JP2003107751A - Method for making up original plate for planographic printing plate and planographic printing plate - Google Patents

Method for making up original plate for planographic printing plate and planographic printing plate

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JP2003107751A
JP2003107751A JP2001297070A JP2001297070A JP2003107751A JP 2003107751 A JP2003107751 A JP 2003107751A JP 2001297070 A JP2001297070 A JP 2001297070A JP 2001297070 A JP2001297070 A JP 2001297070A JP 2003107751 A JP2003107751 A JP 2003107751A
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JP
Japan
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group
plate
polymer
printing plate
infrared
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Application number
JP2001297070A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Okamoto
安男 岡本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for making up an original plate for a planographic printing plate which is highly sensitive to an infrared laser, has excellent printing durability and is scarcely contaminated by abrasion in the method for making up the infrared ray sensitive original plate for the planographic printing plate directly made up by recording with digital data such as those derived from a computer by using a solid state laser and a semiconductor laser which emit infrared rays. SOLUTION: A photopolymerizable infrared ray sensitive original plate for the planographic printing plate has an image forming layer containing (A) an infrared ray absorbent, (B) a radical generator, (C) a radical polymerizable compound, (D) a binder polymer and (E) a polymer having an ultraviolet ray polymerization initiating group on a hydrophilic support. The original plate is exposed imagewise with the infrared rays and developed, and subsequently the full surface of the plate is exposed with ultraviolet rays.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線波長域に感
応性を有する平版印刷版原版に関し、詳しくは、コンピ
ュータ等のデジタル信号から赤外線レーザーを用いて直
接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型平
版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor having sensitivity in an infrared wavelength region, and more specifically, a so-called direct plate-making negative type capable of making a plate directly from a digital signal of a computer or the like using an infrared laser. The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate making method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に波長760nm〜1200nmの赤外線を放射
する固体レーザおよび半導体レーザ(以下、「赤外線レ
ーザ」という場合がある)は、高出力かつ小型のものが
容易に入手できるようになった。これらの赤外線レーザ
は、コンピュータ等のデジタルデータにより直接印刷版
を製版する際の記録光源として非常に有用である。従っ
て、このような赤外線記録光源に対し、感応性の高い画
像記録材料、すなわち、赤外線照射により現像液に対す
る溶解性が大きく変化する画像記録材料への要望が近年
高まっている。このような赤外線レーザにて記録可能な
ネガ型の画像記録材料として、赤外線吸収剤、酸発生
剤、レゾール樹脂及びノボラック樹脂より成る記録材料
がUS5,340,699号に記載されている。しか
し、このようなネガ型の画像記録材料は、画像形成のた
めにはレーザー露光後に加熱処理が必要であり、このた
め、露光後の加熱処理を必要としないネガ型の画像記録
材料が所望されていた。また、高出力レーザを用いた高
パワー密度の露光を用いる方法では、露光領域に瞬間的
な露光時間の間に大量の光エネルギーが集中照射して、
光エネルギーを高率的に熱エネルギーに変換し、その熱
により化学変化、相変化、形態や構造の変化などの熱変
化を起こさせ、その変化を画像記録に利用するが、従来
の平版印刷版原版の感光層において、記録感度を向上さ
せるため赤外線吸収剤の添加量を増加させると、感光層
のアブレーション(飛散)によって、レーザー露光装置
や光源が汚染される可能性がある。また、光重合系を利
用したものも有用であるが、支持体からの放熱のため、
支持体と界面付近の硬化が不十分なため、良好な耐刷性
が得られなかった。
2. Description of the Related Art The development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers (hereinafter sometimes referred to as "infrared lasers") that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm must have high output and small size. It is now easily available. These infrared lasers are very useful as a recording light source when directly making a printing plate using digital data from a computer or the like. Therefore, in recent years, there has been an increasing demand for an image recording material having a high sensitivity to such an infrared recording light source, that is, an image recording material whose solubility in a developing solution is largely changed by infrared irradiation. As a negative image recording material capable of recording with such an infrared laser, a recording material composed of an infrared absorber, an acid generator, a resole resin and a novolac resin is described in US Pat. No. 5,340,699. However, such a negative-type image recording material requires heat treatment after laser exposure for image formation, and thus a negative-type image recording material that does not require heat treatment after exposure is desired. Was there. Further, in the method using high power density exposure using a high output laser, a large amount of light energy is intensively applied to the exposure area during an instantaneous exposure time,
Light energy is converted into heat energy at a high rate, and the heat causes chemical changes such as chemical changes, phase changes, changes in morphology and structure, and these changes are used for image recording. In the photosensitive layer of the original plate, when the addition amount of the infrared absorbing agent is increased in order to improve the recording sensitivity, the laser exposure device and the light source may be contaminated by ablation (scattering) of the photosensitive layer. In addition, it is also useful to use a photopolymerization system, but because of heat dissipation from the support,
Good printing durability could not be obtained due to insufficient curing near the interface with the support.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、赤外
線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーを用いて
コンピューター等のデジタルデータから記録することに
より直接製版が可能であり、赤外線レーザーに対し高感
度でかつ良好な耐刷性を有し、アブレーションによる汚
染の少ない、ネガ型平版印刷版原版を提供することにあ
る。
The object of the present invention is to enable plate making directly by recording from digital data of a computer or the like using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays, and it is highly sensitive to infrared lasers. Another object of the present invention is to provide a negative lithographic printing plate precursor having excellent printing durability and less contamination due to ablation.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、赤外線を
放射して直接製版することのできる光重合性ネガ型平版
印刷版原版に紫外線重合開始基を有するポリマー含有さ
せ、赤外線画像露光及び現像をした後、紫外線で全面露
光する製版方法により、得られた平版印刷版の耐刷性が
顕著に向上することを見出した。紫外線重合開始基を有
するポリマーは低分子開始剤に比べ分子量が大きいた
め、現像時に画像部から除去されにくく、全面露光時に
十分紫外線重合開始剤が画像部に残り、全面露光による
効果が大きいと考えられる。
Means for Solving the Problems The present inventors have incorporated a polymer having an ultraviolet polymerization initiation group into a photopolymerizable negative type lithographic printing plate precursor capable of directly producing a plate by radiating infrared rays, and infrared image exposure and It was found that the plate life of the lithographic printing plate obtained after the development was remarkably improved by the plate making method of exposing the whole surface to ultraviolet rays. A polymer having an ultraviolet polymerization initiator has a larger molecular weight than a low molecular weight initiator, so it is difficult to remove it from the image area during development, and it is considered that the ultraviolet polymerization initiator remains sufficiently in the image area during overall exposure, and the effect of overall exposure is large. To be

【0005】すなわち、本発明は、 1.親水性支持体上に(A)赤外線吸収剤、(B)ラジ
カル発生剤、(C)ラジカル重合性化合物、(D)バイ
ンダーポリマー及び(E)紫外線重合開始基を有するポ
リマー、を含有する画像形成層を有する光重合型の赤外
線感光性平版印刷版原版を赤外線画像露光し、現像した
後、紫外線で全面露光することを特徴とする平版印刷版
の画像形成方法、 2.上記1に記載の製版方法において、全面露光の光量
が画像露光量の少なくとも10分の1倍である製版方
法、 3.上記1または2に記載の製版方法において、全面露
光時、版面温度を30〜150℃に加熱する製版方法、 4.親水性支持体上に(A)赤外線吸収剤、(B)ラジ
カル発生剤、(C)ラジカル重合性化合物、(D)バイ
ンダーポリマー及び(E)紫外線重合開始基を有するポ
リマー、を含有する画像形成層を有することを特徴とす
る平版印刷版原版、に関する。
That is, the present invention is as follows: Image formation containing (A) infrared absorber, (B) radical generator, (C) radically polymerizable compound, (D) binder polymer and (E) polymer having ultraviolet polymerization initiation group on a hydrophilic support 1. A method for forming an image of a lithographic printing plate, which comprises subjecting a photopolymerization type infrared-sensitive lithographic printing plate precursor having a layer to infrared image exposure, developing and then exposing the whole surface to ultraviolet rays. 2. The plate making method as described in 1 above, wherein the light amount of the entire surface exposure is at least 1/10 of the image exposure amount. 3. The plate making method as described in 1 or 2 above, wherein the plate surface temperature is heated to 30 to 150 ° C. during the entire surface exposure. Image formation containing (A) infrared absorber, (B) radical generator, (C) radically polymerizable compound, (D) binder polymer and (E) polymer having ultraviolet polymerization initiation group on a hydrophilic support A lithographic printing plate precursor having a layer.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の画像形成方法は、親水性
支持体上に(A)赤外線吸収剤、(B)ラジカル発生
剤、(C)ラジカル重合性化合物、(D)バインダーポ
リマー、及び(E)紫外線重合開始基を有するポリマ
ー、を含有する画像形成層を使用するものである。この
ような画像形成層を赤外線レーザーによる画像様露光を
行うことにより、露光部の(A)赤外線吸収剤が光熱変
換し、発生した熱により、(B)ラジカル発生剤が分解
してラジカルを発生し、このラジカルにより(C)ラジ
カル重合性化合物と、(D)バインダーポリマーとを含
む画像形成層が硬化して画像部を形成する。これを現像
した後、任意に不感脂化処理等の後処理を行う。前記後
処理の後または前に紫外線で露光量で全面露光を行うこ
とにより、驚くべきことに鮮明な画像を有し、かつ高い
耐刷力を有する平版印刷版を得ることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The image forming method of the present invention comprises (A) an infrared absorber, (B) a radical generator, (C) a radically polymerizable compound, (D) a binder polymer, and a hydrophilic support on a hydrophilic support. An image forming layer containing (E) a polymer having an ultraviolet polymerization initiation group is used. By subjecting such an image forming layer to imagewise exposure with an infrared laser, the infrared absorbent (A) in the exposed portion undergoes photothermal conversion, and the generated heat decomposes the radical generator (B) to generate radicals. Then, the radicals cure the image forming layer containing the radically polymerizable compound (C) and the binder polymer (D) to form an image portion. After developing this, post-treatment such as desensitizing treatment is arbitrarily performed. By subjecting the entire surface to exposure with ultraviolet light after or before the above-mentioned post-treatment, it is possible to obtain a lithographic printing plate having a surprisingly clear image and having high printing durability.

【0007】本発明の製版方法における、全面露光時の
光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンラ
ンプ、各種レーザー光などが挙げられる。全面露光時の
露光量は、現像前の画像露光時の露光量に対し、少なく
とも10分の1であることが好ましく、より好ましくは
少なくとも2分の1であり、最も好ましくは少なくとも
2倍である。更に、十分な耐刷性を得るためには全面露
光量としては少なくとも100mJ/cm2以上が好ま
しく、より好ましくは150mJ/cm2以上であり、
更に好ましくは、200mJ/cm2以上である。光源
の光強度としては、20mW/cm2以上のものが好ま
しい。全面露光時に同時に加熱を行ってもよく、加熱を
行うことによりさらに耐刷性の向上が認められる。加熱
装置としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、I
Rレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン
等を挙げることができる。このとき版面温度は30℃〜
150℃であることが好ましく、より好ましくは35〜
130℃であり、更に好ましくは、40〜120℃であ
る。
In the plate making method of the present invention, examples of the light source at the time of overall exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp and various laser lights. The exposure amount at the whole surface exposure is preferably at least 1/10, more preferably at least 1/2, and most preferably at least 2 times the exposure amount at the image exposure before development. . Furthermore, at least 100 mJ / cm 2 or more amount of the entire surface exposure is preferably in order to obtain sufficient printing durability, more preferably 150 mJ / cm 2 or more,
More preferably, it is 200 mJ / cm 2 or more. The light intensity of the light source is preferably 20 mW / cm 2 or more. Heating may be performed at the same time when the entire surface is exposed, and further improvement in printing durability is recognized by performing heating. As the heating device, a conventional convection oven, IR irradiation device, I
R laser, a microwave device, a Wisconsin oven, etc. can be mentioned. At this time, the plate surface temperature is 30 ° C
It is preferably 150 ° C., more preferably 35 to 35 ° C.
The temperature is 130 ° C, and more preferably 40 to 120 ° C.

【0008】本発明における画像露光の光源としては、
波長760nm〜1200nmの赤外線を放射する固体
レーザ、半導体レーザ、サーマルヘッド等が用いられ
る。レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時
間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用い
ることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は2
0μ秒以内であることが好ましい。記録材料に照射され
る画像露光量は10〜500mJ/cm2であり、より
好ましくは30〜300mJ/cm2であることが好ま
しい。
As a light source for image exposure in the present invention,
A solid-state laser, a semiconductor laser, a thermal head, or the like that emits infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm is used. The laser output is preferably 100 mW or more, and it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. Also, the exposure time per pixel is 2
It is preferably within 0 μsec. The image exposure amount applied to the recording material is preferably 10 to 500 mJ / cm 2 , and more preferably 30 to 300 mJ / cm 2 .

