JP4150494B2

JP4150494B2 - Planographic printing plate making method

Info

Publication number: JP4150494B2
Application number: JP2000276811A
Authority: JP
Inventors: 俊一近藤; 博幸長瀬
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2000-09-12
Filing date: 2000-09-12
Publication date: 2008-09-17
Anticipated expiration: 2020-09-12
Also published as: JP2002091016A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷版の製版方法に関し、さらに詳しくは、経時や繰り返しの使用による現像特性の低下が抑えられると共に、非画像部に対し良好な現像性を有し印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られ、印刷中にブラインディンク等の印刷故障がなく、高い耐刷性を実現可能な平版印刷版の製版方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より広く用いられているネガ型感光性平版印刷版は、親水処理されたアルミニウム板上にジアゾ樹脂が設けられたものであったので、現像液には有機溶剤を使用せざるを得ず、現像廃液の処理やその環境への影響が懸念されている。またポジ型感光性平版印刷版の感光層には、オルソキノンジアジド化合物がノボラック樹脂と併用されており、現像液にはノボラニック樹脂を溶解可能なアルカリ性の珪酸塩水溶液が用いられている。しかし、ノボラック樹脂を溶解可能なｐＨは１３程度で、このような高ｐＨ現像液は、皮膚や粘膜に付着した場合の刺激性が強く、取り扱いには十分な注意を必要とした。
【０００３】
一方、アルミニウム板支持体上に光重合型感光性平版印刷版の感光層を有する感光性平版印刷版も使用されており、その現像液としては、アルカリ金属の珪酸塩、燐酸塩、炭酸塩、水酸化物等、及び有機アミン化合物等の水溶液が提案されている。
例えば、特開平８−２４８６４３号公報には、１２以上の高ｐＨで珪酸アルカリ塩と両性界面活性剤を含む現像液が、特開平１１−６５１２９号には、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ（Ｍはアルカリ金属）が規定されたｐＨ１２以下の珪酸アルカリ珪酸塩を含む現像液が開示されている。
前者には取り扱い上の問題の他に、画像部が現像液の高ｐＨのため現像によりダメージを受けやすいという問題が、また後者には使用中の僅かな現像液のｐＨ低下により、珪酸塩がゲル化、不溶化してしまうという問題があった。
【０００４】
珪酸アルカリ塩を用いない現像液としては、特開昭６１−１０９０５２号公報に、アルカリ試薬、錯化剤、アニオン界面活性剤、乳化剤、ｎ−アルカン酸等からなる現像液が、また西ドイツ特許第１９８４６０５号公報には、アルカリ剤、錯化剤、アニオン界面活性剤、アミルアルコール、Ｎ−アルコキシアミン類を含んだ現像液が開示されているが、両者ともｐＨが高く、有機溶剤を含有するため、画像部のダメージが大きく、十分な、耐刷等の印刷性能を得るのに問題があった。
比較的ｐＨが低く（ｐＨ１２以下）、珪酸アルカリを含まない現像液としては、特開２０００−８１７１１号公報に、アニオン界面活性剤を含む水酸化カリウム水溶液からなる現像液が、また特開平１１−６５１２６号公報にはｐＨ８．５〜１１．５のアルカリ金属の炭酸塩水溶液からなる現像液が開示されている。
【０００５】
しかしながら、このような比較的低ｐＨの現像液は、基本的に光重合型感光層の溶解力が乏しいため、例えば、経時した版材で、十分に現像が進まないため残膜が生じる等の問題があった。これらの問題を解決するためには、版材感光層中の高分子結合剤の酸価を高くして現像性を稼ぐか、又は酸基を有するモノマーを併用する等の工夫が必要であるが、この様な高酸価バインダーを使用した場合には、印刷の途中でインキが着かなくなる問題（ブラインディング）等、印刷上の問題が発生しやすかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明は、環境、安全上好ましい比較的低ｐＨのアルカリ現像液を用い、安定的に、非画像部は良好な現像性を有し印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られ、更には印刷中にブラインディング等の印刷故障がなく、安定して、高い耐刷性を実現可能な平版印刷版の製版方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意研究した結果、比較的ｐＨが低いアルカリ溶液と、特定の構造のノニオン系界面活性剤とを組み合わせ、その現像液中の塩濃度を調整することで、光重合型感光層の未露光部の溶解速度が上がり、逆に露光部の光重合による架橋した部分は現像液の浸透が抑制されることを見いだし、本発明に到達した。
即ち本発明は、
（１）アルミニウム支持体上にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光重合開始剤、及び、高分子結合剤からなる光重合型感光性組成物の感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、無機のアルカリ剤と下記一般式（Ｉ）の構造を有するポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有し、ｐＨ１０．０〜１２．５、導電率３〜３０ｍＳ／ｃｍの現像液で現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法であり、
（一般式）Ｒ¹−Ｏ−（Ｒ²−Ｏ）_nＨ（Ｉ）
（式中、Ｒ¹は、置換基を有さないフェニル基又は置換基を有さないナフチル基を示し、Ｒ²は置換基を有してもよい炭素数１〜１００のアルキレン基を示し、ｎは１〜１００の整数を表す。）
本発明により、安定的に、印刷汚れのない未露光部と高耐刷性を有する露光部からなる印刷版を得ることが可能となる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下本発明の平版印刷版の製版方法について詳細に説明する。
先ず、本発明の平版印刷版の製版方法の特徴であり、本発明の製版方法に用いられるに新規な現像液について説明する。
本発明の平版印刷版の製版方法に使用される現像液は、無機のアルカリ剤と下記一般式（Ｉ）の構造を有するポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有するものであり、ｐＨが１０．０〜
１２．５、導電率が３〜３０ｍＳ／ｃｍである。
（一般式）Ｒ¹−Ｏ−（Ｒ²−Ｏ）_nＨ（Ｉ）
（式中、Ｒ¹は、置換基を有さないフェニル基又は置換基を有さないナフチル基を示し、Ｒ²は置換基を有してもよい炭素数１〜１００のアルキレン基を示し、ｎは１〜１００の整数を表す。）
【０００９】
無機のアルカリ剤としては、上記物性値を与える物であれば、適宜使用可能であるが、例えば、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、及び、同リチウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。
また、アルカリ濃度の微少な調整、感光層の溶解性の補助の目的で、補足的に有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。
これらのアルカリ剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００１０】
本発明で使用される現像液のｐＨは、１０．０〜１２．５であるが、下回ると画像形成ができなくなり、逆に範囲を超えると過現像になったり、露光部の現像でのダメージが強くなるという問題が生じる。尚、好ましいｐＨ範囲は、１１．０〜１２．０である。
【００１１】
また、本発明で使用される現像液の導電率は、３〜３０ｍＳ／ｃｍであるが、下回ると、通常、アルミニウム板支持体表面の感光性組成物の溶出が困難となり、印刷で汚れを伴ってしまい、逆に範囲を超えると、塩濃度が高いため、感光層の溶出速度が極端に遅くなり、未露光部に残膜が生じるという。好ましい導電率の範囲は、３〜３０ｍＳ／ｃｍの範囲であり、更に好ましくは５〜２０ｍＳ／ｃｍの範囲である。
【００１２】
本発明で使用される現像液には、下記一般式（Ｉ）の構造を有するポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤を含有することが必須であり、この界面活性剤添加により、未露光部の感光層の溶解促進、露光部への現像液の浸透性の低減が可能となる。
【００１３】
Ｒ¹−Ｏ−（Ｒ²−Ｏ)_nＨ（Ｉ）
【００１４】
式中、Ｒ¹は、置換基を有さないフェニル基又は置換基を有さないナフチル基を示し、Ｒ²は、置換基を有してもよい炭素数１〜１００のアルキレン基（尚、置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げられる。）を示し、ｎは１〜１００の整数を表す。
【００１５】
また式（Ｉ）の（Ｒ²−Ｏ)_nの部分は、上記範囲であれば、２種、又は３種の基であっても良い。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダム又はブロック状に連なったもの等が挙げられる。
本発明において、ポリオキシアルキレンエーテル基を有する界面活性剤は、単独又は複合系で使用され、現像液中、１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％添加することが効果的である。
添加量が少ないと現像性の低下が、逆に多すぎると現像のダメージが強くなり、印刷版の耐刷性を低下させてしまう。
【００１６】
またさらに以下に記す、その他の界面活性剤を加えてもよい。
その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤；ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤等が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。
これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で０．１〜２０重量％が好ましい。
【００１７】
本発明の現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、ｐ−イソプロピル安息香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン酸；イソプロピルアルコール、ヘンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤、消泡剤等が挙げられる。
【００１８】
次に、本発明に用いる感光性平版印刷版について説明する。
本発明に用いる感光性平版印刷版の感光層を構成する光重合型感光性組成物は、付加重合可能なエチレン性不飽和化合物、光開始剤、高分子結合剤を必須成分とし、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物を併用することができる。
【００１９】
エチレン性不飽和化合物とは、光重合型感光性組成物が活性光線の照射を受けた時、光重合開始剤の作用により付加重合し、架橋、硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する化合物である。
付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。
例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものである。
【００２０】
モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげられる。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【００２１】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００２２】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【００２３】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげることができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
【００２４】
その他の例としては、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ⁵）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ⁶）ＯＨ（Ａ）
（ただし、Ｒ⁵およびＲ⁶はＨあるいはＣＨ₃を示す。）
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。さらに日本接着協会誌Vol．２０、No．７、３００〜３０８ぺージ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
なお、これらエチレン性不飽和化合物の使用量は、感光層全成分の５〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量％の範囲で使用される。
【００２５】
また本発明の感光性平版印刷版の感光層に含有させる光重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適宜選択して用いることができる。以下に具体例を列挙するがこれらに制限されるものではない。
４００ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレーザー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレーザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第２，８５０，４４５号に記載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系（特公昭４４−２０１８９号）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公昭４５−３７３７７号）、ヘキサアリールビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特公昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系（特開昭４８−８４１８３号）、環状トリアジンとメロシアニン色素の系（特開昭５４−１５１０２４号）、３−ケトクマリンと活性剤の系（特開昭５２−１１２６８１号、特開昭５８−１５５０３号）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系（特開昭５９−１４０２０３号）、有機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１５０４号、特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１８９３４０号、特開昭６２−１７４２０３号、特公昭６２−１６４１号、米国特許第４７６６０５５号）、染料と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−２５８９０３号、特開平２−６３０５４号など）染料とボレート化合物の系（特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開昭６４−１３１４０号、特開昭６４−１３１４１号、特開昭６４−１３１４２号、特開昭６４−１３１４３号、特開昭６４−１３１４４号、特開昭６４−１７０４８号、特開平１−２２９００３号、特開平１−２９８３４８号、特開平１−１３８２０４号など）ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系（特開平２−１７９６４３号、特開平２−２４４０５０号）、チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開昭６３−２２１１１０号）、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特開平４−２２１９５８号、特開平４−２１９７５６号）、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系（特開平６−２９５０６１号）、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系（特開平８−３３４８９７号）等をあげることができる。
【００２６】
また、最近４００〜４１０ｎｍの波長のレーザー（バイオレットレーザー）が開発され、それに感応する４５０ｎｍ以下の波長に高感度を示す光開始系が開発されており、これらの光開始系も使用される。
例えば、カチオン色素／ボレート系（特開平１１−８４６４７）、メロシアニン色素／チタノセン系（特開２０００−１４７７６３）、カルバゾール型色素／チタノセン系（特願平１１−２２１４８０）等を挙げることができる。
本発明においては特にチタノセン化合物を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。
【００２７】
チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げることができる。
更に上記光開始剤に必要に応じ、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール等のチオール化合物、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高められることが知られている。
これらの光重合開始剤（系）の使用量はエチレン性不飽和化合物１００重量部に対し、０．０５〜１００重量部、好ましくは０．１〜７０重量部、更に好ましくは０．２〜５０重量部の範囲で用いられる。
【００２８】
本発明の感光性平版印刷版の感光層に用いられる高分子結合剤としては、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が使用される。
該有機高分子重合体は、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１１−３５２６９１に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途には有用である。
【００２９】
これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照射によりラジカルになり得る官能基としてはメルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も有用である。
【００３０】
組成物の現像性を維持するためには、本発明の高分子結合剤は適当な分子量、酸価を有することが好ましく、重量平均分子量で５０００〜３０万、酸価２０〜２００の高分子重合体が有効に使用される。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させることができる。しかし９０重量％を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは１０〜９０％、より好ましくは３０〜８０％である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比で１／９〜９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜８／２てあり、更に好ましくは３／７〜７／３である。
【００３１】
また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等があげられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好ましい。
【００３２】
更に感光層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料（Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ１５：３、１５：４、１５：６など）、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添加量は全組成物の約０．５％〜約２０％が好ましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。
これらの添加量は全組成物の１０％以下が好ましい。
【００３３】
本発明の感光性平版印刷版の感光層組成物を後述の支持体上に塗布する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート−３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は１〜５０重量％が適当である。
【００３４】
本発明の感光性平版印刷版の感光層における光重合性組成物には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。
その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ²である。
【００３５】
また、通常、前記感光層の上には、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断性の保護層が設けられる。
酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共重合体があげられる。ポリビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲のものがあげられる。具体的には株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等があげられる。上記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれらの共重合体があげられる。その他有用な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴムがあげられ、これらは単独または、併用して用いても良い。
【００３６】
本発明の感光性平版印刷版において酸素遮断性保護層を塗布する際用いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当である。
本発明の上記酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。
水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加しても良い。
その被服量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約１５ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは１．０ｇ／ｍ²〜約５．０ｇ／ｍ²である。
【００３７】
次に、本発明の感光性平版印刷版の支持体について説明する。
本発明にて用いられるアルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムまたはその合金（例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルとの合金）、またはアルミニウム、アルミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を意味し、通常その厚さは０．０５ｍｍ〜１ｍｍ程度である。また特開昭４８−１８３２７に記載の複合シートも使用することができる。
