れ34による金属カブリが原因と思われる。即ち、トリ
アジン化合物を使用した場合には、陽極酸化皮膜32の
割れ34を通って支持体31の金属アルミ又は不純物の
金属(Fe、Cu等)から電子が感光層33中のトリア
ジン化合物へ移動し、トリアジン化合物が分解してラジ
カルが発生し、感光層33中のエチレン性不飽和化合物
が重合して感光層33の残膜が形成されるが、エネルギ
ー移動によってラジカルを発生する光重合開始剤を使用
した場合には、電子移動によるラジカルの発生が起こら
ず、感光層33の残膜が形成されないものと考えられ
る。 【0044】〔露光・現像〕本発明の光重合性感光性平
版印刷版における前記感光層を、例えば、ヘリウムカド
ミニウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、FD・Y
AGレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザ
ー(350nm〜600nm)等の従来公知の活性光線
で画像露光した後、現像処理することにより、支持体表
面に画像を形成することができる。レーザー露光後に、
光重合性感光層の重合度を上げ、耐刷力を上げる目的で
版を加熱してもよい。また、本発明の光重合性感光性平
版印刷版の感光層の上には、前述したように、酸素遮断
性保護層が設けてあり、水または温水で該保護層を先に
除外し、その後未露光部の感光層を現像液で除去するも
のである。 【0045】本発明の光重合性感光性平版印刷版の現像
に使用する際の現像液としては、特に限定されないが、
好ましくは、特公昭57−7427号に記載されている
ような現像液が挙げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リ
チウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウ
ム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウ
ム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモ
ニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノールア
ミンまたはジエタノールアミンなどのような有機アルカ
リ剤の水溶液が適当である。このようなアルカリ溶液の
濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量
%になるように添加される。 【0046】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。 【0047】本発明における光重合性感光性平版印刷版
の前記現像液による現像は、常法に従って、0〜60
℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露
光処理した光重合性感光性平版印刷版を現像液に浸漬し
てブラシで擦る等により行う。さらに自動現像機を用い
て現像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労し
てくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能
力を回復させても良い。このようにして現像処理された
光重合性感光性平版印刷版は特開昭54−8002号、
同55−115045号、同59−58431号等の各
公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を
含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む
不感脂化液で後処理される。また、現像処理後、耐刷性
を向上させる目的で、全面をUV光で曝光してもよい。
本発明の光重合性感光性平版印刷版の後処理にはこれら
の処理を種々組み合わせて用いることができる。 【0048】 【実施例】以下に本発明を実施例によって更に具体的に
説明するが、勿論本発明の範囲はこれらによって限定さ
れるものではない。 【0049】〔光重合性感光性平版印刷版の作成〕厚さ
0.30mmの材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロ
ンブラシと800メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。1
0%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で水洗後、20%HNO3で中和洗
浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦
波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で300ク
ーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ0.45μm(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液
中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、33
℃、20%H2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極
を配置して、電流密度5A/dm2において50秒間陽
極酸化したところ厚さが2.7g/m2であった。 【0050】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記の手順で下塗り層を設けた。下記下塗り用液状
組成物を混合し30℃で攪拌した。約5分後に発熱が見
られ、60分間反応させた後、内容物を別の容器に移
し、メタノールを更に3万質量部加えることで液状塗布
液を調製した。 【0051】 (下塗り用液状組成物) 下記化合物〔化1〕 50質量部 メタノール 130質量部 水 20質量部 パラトルエンスルホン酸 5質量部 テトラエトキシシラン 50質量部 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 50質量部 【0052】 【化1】 【0053】この液状塗布液を、上記の処理されたアル
ミニウム板上に、0.1g/m2となるように塗布し、
100℃で1分間乾燥させた。 【0054】このようにして得られた下塗り層上に、下
記組成の光重合性組成物1を乾燥塗布重量が1.5g/
2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥させ、
感光層を形成した。 【0055】 (光重合性組成物1) エチレン性不飽和化合物(A1) 2.0 重量部 線状有機高分子重合体(B1) 2.0 重量部 増感剤(C1) 0.15重量部 表1に示す光重合開始剤 0.2 重量部 増感助剤(E1) 0.2 重量部 ε−フタロシアニン(F1)分散物 0.02重量部 フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF176 0.03重量部 (大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 15.0 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 15.0 重量部 【0056】 【化2】 【0057】 【化3】【0058】この感光層上に下記の素材からなる6重量
%水溶液を、酸素遮断層として乾燥塗布重量が2.5g
/m2となるように塗布し、120℃で3分乾燥させ、
光重合性感光性平版印刷版を得た。 【0059】 ポリビニルアルコール(PVA−105、クラレ(株)製、 ケン化度98モル%、重合度500) 2.2重量部 ポリビニルピロリドン(K30 和光純薬(株)製) 0.12重量部 パイオニンD625(竹本油脂(株)製) 0.073重量部 EMALEX710(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤) 0.043重量部 【0060】このようにして得られた0.3mm、幅90
cmのコイル状の光重合性感光性平版印刷版を幅80cm
に、図1のスリッタ装置と図2の裁断刃を用いて、上側
裁断刃と下側裁断刃との隙間(D)を100μm、上側
裁断刃と下側裁断刃のかみ込み量(S)を300μmに
設定して、両端を連続してスリットした。その後、11
0cmに切断し110×80cmの(新聞4ページ版)光重
合性感光性平版印刷版を得た。このプレートのダレ高さ
(X)は100μm、切欠部面積(Y)は10000μ
m2、裏面のバリ高さ(Z)は10μmであった。 【0061】この光重合性感光性平版印刷版(110×
80cm)をFD−YAGレーザー(532nm)を搭載し
た富士写真フイルム(株)製Luxel Plate Setter P−9
600 CTP NEWSで0.1、0.2、0.5、
1、2、5mJ/cm2、909dpi、100lpiの条件
で画像露光した。その後、直ちに富士写真フイルム(株)
製自動現像機FLP125NFSを用い、版面温度が版
裏面中央部で120℃になるように後加熱し、40℃の
水で酸素遮断層を水洗除去した。 【0062】その後、富士写真フイルム(株)製現像液D
V−2:水=1:4を用い、25℃で22秒現像した。
その後、水洗し、富士写真フイルム(株)製フィニッシン
グガムFP−3W:水=1:1で標準処理を行い、50
℃の温風で乾燥した。その時、ガムの塗布量は乾燥重量
で150mg/m2であった。 【0063】印刷の端部の汚れは、印刷機は東京機械
(株)製の4色タワー型輪転機CT7000(17万
機)、インキは大日本インキ(株)製新聞用インキ、湿し
水は東洋インキ(株)製新聞用ニュースキングアルキー
pH=10.2、紙は王子製紙44g/m2苫小牧、ブ
ランケットは金陽社MP−75R 2.07mmを用い
10万部印刷した後、評価した。 【0064】セッター搬送性はP−9600CTP N
EWSセッターで150枚連続処理し1枚でもうまく搬
送できなかった場合は×(NG)、150枚すべて問題
なく搬送出来た場合を○(OK)として評価した。 【0065】感度は、各露光量で製版した版においてベ
タ画像に傷がなく、2%のハイライト部が再現している
最低の光量とした。経時安定性は、光重合性感光性平版
印刷版を、60℃に1週間強制的に保存した後、同様な
感度の評価を行ない、強制経時しなかったものと比較し
た。感度変化がなかったものを○、感度低下し最高の5
mJ/cm2でも画像形成しなかったものを×とした。
その評価結果を表1に示す。 【0066】 【表1】 【0067】表1から、本発明に係わる光重合性感光性
平版印刷版は、印刷端部汚れ性、セッター搬送性、感
度、経時安定性に優れていることが明らかである。 【0068】 【発明の効果】本発明により、印刷端部汚れ性、セッタ
ー搬送性、感度、経時安定性に優れた光重合性感光性平