【0009】以下、画像形成層を設けるための画像形成
材料について説明する。 〔紫外線重合開始基を有するポリマー〕次に、本発明の
特徴である、主鎖又は側鎖に紫外線重合開始基を有する
ポリマーについて説明する。紫外線重合開始基としては
通常の紫外線重合開始剤から誘導される基を用いること
ができ、好ましくは300〜430nmに吸収極大を有
する基である。例としては、ベンジル、ベンゾインエー
テル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、チオキサン
トン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、ハロ
メチルトリアジン化合物、チタノセン化合物、フェロセ
ン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、有機過酸化
物等から誘導される基を挙げることができる。これらの
化合物の紫外線重合開始部をポリマーの主鎖又は側鎖に
導入することは、既知の方法、例えば、米国特許第55
85416号、特登2573963号、特開平1−96
145号、特開平2−160803号、特開平4−21
3304号、特開平1−319504号、特公昭45−
34705号、特開昭60−210604号等各公報に
記載の方法により、行なうことができる。このようなポ
リマーの例としては、以下のようなものを挙げることが
できる。
The image forming material for forming the image forming layer will be described below. [Polymer Having Ultraviolet Polymerization Initiating Group] Next, the polymer having an ultraviolet polymerization initiating group in the main chain or side chain, which is a feature of the present invention, will be described. As the UV polymerization initiation group, a group derived from a general UV polymerization initiator can be used, and a group having an absorption maximum at 300 to 430 nm is preferable. Examples include groups derived from benzyl, benzoin ether, Michler's ketone, anthraquinone, thioxanthone, acridine, phenazine, benzophenone, halomethyltriazine compounds, titanocene compounds, ferrocene compounds, hexaarylbiimidazole, organic peroxides and the like. You can Introducing the UV polymerization initiator of these compounds into the main chain or side chain of the polymer is known, for example, in US Pat.
85416, Tokuho 2573963, JP-A-1-96.
145, JP-A-2-160803, JP-A-4-21
3304, JP-A-1-319504, JP-B-45-
It can be carried out by the methods described in JP-A-34705, JP-A-60-210604 and the like. Examples of such polymers include the following.

【0010】(1)下記一般式(イ)で示されるポリマ
ー、
(1) A polymer represented by the following general formula (a):

【0011】[0011]

【化1】 [Chemical 1]

【0012】(式中、nは5〜50の数であり、Arは
フェニレン基であり、XはOH基またはCl原子であ
り、R及びR1は等しいか又は異なる基で、それぞれ独
立に炭素原子数1〜4のアルキル基であり、R2は水素
原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基である)であ
る。具体例としては、ポリ〔2−ヒドロキシ−2−メチ
ル(p−ビニルプロピオフェノン)〕、ポリ〔2−ヒド
ロキシ−2−メチル(p−(1−メチルビニル)プロピ
オフェノン)〕、ポリ〔2−ヒドロキシ−2−n−ブチ
ル〔p−(1−メチルビニル)−n−ブチロフェノ
ン)〕等があげられる。
(In the formula, n is a number of 5 to 50, Ar is a phenylene group, X is an OH group or a Cl atom, and R and R 1 are the same or different groups, each independently a carbon atom. An alkyl group having 1 to 4 atoms, and R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). Specific examples include poly [2-hydroxy-2-methyl (p-vinylpropiophenone)], poly [2-hydroxy-2-methyl (p- (1-methylvinyl) propiophenone)], poly [ 2-hydroxy-2-n-butyl [p- (1-methylvinyl) -n-butyrophenone)] and the like can be mentioned.

【0013】(2)下記一般式(ロ)で示される構造を
有し、重合平均分子量が1000〜100万であり、よ
り好ましくは1500〜50万であるポリマー
(2) A polymer having a structure represented by the following general formula (B) and having a polymerization average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, more preferably 1,500 to 500,000.

【0014】[0014]

【化2】 [Chemical 2]

【0015】式中、Y’はモノ−、ジ−およびトリハロ
メチル基からなる群から選択される基であり、Yは−
Y’、−L−、−NH2、−NHR3、−NR3 2、−OR
3および−R4(ここで、R3は、それぞれ独立して、置
換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール
基であり、R4は置換または無置換アルキル基、置換ま
たは無置換アリール基、置換アルケニル基または置換ポ
リアルケニル基、置換アルキニル基または置換ポリアル
キニル基、および置換または無置換ヘテロ芳香族基であ
る)からなる群から選択される基であり、そしてLはト
リアジン核をポリマー部分に結合させる基または共有結
合である。
In the formula, Y'is a group selected from the group consisting of mono-, di- and trihalomethyl groups, and Y is-.
Y ', - L -, - NH 2, -NHR 3, -NR 3 2, -OR
3 and -R 4 (wherein R 3 is each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and R 4 is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group , A substituted alkenyl group or a substituted polyalkenyl group, a substituted alkynyl group or a substituted polyalkynyl group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group), and L is a polymer moiety having a triazine nucleus. Is a group or a covalent bond to be bound to.

【0016】Lは予め形成されたポリマーに結合してい
る官能基と結合することが可能な反応性基と、予め形成
されたポリマーに結合している官能基とを反応させるこ
とにより得られる結合基である。予め形成されたポリマ
ーに結合している官能基と結合することが可能な反応性
基の例としては、イソシアネート;ヒドロキシル;アミ
ン;カルボキシル;酸無水物;およびエポキシが包含さ
れるがこれらに限定されない。
L is a bond obtained by reacting a reactive group capable of bonding with a functional group bonded to a preformed polymer with a functional group bonded to a preformed polymer. It is a base. Examples of reactive groups that can be attached to a functional group attached to a preformed polymer include, but are not limited to, isocyanates; hydroxyls; amines; carboxyls; acid anhydrides; and epoxies. .

【0017】一般式(ロ)で示される構造を有するポリ
マーは、例えば下記式(ロ’)で示されるモノマーを重
合して得ることができる。
The polymer having the structure represented by the general formula (b) can be obtained by polymerizing a monomer represented by the following formula (b ').

【0018】[0018]

【化3】 [Chemical 3]

【0019】式(ロ’)において、Y、Y’及びLは式
(ロ)と同義である。−Mは、ハロメチル−1,3,5
−トリアジン部分を含有するポリマーを調製するための
重合反応に有用である反応性基または重合性基を含む化
合物に由来する基である。−L−Mを例えば以下に示す
1またはL2とM1とを反応させることにより得てもよ
い。L1は−OH、−NCO、−NHRX、−COOH、
In the formula (b '), Y, Y'and L have the same meanings as in the formula (b). -M is halomethyl-1,3,5
A group derived from a compound containing a reactive group or a polymerizable group that is useful in a polymerization reaction for preparing a polymer containing a triazine moiety. -LM may be obtained, for example, by reacting M 1 with L 1 or L 2 shown below. L 1 is -OH, -NCO, -NHR X, -COOH ,

【0020】[0020]

【化4】 式中、X1はハロゲン原子を表し、RXは水素原子、(置
換)アルキル、(置換)アルケニル、(置換)アリール
を表し;L2
[Chemical 4] In the formula, X 1 represents a halogen atom, R X represents a hydrogen atom, (substituted) alkyl, (substituted) alkenyl, (substituted) aryl; L 2 represents

【0021】[0021]

【化5】 式中、RA、RB、RCは、L1若しくはRXと同じ基を表
すが、但し、少なくとも一つはL1を表し、RYは(置
換)アルキレン、(置換)アルケニレン、または(置
換)アリーレンを表す。M1
[Chemical 5] In the formula, R A , R B , and R C represent the same groups as L 1 or R X , provided that at least one represents L 1 and R Y represents a (substituted) alkylene, a (substituted) alkenylene, or (Substituted) represents arylene. M 1 is

【0022】[0022]

【化6】 式中、RDは水素またはメチル基を表し、REは3価の
(置換)アルキル、(置換)アルケニル、または(置
換)アリールを表す。以下に、一般式(ロ’)で示され
る構造を有する化合物の具体例を示す。ただし、これら
は本発明の内容を限定するものではない。
[Chemical 6] In the formula, R D represents hydrogen or a methyl group, and R E represents trivalent (substituted) alkyl, (substituted) alkenyl, or (substituted) aryl. Specific examples of the compound having the structure represented by the general formula (b ') are shown below. However, these do not limit the content of the present invention.

【0023】[0023]

【化7】 [Chemical 7]

【0024】[0024]

【化8】 [Chemical 8]

【0025】しかしながら、上記の表より本発明の化合
物に適するハロメチル基が−CCl 3に限定されると考
えるべきではない。上記の紫外線重合開始基を有するポ
リマーの中で、上記表10に示す具体例1、3および5
を使用するのが好ましい。
However, from the above table, the compound of the present invention
A halomethyl group suitable for 3Thought to be limited to
You shouldn't. A polymer having the above-mentioned UV polymerization initiation group
Among the limers, specific examples 1, 3 and 5 shown in Table 10 above
Is preferably used.

【0026】また、一般式(ロ)で表される構造を有す
るポリマーは、上記式(ロ’)で表されるモノマーを他
のモノマーと共重合して得られるものであってもよい。
式(ロ’)で表されるようなハロメチル−1,3,5−
トリアジン置換モノマーとの共重合反応に有用なコモノ
マーには、アクリル酸およびメタクリル酸;アクリル酸
エステルおよびメタクリル酸エステル(例えば、メチ
ル、エチル、ブチル、オクチル、2−ジメチルアミノエ
チル、2−メトキシエチル、2−ヒドロキシエチル、2
−クロロエチル、ベンジル、グリシジル、2−シアノエ
チル、テトラヒドロフルフラル):アクリルアミドおよ
びその誘導体(例えば、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−イソブトキシメチルアクリルアミド、およびメ
タクリルアミド);スチレン、無水マレイン酸、4−ビ
ニルピリジン、2−メタクリロイルオキシエタン−1−
スルホン酸およびその塩、アクリロニトリル、エチルビ
ニルエーテルのようなビニルエーテル、が包含されるが
これらに限定されない。アクリル系モノマーおよびアク
リルアミドモノマーの他の例は、ポリマー科学事典(En
cyclopedia of Polymer Science )、第2版、第1巻、
第182、204、237、242、および243頁に
列挙されている。
Further, the polymer having the structure represented by the general formula (b) may be obtained by copolymerizing the monomer represented by the above formula (b ') with another monomer.
Halomethyl-1,3,5-as represented by formula (b ')
Comonomers useful for copolymerization reactions with triazine-substituted monomers include acrylic acid and methacrylic acid; acrylic acid esters and methacrylic acid esters (eg, methyl, ethyl, butyl, octyl, 2-dimethylaminoethyl, 2-methoxyethyl, 2-hydroxyethyl, 2
-Chloroethyl, benzyl, glycidyl, 2-cyanoethyl, tetrahydrofurfural): acrylamide and its derivatives (e.g. N-methylolacrylamide, N-isobutoxymethylacrylamide and methacrylamide); styrene, maleic anhydride, 4-vinylpyridine. , 2-methacryloyloxyethane-1-
Included, but not limited to, sulfonic acids and their salts, acrylonitrile, vinyl ethers such as ethyl vinyl ether. Other examples of acrylic and acrylamide monomers are found in the Polymer Science Dictionary (En
cyclopedia of Polymer Science), 2nd edition, volume 1,
182, 204, 237, 242, and 243.

【0027】合成の容易性および多様性に優れる有用な
ポリマーの他のクラスには、通常は、ジオール、ジイソ
シアネート、および連鎖伸長剤から形成されるポリウレ
タンが挙げられる。ジヒドロキシルまたはジイソシアネ
ート基を有するハロメチル−1,3,5−トリアジン誘
導体は特に有用な反応物である。このジヒドロキシル誘
導体は直接、またはトリレン−2,4−ジイソシアネー
トとの反応によりジイソシアネートプレポリマーに転換
されて用いられる。ヒドロキシル末端直鎖脂肪族ポリエ
ステルおよび脂肪族ポリエーテルのような他のジオー
ル、および、芳香族、脂肪族、脂環式または多環式のよ
うな他のポリ環状ジイソシアネートが、組み合わせて用
いられる。このような、反応物を選択する際の多様性に
より、広範囲の分子量および物理特性が許容される。ポ
リウレタンエラストマーに関する技術、化学的性質、基
本構造、および合成経路は、C.ヘップバーン(C.Hepb
urn)、ポリウレタンエラストマー(Polyurethane Elas
tmers)、応用化学出版(Applied Science Publisher
s)(ニューヨーク:1982年);および、ポリマー
科学工業事典、第2版、第13巻、第243〜303頁
に概説されている。
Another class of useful polymers that are easy to synthesize and versatile include polyurethanes typically formed from diols, diisocyanates, and chain extenders. Halomethyl-1,3,5-triazine derivatives containing dihydroxyl or diisocyanate groups are particularly useful reactants. This dihydroxyl derivative is used directly or after being converted into a diisocyanate prepolymer by reaction with tolylene-2,4-diisocyanate. Other diols such as hydroxyl terminated linear aliphatic polyesters and aliphatic polyethers, and other polycyclic diisocyanates such as aromatic, aliphatic, cycloaliphatic or polycyclic are used in combination. Such versatility in selecting reactants allows a wide range of molecular weights and physical properties. Techniques, chemistries, basic structures, and synthetic routes for polyurethane elastomers are described in C.I. Hepburn (C. Hepb
urn), polyurethane elastomer (Polyurethane Elas)
tmers), Applied Science Publisher
s) (New York: 1982); and Encyclopedia of Polymer Science and Industry, Second Edition, Volume 13, pages 243-303.