【００３８】
本発明のアルミ支持体は適宜、後述の基板表面処理が施される。
（砂目立て処理）
砂目立て処理方法は、特開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。
その中でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目たてする電気化学的方法であり、適する電流密度は１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲である。さらに具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の条件で電解を行うことが好ましい。
【００３９】
このように砂目立て処理したアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。
本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃であり、Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ³となるような条件が好ましい。
エッチングのあと表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させる方法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。
なお、本発明で有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さ（Ｒａ）は０．３〜０．７μｍである。
【００４０】
（陽極酸化処理）
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。
陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当である。
【００４１】
これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
本発明においては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ²であることが好ましく、１ｇ／ｍ²以下であると版に傷が入りやすく、１０ｇ／ｍ²以上は製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／ｍ²である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｍ²である。
【００４２】
更に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。また本発明のアルミニウム支持体にはアルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理以外の処理、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。
【００４３】
上記の如く表面処理を施されたアルミニウム支持体上に、前記の光重合性組成物からなる感光層を形成することで、本発明の感光性平版印刷版を作製するが、感光層を塗設する前に必要に応じて有機または無機の下塗り層が設けられてもかまわない。
【００４４】
本発明の感光性平版印刷版における前記感光層を、例えば、カーボンアーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリウムカドミニウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、ＦＤ・ＹＡＧレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー（３５０ｎｍ〜６００ｎｍ）等の従来公知の活性光線で画像露光した後、現像処理することにより、アルミニウム板支持体表面に画像を形成することができる。
画像露光後、現像までの間に、光重合型感光層の硬化率を高める目的で５０℃〜１５０℃の温度で１秒、５分の時間の加熱プロセスを設けることを行っても良い。
【００４５】
また、本発明の感光性平版印刷版の感光層の上には、前述したように、通常、酸素遮断性を有するオーバーコート層が設けてあり、本発明の現像液を用いて、オーバーコート層の除去と感光層未露光部の除去を同時に行う方法、または、水、温水でオーバーコート層を先に除外し、その後未露光部の感光層を現像で除去する方法が知られている。これらの水または温水には特開平１０−１０７５４号に記載の防腐剤等、特開平８−２７８６３６号記載の有機溶剤等を含有させることができる。
【００４６】
本発明における感光性平版印刷版の前記現像液による現像は、常法に従って、０〜６０℃、好ましくは１５〜４０℃程度の温度で、例えば、露光処理した感光性平版印刷版を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。
さらに自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。
このようにして現像処理された感光性平版印刷版は特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
上記の様な処理により得られた印刷版は特開２０００−８９４７８号に記載の方法による後露光処理やバーニングなどの加熱処理により、耐刷性を向上させることができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【００４７】
【実施例】
以下に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、勿論本発明の範囲はこれらによって限定されるものではない。なお、実施例２は、参考例２と読替えるものとする。
〔実施例１〕
厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ²において５０秒間陽極酸化したところ厚さが２．７ｇ／ｍ²であった。
このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の高感度光重合性組成物１を乾燥塗布重量が１．５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させ、感光層を形成した。
【００４８】
（光重合性組成物１）
エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ１）１．５重量部
線状有機高分子重合体（Ｂ１）２．０重量部
増感剤（Ｃ１）０．１５重量部
光開始剤（Ｄ１）０．２重量部
ε−フタロシアニン（Ｆ１）分散物０．０２重量部
フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックＦ１７７０．０３重量部
（大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン９．０重量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７．５重量部
トルエン１１．０重量部
【００４９】
【化１】

【００５０】
この感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の３重量％の水溶液を乾燥塗布重量が２．５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１２０℃で３分間乾燥させ、感光性平版印刷版を得た。
【００５１】
この感光性平版印刷版をＦＤ・ＹＡＧレーザー（ＣＳＩ社製プレートジェット４）で１００μＪ／ｃｍ²の露光量で、４０００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、ベタ画像と１〜９９％の網点画像（１％刻み）を走査露光した後、現像液１およびフイニッシングガム液ＦＰ−２Ｗ（富士写真フイルム製）を仕込んだ自動現像機（富士写真フイルム製ＬＰ−８５０Ｐ２）で標準処理を行った。プレヒートの条件は版面到達温度が１００℃、現像液温は３０℃、現像液への浸漬時間は約１５秒であった。
現像液１は下記組成よりなり、ｐＨは２５℃で１１．５、導電率は５ｍＳ／ｃｍであった。
【００５２】
（現像液１の組成）
水酸化カリウム０．１５ｇ
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（ｎ＝１３）５．０ｇ
キレスト４００（キレート剤）０．１ｇ
水９４．７５ｇ
【００５３】
〔実施例２〜５〕
実施例１の現像液を表１に示した現像液に変更し、それ以外は全て実施例１と同じ方法で平版印刷版を製版した。
【００５４】
【表１】

【００５５】
〔実施例６，７〕
実施例１の光重合性組成物１中の線状有機高分子重合体をＢ１から下記Ｂ２（実施例６）、またＢ１から下記Ｂ３（実施例７）に変更し、それ以外は全て実施例１と同じ方法で平版印刷版を製版した。
【００５６】
Ｂ２（実施例６）：アリルメタクリレート／メタクリル酸（７０／３０モル％）共重合体、分子量５万。
Ｂ３（実施例７）：メチルメタクリレート／イソブチルメタクリレート／メタクリル酸（６０／２０／２０モル％）共重合体、分子量１０万
【００５７】
〔実施例８〕
実施例１の光重合性組成物のエチレン性不飽和化合物をＡ１から下記構造Ａ２に変更し、それ以外は全て実施例１と同じ方法で平版印刷版を製版した。
【００５８】
【化２】

【００５９】
〔実施例９〕
下記下塗り用液状組成物を混合し撹拌した。約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた後、内容物を別の容器に移し、メタノールを更に３万重量部加えることで液状塗布液を調製した。
【００６０】
（下塗り用液状組成物）
ユニケミカル（株）製ホスマーＰＥ２０重量部
メタノール１３０重量部
水２０重量部
パラトルエンスルホン酸５重量部
テトラエトキシシラン５０重量部
３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン５０重量部
【００６１】
この液状塗布液を、実施例１の陽極酸化されたアルミニウム支持体上に、Ｓｉ量が約０．００１ｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、実施例１と同様の方法で感光層、水溶性樹脂層を設け、露光、現像し平版印刷版を製版した。
【００６２】
〔比較例１〕
実施例１の現像液１に対し、ポリオキシエチレンフェニルエーテルを除いた組成物を現像液（ｐＨ１１．５、導電率５ｍＳ／ｃｍ）として用い、他は実施例１と同様の方法で平版印刷版を作製した。
【００６３】
〔比較例２〕
実施例１の現像液１に対し、水酸化カリウム添加量を２ｇに変更し、現像液を調製した。この現像液のｐＨは１２．８であり、導電率は２５ｍＳ／ｃｍであった。他は実施例１と同様な方法で平版印刷版を作製した。
【００６４】
〔比較例３〕
実施例１の現像液１に代えて、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液として富士写真フイルム（株）製ＬＰ−Ｄ現像液を水で１０倍に希釈した溶液を現像液として用い、他は実施例１と同様の方法で印刷版を作成した。このときの現像液のｐＨは１２．８で導電率は３２ｍＳ／ｃｍであった。
【００６５】
上記の実施例１〜９、比較例１〜３の製版方法で得られた平版印刷版について現像性、耐刷性、印刷汚れについて評価した。現像性は現像処理後の版面を目視で観察し感光層残膜の有無および残膜の程度により判断した。耐刷性はマン・ローランド社製Ｒ２０１型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳＧ墨（Ｎ）を使用して印刷し、３％の網点が版飛びを起こした印刷枚数を評価した。印刷汚れ性は三菱重工製ダイヤＩＦ２型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳＧ紅（Ｓ）を使用して印刷し、非画像部のインキ汚れを目視で評価した。結果を表２に示す。
【００６６】
【表２】

【００６７】
