JP2003084450A - Plate making method - Google Patents

Plate making method

Info

Publication number
JP2003084450A
JP2003084450A JP2001273785A JP2001273785A JP2003084450A JP 2003084450 A JP2003084450 A JP 2003084450A JP 2001273785 A JP2001273785 A JP 2001273785A JP 2001273785 A JP2001273785 A JP 2001273785A JP 2003084450 A JP2003084450 A JP 2003084450A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
acid
weight
water
photopolymerizable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001273785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuji Azuma
達治 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001273785A priority Critical patent/JP2003084450A/en
Publication of JP2003084450A publication Critical patent/JP2003084450A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plate making method which is economical because separate development-processing lines for a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate and a key plate are not prepared, diminishes waste liquor owing to a reduced replenishment amount to contribute toward solving environmental problem, ensures stable developability for both the photopolymerizable photosensitive planographic printing plate and the key plate and can be appropriately applied to a planographic printing plate for newspaper free of printing stain and ensuring satisfactory printing resistance. SOLUTION: In the plate making method in which a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photopolymerizable photosensitive layer and an oxygen intercepting layer in order on an aluminum support having a hydrophilic surface and a key plate obtained by disposing a non-photosensitive resin layer on an aluminum support having a hydrophilic surface are development-processed in the same automatic developing machine, replenishment amounts to the prewashing tank and developing tank of the automatic developing machine are automatically varied according to the plate material to be processed.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は光重合性感光性平版
印刷版(以下、感材ともいう)と捨て版を同じ自動現像
機で処理することを特徴とする製版方法に関するもので
ある。更に詳しくは、別々の現像処理ラインを用意する
事なく経済的で、更に補充量を減らす事により廃液を減
らし環境問題にも対応し、かつ光重合性感光性平版印刷
版及び捨て版ともに安定した現像性が得られ、印刷汚れ
が発生せず、十分な耐刷力が得られる新聞用平版印刷版
に好適に使用することができる製版方法に関するもので
ある。 【0002】 【従来の技術】カラーの新聞印刷を行う場合、すべての
紙面がカラーでない場合が多いため、カラーでない墨単
色の紙面において、シアン、マゼンタ、イエローの胴に
は、全面非画像部の版が必要である。従来、CTP(コ
ンピューター トゥ プレート)専用の捨て版はなく、
新聞でカラー印刷を行う際、感材を未露光で現像処理す
るか、もしくはコンベンショナルPS版用の捨て版をコ
ンベンショナルPS版用の自現機で現像処理していた。
しかしながら、不経済であり、現像システムを2ライン
準備する必要があり場所も必要であった。 【0003】また、同じ自動現像機で光重合性感光性平
版印刷版と捨て版を処理したとしても、両者の層構成や
塗布されている素材や塗布量が異なり、かつ日によっ
て、新聞社の光重合性感光性平版印刷版と捨て版の使用
量が異なるため、光重合性感光性平版印刷版と同じ補充
を行うと、プレ水洗部は捨て版には不要なため廃液が増
加し、現像液はpHが一定に管理できなかった。そのた
め、pHが上昇すると画像部のダメージが大きくなり耐
刷性が低下し、pHが低下すると現像性が低下しドット
ゲインや印刷汚れなどの問題が生じていた。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、光重
合性感光性平版印刷版と捨て版のための別々の現像処理
ラインを用意する事なく経済的で、補充量を減らす事に
より廃液を減らし環境問題にも対応し、かつ光重合性感
光性平版印刷版及び捨て版ともに安定した現像性を得ら
れ、印刷汚れが発生せず、十分な耐刷力が得られる新聞
用平版印刷版に好適に使用することができる製版方法を
提供することである。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明に係わる、親水性
表面を有するアルミニウム支持体上に、少なくとも順
次、光重合性感光層、酸素遮断層が設けられている光重
合性感光性平版印刷版と、親水性表面を有するアルミニ
ウム支持体上に非感光性樹脂層が設けられている捨て版
を、同じ自動現像機で現像処理する製版方法において、
処理する版材により該自動現像機のプレ水洗槽及び現像
槽の補充量を自動的に変更する製版方法により、前述の
課題が解決できる。 【0006】 【発明の実施の形態】以下、図面とともに本発明の光重
合性感光性平版印刷版と捨て版の製版方法について詳細
に説明する。図1は、本発明で使用される自動現像機1
の一形態を示す説明図である。まず、CTPシステム
は、基本的にレーザー露光セッターと自動現像機1から
なり、更に上位のシステムとリンクするためのコンピュ
ーターシステムからなる。まず光重合性感光性平版印刷
版と捨て版の両方をレーザー露光セッターのカセットに
収納し、上位からの指示により光重合性感光性平版印刷
版は画像露光され自動的に自動現像機1へと搬送され、
現像処理される。一方、捨て版は、レーザー露光される
ことなくそのままセッター内を自動的に搬送され、同じ
自動現像機1へ送られる。 【0007】光重合性感光性平版印刷版用の自動現像機
1は、例えば、順次に加熱部11、プレ水洗槽12、現
像槽13、水洗槽14、ガム槽15及び乾燥部16より
成る。加熱部11は、場合によっては無くてもかまわな
い。 【0008】プレ水洗槽12では、光重合性感光性平版
印刷版の酸素遮断層を水洗除去する。現像処理が進むに
つれて、プレ水洗槽12に溶解した水溶性樹脂濃度が増
加し、溶解除去性が劣り、カスが発生するために、水の
補充が必要である。一方捨て版には酸素遮断層がないた
め、捨て版が処理される場合、水の補充は不要である。
本発明に於いては、光重合性感光性平版印刷版及び捨て
版のそれぞれの版材の処理量に応じて水等の補充量を変
更することにより、プレ水洗槽12を適正な状態に維持
することができる。尚、自動現像機1の電源をONにし
ている場合やOFFにしている場合に、プレ水洗槽12
から水が自然に揮発するために、光重合性感光性平版印
刷版及び捨て版の処理量とは別に揮発する水と同じ量の
水を補充することが好ましい。 【0009】現像槽13では、アルカリ現像液により光
重合性感光性平版印刷版の未露光部を除去するととも
に、捨て版の非感光性樹脂層を除去する。光重合性感光
性平版印刷版と捨て版とでは塗布している素材や塗布量
が異なるために、同じ補充量ではpHを一定に管理でき
ない。本発明に於いては、光重合性感光性平版印刷版及
び捨て版のそれぞれの版材の処理量に応じて水、現像補
充原液等の補充量を変更することにより、現像槽13の
pH等を適正な状態に維持することができる。尚、自動
現像機1の電源をONにしている場合やOFFにしてい
る場合、大気中の炭酸ガスでpHが自然に低下するの
で、光重合性感光性平版印刷版及び捨て版の処理量とは
別に炭酸ガスで低下したpHを一定に回復させる為の補
充を行うことが好ましい。 【0010】水洗槽14では、現像後の版の表面に残っ
ているアルカリ現像液を除去し、次工程のガム槽15へ
のアルカリ液持ち込みを減少させる目的で、版を水洗す
る。よって、特に光重合性感光性平版印刷版及び捨て版
を区別することなく、水洗水が劣化しないように同じ量
を補充すればよい。尚、自動現像機1の電源をONにし
ている場合やOFFにしている場合、水が自然に揮発す
る分を補うように、揮発する分と同じ量の水を別に補充
することが好ましい。 【0011】ガム槽15では、ガムを塗布し、アルカリ
性となった感材の樹脂を酸に戻して現像による画像部の
ダメージを抑制するとともに非画像部の汚れや傷を防止
する。ガムは、画像部と非画像部に関係なく全面に塗布
されるため、光重合性感光性平版印刷版及び捨て版を区
別することなく、同じ量のガム補充原液等を補充すれば
よい。尚、自動現像機の電源をONにしている場合やO
FFにしている場合、自然に水が揮発するために、光重
合性感光性平版印刷版及び捨て版の処理量とは別に揮発
した水と同じ量の水を補充することが好ましい。 【0012】次に、本発明の捨て版について説明する。
本発明の捨て版の下塗層について説明する。親水性表面
を有する支持体には下記に示す水溶性化合物の下塗りを
施してもかまわない。下塗りに用いられる水溶性化合物
としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグ
リセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノー
ルアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミン
の塩酸塩、スルホン酸基を有する水溶性重合体等が好ま
しく用いられ、中でもスルホン酸基を有する水溶性重合
体が特に好ましい。 【0013】スルホン酸基を有する水溶性重合体は、ス
ルホン酸基を有するモノマー単位の少なくとも一種を繰
り返し単位として分子中に含む水溶性高分子化合物であ
り、例えば特公平4−9296号公報(第3欄22行〜
第4欄41行)に記載のものが挙げられる。スルホン酸
基を有するモノマー単位としては、例えばp−スチレン
スルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸、エチレンスルホン酸等が好ましく、これら
を適宜1つまたは2つ以上が選択され重合されるかある
いは他のモノマーと共重合される。他のモノマーと共重
合される場合、相手のモノマーはスルホン酸基を有する
モノマーと共重合可能であればどの様なモノマーでもよ
い。具体例としては、例えばメチルメタクリレート/エ
チルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプ
ロパンスルホン酸ナトリウム、メチルメタクリレート/
メチルアクリレート/p−スチレンスルホン酸ナトリウ
ム、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム等が挙げられ
る。本発明の水溶性化合物の分子量範囲は、水可溶性で
ある限り制限はないが、一般的な目安を示せば重量平均
分子量約1000〜1000000の範囲が適当であ
り、好ましくは2000〜100000、最も好ましく
は10000〜100000の範囲である。 【0014】この下塗層は、水、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトンなど
もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶解させ、
支持体上に塗布、乾燥して設けることができる。下塗層
の乾燥後の被覆層は、10〜500mg/m2が適当であ
り、好ましくは50〜200mg/m2である。下塗層が1
0mg/m2より少ないと印刷汚れ防止能力が不足する。下
塗層が500mg/m2より多いと、後で塗布される非感光
性樹脂層の膜強度が低下し、取扱いによるキズつき防止
能力が低下する。 【0015】下塗層に引き続いて非感光性樹脂層が設け
られる。樹脂として好ましいものは、酸含量0.1〜
3.0meq/g、好ましくは0.2〜2.0meq/gであ
り、実質的に水不溶性(すなわち、中性または酸性水溶
液に不溶性)で、皮膜形成性を有する有機高分子化合物
であるが、アルカリ水溶液に溶解または膨潤することが
できるものが好ましい。尚、酸含量0.1meq/g未満
では溶解が困難であり、3.0meq/gを超えると特に
高温高湿保管時の膜の強度が著しく弱くなる。非感光性
樹脂の分子量は、塗布溶媒に溶解およびアルカリ水溶液
に溶解または膨潤する限り制限はないが、重量平均分子
量で1000〜1000000、好ましくは10000
〜500000である。分子量が低いと膜強度が弱く、
分子量が高いと溶解性が劣化する。 【0016】特に好適な非感光性樹脂としてはアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須
成分として含む共重合体、例えば特開昭50−1188
02号公報に記載されている様な2−ヒドロキシエチル
アクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、アク
リル酸またはメタクリル酸および必要に応じて他の共重
合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭53−12
0903号公報に記載されている様な末端がヒドロキシ
基であり、かつジカルボン酸エステル残基を含む基でエ
ステル化されたアクリル酸またはメタクリル酸、アクリ
ル酸、またはメタクリル酸及び必要に応じて他の共重合
可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭54−986
14号公報に記載されている様な芳香族性水酸基を末端
に有する単量体(例えばN−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミドなど)、アクリル酸またはメタク
リル酸および必要に応じて他の共重合可能なモノマーと
の多元共重合体、特開昭56−4144号公報に記載さ
れている様なアルキルアクリレート、アクリロニトリル
またはメタクリロニトリルおよび不飽和カルボン酸より
なる多元共重合体を挙げることが出来る。この他、酸性
ポリビニルアルコール誘導体や酸性セルロース誘導体も
有用である。またポリビニルアセタールやポリウレタン
をアルカリ可溶化した特公昭54−19773号公報、
特開昭57−94747号、同60−182437号、
同62−58242号、同62−123453号記載の
結合剤も有用であり、ポリウレタンをアルカリ可溶化し
た樹脂が、膜強度が高く、特に好ましい。 【0017】非感光性樹脂層組成物は公知の種々の塗布
溶剤に溶解し、親水性表面及び下塗層を有するアルミニ
ウム支持体上に乾燥塗布重量が0.2〜3.0g/m2
なる様に、好ましくは0.3〜1.5g/m2となる様に
塗布して乾燥して、平版印刷用捨て版を得ることができ
る。塗布量が0.2g/m2より少ないと、キズつき防止
能力が不足し、逆に3.0g/m2以上はキズつき防止能
力として十分であり、溶解除去時の溶解スピードが低下
し、溶解液の処理能力を低下させてしまう。塗布する際
の樹脂層組成物の固形分濃度は1.0〜50重量%が適
当であり、好ましくは2.0〜30重量%が適当であ
る。支持体上に樹脂層組成物を塗布する方法としては従
来公知の方法、たとえばロールコーティング、バーコー
ティング、スプレーコーティング、カーテンコーティン
グ、回転塗布等の方法を用いることができる。塗布され
た樹脂層組成物溶液は50〜150℃で乾燥させるのが
好ましい。乾燥方法は、始め温度を低くして予備乾燥し
た後、高温で乾燥させても良いし、直接高温度で乾燥さ
せても良い。 【0018】非感光性樹脂層には種々の添加剤、例え
ば、塗布層を判別するための色素、溶解促進のための可
塑剤または低分子酸化合物、フッ素系界面活性剤等の塗
布面質改良剤などを添加することが出来る。特に、ジピ
コリン酸、リンゴ酸、スルホサリチル酸、スルホフタル
酸、トリカルバリル酸等のカルボン酸基またはスルホン
酸基を含有する低分子酸化合物は、溶解促進作用と共
に、長期保管時の印刷汚れ防止作用があり好ましい。ま
た、フッ素系界面活性剤は、塗布面質改良効果のみなら
ず、キズつきにくさ向上効果があり好ましい。低分子酸
化合物は、非感光性樹脂層に対して、1〜20wt%、フ
ッ素系界面活性剤は0.1〜5wt%添加される。親水性
表面を有するアルミニウム支持体は、後述する光重合性
感光性平版印刷版と同じものを用いる事ができる。 【0019】次に、本発明の光重合性感光性平版印刷版
について説明する。本発明に用いる光重合性平版印刷版
の感光層を構成する光重合型感光性組成物は、付加重合
可能なエチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、高分子
結合剤を必須成分とし、必要に応じ、着色剤、可塑剤、
熱重合禁止剤等の種々の化合物を併用することができ
る。 【0020】エチレン性不飽和化合物とは、光重合型感
光性組成物が活性光線の照射を受けた時、光重合開始剤
の作用により付加重合し、架橋、硬化するようなエチレ
ン性不飽和結合を有する化合物である。付加重合可能な
エチレン性二重結合を含む化合物は、末端エチレン性不
飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する
化合物の中から任意に選択することができる。例えばモ
ノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体および
オリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共
重合体などの化学的形態をもつものである。 【0021】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。脂肪族多価アルコール化合物と不
飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例として
は、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメ
チレングリコールジアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトール
テトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレー
ト、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロ
イルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルア
クリレートオリゴマー等がある。 【0022】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。 【0023】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。 【0024】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。 【0025】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。 【0026】 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH (A) 【0027】(ただし、R5およびR6はHあるいはCH
3を示す。) 【0028】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−
43191号、特公昭52−30490号各公報に記載
されているようなポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアク
リレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。さらに日本接着協会誌Vol.2
0、No.7、300〜308ぺージ(1984年)に光
硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されている
ものも使用することができる。なお、これらエチレン性
不飽和化合物の使用量は、感光層全成分の5〜80重量
%、好ましくは30〜70重量%の範囲で使用される。 【0029】また本発明の光重合性平版印刷版の感光層
に含有させる光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して用いることができる。以下に具体例を列挙す
るがこれらに制限されるものではない。400nm以上
の可視光線、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調
波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合にも、種
々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第
2,850,445号に記載のある種の光還元性染料、
例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシンなど、
あるいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例え
ば、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−2018
9号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生
剤と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘ
キサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベ
ンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開
昭54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニ
ル化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、環
状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−1
51024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開
昭52−112681号、特開昭58−15503
号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系
(特開昭59−140203号)、有機過酸化物と色素
の系(特開昭59−1504号、特開昭59−1402
03号、特開昭59−189340号、特開昭62−1
74203号、特公昭62−1641号、米国特許第4
766055号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特
開昭63−258903号、特開平2−63054号な
ど)染料とボレート化合物の系(特開昭62−1430
44号、特開昭62−150242号、特開昭64−1
3140号、特開昭64−13141号、特開昭64−
13142号、特開昭64−13143号、特開昭64
−13144号、特開昭64−17048号、特開平1
−229003号、特開平1−298348号、特開平
1−138204号など)ローダニン環を有する色素と
ラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、特開
平2−244050号)、チタノセンと3−ケトクマリ
ン色素の系(特開昭63−221110号)、チタノセ
ンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基
を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合
わせた系(特開平4−221958号、特開平4−21
9756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の
系(特開平6−295061号)、チタノセンとベンゾ
ピラン環を有する色素の系(特開平8−334897
号)等を挙げることができる。 【0030】また、最近400〜410nmの波長のレ
ーザー(バイオレットレーザー)が開発され、それに感
応する450nm以下の波長に高感度を示す光開始系が
開発されており、これらの光開始系も使用される。例え
ば、カチオン色素/ボレート系(特開平11−8464
7)、メロシアニン色素/チタノセン系(特開2000
−147763)、カルバゾール型色素/チタノセン系
(特願平11−221480)等を挙げることができ
る。本発明においては特にチタノセン化合物を用いた系
が、感度の点で優れており好ましい。 【0031】チタノセン化合物としては、種々のものを
用いることができるが、例えば、特開昭59−1523
96号、特開昭61−151197号各公報に記載され
ている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いること
ができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェ
ニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−
トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4
−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−テト
ラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1
−イル等を挙げることができる。 【0032】更に上記光開始剤に必要に応じ、2−メル
カプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール等のチオー
ル化合物、N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキル
アミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水
素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高
められることが知られている。 【0033】これらの光重合開始剤(系)の使用量はエ
チレン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜
100重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好
ましくは0.2〜50重量部の範囲で用いられる。 【0034】本発明の光重合性平版印刷版の感光層に用
いられる高分子結合剤としては、該組成物の皮膜形成剤
としてだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必要があ
るため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高
分子重合体が使用される。該有機高分子重合体は、例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカ
ルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59−4
4615号、特公昭54−34327号、特公昭58−
12577号、特公昭54−25957号、特開昭54
−92723号、特開昭59−53836号、特開昭5
9−71048号に記載されているもの、すなわち、メ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、
部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。 【0035】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平7−120040号、特公平7−12004
1号、特公平7−120042号、特公平8−1242
4号、特開昭63−287944号、特開昭63−28
7947号、特開平1−271741号、特開平11−
352691に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途
には有用である。 【0036】これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としてはメルカプト
基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニ
ウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミ
ド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基と
しては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリ
ル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又
アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カル
バモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレ
ン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能
基も有用である。 【0037】組成物の現像性を維持するためには、本発
明の高分子結合剤は適当な分子量、酸価を有することが
好ましく、重量平均分子量で5000〜30万、酸価2
0〜200の高分子重合体が有効に使用される。これら
の有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させる
ことができる。しかし90重量%を超える場合には形成
される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ま
しくは10〜90%、より好ましくは30〜80%であ
る。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と有機高
分子重合体は、重量比で1/9〜9/1の範囲とするの
が好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/2てあ
り、更に好ましくは3/7〜7/3である。 【0038】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。 【0039】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue 1
5:3、15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤
やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリク
レジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよ
い。これらの添加量は全組成物の10%以下が好まし
い。 【0040】本発明の光重合性平版印刷版の感光層組成
物を後述の支持体上に塗布する際には種々の有機溶剤に
溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒として
は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、
酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセ
トンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート−3−メトキシプロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は1〜
50重量%が適当である。 【0041】本発明の光重合性平版印刷版の感光層にお
ける光重合性組成物には、塗布面質を向上するために界
面活性剤を添加することができる。その被覆量は乾燥後
の重量で0.3g/m2〜5.0g/m2の範囲が適当で
ある。好ましくは0.5〜3g/m2である。 【0042】また、前記感光層の上には、酸素の重合禁
止作用を防止するために酸素遮断性の保護層が必要であ
る。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要
な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルア
ルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポ
リビニルアルコールとしては、71〜100%加水分解
され、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げら
れる。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、P
VA−110、PVA−117、PVA−117H、P
VA−120、PVA−124、PVA−124H、P
VA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−
203、PVA−204、PVA−205、PVA−2
10、PVA−217、PVA−220、PVA−22
4、PVA−217EE、PVA−220、PVA−2
24、PVA−217EE、PVA−217E、PVA
−220E、PVA−224E、PVA−405、PV
A−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
上記の共重合体としては、88〜100%加水分解され
たポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピ
オネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセ
タールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有
用な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンお
よびアラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併
用して用いても良い。 【0043】本発明の光重合性平版印刷版において、酸
素遮断性保護層を塗布する際用いる溶媒としては、純水
が好ましいが、メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を
純水と混合しても良い。そして塗布溶液中の固形分の濃
度は1〜20重量%が適当である。本発明の上記酸素遮
断性保護層にはさらに塗布性を向上させるための界面活
性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の
公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑剤として
は、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオー
ル、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水溶性
の(メタ)アクリル系ポリマーなどを添加しても良い。
その被覆量は乾燥後の重量で0.5g/m2〜10g/
2の範囲が適当である。より好ましくは1.0g/m2
〜5.0g/m2である。 【0044】次に、本発明の光重合性平版印刷版の支持
体について説明する。本発明の光重合性平版印刷版を得
るには上記感光層を、表面が親水性の支持体上に設け
る。親水性の支持体としては、従来公知の、平版印刷版
に使用される親水性支持体を限定無く使用することがで
きる。使用される支持体は寸度的に安定な板状物である
ことが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラ
ミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)、上記のような金属がラミネート
もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等