版印刷版を提供することができる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photopolymerizable photosensitive lithographic plate.
It relates to the printing plate. More specifically, dirt on the edge
For photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates that do not generate
Is. [0002] A photosensitive flat plate having an aluminum plate as a support.
As a method for producing a plate printing plate, there is generally a sheet form.
Or coiled aluminum plate, grained and anodized
Apply various surface treatments alone or in combination,
Applying and drying the photosensitive solution, then cutting to the desired size
The law is adopted. Such a photosensitive lithographic printing plate image
Mark using a printing plate obtained by processing such as exposure and development.
When printing, the size of the printing plate as in a normal sheet-fed press
Corresponds to the edge of the printing plate when printing on smaller paper.
There is no problem with the edges because the printed part does not become the printing surface, but the new
Continuously on a roll of paper using a rotary press
When printing, roll paper is also used as the edge of the printing plate.
Will be on the printing surface and contact with the
The prints are also printed on paper and become dirty, creating a value for the printed product
I was damaging. Prevent contamination of the edges of such printing plates
As a method, for example, in Japanese Examined Patent Publication No. 57-46754
The end of the aluminum support is placed against the aluminum surface.
And a method of cutting to 10 degrees to 45 degrees is disclosed.
However, when 10,000 sheets or more are printed, ink accumulates at the edges.
Dirt is generated. Also, Japanese Patent Publication No. 62-6194
No. 6 discloses a desensitizing treatment for the end face of an aluminum support.
The method to keep it in Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 63-256495
The hydrophilic end of the printing plate on the aluminum support is previously treated.
The method to manage, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-52558,
Printing plate of aluminum support having a diazo photosensitive layer
Although a method of cutting the end face convexly is disclosed,
It is still not enough for a photosensitive photosensitive lithographic printing plate
A further improvement was desired. [0003] The present invention addresses the end.
Laser exposure set without causing stains on the paper
Improved stability over time and sensitivity.
To provide an improved photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate
And The above object of the present invention is as follows.
This was achieved by adopting the following configuration. That is, the present invention
Photopolymerization on an aluminum support with an anodized film
A photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate provided with a photosensitive layer
The opposite two or four sides are on the photosensitive layer side.
And is contained in the photosensitive layer.
Photoinitiator generates radicals by energy transfer
Photopolymerizable photosensitive lithographic printing, characterized by
It is a version. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The photopolymerizable photosensitive lithographic printing of the present invention.
The version is described in detail below. [Photopolymerizable photosensitive layer] First, the photopolymerizable photosensitive lithographic plate of the present invention.
The photopolymerizable photosensitive layer of the printing plate will be described. Light of the present invention
The photopolymerizable photosensitive layer (hereinafter simply referred to as “polymerizable photosensitive lithographic printing plate”).
The photopolymerizable photosensitive composition constituting the photosensitive layer) is
Addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, photopolymerization started
Agent and polymer binder as essential components, colored as required
Various compounds such as plasticizers, plasticizers, thermal polymerization inhibitors, etc.
be able to. Among these, photopolymerization is a particularly important component.
The initiator will be described. Photopolymerizable photosensitive lithographic plate of the present invention
Examples of the photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer of the printing plate include:
If radicals are generated by energy transfer,
Known in patents, literature, etc., depending on the wavelength of the light source used
Various photoinitiators or a combination system of two or more photoinitiators
(Photoinitiation system) can be appropriately selected and used. Less than
Specific examples are listed below, but are not limited to these.
Yes. Visible light of 400 nm or more, Ar laser
-Second harmonic of semiconductor laser, SHG-YAG
Various light initiation systems have also been proposed when using a laser as the light source.