【0028】(3)下記−般式(1)及び(2)で表さ
れる少なくとも2種の異なる単量体単位を共重合するこ
とによって得ることができ、重合平均分子量が1000
〜100万であり、より好ましくは1500〜50万で
ある、紫外線重合開始基を有するポリマー;
(3) It can be obtained by copolymerizing at least two different monomer units represented by the following formulas (1) and (2), and the polymerization average molecular weight is 1000.
To 1,000,000, more preferably 1500 to 500,000, a polymer having an ultraviolet polymerization initiation group;

【0029】[0029]

【化9】 [Chemical 9]

【0030】〔式中、RaおよびRbは、互に独立して、
それぞれ、H、Cl、CN、C1-4−アルキルまたはフ
ェニルであり、Zは、−CO−、−COO−、−O−C
O−、−(CH2)nZ’、−COO(CH2)nZ’、−
CO(OCH2CH2)nZ’(式中、nは1〜10であ
り、Z’は、単結合、−O−、−S−、−CO−、−C
OO−、−OCO−、−NH−または−N(C1-4−ア
ルキル)−である)であり、mは0または1であり、I
Nは、光開始剤の基本構造、
[Wherein R a and R b are independently of each other,
Each is H, Cl, CN, C 1-4 -alkyl or phenyl, Z is —CO—, —COO—, —O—C.
O -, - (CH 2) nZ ', - COO (CH 2) nZ', -
CO (OCH 2 CH 2) nZ '( wherein, n is 1 to 10, Z' represents a single bond, -O -, - S -, - CO -, - C
OO-, -OCO-, -NH- or -N (C 1-4 -alkyl)-), m is 0 or 1, and I
N is the basic structure of the photoinitiator,

【0031】[0031]

【化10】 [Chemical 10]

【0032】(式中、R10は、−CR131415または
−P(=O)(R162であり、R1 1およびR12は、
H、ハロゲン、C1-12−アルキルまたはC1-12−アルコ
キシであり、R13およびR14は、互に独立して、それぞ
れ、H、C1-12−アルキル、C 1-12−アルケニル、C
1-12−アルコキシであるかまたは一緒になってC2-6
アルキレンであり、R15は、−OH,C1-6−アルコキ
シ、C1-6−アルカノイルオキシ、−N(C1-6−アルキ
ル)2
(Where R isTenIs -CR13R14R15Or
-P (= O) (R16)2And R1 1And R12Is
H, halogen, C1-12-Alkyl or C1-12-Arco
Kisshi and R13And R14Are independent of each other
H, C1-12-Alkyl, C 1-12-Alkenyl, C
1-12-Alkoxy or taken together C2-6
Alkylene, R15Is -OH, C1-6-Arukoki
Shi, C1-6-Alkanoyloxy, -N (C1-6-Archi
Le)2,

【0033】[0033]

【化11】 [Chemical 11]

【0034】−SO217または−OSO217であり、
16は、C1-6−アルキル、C1-6−アルカノイル、フェ
ニルまたはベンゾイルであり、これらの基は、いずれも
場合により、ハロゲン、C1-6−アルキルまたはC1-6
アルコキシによって置換されていてもよく、R17は、C
1-4−アルキルまたはフェニルである)の1つであり、
Qは、前述の光開始剤の基本構造INの1つであるか、
または、H、C1-12−アルキル、C1-12−アルケニル、
フェニル、スチリル、ハロゲン、NCO、NCS、
3、SO3H、SO2Cl、CRc=CRdeまたは
-SO 2 R 17 or -OSO 2 R 17 ,
R 16 is C 1-6 -alkyl, C 1-6 -alkanoyl, phenyl or benzoyl, any of these groups optionally being halogen, C 1-6 -alkyl or C 1-6-.
Optionally substituted by alkoxy, R 17 is C
1-4 -alkyl or phenyl),
Q is one of the basic structures IN of the photoinitiator described above,
Or H, C 1-12 -alkyl, C 1-12 -alkenyl,
Phenyl, styryl, halogen, NCO, NCS,
N 3 , SO 3 H, SO 2 Cl, CR c = CR d Re or

【0035】[0035]

【化12】 [Chemical 12]

【0036】(式中、Rc、RdおよびReは、それぞ
れ、HであるかまたはClまたはCH3である)であるか
またはSiRfgh(式中、Rf、RgおよびRhは、そ
れぞれ、Cl、C1-12−アルキル、C1-12−アルコキシ
またはC1-12−アルカノイルオキシである)である〕。
Where R c , R d and R e are each H or Cl or CH 3 or SiR f R g R h where R f , R g And R h are each Cl, C 1-12 -alkyl, C 1-12 -alkoxy or C 1-12 -alkanoyloxy).

【0037】以下に、一般式(1)で示される構造を有
する化合物の具体例を示す。ただし、これらは本発明の
内容を限定するものではない。 4−ビニルフェニル 2−ヒドロキシ−2−プロピルケ
トン (1a) 4−アリルオキシフェニル 2−ヒドロキシ−2−プロ
ピルケトン (1b) 4−2−アリルオキシエトキシフェニル 2−ヒドロキ
シ−2−プロピルケトン(1c) ビニル 4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニ
ル)フェノキシアセテート (1d) 4−アクリロイルオキシフェニル 2−ヒドロキシ−2
−プロピルケトン (1e) 4−メタクリロイルオキシフェニル 2−ヒドロキシ−
2−プロピルケトン (1f) 4−2−アクリロイルオキシエトキシフェニル 2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (1g) 4−2−メタクリロイルオキシエトキシフェニル 2−
ヒドロキシ−2−プロピルケトン (1h) 4−2−アクリロイルオキシジエトキシフェニル 2−
ヒドロキシ−2−プロピルケトン (1i) 4−2−アクリロイルオキシエチルチオフェニル 2−
ヒドロキシ−2−プロピルケトン (1j) 4−2−アクリロイルオキシエチルチオフェニル 2−
N−モルホリノ−2−プロピルケトン (1k) 2−〔2−(アクリロイルオキシ)エチルチオ〕チオキ
サントン (1l) 2−〔2−(アクリロイルアミノ)エチルチオ〕チオキ
サントン (1m) 2−〔2−(アリルオキシ)エチルチオ〕チオキサント
ン (1n) 2−[2−(アリルアミノ)エチルチオ〕チオキサント
ン (1o) 4−〔2−(メタクリロイルオキシ)エトキシカルボニ
ル〕チオキサントン (1q)
Specific examples of the compound having the structure represented by the general formula (1) are shown below. However, these do not limit the content of the present invention. 4-Vinylphenyl 2-hydroxy-2-propylketone (1a) 4-allyloxyphenyl 2-hydroxy-2-propylketone (1b) 4--2-allyloxyethoxyphenyl 2-hydroxy-2-propylketone (1c) Vinyl 4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) phenoxyacetate (1d) 4-acryloyloxyphenyl 2-hydroxy-2
-Propyl ketone (1e) 4-methacryloyloxyphenyl 2-hydroxy-
2-Propylketone (1f) 4-Acryloyloxyethoxyphenyl 2-Hydroxy-2-propylketone (1g) 4-2 Methacryloyloxyethoxyphenyl 2-
Hydroxy-2-propyl ketone (1h) 4-2 acryloyloxydiethoxyphenyl 2-
Hydroxy-2-propyl ketone (1i) 4-2 acryloyloxyethyl thiophenyl 2-
Hydroxy-2-propyl ketone (1j) 4-2 acryloyloxyethyl thiophenyl 2-
N-morpholino-2-propylketone (1k) 2- [2- (acryloyloxy) ethylthio] thioxanthone (1l) 2- [2- (acryloylamino) ethylthio] thioxanthone (1m) 2- [2- (allyloxy) ethylthio ] Thioxanthone (1n) 2- [2- (allylamino) ethylthio] thioxanthone (1o) 4- [2- (methacryloyloxy) ethoxycarbonyl] thioxanthone (1q)

【0038】(4)側鎖に下記一般式(ハ)で示される
構造を含有する、重合平均分子量が1000〜100万
であり、より好ましくは1500〜50万であるポリマ
ー、
(4) A polymer having a structure represented by the following general formula (C) in its side chain and having a polymerization average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, more preferably 1,500 to 500,000,

【0039】[0039]

【化13】 [Chemical 13]

【0040】(ただし、R21は炭素数1〜10の2価の
炭化水素基で鎖中にエステル、エーテル、及びウレタン
結合から選ばれる少なくとも1つを含んでいても良い。
A、Bはそれぞれ水素原子、ハロゲン、炭素数1〜10
のアルキル基、アルケニル基、炭素数6〜10のアリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、及びシアノ基から選ばれる少なくとも1つを示
す。) 本発明に用いられる紫外線重合開始基含有ポリマーとし
ては、側鎖に一般式(ハ)で表わされる構造を含有する
高分子化合物であればどのようなものでもよいが、例え
ば、下記式のような構造を持つものが挙げられる。
(However, R 21 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may contain at least one selected from ester, ether and urethane bonds in the chain.
A and B are a hydrogen atom, a halogen, and a carbon number of 1-10, respectively.
At least one selected from an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, and a cyano group. The UV-polymerization initiating group-containing polymer used in the present invention may be any polymer compound having a structure represented by the general formula (C) in its side chain. One with a different structure.

【0041】[0041]

【化14】 [Chemical 14]

【0042】R22、R23は主鎖の構造で、R23として
は、
R 22 and R 23 are main chain structures, and R 23 is

【0043】[0043]

【化15】 [Chemical 15]

【0044】などが挙げられる。R23としては、And the like. For R 23 ,

【0045】[0045]

【化16】 [Chemical 16]

【0046】などが挙げられる。(ここで、R24
25、R27は水素原子、ハロゲン、水酸基、アミノ基、
シアノ基、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アミノアルキル基、メルカプトアル
キル基、ハロァルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素
数2〜10のカルボキシアルキル基、シアノアルキル
基、炭素数6〜10の置換されていてもよいアリール
基、またはアラルキル基であり、それぞれ、同一もしく
は、異なっていてもよい。R26は水素原子または炭素数
1〜10のアルキル基である。)
And the like. (Where R 24 ,
R 25 and R 27 are hydrogen atom, halogen, hydroxyl group, amino group,
Cyano group, alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, alkenyl group, alkoxy group, aminoalkyl group, mercaptoalkyl group, haloalkyl group, hydroxyalkyl group, carboxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyanoalkyl group, carbon number 6 10 to 10 optionally substituted aryl groups or aralkyl groups, which may be the same or different. R 26 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. )

【0047】主鎖の構造の具体例としては、ポリエステ
ル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメ
タクリレートなどが挙げられ、特にポリスチレン、ポリ
アクリレート、及びポリメタクリレートが好ましい。具
体例としては、下記の〜のモノマーを重合したもの
が挙げられる。
Specific examples of the structure of the main chain include polyester, polyether, polyurethane, polyamide, polystyrene, polycarbonate, polyacrylate and polymethacrylate, and polystyrene, polyacrylate and polymethacrylate are particularly preferable. Specific examples include those obtained by polymerizing the following monomers (1) to (4).

【0048】[0048]

【化17】 [Chemical 17]

【0049】で表わされる化合物の重合体または他のス
チレン系モノマや(メタ)アクリル酸エステルとの共重
合体。
Polymers of compounds represented by or copolymers with other styrenic monomers and (meth) acrylic acid esters.

【0050】[0050]

【化18】 [Chemical 18]

【0051】で表わされる化合物の開環重合体または他
のエポキシ化合物との共開環重合体。
A ring-opening polymer of the compound represented by or a ring-opening polymer with another epoxy compound.