が含まれ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付
与や、強度向上、等の目的で適切な公知の物理的、化学
的処理を施しても良い。 【0045】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルムまたはアルミニウム板が挙げられ、そ
の中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に
応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提
供できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭
48−18327号に記載されているようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結
合された複合体シートも好ましい。 【0046】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネートまた
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みは0.1mm〜0.6mmが適当であり、
好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。 【0047】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化(砂目立て)処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。現像後の非画像部の傷防止の為に陽極酸化処理は
必ず必要であり、好ましくは0.5〜5.0g/m2
より好ましくは1.0〜4.0g/m2の陽極酸化皮膜
を施す。 【0048】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ、磨法等の公知の方法を用いることが
できる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸、硝
酸等の電解液中で交流または直流により行う方法があ
る。また、特開昭54−63902号に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。また、アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望
により、表面の圧延油を除去するために、例えば、界面
活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。 【0049】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭47−5125号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。 【0050】また、米国特許第3658662号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。さら
に、特公昭46−27481号、特開昭52−5860
2号、特開昭52−30503号に開示されているよう
な電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理お
よび珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
また、特開昭56−28893号に開示されているよう
な機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。 【0051】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。さらに
特開平7−159983号に開示されているようなラジ
カルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合さ
せたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。 【0052】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げる
ことができる。このような表面層としては例えばUS3
055295号や、特開昭56−13168号記載の無
機顔料と結着剤とからなる層、特開平9−80744号
記載の親水性膨潤層、特表平8−507727号記載の
酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾ
ルゲル膜等を挙げることができる。これらの親水化処理
は、支持体の表面を親水性とするために施される以外
に、その上に設けられる光重合性組成物の有害な反応を
防ぐため、かつ感光層の密着性の向上等のために施され
るものである。上記の支持体上に、前記の光重合性組成
物からなる感光層を形成することで、本発明の光重合性
平版印刷版を作製するが、感光層を塗設する前に必要に
応じて有機または無機の下塗り層が設けられても構わな
い。 【0053】本発明の光重合性平版印刷版における前記
感光層を、例えば、ヘリウムカドミニウムレーザー、ア
ルゴンイオンレーザー、FD・YAGレーザー、ヘリウ
ムネオンレーザー、半導体レーザー(350nm〜60
0nm)等の従来公知の活性光線で画像露光した後、自
動現像機1で現像処理することにより、支持体表面に画
像を形成することができる。 【0054】レーザー露光後、光重合性感光層の重合度
を上げ、耐刷力を向上させる目的で版を自動現像機1の
加熱部11で加熱してもよい。 【0055】本発明の光重合性平版印刷版の感光層の上
には、前述したように、酸素遮断性保護層が設けてあ
り、自動現像機1のプレ水洗槽12で水または温水によ
って該保護層を先に除外し、その後未露光部の感光層を
自動現像機1の現像槽13で現像液によって除去する。 【0056】本発明に於いては、前記の如く、自動現像
機1のプレ水洗槽12に光重合性感光性平版印刷版及び
捨て版が搬送され、処理が行われるが、それぞれの処理
量に応じて水、防腐剤水溶液等の補充量を変更すること
により、プレ水槽12を適正な状態に維持することがで
きる。 【0057】自動現像機1の現像槽13で使用する現像
液としては、特に限定されないが、好ましくは、特公昭
57−7427号に記載されているような現像液が挙げ
られ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸
ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモ
ニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機
アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノール
アミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当であ
る。このようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10重量
%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加され
る。 【0058】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。 【0059】現像槽13に於ける現像は、常法に従っ
て、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度
で、例えば、露光処理した光重合性平版印刷版を現像液
に浸漬してブラシで擦る等により行う。 【0060】本発明に於いては、前記の如く、自動現像
機1の現像槽13に光重合性感光性平版印刷版及び捨て
版が搬送され、現像処理が行われるが、それぞれの処理
量に応じて水、現像補充原液等の補充量を変更すること
により、現像槽13に於ける現像液のpH等を適正な状
態に維持することができる。 【0061】このようにして現像処理された光重合性平
版印刷版は特開昭54−8002号、同55−1150
45号、同59−58431号等の各公報に記載されて
いるように、水洗槽14に於いて水洗水、界面活性剤等
を含有するリンス液等で処理され、ガム層15に於いて
アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理
され、加熱部16に於いて乾燥される。また、現像処理
後、耐刷性を向上させる目的で、全面をUV光で曝光し
てもよい。本発明の光重合性平版印刷版の後処理にはこ
れらの処理を種々組み合わせて用いることができる。 【0062】 【実施例】以下に本発明を実施例によって更に具体的に
説明するが、勿論本発明の範囲はこれらによって限定さ
れるものではない。 〔光重合性感光性平版印刷版の作成〕厚さ0.30mm
の材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロンブラシと8
00メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後、20%HNO3で中和洗浄、水洗し
た。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて1%硝酸水溶液中で300クーロン/d
2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ0.45μm(Ra表示)であ
った。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に浸漬
し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、20%
2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置し
て、電流密度5A/dm2において50秒間陽極酸化し
たところ厚さが2.7g/m2であった。 【0063】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記の手順で下塗り層を設けた。下記下塗り用液状
組成物を混合し30℃で攪拌した。約5分後に発熱が見
られ、60分間反応させた後、内容物を別の容器に移
し、メタノールを更に3万質量部加えることで液状塗布
液を調製した。 【0064】 (下塗り用液状組成物) 下記化合物〔化1〕 50質量部 メタノール 130質量部 水 20質量部 パラトルエンスルホン酸 5質量部 テトラエトキシシラン 50質量部 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 50質量部 【0065】 【化1】 【0066】この液状塗布液を、上記の処理されたアル
ミニウム板上に、0.1g/m2となるように塗布し、
100℃で1分間乾燥させた。 【0067】このようにして得られた下塗り層上に、下
記組成の光重合性組成物1を乾燥塗布重量が1.48g
/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥さ
せ、感光層を形成した。 【0068】 (光重合性組成物1) エチレン性不飽和結合含有化合物(A1) 2.2 重量部 線状有機高分子重合体(B1) 2.0 重量部 増感剤(C1) 0.15重量部 光重合開始剤(D1) 0.25重量部 増感助剤(E1) 0.3 重量部 ε−フタロシアニン(F1)分散物 0.02重量部 フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF176 0.03重量部 (大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 15.0 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 15.0 重量部 【0069】 【化2】【0070】この感光層上に下記の素材からなる6%水
溶液を、酸素遮断層として乾燥塗布重量が2.5g/m2
となるように塗布し、120℃で3分乾燥させ、光重合
性平版印刷版を得た。 ポリビニルアルコール(PVA−105、クラレ(株)製、 ケン化度98モル%、重合度500) 2.2重量部 ポリビニルピロリドン(K30、和光純薬(株)製) 0.12重量部 パイオニンD625(竹本油脂(株)製) 0.073重量部 EMALEX710(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤) 0.043重量部 【0071】〔捨て版の作成〕99.5重量%アルミニ
ウムに、銅を0.01重量%、チタンを0.03重量
%、鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%含有する
JIS A1050アルミニウム材の厚み0.30mm圧
延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の
20重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,1
0−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。 【0072】これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してアルミニ
ウムの溶解量が5g/m2になるようにエッチングした
後、流水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で中和し、
次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム0.5重量
%含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧
9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.9
0、特公昭58−5796号公報実施例に記載されてい
る電流波形)を用いて160クーロン/dm2の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の10
重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニ
ウム溶解量が1g/m2になるようにエッチングした後、
水洗した。次に、50℃30重量%の硫酸水溶液中に浸
漬し、デスマットした後、水洗した。 【0073】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電
流密度13A/dm2で電解を行い、電解時間の調節によ
り陽極酸化皮膜重量2.7g/m 2とした。この支持体を
水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に
30秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。 【0074】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.30で中心線平均粗さは0.58μmであっ
た。次に、メチルメタクリレート/エチルアクリレート
/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
(仕込重量比65/20/15)共重合体の一部をナト
リウム塩としたものを、1.0重量%メタノール/水に
90/10溶液とし、バーコーターにより乾燥後の塗布
量が0.1g/m2になるように塗布した。 【0075】更に、下記に示す組成物をメタノール/メ
チルエチルケトン/1−メトキシ−2−プロパノール/
乳酸メチルメチル=30g/30g/25g/12gの
混合溶剤に溶解し、バーコーターを用いて塗布し、11
0℃で45秒間乾燥させた。乾燥塗布量は0.5g/m2
であった。 【0076】 ・アルカリ可溶性ウレタンバインダー 5.0 g (重量平均分子量85,000、酸含有量1.64meq/g、下記4種類モノ マーの反応物) 4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート 37.5モル% ヘキサメチレンジイソシアネート 12.5モル% 2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸 32.5モル% テトラエチレングリコール 17.5モル% ・ビクトリアビュアブルーBOH 0.05g ・スルホフタル酸 0.3 g ・FC−430(3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g 【0077】漂白クラフトパルプを叩解し、4%の濃度
に希釈した紙料に合成系サイズ剤を0.4重量%加え、
硫酸アルミニウムをpHが5.0になるまで加えた。こ
の紙料に、デンプンを主成分とする紙力剤を3.0重量
%塗布して、抄紙し、密度0.75g/cm3、平滑度5
0秒、水分6.0%の38g/m2の合紙を作成した。そ
の後、この合紙を挟みながら、通常のPS版を加工する
ラインで捨て版を作成した。 【0078】この様にして得られた80×110cmの光
重合性感光性平版印刷版、捨て版を、FD−YAGレー
ザー(532nm)を搭載した富士写真フイルム(株)製Lu
xelPlate Setter P−9600 CTP NEWSのカ
セットに感材は90枚、捨て版は30枚セットした。 【0079】上位のコンピューターシステムより、新聞
紙面を処理する様に指示を与えた。捨て版は露光せず、
光重合性平版印刷版は0.2mJ/cm2、909dpi、10
0lpiの条件で画像露光した。その後、直ちにそれぞれ
を富士写真フイルム(株)製自動現像機FLP125NF
Sに搬送し、加熱部11に於いて版面温度が版裏面中央
部で115℃になるように後加熱し、プレ水洗槽12に
於いて40℃の水で酸素遮断層を水洗除去した。その
後、現像槽13に於いて富士写真フイルム(株)製現像液
DV−2:水=1:4を用い、25℃で22秒間現像し
た。その後、水洗槽14に於いて水洗し、ガム槽15に
於いて富士写真フイルム(株)製フィニッシングガムFP
−3W:水=1:1で標準処理を行い、加熱部15に於
いて50℃の温風で乾燥した。その時、ガムの塗布量は
乾燥重量で150mg/m2であった。 【0080】各槽、表1に示す補充条件を自動現像機に
入力し、感材は約60枚を約6時間で処理し、捨て版は
約20枚を約6時間で処理した。製版中のみ電源をON
にし、他はOFFにした。電源をONにした時、電源を
OFFにしていた時間分、表1に示す補充を行った。こ
の製版を時々中断しながら28日間にわたって実施し、
合計約1970m2の版材を処理した。28日後のプレ
水洗槽12の酸素遮断層の固形分濃度は2.0%、現像
槽13のpHは新液と同じ12.0であった。廃液は約
500リットルであった。 【0081】 【表1】【0082】印刷の汚れは、印刷機は東京機械(株)製の
4色タワー型輪転機CT7000(17万機)、インキ
は大日本インキ(株)製新聞用インキ、湿し水は東洋イン
キ(株)製新聞用ニュースキングアルキー pH=10.
