JP2001312062A - Image recording material - Google Patents

Image recording material

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JP2001312062A
JP2001312062A JP2000133198A JP2000133198A JP2001312062A JP 2001312062 A JP2001312062 A JP 2001312062A JP 2000133198 A JP2000133198 A JP 2000133198A JP 2000133198 A JP2000133198 A JP 2000133198A JP 2001312062 A JP2001312062 A JP 2001312062A
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JP
Japan
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group
compound
acid
image
image recording
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Application number
JP2000133198A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Fujimaki
一広 藤牧
Tadahiro Sorori
忠弘 曽呂利
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative type image recording material which ensures suppressed ablation in laser scanning in recording, forms a planographic printing plate having high strength of a formed image area and excellent in printing resistance and is adaptable to a heat mode. SOLUTION: The image recording material contains (A) a polyurethane resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (B) a radical polymerizable compound. (C) a photothermal converting agent and (D) a compound forming a radical when subjected to heat-mode exposure with light of a wavelength which can be absorbed by the photothermal converting agent (C) and can record an image by heat-mode exposure. The polyurethane resin (A) preferably has a structural unit represented by a reaction product of a diisocyanate compound of the formula OCN-X0-NCO and a diol compound of the formula HO-Y0-OH as the basic skeleton.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は赤外線レーザで書き
込み可能なネガ型の画像記録材料に関し、詳しくは、記
録層の画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版
を形成しうるネガ型画像記録材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a negative type image recording material writable with an infrared laser, and more particularly, to form a lithographic printing plate having a high image portion of a recording layer and excellent printing durability. The present invention relates to a negative type image recording material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤
と、光又は熱によりラジカルを発生する重合開始剤と、
重合性化合物とを含む感光層を有する平版印刷版材料で
ある。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable, and in particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region in the near infrared to infrared region have been increasing in output and miniaturization. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. Using an infrared laser having an emission region in the infrared region as an exposure light source, a negative type lithographic printing plate material for an infrared laser, an infrared absorber, and a polymerization initiator that generates radicals by light or heat,
A lithographic printing plate material having a photosensitive layer containing a polymerizable compound.

【0003】通常、このようなネガ型の画像記録材料
は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重
合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部
を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型
の画像形成材料は、赤外線レーザ照射のエネルギーによ
り記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形
成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画
像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが
一般的である。このような光又は熱による重合系の記録
層を有する印刷版としては、特開平8−108621
号、特開平9−34110号の各公報に記載されるよう
な光重合性或いは熱重合性組成物を感光層として用いる
技術が知られている。これらの感光層は高感度画像形成
性に優れているものの、支持体として、親水化処理され
た基板を用いた場合、感光層と支持体との界面における
密着性が低く、耐刷性に劣るという問題があった。ま
た、感度を向上させるため、高出力の赤外線レーザを用
いることも検討されているが、レーザー走査時に感光層
のアブレーションが発生し光学系を汚染するといった問
題もあった。
Usually, such a negative type image recording material employs a recording system in which a polymerization reaction is caused by using a radical generated by light or heat as an initiator, and a recording layer in an exposed portion is cured to form an image portion. We are using. Such a negative type image forming material has a lower image forming property than a positive type in which the recording layer is solubilized by the energy of infrared laser irradiation, and promotes a curing reaction by polymerization to form a strong image portion. In general, a heat treatment is performed before the development step in order to form. A printing plate having such a light- or heat-polymerized recording layer is disclosed in JP-A-8-108621.
And a technique using a photopolymerizable or thermopolymerizable composition as a photosensitive layer as described in JP-A-9-34110. Although these photosensitive layers are excellent in high-sensitivity image forming properties, when a substrate subjected to hydrophilization treatment is used as a support, adhesion at the interface between the photosensitive layer and the support is low, and printing durability is poor. There was a problem. In order to improve the sensitivity, the use of a high-output infrared laser has been studied. However, there has been a problem that abrasion of the photosensitive layer occurs during laser scanning and the optical system is contaminated.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、記録時
のレーザー走査におけるアブレーションが抑制され、形
成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷
版を形成しうるネガ型の画像記録材料を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above problems, and an object of the present invention is to suppress ablation in laser scanning at the time of recording and to reduce the intensity of a formed image portion. An object of the present invention is to provide a negative type image recording material capable of forming a lithographic printing plate which is high and has excellent printing durability.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、水に不溶、且つ、アルカリ水溶液に可溶な降分
子化合物として、ポリウレタン樹脂を用いることによ
り、画像部の強度に優れた記録が可能となることを見出
し本発明を完成した。即ち、本発明のヒートモード対応
ネガ型画像記録材料は、(A)水に不溶、且つ、アルカ
リ水溶液に可溶なポリウレタン樹脂、(B)ラジカル重
合性化合物、(C)光熱変換剤、及び、(D)該(C)
光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード
露光によりラジカルを生成する化合物を含有し、ヒート
モード露光により画像記録可能であることを特徴とす
る。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the use of a polyurethane resin as a low molecular weight compound which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution provides excellent strength in the image area. It has been found that such recording is possible, and the present invention has been completed. That is, the heat mode-compatible negative image recording material of the present invention comprises (A) a polyurethane resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (B) a radical polymerizable compound, (C) a photothermal conversion agent, and (D) the (C)
It contains a compound that generates a radical by heat mode exposure to light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent, and is capable of image recording by heat mode exposure.

【0006】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義
について詳述する。Hans−Joachim Tim
pe,IS&Ts NIP 15:1999 Inte
rnational Conference on D
igital Printing Technolog
ies.P.209に記載されているように、感光体材
料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化
学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸
収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロ
セスには大きく分けて二つのモードが存在することが知
られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料
中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例え
ば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、
その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に
必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォ
トンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質
が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述
の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こす
いわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に
集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレ
ーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子
吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。
In the present invention, "corresponding to the heat mode" means that recording by heat mode exposure is possible. The definition of the heat mode exposure in the present invention will be described in detail. Hans-Joachim Tim
pe, IS & Ts NIP 15: 1999 Inte
rational Conference on D
digital printing technology
ies. P. As described in 209, a photoabsorbing substance (for example, a dye) is photoexcited in a photoreceptor material, and undergoes a chemical or physical change to form a chemical or physical change from the photoexcitation of the photoabsorbing substance forming an image. It is known that there are roughly two modes in the above processes. One is that the photo-excited light-absorbing substance deactivates due to some photochemical interaction (eg, energy transfer, electron transfer) with other reactants in the photosensitive material,
As a result, a so-called photon mode in which the activated reactant causes a chemical or physical change required for the above-described image formation, and the other is that the photoexcited light absorbing substance generates heat and deactivates, and the heat is lost. This is a so-called heat mode in which a reactant causes a chemical or physical change required for image formation by utilizing the above-mentioned method. In addition, there are special modes such as ablation in which substances are explosively scattered by the energy of light locally collected and multiphoton absorption in which one molecule absorbs many photons at a time, but these modes are omitted here.

【0007】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォントモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
ントモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォントモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により1光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。無論、
フォントモード露光では後続反応種の拡散の影響で似た
様な現象が起こる場合もあるが基本的には、このような
ことは起こらない。即ち、感光材料の特性として見た場
合、フォントモードでは露光パワー密度(w/cm2
(=単位時間当たりのエネルギー密度)に対し感光材料
の固有感度(画像形成に必要な反応のためのエネルギー
量)は一定となるが、ヒートモードでは露光パワー密度
に対し感光材料の固有感度が上昇することになる。従っ
て、実際に画像記録材料として実用上、必要な生産性を
維持できる程度の露光時間を固定すると、各モードを比
較した場合、フォントモード露光では通常は約0.1m
J/cm2程度の高感度化が達成できるもののどんな少
ない露光量でも反応が起こるため、未露光部での低露光
カブリの問題が生じ易い。これに対し、ヒートモード露
光ではある一定以上の露光量でないと反応が起こらず、
また感光材料の熱安定性との関係から通常は50mJ/
cm2程度が必要となるが、低露光カブリの問題が回避
される。そして、事実上ヒートモード露光では感光材料
の版面での露光パワー密度が5000w/cm2以上が
必要であり、好ましくは10000w/cm2以上が必
要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが5.0
×105/cm2以上の高パワー密度レーザーを利用する
とアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好
ましくない。
[0007] The exposure processes utilizing the above-described modes are called font mode exposure and heat mode exposure. The technical difference between the font mode exposure and the heat mode exposure is whether or not the energy amount of several photons to be exposed can be added to the energy amount of the target reaction.
For example, consider a case where a certain reaction occurs using n photons. In the font mode exposure, photochemical interaction is used, so that the energy of one photon cannot be added and used due to the requirement of the law of conservation of quantum energy and momentum. That is, in order to cause a certain reaction, the relationship of “energy amount of one photon ≧ energy amount of reaction” is necessary. On the other hand, in heat mode exposure, heat is generated after light excitation, and light energy is converted into heat and used, so that the amount of energy can be added. Therefore, the relationship “energy amount of n photons ≧ energy amount of reaction” is sufficient. However, this energy addition is restricted by thermal diffusion. In other words, if the next photoexcitation-deactivation process occurs and heat is generated before heat escapes from the exposed portion (reaction point) of interest by thermal diffusion, the heat is reliably accumulated and added, and the temperature rises in that portion. Leads to. However, when the next heat is generated slowly, the heat escapes and is not accumulated. In other words, in the heat mode exposure, even if the total exposure energy is the same, the result is different between the case where the high energy light is irradiated for a short time and the case where the low energy light is irradiated for a long time. It becomes advantageous for accumulation of. Of course,
In the font mode exposure, a similar phenomenon may occur due to the influence of the diffusion of the subsequent reactive species, but basically, this does not occur. That is, when viewed as a characteristic of the photosensitive material, the exposure power density (w / cm 2 ) in the font mode
The intrinsic sensitivity of the photosensitive material (the amount of energy for the reaction required for image formation) is constant with respect to (= energy density per unit time), but the intrinsic sensitivity of the photosensitive material increases with the exposure power density in the heat mode. Will do. Therefore, if the exposure time is fixed so that the productivity necessary for practical use as an image recording material can be maintained, the font mode exposure is usually about 0.1 m when comparing the modes.
Although a high sensitivity of about J / cm 2 can be achieved, the reaction occurs even with any small amount of exposure, so that the problem of low-exposure fog in the unexposed area is likely to occur. In contrast, in the heat mode exposure, no reaction occurs unless the exposure amount exceeds a certain value,
In addition, usually 50 mJ /
cm 2, but is required, the low exposure fogging problem is avoided. And, in fact heat mode exposure requires exposure power density at the plate surface of the photosensitive material is 5000 W / cm 2 or more, preferably it is necessary to 10000 W / cm 2 or more. However, although not described in detail here, 5.0
If a high power density laser of × 10 5 / cm 2 or more is used, ablation occurs, which is not preferable because of problems such as contamination of the light source.

【0008】本発明の作用は明確ではないが、本発明の
画像記録材料においては、アルカリ水溶液可能な高分子
化合物として(A)特定のポリウレタン樹脂を使用する
ことで、主鎖ウレタン基の水素結合性により高強度な被
膜を形成するため、この画像記録材料をヒートモード対
応平版印刷版原版の感光層に使用した場合、赤外線レー
ザ走査露光時にアブレーションが抑制され、ネガ画像部
の損傷や走査露光機のスピナーミラーといった光学系の
汚染が抑制されるものと考えられる。また、ポリウレタ
ン樹脂は、被膜形成性に優れるため、塗膜形成後の膜中
溶存酸素量が低く、更に外部からの酸素遮断性が高いた
め、ラジカル重合性化合物の酸素による重合阻害が抑制
される。そのため、重合により高硬化度な皮膜となるた
め、平版印刷版原版の感光層に使用した場合、形成され
た画像部は充分に硬化されており、高耐刷な印刷版を形
成することができる。さらに、本発明に用いられるポリ
ウレタン樹脂は極性基であるウレタン基を主鎖に有する
ため、例えば水のような高極性の媒体に対しての親和性
に優れる。そのため、通常、画像記録材料に使用される
アルカリ可溶性樹脂であるアクリル樹脂等と比較し、水
分散性に優れ、平版印刷版原版に使用した場合、ランニ
ング適性上問題となる現像カスが発生しにくいという利
点をも有する。
Although the function of the present invention is not clear, in the image recording material of the present invention, by using (A) a specific polyurethane resin as a polymer compound which can be used in an aqueous alkali solution, hydrogen bonding of a main chain urethane group can be achieved. When this image recording material is used for the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor compatible with heat mode, ablation is suppressed during infrared laser scanning exposure to form a high-strength coating due to its properties. It is considered that the contamination of the optical system such as the spinner mirror is suppressed. Further, since the polyurethane resin has excellent film-forming properties, the amount of dissolved oxygen in the film after the film is formed is low, and the oxygen barrier property from the outside is high, so that the inhibition of polymerization of the radically polymerizable compound by oxygen is suppressed. . Therefore, since a film having a high degree of curing is obtained by polymerization, when used for the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the formed image portion is sufficiently cured, and a printing plate with high printing durability can be formed. . Furthermore, since the polyurethane resin used in the present invention has a urethane group which is a polar group in the main chain, it has excellent affinity for a highly polar medium such as water. Therefore, compared to acrylic resins, which are usually alkali-soluble resins used in image recording materials, they are excellent in water dispersibility and, when used in a lithographic printing plate precursor, are less likely to cause development scum that becomes a problem in running suitability. It also has the advantage.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のネガ型画像記録材料は、(A)水に不溶かつア
ルカリ水溶液に可溶なポリウレタン樹脂、(B)ラジカ
ル重合性化合物、(C)光熱変換剤、及び、(D)
(C)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒート
モード露光によりラジカルを生成する化合物を含有する
ことを特徴とする。以下に、本発明の画像記録材料に使
用しうる各化合物について、順次説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The negative type image recording material of the present invention comprises (A) a polyurethane resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (B) a radical polymerizable compound, (C) a photothermal conversion agent, and (D)
(C) a compound which generates a radical by heat mode exposure to light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent. Hereinafter, each compound that can be used in the image recording material of the present invention will be described in order.