【0052】[0052]

【化19】 [Chemical 19]

【0053】(R28は水素原子またはメチル基であ
る。)で表わされる化合物の重合体または他の(メタ)
アクリル酸エステルやスチレン系モノマーとの共重合
体。
(R 28 is a hydrogen atom or a methyl group.) A polymer of the compound or other (meth)
Copolymer with acrylic acid ester and styrene monomer.

【0054】[0054]

【化20】 [Chemical 20]

【0055】(R28は前述のものと同一である。)で表
わされる化合物の重合体または他のスチレン系モノマー
や(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体。
(R 28 is the same as the above-mentioned one) A polymer of the compound or a copolymer with other styrene type monomer or (meth) acrylic acid ester.

【0056】[0056]

【化21】 (R28は前述のものと同一である。)で表わされる化合
物の重合体または他の(メタ)アクリル酸エステルやス
チレン系モノマーとの共重合体。
[Chemical 21] (R 28 is the same as those mentioned above.) A polymer of a compound represented by the above or a copolymer with another (meth) acrylic acid ester or a styrene monomer.

【0057】[0057]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0058】で表わされる化合物とジカルボン酸とから
なるポリエステルやジイソシアネート化合物とからなる
ポリウレタン。
Polyurethanes composed of a polyester represented by the compound represented by and a dicarboxylic acid and a diisocyanate compound.

【0059】(5)下記一般式(ニ)で表されるポリマ
(5) Polymer represented by the following general formula (D)

【0060】[0060]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0061】(式中、R30は基:R33またはHO−R31
−を表わし、R32は−OHまたは次式
(Wherein R 30 is a group: R 33 or HO—R 31
Represents-, R 32 is -OH or the following formula

【0062】[0062]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0063】で表される基を表し、nは5ないし30の
値を表し、Ar1およびAr2は各々独立にフェニル基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換さ
れたフェニル基を表し、R31は2価の基であり、a)−
O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−C
ONH−、−N(R34)−、−O−Si(R35
(R36)−O−により、または1もしくはそれ以上の炭
素環またに複素環により1回もしくは数回中断されるこ
とができ、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素
原子数3ないし5のアルケニル基、炭素原子数5ないし
6のシクロアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、水酸基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
基、炭素原子数1ないし12のアルキルチオ基、フェノ
キシ基、炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ
基、ベンゾイルオキシ基、炭素原子数2ないし5のアル
コキシカルボニル基、炭素原子数2ないし8のジアルキ
ルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基、トリメチル
シロキシ基もしくは次式:〔−O−C(Ar1)(−C
O−Ar2〕−O−R31〕n′−R32、−(炭素原子数1
ないし4のアルキレン)−R 37、−O−CH2CH2−R
37、−O−CH2−CH(CH3)−R37または−S−C
2CH2−R37
Represents a group represented by: n is 5 to 30
Represents the value, Ar1And Ar2Are each independently a phenyl group
Or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1 carbon atom
Substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Represents a phenyl group represented by R31Is a divalent group, and a)-
O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO-, -C
ONH-, -N (R34)-, -O-Si (R35)
(R36) -O-, or one or more charcoals
It may be interrupted once or several times by a prime or heterocyclic ring.
An alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, carbon
Alkenyl groups having 3 to 5 atoms, 5 to 5 carbon atoms
6 cycloalkyl group, phenyl group, halogen atom,
Ano group, hydroxyl group, alkoxy having 1 to 12 carbon atoms
Groups, alkylthio groups having 1 to 12 carbon atoms, pheno
Xy group, alkanoyloxy having 2 to 12 carbon atoms
Groups, benzoyloxy groups, C2-C5 aralkyls
Coxycarbonyl group, dialky with 2 to 8 carbon atoms
Luamino group, morpholino group, piperazino group, trimethyl
A siloxy group or the following formula: [-OC (Ar1) (-C
O-Ar2] -OR31] N'-R32,-(1 carbon atom
To 4 alkylene) -R 37, -O-CH2CH2-R
37, -O-CH2-CH (CH3) -R37Or -SC
H2CH2-R37

【0064】(式中、n′はnより小さい0ないし29
の値を表わす〕で表わされる基の一つによりモノもしく
はポリ置換されていることができる炭素原子数4ないし
50のポリメチレン基を表すか、またはb)炭素原子数
4ないし8のアルケニレン基またはアルキニレン基を表
わすか、またはc)6ないし20個の炭素原子を有する
2価の脂環式基を表すか、またはd)次式:−CH2
Z−CH2−(式中、Zは2価の炭素原子数4ないし1
5の脂環式、芳香族もしくは複素環式基を表わす)で表
わされる基を表わし、R33は炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表わし、R34は水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ク
ロロフェニル基、トリル基、ベンジル基、炭素原子数2
ないし5のアルカノイル基、ベンゾイル基、トルイル基
または次式:−SO2−R37、−CH2CH2−R37もし
くは−CH2CH(CH2)−R37で表わされる基を表
し、R35及びR36は各々独立にメチル基またはフェニル
基を表わし、R38は炭素原子数1ないし16のアルキル
基、フェニル基または炭素原子数7ないし20のアルキ
ルフェニル基を表わし、R39水酸基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし4のアルカノ
イルオキシ基または次式:−〔O−C(Ar1)(−C
O−Ar2〕−O−R31−)n′−R32で表わされる基を
表わす〕
(In the formula, n ′ is 0 to 29 which is smaller than n.
Or a b) alkenylene group or alkynylene having 4 to 8 carbon atoms, which may be mono- or poly-substituted by one of the groups represented by A group, or c) a divalent alicyclic group having 6 to 20 carbon atoms, or d) the following formula: --CH 2-
Z—CH 2 — (In the formula, Z is a divalent carbon atom having 4 to 1
5 represents an alicyclic, aromatic or heterocyclic group of 5), R 33 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 34 represents a hydrogen atom or 1 to 4 carbon atoms. Alkyl group, cyclohexyl group, phenyl group, chlorophenyl group, tolyl group, benzyl group, carbon number 2
To an alkanoyl group 5, a benzoyl group, a toluoyl group or the formula: -SO 2 -R 37, represents a -CH 2 CH 2 -R 37 or -CH 2 CH (CH 2) a group represented by -R 37, R 35 and R 36 each independently represent a methyl group or a phenyl group, R 38 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a phenyl group or an alkylphenyl group having 7 to 20 carbon atoms, R 39 hydroxyl group, carbon group having 1 to atom 4 alkoxy, C 2 -C 4 alkanoyloxy group or the following formula: - [O-C (Ar 1) ( - C
O-Ar 2] -O-R 31 -) represents a group of the n'-R 32]

【0065】以下に、一般式(ニ)で示される構造を有
する化合物の具体例を示す。ただし、これらは本発明の
内容を限定するものではない。出発原料として使用する
下記式(ニ−II)で表わされるジアルキルケタールは公
知化合物であり、例えば米国特許出願第3,715,2
93号、西ドイツ特許出願第2,232,365号及び
同第2,337,813号に記載されている。ベンジル
ジメチルケタール及びベンジルジエチルケタールは市販
されている。
Specific examples of the compound having the structure represented by formula (d) are shown below. However, these do not limit the content of the present invention. The dialkyl ketal represented by the following formula (ni-II) used as a starting material is a known compound, for example, US Patent Application No. 3,715,2.
No. 93, West German Patent Applications Nos. 2,232,365 and 2,337,813. Benzyl dimethyl ketal and benzyl diethyl ketal are commercially available.

【0066】[0066]

【化25】 [Chemical 25]

【0067】(式中、R40は水素原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、
クロロフェニル基、トリル基、ベンジル基、炭素原子数
2ないし5のアルカノイル基、ベンゾイル基、またはト
ルイル基を表す。) 出発原料として要求される下記式(ニ−III)のジオー
ルも公知化合物である。それらの多くは市販されてい
る。それら、テクニカルグレードの混合物でもありう
る。
(Wherein R 40 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group, a phenyl group,
It represents a chlorophenyl group, a tolyl group, a benzyl group, an alkanoyl group having 2 to 5 carbon atoms, a benzoyl group, or a toluyl group. The diol of the following formula (d-III) required as a starting material is also a known compound. Many of them are commercially available. They can also be technical grade mixtures.

【0068】[0068]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0069】(式中、R31は上記の定義どおりであ
る。) 本発明により使用されうる式(ニ−III)のジオールの
例を下記に示す:ブタン−1,4−ジオール、ペンタン
−1,5−ジオール、ヘキサン−1,6−ジオール、ヘ
プタン−1,7−ジオール、オクタン−1,8−ジオー
ル、ノナン−1,9−ジオール、デカン−1,10−ジ
オール、ドデカン−1,12−ジオール、3−メチルペ
ンタン−1,5−ジオール、ペンタン−1,4−ジオー
ル、ヘキサン−2,5−ジオール、2−トランス−ブテ
ン−1,4−ジオール、2−ブテン−1,4−ジオー
ル、3−ヘキシン−2,5−ジオール、シクロヘキサン
−1,3−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジオー
ル、シクロペンタン−1,3−ジオール、シクロオクタ
ン−1,5−ジオール、シクロオクタン−1,4−ジオ
ール、デカヒドロナフタレン−1,4−ジオール及びデ
カヒドロナフタレン−1,5−ジオール、ジシクロヘキ
シル−4,4′−ジオール、1,2−及び1,4−ビス
(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、1,3−及び
1,4−ビス−(ヒドロキシメチル)ベンゼン、1,4
−ビス(ヒドロキシメチル〕−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,5−ビス(ヒドロキシメチル)フ
ラン、2,5−ビス(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ
フラン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベン
ゼン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール
及びテトラエチレングリコール及び分子量が200、3
00、400、500、l000または1500である
ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール及び
トリプロピレングリコール、及び分子量400、750
または1200であるポリプロピレングリコール、分子
量が650また1000であるポリ(テトラメチレン)
グリコール、3,8−ジオキサデカン−1,10−ジオ
ール、4,10−ジオキサデカン−2,11−ジオー
ル、5−オキサノナン−3,7−ジオール、イソプロピ
リデン−4,4′−ジシクロヘキサノール、2,2−ビ
ス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル)プロ
パン、2,2−ビス〔4−(2−ヒドロキシプロポキ
シ)フェニル〕−プロパン、ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)テレフタレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)テ
レフタルアミド、3−チアペンタン−1,5−ジオー
ル、4−チアヘプタン−1,7−ジオール、3,6−ジ
チアオクタン−1,8−ジオール、ジエタノールアミ
ン、N−メチルジエタノールアミン、N−ブチルジエタ
ノールアミン、N−テトラブチルジエタノールアミン、
N−シクロヘキシルジエタノールアミン、N,N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)アニリン、N,N−ビス(2
−ヒドロキシエチル)−トルイジン、N,N−ビス(2
−ヒドロキシエチル)−n−クロロアニリン、N,N′
−ビス(2−ヒドロキシエチル)−1,4−フェニレン
ジアミン、N,N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピ
ペラジン、ビス(2−ヒドロキシプロピル)アミン、ビ
ス(2−ヒドロキシプロピル)メチルアミン、N,N′
−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、
N,N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)−トリメチレ
ンジアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ア
セトアミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ベ
ンズアミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ト
ルエンスルホンアミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシ
エチル)ベンゼンスルホンアミドまたはN,N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)メタンスルホンアミド、
Wherein R 31 is as defined above. Examples of diols of formula (ni-III) which can be used according to the invention are given below: butane-1,4-diol, pentane-1. , 5-diol, hexane-1,6-diol, heptane-1,7-diol, octane-1,8-diol, nonane-1,9-diol, decane-1,10-diol, dodecane-1,12 -Diol, 3-methylpentane-1,5-diol, pentane-1,4-diol, hexane-2,5-diol, 2-trans-butene-1,4-diol, 2-butene-1,4- Diol, 3-hexyne-2,5-diol, cyclohexane-1,3-diol, cyclohexane-1,4-diol, cyclopentane-1,3-diol, cyclooctane-1,5-dio , Cyclooctane-1,4-diol, decahydronaphthalene-1,4-diol and decahydronaphthalene-1,5-diol, dicyclohexyl-4,4'-diol, 1,2- and 1,4-bis (Hydroxymethyl) cyclohexane, 1,3- and 1,4-bis- (hydroxymethyl) benzene, 1,4
-Bis (hydroxymethyl) -2,3,5,6-tetramethylbenzene, 2,5-bis (hydroxymethyl) furan, 2,5-bis (hydroxymethyl) tetrahydrofuran, 1,4-bis (2-hydroxy) Ethoxy) benzene, diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol and molecular weight of 200,3
00, 400, 500, 1000 or 1500 polyethylene glycol, dipropylene glycol and tripropylene glycol, and molecular weight 400, 750
Or 1,200 polypropylene glycol, poly (tetramethylene) having a molecular weight of 650 or 1000
Glycol, 3,8-dioxadecane-1,10-diol, 4,10-dioxadecane-2,11-diol, 5-oxanonane-3,7-diol, isopropylidene-4,4'-dicyclohexanol, 2, 2-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl) propane, 2,2-bis [4- (2-hydroxypropoxy) phenyl] -propane, bis (2-hydroxyethyl) terephthalate, bis (2-hydroxy) Ethyl) terephthalamide, 3-thiapentane-1,5-diol, 4-thiaheptane-1,7-diol, 3,6-dithiaoctane-1,8-diol, diethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-butyldiethanolamine, N -Tetrabutyldiethanolamine,
N-cyclohexyldiethanolamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) aniline, N, N-bis (2
-Hydroxyethyl) -toluidine, N, N-bis (2
-Hydroxyethyl) -n-chloroaniline, N, N '
-Bis (2-hydroxyethyl) -1,4-phenylenediamine, N, N'-bis (2-hydroxyethyl) piperazine, bis (2-hydroxypropyl) amine, bis (2-hydroxypropyl) methylamine, N , N '
-Bis (2-hydroxyethyl) ethylenediamine,
N, N'-bis (2-hydroxyethyl) -trimethylene diamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) acetamide, N, N-bis (2-hydroxyethyl) benzamide, N, N-bis (2 -Hydroxyethyl) toluenesulfonamide, N, N-bis (2-hydroxyethyl) benzenesulfonamide or N, N-bis (2-hydroxyethyl) methanesulfonamide,