2、紙は王子製紙44g/m 2苫小牧、ブランケットは金
陽社MP−75R、2.07mmを用い、10万部印刷
し、評価した。 【0083】28日目の製版ランニング処理を行った感
材、捨て版ともに全く汚れも発生せず、耐刷性がNGと
なって版を作り直す事もなかった。比較例として、捨て
版処理時も、感材と同じ補充で処理すると、廃液が約6
00リットルと増加し、現像液のpHは最終的に12.4に
上昇した。これにより、10万部印刷時、2%ハイライ
トの飛びが発生した。 【0084】 【発明の効果】本発明に係わる製版方法は、別々の現像
処理ラインを用意する事なく経済的であり、補充量を減
らす事により廃液を減らし環境問題にも対応しており、
光重合性感光性平版印刷版及び捨て版ともに安定した現
像性が得られ、印刷汚れが発生せず、且つ十分な耐刷力
をもって平版印刷版を得ることができ、特に新聞用平版
印刷版に好適に使用することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a photopolymerizable photosensitive lithographic plate.
Automatic development of printing plate (hereinafter also referred to as photosensitive material) and discarded plate
It relates to a plate making method characterized by processing with a machine
is there. More specifically, a separate development processing line is prepared.
It is economical without waste, and it reduces waste liquid by reducing the replenishment amount.
Responding to environmental problems and photopolymerizable photosensitive lithographic printing
Stable developability is obtained for both the plate and the discarded plate, and printing stains
Lithographic printing plate for newspapers with sufficient printing durability
It relates to a plate making method that can be suitably used for
is there. [0002] [0002] When performing color newspaper printing, all
Since the paper surface is often not colored, it is simply not colored.
On cyan, magenta, and yellow cylinders on colored paper
Requires a full non-image part. Conventionally, CTP
(Puputer to Plate)
When performing color printing in newspapers, develop the photosensitive material unexposed.
Or a discard version for the conventional PS version
It was developed with an automatic machine for conventional PS plates.
However, it is uneconomical and the development system has two lines.
There was a need to prepare and a place. In addition, the same automatic developing machine can be used for the photopolymerizable photosensitive flat plate.
Even if the printing plate and the discarding plate are processed, the layer structure of both
The material and amount applied are different, and depending on the day
Use newspaper photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates and discarded plates
Replenishment same as photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate due to different amount
The pre-washing section is unnecessary for the discarded plate, so the waste liquid increases.
In addition, the pH of the developer could not be controlled to be constant. That
Therefore, when the pH rises, the damage to the image area increases and
When the printability decreases and the pH decreases, the developability decreases and the dots
There were problems such as gain and printing stains. [0004] SUMMARY OF THE INVENTION The problem of the present invention is that light weight
Separate development processes for photosensitive photosensitive lithographic printing plates and discarded plates
Economical without preparing a line, to reduce the replenishment amount
Responding to environmental problems by reducing waste liquid and photopolymerization
Stable developability was obtained for both photolithographic printing plates and discarded plates
Newspaper that does not cause printing stains and provides sufficient printing durability
A plate making method that can be suitably used for lithographic printing plates
Is to provide. [0005] [Means for Solving the Problems] The hydrophilicity of the present invention
On an aluminum support having a surface, at least in order
Next, a photopolymerizable photosensitive layer and an optical layer provided with an oxygen blocking layer
Compatible photosensitive lithographic printing plate and aluminum having hydrophilic surface
Discarded plate with non-photosensitive resin layer provided on the um support
In the plate making method of developing with the same automatic processor,
Depending on the plate material to be processed, the pre-washing tank and development of the automatic processor
By the plate making method that automatically changes the tank replenishment amount,
The problem can be solved. [0006] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT
Details on plate making method of photosensitive photosensitive lithographic printing plate and discarded plate
Explained. FIG. 1 shows an automatic processor 1 used in the present invention.
It is explanatory drawing which shows one form. First, CTP system
Basically, from laser exposure setter and automatic processor 1
Computer for linking to higher-level systems.
It consists of a computer system. First photopolymerizable photosensitive lithographic printing
Both the plate and the discarded plate in the cassette of the laser exposure setter
Housed and photopolymerizable photosensitive lithographic printing according to instructions from the host
The plate is image-exposed and automatically conveyed to the automatic processor 1,
Developed. On the other hand, the discarded plate is laser-exposed.
It is automatically conveyed through the setter without any change.
Sent to the automatic processor 1. Automatic developing machine for photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates
1 includes, for example, a heating unit 11, a pre-washing tank 12,
From image tank 13, washing tank 14, gum tank 15, and drying unit 16
Become. The heating unit 11 may be omitted in some cases.
Yes. In the pre-washing tank 12, a photopolymerizable photosensitive lithographic plate.
Remove the oxygen barrier layer of the printing plate with water. As the development process proceeds
As a result, the concentration of the water-soluble resin dissolved in the pre-washing tank 12 increases.
In addition, the dissolution and removal properties are inferior and waste is generated.
Replenishment is necessary. On the other hand, the discarded version had no oxygen barrier
Therefore, no replenishment of water is required when discarding plates are processed.
In the present invention, photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate and disposal
Change the replenishment amount of water etc. according to the processing amount of each plate material.
By maintaining the pre-wash tank 12 in an appropriate state
can do. Note that the power of the automatic processor 1 is turned on.
Pre-wash tank 12 when it is turned off
Because water volatilizes naturally from the photopolymerizable photosensitive lithographic stamp
Separately from the processing amount of printing plates and discarded plates,
It is preferable to replenish water. In the developing tank 13, light is generated by an alkali developer.
Removing unexposed areas of the polymerizable photosensitive lithographic printing plate
Then, the non-photosensitive resin layer of the discarded plate is removed. Photopolymerizable photosensitivity
Material and coating amount applied to lithographic printing plates and discarded plates
The pH can be kept constant with the same replenishment amount.
Absent. In the present invention, a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate and
Depending on the processing amount of each plate material,
By changing the replenishment amount of the stock solution etc.
The pH and the like can be maintained in an appropriate state. Automatic
When the power of the developing machine 1 is ON or OFF
The pH will drop naturally with carbon dioxide in the atmosphere.
What is the processing amount of photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates and discarded plates?
In addition, it is a supplement to restore the pH lowered by carbon dioxide to a certain level.
It is preferable to charge. In the washing tank 14, it remains on the surface of the developed plate.
Remove the alkaline developer, and go to the gum tank 15 of the next process
Rinse the plate with water to reduce the amount of alkaline liquid
The Thus, in particular, photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates and discarded plates
Without distinguishing the same amount so that the washing water will not deteriorate
Should be replenished. Note that the power of the automatic processor 1 is turned on.
When it is turned off or turned off, the water volatilizes naturally
Replenish the same amount of water as the volatilized amount
It is preferable to do. In the gum tank 15, gum is applied and alkali
The sensitive photosensitive resin is returned to acid and the image area is developed by development.
Suppresses damage and prevents dirt and scratches on non-image areas
To do. Gum is applied to the entire surface regardless of image and non-image areas
Therefore, separate photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates and discarded plates
If you replenish the same amount of gum replenishment stock solution etc.
Good. If the automatic processor is turned on or
When FF is selected, water volatilizes naturally.
Volatile separately from the throughput of the photosensitive photosensitive lithographic printing plate and discarded plate
It is preferable to replenish the same amount of water as the water that has been removed. Next, the discarded version of the present invention will be described.