For example, as described in US Pat. No. 2,850,445
Certain photoreductive dyes listed, such as rose bengal,
Osin, erythrosine, etc. or dye and initiator
A system based on the combination of titanocene and 3-ketocoumarin
Dye system (Japanese Patent Laid-Open No. 63-221110), titanocene
Xanthene dye and amino group or urethane group
Contains addition polymerizable ethylenically unsaturated compounds containing
System (JP-A-4-221958, JP-A-4-219)
756), a system of titanocene and specific merocyanine dyes
(JP-A-6-295061), titanocene and benzopi
A dye system having a orchid ring (Japanese Patent Laid-Open No. 8-3344897)
Etc. Recently, a wavelength of 400 to 410 nm has been recorded.
The laser (violet laser) was developed and felt
A photoinitiating system that exhibits high sensitivity at wavelengths below 450 nm
These photoinitiating systems are also used. example
For example, a merocyanine dye / titanocene system
14763), carbazole type dye / titanocene system
(Japanese Patent Laid-Open No. 2001-42524)
The There are various titanocene compounds.
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 59-1523 can be used.
96, and JP-A 61-151197.
Select from various titanocene compounds
Can do. More specifically, di-cyclopentadieni
Ru-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl
-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-
Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorofe
Ni-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis
-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl,
Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-
Trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadie
Nyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-
Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4
-Di-fluorophen-1-yl, di-methylcyclope
Tantadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-teto
Rafluorophen-1-yl, di-methylcyclopenta
Dienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1
-Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
6-Difluoro-3- (pyr-1-yl) -pheni-1
-Yl etc. can be mentioned. Further, 2-mer may be added to the photoinitiator as required.
Captobenzthiazole, 2-mercaptobenzimid
Thio such as sol, 2-mercaptobenzoxazole
Compounds, N-phenylglycine, N, N-dialkyl
Water such as amine compounds such as amino aromatic alkyl esters
Higher photoinitiating ability by adding elemental donor compound
It is known that These photoinitiators
The amount of (system) used is 100 parts by weight of ethylenically unsaturated compound
0.05 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to
70 parts by weight, more preferably in the range of 0.2 to 50 parts by weight
Used in The photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention
The ethylenically unsaturated compound contained in the photosensitive layer of
When the polymerizable photosensitive composition is irradiated with actinic rays,
Addition polymerization, crosslinking and curing by the action of the initiator
It is a compound having an ethylenically unsaturated bond. Additional weight
A compound containing an ethylenic double bond capable of
At least one, preferably two or more lentic unsaturated bonds
Any of the above compounds can be selected.
For example, monomer, prepolymer, ie dimer, 3 quantity
Bodies and oligomers, or mixtures thereof and
These copolymers have a chemical form. Examples of monomers and copolymers thereof
Unsaturated carboxylic acids (e.g. acrylic acid, methacrylate)
Formic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, male
Esthetic acid etc. and aliphatic polyhydric alcohol compounds
Of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound
And the like. Aliphatic polyhydric alcohol compound and unsaturated cal
Specific examples of monomers of esters with boric acid include
Ethyl glycol diacrylate
, Triethylene glycol diacrylate, 1,3
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol
Cold diacrylate, propylene glycol diacryl
Rate, neopentyl glycol diacrylate, tri
Methylolpropane triacrylate, trimethylol
Propanetri (acryloyloxypropyl) ate
, Trimethylolethane triacrylate, hexane
Diol diacrylate, 1,4-cyclohexanedio
Diacrylate, tetraethylene glycol diac
Relate, pentaerythritol diacrylate, pen
Taerythritol triacrylate, pentaerythritol
Tetraacrylate, dipentaerythritol dia
Chryrate, dipentaerythritol pentaacrean
Dipentaerythritol hexaacrylate, sol
Bitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate
Rate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol
Lehexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl)
L) Isocyanurate, polyester acrylate
There are gomers. Methacrylic acid esters include tetrameth
Tylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol
Cold dimethacrylate, neopentyl glycol dimethyl
Tacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate
, Trimethylolethane trimethacrylate, ethyl
Lenglycol dimethacrylate, 1,3-butanedio
Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate
, Pentaerythritol dimethacrylate, penta
Erythritol trimethacrylate, pentaerythritol
Tetramethacrylate, dipentaerythritol di
Methacrylate, dipentaerythritol hexametac
Relate, dipentaerythritol pentamethacrylate
Sorbitol trimethacrylate, sorbitol
Tetramethacrylate, bis [p- (3-methacrylo
Xyl-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl
Methane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl
Nenyl] dimethylmethane and the like. Itaconic acid esters include ethylene glycol
Recall Diitaconate, Propylene Glycol Diita
Conate, 1,3-butanediol diitaconate,
1,4-butanediol diitaconate, tetramethyle
Glycol diitaconate, pentaerythritol di
Itaconate, sorbitol tetritaconate, etc.
The As crotonic acid ester, ethylene glycol
Dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotone
, Pentaerythritol dicrotonate, sorbite
And tetratetracrotonate. Isocrotonic acid
As stealth, ethylene glycol diisocrotonate
, Pentaerythritol diisocrotonate, sorbi
Examples include tall tetraisocrotonate. Maleic acid esters include ethylene glycol
Recall dimaleate, triethylene glycol dimale
, Pentaerythritol dimaleate, sorbitol te
There are trauma rates. In addition, the ester monomers described above
-Can also be mentioned. In addition, aliphatic polyvalent polymers
Of amide monomer of amine compound and unsaturated carboxylic acid
Specific examples include methylene bis-acrylamide, methyl.
Renbis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene
Bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-
Methacrylamide, diethylenetriamine trisacryl
Luamide, xylylene bisacrylamide, xylylene
Examples include bismethacrylamide. Other examples include Japanese Patent Publication No. 48-417.