【0070】いくつかのジオールまたはジオールの混合
物をこれらのトリオールもしくは環状ケタールを形成し
ないポリオールとともに使用することもできる。使用し
うるトリオール及びテトロールの例を下記に示す;1,
3,5−トリス(ヒドロキシアルキル)ベンゼン、例え
ば1,3,5−トリス(ヒドロキシメチル)ベンゼン、
1,3,5−トリス(ヒドロキシエチル)ベンゼン、
1,3,5−トリス(4−ヒドロキシブチル)ベンゼ
ン;1,3,5−トリス(ヒドロキシアルキル)シクロ
ヘキサン、例えば1,3,5−トリス(ヒドロキシメチ
ル)シクロヘキサン、1,3,5−トリス(3−ヒドロ
キシプロピル)シクロヘキサン、1,3,5−トリス
(8−ヒドロキシオクチル)シクロヘキサン、3−(2
−ヒドロキシエチル)ペンタン−1,5−ジオール;3
−(2−ヒドロキシエチル)−3−メチルペンタン−
1,5−ジオール、3,3−ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)ペンタン−1,5−ジオール;4,4−ビス(3−
ヒドロキシプロピル)ヘプタン−1,5−ジオール;ト
リス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート;トリ
エタノールアミン;トリス(2−ヒドロキシプロピル)
アミンまたはN,N,N′,N′−テトラキス(2−ヒ
ドロキシエチル)エチレンジアミン、
It is also possible to use some diols or mixtures of diols with these triols or polyols which do not form cyclic ketals. Examples of triols and tetrols that can be used are shown below:
3,5-tris (hydroxyalkyl) benzene, such as 1,3,5-tris (hydroxymethyl) benzene,
1,3,5-tris (hydroxyethyl) benzene,
1,3,5-tris (4-hydroxybutyl) benzene; 1,3,5-tris (hydroxyalkyl) cyclohexane, such as 1,3,5-tris (hydroxymethyl) cyclohexane, 1,3,5-tris ( 3-hydroxypropyl) cyclohexane, 1,3,5-tris (8-hydroxyoctyl) cyclohexane, 3- (2
-Hydroxyethyl) pentane-1,5-diol; 3
-(2-Hydroxyethyl) -3-methylpentane-
1,5-diol, 3,3-bis (2-hydroxyethyl) pentane-1,5-diol; 4,4-bis (3-
Hydroxypropyl) heptane-1,5-diol; Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate; Triethanolamine; Tris (2-hydroxypropyl)
Amine or N, N, N ', N'-tetrakis (2-hydroxyethyl) ethylenediamine,

【0071】(6)下記一般式(ホ)で示されるポリマ
ー、
(6) A polymer represented by the following general formula (e),

【0072】[0072]

【化27】 [Chemical 27]

【0073】上記式において、R50は水素またはメチル
を表し、Uは他の共重合モノマー由来の基を表す。これ
らのポリマーは重量平均分子量1500〜100万の範
囲にあるのが好ましく、より好ましくは2000〜50
万の範囲である。
In the above formula, R 50 represents hydrogen or methyl, and U represents a group derived from another copolymerization monomer. These polymers preferably have a weight average molecular weight of 1500 to 1,000,000, more preferably 2000 to 50.
It is in the range of 10,000.

【0074】(7)下記一般式(ヘ)で示されるポリマ
(7) Polymer represented by the following general formula (f)

【0075】[0075]

【化28】 [Chemical 28]

【0076】(式中、Ra、Rb、RcおよびRdは、各々
約18以下の炭素原子を含む脂肪族、芳香族、置換芳香
族、芳香脂肪族、およびシクロ脂肪族基からそれぞれ選
ばれ、yおよびxは約1から19,000までの数であ
るが、ただし、yとxとの合計が約5から20,000
までであることを条件とする)
Wherein R a , R b , R c and R d are each an aliphatic, aromatic, substituted aromatic, araliphatic, and cycloaliphatic group, each containing less than about 18 carbon atoms. And y and x are numbers from about 1 to 19,000, provided that the sum of y and x is about 5 to 20,000.
Up to the condition)

【0077】以下に、一般式(ヘ)で示される構造を有
するポリマーの具体例を示す。ただし、これらは本発明
の内容を限定するものではない。 (具体例) (註)数値はポリシラン(a)の中の最初の( )内の
種に対する2番目の ()内の種のモル比を示す。
Specific examples of the polymer having the structure represented by the general formula (f) are shown below. However, these do not limit the content of the present invention. (Concrete example) (Note) The numerical value indicates the molar ratio of the species in the second () to the species in the first () in the polysilane (a).

【0078】その他の画像形成層の各構成成分につき、
順次説明する。 [(A)赤外線吸収剤]本発明の目的は、赤外線を発す
るレーザで画像記録することである。このためには、赤
外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤
は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。
この際発生した熱により、ラジカル発生剤が分解し、ラ
ジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸
収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大を
有する染料又は顔料である。
For each of the other components of the image forming layer,
This will be explained sequentially. [(A) Infrared absorber] An object of the present invention is to record an image with a laser emitting infrared rays. For this purpose, it is essential to use an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared rays into heat.
The heat generated at this time decomposes the radical generator to generate radicals. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm.

【0079】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dyes, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Handbook of Dyes" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. Is mentioned.

【0080】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes are, for example, JP-A-5
Cyanine dyes described in JP-A No. 8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and JP-A-58-1736.
96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
Methine dyes described in Japanese Patent Application No. 94595, JP-A-Sho 5
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, JP-A-58-1
Squarylium dyes described in No. 12792,
Examples thereof include cyanine dyes described in British Patent 434,875.

【0081】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
The near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
Trimethine thiapyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,327,169, JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363 and 59-11363.
-84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fair 5-13
The pyrylium compounds disclosed in Nos. 514 and 5-19702 are also preferably used.

【0082】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げる
ことができる。これらの染料のうち特に好ましいものと
しては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウ
ム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、
シアニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示さ
れるシアニン色素が最も好ましい。
Another preferable example of the dye is the compound of formula (I) in US Pat. No. 4,756,993.
The near infrared absorbing dye described as (II) can be mentioned. Of these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. further,
Cyanine dyes are preferable, and cyanine dyes represented by the following general formula (I) are most preferable.

【0083】[0083]

【化29】 [Chemical 29]

【0084】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R61およびR62は、それぞれ独立に、
炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像形成層塗
布液の保存安定性から、R61およびR62は、炭素原子数
2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、
61とR62とは互いに結合し、5員環または6員環を形
成していることが特に好ましい。
In the general formula (I), X 1 is a halogen atom,
Alternatively, it represents X 2 -L 1 . Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 61 and R 62 are each independently
A hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is shown. From the viewpoint of storage stability of the coating solution for the image forming layer, R 61 and R 62 are preferably a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms.
It is particularly preferable that R 61 and R 62 are bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

【0085】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R63、R64は、それぞれ
同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良
い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい
置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R65、R
66、R67およびR68は、それぞれ同じでも異なっていて
も良く、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水
素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子で
ある。また、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R61
〜R68のいずれかにスルホ基が置換されている場合は、
1-は必要ない。好ましいZ1-は、画像形成層塗布液の
保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テ
トラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェ
ートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ま
しくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェー
トイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2, which may be the same or different, each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of preferable substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 63 and R 64 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group and a sulfo group. R 65 , R
66 , R 67 and R 68, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, hydrogen atom is preferable. Z 1− represents a counter anion. However, R 61
When any of R 68 is substituted with a sulfo group,
Z 1- is not needed. Preferred Z 1− is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion from the storage stability of the image forming layer coating solution, and a perchlorate ion is particularly preferred. , Hexafluorophosphate ion, and arylsulfonate ion.

【0086】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特開2001−133969号公報の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) which can be preferably used in the present invention are described in paragraph No. [0] of JP-A No. 2001-133969.
Examples thereof include those described in [017] to [0019].

【0087】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
The pigment used in the present invention includes
Commercial pigment and color index (CI) handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
The pigments described in 1. can be used.

【0088】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer bound dyes may be mentioned. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, fluorescent pigment, inorganic pigment, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0089】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above surface treatment method is "property and application of metal soap" (Koushobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0090】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像形成層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像画
像形成層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of. Particle size of pigment is 0.01μ
When it is less than m, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the coating liquid for the image forming layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the image forming layer.

【0091】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, etc. can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. For details, see "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1
986).

【0092】これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加して
もよいが、ネガ型平版印刷版原版を作成した際に、画像
形成層の波長760nm〜1200nmの範囲における
吸収極大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあるこ
とが好ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くな
る傾向がある。光学濃度は前記赤外線吸収剤の添加量と
記録層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度
は両者の条件を制御することにより得られる。記録層の
光学濃度は常法により測定することができる。測定方法
としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾
燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適
宜決定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度
計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上
に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げら
れる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as the other components, or may be added to another layer provided, but when the negative lithographic printing plate precursor is prepared The optical density at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the image forming layer is preferably 0.1 to 3.0. If it is out of this range, the sensitivity tends to be low. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorber added and the thickness of the recording layer, the predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, a transparent or white support, a coating amount after drying to form a recording layer having a thickness appropriately determined in the range necessary for a lithographic printing plate, with a transmission type optical densitometer Examples thereof include a measuring method and a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum and measuring the reflection density.

【0093】(B)ラジカル発生剤 本発明において用いられるラジカル発生剤は、300n
mより短波長に吸収極大を有し、(A)赤外線吸収剤と
組み合わせて用い、赤外線レーザを照射した際にラジカ
ルを発生する化合物を指す。ラジカル発生剤としては、
オニウム塩、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合
物、キノンジアジドなどが挙げられるが、オニウム塩が
高感度であり、好ましい。本発明においてラジカル重合
開始剤として好適に用い得るオニウム塩について説明す
る。好ましいオニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジ
アゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明に
おいて、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジ
カル重合の開始剤として機能する。本発明において好適
に用いられるオニウム塩は、下記一般式(III)〜
(V)で表されるオニウム塩である。
(B) Radical Generator The radical generator used in the present invention is 300 n
A compound that has an absorption maximum at a wavelength shorter than m and is used in combination with (A) an infrared absorber to generate a radical when irradiated with an infrared laser. As a radical generator,
Examples thereof include onium salts, peroxides, azo-based polymerization initiators, azide compounds, and quinonediazides, but onium salts are preferred because they have high sensitivity. The onium salt that can be preferably used as the radical polymerization initiator in the present invention will be described. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as an acid generator but as an initiator of radical polymerization. The onium salt preferably used in the present invention is represented by the following general formula (III) to
It is an onium salt represented by (V).

【0094】[0094]

【化30】 [Chemical 30]

【0095】式(III)中、Ar11とAr12は、それ
ぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20
個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を
有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、
ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原
子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12
個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロ
ゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレート
イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびス
ルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。
In formula (III), Ar 11 and Ar 12 each independently have 20 carbon atoms which may have a substituent.
Not more than 10 aryl groups are shown. When the aryl group has a substituent, a preferable substituent is a halogen atom,
Nitro group, alkyl group having 12 or less carbon atoms, alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or 12 carbon atoms
Up to and including 4 aryloxy groups. Z 11 − represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and preferably a perchlorate ion and a hexafluorophosphate ion. An ion and an aryl sulfonate ion.