The undercoat layer of the discarded plate of the present invention will be described. Hydrophilic surface
Undercoat with water-soluble compounds shown below
You may give it. Water-soluble compounds used for undercoating
For example, carboxymethylcellulose, dex
Thrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid
Any amino group-containing phosphonic acid or substituent
Good phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkyl
Ruphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphospho
Organic phosphones such as acid and ethylene diphosphonic acid
Acid, phenylphosphoric acid optionally substituted, naphthyl
Organics such as acid, alkyl phosphate and glycerophosphate
Phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid,
Naphthyl phosphinic acid, alkyl phosphinic acid and
Organic phosphinic acids, such as lysophosphinic acid, glycine
And amino acids such as β-alanine, and triethanol
Amines with hydroxyl groups such as hydrochloride of ruamine
And water-soluble polymers having sulfonic acid groups are preferred.
Water-soluble polymerization, especially with sulfonic acid groups
The body is particularly preferred. A water-soluble polymer having a sulfonic acid group is
Repeat at least one monomer unit having a sulfonic acid group.
A water-soluble polymer compound contained in the molecule as a repeating unit.
For example, Japanese Patent Publication No. 4-9296 (column 3, line 22 to
(4th column, 41st line). Sulfonic acid
As a monomer unit having a group, for example, p-styrene
Sulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropane
Preferred are sulfonic acid, ethylene sulfonic acid, etc.
1 or 2 are appropriately selected and polymerized.
Or copolymerized with other monomers. Co-weight with other monomers
When combined, the partner monomer has a sulfonic acid group
Any monomer can be copolymerized with the monomer
Yes. Specific examples include, for example, methyl methacrylate / ether.
Tyl acrylate / 2-acrylamido-2-methyl group
Sodium lopansulfonate, methyl methacrylate /
Methyl acrylate / p-styrene sulfonate sodium
And sodium polystyrene sulfonate
The The molecular weight range of the water-soluble compound of the present invention is water-soluble.
There is no limit as long as there is, but if you give a general guide, weight average
A molecular weight range of about 1000 to 1000000 is appropriate.
Preferably 2000-100000, most preferably
Is in the range of 10,000 to 100,000. This subbing layer is composed of water, methanol, ethanol.
, Isopropyl alcohol, methyl ethyl ketone, etc.
Alternatively, the above compound is dissolved in a mixed solvent thereof,
It can be applied and dried on a support. Undercoat
The coating layer after drying is 10 to 500 mg / m2Is appropriate
Preferably 50 to 200 mg / m2It is. 1 undercoat
0mg / m2If it is less, the ability to prevent printing stains will be insufficient. under
Coating layer is 500mg / m2More, non-photosensitive applied later
The film strength of the conductive resin layer decreases and scratches are prevented by handling
Ability is reduced. A non-photosensitive resin layer is provided following the undercoat layer.
It is done. Preferred as the resin is an acid content of 0.1 to
3.0 meq / g, preferably 0.2 to 2.0 meq / g
Substantially water-insoluble (ie, neutral or acidic water
Organic polymer compound that is insoluble in the liquid and has film-forming properties
It can be dissolved or swelled in an alkaline aqueous solution.
What can be done is preferred. The acid content is less than 0.1 meq / g
Is difficult to dissolve, especially when it exceeds 3.0 meq / g
The strength of the film during storage at high temperature and high humidity is significantly weakened. Non-photosensitive
Resin molecular weight is dissolved in coating solvent and alkaline aqueous solution
There is no limit as long as it dissolves or swells, but the weight average molecule
1000 to 1000000 in quantity, preferably 10,000
~ 500,000. If the molecular weight is low, the film strength is weak,
High molecular weight degrades solubility. A particularly suitable non-photosensitive resin is acrylic.
Essential acid, methacrylic acid, crotonic acid or maleic acid
Copolymers contained as components, for example, JP-A-50-1188
2-Hydroxyethyl as described in No. 02
Acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate
, Acrylonitrile or methacrylonitrile,
Rilic acid or methacrylic acid and other co-polymers as required
Multicomponent copolymer with polymerizable monomers, JP-A-53-12
The terminal as described in No. 0903 is hydroxy.
A group containing a dicarboxylic acid ester residue
Stealted acrylic or methacrylic acid, acrylic
Luric acid or methacrylic acid and other copolymers as required
Multi-component copolymers with possible monomers, JP-A-54-986
Terminate an aromatic hydroxyl group as described in Japanese Patent No. 14
Monomer (for example, N- (4-hydroxypheny
E) Methacrylamide etc.), acrylic acid or methacrylate
With rilic acid and optionally other copolymerizable monomers
A multi-component copolymer described in JP-A-56-4144
Alkyl acrylate, acrylonitrile
Or from methacrylonitrile and unsaturated carboxylic acid
Can be mentioned. In addition, acidic
Polyvinyl alcohol derivatives and acidic cellulose derivatives
Useful. Polyvinyl acetal and polyurethane
Japanese Patent Publication No. 54-19773, which has been solubilized with alkali,
JP-A-57-94747, JP-A-60-182437,
Of 62-58242 and 62-123453
Binders are also useful, solubilizing polyurethane with alkali
Resin having high film strength is particularly preferable. The non-photosensitive resin layer composition has various known coatings.
Aluminum that dissolves in a solvent and has a hydrophilic surface and subbing layer
The dry coating weight on the um support is 0.2 to 3.0 g / m.2When
Preferably, 0.3 to 1.5 g / m2To be
Can be applied and dried to obtain a lithographic waste plate
The Application amount is 0.2g / m2If it is less, scratches will be prevented
Insufficient capacity, conversely 3.0g / m2The above is the ability to prevent scratches
It is sufficient as a force, and the dissolution speed at the time of dissolution removal decreases.
In addition, the processing capacity of the solution is reduced. When applying
The solid content concentration of the resin layer composition is suitably 1.0 to 50% by weight.
Preferably, 2.0 to 30% by weight is appropriate.
The As a method of applying the resin layer composition on the support,
Known methods such as roll coating, bar coating
Coating, spray coating, curtain coating
A method such as coating or spin coating can be used. Applied
The resin layer composition solution should be dried at 50 to 150 ° C.
preferable. The drying method is to pre-dry by lowering the temperature at the beginning.
After drying, it may be dried at a high temperature or directly at a high temperature.
May be allowed. For the non-photosensitive resin layer, various additives such as
For example, pigments for distinguishing coating layers,
Coating with plasticizer, low molecular acid compound, fluorine surfactant, etc.
A cloth surface quality improving agent can be added. In particular, Zippi
Choline acid, malic acid, sulfosalicylic acid, sulfophthalate
Carboxylic acid group such as acid, tricarballylic acid or sulfone
Low-molecular acid compounds containing acid groups have a
Furthermore, it has an effect of preventing printing stains during long-term storage, which is preferable. Ma
Fluorosurfactants can only be applied to improve the coating surface quality.
Therefore, there is an effect of improving resistance to scratches, which is preferable. Low molecular acid
The compound is contained in an amount of 1 to 20 wt%, non-photosensitive resin layer.
The fluorine-based surfactant is added in an amount of 0.1 to 5 wt%. Hydrophilic
The aluminum support having a surface is photopolymerizable as described later.
The same photosensitive lithographic printing plate can be used. Next, the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate of the present invention.
Will be described. Photopolymerizable lithographic printing plate used in the present invention
The photopolymerization type photosensitive composition constituting the photosensitive layer is addition polymerization.
Possible ethylenically unsaturated compounds, photopolymerization initiators, polymers
A binder is an essential component, and if necessary, colorants, plasticizers,
Various compounds such as thermal polymerization inhibitors can be used in combination.
The The ethylenically unsaturated compound is a photopolymerization type feeling.
When the photocomposition is irradiated with actinic rays, a photopolymerization initiator
Ethylene that undergoes addition polymerization, crosslinking, and curing by the action of
A compound having an unsaturated bond. Addition polymerization possible
Compounds containing ethylenic double bonds are
Have at least one, preferably two or more saturated bonds
Any one of the compounds can be selected. For example
Nomers, prepolymers, ie dimers, trimers and
Oligomers or mixtures thereof as well as
It has a chemical form such as a polymer. As examples of monomers and copolymers thereof
Unsaturated carboxylic acids (e.g. acrylic acid, methacrylate)
Formic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, male
Esthetic acid etc. and aliphatic polyhydric alcohol compounds
Of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound
And the like. Non-aliphatic polyhydric alcohol compounds
Specific examples of ester monomers with saturated carboxylic acids
As the acrylic ester, ethylene glycol di-
Acrylate, triethylene glycol diacryl
1,3-butanediol diacrylate, tetrameth
Tylene glycol diacrylate, propylene glycol
Rudiacrylate, neopentyl glycol diacrylate
, Trimethylol propane triacrylate, tri
Methylolpropane tri (acryloyloxypropiyl
E) Ether, Trimethylolethane Triacrean
Hexanediol diacrylate, 1,4-cyclo
Hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol
Cold diacrylate, pentaerythritol diacryl
Rate, pentaerythritol triacrylate, pen
Taerythritol tetraacrylate, dipentaeryth
Ritol diacrylate, dipentaerythritol pen
Acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate
Rate, sorbitol triacrylate, sorbitol
Tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate
, Sorbitol hexaacrylate, tri (acrylo
Yloxyethyl) isocyanurate, polyester
Examples include acrylate oligomers. Methacrylic acid esters include tetrameth
Tylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol
Cold dimethacrylate, neopentyl glycol dimethyl
Tacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate
, Trimethylolethane trimethacrylate, ethyl
Lenglycol dimethacrylate, 1,3-butanedio
Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate
, Pentaerythritol dimethacrylate, penta
Erythritol trimethacrylate, pentaerythritol
Tetramethacrylate, dipentaerythritol di
Methacrylate, dipentaerythritol hexametac
Relate, dipentaerythritol pentamethacrylate
Sorbitol trimethacrylate, sorbitol
Tetramethacrylate, bis [p- (3-methacrylo
Xyl-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl
Methane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl
Nenyl] dimethylmethane and the like. Itaconic acid esters include ethylene glycol
Recall Diitaconate, Propylene Glycol Diita
Conate, 1,3-butanediol diitaconate,
1,4-butanediol diitaconate, tetramethyle
Glycol diitaconate, pentaerythritol di
Itaconate, sorbitol tetritaconate, etc.
The As crotonic acid ester, ethylene glycol
Dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotone
, Pentaerythritol dicrotonate, sorbite
And tetratetracrotonate. Isocrotonic acid
As stealth, ethylene glycol diisocrotonate
, Pentaerythritol diisocrotonate, sorbi
Examples include tall tetraisocrotonate. Maleic acid esters include ethylene glycol
Recall dimaleate, triethylene glycol dimale
, Pentaerythritol dimaleate, sorbitol te
There are trauma rates. In addition, the ester monomers described above
-Can also be mentioned. In addition, aliphatic polyvalent polymers
Of amide monomer of amine compound and unsaturated carboxylic acid
Specific examples include methylene bis-acrylamide, methyl.