表２から明らかなように、本発明に係る各実施例の平版印刷版は、それぞれ満足すべき結果を得たが、各比較例の平版印刷版は何らかの評価結果において不満足なものであった。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の平版印刷版の製版方法は光重合型組成物からなる感光層を有する感光性平版印刷版と、比較的ｐＨが低く、特定の構造のノニオン系界面活性剤を含有させた現像液を使用することにより、現像性が優れ、印刷汚れがなく、かつ耐刷性の優れた平版印刷版の作製が可能である。また現像液のｐＨが比較的低いため、安全上好ましく、現像廃液の環境への影響も改善できる効果を奏する。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a plate-making method of a lithographic printing plate, and more specifically, it is possible to suppress deterioration in development characteristics due to aging and repeated use, and has good developability for non-image areas and is free from smudges in printing, In addition, the present invention relates to a method for making a lithographic printing plate that can obtain a strong image strength with little development damage to an image portion, can be printed with no printing failure such as blinding, and can achieve high printing durability.
[0002]
[Prior art]
Since the negative photosensitive lithographic printing plate that has been widely used conventionally has a diazo resin provided on a hydrophilically treated aluminum plate, an organic solvent must be used for the developer, There is a concern about the processing of developing waste liquid and its impact on the environment. Further, an orthoquinonediazide compound is used in combination with a novolac resin in the photosensitive layer of the positive photosensitive lithographic printing plate, and an alkaline silicate aqueous solution capable of dissolving the novolakic resin is used as the developer. However, the pH at which the novolak resin can be dissolved is about 13, and such a high pH developer is highly irritating when attached to the skin or mucous membrane, and requires careful handling.
[0003]
On the other hand, a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer of a photopolymerization type photosensitive lithographic printing plate on an aluminum plate support is also used, and as its developer, an alkali metal silicate, phosphate, carbonate, Aqueous solutions of hydroxides and organic amine compounds have been proposed.
For example, JP-A-8-248643 discloses a developer containing an alkali silicate and an amphoteric surfactant at a high pH of 12 or more, and JP-A-11-65129 discloses SiO ₂ / M ₂ O (M is A developer containing a silicate alkali silicate having a pH of 12 or less, in which (alkaline metal) is defined, is disclosed.
In addition to the handling problems, the former has a problem that the image area is easily damaged by the development because of the high pH of the developer, and the latter has a silicate due to a slight decrease in the pH of the developer during use. There was a problem of gelation and insolubilization.
[0004]
As a developer not using an alkali silicate salt, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-109052 discloses a developer comprising an alkali reagent, a complexing agent, an anionic surfactant, an emulsifier, n-alkanoic acid, etc. No. 1984605 discloses a developer containing an alkali agent, a complexing agent, an anionic surfactant, amyl alcohol, and N-alkoxyamines, both of which have a high pH and contain an organic solvent. There was a problem in obtaining sufficient printing performance such as printing durability because the image portion was damaged greatly.
As a developer having a relatively low pH (pH 12 or less) and containing no alkali silicate, JP-A-2000-81711 discloses a developer comprising an aqueous potassium hydroxide solution containing an anionic surfactant. Japanese Patent No. 65126 discloses a developer comprising an alkali metal carbonate aqueous solution having a pH of 8.5 to 11.5.
[0005]
However, such a relatively low pH developer basically has a poor dissolving power of the photopolymerization type photosensitive layer, so that, for example, a aging plate material does not sufficiently develop and a residual film is formed. There was a problem. In order to solve these problems, it is necessary to devise such as increasing the acid value of the polymer binder in the plate photosensitive layer to increase developability, or using a monomer having an acid group in combination. When such a high acid value binder is used, printing problems such as a problem that ink does not adhere during printing (blinding) tend to occur.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, the present invention uses an alkaline developer having a relatively low pH, which is preferable from the viewpoint of environment and safety, and stably develops non-image areas with good developability, no smears on printing, and development on image areas. To provide a lithographic printing plate making method capable of achieving high printing durability stably without causing printing failure such as blinding during printing, and providing a strong image strength. Objective.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
As a result of earnest research to solve the above-mentioned problems, the present inventor combined an alkaline solution having a relatively low pH with a nonionic surfactant having a specific structure, and adjusted the salt concentration in the developer. The dissolution rate of the unexposed portion of the photopolymerization type photosensitive layer was increased, and conversely, the cross-linked portion of the exposed portion due to photopolymerization was found to suppress the penetration of the developer, and the present invention was achieved.