Two or more a) molecules per molecule described in No. 08
To the polyisocyanate compound having a socyanate group,
Vinyl containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A)
Two or more polymerizable polymers in one molecule with added monomers
And vinyl urethane compounds containing nyl groups.
The CH 2 = C (R Five ) COOCH 2 CH (R 6 ) OH (A) (where R is Five And R 6 Is H or CH
Three Indicates. In addition, JP-A-51-37193 and JP-B-2-229
Urethane acrylates as described in No. 3,
JP-A-48-64183, JP-B-49-43191
And Japanese Patent Publication No. 52-30490
Such as polyester acrylate, epoxy resin
Epoxy acrylate reacted with (meth) acrylic acid
List of polyfunctional acrylates and methacrylates
be able to. Furthermore, Vol. 20, no.
7, pages 300-308 (1984)
Also used as monomers and oligomers
Can be used. These ethylenically unsaturated
The amount of the compound used is preferably 5 to 80% by weight of the total components of the photosensitive layer.
Alternatively, it is used in the range of 30 to 70% by weight. Photosensitization of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention
As a polymer binder used for the layer, a film of the composition
Not only as a forming agent, it must be dissolved in an alkaline developer.
It is soluble or swellable in alkaline water
An organic polymer is used. The organic polymer
For example, when a water-soluble organic polymer is used,
An image becomes possible. As such an organic polymer,
Addition polymers having carboxylic acid groups in the side chain, such as
59-44615, Shoko 54-34327, Shoko
Sho 58-12577, Shoko 54-25957, Sho
No. 54-92723, Japanese Patent Laid-Open No. 59-53836,
Those described in JP-A-59-71048;
That is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer,
Taconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer
Examples include polymers and partially esterified maleic acid copolymers. Similarly, an acid having a carboxylic acid group in the side chain
There are functional cellulose derivatives. In addition to this
A product obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer is useful.
is there. Especially among these [benzyl (meth) acrylate
G / (meth) acrylic acid / other additional weight as required
Compatible vinyl monomer] copolymer and [allyl (meth) a]
Acrylate (meth) acrylic acid / other as required
Addition-polymerizable vinyl monomer] is preferable. This
In addition to water-soluble organic polymers, polyvinylpyrrolidone
And polyethylene oxide are useful. Also hardened skin
To increase the strength of the membrane, alcohol-soluble polyamides and
2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane
And a polyether of epichlorohydrin are also useful.
Also, Japanese Patent Publication No. 7-120040 and Japanese Patent Publication No. 7-12004
No. 1, No. 7-120042, No. 8-1224
No. 4, JP-A 63-287944, JP-A 63-28
7947, JP-A-1-271741, JP-A-11-
The polyurethane resin described in 352691 is also used in the present invention.
Is useful. These high molecular polymers have a radical reaction in the side chain.
Improves the strength of the cured film by introducing a functional group
be able to. Ethylene as a functional group capable of addition polymerization reaction
Unsaturated unsaturated groups, amino groups, epoxy groups, etc.
Mercapto is a functional group that can be converted to radicals by irradiation.
Group, thiol group, halogen atom, triazine structure, oni
Um salt structure, etc.
And the like. A functional group capable of undergoing an addition polymerization reaction;
For example, acrylic group, methacryl group, allyl group,
Particularly preferred is an ethylenically unsaturated bond group such as
Amino group, hydroxy group, phosphonic acid group, phosphoric acid group, cal
Vamoyl group, isocyanate group, ureido group, ureire
Functional group selected from an amine group, a sulfonic acid group, and an ammonio group
Groups are also useful. In order to maintain the developability of the composition,
The bright polymer binder should have an appropriate molecular weight and acid value.
Preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, and the acid value is 2
0 to 200 high molecular weight polymers are effectively used. these
The organic polymer of this is mixed in any amount in the whole composition
be able to. However, if it exceeds 90% by weight, it is formed
Does not give a favorable result in terms of image strength and the like. Like
10 to 90%, more preferably 30 to 80%
The Also, photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds and organic
The molecular polymer should be in the range of 1/9 to 9/1 by weight.
Is preferred. A more preferable range is 2/8 to 8/2
More preferably, it is 3/7 to 7/3. In the present invention, the above basic components
Other polymerization during production or storage of the photosensitive composition
Prevent unnecessary thermal polymerization of possible ethylenically unsaturated compounds
To add a small amount of thermal polymerization inhibitor
Yes. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methoxyphenol, di-t-butyl-p-creso
, Pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquino
4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butyl
Phenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-
6-t-butylphenol), N-nitrosophenyl
Droxylamine primary cerium salt, N-nitrosofeni
And the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is approximately about the total composition weight.
0.01% to about 5% is preferred. If necessary, acid
Behenic acid and behenic acid to prevent polymerization inhibition by silicon
After coating with higher fatty acid derivatives such as amide
In the course of drying, it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer. Luxury
The amount of fatty acid derivative added is about 0.5% to about 1% of the total composition.
0% is preferable. Further, for the purpose of coloring the photosensitive layer, a colorant is added.
It may be added. As a colorant, for example, phthalocyan
Nin-based pigment (CI Pigment Blue 1
5: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, car
Bon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet
, Crystal violet, azo dye, anthraki
Non dyes and cyanine dyes are available. Of dyes and pigments
The amount added is preferably from about 0.5% to about 20% of the total composition.
In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, inorganic fillers
And dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, tric
Additives such as plasticizers such as resin phosphate may be added
Yes. These additions are preferably 10% or less of the total composition.