Renbis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene
Bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-
Methacrylamide, diethylenetriamine trisacryl
Luamide, xylylene bisacrylamide, xylylene
Examples include bismethacrylamide. Other examples include Japanese Patent Publication No. 48-417.
Two or more a) molecules per molecule described in No. 08
To the polyisocyanate compound having a socyanate group,
Vinyl containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A)
Two or more polymerizable polymers in one molecule with added monomers
And vinyl urethane compounds containing nyl groups.
The [0026]   CH2= C (RFive) COOCH2CH (R6) OH (A) (However, RFiveAnd R6Is H or CH
ThreeIndicates. ) Japanese Patent Laid-Open No. 51-37193, Japanese Patent
Urethane action as described in No. 2-32293
Relates, JP-A-48-64183, JP-B-49-
No. 43191 and Japanese Patent Publication No. 52-30490
Polyester acrylates, such as epoxies
Epoxy actives made by reacting a resin with (meth) acrylic acid
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as relates
Can be mentioned. Furthermore, Vol. 2
0, No. 7, light on pages 300-308 (1984)
Introduced as curable monomers and oligomers
Things can also be used. In addition, these ethylenic
The amount of unsaturated compound used is from 5 to 80% by weight of the total components of the photosensitive layer.
%, Preferably in the range of 30 to 70% by weight. The photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention
The photopolymerization initiator contained in the
Depending on the length, various photoinitiators known in patents, literature etc.,
Or use a combination system (photoinitiation system) of two or more photoinitiators.
It can be selected and used appropriately. Specific examples are listed below.
However, it is not limited to these. 400nm or more
Visible light, Ar laser, second harmonic of semiconductor laser
When using a wave or SHG-YAG laser as the light source,
Various photoinitiator systems have been proposed, for example, U.S. Pat.
Certain photoreducible dyes described in US Pat. No. 2,850,445;
For example, Rose Bengal, Eosin, Erythrosine,
Or a system with a combination of dye and initiator, eg
For example, a complex starting system of dye and amine (Japanese Examined Patent Publication No. 44-2018)
9), hexaarylbiimidazole and radical generation
Combined use of dye and dye (Japanese Examined Patent Publication No. 45-37377), f
Oxaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzene
Nylidene ketone system (Japanese Patent Publication No. 47-2528, JP
Sho 54-155292), cyclic cis-α-dicarbonyl
Compound and dye system (Japanese Patent Laid-Open No. 48-84183), ring
Triazine and Merocyanine Dye System (JP 54-1)
51024), 3-ketocoumarin and activator system
JP 52-112681, JP 58-15503
No.), biimidazole, styrene derivatives, thiol systems
(JP 59-140203 A), organic peroxides and dyes
(Japanese Patent Laid-Open Nos. 59-1504, 59-1402)
03, JP 59-189340, JP 62-1
74203, Japanese Examined Patent Publication No. 62-1641, US Patent No. 4
766055), dyes and active halogen compounds (special
No. 63-258903, JP-A-2-63054
A dye / borate compound system (Japanese Patent Laid-Open No. 62-1430)
44, JP-A-62-154042, JP-A-64-1
3140, JP-A 64-13141, JP-A 64-
13142, JP-A 64-13143, JP-A 64
No. 13144, JP-A 64-17048, JP-A 1
-229003, JP-A-1-298348, JP-A-1
1-138204, etc.) a dye having a rhodanine ring;
Radical generator system (JP-A-2-179634, JP-A-2
Hei 2-244050), titanocene and 3-ketokumari
Dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 63-221110), titanose
And xanthene dyes, amino groups or urethane groups
Combination of addition-polymerizable ethylenically unsaturated compounds containing
System (JP-A-4-221958, JP-A-4-21)
9756), of titanocene and certain merocyanine dyes
System (Japanese Patent Laid-Open No. 6-295061), titanocene and benzo
A dye system having a pyran ring (JP-A-8-334897)
No.). Recently, a wavelength of 400 to 410 nm has been recorded.
The laser (violet laser) was developed and felt
A photoinitiating system that exhibits high sensitivity at wavelengths below 450 nm
These photoinitiating systems are also used. example
For example, a cationic dye / borate system (Japanese Patent Laid-Open No. 11-8464).
7), merocyanine dye / titanocene system (Japanese Patent Laid-Open No. 2000)
-147763), carbazole type dye / titanocene system
(Japanese Patent Application No. 11-212480)
The Especially in the present invention, a system using a titanocene compound
However, it is preferable in terms of sensitivity. Various titanocene compounds are available.
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 59-1523 can be used.
96, and JP-A 61-151197.
Select from various titanocene compounds
Can do. More specifically, di-cyclopentadieni
Ru-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl
-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-
Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorofe
Ni-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis
-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl,
Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-
Trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadie
Nyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-
Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4
-Di-fluorophen-1-yl, di-methylcyclope
Tantadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-teto
Rafluorophen-1-yl, di-methylcyclopenta
Dienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1
-Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
6-Difluoro-3- (pyr-1-yl) -pheni-1
-Yl etc. can be mentioned. Further, 2-mer may be added to the photoinitiator as required.
Captobenzthiazole, 2-mercaptobenzimid
Thio such as sol, 2-mercaptobenzoxazole
Compounds, N-phenylglycine, N, N-dialkyl
Water such as amine compounds such as amino aromatic alkyl esters
Higher photoinitiating ability by adding elemental donor compound
It is known that The amount of these photopolymerization initiators (systems) used is
0.05 to 100 parts by weight of 100 parts by weight of the tyrenic unsaturated compound
100 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, more preferably
Preferably, it is used in the range of 0.2 to 50 parts by weight. Used for the photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention
The polymer binder that can be used includes a film-forming agent of the composition
As well as need to dissolve in alkaline developer
Therefore, organic high solubility or swellable in alkaline water
Molecular polymers are used. The organic polymer is, for example,
For example, water development is possible with water-soluble organic polymer
become. As such an organic polymer, the side chain has a cap
Addition polymers having rubonic acid groups, for example, JP-A-59-4
4615, Shoko 54-34327, Shoko 58-
12577, JP-B 54-25957, JP-A 54
-92723, JP-A-59-53836, JP-A-5
No. 9-71048, that is,
Tacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid
Copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer,
Examples include partially esterified maleic acid copolymers. Similarly, an acid having a carboxylic acid group in the side chain
There are functional cellulose derivatives. In addition to this
A product obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer is useful.
is there. Especially among these [benzyl (meth) acrylate
G / (meth) acrylic acid / other additional weight as required
Compatible vinyl monomer] copolymer and [allyl (meth) a]
Acrylate (meth) acrylic acid / other as required
Addition-polymerizable vinyl monomer] is preferable. This
In addition to water-soluble organic polymers, polyvinylpyrrolidone
And polyethylene oxide are useful. Also hardened skin
To increase the strength of the membrane, alcohol-soluble polyamides and
2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane
And a polyether of epichlorohydrin are also useful.
Also, Japanese Patent Publication No. 7-120040 and Japanese Patent Publication No. 7-12004
No. 1, No. 7-120042, No. 8-1224
No. 4, JP-A 63-287944, JP-A 63-28
7947, JP-A-1-271741, JP-A-11-
The polyurethane resin described in 352691 is also used in the present invention.
Is useful. These high molecular polymers have radical reactions on the side chains.
Improves the strength of the cured film by introducing a functional group
be able to. Ethylene as a functional group capable of addition polymerization reaction
Unsaturated unsaturated groups, amino groups, epoxy groups, etc.
Mercapto is a functional group that can be converted to radicals by irradiation.
Group, thiol group, halogen atom, triazine structure, oni
Um salt structure, etc.
And the like. A functional group capable of undergoing an addition polymerization reaction;
For example, acrylic group, methacryl group, allyl group,
Particularly preferred is an ethylenically unsaturated bond group such as
Amino group, hydroxy group, phosphonic acid group, phosphoric acid group, cal
Vamoyl group, isocyanate group, ureido group, ureire
Functional group selected from an amine group, a sulfonic acid group, and an ammonio group
Groups are also useful. In order to maintain the developability of the composition, the present invention is used.
The bright polymer binder should have an appropriate molecular weight and acid value.
Preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the acid value is 2
0 to 200 high molecular weight polymers are effectively used. these
The organic polymer of this is mixed in any amount in the whole composition
be able to. However, if it exceeds 90% by weight, it is formed
Does not give a favorable result in terms of image strength and the like. Like
10 to 90%, more preferably 30 to 80%
The Also, photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds and organic
The molecular polymer should be in the range of 1/9 to 9/1 by weight.
Is preferred. A more preferable range is 2/8 to 8/2
More preferably, it is 3/7 to 7/3. In the present invention, the above basic components
Other polymerization during production or storage of the photosensitive composition
Prevent unnecessary thermal polymerization of possible ethylenically unsaturated compounds
To add a small amount of thermal polymerization inhibitor
Yes. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methoxyphenol, di-t-butyl-p-creso
, Pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquino
4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butyl
Phenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-
6-t-butylphenol), N-nitrosophenyl
Droxylamine primary cerium salt, N-nitrosofeni
And the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is approximately about the total composition weight.
0.01% to about 5% is preferred. If necessary, acid
Behenic acid and behenic acid to prevent polymerization inhibition by silicon
After coating with higher fatty acid derivatives such as amide
In the course of drying, it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer. Luxury
The amount of fatty acid derivative added is about 0.5% to about 1% of the total composition.
0% is preferable. Further, for the purpose of coloring the photosensitive layer, a colorant is added.
It may be added. As a colorant, for example, phthalocyan
Nin-based pigment (CI Pigment Blue 1
5: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, car
Bon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet
, Crystal violet, azo dye, anthraki
Non dyes and cyanine dyes are available. Of dyes and pigments
The amount added is preferably from about 0.5% to about 20% of the total composition.
In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, inorganic fillers
And dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, tric
Additives such as plasticizers such as resin phosphate may be added
Yes. These additions are preferably 10% or less of the total composition.
Yes. Photosensitive layer composition of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention
When applying the product on the support described later, various organic solvents are used.