That is, the present invention
(1) A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer of a photopolymerization type photosensitive composition comprising a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and a polymer binder on an aluminum support. After image exposure, it contains a nonionic surfactant having an inorganic alkali agent and a polyoxyalkylene ether group having the structure of the following general formula (I), pH 10.0-12.5, conductivity 3-30 mS A plate making method of a lithographic printing plate characterized by developing with a developer of / cm
(General Formula) R ¹ —O— (R ² —O) _n H (I)
(Wherein, R ¹ represents a naphthyl group having no phenyl group or substituent not be have a substituent, R ² represents an alkylene group having carbon atoms of 1 to 100 which may have a substituent, n represents an integer of 1 to 100.)
According to the present invention, it is possible to stably obtain a printing plate comprising an unexposed portion free from printing stains and an exposed portion having high printing durability.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The lithographic printing plate making method of the present invention will be described in detail below.
First, a developer that is a feature of the plate-making method of the lithographic printing plate of the present invention and is used in the plate-making method of the present invention will be described.
The developer used in the plate making method of the lithographic printing plate of the present invention contains an inorganic alkali agent and a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group having the structure of the following general formula (I). , PH is 10.0 ~
12.5, conductivity 3-30 mS / cm.
(General Formula) R ¹ —O— (R ² —O) _n H (I)
(Wherein, R ¹ represents a naphthyl group having no phenyl group or substituent not be have a substituent, R ² represents an alkylene group having carbon atoms of 1 to 100 which may have a substituent, n represents an integer of 1 to 100.)
[0009]
As the inorganic alkaline agent, any substance that gives the above physical property values can be used as appropriate. For example, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate Inorganic alkaline agents such as potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, and lithium.
In addition, an organic alkali agent may be supplementarily used for the purpose of finely adjusting the alkali concentration and assisting the solubility of the photosensitive layer. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like.
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.
[0010]
The pH of the developer used in the present invention is 10.0 to 12.5, but if it is lower than that, it becomes impossible to form an image. The problem that becomes stronger. In addition, a preferable pH range is 11.0-12.0.
[0011]
Further, the conductivity of the developer used in the present invention is 3 to 30 mS / cm. However, if the conductivity is lower, it is usually difficult to elute the photosensitive composition on the surface of the aluminum plate support, and the printing is accompanied by stains. On the other hand, if the range is exceeded, the salt concentration is high, so the elution rate of the photosensitive layer is extremely slow, and a residual film is formed in the unexposed area. A preferable conductivity range is 3 to 30 mS / cm, and more preferably 5 to 20 mS / cm.
[0012]
It is essential for the developer used in the present invention to contain a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group having the structure of the following general formula (I). It is possible to accelerate dissolution of the photosensitive layer and to reduce the permeability of the developer into the exposed area .
[0013]
R ¹ —O— (R ² —O) _n H (I)
[0014]
Wherein, R ¹ represents a naphthyl group having no phenyl group or substituent not be have a substituent, R ² is an alkylene group having carbon atoms of 1 to 100 which may have a substituent (Note, Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms.), N represents an integer of 1 to 100.
[0015]
In addition, the (R ² —O) _n moiety in the formula (I) may be two or three groups as long as it is in the above range. Specific examples include a combination of random or block combinations of ethyleneoxy and propyleneoxy, ethyleneoxy and isopropyloxy, ethyleneoxy and butyleneoxy, ethyleneoxy and isobutylene, and the like. .
In the present invention, the surfactant having a polyoxyalkylene ether group is used alone or in combination, and it is effective to add 1 to 30% by weight, preferably 2 to 20% by weight, in the developer.
If the addition amount is small, the developability is deteriorated. On the other hand, if the addition amount is too large, the development damage becomes strong and the printing durability of the printing plate is lowered.
[0016]
Further, other surfactants described below may be added.
Examples of other surfactants include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Polyoxyethylene alkyl allyl ethers, polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate Monoglyceride alkyl esters such as sorbitan alkyl esters such as glycerol, glycerol monostearate and glycerol monooleate Nonionic surfactants such as alkylbenzenes; alkylbenzene sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate; alkylnaphthalene sulfonates such as sodium butylnaphthalenesulfonate, sodium pentylnaphthalenesulfonate, sodium hexylnaphthalenesulfonate, sodium octylnaphthalenesulfonate Anionic surfactants such as alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate, alkyl sulfonates such as sodium dodecyl sulfonate, sulfosuccinic acid ester salts such as sodium dilauryl sulfosuccinate; alkyl betaines such as lauryl betaine and stearyl betaine; Amphoteric surfactants such as amino acids can be used, but anionic surfactants such as alkylnaphthalene sulfonates are particularly preferred.
These surfactants can be used alone or in combination. Further, the content of these surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 20% by weight in terms of active ingredients.
[0017]
In addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer of the present invention as necessary. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid , P-2-hydroxyethylbenzoic acid, decanoic acid, salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid and other organic carboxylic acids; isopropyl alcohol, henzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol In addition, chelating agents, reducing agents, dyes, pigments, water softeners, preservatives, antifoaming agents and the like can be mentioned.
[0018]
Next, the photosensitive lithographic printing plate used in the present invention will be described.
The photopolymerizable photosensitive composition constituting the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate used in the present invention comprises an ethylenically unsaturated compound capable of addition polymerization, a photoinitiator, and a polymer binder as essential components, and if necessary. Various compounds such as a colorant, a plasticizer, and a thermal polymerization inhibitor can be used in combination.
[0019]
An ethylenically unsaturated compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond that undergoes addition polymerization, crosslinking and curing by the action of a photopolymerization initiator when the photopolymerizable photosensitive composition is irradiated with actinic rays. It is.
The compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.
For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
[0020]
Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated Examples include amides of carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds.
Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester Examples include acrylate oligomers.
[0021]
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [ - (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
[0022]
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
[0023]
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
Furthermore, the mixture of the above-mentioned ester monomer can also be mention | raise | lifted.
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
[0024]
As another example, the polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708 contains a hydroxyl group represented by the following general formula (A). Examples thereof include a vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer is added.
_{^{CH 2 = C (R 5)}} COOCH 2 CH (R 6) OH (A)
(However, R ⁵ and R ⁶ represent H or CH _3. )
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193 and JP-B-2-32293, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, and JP-B-52-30490 And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid. Furthermore, Vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used.