【0096】式(IV)中、Ar21は、置換基を有して
いても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭
素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以
下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオ
キシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭
素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数
12個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12
個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z 21-はZ
11-と同義の対イオンを表す。
In formula (IV), Artwenty oneHas a substituent
It represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may be present.
Preferred substituents are halogen atom, nitro group, carbon
Alkyl group with 12 or less elementary atoms, 12 or less carbon atoms
The lower alkoxy group, arylo having 12 or less carbon atoms
Xy group, alkylamino group having 12 or less carbon atoms, charcoal
Dialkylamino group having 12 or less elementary atoms, number of carbon atoms
12 or less arylamino groups or 12 carbon atoms
Up to and including 4 diarylamino groups. Z twenty one-Is Z
11-Represents a counter ion having the same meaning as.

【0097】式(V)中、R71、R72及びR73は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。
In the formula (V), R 71 , R 72 and R 73, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

【0098】本発明において、ラジカル発生剤として好
適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、
特開2001−133969号公報の段落番号[003
0]〜[0033]に記載されたものを挙げることがで
きる。
In the present invention, specific examples of the onium salt which can be preferably used as the radical generator include:
Paragraph number [003 of JP 2001-133969 A
[0] to [0033] may be mentioned.

【0099】本発明において用いられるラジカル発生剤
は、極大吸収波長が400nm以下であることが好まし
く、さらに360nm以下であることが好ましい。この
ように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印
刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。
The maximum absorption wavelength of the radical generator used in the present invention is preferably 400 nm or less, more preferably 360 nm or less. By thus setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the lithographic printing plate precursor can be handled under a white light.

【0100】これらのラジカル発生剤は、画像形成層塗
布液の全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは
0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の
割合で画像形成層塗布液中に添加することができる。添
加量が0.1質量%未満であると感度が低くなり、また
50質量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生す
る。これらのラジカル発生剤は、1種のみを用いても良
いし、2種以上を併用しても良い。また、これらのラジ
カル発生剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、
別の層を設けそこへ添加してもよい。
These radical generators are contained in an amount of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content of the coating liquid for the image forming layer. It can be added to the coating solution for the image forming layer. If the amount added is less than 0.1% by mass, the sensitivity will be low, and if it exceeds 50% by mass, stains will occur on the non-image area during printing. These radical generators may be used alone or in combination of two or more. Further, these radical generators may be added to the same layer as other components,
Another layer may be provided and added to it.

【0101】[(C)ラジカル重合性化合物]本発明に
使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。こ
の様な化合物群は当該産業分野において広く知られるも
のであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用い
る事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。
[(C) Radical Polymerizable Compound] The radical polymerizable compound used in the present invention is a radical polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has a terminal ethylenically unsaturated bond. At least 1
, Preferably two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and these compounds can be used in the invention without particular limitation. These have a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof. Examples of the monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and their esters and amides. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric amine compound are used. Further, unsaturated carboxylic acid esters having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group and a mercapto group, monofunctional or polyfunctional isocyanates with amides, addition reaction products with epoxies, monofunctional or polyfunctional, or A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols, and halogens. A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving group such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
Further, as another example, it is also possible to use a compound group in which unsaturated phosphonic acid, styrene or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid.

【0102】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特開2001−
133969号公報の段落番号[0037]〜[004
2]に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。
Specific examples of acrylic acid ester, methacrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester and maleic acid ester which are radical polymerizable compounds which are esters of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid. An example is JP-A-2001-
Paragraph Nos. [0037] to [004 of Japanese Patent No. 133969
2], and these can also be applied to the present invention.

【0103】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号各公報記載の脂肪族アルコ
ール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭
59−5241号、特開平2−226149号各公報記
載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−16561
3号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用い
られる。
Examples of other esters include, for example, Japanese Examined Patent Publication Nos. 46-27926 and 51-47334,
The aliphatic alcohol-based esters described in JP-A-57-196231 and the aromatic skeletons described in JP-A-59-5240, JP-A-59-5241 and JP-A-2-226149 are used. Having, JP-A-1-16561
Those containing an amino group described in JP-A No. 3 are also preferably used.

【0104】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriamine tris acrylamide, xylylene bis acrylamide, and xylylene bis methacrylamide. Examples of other preferable amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

【0105】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性
ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。
Further, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, Japanese Examined Patent Publication No.
In a molecule obtained by adding a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (VI) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-A-8-41708, Examples thereof include vinyl urethane compounds containing one or more polymerizable vinyl groups.

【0106】一般式(VI)CH2=C(R81)COO
CH2CH(R82)OH (ただし、R81およびR82は、HまたはCH3を示
す。)
General formula (VI) CH 2 ═C (R 81 ) COO
CH 2 CH (R 82 ) OH (provided that R 81 and R 82 represent H or CH 3 ).

【0107】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。
Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and JP-B-58-
49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62
The urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0108】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
するラジカル重合性化合物類を用いても良い。
Further, radically polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule, which are described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238, may be used. good.

【0109】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1
984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして
紹介されているものも使用することができる。
Another example is JP-A-48-641.
No. 83, Japanese Patent Publication No. 49-43191, Japanese Patent Publication No. 52-30
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in Japanese Patent No. 490 and each publication can be given. Also,
JP-B-46-43946, JP-B1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
The vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be used. In some cases, the structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesive Association magazine, vol. 20, No. 7, pages 300-308 (1
Those introduced as photo-curable monomers and oligomers in (984) can also be used.

【0110】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以
上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性
基を有する化合物(例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等)を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
無い場合がある。また、画像形成層中の他の成分(例え
ばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶
性、分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使
用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用
や、2種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させ
うることがある。また、支持体、オーバーコート層等の
密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択すること
もあり得る。画像記録層中のラジカル重合性化合物の配
合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多す
ぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像記
録層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録層
成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液から
の析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点か
ら、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの
場合、組成物全成分に対して5〜80質量%、好ましく
は20〜75質量%である。また、これらは単独で用い
ても2種以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合
性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解
像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から
適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場
合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法
も実施しうる。
Regarding these radically polymerizable compounds,
The details of the method of use, such as what kind of structure is used, whether it is used alone or in combination, and how much is added, can be arbitrarily set according to the performance design of the final recording material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large content of unsaturated groups per molecule is preferable, and in many cases, bifunctional or more is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, a compound having a trifunctional or higher functionality is preferable, and further, a compound having different functional numbers and different polymerizable groups (for example, an acrylic ester compound, a methacrylic ester compound Compounds, styrenic compounds, etc.) are used in combination to control both photosensitivity and strength. Large molecular weight compounds and highly hydrophobic compounds have excellent sensitivity and film strength, but
It may not be preferable in terms of development speed and precipitation in a developing solution. In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the image forming layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) are important factors in selecting and using the radical polymerization compound. In some cases, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more compounds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesiveness of the support, the overcoat layer and the like. Regarding the blending ratio of the radical-polymerizable compound in the image recording layer, the larger the amount, the more advantageous in terms of sensitivity. However, if the amount is too large, undesired phase separation may occur or the adhesiveness of the image recording layer may affect the production process. May occur (for example, transfer of recording layer components, manufacturing failure due to adhesion), or precipitation from a developing solution. From these viewpoints, in many cases, the preferable compounding ratio of the radically polymerizable compound is 5 to 80% by mass, preferably 20 to 75% by mass based on all the components of the composition. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the method of using the radically polymerizable compound, the degree of inhibition of polymerization with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface tackiness, etc., an appropriate structure, formulation, and addition amount can be arbitrarily selected. Depending on the case, a layer constitution / coating method such as undercoating or topcoating can be carried out.

【0111】[(D)バインダーポリマー]本発明にお
いては、さらにバインダーポリマーを使用する。バイン
ダーポリマーとしては線状有機ポリマーを用いることが
好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、
どれを使用しても構わない。好ましくは水現像あるいは
弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱ア
ルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが
選択される。線状有機ポリマーは、画像形成層を形成す
るための皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ
水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使
用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水
現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとして
は、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例え
ば特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−2595
7号、特開昭54−92723号、特開昭59−538
36号、特開昭59−71048号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体
に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
[(D) Binder Polymer] In the present invention, a binder polymer is further used. A linear organic polymer is preferably used as the binder polymer. As such a "linear organic polymer",
It doesn't matter which one you use. A linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is preferably selected to enable water development or weak alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent for forming an image forming layer but also as a developer such as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, water development becomes possible by using a water-soluble organic polymer. As such a linear organic polymer, a radical polymer having a carboxylic acid group in its side chain, for example, JP-A-59-44615 and JP-B-54-34327.
No. 58-12577 / 54-2595
7, JP-A-54-92723, and JP-A-59-538.
36, JP-A-59-71048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partial Examples include esterified maleic acid copolymers. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in its side chain. In addition to these, it is useful to add a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group.

【0112】特にこれらの中で、ベンジル基またはアリ
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。
Of these, a (meth) acrylic resin having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in its side chain is particularly preferable because it has an excellent balance of film strength, sensitivity and developability.

【0113】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特開平11−352691号公報等に記載される酸基を
含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強
度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利であ
る。
Further, Japanese Patent Publication No. 7-2004 and Japanese Patent Publication No. 7-2004
-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. 1-271741,
The urethane-based binder polymer containing an acid group described in JP-A No. 11-352691, etc., is very excellent in strength and is advantageous in terms of printing durability and low exposure suitability.

【0114】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。
In addition to these, polyvinylpyrrolidone and polyethylene oxide are useful as the water-soluble linear organic polymer. Further, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. are also useful for increasing the strength of the cured film.

【0115】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは5000以上であり、さらに
好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは1000以上であり、さらに好まし
くは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。これらのポリマ
ーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフト
ポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマーである
ことが好ましい。
The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1,000 or more, further preferably Is in the range of 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10. These polymers may be random polymers, block polymers, graft polymers, etc., but are preferably random polymers.

【0116】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。本発明で
使用されるポリマーを合成する際に用いられるラジカル
重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等
公知の化合物が使用できる。
The polymer used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method. As the solvent used in the synthesis, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-
Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate,
Dimethyl sulfoxide, water, etc. may be mentioned. These solvents may be used alone or in admixture of two or more. As the radical polymerization initiator used when synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0117】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、画像形成層塗布液の全固形分に対し20〜95質量
%、好ましくは30〜90質量%、より好ましくは40
〜85質量%の割合で画像形成層中に添加される。添加
量が20質量%未満の場合は、画像形成した際、画像部
の強度が不足する。また添加量が95質量%を越える場
合は、画像形成されない。またラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物と線状有機ポリマ
ーは、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好まし
い。
The binder polymers used in the present invention may be used alone or as a mixture. These polymers are 20 to 95% by mass, preferably 30 to 90% by mass, and more preferably 40% by mass based on the total solid content of the coating liquid for the image forming layer.
It is added to the image forming layer in a proportion of 85% by mass. If the addition amount is less than 20% by mass, the strength of the image area will be insufficient when an image is formed. If the addition amount exceeds 95% by mass, no image is formed. The weight ratio of the compound having a radical-polymerizable ethylenically unsaturated double bond and the linear organic polymer is preferably 1/9 to 7/3.

【0118】[画像形成層のその他の成分]本発明で
は、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添
加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染
料を画像の着色剤として使用することができる。具体的
には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#10
3、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。
[Other Components of Image Forming Layer] In the present invention, various compounds other than these may be added, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for images. Specifically, Oil Yellow # 101 and Oil Yellow # 10
3, oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-50
5 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., and JP-A-62-29324.
The dyes described in No. 7 can be mentioned. Further, pigments such as phthalocyanine-based pigments, azo-based pigments, carbon black and titanium oxide can also be preferably used.

【0119】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、画像形成層塗布液全固形分に対
し、0.01〜10質量%の割合である。
It is preferable to add these coloring agents because it is easy to distinguish the image area from the non-image area after the image formation. The addition amount is 0.01 to 10% by mass based on the total solid content of the coating liquid for the image forming layer.

【0120】また、本発明においては、画像形成層塗布
液の調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能な
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重
合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加すること
が望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N
−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げ
られる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対
して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必
要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘ
ン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添
加して、塗布後の乾燥の過程で画像形成層の表面に偏在
させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物
の約0.1質量%〜約10質量%が好ましい。
Further, in the present invention, a small amount of thermal polymerization is carried out in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond during preparation or storage of the coating solution for the image forming layer. It is desirable to add an inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-).
Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N
-Phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 mass% to about 5 mass% with respect to the weight of the entire composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the image forming layer during the drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1% by mass to about 10% by mass of the total composition.