Dissolved and used. As a solvent used here
Is acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane,
Ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran
, Toluene, ethylene glycol monomethyl ether
, Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene
Glycol dimethyl ether, propylene glycol
Nomethyl ether, propylene glycol monoethyl ester
Ether, acetylacetone, cyclohexanone, diace
Ton alcohol, ethylene glycol monomethyl ether
Ruacetate, ethylene glycol ethyl ether acetate
Tate, ethylene glycol monoisopropyl ether
, Ethylene glycol monobutyl ether acetate
G, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethane
Nord, diethylene glycol monomethyl ether, di
Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol
Recall dimethyl ether, diethylene glycol die
Till ether, propylene glycol monomethyl ether
Ruacetate, propylene glycol monoethyl ether
Ruacetate-3-methoxypropyl acetate, N,
N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ
-Butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, etc.
The These solvents can be used alone or in combination.
You can. And the concentration of the solid content in the coating solution is 1 to
50% by weight is suitable. In the photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention,
In order to improve the coating surface quality,
A surfactant can be added. The coating amount is after drying
Weight of 0.3g / m2~ 5.0 g / m2The range is suitable
is there. Preferably 0.5-3 g / m2It is. Further, the polymerization of oxygen is prohibited on the photosensitive layer.
An oxygen barrier protective layer is necessary to prevent the stopping effect
The A water-soluble vinyl polymer contained in the oxygen barrier protective layer;
The polyvinyl alcohol and its partial esthetics
, Ether, and acetal, or required for them
A substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol that is highly water soluble.
Mention may be made of copolymers thereof containing alcohol units. Po
71 to 100% hydrolysis as rivinyl alcohol
And those having a degree of polymerization in the range of 300-2400.
It is. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, P
VA-110, PVA-117, PVA-117H, P
VA-120, PVA-124, PVA-124H, P
VA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-
203, PVA-204, PVA-205, PVA-2
10, PVA-217, PVA-220, PVA-22
4, PVA-217EE, PVA-220, PVA-2
24, PVA-217EE, PVA-217E, PVA
-220E, PVA-224E, PVA-405, PV
A-420, PVA-613, L-8, etc. are mentioned.
As said copolymer, it is hydrolyzed 88-100%
Polyvinyl acetate chloroacetate or propylene
Honate, polyvinyl formal and polyvinyl acetate
Tar and their copolymers. Other existence
Useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and
And gum arabic, which can be used alone or in combination.
May be used. In the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, an acid is used.
As a solvent used when applying an elemental protective layer, pure water is used.
It is preferable to use alcohol such as methanol or ethanol.
And ketones such as acetone, methyl ethyl ketone
It may be mixed with pure water. And the concentration of solids in the coating solution
The degree is suitably from 1 to 20% by weight. The oxygen barrier of the present invention.
In the protective layer, the interfacial activity for further improving the coatability
Water-soluble plasticizers to improve the physical properties of coating agents and films
Known additives may be added. As a water-soluble plasticizer
For example, propionamide, cyclohexanedio
And glycerin and sorbitol. Also water soluble
(Meth) acrylic polymer or the like may be added.
The coating amount is 0.5 g / m in weight after drying.2-10g /
m2The range of is appropriate. More preferably 1.0 g / m2
~ 5.0 g / m2It is. Next, support of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention
Explain the body. Obtaining the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention
The photosensitive layer is provided on a support having a hydrophilic surface.
The As a hydrophilic support, a conventionally known lithographic printing plate
Can be used without limitation on the hydrophilic support used in
Yes. The support used is a dimensionally stable plate.
Preferably, for example, paper, plastic (for example,
Polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.)
Minated paper, metal plates (eg, aluminum,
Lead, copper, etc.), plastic film (eg, diacetic acid
Roulose, cellulose triacetate, cellulose propionate
, Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate
, Polyethylene terephthalate, polyethylene, polyethylene
Restyrene, polypropylene, polycarbonate, poly
Vinyl acetal, etc.) and the above metals are laminated
Or vapor-deposited paper or plastic film, etc.
If necessary, attach hydrophilicity to these surfaces.
Well-known physical and chemicals suitable for the purpose of increasing the strength, etc.
May be subjected to manual processing. In particular, preferred supports include paper, poly
Examples include ester film or aluminum plate.
Among them, it has good dimensional stability, is relatively inexpensive, and is necessary
Providing a surface with excellent hydrophilicity and strength by appropriate surface treatment
An aluminum plate that can be provided is particularly preferred. In addition, Shoko
Polyethylene as described in 48-18327
An aluminum sheet is bound on the terephthalate film.
Combined composite sheets are also preferred. The preferred aluminum plate is pure aluminum
Mainly composed of plate and aluminum, and contains trace amounts of foreign elements.
Alloy plate, and also aluminum laminated or
May be a deposited plastic film. Armini
The different elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, and manga.
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel
There are Kell and Titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most
10% by weight or less. Particularly suitable for the present invention
Minium is pure aluminum, but it is completely pure aluminum.
Since ruminium is difficult to manufacture due to refining technology,
It may contain foreign elements. Thus, it is suitable for the present invention.
The aluminum plate used has a specific composition
Rather than using a publicly known aluminum plate
It can be used as appropriate. Al used in the present invention
The thickness of the minium plate is suitably 0.1 mm to 0.6 mm,
Preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.
2 mm to 0.3 mm. It also has a metal, especially aluminum surface.
In the case of a support, a roughening (graining) treatment,
Aqueous solution of potassium, hydrofluoric zirconate, phosphate, etc.
It is preferable that surface treatment such as immersion in
That's right. Anodizing treatment is used to prevent scratches on non-image areas after development.
Necessary, preferably 0.5 to 5.0 g / m2,
More preferably, 1.0 to 4.0 g / m2Anodized film
Apply. The roughening treatment of the surface of the aluminum plate
For example, the surface is mechanically roughened.
A method for electrochemically dissolving and roughening the surface and
It is carried out by a method of selectively dissolving the surface chemically. Machine
Mechanical methods include ball polishing, brush polishing, and bra
Use known methods such as strike polishing, buffing, and polishing.
it can. Electrochemical roughening methods include hydrochloric acid and glass.
There are methods that use alternating current or direct current in electrolytes such as acids.
The Moreover, it is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 54-63902.
You can also use a method that combines both
The Also, prior to roughening the aluminum plate, desired
For example, to remove rolling oil on the surface, the interface
Degreasing with activator, organic solvent or alkaline aqueous solution
Processing is performed. Further, after roughening, the sodium silicate
Aluminum plate immersed in aqueous solution is preferably used
it can. As described in Japanese Patent Publication No. 47-5125
After anodizing the aluminum plate,
What is immersed in an aqueous solution of metal silicate is preferably used.
It is. Anodizing treatment is, for example, phosphoric acid, chromic acid, sulfur
Inorganic acids such as acid and boric acid, or oxalic acid and sulfamic acid
An aqueous or non-aqueous solution of an organic acid or a salt thereof
Aluminum in a single or a combination of two or more electrolytes
This is carried out by passing an electric current using a metal plate as an anode. Also described in US Pat. No. 3,658,662.
Silicate electrodeposition is also effective. More
JP-B-46-27481, JP-A-52-5860
2 and as disclosed in JP-A 52-30503
And a support with an appropriate electrolytic grain and the above-mentioned anodizing treatment
A surface treatment in combination with sodium silicate treatment is also useful.
Further, as disclosed in JP-A-56-28893
Mechanical roughening, chemical etching, electrolytic grain, positive
Preference is also given to polar oxidation treatment and sodium silicate treatment in order.
Is suitable. Furthermore, after these treatments,
Resin such as polyvinylphosphonic acid, sulfonic acid group
Polymers and copolymers having a pendant in the side chain, polyacryl
Acid, water-soluble metal salt (for example, zinc borate) or yellow dyeing
Also preferred is a primer or amine salt. further
Radiation as disclosed in JP-A-7-159983
A functional group capable of undergoing an addition reaction by cal is covalently bonded.
A sol-gel treated substrate is also preferably used. As another preferred example, on an arbitrary support.
In addition, the surface layer may be provided with a water-resistant hydrophilic layer.
be able to. As such a surface layer, for example, US3
No. 055295 or JP-A-56-13168
Layer comprising machine pigment and binder, JP-A-9-80744
The hydrophilic swelling layer described in JP-A-8-507727
Zo consisting of titanium oxide, polyvinyl alcohol and silicic acids
A Lugel membrane can be used. These hydrophilic treatments
Is applied to make the surface of the support hydrophilic.
In addition, the harmful reaction of the photopolymerizable composition provided thereon
To prevent and improve the adhesion of the photosensitive layer
Is. On the above support, the photopolymerizable composition
By forming a photosensitive layer made of a product, the photopolymerizability of the present invention
Produces a lithographic printing plate, but is required before coating the photosensitive layer
Depending on the situation, an organic or inorganic subbing layer may be provided.
Yes. In the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention,
The photosensitive layer can be, for example, helium cadmium laser,
Lugon ion laser, FD / YAG laser, helicopter
Mneon laser, semiconductor laser (350nm-60
0 nm), etc., after image exposure with conventionally known actinic rays
By developing with the dynamic developing machine 1, an image is formed on the surface of the support.
An image can be formed. After laser exposure, the degree of polymerization of the photopolymerizable photosensitive layer
Plate for the purpose of improving printing durability and improving printing durability.
You may heat with the heating part 11. FIG. On the photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention
As described above, an oxygen barrier protective layer is provided on the
In the pre-washing tank 12 of the automatic processor 1,
Remove the protective layer first, and then remove the unexposed photosensitive layer.
The developer is removed by the developer in the developing tank 13 of the automatic developing machine 1. In the present invention, as described above, automatic development is performed.
In the pre-washing tank 12 of the machine 1, a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate and
Discarded plates are transported and processed, but each process
Change the replenishment amount of water, preservative aqueous solution, etc. according to the amount
Can maintain the pre-water tank 12 in an appropriate state.
Yes. Development used in the developing tank 13 of the automatic developing machine 1
The liquid is not particularly limited, but preferably,
Examples include developers as described in US Pat. No. 57-7427.
Sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide
Lithium, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tertiary phosphate
Sodium, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate
Ni, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate
Inorganic, such as sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia
Alkaline agent, monoethanolamine or diethanol
An aqueous solution of an organic alkaline agent such as amine is suitable.