The amount of the ethylenically unsaturated compound used is in the range of 5 to 80% by weight, preferably 30 to 70% by weight, based on the total components of the photosensitive layer.
[0025]
Moreover, as a photoinitiator contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, various photoinitiators known in patents, literatures, etc., or two or more kinds of photoinitiators are used depending on the wavelength of the light source used. A combination system (photoinitiating system) of an agent can be appropriately selected and used. Specific examples are listed below, but are not limited thereto.
Various photoinitiating systems have been proposed in the case of using visible light of 400 nm or more, Ar laser, second harmonic of a semiconductor laser, or SHG-YAG laser as a light source, for example, US Pat. No. 2,850,445. Certain photoreducible dyes described in No. 1, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, etc., or a combination of a dye and an initiator, for example, a combined initiator system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189) , Hexaarylbiimidazole, radical generator and dye combination system (Japanese Examined Patent Publication No. 45-37377), hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Examined Patent Publication No. 47-2528, Japanese Unexamined Patent Publication No. 54- 155292), a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (Japanese Patent Laid-Open No. 48-84183), Azine and merocyanine dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 54-151024), 3-ketocoumarin and activator systems (Japanese Patent Laid-Open Nos. 52-111261, 58-15503), biimidazole, styrene derivatives, thiols System (JP 59-140203 A), organic peroxide and dye system (JP 59-1504, JP 59-140203, JP 59-189340, JP 62-174203). No. 6, JP-B 62-1641, US Pat. No. 4,766,055), dyes and active halogen compounds (JP-A 63-258903, JP-A 2-63054, etc.), dyes and borate compounds (JP A) JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141, JP-A-64-13142, JP-A-64- 13143, JP-A 64-13144, JP-A 64-17048, JP-A 1-222903, JP-A-1-298348, JP-A 1-138204, etc.) A dye having a rhodanine ring and a radical generator Systems (JP-A-2-17943, JP-A-2-244050), titanocene and 3-ketocoumarin dye systems (JP-A 63-221110), titanocene and xanthene dyes, addition polymerization containing amino groups or urethane groups A combination of possible ethylenically unsaturated compounds (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), titanocene and a specific merocyanine dye system (JP-A-6-295061), having a titanocene and a benzopyran ring Examples thereof include dye systems (JP-A-8-334897).
[0026]
Recently, a laser having a wavelength of 400 to 410 nm (violet laser) has been developed, and a photoinitiating system exhibiting high sensitivity at a wavelength of 450 nm or less that responds to it has been developed, and these photoinitiating systems are also used.
For example, a cationic dye / borate system (JP-A-11-84647), a merocyanine dye / titanocene system (JP-A 2000-147663), a carbazole type dye / titanocene system (Japanese Patent Application No. 11-212480) and the like can be mentioned.
In the present invention, a system using a titanocene compound is particularly preferable in terms of sensitivity.
[0027]
Various titanocene compounds can be used. For example, various titanocene compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197 can be appropriately selected and used. . More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4-di-fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2, - difluoro-1-yl, di - cyclopentadienyl -Ti- bis-2,6-difluoro-3- (pyrr-1-yl) - can be exemplified 1-yl and the like.
Further, if necessary for the above photoinitiator, thiol compounds such as 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, amines such as N-phenylglycine, N, N-dialkylamino aromatic alkyl ester, etc. It is known that the photoinitiating ability can be further enhanced by adding a hydrogen-donating compound such as a compound.
These photopolymerization initiators (systems) are used in an amount of 0.05 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, more preferably 0.2 to 50 parts per 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound. Used in the range of parts by weight.
[0028]
The polymer binder used in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is not only used as a film-forming agent for the composition, but also needs to be dissolved in an alkaline developer, so that it is soluble or swelled in alkaline water. Organic high molecular weight polymers are used.
For example, when the water-soluble organic polymer is used as the organic polymer, water development is possible. Examples of such an organic polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP 59-44615, JP-B 54-34327, JP-B 58-12577, JP-B 54-. No. 25957, JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer Examples include polymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, and partially esterified maleic acid copolymers.
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, a product obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group is useful. Among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition-polymerizable vinyl monomers as required] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / as required Other addition polymerizable vinyl monomers] copolymers are preferred. In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamide, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.
JP-B-7-120040, JP-B-7-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271741 No. 11, JP-A-11-352691 are also useful for the use of the present invention.
[0029]
These polymer polymers can improve the strength of the cured film by introducing a radical reactive group into the side chain. Functional groups that can undergo an addition polymerization reaction include ethylenically unsaturated bond groups, amino groups, and epoxy groups, and functional groups that can become radicals upon light irradiation include mercapto groups, thiol groups, halogen atoms, triazine structures, and onium salt structures. In addition, examples of the polar group include a carboxyl group and an imide group. The functional group capable of undergoing addition polymerization reaction is particularly preferably an ethylenically unsaturated bond group such as an acryl group, a methacryl group, an allyl group, or a styryl group, but also an amino group, a hydroxy group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, or a carbamoyl group. A functional group selected from an isocyanate group, a ureido group, a ureylene group, a sulfonic acid group, and an ammonio group is also useful.
[0030]
In order to maintain the developability of the composition, the polymer binder of the present invention preferably has an appropriate molecular weight and acid value, and has a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000 and an acid value of 20 to 200. Coalescence is used effectively.
These organic high molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the whole composition. However, when it exceeds 90% by weight, a favorable result is not given in terms of the strength of the formed image. Preferably it is 10 to 90%, More preferably, it is 30 to 80%. The photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic polymer are preferably in the range of 1/9 to 9/1 by weight. A more preferable range is 2/8 to 8/2, still more preferably 3/7 to 7/3.
[0031]
In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to prevent unnecessary thermal polymerization of the ethylenically unsaturated compound that can be polymerized during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to do. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is preferably about 0.01% to about 5% based on the weight of the total composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in the course of drying after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition.
[0032]
Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. Examples of the colorant include phthalocyanine pigments (CI Pigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, There are azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dye and pigment added is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition.
In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, an additive such as an inorganic filler or a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, or tricresyl phosphate may be added.
These addition amounts are preferably 10% or less of the total composition.
[0033]
When the photosensitive layer composition of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is coated on a support described later, it is dissolved in various organic solvents and used. Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate-3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 1 to 50% by weight.
[0034]
A surfactant can be added to the photopolymerizable composition in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention in order to improve the coating surface quality.
The coating amount is suitably ranges from about 0.1 g / m ² ~ about 10 g / m ² in weight after drying. More preferably from 0.3 to 5 g / m ^2. More preferably, it is 0.5-3 g / m < ² >.