【0010】(A)水に不溶、且つ、アルカリ水溶液に
可溶なポリウレタン樹脂(以下、適宜、特定ポリウレタ
ン樹脂と称する)本発明のヒートモード対応ネガ型画像
記録材料に必須成分として使用される特定ポリウレタン
樹脂は、下記一般式(2)で表されるジイソシアネート
化合物の少なくとも1種と一般式(3)で表されるジオ
ール化合物の少なくとも1種との反応生成物で表される
構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
(A) Polyurethane resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution (hereinafter referred to as a specific polyurethane resin as appropriate). A specific resin used as an essential component in the heat mode-compatible negative image recording material of the present invention. The polyurethane resin has a basic skeleton having a structural unit represented by a reaction product of at least one diisocyanate compound represented by the following general formula (2) and at least one diol compound represented by the following general formula (3). Polyurethane resin.

【0011】OCN−X0−NCO (2) HO−Y0−OH (3) (式中、X0、Y0は2価の有機残基を表す。)OCN-X 0 -NCO (2) HO-Y 0 -OH (3) (where X 0 and Y 0 represent a divalent organic residue)

【0012】上記イソシアネート化合物で好ましいもの
は、下記一般式(4)で表されるジイソシアネート化合
物である。
The preferred isocyanate compound is a diisocyanate compound represented by the following general formula (4).

【0013】OCN−L1−NCO (4)OCN-L 1 -NCO (4)

【0014】式中、L1は置換基を有していてもよい2
価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。必要に応
じ、L1中はイソシアネート基と反応しない他の官能
基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を
有していてもよい。
In the formula, L 1 represents an optionally substituted 2
And a monovalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group. If necessary, L 1 may have another functional group that does not react with the isocyanate group, for example, an ester, urethane, amide, or ureido group.

【0015】イ)ジイソシアネート化合物 前記一般式(4)で示されるジイソシアネート化合物と
しては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわ
ち、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリ
レンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジレ
ンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネー
ト、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジ
イソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル −
4,4’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシ
アネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイ
ソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような
脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシア
ネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソ
シアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(または
2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネート
メチル)シクロヘキサン等のような脂環族ジイソシアネ
ート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリ
レンジイソシアネート2モルとの付加体等のようなジオ
ールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネ
ート化合物;等が挙げられる。
A) Diisocyanate compound Specific examples of the diisocyanate compound represented by the general formula (4) include the following. That is, 2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate , 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-
Aromatic diisocyanate compounds such as 4,4'-diisocyanate; aliphatic diisocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4'-methylene bis (cyclohexyl) Alicyclic diisocyanate compounds such as isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane; 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate A diisocyanate compound which is a reaction product of a diol and a diisocyanate, such as an adduct of a diisocyanate;

【0016】ロ)ジオール化合物 ジオール化合物としては、広くは、ポリエーテルジオー
ル化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネ
ートジオール化合物等が挙げられる。ポリエーテルジオ
ール化合物としては、下記式(5)、(6)、(7)、
(8)、(9)で表される化合物、及び、末端に水酸基
を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのラ
ンダム共重合体が挙げられる。
(B) Diol compound As the diol compound, a polyether diol compound, a polyester diol compound, a polycarbonate diol compound and the like are broadly mentioned. As the polyether diol compound, the following formulas (5), (6), (7),
Examples include the compounds represented by (8) and (9), and a random copolymer of ethylene oxide and propylene oxide having a hydroxyl group at a terminal.

【0017】[0017]

【化1】 Embedded image

【0018】式中、R1は水素原子またはメチル基、X
は、以下の基を表す。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, X
Represents the following groups.

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】また、a,b,c,d,e,f,gはそれ
ぞれ2以上の整数を示し、好ましくは2〜100の整数
である。
A, b, c, d, e, f, and g each represent an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

【0021】式(5)、(6)で表されるポリエーテル
ジオール化合物としては具体的には以下に示すものが挙
げられる。すなわち、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエ
チレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタ
エチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジ−
1,2−プロピレングリコール、トリ−1,2−プロピ
レングリコール、テトラ−1,2−プロピレングリコー
ル、ヘキサ−1,2−プロピレングリコール、ジ−1,
3−プロピレングリコール、トリ−1,3−プロピレン
グリコール、テトラ−1,3−プロピレングリコール、
ジ−1,3−ブチレングリコール、トリ−1,3−ブチ
レングリコール、ヘキサ−1,3−ブチレングリコー
ル、重量平均分子量1000のポリエチレングリコー
ル、重量平均分子量1500のポリエチレングリコー
ル、重量平均分子量2000のポリエチレングリコー
ル、重量平均分子量3000のポリエチレングリコー
ル、重量平均分子量7500のポリエチレングリコー
ル、重量平均分子量400のポリプロピレングリコー
ル、重量平均分子量700のポリプロピレングリコー
ル、重量平均分子量1000のポリプロピレングリコー
ル、重量平均分子量2000のポリプロピレングリコー
ル、重量平均分子量3000のポリプロピレングリコー
ル、重量平均分子量4000のポリプロピレングリコー
ル等である。
Specific examples of the polyether diol compounds represented by formulas (5) and (6) include the following. That is, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaethylene glycol, hexaethylene glycol, heptaethylene glycol, octaethylene glycol, di-
1,2-propylene glycol, tri-1,2-propylene glycol, tetra-1,2-propylene glycol, hexa-1,2-propylene glycol, di-1,
3-propylene glycol, tri-1,3-propylene glycol, tetra-1,3-propylene glycol,
Di-1,3-butylene glycol, tri-1,3-butylene glycol, hexa-1,3-butylene glycol, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 1,000, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 1500, and polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 2,000 Polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 3000, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 7,500, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 400, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 700, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 1,000, and polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 2,000. And polypropylene glycol having an average molecular weight of 3000, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 4000, and the like.

【0022】式(7)で示されるポリエーテルジオール
化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられ
る。三洋化成工業(株)製、(商品名)PTMG65
0,PTMG1000,PTMG2000,PTMG3
000等。
Specific examples of the polyether diol compound represented by the formula (7) include the following. PTMG65 (trade name) manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.
0, PTMG1000, PTMG2000, PTMG3
000 mag.

【0023】式(8)で示されるポリエーテルジオール
化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられ
る。三洋化成工業(株)製、(商品名)ニューポールP
E−61,ニューポールPE−62,ニューポールPE
−64,ニューポールPE−68,ニューポールPE−
71,ニューポールPE−74,ニューポールPE−7
5,ニューポールPE−78,ニューポールPE−10
8,ニューポールPE−128,ニューポールPE−6
1等。
Specific examples of the polyether diol compound represented by the formula (8) include the following. Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd. (trade name) New Pole P
E-61, New Pole PE-62, New Pole PE
-64, New Pole PE-68, New Pole PE-
71, New Pole PE-74, New Pole PE-7
5, New Pole PE-78, New Pole PE-10
8, New Pole PE-128, New Pole PE-6
First magnitude.

【0024】式(9)で示されるポリエーテルジオール
化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられ
る。三洋化成工業(株)製、(商品名)ニューポールB
PE−20、ニューポールBPE−20F、ニューポー
ルBPE−20NK、ニューポールBPE−20T、ニ
ューポールBPE−20G、ニューポールBPE−4
0、ニューポールBPE−60、ニューポールBPE−
100、ニューポールBPE−180、ニューポールB
PE−2P、ニューポールBPE−23P、ニューポー
ルBPE−3P、ニューポールBPE−5P等。
Specific examples of the polyether diol compound represented by the formula (9) include the following. New pole B (trade name) manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd.
PE-20, New Pole BPE-20F, New Pole BPE-20NK, New Pole BPE-20T, New Pole BPE-20G, New Pole BPE-4
0, Newpole BPE-60, Newpole BPE-
100, New Pole BPE-180, New Pole B
PE-2P, Newpole BPE-23P, Newpole BPE-3P, Newpole BPE-5P and the like.

【0025】末端に水酸基を有するエチレンオキシドと
プロピレンオキシドとのランダム共重合体としては、具
体的には以下に示すものが挙げられる。三洋化成工業
(株)製、(商品名)ニューポール50HB−100、
ニューポール50HB−260、ニューポール50HB
−400、ニューポール50HB−660、ニューポー
ル50HB−2000、ニューポール50HB−510
0等。
Specific examples of the random copolymer of ethylene oxide having a hydroxyl group at the terminal and propylene oxide include the following. Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd., (trade name) Newpole 50HB-100,
New Pole 50HB-260, New Pole 50HB
-400, New Pole 50HB-660, New Pole 50HB-2000, New Pole 50HB-510
0 magnitude.

【0026】ポリエステルジオール化合物としては、式
(10)、(11)で表される化合物が挙げられる。
Examples of the polyester diol compound include compounds represented by the formulas (10) and (11).

【0027】[0027]

【化3】 Embedded image

【0028】式中、L2、L3およびL4ではそれぞれ同
一でも相違してもよく2価の脂肪族または芳香族炭化水
素基を示し、L5は2価の脂肪族炭化水素基を示す。好
ましくは、L2、L3、L4はそれぞれアルキレン基、ア
ルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基を示し、
5はアルキレン基を示す。またL2、L3、L4、L5
にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば
エーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィ
ン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子
等が存在していてもよい。nl、n2はそれぞれ2以上
の整数であり、好ましくは2〜100の整数を示す。
In the formula, L 2 , L 3 and L 4 may be the same or different and each represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and L 5 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group. . Preferably, L 2 , L 3 and L 4 each represent an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group or an arylene group,
L 5 represents an alkylene group. In L 2 , L 3 , L 4 and L 5 , other functional groups which do not react with the isocyanate group, for example, ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group or halogen atom are present. You may. nl and n2 are each an integer of 2 or more, and preferably an integer of 2 to 100.

【0029】ポリカーボネートジオール化合物として
は、式(12)で表される化合物がある。
As the polycarbonate diol compound, there is a compound represented by the formula (12).

【0030】[0030]

【化4】 Embedded image

【0031】式中、L6はそれぞれ同一でも相違しても
よく2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ま
しくは、L6はアルキレン基、アルケニレン基、アルキ
ニレン基、アリーレン基を示す。またL6中にはイソシ
アネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、
カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタ
ン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在し
ていてもよい。n3は2以上の整数であり、好ましくは
2〜l00の整数を示す。
In the formula, L 6 may be the same or different, and represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group. Preferably, L 6 represents an alkylene, alkenylene, alkynylene, or arylene group. The other functional group which does not react with an isocyanate group L 6, for example an ether,
A carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group or halogen atom may be present. n3 is an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

【006l】式(10)、(11)または(12)で示
されるジオール化合物としては具体的には以下に示す
(例示化合物No.1)〜(例示化合物No.18)が含まれ
る。具体例中のnは2以上の整数である。
The diol compounds represented by the formulas (10), (11) and (12) specifically include the following (Exemplary Compound No. 1) to (Exemplary Compound No. 18) shown below. N in a specific example is an integer of 2 or more.

【0032】[0032]

【化5】 Embedded image

【0033】[0033]

【化6】 Embedded image

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】本発明の画像記録材料を平版印刷版用原版
の光重合性感光層として用いる場合に使用される特定ポ
リウレタン樹脂(ウレタンバインダー)は、より好まし
くは、さらにカルボキシル基を有するポリウレタン樹脂
である。好適に使用される特定ポリウレタン樹脂として
は、式(13)、(14)、(15)のジオール化合物
の少なくとも1種で表される構造単位および/または、
テトラカルボン酸2無水物をジオール化合物で開環させ
た化合物から由来される構造単位を有するポリウレタン
樹脂が挙げられる。
The specific polyurethane resin (urethane binder) used when the image recording material of the present invention is used as a photopolymerizable photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor is more preferably a polyurethane resin further having a carboxyl group. . Specific polyurethane resins preferably used include structural units represented by at least one of diol compounds of formulas (13), (14) and (15) and / or
A polyurethane resin having a structural unit derived from a compound obtained by ring-opening a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound is exemplified.

【0036】[0036]

【化8】 Embedded image

【0037】前記式中、R2は水素原子、置換基(例え
ば、シアノ基、ニトロ基、−F、−Cl、−Br、−I
等のハロゲン原子、−CONH2、−COOR3、−OR
3、−NHCONHR3、−NHCOOR3、−NHCO
3、−OCONHR3(ここで、R3は炭素数1〜10
のアルキル基、炭素数7〜15のアラルキル基を示
す。)などの各基が含まれる。)を有していてもよいア
ルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数1
〜8個のアルキル基、炭素数6〜15個のアリール基を
示す。L7、L8、L 9はそれぞれ同一でも相違していて
もよく、単結合、置換基(例えば、アルキル、アラルキ
ル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好まし
い。)を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭
化水素基を示し、好ましくは炭素数1〜20個のアルキ
レン基、炭素数6〜15個のアリーレン基、さらに好ま
しくは炭素数1〜8個のアルキレン基を示す。また必要
に応じ、L7、L8、L9中にイソシアネート基と反応し
ない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタ
ン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよ
い。なおR2、L7、L8、L9のうちの2または3個で環
を形成してもよい。Arは置換基を有していてもよい三
価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数6〜1
5個の芳香族基を示す。
In the above formula, RTwoIs a hydrogen atom, a substituent (eg,
For example, a cyano group, a nitro group, -F, -Cl, -Br, -I
Halogen atom such as -CONHTwo, -COORThree, -OR
Three, -NHCONHRThree, -NHCOORThree, -NHCO
RThree, -OCONHRThree(Where RThreeHas 1 to 10 carbon atoms
And an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms.
You. )). A) that may have
Alkyl group, aralkyl group, aryl group, alkoxy group,
An aryloxy group, preferably a hydrogen atom, having 1 carbon atom
~ 8 alkyl groups, 6 ~ 15 carbon aryl groups
Show. L7, L8, L 9Are the same but different
Or a single bond, a substituent (eg, alkyl, aralkyl
, Aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred
No. ) A divalent aliphatic or aromatic carbon optionally having
Represents a hydride group, and is preferably an alkyl having 1 to 20 carbon atoms.
Rene group, arylene group having 6 to 15 carbon atoms, more preferably
Or an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. Also necessary
According to L7, L8, L9Reacts with isocyanate groups in
No other functional groups such as carbonyl, ester, urethane
May have an amide, amide, ureide, or ether group.
No. Note that RTwo, L7, L8, L9Two or three of the rings
May be formed. Ar is an optionally substituted three
A valent aromatic hydrocarbon group, preferably having 6 to 1 carbon atoms
Shows 5 aromatic groups.