【0121】また、本発明における画像形成層塗布液中
には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特
開昭62−251740号や特開平3−208514号
に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭5
9−121044号、特開平4−13149号に記載さ
れているような両性界面活性剤を添加することができ
る。
Further, in the coating solution for the image forming layer in the present invention, in order to extend the stability of the treatment against the developing conditions, the non-coating liquid as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 is used. Ionic surfactant, JP-A-5
Amphoteric surfactants such as those described in JP-A-9-121044 and JP-A-4-13149 can be added.

【0122】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像
形成層塗布液中に占める割合は、0.05〜15質量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride and polyoxyethylene nonylphenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N, N-. Betaine type (for example,
Examples of the brand name include Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd. The ratio of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the coating liquid for the image forming layer is 0.05 to 15% by mass.
Is preferable, and more preferably 0.1 to 5 mass%.

【0123】さらに、本発明に係る画像形成層塗布液中
には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可
塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、
クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン
酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。
Further, a plasticizer is added to the coating liquid for the image forming layer according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol,
Tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

【0124】本発明の平版印刷版原版を製造するには、
通常、画像形成層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶
かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合
して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固
形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
To produce the lithographic printing plate precursor according to the invention,
Usually, each of the above components required for the image forming layer coating solution may be dissolved in a solvent and coated on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy. Ethane, methyl lactate, ethyl lactate,
Examples thereof include N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene and water, but are not limited thereto. Absent. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.

【0125】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画
像形成層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、
平版印刷版原版についていえば一般的に0.5〜5.0
g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方
法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、
見かけの感度は大になるが、画像記録の機能を果たす画
像形成層の皮膜特性は低下する。
The coating amount (solid content) of the image-forming layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use,
As for the lithographic printing plate precursor, it is generally 0.5 to 5.0.
g / m 2 is preferred. Various methods can be used for coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases,
Although the apparent sensitivity is high, the film properties of the image forming layer that functions as an image recording are deteriorated.

【0126】本発明に係る画像形成層塗布液には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−
170950号に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像形成層の材料固形分中0.01〜1質量%、さらに好
ましくは0.05〜0.5質量%である。
The coating solution for the image forming layer according to the present invention contains a surfactant for improving the coating property, for example, JP-A-62-62.
Fluorosurfactants such as those described in 170950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, based on the solid content of the material of all the image forming layers.

【0127】〔オーバーコート層〕光重合層の重合を阻
害する酸素を遮断するため、光重合層の上に、酸素遮断
性オーバーコート層を設けてもよい。オーバーコート層
としては、セルロース、ポリビニルアルコール及びその
誘導体、ポリエステル、ポリフッ化ビニリデン等の酸素
遮断性ポリマーの薄膜を設けることができる。
[Overcoat Layer] An oxygen-blocking overcoat layer may be provided on the photopolymerizable layer in order to block oxygen that inhibits polymerization of the photopolymerizable layer. As the overcoat layer, a thin film of an oxygen barrier polymer such as cellulose, polyvinyl alcohol and its derivatives, polyester, or polyvinylidene fluoride can be provided.

【0128】〔支持体〕本発明の方法に係るネガ型画像
形成材料は、前記画像形成層を支持体上に塗布して形成
される。ここで用い得る支持体としては、寸度的に安定
な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラス
チック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、
アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム
(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金
属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチック
フィルム等が例示される。好ましい支持体としては、ポ
リエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。
[Support] The negative image-forming material according to the method of the present invention is formed by coating the above-mentioned image-forming layer on a support. The support that can be used here is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material, and examples thereof include paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate ( For example,
Aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate,
Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals, and the like. A preferable support includes a polyester film or an aluminum plate.

【0129】本発明の平版印刷版原版に使用する支持体
としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れた
アルミニウム板を使用することが好ましい。この目的に
供されるアルミニウム材質としては、JIS 1050
材、JIS 1100材、JIS 1070材、Al−
Mg系合金、Al−Mn系合金、Al−Mn−Mg系合
金、Al−Zr系合金、Al−Mg−Si系合金などが
挙げられる。
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to use an aluminum plate which is lightweight and has excellent surface treatment property, processability and corrosion resistance. The aluminum material used for this purpose is JIS 1050.
Material, JIS 1100 material, JIS 1070 material, Al-
Examples thereof include Mg-based alloys, Al-Mn-based alloys, Al-Mn-Mg-based alloys, Al-Zr-based alloys, and Al-Mg-Si-based alloys.

【0130】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む前記の如き合金板であり、更にアルミニウムがラミネ
ートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は10質量%以下である。アルミニウム板として
は、純アルミニウムが好ましいが、完全に純粋なアルミ
ニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元
素を含有するものでもよい。このように、アルミニウム
板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公
知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することが
できる。前記アルミニウム板の厚みとしては、およそ
0.1〜0.6mm程度が好ましく、0.15〜0.4
mmがより好ましく、0.2〜0.3mmが特に好まし
い。
The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and a slight amount of a foreign element as described above, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy are silicon,
Examples include iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10 mass% or less. As the aluminum plate, pure aluminum is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and thus may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate is not specified, and an aluminum plate which is a publicly known and conventionally used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate is preferably about 0.1 to 0.6 mm, and 0.15 to 0.4 mm.
mm is more preferable, and 0.2 to 0.3 mm is particularly preferable.

【0131】前記アルミニウム板を粗面化するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば
界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによ
る脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化
処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法により行
われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研
磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を
用いることができる。また、電気化学的な粗面化法とし
ては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行
う方法がある。
Before the surface roughening of the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the aluminum plate is carried out by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically melting the surface and a method of selectively melting the surface chemically. It is performed by the method. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. As an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution.

【0132】この様に粗面化されたアルミニウム板は、
必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理さ
れた後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。陽極酸化による、陽極酸
化皮膜の量は、1.0g/m 2以上が好ましい。陽極酸
化皮膜の量が、1.0g/m2未満の場合には、耐刷性
が不十分であったり、平版印刷版として用いた場合に
は、非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分
にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる
ことがある。前記陽極酸化処理を施された後、前記アル
ミニウムの表面は、必要に応じて親水化処理が施され
る。また、このようなアルミニウム支持体は陽極酸化処
理後に有機酸またはその塩による処理または、画像形成
層塗布の下塗り層を適用して用いることができる。
The aluminum plate thus roughened is
Alkaline etching and neutralization as necessary
If desired, the surface water retention and abrasion resistance can be increased if desired.
Therefore, an anodic oxidation treatment is performed. Anodic acid by anodic oxidation
The amount of chemical film is 1.0 g / m 2The above is preferable. Anodic acid
The amount of chemical film is 1.0 g / m2Durability if less than
Is insufficient or when used as a lithographic printing plate
Is more likely to be scratched on the non-image area.
So-called "scratch and dirt" that ink adheres to the surface easily occurs
Sometimes. After being subjected to the anodizing treatment, the
The surface of minium is optionally hydrophilized.
It Further, such an aluminum support is anodized.
After processing, treatment with organic acid or its salt or image formation
A subbing layer for layer coating can be applied and used.

【0133】なお支持体と画像形成層との密着性を高め
るための中間層を設けてもよい。密着性の向上のために
は、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウ
ムに吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の
厚さは任意であり、露光した時に、上層の画像形成層と
均一な結合形成反応を行い得る厚みでなければならな
い。通常、乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割
合がよく、5〜40mg/m2が特に良好である。中間
層中におけるジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100
%、好ましくは60〜100%である。
An intermediate layer may be provided to enhance the adhesion between the support and the image forming layer. In order to improve the adhesion, the intermediate layer is generally made of a diazo resin, a phosphoric acid compound adsorbed on aluminum, or the like. The thickness of the intermediate layer is arbitrary, and it must be a thickness capable of performing a uniform bond forming reaction with the upper image forming layer when exposed. Usually, a coating rate of about 1 to 100 mg / m 2 as a dry solid is good, and 5 to 40 mg / m 2 is particularly good. The use ratio of the diazo resin in the intermediate layer is 30 to 100.
%, Preferably 60 to 100%.

【0134】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合
物および特開平6−35174号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
After the surface of the support is subjected to the above treatment or undercoating, a back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating layer made of a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is used. It is preferably used.

【0135】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと画像形成層と密着性が低下
し、著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより
大きい場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに
支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜
0.65であり、0.15より白い場合、画像露光時の
ハレーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしま
い、0.65より黒い場合、現像後の検版作業において
画像が見難くく、著しく検版性が悪いものとなってしま
う。
A preferable characteristic of the support for a lithographic printing plate is a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. If it is less than 0.10 μm, the adhesion to the image forming layer is lowered, and the printing durability is remarkably reduced. If it is larger than 1.2 μm, the stain resistance during printing will deteriorate. Further, the color density of the support is 0.15 as the reflection density value.
If it is 0.65 and is whiter than 0.15, halation during image exposure is too strong to hinder image formation, and if it is blacker than 0.65, the image is difficult to see in the plate inspection work after development, The plate inspection property is remarkably poor.

【0136】以上のようにして、所定の処理を行って得
られた支持体上に、先に述べた画像形成層さらには、表
面保護層、バックコート層等の他の任意の層を形成する
ことで、本発明の方法を適用しうるネガ型画像形成材料
を得ることができる。本発明の方法では、この画像形成
材料に、赤外線レーザで画像記録を行う。また、紫外線
ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能であ
る。本発明においては、波長760nmから1200n
mの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザによ
り画像露光されることが好ましい。レーザの出力は10
0mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マル
チビームレーザデバイスを用いることが好ましい。ま
た、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であること
が好ましい。記録材料に照射されるエネルギーは10〜
300mJ/cm2であることが好ましい。
On the support obtained by carrying out the predetermined treatment as described above, the above-mentioned image forming layer, and further any other layer such as a surface protective layer and a back coat layer are formed. Thus, a negative image-forming material to which the method of the present invention can be applied can be obtained. In the method of the present invention, an image is recorded on this image forming material with an infrared laser. Also, thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is possible. In the present invention, a wavelength of 760 nm to 1200 n
Image exposure is preferably performed by a solid-state laser or a semiconductor laser that emits m infrared rays. Laser output is 10
It is preferably 0 mW or more, and it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is 10-
It is preferably 300 mJ / cm 2 .

【0137】〔現像液及び補充液〕現像液及び補充液と
しては、pH9〜14の範囲のアルカリ性水溶液が用い
られる事が好ましい。アルカリ性水溶液作成のために用
いられるアルカリ性化合物としては、アルカリ金属水酸
化物、アルカリ土類金属水酸化物、珪酸塩、アルカリ金
属の炭酸塩及び炭酸水素塩、アルカリ土類金属の炭酸塩
及び炭酸水素塩、アンモニウムの炭酸塩及び炭酸水素
塩、アミン類等の有機塩基等を挙げることができる。ま
た、各種界面活性剤(ノニオン性、カチオン性、アニオ
ン性)を含有させることも有用である。
[Developer and Replenisher] As the developer and replenisher, it is preferable to use an alkaline aqueous solution having a pH range of 9 to 14. Examples of the alkaline compound used for preparing the alkaline aqueous solution include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, silicates, alkali metal carbonates and hydrogen carbonates, alkaline earth metal carbonates and hydrogen carbonates. Examples thereof include salts, ammonium carbonates and hydrogen carbonates, and organic bases such as amines. It is also useful to incorporate various surfactants (nonionic, cationic, anionic).

【0138】この画像形成材料は赤外線レーザにより露
光した後、先に詳細に述べた本発明特有の弱アルカリ性
水溶液にて現像される。以上記述した現像液及び補充液
を用いて現像処理された画像形成材料は、所望により水
洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガム
や澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理されたのち、平
版印刷版として使用される。
This image-forming material is exposed with an infrared laser and then developed with the weak alkaline aqueous solution peculiar to the present invention described in detail above. The image-forming material developed using the developer and replenisher described above is optionally post-treated with washing water, a rinse solution containing a surfactant, a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. Later used as a lithographic printing plate.

【0139】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。本発明の方法によれば、経時
的な炭酸ガスによる現像性の低下や現像液に起因する耐
刷性の低下の懸念がないため、これらの自動現像機のい
ずれにも本発明の方法を好適に適用することができる。
In recent years, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in the plate making / printing industry in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate material, each processing liquid tank, and a spray device. Each of the processing liquids pumped up is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate material is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a treatment liquid tank filled with the treatment liquid for treatment. In such automatic processing,
It is possible to carry out the processing while supplementing the replenishing solution to each processing solution according to the processing amount, operating time and the like. Also, the electric conductivity can be detected by a sensor and automatically replenished. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied. According to the method of the present invention, there is no concern about deterioration of developability due to carbon dioxide gas over time and deterioration of printing durability due to a developing solution. Therefore, the method of the present invention is suitable for any of these automatic developing machines. Can be applied to.

【0140】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum, if desired. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before printing
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-adjusting solution as described in JP-A-1859 and JP-A-61-159655.