Yes. Photosensitization of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention
When coating the layer composition on the support described later, various organic
Dissolved in a solvent for use. The solvent used here and
Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexa
, Ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydro
Furan, toluene, ethylene glycol monomethyl ether
Tellurium, ethylene glycol monoethyl ether, ethyl
Glycol dimethyl ether, propylene glycol
Monomethyl ether, propylene glycol monoethyl
Ether, acetylacetone, cyclohexanone, dia
Seton alcohol, ethylene glycol monomethyl A
Teracetate, ethylene glycol ethyl ether
Cetate, ethylene glycol monoisopropyl ether
, Ethylene glycol monobutyl ether acetate
G, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethane
Nord, diethylene glycol monomethyl ether, di
Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol
Recall dimethyl ether, diethylene glycol die
Till ether, propylene glycol monomethyl ether
Ruacetate, propylene glycol monoethyl ether
Ruacetate-3-methoxypropyl acetate, N,
N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ
-Butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, etc.
The These solvents can be used alone or in combination.
You can. And the concentration of the solid content in the coating solution is 1 to
50% by weight is suitable. Photosensitization of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention
The photopolymerizable composition in the layer improves the coating surface quality
For this purpose, a surfactant can be added. The coverage is
0.3 g / m by weight after drying 2 ~ 5.0 g / m 2 Range is
Is appropriate. Preferably 0.5 g / m 2 ~ 3g / m 2 In
The Further, the polymerization of oxygen is prohibited on the photosensitive layer.
An oxygen barrier protective layer is necessary to prevent the stopping effect
The A water-soluble vinyl polymer contained in the oxygen barrier protective layer;
The polyvinyl alcohol and its partial esthetics
, Ether, and acetal, or required for them
A substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol that is highly water soluble.
Mention may be made of copolymers thereof containing alcohol units. Po
71 to 100% hydrolysis as rivinyl alcohol
And those having a degree of polymerization in the range of 300-2400.
It is. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, P
VA-110, PVA-117, PVA-117H, P
VA-120, PVA-124, PVA-124H, P
VA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-
203, PVA-204, PVA-205, PVA-2
10, PVA-217, PVA-220, PVA-22
4, PVA-217EE, PVA-220, PVA-2
24, PVA-217EE, PVA-217E, PVA
-220E, PVA-224E, PVA-405, PV
A-420, PVA-613, L-8, etc. are mentioned.
As said copolymer, it is hydrolyzed 88-100%
Polyvinyl acetate chloroacetate or propylene
Honate, polyvinyl formal and polyvinyl acetate
Tar and their copolymers. Other existence
Useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and
And gum arabic, which can be used alone or in combination.
May be used. In the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention,
As a solvent used when applying an oxygen barrier protective layer
Is preferably pure water, but methanol, ethanol, etc.
Alcohols, acetone, methyl ethyl ketone, etc.
Tons may be mixed with pure water. Then, in the coating solution
The concentration of the form is suitably 1 to 20% by weight. On the present invention
In order to further improve the coatability of the oxygen barrier protective layer
Surfactant, water-soluble to improve film properties
You may add well-known additives, such as a plasticizer. Water-soluble plasticizer
For example, propionamide, cyclohexane
There are diol, glycerin, sorbitol and the like. Also,
Even if water-soluble (meth) acrylic polymer is added
good. The coating amount is 0.5 g / m in weight after drying. 2 ~ 1
0g / m 2 The range of is appropriate. More preferably 1.0
g / m 2 ~ 5.0 g / m 2 It is. [Aluminum Support] Next, the light of the present invention is used.
The support for the polymerizable photosensitive lithographic printing plate will be described. Book
In order to obtain the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the invention, the above photosensitive layer is used.
Is provided on a support having a hydrophilic surface. Hydrophilic support
The aluminum support is a dimensionally stable plate.
A holding body is used. Against the surface of the aluminum support
Appropriate for the purpose of imparting hydrophilicity or improving strength as necessary
Such known physical and chemical treatments may be applied. The preferred aluminum plate is pure aluminum
Mainly composed of plate and aluminum, and contains trace amounts of foreign elements.
Alloy plate, and also aluminum laminated or
May be a deposited plastic film. Armini
The different elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, and manga.
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel
There are Kell and Titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most
10% by weight or less. Particularly suitable for the present invention
Minium is pure aluminum, but it is completely pure aluminum.
Since ruminium is difficult to manufacture due to refining technology,
It may contain foreign elements. Thus, it is suitable for the present invention.
The aluminum plate used has a specific composition
Rather than using a publicly known aluminum plate
It can be used as appropriate. Al used in the present invention
The thickness of the minium plate is preferably 0.15mm to 0.4mm
Or 0.2 mm to 0.3 mm. The aluminum support is a non-image area after development.
It is essential to anodize to prevent scratches on the
Surface roughening (graining), sodium silicate, zirconium fluoride
Such as immersion treatment in aqueous solution of potassium umerate, phosphate, etc.
It is preferable that surface treatment is performed. Anodized film
The film thickness of 0.5 to 5.0 g / m 2 And prefer
1.0 to 4 g / m 2 More preferably. The roughening treatment of the surface of the aluminum plate
For example, the surface is mechanically roughened.
A method for electrochemically dissolving and roughening the surface and
It is carried out by a method of selectively dissolving the surface chemically. Machine
Mechanical methods include ball polishing, brush polishing, and bra
Use known methods such as strike polishing, buffing, and polishing.
it can. Electrochemical roughening methods include hydrochloric acid and glass.
There are methods that use alternating current or direct current in electrolytes such as acids.
The Moreover, it is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 54-63902.
You can also use a method that combines both
The Also, prior to roughening the aluminum plate, desired
For example, to remove rolling oil on the surface, the interface
Degreasing with activator, organic solvent or alkaline aqueous solution
Processing is performed. Further, after roughening, sodium silicate
Aluminum plate immersed in aqueous solution is preferably used
it can. As described in Japanese Patent Publication No. 47-5125
After anodizing the aluminum plate,
What is immersed in an aqueous solution of metal silicate is preferably used.