【0038】ハ)カルボキシル基を含有するジオール化
合物 式(13)、(14)または(15)で示されるカルボ
キシル基を有するジオール化合物としては具体的には以
下に示すものが含まれる。すなわち、3,5−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロ
ピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロ
ピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プ
ロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)酢酸、2,2−ビス(ヒドロキ
シメチル)酪酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチル
グリシン、N,N―ビス(2−ヒドロキシエチル)−3
−カルボキシ−プロピオンアミド等である。
C) Carboxyl-Containing Diol Compound The carboxyl-containing diol compound represented by the formula (13), (14) or (15) specifically includes the following compounds. That is, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, Bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4
-Hydroxyphenyl) acetic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butyric acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, N, N-dihydroxyethylglycine, N, N-bis (2-hydroxy Ethyl) -3
-Carboxy-propionamide and the like.

【0039】本発明において、特定ポリウレタン樹脂の
合成に用いられる好ましいテトラカルボン酸2無水物と
しては、式(16)、(17)、(18)で示されるも
のが挙げられる。
In the present invention, preferred tetracarboxylic dianhydrides used in the synthesis of the specific polyurethane resin include those represented by formulas (16), (17) and (18).

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】式中、L10は単結合、置換基(例えばアル
キル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、
エステル、アミドの各基が好ましい。)を有していても
よい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−CO−、
−SO−、−SO2−、−O−または−S−を示し、好
ましくは単結合、炭素数1〜15個の二価の脂肪族炭化
水素基、−CO−、−SO2−、−O−または−S−を
示す。R4、R5は同一でも相違していてもよく、水素原
子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、またはハロゲノ基を示し、好ましくは、水素原
子、炭素数1〜8個のアルキル基、炭素数6〜15個の
アリール基、炭素数1〜8個のアルコキシ基またはハロ
ゲノ基を示す。またL10、R4、R5のうちの2つが結合
して環を形成してもよい。
In the formula, L 10 is a single bond, a substituent (eg, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, halogeno,
Ester and amide groups are preferred. ) May have a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, -CO-,
-SO -, - SO 2 -, - O- or -S- are shown, preferably a single bond, a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, -CO -, - SO 2 - , - O- or -S- is shown. R 4 and R 5 may be the same or different and represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or a halogeno group, preferably a hydrogen atom, an alkyl having 1 to 8 carbon atoms. Group, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms or a halogeno group. Also, two of L 10 , R 4 and R 5 may combine to form a ring.

【0042】R6、R7は同一でも相違していてもよく、
水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基また
はハロゲノ基をを示し、好ましくは水素原子、炭素数1
〜8個のアルキル、または炭素数6〜15個のアリール
基を示す。またL10、R6、R7のうちの2つが結合して
環を形成してもよい。L11、L12は同一でも相違してい
てもよく、単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化
水素基を示し、好ましくは単結合、二重結合、またはメ
チレン基を示す。Aは単核または多核の芳香環を示す。
好ましくは炭素数6〜18個の芳香環を示す。
R 6 and R 7 may be the same or different,
A hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a halogeno group;
Represents an alkyl group of 8 to 8 or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. Also, two of L 10 , R 6 and R 7 may combine to form a ring. L 11 and L 12 may be the same or different and represent a single bond, a double bond, or a divalent aliphatic hydrocarbon group, preferably a single bond, a double bond, or a methylene group. A represents a mononuclear or polynuclear aromatic ring.
It preferably represents an aromatic ring having 6 to 18 carbon atoms.

【0043】式(16)、(17)または(18)で示
される化合物としては、具体的には以下に示すものが含
まれる。すなわち、ピロメリット酸二無水物、3,
3’,4,4’−べンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン
酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、4,4’−スルホニルジフタル酸二無
水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、4,4’−[3,3’−(アル
キルホスホリルジフェニレン)−ビス(イミノカルボニ
ル)]ジフタル酸二無水物、
Specific examples of the compound represented by the formula (16), (17) or (18) include the following. That is, pyromellitic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride Anhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyldiphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl)
Propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4 ′-[3,3 ′-(alkylphosphoryldiphenylene) -bis (iminocarbonyl)] diphthalic dianhydride,

【0044】ヒドロキノンジアセテートとトリメット酸
無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメット酸無
水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物;
5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メ
チル−3−シクロヘキセシ−1,2−ジカルボン酸無水
物(大日本インキ化学工業(株)製、エピクロンB−4
400)、1,2,3,4−シクロぺンタンテトラカル
ボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテト
ラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカル
ボン酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水
物;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水
物、1,2,4,5−ペンタンテトラカルボン酸二無水
物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられ
る。
Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as adducts of hydroquinone diacetate and trimetic anhydride, and adducts of diacetyldiamine and trimetic anhydride;
5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (Dai Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd., Epicron B-4)
400), 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride and other alicyclic tetra Carboxylic dianhydride; aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,4,5-pentanetetracarboxylic dianhydride; .

【0045】これらのテトラカルボン酸二無水物をジオ
ール化合物で開環された化合物から由来する構造単位を
ポリウレタン樹脂中に導入する方法としては、例えば以
下の方法がある。 a)テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環
させて得られたアルコール末端の化合物と、ジイソシア
ネート化合物とを反応させる方法。 b)ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条
件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合
物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
As a method for introducing a structural unit derived from a compound obtained by ring-opening a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound into a polyurethane resin, for example, the following method is available. a) A method in which an alcohol-terminated compound obtained by ring-opening a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound is reacted with a diisocyanate compound. b) A method in which a diisocyanate compound is reacted under the condition of an excess of a diol compound to react an alcohol-terminated urethane compound obtained with tetracarboxylic dianhydride.

【0046】またこのとき使用されるジオール化合物と
しては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわ
ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペン
チルグリコール、1,3−ブチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、
2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、
1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジ
メタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノー
ルF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビス
フェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノ
ールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ
ールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノー
ルAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒ
ドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、
ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−2,4−トリレンジカルバメート、2,4−ト
リレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ビ
ス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバ
メート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート
等が挙げられる。
The diol compound used at this time specifically includes the following compounds. That is, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butylene glycol, 1,6
-Hexanediol, 2-butene-1,4-diol,
2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol,
1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A,
Propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol F, propylene oxide adduct of bisphenol F, ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p -Xylylene glycol,
Dihydroxyethyl sulfone, bis (2-hydroxyethyl) -2,4-tolylenedicarbamate, 2,4-tolylene-bis (2-hydroxyethylcarbamide), bis (2-hydroxyethyl) -m-xylylenedicarbamate, bis (2-hydroxyethyl) isophthalate and the like.

【0047】ニ)その他のジオール化合物 またさらに、特定ポリウレタン樹脂の合成には、カルボ
キシル基を有せず、イソシアネートと反応しない他の置
換基を有してもよい、その他のジオール化合物を併用す
ることもできる。このようなジオール化合物としては、
以下に示すものが含まれる。
D) Other diol compounds Further, in the synthesis of the specific polyurethane resin, other diol compounds which do not have a carboxyl group and may have another substituent which does not react with isocyanate may be used in combination. Can also. Such diol compounds include:
The following are included.

【0048】 HO−L13−O−CO−L14−CO−O−L13−OH (19) HO−L14−CO−O−L13−OH (20)HO-L 13 -O-CO-L 14 -CO-OL 13 -OH (19) HO-L 14 -CO-OL 13 -OH (20)

【0049】式中、L13、L14はそれぞれ同一でも相違
していてもよく、置換基(例えば、アルキル基、アラル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、
−F、−Cl、−Br、−I等のハロゲン原子などの各
基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化
水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要
に応じ、L13、L14中にイソシアネート基と反応しない
他の官能基、例えばカルボニル基、エステル基、ウレタ
ン基、アミド基、ウレイド基などを有していてもよい。
なおL13、L14で環を形成してもよい。
In the formula, L 13 and L 14 may be the same or different and each has a substituent (for example, an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group,
Each group such as a halogen atom such as —F, —Cl, —Br, and —I is included. A) a divalent aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have If necessary, L 13 and L 14 may have another functional group which does not react with an isocyanate group, for example, a carbonyl group, an ester group, a urethane group, an amide group, a ureide group and the like.
L 13 and L 14 may form a ring.

【0050】また上記式(19)または(20)で示さ
れる化合物の具体例としては以下に示す(例示化合物N
o.19)〜(例示化合物No.35)が含まれる。
Specific examples of the compound represented by the above formula (19) or (20) are shown below (exemplary compound N
o.19) to (Exemplary Compound No. 35).

【0051】[0051]

【化10】 Embedded image

【0052】[0052]

【化11】 Embedded image

【0053】[0053]

【化12】 Embedded image

【0054】また、下記に式(21)、式(22)で示
すジオール化合物も好適に使用できる。
Also, diol compounds represented by the following formulas (21) and (22) can be suitably used.

【0055】[0055]

【化13】 Embedded image

【0056】式中、R8、R9はそれぞれ同一でも異なっ
ていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基であ
り、cは2以上の整数を示し、好ましくは2〜100の
整数である。
In the formula, R 8 and R 9 may be the same or different and each is an alkyl group which may have a substituent, and c represents an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100. It is.

【0057】式(21)、(22)で示されるジオール
化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられ
る。すなわち、式(21)としては、エチレングリコー
ル、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,5−ぺンタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジ
オール等、式(22)としては、下記に示す化合物等で
ある。
Specific examples of the diol compounds represented by formulas (21) and (22) include the following. That is, as the formula (21), ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, Examples of the formula (22) such as 8-octanediol include the compounds shown below.

【0058】[0058]

【化14】 Embedded image

【0059】また、下記式(23)、式(24)で示さ
れるジオール化合物も好適に使用できる。
Also, diol compounds represented by the following formulas (23) and (24) can be suitably used.

【0060】 HO−L15−NH−CO−L16−CO−NH−L15−OH (23) HO−L16−CO−NH−L15−OH (24)HO-L 15 -NH-CO-L 16 -CO-NH-L 15 -OH (23) HO-L 16 -CO-NH-L 15 -OH (24)

【0061】式中、L15、L16はそれぞれ同一でも相違
していてもよく、置換基(例えば、アルキル、アラルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原
子(−F、−Cl、−Br、−I)、などの各基が含ま
れる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、
15、L16中にイソシアネート基と反応しない他の官能
基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、
ウレイド基などを有していてもよい。なおL15、L16
環を形成してもよい。
In the formula, L 15 and L 16 may be the same or different and each has a substituent (eg, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, — A) a divalent aliphatic hydrocarbon group which may have:
It represents an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group. As needed,
Other functional groups which do not react with isocyanate groups in L 15 and L 16 , such as carbonyl, ester, urethane, amide,
It may have a ureido group or the like. L 15 and L 16 may form a ring.

【0062】また式(23)または(24)で示される
化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。
Specific examples of the compound represented by the formula (23) or (24) include the following.

【0063】[0063]

【化15】 Embedded image

【0064】[0064]

【化16】 Embedded image

【0065】さらに、下記式(25)、式(26)で示
すジオール化合物も好適に使用できる。
Further, diol compounds represented by the following formulas (25) and (26) can also be suitably used.

【0066】 HO−Ar2−(L17−Ar3)n−OH (25) HO−Ar2−L17−OH (26)HO—Ar 2 — (L 17 —Ar 3 ) n—OH (25) HO—Ar 2 —L 17 —OH (26)

【0067】式中、L17は置換基(例えば、アルキル、
アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハ
ロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の
脂肪族炭化水素基を示す。必要に応じ、L17中にイソシ
アネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、
ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。A
2、Ar3は同一でも相違していてもよく、置換基を有
していてもよい2価の芳香族炭化水素基を示し、好まし
くは炭素数6〜15個の芳香族基を示す。nは0〜10
の整数を示す。
In the formula, L 17 is a substituent (eg, alkyl,
Aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy and halogeno groups are preferred. ) Represents a divalent aliphatic hydrocarbon group which may have If necessary, other functional groups which do not react with isocyanate groups in L 17 , such as esters,
It may have a urethane, amide, or ureido group. A
r 2 and Ar 3 may be the same or different, and represent a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and preferably represents an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms. n is 0 to 10
Indicates an integer.