[0035]
In general, an oxygen-blocking protective layer is provided on the photosensitive layer in order to prevent the action of inhibiting the polymerization of oxygen.
Examples of the water-soluble vinyl polymer contained in the oxygen-blocking protective layer include polyvinyl alcohol and partial esters, ethers, and acetals thereof, or a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units that make them necessary water-soluble. And a copolymer thereof. Examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA- 203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, L-8, etc. are mentioned. Examples of the copolymer include 88-100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal and polyvinyl acetal, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinyl pyrrolidone, gelatin and gum arabic, and these may be used alone or in combination.
[0036]
As the solvent used for applying the oxygen-blocking protective layer in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, pure water is preferable, but alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are mixed with pure water. May be. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably 1 to 20% by weight.
The oxygen-blocking protective layer of the present invention may further contain known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film.
Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer may be added.
Its clothing amount is suitably ranges from about 0.1 g / m ² ~ about 15 g / m ² in weight after drying. More preferably, it is 1.0 g / m ² to about 5.0 g / m ² .
[0037]
Next, the support for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention will be described.
The aluminum support used in the present invention is dimensionally stable aluminum or an alloy thereof (for example, an alloy with silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel), or aluminum or an aluminum alloy. Means a laminated or vapor-deposited plastic film or paper, and its thickness is usually about 0.05 mm to 1 mm. A composite sheet described in JP-A-48-18327 can also be used.
[0038]
The aluminum support of the present invention is appropriately subjected to substrate surface treatment described below.
(Graining treatment)
Examples of the graining method include mechanical graining, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, electrochemical graining method that electrochemically grains in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and wire brush grain method that scratches aluminum surface with metal wire, and ball grain method that graines aluminum surface with polishing ball and abrasive. Further, a mechanical graining method such as a brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive can be used, and the above graining methods can be used alone or in combination.
Among them, the method of making the surface roughness usefully used in the present invention is an electrochemical method in which the surface roughness is chemically ground in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable current density is 100 C / dm ^{2 to} 400 C. / Dm ² range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 100 ° C., for 1 second to 30 minutes, electrolysis at a current density of 100C / dm ^² ~400C / dm ² It is preferable to carry out.
[0039]
The grained aluminum support is chemically etched with acid or alkali. When an acid is used as an etching agent, it takes time to destroy the fine structure, which is disadvantageous when the present invention is applied industrially, but it can be improved by using an alkali as the etching agent.
As the alkali agent suitably used in the present invention, caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like are used, and preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50 respectively. %, 20 to 100 ° C., and conditions such that the dissolution amount of Al is 5 to 20 g / m ³ are preferable.
Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65% by weight sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123.
In addition, the surface roughness (Ra) of the Al support effectively used in the present invention is 0.3 to 0.7 μm.
[0040]
(Anodizing treatment)
The aluminum support treated as described above is further anodized.
The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution by combining sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc. An anodized film can be formed.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and therefore cannot be determined in general. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80%, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. A range of ˜60 amperes / dm ² , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 to 100 seconds is appropriate.
[0041]
Among these anodizing treatments, a method for anodizing at a high current density in sulfuric acid and U.S. Pat. No. 3,511,661, particularly described in British Patent 1,412,768. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred.
In the present invention, the anodized film is preferably from ^{1~10g / m 2, 1g / m} 2 plate to easily enter the wound is not more than, 10 g / m ² or more is great power is required for the production , Economically disadvantageous. Preferably, a 1.5~7g / m ^2. More preferably 2-5 g / m ^2.
[0042]
Furthermore, in the present invention, the aluminum support may be subjected to sealing treatment after graining treatment and anodizing. Such sealing treatment is performed by immersing the substrate in a hot aqueous solution containing hot water and an inorganic salt or an organic salt, and a water vapor bath. Further, the aluminum support of the present invention may be subjected to a treatment other than the silicate treatment with an alkali metal silicate, for example, a surface treatment such as an immersion treatment in an aqueous solution of potassium fluoride zirconate, phosphate or the like.
[0043]
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is produced by forming a photosensitive layer comprising the photopolymerizable composition on the aluminum support that has been surface-treated as described above. An organic or inorganic undercoat layer may be provided as necessary before the treatment.
[0044]
The photosensitive layer in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is, for example, a carbon arc lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a helium cadmium laser, an argon ion laser, an FD / YAG laser. Then, an image can be formed on the surface of the aluminum plate support by exposing the image with a conventionally known actinic ray such as a helium neon laser or a semiconductor laser (350 nm to 600 nm), followed by development.
In order to increase the curing rate of the photopolymerizable photosensitive layer after image exposure and before development, a heating process may be performed at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C. for 1 second and 5 minutes.
[0045]
Further, as described above, an overcoat layer having an oxygen barrier property is usually provided on the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, and the overcoat layer is formed using the developer of the present invention. There is known a method of removing the photosensitive layer and the unexposed portion of the photosensitive layer at the same time, or a method of removing the overcoat layer first with water and warm water and then removing the photosensitive layer of the unexposed portion by development. These water or warm water can contain a preservative described in JP-A-10-10754, an organic solvent described in JP-A-8-278636, and the like.
[0046]
The development of the photosensitive lithographic printing plate in the present invention with the developer is performed at a temperature of about 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., for example, using a light-sensitive photosensitive lithographic printing plate as a developer according to a conventional method. It is performed by dipping and rubbing with a brush.
Further, when developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution.
The photosensitive lithographic printing plate thus developed is washed with water, surface active as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045 and 59-58431. It is post-treated with a desensitizing solution containing a rinse solution containing an agent and the like, gum arabic and starch derivatives. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention.
The printing plate obtained by the above-described treatment can be improved in printing durability by post-exposure treatment or heating treatment such as burning according to the method described in JP-A-2000-89478.
The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
[0047]
【Example】
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is of course not limited by these examples. In addition, Example 2 shall be read as Reference Example 2.
[Example 1]
An aluminum plate made of material 1S having a thickness of 0.30 mm was used with a No. 8 nylon brush and an aqueous suspension of 800 mesh Pamiston, and its surface was grained and washed thoroughly with water. After etching by immersing in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washed with running water, neutralized and washed with 20% HNO ₃ and washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution with a anodic electricity quantity of 300 coulomb / dm ² using a sinusoidal alternating current under the condition of V _A = 12.7V. When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra indication). Next, after dipping in a 30% H ₂ SO ₄ aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, a cathode was placed on the grained surface in 33 ° C., 20% H ₂ SO ₄ aqueous solution to obtain a current density. When anodized at 5 A / dm ² for 50 seconds, the thickness was 2.7 g / m ² .