It is. Anodizing treatment is, for example, phosphoric acid, chromium
Inorganic acids such as acid, sulfuric acid, boric acid, or oxalic acid, sulfami
Aqueous or non-aqueous solutions of organic acids such as acids or their salts
Alcohol is used alone or in combination of two or more.
It is implemented by passing a current with the minium plate as the anode.
The Also described in US Pat. No. 3,658,662.
Silicate electrodeposition is also effective. More
JP-B-46-27481, JP-A-52-5860
2 and as disclosed in JP-A 52-30503
And a support with an appropriate electrolytic grain and the above-mentioned anodizing treatment
A surface treatment in combination with sodium silicate treatment is also useful.
Further, as disclosed in JP-A-56-28893
Mechanical roughening, chemical etching, electrolytic grain, positive
Preference is also given to polar oxidation treatment and sodium silicate treatment in order.
Is suitable. Furthermore, after these treatments,
Resin such as polyvinylphosphonic acid, sulfonic acid group
Polymers and copolymers having a pendant in the side chain, polyacryl
Acid, water-soluble metal salt (for example, zinc borate) or yellow dyeing
Also preferred is a primer or amine salt. further
Radiation as disclosed in JP-A-7-159983
A functional group capable of undergoing an addition reaction by cal is covalently bonded.
A sol-gel treated substrate is also preferably used. As another preferred example, on an arbitrary support.
In addition, the surface layer may be provided with a water-resistant hydrophilic layer.
be able to. As such a surface layer, for example, US3
No. 055295 or JP-A-56-13168
Layer comprising machine pigment and binder, JP-A-9-80744
The hydrophilic swelling layer described in JP-A-8-507727
Zo consisting of titanium oxide, polyvinyl alcohol and silicic acids
A Lugel membrane can be used. These hydrophilic treatments
Is applied to make the surface of the support hydrophilic.
In addition, the harmful reaction of the photopolymerizable composition provided thereon
To prevent and improve the adhesion of the photosensitive layer
Is. On the above support, the photopolymerizable composition
By forming a photosensitive layer made of a product, the photopolymerizability of the present invention
Make a photosensitive lithographic printing plate, but before applying the photosensitive layer
Even if an organic or inorganic subbing layer is provided as required
I do not care. [Cutting] Next, the photopolymerization feeling in the present invention.
The cutting of the photolithographic printing plate will be described in detail. Sheet
Photopolymerizable photosensitive lithographic stamp made in the shape of a coil or coil
The printing plate is cut into a predetermined size. At this time, FIG.
As shown in FIG. 5, the edge of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate 30
Bent along the part and away from the surface.
Cut to have a curved surface. FIG. 2 is a sectional view showing a cutting portion of the slitter device.
FIG. The slitter device includes a pair of upper and lower cutting blades 10,
20 is arranged on the left and right. These cutting blades 10, 2
0 consists of a round blade on a disk, and the upper cutting blades 10a and 1
0b is on the rotating shaft 11, and the lower cutting blades 20a and 20b are
The rotary shaft 21 is supported on the same axis. And
The upper cutting blades 10a and 10b and the lower cutting blade 20a
And 20b are rotated in opposite directions. Photopolymerization
Photosensitive photosensitive lithographic printing plate 30 includes upper cutting blades 10a and 10b.
And a predetermined width passed between the lower cutting blades 20a and 20b
It is cut by. More specifically, the slitter device shown in FIG.
Between the upper cutting blade 10a and the lower cutting blade 20a of the cutting section
Clearance and gap between the upper cutting blade 10b and the lower cutting blade 20b
The interval is preferably set to 30 to 200 μm and FIG.
An end portion having a shape as shown in FIG. 5 is formed. Figure 3 shows the book
The shape of the upper cutting blade 10a and the lower cutting blade 20a of the invention is shown.
It is. FIG. 4 is an enlarged view of part A in FIG.
The tip shape of the upper cutting blade 10a and the lower cutting blade 20a
Tip shape and the gap between the upper and lower cutting blades
The 1 and 5 show the slitter apparatus of FIG. 2 and the cutting of FIG.
Photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate 30 cut with a blade
The shape of the edge part of is shown. The shape of the notch in FIG. 5 is curved in a convex shape.
Preferably, more preferably a convex type having no bent portion
It is curved. If it has a bent part, ink will be applied to the bent part.
It may adhere and cause dirt. Sagging height in Figure 5
The preferred range of (X) is 30-200 μm, more preferred
The range is 40 to 180 μm. Area of the notch in FIG.
A preferable range of (Y) is 200 to 100,000 μm. 2 , Yo
A more preferable range is 500 to 70000 μm. 2 It is. FIG.
If the sag height (X) is less than 30 μm, it will become dirty on the edges.
Will occur. Also, the sagging height (X) is greater than 200 μm
In the case of a threshold, the burr height (Z, protrusion to the lower surface) in FIG.
Increased, automatic conveyance failure with laser exposure setter
The problem of life arises. The area of the notch (Y) in FIG.
00μm 2 If it is smaller, the edge will become dirty.
Further, the area (Y) of the notch in FIG. 5 is 100,000 μm. 2 Yo
Is larger, the burr height in FIG.
It is easy for automatic conveyance failure to occur in the exposure setter.
Sagging height (X), notch area (Y), burr height (Z)
Is an ultra-deep profile measuring microscope VK-8500 (Keyence
Can be measured. The diazo photosensitive lithographic printing plate has an edge after development.
When the part (non-image part) is observed with the SEM photograph, aluminum
Occurs during cutting of the anodized film 32 of the film support 31
Only the crack 34 that seems to be observed is observed.
A residual film of 3 is never observed. However, photopolymerization
Of the photopolymerizable photosensitive layer 33 in the photosensitive photosensitive lithographic printing plate
Electron transfer like triazine compound as the initiator
When using a photopolymerization initiator that generates radicals
The residual film of the photosensitive layer 33 that causes printing stains is observed.