【0068】また上記式(25)または(26)で示さ
れるジオール化合物としては具体的には以下に示すもの
が含まれる。すなわち、カテコール、レゾルシン、ハイ
ドロキノン、4−メチルカテコール、4−t−ブチルカ
テコール、4−アセチルカテコール、3−メトキシカテ
コール、4−フェニルカテコール、4−メチルレゾルシ
ン、4−エチルレゾルシン、4−t−ブチルレゾルシ
ン、4−へキシルレゾルシン、4−クロロレゾルシン、
4−ベンジルレゾルシン、4−アセチルレゾルシン、4
−カルボメトキシレゾルシン、2−メチルレゾルシン、
5−メチルレゾルシン、t−ブチルハイドロキノン、
2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−
t−アミルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキノ
ン、テトラクロロハイドロキノン、メチルカルボアミノ
ハイドロキノン、メチルウレイドハイドロキノン、メチ
ルチオハイドロキノン、ベンゾノルボルネン−3,6−
ジオール、ビスフェノールA、
The diol compound represented by the above formula (25) or (26) specifically includes the following compounds. That is, catechol, resorcin, hydroquinone, 4-methylcatechol, 4-t-butylcatechol, 4-acetylcatechol, 3-methoxycatechol, 4-phenylcatechol, 4-methylresorcin, 4-ethylresorcin, 4-t-butyl Resorcinol, 4-hexylresorcinol, 4-chlororesorcinol,
4-benzyl resorcinol, 4-acetyl resorcinol, 4
-Carbomethoxy resorcin, 2-methyl resorcin,
5-methylresorcinol, t-butylhydroquinone,
2,5-di-t-butylhydroquinone, 2,5-di-
t-amylhydroquinone, tetramethylhydroquinone, tetrachlorohydroquinone, methylcarbaminohydroquinone, methylureidohydroquinone, methylthiohydroquinone, benzonorbornene-3,6-
Diol, bisphenol A,

【0069】ビスフェノールS、3,3’−ジクロロビ
スフェノールS、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−チ
オジフェノール、2,2’−ジヒドロキシジフェニルメ
タン、3,4−ビス(p−ヒドロキシフェニル)ヘキサ
ン、1,4−ビス(2−(p−ヒドロキシフェニル)プ
ロピル)ベンゼン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メ
チルアミン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4
−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフ
タレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジ
ヒドロキシアントラキノン、2−ヒドロキシベンジルア
ルコール、4−ヒドロキシベンジルアルコール、2−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルアルコー
ル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジル
アルコール、4−ヒドロキシフェネチルアルコール、2
−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2
−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシフェニルアセテー
ト、レゾルシンモノ−2−ヒドロキシエチルエーテル等
が挙げられる。下記式(27)、式(28)または式
(29)に示すジオール化合物も好適に使用できる。
Bisphenol S, 3,3'-dichlorobisphenol S, 4,4'-dihydroxybenzophenone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-thiodiphenol, 2,2'-dihydroxydiphenylmethane, 3, 4-bis (p-hydroxyphenyl) hexane, 1,4-bis (2- (p-hydroxyphenyl) propyl) benzene, bis (4-hydroxyphenyl) methylamine, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4
-Dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxyanthraquinone, 2-hydroxybenzyl alcohol, 4-hydroxybenzyl alcohol, 2-hydroxy-3,5-di-t-butyl Benzyl alcohol, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl alcohol, 4-hydroxyphenethyl alcohol,
-Hydroxyethyl-4-hydroxybenzoate, 2
-Hydroxyethyl-4-hydroxyphenyl acetate, resorcinol mono-2-hydroxyethyl ether and the like. A diol compound represented by the following formula (27), (28) or (29) can also be suitably used.

【0070】[0070]

【化17】 Embedded image

【0071】式中、R10は水素原子、置換基(例えば、
シアノ、ニトロ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−B
r、−I)、−CONH2、−COORll、−OR11
−NHCONHR11、−NHCOORll、−NHCOR
11、−OCONHR11、−CONHR11(ここで、R11
は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数7〜15のアラ
ルキル基を示す。)などの各基が含まれる。)を有して
いてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アルコキ
シ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素
数1〜8個のアルキル基、炭素数6〜15個のアリール
基を示す。L18、L19、L20はそれぞれ同一でも相違し
ていてもよく、単結合、置換基(例えば、アルキル、ア
ラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲンの各基が好
ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族または芳香
族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数1〜20個のア
ルキレン基、炭素数6〜15個のアリーレン基、さらに
好ましくは炭素数1〜8個のアルキレン基を示す。必要
に応じて、L18、L19、L20中にイソシアネート基と反
応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウ
レタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していても
よい。なお、R10、L 18、L19、L20のうちの2または
3個で環を形成してもよい。Arは置換基を有していて
もよい三価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素
数6〜15個の芳香族基を示す。Z0は下記の基を示
す。
Where RTenIs a hydrogen atom, a substituent (for example,
Cyano, nitro, halogen atom (-F, -Cl, -B
r, -I), -CONHTwo, -COORll, -OR11,
-NHCONHR11, -NHCOORll, -NHCOR
11, -OCONHR11, -CONHR11(Where R11
Represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an ara group having 7 to 15 carbon atoms.
Represents a alkyl group. )). )
Alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy
Represents an aryloxy group, preferably a hydrogen atom, carbon
An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an aryl having 6 to 15 carbon atoms
Represents a group. L18, L19, L20Are the same but different
May be a single bond, a substituent (eg, alkyl,
Aralkyl, aryl, alkoxy, and halogen groups are preferred.
Good. Divalent aliphatic or aromatic optionally having
Represents an aromatic hydrocarbon group, and preferably has 1 to 20 carbon atoms.
Alkylene group, arylene group having 6 to 15 carbon atoms, and
It preferably represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. necessary
Depending on18, L19, L20Isocyanate groups
Other functional groups that do not respond, such as carbonyl, ester,
Even if it has a urethane, amide, ureide or ether group
Good. Note that RTen, L 18, L19, L202 of or
Three may form a ring. Ar has a substituent,
Represents a trivalent aromatic hydrocarbon group, preferably a carbon atom
Shows several to 15 aromatic groups. Z0Represents the following groups
You.

【0072】[0072]

【化18】 Embedded image

【0073】ここで、R12、R13はそれぞれ同一でも相
違していてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、
アルキル基、アリール基を示し、好ましくは水素原子、
炭素原子1〜8個のアルキル基、炭素数6〜15個のア
リール基を示す。
Here, R 12 and R 13 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, sodium, potassium,
Represents an alkyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom,
An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an aryl group having 6 to 15 carbon atoms are shown.

【0074】前記式(27)、(28)または(29)
で示されるホスホン酸、リン酸および/またはこれらの
エステル基を有するジオール化合物は、例えば以下に示
す方法により合成される。以下の一般式(30)、(3
1)、(32)で示されるハロゲン化合物のヒドロキシ
基を必要に応じて保護した後、式(33)で表されるM
ichaelis−Arbuzov反応によりホスホネ
ートエステル化し、さらに必要により臭化水素等により
加水分解することにより合成が行われる。
The above formula (27), (28) or (29)
The diol compound having a phosphonic acid, a phosphoric acid and / or an ester group thereof represented by is synthesized by, for example, the following method. The following general formulas (30) and (3)
After protecting the hydroxy group of the halogen compound represented by 1) or (32) as necessary, M represented by the formula (33)
The synthesis is carried out by phosphonate esterification by an Ichaelis-Arbuzov reaction and, if necessary, hydrolysis with hydrogen bromide or the like.

【0075】[0075]

【化19】 Embedded image

【0076】式中、R14、L21、L22、L23およびAr
は式(27)、(28)、(29)の場合と同義であ
る。R15はアルキル基、アリール基を示し、好ましくは
炭素数1〜8個のアルキル基、炭素数6〜15個のアリ
ール基を示す。R16は式(30)、(31)、(32)
のXlを除いた残基であり、Xlはハロゲン原子、好まし
くはCl、Br、Iを示す。
Wherein R 14 , L 21 , L 22 , L 23 and Ar
Is the same as in the case of the equations (27), (28) and (29). R 15 represents an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. R 16 is represented by the formulas (30), (31), and (32)
A residue obtained by removing the X l, X l is a halogen atom, preferably denotes Cl, Br, and I.

【0077】また、式(34)で表されるオキシ塩化リ
ンとの反応後、加水分解させる方法により合成が行われ
る。
After the reaction with the phosphorus oxychloride represented by the formula (34), the synthesis is carried out by a hydrolysis method.

【0078】[0078]

【化20】 Embedded image

【0079】式中、R17は式(33)の場合と同義であ
り、Mは水素原子、ナトリウムまたはカリウムを示す。
In the formula, R 17 has the same meaning as in formula (33), and M represents a hydrogen atom, sodium or potassium.

【0080】本発明のポリウレタン樹脂がホスホン酸基
を有する場合、前記一般式(4)で示されるジイソシア
ネート化合物と、前記式(27)、(28)、または
(29)で示されるホスホン酸エステル基を有するジオ
ール化合物を反応させ、ポリウレタン樹脂化した後、臭
化水素等により加水分解することで合成してもよい。
When the polyurethane resin of the present invention has a phosphonic acid group, the diisocyanate compound represented by the general formula (4) and the phosphonic acid ester group represented by the general formula (27), (28) or (29) May be synthesized by reacting a diol compound having the following formula to form a polyurethane resin, followed by hydrolysis with hydrogen bromide or the like.

【0081】さらに、下記に示すアミノ基含有化合物
も、ジオール化合物と同様、一般式(4)で表されるジ
イソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成し
てポリウレタン樹脂の構造に組み込まれてもよい。
Further, similarly to the diol compound, the following amino group-containing compound may be reacted with the diisocyanate compound represented by the general formula (4) to form a urea structure and be incorporated into the structure of the polyurethane resin. .

【0082】[0082]

【化21】 Embedded image

【0083】式中、R18、R19はそれぞれ同一でも相違
していてもよく、水素原子、置換基(例えばアルコキ
シ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、エ
ステル、カルボキシル基などの各基が含まれる。)を有
していてもよいアルキル、アラルキル、アリール基を示
し、好ましくは水素原子、置換基としてカルボキシル基
を有していてもよい炭素数1〜8個のアルキル、炭素数
6〜15個のアリール基を示す。L24は置換基(例え
ば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ア
リーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−
I)、カルボキシル基などの各基が含まれる。)を有し
ていてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素
基または複素環基を示す。必要に応じ、L24中にイソシ
アネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニ
ル、エステル、ウレタン、アミド基などを有していても
よい。なおR18、L24、R19のうちの2個で環を形成し
てもよい
In the formula, R 18 and R 19 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a substituent (for example, alkoxy, a halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), an ester, An alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group, which may have a hydrogen atom, and preferably a carbon atom having 1 to 8 carbon atoms which may have a carboxyl group as a substituent. Alkyl represents an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. L 24 represents a substituent (eg, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —
I) and carboxyl groups. A) a divalent aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have If necessary, L 24 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, for example, a carbonyl, ester, urethane, or amide group. Two of R 18 , L 24 and R 19 may form a ring

【0084】また一般式(35)、(36)で示される
化合物の具体例としては、以下に示すものが含まれる。
すなわち、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テ
トラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタ
メチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、プロパン
−1,2−ジアミン、ビス(3−アミノプロピル)メチ
ルアミン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラ
メチルシロキサン、ピペラジン、2,5−ジメチルピペ
ラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、4−ア
ミノ−2,2−6,6−テトラメチルピペリジン、N,
N−ジメチルエチレンジアミン、リジン、L―シスチ
ン、イソホロンジアミン等のような脂肪族ジアミン化合
物;
Specific examples of the compounds represented by formulas (35) and (36) include the following.
That is, ethylenediamine, propylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, dodecamethylenediamine, propane-1,2-diamine, bis (3-aminopropyl) methylamine, , 3-Bis (3-aminopropyl) tetramethylsiloxane, piperazine, 2,5-dimethylpiperazine, N- (2-aminoethyl) piperazine, 4-amino-2,2-6,6-tetramethylpiperidine, N ,
Aliphatic diamine compounds such as N-dimethylethylenediamine, lysine, L-cystine, isophoronediamine;

【0085】o−フェニレンジアミン、m−フェニレン
ジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−トリレン
ジアミン、ベンジジン、o−ジトルイジン、o−ジアニ
シジン、4−ニトロ−m−フェニレンジアミン、2,5
−ジメトキシ−p−フェニレンジアミン、ビス−(4−
アミノフェニル)スルホン、4−カルボキシ−o−フェ
ニレンジアミン、3−カルボキシ−m−フェニレンジア
ミン、4,4’−ジアミノフェニルエーテル、1,8−
ナフタレンジアミン等のような芳香族ジアミン化合物;
2−アミノイミダゾール、3−アミノトリアゾール、5
−アミノ−lH−テトラゾール、4−アミノピラゾー
ル、2−アミノベンズイミダゾール、2−アミノ−5−
カルボキシートリアゾール、2,4−ジアミノ−6−メ
チル−S−トリアジン、2,6−ジアミノピリジン、L
−ヒスチジン、DL−トリプトファン、アデニン等のよ
うな複素環アミン化合物;
O-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-tolylenediamine, benzidine, o-ditoluidine, o-dianisidine, 4-nitro-m-phenylenediamine, 2,5
-Dimethoxy-p-phenylenediamine, bis- (4-
Aminophenyl) sulfone, 4-carboxy-o-phenylenediamine, 3-carboxy-m-phenylenediamine, 4,4′-diaminophenylether, 1,8-
Aromatic diamine compounds such as naphthalenediamine;
2-aminoimidazole, 3-aminotriazole, 5
-Amino-1H-tetrazole, 4-aminopyrazole, 2-aminobenzimidazole, 2-amino-5-
Carboxy-triazole, 2,4-diamino-6-methyl-S-triazine, 2,6-diaminopyridine, L
-Heterocyclic amine compounds such as histidine, DL-tryptophan, adenine and the like;

【0086】エタノールアミン、N−メチルエタノール
アミン、N−エチルエタノールアミン、1−アミノ−2
−プロパノール、1−アミノ−3−プロパノール、2−
アミノエトキシエタノール、2−アミノチオエトキシエ
タノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノー
ル、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール、o
−アミノフェノール、4−メチル−2−アミノフェノー
ル、2−クロロ−4−アミノフェノール、4−メトキシ
−3−アミノフェノール、4−ヒドロキシベンジルアミ
ン、4−アミノ−1−ナフトール、4−アミノサリチル
酸、4−ヒドロキシ−N−フェニルグリシン、2−アミ
ノベンジルアルコール、4−アミノフェネチルアルコー
ル、2−カルボキシ−5−アミノ−1−ナフトール、L
−チロシン等のようなアミノアルコールまたはアミノフ
ェノール化合物。
Ethanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, 1-amino-2
-Propanol, 1-amino-3-propanol, 2-
Aminoethoxyethanol, 2-aminothioethoxyethanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol, p-aminophenol, m-aminophenol, o
-Aminophenol, 4-methyl-2-aminophenol, 2-chloro-4-aminophenol, 4-methoxy-3-aminophenol, 4-hydroxybenzylamine, 4-amino-1-naphthol, 4-aminosalicylic acid, 4-hydroxy-N-phenylglycine, 2-aminobenzyl alcohol, 4-aminophenethyl alcohol, 2-carboxy-5-amino-1-naphthol, L
Amino alcohol or aminophenol compounds such as tyrosine and the like.