A highly sensitive photopolymerizable composition 1 having the following composition was applied on the aluminum plate thus treated so that the dry coating weight was 1.5 g / m ^2, and dried at 100 ° C. for 1 minute. Formed.
[0048]
(Photopolymerizable composition 1)
Ethylenically unsaturated bond-containing compound (A1) 1.5 parts by weight linear organic polymer (B1) 2.0 parts by weight sensitizer (C1) 0.15 parts by weight Photoinitiator (D1) 0.2 Part by weight ε-phthalocyanine (F1) dispersion 0.02 part by weight Fluorine nonionic surfactant Megafac F177 0.03 part by weight (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Methyl ethyl ketone 9.0 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate 7.5 parts by weight Toluene 11.0 parts by weight
[Chemical 1]

[0050]
On this photosensitive layer, a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) was applied so that the dry coating weight was 2.5 g / m ^2, and dried at 120 ° C. for 3 minutes. A photosensitive lithographic printing plate was obtained.
[0051]
The photosensitive lithographic printing plate was printed with a solid image and 1-99% halftone dot under the condition of 175 lines / inch at 4000 dpi with an exposure of 100 μJ / cm ² using an FD • YAG laser (Plate Jet 4 manufactured by CSI). After scanning exposure of the image (in 1% increments), standard processing is performed with an automatic processor (Fuji Photo Film LP-850P2) charged with Developer 1 and Finishing Gum Solution FP-2W (Fuji Photo Film). It was. The preheating conditions were a plate surface temperature of 100 ° C., a developer temperature of 30 ° C., and an immersion time in the developer of about 15 seconds.
Developer 1 had the following composition, pH was 11.5 at 25 ° C., and conductivity was 5 mS / cm.
[0052]
(Composition of Developer 1)
Potassium hydroxide 0.15g
Polyoxyethylene phenyl ether (n = 13) 5.0 g
Kirest 400 (chelating agent) 0.1g
94.75 g of water
[0053]
[Examples 2 to 5]
The lithographic printing plate was made in the same manner as in Example 1 except that the developer in Example 1 was changed to the developer shown in Table 1, and the rest.
[0054]
[Table 1]

[0055]
[Examples 6 and 7]
The linear organic polymer in the photopolymerizable composition 1 of Example 1 was changed from B1 to B2 (Example 6) and from B1 to B3 (Example 7). A lithographic printing plate was made in the same manner as in 1.
[0056]
B2 (Example 6): Allyl methacrylate / methacrylic acid (70/30 mol%) copolymer, molecular weight 50,000.
B3 (Example 7): Methyl methacrylate / isobutyl methacrylate / methacrylic acid (60/20/20 mol%) copolymer, molecular weight 100,000
Example 8
A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ethylenically unsaturated compound of the photopolymerizable composition of Example 1 was changed from A1 to the following structure A2.
[0058]
[Chemical 2]

[0059]
Example 9
The following undercoat liquid composition was mixed and stirred. After about 5 minutes, heat generation was observed, and after reacting for 60 minutes, the contents were transferred to another container, and 30,000 parts by weight of methanol was further added to prepare a liquid coating solution.
[0060]
(Liquid composition for undercoat)
Unichemical Co., Ltd. Phosmer PE 20 parts by weight Methanol 130 parts by weight Water 20 parts by weight Paratoluenesulfonic acid 5 parts by weight Tetraethoxysilane 50 parts by weight 3-Methacryloxypropyltriethoxysilane 50 parts by weight
This liquid coating solution was applied on the anodized aluminum support of Example 1 so that the amount of Si was about 0.001 g / m ² and dried at 100 ° C. for 1 minute. A photosensitive layer and a water-soluble resin layer were provided in the same manner as described above, exposed and developed to prepare a lithographic printing plate.
[0062]
[Comparative Example 1]
A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition obtained by removing polyoxyethylene phenyl ether was used as the developer (pH 11.5, conductivity 5 mS / cm). Was made.
[0063]
[Comparative Example 2]
For the developer 1 of Example 1, the amount of potassium hydroxide added was changed to 2 g to prepare a developer. The pH of this developer was 12.8 and the conductivity was 25 mS / cm. A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above.
[0064]
[Comparative Example 3]
Instead of the developer 1 of Example 1, a solution obtained by diluting a 10-fold diluted LP-D developer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. with water as a developer containing an alkali metal silicate was used. A printing plate was prepared in the same manner as in Example 1. At this time, the pH of the developer was 12.8 and the conductivity was 32 mS / cm.
[0065]
The lithographic printing plates obtained by the plate making methods of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 were evaluated for developability, printing durability, and printing stains. The developability was judged by visually observing the plate surface after the development treatment, based on the presence or absence of the photosensitive layer remaining film and the degree of the remaining film. Printing durability was evaluated using a Man Roland R201 type printing machine using GEOS G black (N) manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., and the number of prints in which 3% of the halftone dots caused a skip was evaluated. The printing stain was printed on a Mitsubishi Heavy Industries Dia IF 2 type printer using GEOS G Beni (S) manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., and the ink stain on the non-image area was visually evaluated. The results are shown in Table 2.
[0066]
[Table 2]

[0067]
As is clear from Table 2, the lithographic printing plates of the examples according to the present invention obtained satisfactory results, but the lithographic printing plates of the comparative examples were unsatisfactory in some evaluation results.
[0068]
【The invention's effect】
As described above, the lithographic printing plate making method of the present invention comprises a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer made of a photopolymerizable composition, a nonionic surfactant having a specific structure and a relatively low pH. By using the developer contained, it is possible to produce a lithographic printing plate having excellent developability, no printing stain, and excellent printing durability. Further, since the pH of the developer is relatively low, it is preferable for safety, and the effect of improving the influence of the developer waste solution on the environment can be achieved.

Claims

A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer of a photopolymerizable photosensitive composition comprising a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and a polymer binder on an aluminum support is subjected to image exposure. After that, it contains an inorganic alkali agent and a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group having the structure of the following general formula (I), pH 10.0-12.5, conductivity 3-30 mS / cm A lithographic printing plate making method comprising developing with a developer.
(General Formula) R ¹ —O— (R ² —O) _n H (I)
(Wherein, R ¹ represents a naphthyl group having no phenyl group or substituent not be have a substituent, R ² represents an alkylene group having carbon atoms of 1 to 100 which may have a substituent, n represents an integer of 1 to 100.)

The lithographic printing plate making method according to claim 1, wherein the content of the nonionic surfactant in the developer is 1 to 30% by weight.