The part is removed with oxygen plasma in vacuum
Underneath, a crack 34 of the anodic oxide film 32 is observed.
It was done. In the present invention, triazine compounds are used.
Photopolymerization initiator that generates radicals by electron transfer
Rather than generating radicals by energy transfer
By using a photopolymerization initiator,
To prevent the remaining film of the photosensitive layer 33 from being generated.
it can. The cause is not clear, but the anodic oxide film 32
This is thought to be caused by metal fogging due to this. That is, the bird
When an azine compound is used, the anodic oxide film 32
The metal aluminum or impurities of the support 31 through the crack 34
Electrons from metal (Fe, Cu, etc.) in the photosensitive layer 33
The triazine compound decomposes and
Cals are generated, and the ethylenically unsaturated compound in the photosensitive layer 33
Is polymerized to form the remaining film of the photosensitive layer 33.
-Use of photoinitiator that generates radicals by migration
In this case, generation of radicals due to electron transfer occurs.
Therefore, it is considered that the remaining film of the photosensitive layer 33 is not formed.
The [Exposure / Development] The photopolymerizable photosensitive film of the present invention
The photosensitive layer in a plate printing plate is, for example, helium cadmium
Minium laser, argon ion laser, FD / Y
AG laser, helium neon laser, semiconductor laser
-Conventionally known actinic rays such as (350 nm to 600 nm)
After image exposure with
An image can be formed on the surface. After laser exposure
For the purpose of increasing the degree of polymerization of the photopolymerizable photosensitive layer and increasing the printing durability
The plate may be heated. Further, the photopolymerizable photosensitive flat plate of the present invention.
On the photosensitive layer of the plate printing plate, as described above, oxygen blocking
The protective layer is provided, and the protective layer is first applied with water or warm water.
Then remove the unexposed photosensitive layer with a developer.
It is. Development of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention
As a developer for use in, it is not particularly limited,
Preferably, it is described in JP-B-57-7427
Developer such as sodium silicate, potassium silicate
Lithium, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide
Thium, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate
, Ammonium triphosphate, ammonium phosphate
, Sodium metasilicate, sodium bicarbonate, ammonia
Inorganic alkaline agents such as near water and monoethanol alcohol
Organic alkenyl such as min or diethanolamine
An aqueous solution of the agent is suitable. Of such alkaline solutions
Concentration is 0.1-10% by weight, preferably 0.5-5%
% To be added. In addition, in such an alkaline aqueous solution,
Surfactant, benzyl alcohol, 2-ph as necessary
Like enoxyethanol, 2-butoxyethanol
A small amount of organic solvent can be included. For example, US Patent No.
Described in US Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480.
Can be mentioned. Furthermore, JP-A-5
0-26601, 58-54341, Shoko 56
-39464, 56-42860 described in each publication
The developer that is used is also excellent. Photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate in the present invention
The development with the developer is 0-60 in accordance with a conventional method.
At a temperature of about 15-40 ° C., for example, dew
Immerse the photopolymerized photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate in a developer.
For example, rubbing with a brush. Furthermore, using an automatic processor
When developing, the developer becomes fatigued according to the processing amount.
Processing capacity with replenisher or fresh developer
You may restore power. It was developed in this way
A photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate is disclosed in JP-A No. 54-8002,
51-115045, 59-58431, etc.
As described in the gazette, wash water, surfactant, etc.
Contains rinse solution, gum arabic, starch derivatives, etc.
It is post-treated with a desensitizing solution. Also, after development processing, printing durability
In order to improve the above, the entire surface may be exposed to UV light.
These are used in the post-treatment of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention.
These processes can be used in various combinations. The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
Of course, the scope of the present invention is of course limited by these.
Is not something [Preparation of photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate] Thickness
A 0.30mm material 1S aluminum plate No. 8 Nairro
Use a water suspension of brush and 800 mesh pumiston
The surface was grained and washed thoroughly with water. 1
Immerse in 0% sodium hydroxide at 70 ° C for 60 seconds.
20% HNO after washing with running water Three Neutralized washing with
Purified and washed with water. This is V A = 12.7V sine
300 waves in 1% nitric acid aqueous solution using alternating wave current
-Ron / dm 2 Electrolytic surface roughening with the amount of electricity at the anode
It was. The surface roughness measured was 0.45 μm (Ra
Display). Continuously 30% H 2 SO Four Aqueous solution
After dipping in and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, 33
℃, 20% H 2 SO Four Cathode on grained surface in aqueous solution
Current density 5A / dm 2 Positive for 50 seconds
When oxidized, the thickness is 2.7 g / m 2 Met. On the aluminum plate treated in this way
The undercoat layer was provided by the following procedure. The following undercoat liquid
The composition was mixed and stirred at 30 ° C. I saw a fever after about 5 minutes
After reacting for 60 minutes, transfer the contents to another container.
And liquid application by adding 30,000 parts by mass of methanol.
A liquid was prepared. (Liquid composition for undercoating) The following compound [Chemical Formula 1] 50 parts by mass Methanol 130 parts by mass Water 20 parts by mass Paratoluenesulfonic acid 5 parts by mass Tetraethoxysilane 50 parts by mass 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 50 parts by mass Part [0052] [Chemical Formula 1] This liquid coating solution is treated with the above-mentioned treated alkane.