【0087】本発明に用い得る特定ポリウレタン樹脂は
上記イソシアネート化合物およびジオール化合物を非プ
ロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知
の触媒を添加し、加熱することにより合成される。使用
するジイソシアネートおよびジオール化合物のモル比は
好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末
端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類ま
たはアミン類等で処理することにより、最終的にイソシ
アネート基が残存しない形で合成される。
The specific polyurethane resin that can be used in the present invention is synthesized by adding a known catalyst having an activity corresponding to the reactivity of the above isocyanate compound and diol compound in an aprotic solvent and heating the mixture. The molar ratio of the diisocyanate and the diol compound used is preferably 0.8: 1 to 1.2: 1. When the isocyanate group remains at the polymer terminal, the polymer is treated with alcohols or amines to obtain the final Is synthesized in such a manner that no isocyanate group remains.

【0088】本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、ポ
リマー末端、主鎖、側鎖に不飽和結合を有するものも好
適に使用される。不飽和結合を有することにより、重合
性化合物と、またはポリウレタン樹脂間で架橋反応が起
こり、その結果、光硬化物強度が増し、平板印刷版に適
用した際、耐刷力に優れる版材を与えることができる。
不飽和結合としては、架橋反応の起こり易さから、炭素
−炭素二重結合が特に好ましい。
As the specific polyurethane resin according to the present invention, those having an unsaturated bond at the polymer terminal, main chain or side chain are preferably used. By having an unsaturated bond, a cross-linking reaction occurs between the polymerizable compound and the polyurethane resin, and as a result, the photocured product strength is increased, and when applied to a lithographic printing plate, a plate material having excellent printing durability is provided. be able to.
As the unsaturated bond, a carbon-carbon double bond is particularly preferable because a crosslinking reaction easily occurs.

【0089】ポリマー末端に不飽和基を導入する方法と
しては、以下に示す方法がある。すなわち、前述のポリ
ウレタン樹脂合成の過程での、ポリマー末端にイソシア
ネート基が残存した場合、アルコール類またはアミン類
等で処理する過程において、不飽和基を有するアルコー
ル類またはアミン類等を用いればよい。その様な化合物
としては、具体的には以下のものを挙げることができ
る。
As a method for introducing an unsaturated group into the polymer terminal, the following method is available. That is, when an isocyanate group remains at the polymer terminal in the process of synthesizing the polyurethane resin described above, an alcohol or an amine having an unsaturated group may be used in the process of treating with an alcohol or an amine. Specific examples of such compounds include the following.

【0090】[0090]

【化22】 Embedded image

【0091】[0091]

【化23】 Embedded image

【0092】[0092]

【化24】 Embedded image

【0093】[0093]

【化25】 Embedded image

【0094】主鎖、側鎖に不飽和基を導入する方法とし
ては、不飽和基を有するジオール化合物をポリウレタン
樹脂合成に用いる方法がある。不飽和基を有するジオー
ル化合物としては、具体的に以下の化合物を挙げること
ができる。式(37)または(38)で示されるジオー
ル化合物。具体的には以下に示すものが挙げられる。
As a method for introducing an unsaturated group into the main chain or side chain, there is a method in which a diol compound having an unsaturated group is used for synthesizing a polyurethane resin. Specific examples of the diol compound having an unsaturated group include the following compounds. A diol compound represented by the formula (37) or (38). Specific examples include the following.

【0095】[0095]

【化26】 Embedded image

【0096】式(37)で示されるジオール化合物とし
ては、具体的には、2−ブテン−1,4−ジオール等
が、式(38)で示されるジオール化合物としては、c
is−2−ブテン−1,4−ジオール、trans−2
−ブテン−1,4−ジオール等がそれぞれ挙げられる。
Specific examples of the diol compound represented by the formula (37) include 2-butene-1,4-diol and the like, and examples of the diol compound represented by the formula (38) include c
is-2-butene-1,4-diol, trans-2
-Butene-1,4-diol and the like.

【0097】側鎖に不飽和基を有するジオール化合物。
具体的には下記に示す化合物を挙げることができる。
A diol compound having an unsaturated group in the side chain.
Specific examples include the following compounds.

【0098】[0098]

【化27】 Embedded image

【0099】本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、好
ましくは、主鎖及び/又は側鎖に芳香族基を含有したも
のである。より好ましくは、芳香族基の含有量がポリウ
レタン樹脂中、10〜80重量%の範囲である。かかる
特定ポリウレタン樹脂は、カルボキシル基を有するポリ
ウレタン樹脂であることが好ましく、その含有量は、カ
ルボキシル基が0.4meq/g以上含まれていること
が好ましく、より好ましくは、0.4〜3.5meq/
gの範囲である。また、特定ポリウレタン樹脂の分子量
としては、好ましくは重量平均分子量で1000以上で
あり、より好ましくは、10000〜30万の範囲であ
る。
The specific polyurethane resin according to the present invention preferably contains an aromatic group in a main chain and / or a side chain. More preferably, the content of the aromatic group is in the range of 10 to 80% by weight in the polyurethane resin. Such a specific polyurethane resin is preferably a polyurethane resin having a carboxyl group, and its content is preferably at least 0.4 meq / g, more preferably from 0.4 to 3. 5 meq /
g. The molecular weight of the specific polyurethane resin is preferably 1,000 or more in terms of weight average molecular weight, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000.

【0100】本発明に係る特定のポリウレタン樹脂は単
独で用いても、2種以上を混合して使用してもよい。ま
た、本発明の効果を損なわない限りにおいて、(A)ポ
リウレタン樹脂の他に、他の高分子化合物を混合して使
用することができる。この場合、他の高分子化合物は、
(A)ポリウレタン樹脂を含む全高分子化合物中で90
重量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは7
0重量%以下である。
The specific polyurethane resin according to the present invention may be used alone or in combination of two or more. Further, as long as the effects of the present invention are not impaired, other polymer compounds can be used in combination with the polyurethane resin (A). In this case, the other polymer compound is
(A) 90% of all polymer compounds including polyurethane resin
% By weight or less, more preferably 7% by weight or less.
0% by weight or less.

【0101】本発明の画像記録材料中に含まれる(A)
特定ポリウレタン樹脂の含有量は固形分で約5〜95重
量%であり、好ましくは、約10〜85重量%である。
添加量が5重量%未満の場合は、画像形成した際、画像
部の強度が不足する。また添加量が95重量%を越える
場合は、画像形成されない。
(A) contained in the image recording material of the present invention.
The content of the specific polyurethane resin is about 5 to 95% by weight, preferably about 10 to 85% by weight in solid content.
When the addition amount is less than 5% by weight, the strength of the image portion is insufficient when an image is formed. When the amount exceeds 95% by weight, no image is formed.

【0102】[(B)ラジカル重合性化合物]本発明に
使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。こ
の様な化合物群は当該産業分野において広く知られるも
のであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用い
る事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。
[(B) Radical polymerizable compound] The radical polymerizable compound used in the present invention is a radical polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has a terminal ethylenically unsaturated bond. At least one
, Preferably two or more compounds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the invention without any particular limitation. These have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters and amides thereof, and are preferred. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an epoxy, a monofunctional or A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving group such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like.

【0103】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシ
プロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。
Specific examples of the radical polymerizable compound which is an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3-butane. Diol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, , 4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, penta Risuri toll triacrylate,
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate,
Examples include sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and polyester acrylate oligomer.

【0104】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Examples of the methacrylic acid ester include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0105】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0106】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
The crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.

【0107】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

【0108】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

【0109】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

【0110】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0111】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Examples of other preferred amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0112】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule to which a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (VI) is added. And vinyl urethane compounds containing at least two polymerizable vinyl groups.

【0113】一般式(VI) CH2=C(R41)COOCH2CH(R42)OH (ただし、R41およびR42は、HまたはCH3を示
す。)
Formula (VI) CH 2 CC (R 41 ) COOCH 2 CH (R 42 ) OH (where R 41 and R 42 represent H or CH 3 )

【0114】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。
Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, and JP-B-58-167.
No. 49860, No. 56-17654, No. 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0115】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
するラジカル重合性化合物類を用いても良い。
Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 may be used. good.

【0116】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。
As another example, see JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
No. 490, polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in each publication. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Japan Adhesion Association Journal vol. 20, No. 7, pages 300-308 (198
(4 years) as photocurable monomers and oligomers can also be used.

【0117】ラジカル重合性化合物は単独で用いても2
種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物
について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか
併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細
は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設
定できる。画像記録材料中のラジカル重合性化合物の配
合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多す
ぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、画像記
録層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録層
成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液から
の析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点か
ら、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの
場合、組成物全成分に対して5〜80重量%、好ましく
は20〜75重量%である。ラジカル重合性化合物の使
用法は、所望の特性から適切な構造、配合、添加量を任
意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りと
いった層構成・塗布方法も実施しうる。
Even when the radical polymerizable compound is used alone,
More than one species may be used in combination. Details of how to use these radically polymerizable compounds, such as what kind of structure to use, whether to use them alone or in combination, and the amount of addition, are optional according to the performance design of the final recording material. Can be set to Regarding the compounding ratio of the radical polymerizable compound in the image recording material, the larger the ratio, the better the sensitivity. However, if the ratio is too large, undesired phase separation may occur or the production process due to the stickiness of the image recording layer may occur. (For example, poor production resulting from transfer of recording layer components and adhesion) and problems such as precipitation from a developer. From these viewpoints, a preferable compounding ratio of the radical polymerizable compound is, in many cases, from 5 to 80% by weight, and preferably from 20 to 75% by weight, based on all components of the composition. The method of using the radically polymerizable compound can be arbitrarily selected from appropriate structures, blending, and addition amounts based on desired properties, and in some cases, a layer structure and a coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

【0118】[(C)光熱変換剤]本発明の画像記録材
料は、ヒートモード露光、代表的には、赤外線を発する
レーザにより、記録を行なうことから、光熱変換剤を用
いることが必須である。光熱変換剤は、所定の波長の光
を吸収し、熱に変換する機能を有している。この際発生
した熱により、(D)成分、即ちこの(C)光熱変換剤
が吸収し得る波長の光のヒートモード露光によりラジカ
ルを生成する化合物が分解し、ラジカルを発生する。本
発明において使用される光熱変換剤は吸収した光を熱に
変換する機能を有するものであればよいが、一般的に
は、書き込みに使用される赤外線レーザの波長、即ち、
波長760nmから1200nmに吸収極大を有する、
所謂、赤外線吸収剤として知られる染料又は顔料が挙げ
られる。
[(C) Photothermal Conversion Agent] Since the image recording material of the present invention performs recording by heat mode exposure, typically a laser emitting infrared rays, it is essential to use a photothermal conversion agent. . The photothermal conversion agent has a function of absorbing light of a predetermined wavelength and converting the light into heat. The heat generated at this time decomposes the component (D), that is, the compound that generates a radical by heat mode exposure to light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal conversion agent, thereby generating a radical. The photothermal conversion agent used in the present invention may be any as long as it has a function of converting absorbed light into heat.In general, the wavelength of an infrared laser used for writing, that is,
Having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm,
Dyes or pigments known as so-called infrared absorbers are mentioned.

【0119】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned.

【0120】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.

【0121】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.

【0122】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Further, as another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.

【0123】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。
Of these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (I) is most preferable.

【0124】[0124]

【化28】 Embedded image

【0125】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R1およびR2は、それぞれ独立に、炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の
保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2
とは互いに結合し、5員環または6員環を形成している
ことが特に好ましい。
In the general formula (I), X 1 is a halogen atom,
Or an X 2 -L 1. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of a photosensitive layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having two or more carbon atoms, further, R 1 and R 2
And particularly preferably combine with each other to form a 5- or 6-membered ring.

【0126】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Z1-は必要
ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred examples of the substituent include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms,
Examples include a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R
7 and R 8 may be the same or different,
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the viewpoint of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferable. Z 1- represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Z 1- is not required. Preferred Z 1− is, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution, a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion,
And sulfonate ions, particularly preferably perchlorate ion, hexafluorophosphate ion and arylsulfonate ion.

【0127】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特願平11−310623号明細書の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (I) which can be suitably used include paragraph [0] of Japanese Patent Application No. 11-310623.
017] to [0019].

【0128】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
The pigments used in the present invention include:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used.

【0129】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0130】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0131】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution of the image-sensitive layer.

【0132】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0133】これらの光熱変換剤は、他の成分と同一の
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よいが、ネガ型画像形成材料を作成した際に、感光層の
波長760nm〜1200nmの範囲における吸収極大
での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが好ま
しい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向が
ある。光学濃度は前記光熱変換剤の添加量と記録層の厚
みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者の条
件を制御することにより得られる。記録層の光学濃度は
常法により測定することができる。測定方法としては、
例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の塗布
量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定され
た厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測定す
る方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録層を
形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
These light-to-heat converting agents may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided. However, when a negative type image forming material is prepared, It is preferable that the optical density of the photosensitive layer at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is between 0.1 and 3.0. Outside of this range, sensitivity tends to decrease. Since the optical density is determined by the amount of the photothermal conversion agent added and the thickness of the recording layer, a predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measurement method,
For example, on a transparent or white support, a coating layer having a thickness determined appropriately within a range required for a lithographic printing plate after drying is formed, and a method of measuring with a transmission optical densitometer, aluminum And the like, in which a recording layer is formed on a reflective support such as the above, and the reflection density is measured.

【0134】[(D)(C)光熱変換剤が吸収する事で
きる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成
する化合物]ヒートモード露光によりラジカルを生成す
る化合物(以下、適宜ラジカル開始剤と称する)は、前
記(C)光熱変換剤と組み合わせて用い、光熱変換剤が
吸収し得る波長の光、例えば、赤外線レーザを照射した
際にその光又は熱或いはその双方のエネルギーによりラ
ジカルを発生し、(B)重合性の不飽和基を有するラジ
カル重合性化合物の重合を開始、促進させる化合物を指
す。ここで、「ヒートモード露光」とは、前記本発明に
おける定義に従うものとする。ラジカル開始剤として
は、公知の光重合開始剤、熱重合開始剤などを選択して
使用することができ、例えば、オニウム塩、トリハロメ
チル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系重
合開始剤、アジド化合物、キノンジアジドなどが挙げら
れるが、オニウム塩が高感度であり、好ましい。
[(D) (C) Compound that generates a radical by heat mode exposure to light having a wavelength that can be absorbed by the photothermal converter] A compound that generates a radical by heat mode exposure (hereinafter referred to as a radical initiator as appropriate) ) Is used in combination with the photothermal conversion agent (C) to generate radicals by light or heat or both energy when irradiating light having a wavelength that the photothermal conversion agent can absorb, for example, an infrared laser; (B) A compound that initiates and promotes polymerization of a radically polymerizable compound having a polymerizable unsaturated group. Here, the “heat mode exposure” follows the definition in the present invention. As the radical initiator, known photopolymerization initiators, thermal polymerization initiators and the like can be selected and used, for example, onium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo-based polymerization initiators , Azide compounds, quinonediazides, etc., and onium salts are preferred because of their high sensitivity.