【0141】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
As the method, a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution may be applied onto the lithographic printing plate, or
A method in which the printing plate is dipped in a vat filled with a surface-adjusting solution to be applied, or an application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results. The amount of the surface conditioning solution applied is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is suitable.

【0142】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary and then burned with a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature with a burning processor: BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and the heating time in this case depend on the kinds of components forming the image, but are within the range of 180 to 300 ° C.
The range of up to 20 minutes is preferred.

【0143】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。本発明の
画像形成方法によって得られた平版印刷版はオフセット
印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate which has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface-adjusting solution containing a water-soluble polymer compound or the like. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by the image forming method of the present invention is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0144】[実施例]以下、実施例により、本発明を
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 [支持体の作成]99.5%以上のアルミニウムと、F
e 0.30%、Si 0.10%、Ti0.02%、C
u 0.013%を含むJIS A1050合金の溶湯を
清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中
の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理
し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳
造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの
鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化
してしまわないように550℃で10時間均質化処理を
行った。 次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉
中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行っ
て、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧
延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中
心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その
後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにか
けた。
[Examples] The present invention is described in detail below by referring to Examples, but the present invention is not limited thereto. [Preparation of support] 99.5% or more of aluminum and F
e 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02%, C
A molten JIS A1050 alloy containing 0.013% of u was subjected to a cleaning treatment and cast. For the cleaning treatment, degassing treatment was performed to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, and ceramic tube filter treatment was performed. The casting method was a DC casting method. The solidified ingot having a plate thickness of 500 mm was chamfered by 10 mm from the surface, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so as not to coarsen the intermetallic compound. Then, after hot rolling at 400 ° C., intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, cold rolling was performed to obtain an aluminum rolled plate having a plate pressure of 0.30 mm. The center line average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm by controlling the roughness of the rolling roll. Then, a tension leveler was applied to improve the flatness.

【0145】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃で30
秒間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃で30
秒間中和し、スマット除去処理を行った。
Next, a surface treatment was carried out to obtain a lithographic printing plate support. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, a 10% aqueous solution of sodium aluminate was added at 50 ° C for 30 minutes.
Degreasing for 30 seconds, 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ℃ 30
Neutralization was performed for 2 seconds, and smut removal treatment was performed.

【0146】次いで支持体と画像形成層の密着性を良好
にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表
面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1
%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を4
5℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間
接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティ
ー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/d
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10
%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃で30秒間エッチン
グ処理を行い、30%%硫酸水溶液で50℃で30秒間
中和し、スマット除去処理を行った。
Then, in order to improve the adhesion between the support and the image forming layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment was carried out to roughen the surface of the support. 1
% Aqueous solution containing 5% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate
While keeping the temperature at 5 ° C., while flowing the aluminum web in the aqueous solution, an anode side electricity quantity of 240 C / d with an alternating waveform of a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect power supply cell.
Electrolytic graining was performed by giving m 2 . Then 10
% Sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and 30 %% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds for neutralization to remove smut.

【0147】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。
Further, in order to improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. Anodized film of 2.5 g / m 2 is obtained by using a 20% aqueous solution of sulfuric acid as an electrolyte at 35 ° C. and carrying out an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power supply cell while carrying the aluminum web through the electrolyte. It was created.

【0148】この後印刷版非画像部としての親水性を確
保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸
ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接
触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。S
iの付着量は10mg/m2であった。以上により作成
した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmで
あった。
After that, a silicate treatment was carried out in order to secure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. The treatment was carried out by keeping a 1.5% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at 70 ° C. so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds, and further washing with water. S
The amount of i deposited was 10 mg / m 2 . Ra (center line surface roughness) of the support prepared as described above was 0.25 μm.

【0149】[下塗り]次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は10mg/m2であった。
[Undercoat] Next, the following undercoat solution was applied to the aluminum support with a wire bar and dried at 90 ° C. for 30 seconds using a warm air dryer. The coated amount after drying was 10 mg / m 2 .

【0150】 <下塗り液> ・エチルメタクリレートと2−アクリルアミド−2−メチル−1− プロパンス ルホン酸ナトリウム塩のモル比75:15の共重合体 0.1g ・2−アミノエチルホスホン酸 0.1g ・メタノール 50g ・イオン交換水 50g[0150] <Undercoat liquid> ・ Ethyl methacrylate and 2-acrylamido-2-methyl-1-propanus 0.1 g of a copolymer of sodium ruphonate with a molar ratio of 75:15 ・ 2-Aminoethylphosphonic acid 0.1 g ・ Methanol 50g ・ Ion-exchanged water 50g

【0151】[画像形成層]次に、下記画像形成層塗布
液[P]を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム板
にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて1
15℃で45秒間乾燥して画像形成層を形成し、ネガ型
平版印刷版原版[P−1]を得て実施例1とした。乾燥
後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であっ
た。
[Image Forming Layer] Next, the following image forming layer coating liquid [P] was prepared and applied to the above-mentioned undercoated aluminum plate using a wire bar, and then dried with a warm air dryer.
An image forming layer was formed by drying at 15 ° C. for 45 seconds to obtain a negative lithographic printing plate precursor [P-1], which was referred to as Example 1. The coating amount after drying was in the range of 1.2 to 1.3 g / m 2 .

【0152】 <画像形成層塗布液[P]> ・[IR−6] 0.08g ・オニウム塩[OI−6] 0.30g ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 1.00g ・アリルメタクリレートとメタクリル酸の モル比80:20の共重合体 (重量 平均分子量12万) 1.00g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g ・紫外線重合開始基を有するポリマー(表1) 0.3g[0152] <Image forming layer coating liquid [P]> ・ [IR-6] 0.08 g Onium salt [OI-6] 0.30 g ・ Dipentaerythritol hexaacrylate 1.00 g -Copolymer of allyl methacrylate and methacrylic acid in a molar ratio of 80:20 (weight Average molecular weight 120,000) 1.00g ・ Victoria Pure Blue Naphthalene Sulfonate 0.04g ・ Fluorosurfactant 0.01g (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ・ Methyl ethyl ketone 9.0 g ・ Methanol 10.0g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0 g ・ Polymer having ultraviolet polymerization initiation group (Table 1) 0.3 g

【0153】[0153]

【化31】 [Chemical 31]

【0154】[露光]得られたネガ型平版印刷版原版
[P−1]を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載
したCreo社製Trendsetter3244VF
Sにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版
面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dp
iの条件で露光した。
[Exposure] The obtained negative type lithographic printing plate precursor [P-1] was used as a Trendsetter 3244VF manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
At S, output is 9 W, external drum rotation speed is 210 rpm, plate surface energy is 100 mJ / cm 2 , resolution is 2400 dp.
It was exposed under the conditions of i.

【0155】[現像処理]露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに下記処方の現
像液[1](25℃におけるpH9.9)を用いた。現
像浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を
用いた。なお、以下に示す現像液のpHはいずれも25
℃で測定した結果を示す。
[Development processing] After exposure, development processing was carried out using an automatic processor Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developing solution, a developing solution [1] (pH 9.9 at 25 ° C.) having the following formulation was used for both the charging solution and the replenishing solution. The temperature of the developing bath was 30 ° C. In addition, the finisher
A 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used. In addition, the pH of each of the developing solutions shown below is 25
The results measured at ° C are shown.

【0156】 <現像液[1]> ・炭酸ナトリウムの1水和物 10g ・炭酸水素カリウム 10g ・イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム 15g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 15g ・エチレングリコールモノナフチルエーテル モノスルフェートのナトリウム塩 10g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム 0.1g ・イオン交換水 938.9g[0156] <Developer [1]>  ・ Sodium carbonate monohydrate 10 g ・ Potassium hydrogen carbonate 10g ・ Sodium isopropyl naphthalene sulfonate 15g ・ Sodium dibutylnaphthalene sulfonate 15g ・ Ethylene glycol mononaphthyl ether monosulfate sodium salt                                                                10 g ・ Sodium sulfite 1g ・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium 0.1g ・ Ion-exchanged water 938.9g

【0157】[耐刷性]次に、平版印刷版[P−1]
を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用
いて印刷した。この際、印刷開始後、充分にインキがの
った印刷物をどれだけの枚数得られるかを目視にて評価
した。表1の条件で全面露光を行った。表1から明らか
なように、紫外線重合開始基を有するポリマーを含む画
像形成層を有する光重合型の赤外線感光性平版印刷版原
版を赤外線画像露光し、現像した後、紫外線による全面
露光を行うことによりベタ耐刷性及びハイライト耐刷性
ともに飛躍的に向上した(実施例1〜8)。また、全面露
光時に加熱を行うことによりさらに耐刷性の向上が見ら
れた(実施例9)。一方、全面露光を行わない場合にはベ
タ耐刷性、ハイライト耐刷性はかなり低い結果を示した
(比較例2)。また、全面露光を行った場合であって
も、紫外線重合開始基を有するポリマーを含有しない画
像形成層を用いた場合には、ベタ耐刷性、ハイライト耐
刷性ともに不十分な結果を示した(比較例1)。
[Printing durability] Next, planographic printing plate [P-1]
Was printed using a printing machine Lithrone manufactured by Komori Corporation. At this time, after the start of printing, it was visually evaluated how many sheets of printed matter with sufficient ink could be obtained. The entire surface exposure was performed under the conditions shown in Table 1. As is clear from Table 1, a photopolymerization type infrared-sensitive lithographic printing plate precursor having an image forming layer containing a polymer having an ultraviolet polymerization initiating group is subjected to infrared image exposure, developed, and then exposed to ultraviolet light for the entire surface. Thus, solid printing durability and highlight printing durability were dramatically improved (Examples 1 to 8). Further, it was found that the printing durability was further improved by heating during the whole surface exposure (Example 9). On the other hand, when the entire surface exposure was not performed, the solid printing durability and the highlight printing durability were considerably low (Comparative Example 2). Further, even when the entire surface is exposed, when the image forming layer containing no polymer having an ultraviolet polymerization initiation group is used, both solid printing durability and highlight printing durability show insufficient results. (Comparative example 1).

【0158】[0158]

【表1】 [Table 1]

【0159】上記表1において使用された紫外線重合開
始基含有ポリマーは以下の構造を有する。
The UV polymerization initiating group-containing polymer used in Table 1 above has the following structure.

【0160】[0160]

【化32】 [Chemical 32]

【0161】[0161]

【化33】 [Chemical 33]

【発明の効果】紫外線重合開始基を有するポリマーを含
む画像形成層を露光し、現像した後に紫外線による全面
露光を行う本発明の製版方法により製造された平版印刷
版の耐刷性は飛躍的に向上する。
The printing durability of the lithographic printing plate produced by the plate-making method of the present invention in which the image-forming layer containing a polymer having an ultraviolet polymerization initiation group is exposed, developed and then exposed to the entire surface with ultraviolet rays is dramatically improved. improves.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性支持体上に(A)赤外線吸収
剤、(B)ラジカル発生剤、(C)ラジカル重合性化合
物、(D)バインダーポリマー及び(E)紫外線重合開
始基を有するポリマー、を含有する画像形成層を有する
光重合型の赤外線感光性平版印刷版原版を赤外線画像露
光し、現像した後、紫外線で全面露光することを特徴と
する平版印刷版の製版方法。
1. A polymer having (A) an infrared absorber, (B) a radical generator, (C) a radically polymerizable compound, (D) a binder polymer and (E) an ultraviolet polymerization initiation group on a hydrophilic support. A method for making a lithographic printing plate, which comprises subjecting a photopolymerization type infrared-sensitive lithographic printing plate precursor having an image forming layer containing ## STR3 ## to infrared image exposure, developing and then exposing the whole surface to ultraviolet rays.
【請求項2】 全面露光の光量が画像露光量の少なく
とも10分の1倍であることを特徴とする請求項1に記
載の製版方法。
2. The plate-making method according to claim 1, wherein the light amount of the entire surface exposure is at least 1/10 of the image exposure amount.
【請求項3】 全面露光時、版面温度を30〜150
℃に加熱することを特徴とする請求項1または2に記載
の製版方法。
3. The plate surface temperature is 30 to 150 when the entire surface is exposed.
The plate-making method according to claim 1 or 2, wherein the plate-making method is performed by heating to ℃.
【請求項4】 親水性支持体上に(A)赤外線吸収
剤、(B)ラジカル発生剤、(C)ラジカル重合性化合
物、(D)バインダーポリマー及び(E)紫外線重合開
始基を有するポリマー、を含有する画像形成層を有する
ことを特徴とする平版印刷版原版。
4. A polymer having (A) an infrared absorber, (B) a radical generator, (C) a radically polymerizable compound, (D) a binder polymer and (E) an ultraviolet polymerization initiation group on a hydrophilic support, A planographic printing plate precursor comprising an image forming layer containing
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