0.1 g / m on the minium plate 2 Apply so that
Dry at 100 ° C. for 1 minute. On the undercoat layer thus obtained,
The photopolymerizable composition 1 having the composition described above had a dry coating weight of 1.5 g /
m 2 And then dried at 100 ° C. for 1 minute,
A photosensitive layer was formed. (Photopolymerizable composition 1) Ethylenically unsaturated compound (A1) 2.0 parts by weight Linear organic polymer (B1) 2.0 parts by weight Sensitizer (C1) 0.15 parts by weight Photopolymerization initiators shown in Table 1 0.2 parts by weight Sensitization aid (E1) 0.2 parts by weight ε-phthalocyanine (F1) dispersion 0.02 parts by weight Fluorinated nonionic surfactant Megafac F176 0.03 Part by weight (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Methyl ethyl ketone 15.0 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate 15.0 parts by weight Embedded image 6 weights of the following materials are formed on this photosensitive layer.
% Aqueous solution as an oxygen barrier layer, dry coating weight 2.5g
/ M 2 And then dried at 120 ° C. for 3 minutes,
A photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate was obtained. Polyvinyl alcohol (PVA-105, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 2.2 parts by weight polyvinyl pyrrolidone (K30 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.12 parts by weight pionine D625 (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.073 parts by weight EMALEX 710 (manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., surfactant) 0.043 parts by weight The thus obtained 0.3 mm, width 90
A coiled photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate with a width of 80 cm
Using the slitter device of FIG. 1 and the cutting blade of FIG.
The clearance (D) between the cutting blade and the lower cutting blade is 100 μm, the upper side
The amount of biting (S) between the cutting blade and the lower cutting blade is 300 μm.
Set and slit continuously at both ends. Then 11
Cut into 0cm and 110x80cm (newspaper 4 page version)
A photosensitive photosensitive lithographic printing plate was obtained. Sagging height of this plate
(X) is 100 μm, notch area (Y) is 10000 μm
m 2 The burr height (Z) on the back surface was 10 μm. This photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate (110 ×
80cm) equipped with FD-YAG laser (532nm)
Luxel Plate Setter P-9 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
0.1, 0.2, 0.5, 600 CTP NEWS
1, 2, 5 mJ / cm 2 , 909dpi, 100lpi
The image was exposed. Immediately after that, Fuji Photo Film Co., Ltd.
Using an automatic processor FLP125NFS, the plate surface temperature is
Post-heated to 120 ° C at the center of the back surface,
The oxygen barrier layer was washed away with water. Thereafter, developer D manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Development was performed at 25 ° C. for 22 seconds using V-2: water = 1: 4.
After that, it was washed with water and finished by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Standard treatment with Gum gum FP-3W: water = 1: 1, 50
Dry with warm air at ℃. At that time, the amount of gum applied is dry weight
150mg / m 2 Met. The smudges at the edges of the print are printed on the Tokyo machine.
4-color tower type rotary press CT7000 (170,000)
Machine), ink is Dainippon Ink Co., Ltd. newspaper ink, dampening
Water is News King Alky for newspaper made by Toyo Ink Co., Ltd.
pH = 10.2, paper is Oji Paper 44g / m 2 Tomakomai
The banquet uses Kinyo MP-75R 2.07mm
Evaluation was performed after 100,000 copies were printed. Setter transportability is P-9600CTP N
Process 150 sheets continuously with an EWS setter and carry even one
If it could not be sent × (NG), all 150 issues
The case where it was able to carry without being evaluated as O (OK). Sensitivity is the highest for plates made at each exposure.
The image has no scratches and the 2% highlight is reproduced.
The minimum amount of light was used. Stability over time is photopolymerizable photosensitive lithographic plate
After forcibly storing the printing plate at 60 ° C for one week, the same
Evaluate the sensitivity and compare with the one that was not forced to age.
It was. ○ that the sensitivity did not change, the sensitivity decreased and the highest 5
mJ / cm 2 However, the case where no image was formed was marked as x.
The evaluation results are shown in Table 1. [Table 1] From Table 1, the photopolymerizable photosensitivity according to the present invention is shown.
A lithographic printing plate has a print edge stain, setter transportability,
It is clear that the stability over time is excellent. As described above, according to the present invention, the print end stain resistance, setter
-Photopolymerizable photosensitivity with excellent transportability, sensitivity and stability over time
Plate printing plates can be provided.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明に係わる光重合性感光性平版印刷版の端
部の一部破断斜視図である。 【図2】スリッタ装置を示す図である。 【図3】スリッタ装置の裁断部の断面図である。 【図4】図3のA部の拡大図である。 【図5】本発明に係わる光重合性感光性平版印刷版の端
部の形状を示す図面である。 【符号の説明】 10(10a、10b) 上側裁断刃 11 回転軸 20(20a、20b) 下側裁断刃 21 回転軸 30 光重合性感光性平版印刷版 31 アルミニウム支持体 32 陽極酸化皮膜 33 光重合性感光層 34 割れ
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a partially broken perspective view of an end portion of a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate according to the present invention. FIG. 2 is a diagram showing a slitter device. FIG. 3 is a cross-sectional view of a cutting portion of the slitter device. 4 is an enlarged view of a part A in FIG. 3; FIG. 5 is a drawing showing the shape of the edge of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate according to the present invention. [Description of Symbols] 10 (10a, 10b) Upper cutting blade 11 Rotating shaft 20 (20a, 20b) Lower cutting blade 21 Rotating shaft 30 Photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate 31 Aluminum support 32 Anodized film 33 Photopolymerization Photosensitive layer 34 crack

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持
体上に、光重合性感光層が設けられている光重合性感光
性平版印刷版において、対向する2辺もしくは4辺の端
部が感光層側から下面側に湾曲しており、かつ、該感光
層に含有される光重合開始剤がエネルギー移動によりラ
ジカルを発生するものであることを特徴とする光重合性
感光性平版印刷版。
What is claimed is: 1. A photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate comprising a photopolymerizable photosensitive layer provided on an aluminum support having an anodized film. A photopolymerizable photosensitive lithographic plate characterized in that the end is curved from the photosensitive layer side to the lower surface side, and the photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer generates radicals by energy transfer Printed version.
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