【0135】本発明においてラジカル開始剤として好適
に用い得るオニウム塩について説明する。好ましいオニ
ウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、ス
ルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらの
オニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤
として機能する。本発明において好適に用いられるオニ
ウム塩は、下記一般式(III)〜(V)で表されるオニ
ウム塩である。
An onium salt that can be suitably used as a radical initiator in the present invention will be described. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. Onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (III) to (V).

【0136】[0136]

【化29】 Embedded image

【0137】式(III)中、Ar11とAr12は、それぞ
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。
In the formula (III), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. When the aryl group has a substituent, preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a 12 or less carbon atom. Aryloxy groups. Z 11- represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and is preferably a perchlorate ion or a hexafluorophosphate. And arylsulfonate ions.

【0138】式(IV)中、Ar21は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数1
2個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21 -はZ11-
と同義の対イオンを表す。
In the formula (IV), Artwenty oneHas a substituent
And represents an aryl group having 20 or less carbon atoms. Good
Preferred substituents include halogen atoms, nitro groups, carbon
Alkyl group with 12 or less atoms, 12 or less carbon atoms
An alkoxy group having 12 or less carbon atoms
Si group, alkylamino group having 12 or less carbon atoms, carbon
Dialkylamino group having 12 or less atoms, 1 carbon atom
2 or less arylamino groups or 12 carbon atoms
The following diarylamino groups are mentioned. Ztwenty one -Is Z11-
Represents a counter ion having the same meaning as

【0139】式(V)中、R31、R32及びR33は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。
In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

【0140】本発明において、ラジカル発生剤として好
適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、
特願平11−310623号明細書の段落番号[003
0]〜[0033]に記載されたものを挙げることがで
きる。
In the present invention, specific examples of the onium salt that can be suitably used as a radical generator include:
Paragraph number [003 of Japanese Patent Application No. 11-310623]
0] to [0033].

【0141】また、特開平9−34110号公報の段落
番号[0012]〜[0050]に記載の一般式(I)
〜(IV)で表されるオニウム塩、特開平8−10862
1公報の段落番号[0016]に記載の熱重合開始剤な
どの公知の重合開始剤も好ましく用いられる。本発明に
おいて用いられるラジカル開始剤は、極大吸収波長が4
00nm以下であることが好ましく、さらに360nm
以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外
線領域にすることにより、画像記録材料の取り扱いを白
灯下で実施することができる。
The general formula (I) described in paragraphs [0012] to [0050] of JP-A-9-34110
-Onium salts represented by formulas (IV) to (IV):
Known polymerization initiators such as the thermal polymerization initiator described in Paragraph No. [0016] of JP-A-1 (1998) are also preferably used. The radical initiator used in the present invention has a maximum absorption wavelength of 4
00 nm or less, preferably 360 nm
The following is preferred. By setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the image recording material can be handled under a white light.

【0142】[その他の成分]本発明の画像記録材料に
は、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添
加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染
料を画像の着色剤として使用することができる。具体的
には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#10
3、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。
[Other Components] In the image recording material of the present invention, various compounds other than these may be further added, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 10
3. Oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-50
5 (from Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., and JP-A-62-29324
No. 7 can be mentioned. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can be suitably used.

【0143】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、感光層塗布液全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
These colorants are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is based on the total solid content of the photosensitive layer coating solution.
The ratio is 0.01 to 10% by weight.

【0144】また、本発明においては、画像記録材料の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合性化合物の
不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添
加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハ
イドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニ
トロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム
塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物
の重量に対して約0.01重量%〜約5重量%が好まし
い。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止する
ためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘
導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面
に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全
組成物の約0.1重量%〜約10重量%が好ましい。
In the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radically polymerizable compound during preparation or storage of the image recording material. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol) ), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% by weight based on the weight of the whole composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The added amount of the higher fatty acid derivative is preferably from about 0.1% to about 10% by weight of the whole composition.

【0145】また、本発明における画像記録材料は、主
として平版印刷版原版の画像記録層を形成するために用
いられるが、そのような画像記録層の現像条件に対する
処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740
号や特開平3−208514号に記載されているような
非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号、特
開平4−13149号に記載されているような両性界面
活性剤を添加することができる。
The image recording material of the present invention is mainly used for forming an image recording layer of a lithographic printing plate precursor. Kaikai 62-251740
And non-ionic surfactants described in JP-A-3-208514, and amphoteric surfactants described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Can be.

【0146】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like.

【0147】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光
層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0148】さらに、本発明に係る感光層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。
Further, a plasticizer may be added to the photosensitive layer coating solution according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.

【0149】本発明の画像記録材料により平版印刷版原
版を製造するには、通常、画像記録材料の構成成分を塗
布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適当な
支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好
ましくは1〜50重量%である。
In order to produce a lithographic printing plate precursor from the image recording material of the present invention, usually, the components of the image recording material are dissolved in a solvent together with the components necessary for the coating solution, and coated on a suitable support. do it. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.

【0150】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画
像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なる
が、平版印刷版原版についていえば一般的に0.5〜
5.0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種
々の方法を用いることができるが、例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディ
ップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗
布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれ
て、見かけの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性
は低下する。
The coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally ranges from 0.5 to 0.5 for a lithographic printing plate precursor.
5.0 g / m 2 is preferred. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording layer deteriorate.

【0151】本発明に係る画像記録層塗布液には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−
170950号に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感
光層の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好まし
くは0.05〜0.5重量%である。
The coating solution for the image recording layer according to the present invention may contain a surfactant for improving the coating property, for example, a surfactant described in
A fluorinated surfactant as described in JP 170950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire photosensitive layer.

【0152】(保護層)本発明の画像記録材料を平版印
刷版原版に用いる場合は、通常、露光を大気中で行うた
め、光重合性組成物を含む画像記録層の上に、さらに、
保護層を設ける事が好ましく、この様な保護層に望まれ
る特性としては、酸素等の低分子化合物の透過性が低
く、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着
性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる
ことであり、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性
高分子化合物を用いることが一般的である。本発明の画
像記録材料においては、皮膜形成樹脂として、塗膜形成
後の膜中溶存酸素量が低く、更に外部からの酸素遮断性
が高い前記特定のポリウレタン樹脂を用いているため、
酸素などの重合阻害による画像形成性の低下を抑制しう
るという利点を有するため、必ずしもこのような保護層
を備えなくてもよいが、さらに外部からの酸素遮断性を
高め、画像形成性、特に、画像強度を高める目的で上記
保護層を備えてもよい。
(Protective Layer) When the image-recording material of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor, exposure is usually performed in the air.
It is preferable to provide a protective layer, and the desired properties of such a protective layer include low permeability of low molecular compounds such as oxygen, good transparency of light used for exposure, and adhesion to the recording layer. Water-soluble polymers that are excellent in crystallinity, such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. It is common to use compounds. In the image recording material of the present invention, as the film-forming resin, the specific polyurethane resin having a low dissolved oxygen content in the film after the film is formed and further having a high oxygen barrier property from the outside is used.
It has the advantage of being able to suppress a decrease in image forming properties due to polymerization inhibition of oxygen and the like, and thus it is not always necessary to provide such a protective layer. The protective layer may be provided for the purpose of enhancing image strength.

【0153】(支持体)本発明の画像記録材料を用いて
平版印刷版原版を形成する場合に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、
例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた
紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プ
ラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板
などの単一成分のシートであっても、2以上の材料の積
層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミ
ネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィル
ム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が
含まれる。
(Support) The support used for forming a lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate.
For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) , Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.). These may be a single-component sheet such as a resin film or a metal plate, or a laminate of two or more materials, for example, a paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above. And laminated sheets of different types of plastic films.

【0154】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜
0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmであ
る。
As the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight
It is as follows. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate,
About 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to
It is 0.4 mm, particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

【0155】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が
行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々
の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学
的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができ
る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸
電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、
特開昭54−63902号公報に開示されているように
両者を組み合わせた方法も利用することができる。この
ように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、ア
ルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性
や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことがで
きる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解
質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の
使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム
酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の
濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Also,
As disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used. The aluminum plate thus roughened may be subjected to an anodic oxidation treatment through alkali etching treatment and neutralization treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0156】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸
化被膜が1.0g/m2 未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, and the solution temperature is 5 to 70 ° C.
Current density 5 to 60 A / dm 2, voltage 1 to 100 V, which is an electrolyzing time of 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, and the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. "Scratch dirt" is likely to occur. Although such anodizing treatment is performed on a surface used for printing of the support of lithographic printing plates, the back around the electric lines of force, 0.01 to 3 g / m 2 on the back surface
Is generally formed.

【0157】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号及び第3,902,7
34号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第3,276,868号、同第4,15
3,461号、同第4,689,272号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。これらの中で、本発明において特に好ま
しい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理につい
て、以下に説明する。
The hydrophilizing treatment of the surface of the support is performed after the above-described anodic oxidation treatment, and a conventionally known treatment method is used. As such a hydrophilic treatment,
U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,4
No. 61, No. 3,280,734 and No. 3,902,7
There is an alkali metal silicate (for example, an aqueous solution of sodium silicate) disclosed in Japanese Patent No. 34-34. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, Japanese Patent Publication No. 36-22
No. 063, and potassium fluoride zirconate disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,15.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A-3,461 and JP-A-4,689,272 is used. Among these, a particularly preferred hydrophilic treatment in the present invention is a silicate treatment. The silicate treatment will be described below.

【0158】上述の如き処理を施したアルミニウム板の
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30重
量%、好ましくは0.5〜10重量%であり、25℃で
のpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜80
℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水
溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より
高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられ
るアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金
属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸
化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。
アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ス
トロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのよう
な硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族
金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チ
タンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、
第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用する
ことができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.0
1〜10重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜
5.0重量%である。珪酸塩処理により、アルミニウム
板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、イ
ンクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上す
る。
The anodic oxide film of the aluminum plate treated as described above was coated with an alkali metal silicate in an amount of 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight, and a pH at 25 ° C. of 10 to 10% by weight. Aqueous solution, for example, 15 to 80
Soak at 0.5C for 0.5-120 seconds. If the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution will gel, and if it is higher than 13.0, the oxide film will be dissolved. As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. In addition, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned processing solution.
Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. No. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride and the like. Can be. Alkaline earth metal salt or
The Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.0
1 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight.
5.0% by weight. Since the silicate treatment further improves the hydrophilicity on the aluminum plate surface, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.

【0159】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および
特開平6−35174号公報記載の有機または無機金属
化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化
物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆
層のうち、Si(OCH3 4 、Si(OC
2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC
4 9 4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像
性に優れており特に好ましい。
A back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. Examples of the back coat include a coating comprising a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC
Alkoxy compounds of silicon such as 4 H 9 ) 4 are inexpensive and readily available, and a coating layer of a metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.

【0160】以上のようにして、本発明の画像記録材料
により平版印刷版原版を作成することができる。この平
版印刷版原版は、赤外線レーザで記録できる。また、紫
外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能で
ある。本発明においては、波長760nmから1200
nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザに
より画像露光されることが好ましい。
As described above, a lithographic printing plate precursor can be prepared from the image recording material of the present invention. This lithographic printing plate precursor can be recorded with an infrared laser. Also, thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is possible. In the present invention, a wavelength of 760 nm to 1200
It is preferable that the image is exposed by a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared light of nm.

【0161】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。
After exposure with an infrared laser, the image recording material of the present invention is preferably developed with water or an aqueous alkaline solution.

【0162】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、
ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙
げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わ
せて用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used as the developer, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer and replenisher for the image recording material of the present invention. For example,
Sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, Inorganic alkali salts such as sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine,
Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, etc. Organic alkaline agents are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

【0163】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じものまたは、現像液よりもアルカリ
強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによ
って、長時間現像タンク中の現像液を交換することな
く、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られて
いる。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用さ
れる。
Further, when developing using an automatic developing machine, the same solution as the developing solution or an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenishing solution) is added to the developing solution to allow the developing tank to be used for a long time. It is known that a large amount of a lithographic printing plate precursor can be processed without replacing the developer. This replenishment system is also preferably applied in the present invention.

【0164】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。
Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. . Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Preferred organic solvents include benzyl alcohol and the like. It is also preferable to add polyethylene glycol or a derivative thereof, or polypropylene glycol or a derivative thereof. Further, non-reducing sugars such as arabit, sorbit, and mannitol can also be added.

【0165】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, an inorganic salt-based reducing agent such as hydroquinone, resorcin, sodium or potassium sulfite or bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, a hard water Softeners can also be added.

【0166】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
The printing plate developed using the above-described developing solution and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. You. As the post-processing when the image recording material of the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations.

【0167】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate material, each processing solution tank, and a spray device. The developing process is performed by spraying each pumped processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like into a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such automatic processing,
Processing can be performed while replenishing each processing solution with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, the electric conductivity can be detected by a sensor and replenished automatically. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0168】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitized gum if desired. However, when a lithographic printing plate having higher printing durability is desired, Is subjected to a burning process.

【0169】平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
In the case of burning a lithographic printing plate, prior to burning, JP-B Nos. 61-2518 and 55-280.
No. 62, JP-A-62-131859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each of the publications No. 55.

【0170】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
[0170] As a method for this, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied onto a lithographic printing plate,
A method in which a printing plate is immersed in a vat filled with a surface conditioning liquid to apply the printing plate, an application using an automatic coater, or the like is applied. Further, it is preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is appropriate.

【0171】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned with a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature by a burning processor (BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred.

【0172】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0173】このような処理によって、本発明の画像記
録材料より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate obtained from the image recording material of the present invention by such processing is applied to an offset printing machine or the like, and used for printing a large number of sheets.

【0174】[0174]

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例および比較例
により更に詳細に説明するが、本発明がこれにより限定
されるものではない。 (合成例1;ポリウレタン樹脂1)コンデンサー、撹拌
機を備えた500mlの3つ口丸底フラスコに2,2−
ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸8.2g(0.05
モル)、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル
7.8g(0.05モル)をN,N−ジメチルアセトア
ミド100mlに溶解した。これに、4,4−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート20.0g(0.08モ
ル)、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート3.4
g(0.02モル)、ジブチル錫ジラウリレート0.l
gを添加し、100℃にて、8時間加熱撹拌した。その
後、N,N−ジメチルホルムアミド100mlおよびメ
チルアルコール200mlにて希釈した。反応溶液を水
3リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを
析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空
下乾燥させることにより32gのポリマーを得た。ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー(GPC)にて分
子量を測定したところ、重量平均分子量(ポリスチレン
標準)で110,000であった。更に滴定により、カ
ルボキシル基含有量(酸価)を測定したところ、1.3
3meq/gであった。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. (Synthesis Example 1: Polyurethane resin 1) A 2-ml 500 ml three-necked round bottom flask equipped with a condenser and a stirrer
8.2 g of bis (hydroxymethyl) butanoic acid (0.05
Mol) and 7.8 g (0.05 mol) of trimethylolpropane monoallyl ether were dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide. To this, 20.0 g (0.08 mol) of 4,4-diphenylmethane diisocyanate and 3.4 of 1,6-hexamethylene diisocyanate were added.
g (0.02 mol), dibutyltin dilaurate 0. l
g was added and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 8 hours. Thereafter, the mixture was diluted with 100 ml of N, N-dimethylformamide and 200 ml of methyl alcohol. The reaction solution was poured into 3 liters of water while stirring to precipitate a white polymer. The polymer was separated by filtration, washed with water, and dried under vacuum to obtain 32 g of a polymer. When the molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC), the weight average molecular weight (polystyrene standard) was 110,000. Further, when the carboxyl group content (acid value) was measured by titration, it was 1.3.
It was 3 meq / g.

【0175】(合成例2;ポリウレタン樹脂21)2,
2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸10.3g
(0.077モル)、ポリプロピレングリコール(重量
平均分子量1000)23.0g(0.023モル)を
N,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解した。
これに4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート2
0.0g(0.08モル)、ヘキサメチエレンジイソシ
アネート3.4g(0.02モル)を用い、合成例1と
同様にして反応、後処理を行った。白色のポリマー80
gを得た。GPCにより分子量を測定したところ重量平
均(ポリスチレン標準)で100,000であった。ま
た滴定により、カルボキシル基含有量(酸価)を測定し
たところ1.35meq/gであった。
(Synthesis Example 2: Polyurethane resin 21) 2,
10.3 g of 2-bis (hydroxymethyl) propionic acid
(0.077 mol) and 23.0 g (0.023 mol) of polypropylene glycol (weight average molecular weight 1000) were dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide.
To this, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate 2
Using 0.0 g (0.08 mol) and 3.4 g (0.02 mol) of hexamethylenediisocyanate, the reaction and post-treatment were carried out in the same manner as in Synthesis Example 1. White polymer 80
g was obtained. The molecular weight measured by GPC was 100,000 in weight average (polystyrene standard). The content of the carboxyl group (acid value) was measured by titration and found to be 1.35 meq / g.

【0176】以下、合成例1又は合成例2と同様にし
て、下記表1〜表5に示したジイソシアネート化合物と
ジオール化合物を用い、本発明のポリウレタン樹脂(ポ
リウレタン樹脂1〜ポリウレタン樹脂28)を合成し
た。更にGPCにより分子量を測定し、滴定により酸価
を測定した。測定した結果を表1〜表5に示す。
The polyurethane resins (polyurethane resins 1 to 28) of the present invention were synthesized using the diisocyanate compounds and diol compounds shown in the following Tables 1 to 5 in the same manner as in Synthesis Example 1 or Synthesis Example 2. did. Further, the molecular weight was measured by GPC, and the acid value was measured by titration. Tables 1 to 5 show the measured results.

【0177】[0177]

【表1】 [Table 1]

【0178】[0178]

【表2】 [Table 2]

【0179】[0179]

【表3】 [Table 3]

【0180】[0180]

【表4】 [Table 4]

【0181】[0181]

【表5】 [Table 5]

【0182】(実施例1〜5、比較例1) [支持体の作成]99.5%以上のアルミニウムと、F
e 0.30%、Si 0.10%、Ti 0.02
%、Cu 0.013%を含むJIS A1050合金
の溶湯を清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理に
は、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱
ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこな
った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚50
0mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物
が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質
化処理を行った。次いで、400℃で熱間圧延し、連続
焼鈍炉中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を
行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とし
た。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延
後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。
その後、平面性を向上させるためにテンションレベラー
にかけた。
(Examples 1 to 5, Comparative Example 1) [Preparation of Support] 99.5% or more of aluminum and F
e 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02
% And a melt of JIS A1050 alloy containing 0.013% of Cu were subjected to a cleaning treatment and cast. In the cleaning treatment, a degassing treatment was performed to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter treatment was performed. The casting was performed by DC casting. Solidified plate thickness 50
A 0 mm ingot was chamfered from the surface by 10 mm, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours to prevent the intermetallic compound from becoming coarse. Next, after hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing in a continuous annealing furnace at 500 ° C. for 60 seconds, cold rolling was performed to obtain a rolled aluminum sheet having a sheet pressure of 0.30 mm. The center line average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm by controlling the roughness of the rolling roll.
Then, it was subjected to a tension leveler to improve the flatness.

【0183】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒
間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
Next, a surface treatment for forming a lithographic printing plate support was performed. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, a degreasing treatment was performed with a 10% aqueous sodium aluminate solution at 50 ° C. for 30 seconds, and a 30% sulfuric acid aqueous solution was neutralized at 50 ° C. for 30 seconds and a smut removal treatment was performed.

【0184】次いで、支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%
の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー
比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%
アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処
理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、ス
マット除去処理を行った。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the recording layer and to impart water retention to the non-image rear portion, a so-called graining treatment was performed to roughen the surface of the support. 1%
Aqueous solution containing 0.5% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate
° C while flowing an aluminum web in an aqueous solution, the anode-side electricity quantity 240 C / dm 2 with an alternating waveform having a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect feeding cell.
Electrolytic graining was performed by giving 2 . Then 10%
Etching was performed with a sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal were performed with a 30% aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C. for 30 seconds.

【0185】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。
In order to further improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. An anodic oxide film of 2.5 g / m 2 is obtained by performing an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power supply cell while carrying an aluminum web through the electrolyte using a 20% aqueous solution of sulfuric acid at 35 ° C. as an electrolyte. It was created.

【0186】その後、印刷版非画像部としての親水性を
確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪
酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの
接触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。
Siの付着量は10mg/m 2であった。以上により作
成した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μm
であった。
Thereafter, the hydrophilicity of the non-image portion of the printing plate was determined.
To secure, silicate treatment was performed. Processing is No.3 silicon
A 1.5% aqueous solution of acid soda is maintained at 70 ° C.
It was transported so that the contact time was 15 seconds, and was further washed with water.
The amount of Si attached is 10 mg / m TwoMet. Work
Ra (center line surface roughness) of the formed support is 0.25 μm
Met.

【0187】[感光層の形成]下記感光層塗布液(P−
1)を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム
支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置
にて115℃で45秒間乾燥して感光層を形成し、平版
印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g
/m2の範囲内であった。なお、実施例に使用したアル
カリ可溶性樹脂は前記合成例により得られた特定ポリウ
レタン樹脂(A)であり、比較例に使用したアルカリ可
溶性樹脂P−1は、ベンジリメタクリレート/メタクリ
ル酸共重合体(重合モル比=80/20、重量平均分子
量100,000の高分子化合物)である。
[Formation of photosensitive layer] The following photosensitive layer coating solution (P-
1) was prepared, applied to the aluminum support obtained as described above using a wire bar, and dried at 115 ° C. for 45 seconds with a hot air drier to form a photosensitive layer. I got the original. The coating amount after drying is 1.2 to 1.3 g
/ M 2 . In addition, the alkali-soluble resin used in the examples is the specific polyurethane resin (A) obtained in the above-mentioned synthesis example, and the alkali-soluble resin P-1 used in the comparative example is a benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer ( Polymerization molar ratio = 80/20, polymer compound having a weight average molecular weight of 100,000).

【0188】 <感光層塗布液(P−1)> ・アルカリ可溶性樹脂 (表6に記載の化合物、表6に記載の量) ・ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート(B) 1.00g ・赤外線吸収剤「IR−6」(C) 0.08g ・ヨードニウム塩「I−1」(D) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.0lg (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g<Coating solution for photosensitive layer (P-1)>-Alkali-soluble resin (compounds listed in Table 6, amount described in Table 6)-Dipentaerythritol hexaacrylate (B) 1.00 g-Infrared absorber "IR-6" (C) 0.08 g-Iodonium salt "I-1" (D) 0.30 g-Victoria pure blue naphthalenesulfonic acid 0.04 g-Fluorosurfactant 0.0lg (MegaFac F- 176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 9.0 g-Methanol 10.0 g-1-methoxy-2-propanol 8.0 g

【0189】[0189]

【化30】 Embedded image

【0190】[0190]

【表6】 [Table 6]

【0191】[露光]得られた前記各平版印刷版原版
を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCre
o社製Trendsetter3244VFSにて、出
力6.5W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネル
ギー188mJ/cm2、解像度2400dpiの条件
で露光した。露光後、版上のアブレーションの有無を目
視にて評価した。結果を前記表6に併記した。表6に明
らかな様に、本発明の画像記録材料を感光層として用い
た実施例の平版印刷版は露光時にアブレーションが生じ
ることなく、記録を行うことができた。
[Exposure] Each of the resulting lithographic printing plate precursors was used as a Cre-mounted 40 W infrared semiconductor laser.
Exposure was performed using Trendsetter 3244 VFS manufactured by O Corporation under the conditions of an output of 6.5 W, an external drum rotation speed of 81 rpm, a plate surface energy of 188 mJ / cm 2 , and a resolution of 2400 dpi. After the exposure, the presence or absence of ablation on the plate was visually evaluated. The results are shown in Table 6 above. As is clear from Table 6, the lithographic printing plate of the example using the image recording material of the present invention as a photosensitive layer was able to perform recording without causing ablation at the time of exposure.

【0192】(実施例6〜10、比較例2)下記感光層
塗布液(P−2)を調製し、上記アルミニウム支持体に
ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて11
5℃で45秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後
の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。 <感光層塗布液(P−2)> ・アルカリ可溶性樹脂 (表7に記載の化合物、表7に記載の量) ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(B) 1.00g ・赤外線吸収剤「IR−6」(C) 0.08g ・ヨードニウム塩「I−1」(D) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g
(Examples 6 to 10 and Comparative Example 2) The following photosensitive layer coating solution (P-2) was prepared, applied to the above aluminum support using a wire bar, and heated in a hot air drying apparatus.
It was dried at 5 ° C. for 45 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was in the range of 1.2 to 1.3 g / m 2. <Photosensitive layer coating solution (P-2)>-Alkali-soluble resin (compounds listed in Table 7, amounts described in Table 7)-Dipentaerythritol hexaacrylate (B) 1.00 g-Infrared absorber "IR-6" (C) 0.08 g-Iodonium salt "I-1" (D) 0.30 g-Victoria pure blue naphthalene sulfonic acid 0.04 g-Fluorosurfactant 0.01 g (MegaFac F-176, Dainippon・ Methyl ethyl ketone 9.0g ・ Methanol 10.0g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0g

【0193】[0193]

【表7】 [Table 7]

【0194】[露光]得られた平版印刷版原版を、水冷
式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製T
rendsetter3244VFSにて、出力9W、
外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100
mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光し
た。 [現像処理]露光後、富士写真フイルム(株)製自動現
像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液
は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製
DN−3Cの1:1水希釈液を用いた。現像欲浴の温度
は30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フ
イルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
[Exposure] The obtained lithographic printing plate precursor was placed in a Creo T-mount equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
output 9W at endsetter 3244VFS
External drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 100
Exposure was performed under the conditions of mJ / cm 2 and a resolution of 2400 dpi. [Development processing] After exposure, development processing was carried out using an automatic developing machine Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developing solution, a 1: 1 aqueous dilution of DN-3C manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the charging solution and the replenishing solution. The temperature of the developing greed bath was 30 ° C. The finisher used was a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.

【0195】[耐刷性の評価]次に、小森コーポレーシ
ョン(株)製印刷機リスロンを用いて印刷した。この
際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷で
きるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前
記表7に併記する。表7の結果より、本発明の画像記録
材料を感光層として用いた実施例の平版印刷版は、公知
の水不溶、且つ、アルカリ可溶性樹脂を用いた比較例2
に比べ、優れた耐刷性を達成していることがわかる。
[Evaluation of Printing Durability] Next, printing was performed using a printing machine Lithrone manufactured by Komori Corporation. At this time, how many sheets can be printed while maintaining a sufficient ink density was visually measured to evaluate the printing durability. The results are shown in Table 7 above. From the results shown in Table 7, the lithographic printing plates of Examples using the image recording material of the present invention as the photosensitive layer showed Comparative Example 2 using a known water-insoluble and alkali-soluble resin.
It can be seen that excellent printing durability was achieved as compared with.

【0196】(実施例11〜13)実施例1において感
光層塗布液の組成を下記の組成に変更する以外は同様に
して平版印刷版原版を得て、実施例1と同様の条件でレ
ーザ走査露光、現像処理を行って印刷版を得た。その印
刷版を実施例1と同様に印刷し、感度、耐刷性及び汚れ
性を評価した。また、得られた平版印刷版原版を、それ
ぞれ60℃で3日間保存、及び、45℃、湿度75%R
Hで3日間保存して強制経時させた後、前記と同様の印
刷を行ない、結果を表8に示す。
(Examples 11 to 13) A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer coating solution was changed to the following composition, and laser scanning was performed under the same conditions as in Example 1. Exposure and development were performed to obtain a printing plate. The printing plate was printed in the same manner as in Example 1, and the sensitivity, printing durability, and stain resistance were evaluated. Further, the obtained lithographic printing plate precursor was stored at 60 ° C. for 3 days, respectively, at 45 ° C. and 75% RH.
After storage at H for 3 days and forced aging, the same printing as described above was performed and the results are shown in Table 8.

【0197】 <感光層塗布液(P−3)> ・ポリウレタン樹脂(A) (表8に記載の化合物、表8に記載の量) ・ラジカル重合性化合物(B) (表8に記載の化合物、表8に記載の量) ・赤外線吸収剤「IR−6」(C) 0.08g ・ヨードニウム塩「I−1」(D) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g<Coating solution for photosensitive layer (P-3)> Polyurethane resin (A) (compounds listed in Table 8, amounts described in Table 8) Radical polymerizable compound (B) (compounds listed in Table 8) , The amount described in Table 8)-Infrared absorber "IR-6" (C) 0.08 g-Iodonium salt "I-1" (D) 0.30 g-Victoria pure blue naphthalenesulfonic acid 0.04 g-Fluorine -Based surfactant 0.01 g (MegaFac F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 9.0 g-Methanol 10.0 g-1-methoxy-2-propanol 8.0 g

【0198】[0198]

【表8】 [Table 8]

【0199】[0199]

【化31】 Embedded image

【0200】表8より、本発明の画像記録材料を感光層
として用いた平版印刷版は、非画像部の汚れもなく、耐
刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存した後も、
耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優
れていることがわかった。
From Table 8, it can be seen that the lithographic printing plate using the image recording material of the present invention as a photosensitive layer has no stain on the non-image area, has excellent printing durability, and has been stored in a high-temperature, high-humidity environment. Also,
It was found that the printing durability and the stain resistance of the non-image area did not decrease, and the stability with time was excellent.

【0201】(実施例14〜17、比較例3) [支持体の作成]厚さ0.30mmのアルミニウム版を
ナイロンブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁
波とを用いその表面を砂目立てした後、水でよく洗浄し
た。10重量%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60
秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20重
量%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをVA
12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1
重量%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定
したところ、0.6μm(Ra表示)であった。引き続
いて30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間
デスマットした後、20重量%硫酸水溶液中、電流密度
2A/dm2において、陽極酸化被膜の厚さが2.7g
/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。
(Examples 14 to 17, Comparative Example 3) [Preparation of Support] The surface of an aluminum plate having a thickness of 0.30 mm was grained using a nylon brush and a water suspension wave of pumicestone of 400 mesh. After that, it was thoroughly washed with water. 10% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 70 ° C
After immersion for 2 seconds, etching, washing with running water, neutralization washing with 20% by weight nitric acid, and then washing with water. This is V A =
Under the condition of 12.7 V, 1
The electrolytic surface-roughening treatment was performed in a weight% aqueous nitric acid solution at an anode charge of 160 coulomb / dm 2 . When the surface roughness was measured, it was 0.6 μm (Ra display). Subsequently, after immersing in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, the thickness of the anodic oxide film was 2.7 g in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution at a current density of 2 A / dm 2 .
/ M 2 for 2 minutes.

【0202】[下塗り層の形成]次に下記の手順により
SG法の液状組成物(ゾル液)を調整した。 <ゾル液組成物> ・メタノール 130g ・水 20g ・85重量%リン酸 16g ・テトラエトキシシラン 50g ・3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 60g 上記ゾル液組成物を混合し、撹拌した。約5分で発熱が
認められた。60分間反応させた後、内容物を別の容器
へ移し、メタノール3000gを加えることにより、ゾ
ル液を得た。
[Formation of Undercoat Layer] Next, a liquid composition (sol solution) of the SG method was prepared by the following procedure. <Sol liquid composition>-130 g of methanol-20 g of water-16 g of 85% by weight phosphoric acid-50 g of tetraethoxysilane-60 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane The above sol liquid composition was mixed and stirred. An exotherm was observed in about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, the content was transferred to another container, and 3000 g of methanol was added to obtain a sol solution.

【0203】このゾル液をメタノール/エチレングリコ
ール=9/1(重量比)で希釈して、基板上のSiの量
が3mg/m2となるように塗布し、100℃1分間乾
燥させた。このように処理されたアルミニウム支持体上
に、下記に示す組成の感光層塗布液(P−4)を上記の
下塗り済みのアルミニウム支持体にワイヤーバーを用い
て塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥
して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜
1.3g/m2の範囲内であった。
This sol was diluted with methanol / ethylene glycol = 9/1 (weight ratio), applied so that the amount of Si on the substrate was 3 mg / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute. On the thus treated aluminum support, a photosensitive layer coating solution (P-4) having the composition shown below is applied to the above-mentioned undercoated aluminum support by using a wire bar, and the hot air drying apparatus is used. And dried at 115 ° C. for 45 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying is 1.2 to
It was in the range of 1.3 g / m 2 .

【0204】 <感光層塗布液(P−4)> ・アルカリ可溶性樹脂 (表9に記載の化合物、表9に記載の量) ・ラジカル重合性化合物(B) (表9に記載の化合物、表9に記載の量) ・赤外線吸収剤「IR−1」(C) 0.08g ・ヨードニウム塩「I−2」(D) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g<Coating solution for photosensitive layer (P-4)> Alkali-soluble resin (compounds listed in Table 9 and amounts described in Table 9) Radical polymerizable compound (B) (compounds listed in Table 9 and Tables 9)-Infrared absorber "IR-1" (C) 0.08 g-Iodonium salt "I-2" (D) 0.30 g-Victoria pure blue naphthalene sulfonic acid 0.04 g-Fluorine-based interface Activator 0.01 g (MegaFac F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 9.0 g of methyl ethyl ketone 10.0 g of methanol 8.0 g of 1-methoxy-2-propanol

【0205】[0205]

【表9】 [Table 9]

【0206】[0206]

【化32】 Embedded image

【0207】[露光]得られた平版印刷版原版を、マル
チチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム
(株)製Luxel T−9000CTPにて、ビーム
1本当たりの出力250mW、外面ドラム回転数800
rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。 [現像処理]露光後、富士写真フイルム(株)製自動現
像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液
は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製
DP−4の1:8水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は
30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイ
ルム(株)製GU−7の1:2水希釈液を用いた。
[Exposure] The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to output of 250 mW per beam and rotation speed of the external drum of 800 using a Luxel T-9000CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. equipped with a multi-channel laser head.
Exposure was performed under the conditions of rpm and resolution of 2400 dpi. [Development processing] After exposure, development processing was carried out using an automatic developing machine Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developing solution, a 1: 8 water dilution of DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the charging solution and the replenishing solution. The temperature of the developing greed bath was 30 ° C. As the finisher, a 1: 2 aqueous solution of GU-7 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.

【0208】[耐刷性、汚れ性の評価]次に、ハイデル
ベルクSOR一KZ印刷機を用いて印刷した。この際、
どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できる
かを計測し、耐刷性を評価した。また、得られた印刷物
について非画像部の汚れ性を目視にて評価した。結果を
表9に示す。表9より、本発明の画像記録材料を感光層
として用いた平版印刷版は、非画像部の汚れもなく、耐
刷性に優れていることがわかった。
[Evaluation of Printing Durability and Stains] Next, printing was performed using a Heidelberg SOR-KZ printing machine. On this occasion,
The printing durability was evaluated by measuring how many sheets can be printed with a sufficient ink density. Further, the obtained printed matter was visually evaluated for the stain property of the non-image portion. Table 9 shows the results. From Table 9, it was found that the lithographic printing plate using the image recording material of the present invention as the photosensitive layer had no stain on the non-image portion and was excellent in printing durability.

【0209】(実施例18〜21) [下塗り層の形成]実施例1〜5に用いたアルミニウム
支持体に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風
式乾燥装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は10mg/m2であった。
(Examples 18 to 21) [Formation of undercoat layer] The following undercoat solution was applied to the aluminum support used in Examples 1 to 5 with a wire bar, and heated at 90 ° C using a hot air drier. Dry for 30 seconds. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 .

【0210】 [下塗り液] ・エチルメタクリレートと2−アクリルアミド−2−メチル −1−プロパンスルホン酸ナトリウム塩のモル比75:15 の共重合体 0.lg ・2−アミノエチルホスホン酸 0.1g ・メタノール 50g ・イオン交換水 50g[Undercoat liquid] Copolymer of ethyl methacrylate and 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid sodium salt in a molar ratio of 75:15 lg ・ 2-aminoethylphosphonic acid 0.1g ・ methanol 50g ・ ion exchange water 50g

【0211】このように処理されたアルミニウム版に、
下記に示す組成の感光層塗布液(P−5)を上記の下塗
り済みのアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗
布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して
平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.
3g/m2の範囲内であった。
The aluminum plate thus treated was
A lithographic printing plate was prepared by applying a photosensitive layer coating solution (P-5) having the composition shown below to the above-mentioned primed aluminum support using a wire bar, and drying at 115 ° C. for 45 seconds with a hot-air dryer. I got the original. The coating amount after drying is 1.2 to 1.
It was in the range of 3 g / m 2 .

【0212】 <感光層塗布液(P−5)> ・アルカリ可溶性樹脂 (表10に記載の化合物、表10に記載の量) ・ラジカル重合性化合物(B) (表10に記載の化合物、表10に記載の量) ・赤外線吸収剤「IR−1」(C) 0.08g ・ヨードニウム塩「I−1」(D) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g<Photosensitive Layer Coating Solution (P-5)> Alkali-soluble resin (compounds listed in Table 10, amounts described in Table 10) Radical polymerizable compound (B) (compounds described in Table 10, tables 10) ・ Infrared absorber “IR-1” (C) 0.08 g ・ Iodonium salt “I-1” (D) 0.30 g ・ Victoria pure blue naphthalenesulfonic acid 0.04 g ・ Fluorine-based interface Activator 0.01 g (MegaFac F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 9.0 g of methyl ethyl ketone 10.0 g of methanol 8.0 g of 1-methoxy-2-propanol

【0213】[0213]

【表10】 [Table 10]

【0214】得られた平版印刷版原版を、現像液とし
て、富士写真フイルム(株)製CA−1の1:4水希釈
液を用いた以外は実施例1〜5と同様の条件で、露光、
現像処理して印刷を行い、耐刷性の評価を行った。結果
を表10に示す。表10より、本発明の画像記録材料を
感光層として用いた平版印刷版は、耐刷性に優れている
ことがわかった。
The obtained lithographic printing plate precursor was exposed to light under the same conditions as in Examples 1 to 5 except that a 1: 4 aqueous dilution of CA-1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used as a developing solution. ,
Printing was performed by a development process, and printing durability was evaluated. Table 10 shows the results. From Table 10, it was found that a lithographic printing plate using the image recording material of the present invention as a photosensitive layer was excellent in printing durability.

【0215】(実施例22〜26)次に実施例6〜10
と同様にして、アルミニウム支持体上に感光層を形成
し、さらにポリビニルアルコール(ケン化度86.5〜
89モル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾
燥塗布重量が2g/m2となるように塗布し、100℃
で2分間乾燥させ、感光層上に保護層を形成してなる平
版印刷版原版を得た。得られた平版印刷版原版を、実施
例6〜10と同様の条件で、露光、現像処理を行って得
た印刷版により、同様の条件で印刷して耐刷性の評価を
行った。結果を表11に示す。
(Examples 22 to 26) Next, Examples 6 to 10
A photosensitive layer is formed on an aluminum support in the same manner as described above, and polyvinyl alcohol (with a saponification degree of 86.5 to 86.5).
A 3% by weight aqueous solution of 89 mol% and a degree of polymerization of 1000) was applied so that the dry application weight was 2 g / m 2 ,
For 2 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor having a protective layer formed on the photosensitive layer. The obtained lithographic printing plate precursor was exposed and developed under the same conditions as in Examples 6 to 10 to print on a printing plate obtained under the same conditions, and the printing durability was evaluated. Table 11 shows the results.

【0216】[0216]

【表11】 [Table 11]

【0217】表11より、本発明の画像記録材料を感光
層として用いた平版印刷版は、耐刷性に優れ、また、保
護層を形成することにより耐刷性の向上効果が見られる
ことがわかった。
From Table 11, it can be seen that the lithographic printing plate using the image recording material of the present invention as a photosensitive layer is excellent in printing durability, and the effect of improving printing durability can be seen by forming a protective layer. all right.

【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザおよび半導体レーザを用いて記録することによ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接可能で
あり、平版印刷版原版用の感光層に用いた場合、アブレ
ーションを起こすことなく、優れた耐刷性を達成し得る
ネガ型画像記録材料を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to directly record digital data from a computer or the like by recording using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared light, and it is used for a photosensitive layer for a lithographic printing plate precursor. In this case, it is possible to provide a negative image recording material capable of achieving excellent printing durability without causing ablation.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC34 BC43 BE07 CA00 CA14 CA23 CA41 CB22 CB53 CC12 CC13 FA17 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 BA01 DA04 DA25 DA26 DA35 DA49 DA52 DA73 DA78 EA01 EA03 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA34 GA38 Continued on front page F-term (reference) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC34 BC43 BE07 CA00 CA14 CA23 CA41 CB22 CB53 CC12 CC13 FA17 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 BA01 DA04 DA25 DA26 DA35 DA49 DA52 DA73 DA78 EA01 EA34 FA06 GA03 GA05 GA06 GA38

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)水に不溶かつアルカリ水溶液に可
溶なポリウレタン樹脂、(B)ラジカル重合性化合物、
(C)光熱変換剤、及び、(D)(C)光熱変換剤が吸
収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジ
カルを生成する化合物を含有し、ヒートモード露光によ
り画像記録可能であることを特徴とするヒートモード対
応ネガ型画像記録材料。
1. A polyurethane resin which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (B) a radically polymerizable compound,
(C) It contains a light-to-heat conversion agent and (D) a compound that generates radicals by heat-mode exposure to light having a wavelength that can be absorbed by the light-to-heat conversion agent, and is capable of image recording by heat mode exposure. A heat-mode-compatible negative-type image recording material, characterized in that:
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