The The concentration of such an alkaline solution is 0.1 to 10 weight
%, Preferably 0.5 to 5% by weight
The In addition, such an alkaline aqueous solution includes
Surfactant, benzyl alcohol, 2-ph as necessary
Like enoxyethanol, 2-butoxyethanol
A small amount of organic solvent can be included. For example, US Patent No.
Described in US Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480.
Can be mentioned. Furthermore, JP-A-5
0-26601, 58-54341, Shoko 56
-39464, 56-42860 described in each publication
The developer that is used is also excellent. The development in the developing tank 13 follows a conventional method.
And a temperature of about 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C.
For example, an exposed photopolymerizable lithographic printing plate
It is performed by immersing in a brush and rubbing with a brush. In the present invention, as described above, automatic development is performed.
Dispose of photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate in developer tank 13 of machine 1
The plate is transported and development processing is performed.
Change the replenishment amount of water, development replenishment stock solution, etc. according to the amount
By adjusting the pH of the developer in the developing tank 13 to an appropriate state
Can be maintained in a state. The photopolymerizable plain developed in this way is used.
Plate printing plates are disclosed in JP-A Nos. 54-8002 and 55-1150.
45, 59-58431, etc.
As in the washing tank 14, washing water, surfactant, etc.
In the gum layer 15, treated with a rinse solution containing
Post-treatment with a desensitizing solution containing gum arabic or starch derivatives
And dried in the heating unit 16. Development processing
Later, the entire surface was exposed to UV light for the purpose of improving printing durability.
May be. In the post-treatment of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention,
Various combinations of these processes can be used. [0062] The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
Of course, the scope of the present invention is of course limited by these.
Is not something [Preparation of photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate] Thickness 0.30 mm
1S aluminum plate with 8 nylon brush and 8
The surface of a 00 mesh Pamiston water suspension
After being grained, it was thoroughly washed with water. 10% sodium hydroxide
Etching by immersing in thorium at 70 ° C for 60 seconds
After washing with running water, 20% HNOThreeWith neutralization washing, water washing
It was. This is VA= 1 Sine wave alternating wave under the condition of 12.7V
300 coulomb / d in 1% aqueous nitric acid solution using a galvanic current
m2Electrolytic surface roughening treatment was performed with the amount of electricity at the time of anode. The table
When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra indication).
It was. Continuously 30% H2SOFourImmersion in aqueous solution
And desmutted at 55 ° C for 2 minutes, then 33 ° C, 20%
H2SOFourPlace the cathode on a grained surface in an aqueous solution.
Current density 5A / dm2Anodized for 50 seconds at
As a result, the thickness is 2.7 g / m.2Met. On the aluminum plate thus treated
The undercoat layer was provided by the following procedure. The following undercoat liquid
The composition was mixed and stirred at 30 ° C. I saw a fever after about 5 minutes
After reacting for 60 minutes, transfer the contents to another container.
And liquid application by adding 30,000 parts by mass of methanol.
A liquid was prepared. [0064] (Liquid composition for undercoat)   The following compound [Chemical Formula 1] 50 parts by mass   130 parts by mass of methanol   20 parts by weight of water   5 parts by mass of paratoluenesulfonic acid   50 parts by mass of tetraethoxysilane   3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 50 parts by mass [0065] [Chemical 1] This liquid coating solution is treated with the above-mentioned treated alkane.
0.1 g / m on the minium plate2Apply so that
Dry at 100 ° C. for 1 minute. On the undercoat layer thus obtained,
The photopolymerizable composition 1 having the above composition has a dry coating weight of 1.48 g.
/ M2Apply and dry at 100 ° C for 1 minute
A photosensitive layer was formed. [0068] (Photopolymerizable composition 1)   Ethylenically unsaturated bond-containing compound (A1) 2.2 parts by weight   Linear organic polymer (B1) 2.0 parts by weight   Sensitizer (C1) 0.15 parts by weight   Photopolymerization initiator (D1) 0.25 parts by weight   Sensitization aid (E1) 0.3 parts by weight   ε-phthalocyanine (F1) dispersion 0.02 parts by weight   0.03 parts by weight of fluorine-based nonionic surfactant Megafac F176     (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)   Methyl ethyl ketone 15.0 parts by weight   Propylene glycol monomethyl ether acetate 15.0 parts by weight [0069] [Chemical 2]On this photosensitive layer, 6% water composed of the following materials:
The solution was used as an oxygen barrier layer and the dry coating weight was 2.5 g / m.2
It is applied so that it becomes
A sex lithographic printing plate was obtained. Polyvinyl alcohol (PVA-105, manufactured by Kuraray Co., Ltd.,   Saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 2.2 parts by weight Polyvinylpyrrolidone (K30, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.12 parts by weight Piionin D625 (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.073 parts by weight EMALEX 710 (Nihon Emulsion Co., Ltd., surfactant) 0.043 parts by weight [Preparation of Discarded Plate] 99.5 wt% Aluminum
Um, 0.01 wt% copper and 0.03 wt% titanium
%, Iron 0.3% by weight, silicon 0.1% by weight
JIS A1050 aluminum material thickness 0.30mm pressure
The plate is made of 400 mesh Pamiston (manufactured by Kyoritsu Ceramics)
20 wt% aqueous suspension and rotating nylon brush (6,1
0-nylon)
Washed well with water. This was mixed with a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution.
Soaked in aluminum (contains 4.5 wt% aluminum)
The dissolution amount of um is 5 g / m2Etched to be
Then, it was washed with running water. Furthermore, neutralize with 1 wt% nitric acid,
Next, a 0.7 wt% nitric acid aqueous solution (aluminum 0.5 wt.
%)), Anode voltage 10.5 volts, cathode voltage
9.3 volt square wave alternating waveform voltage (current ratio r = 0.9)
0, described in the example of Japanese Patent Publication No. 58-5796
160 coulomb / dm using current waveform)2Anode anode
The electrolytic surface-roughening treatment was performed with the volume. 10 minutes at 35 ° C after washing with water
Immerse in an aqueous solution of sodium hydroxide by weight
The dissolution amount of um is 1 g / m2After etching to become
Washed with water. Next, it is immersed in a 30% by weight sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C
After pickling and desmutting, it was washed with water. Furthermore, a 20% by weight aqueous solution of sulfuric acid at 35 ° C.
Using direct current in (containing 0.8% by weight of aluminum)
Then, a porous anodic oxide film forming treatment was performed. That is, electric
Flow density 13A / dm2Electrolysis is carried out by adjusting the electrolysis time.
Anodized film weight 2.7g / m 2It was. This support
After washing with water, add 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C.
It was immersed for 30 seconds, washed with water and dried. The aluminum support obtained as described above.
The holder is a reflection measured with a Macbeth RD920 reflection densitometer.
The concentration was 0.30 and the centerline average roughness was 0.58 μm.
It was. Next, methyl methacrylate / ethyl acrylate
/ 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid
(Feed weight ratio 65/20/15) Natto part of the copolymer
What was made into a lithium salt to 1.0 wt% methanol / water
Apply as a 90/10 solution after drying with a bar coater
Amount 0.1g / m2It applied so that it might become. Further, the composition shown below is methanol / medium.
Tyl ethyl ketone / 1-methoxy-2-propanol /
Methyl methyl lactate = 30g / 30g / 25g / 12g
Dissolve in a mixed solvent and apply using a bar coater.
Dry at 0 ° C. for 45 seconds. Dry coating amount is 0.5g / m2
Met. [0076] ・ Alkali-soluble urethane binder 5.0 g     (Weight average molecular weight 85,000, acid content 1.64 meq / g, the following 4 types       Mer reaction product)     4,4-diphenylmethane diisocyanate 37.5 mol%     Hexamethylene diisocyanate 12.5 mol%     2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid 32.5 mol%     Tetraethylene glycol 17.5 mol% ・ Victoria Blue BOH 0.05g ・ Sulfophthalic acid 0.3 g ・ FC-430 (3M fluorine surfactant) 0.05g Beat the bleached kraft pulp to a concentration of 4%
0.4% by weight of a synthetic sizing agent is added to the stock diluted in
Aluminum sulfate was added until the pH was 5.0. This
3.0 weight of paper strength agent based on starch
% Coating, paper making, density 0.75g / cmThree, Smoothness 5
0 second, moisture 6.0% 38g / m2I made a slip sheet. So
After that, process the normal PS plate while sandwiching this slip sheet
A discarded version was created on the line. 80 × 110 cm light obtained in this way
A polymerizable photosensitive lithographic printing plate, a discarded plate, FD-YAG
Lu made by Fuji Photo Film Co., Ltd.
xelPlate Setter P-9600 CTP NEWS
We set 90 sheets of photosensitive material and 30 sheets of discarded plates. From the upper computer system, newspaper
Instructions were given to process the paper. Discarded version is not exposed,
Photopolymerizable lithographic printing plate is 0.2 mJ / cm2909 dpi, 10
The image was exposed under the condition of 0 lpi. Then immediately each
Fuji Photo Film Co., Ltd. automatic processor FLP125NF
The plate surface temperature is transferred to S and the plate surface temperature is the center of the plate back surface in the heating unit 11.
After heating to 115 ° C. in the pre-washing tank 12
Then, the oxygen barrier layer was washed away with water at 40 ° C. That
After that, a developer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. in the developing tank 13
Developed at 25 ° C for 22 seconds using DV-2: water = 1: 4
It was. Then, it is washed with water in a water rinsing tank 14 and put into a gum tank 15.
In Fuji Photo Film Co., Ltd. Finishing Gum FP
-3W: water = 1: 1, standard treatment,
And dried with hot air of 50 ° C. At that time, the amount of gum applied
150 mg / m in dry weight2Met. The replenishment conditions shown in Table 1 for each tank are set in the automatic processor.
Enter 60 sheets of sensitive material in about 6 hours.
About 20 sheets were processed in about 6 hours. Turn on the power only during plate making
And others were turned off. When the power is turned on,
The replenishment shown in Table 1 was performed for the amount of time that had been turned OFF. This
For 28 days with occasional interruption of plate making
Total about 1970m2The plate material was processed. 28 days later
The solid content concentration of the oxygen barrier layer of the rinsing tank 12 is 2.0%, development
The pH of the tank 13 was 12.0, the same as the new solution. About waste liquid
It was 500 liters. [0081] [Table 1]Printing stains are caused by a printing machine manufactured by Tokyo Kikai Co., Ltd.
4-color tower type rotary press CT7000 (170,000), ink
Is Dainippon Ink Co., Ltd. newspaper ink.
News King Alky for newspaper made by Ki Co. pH = 10.
2. The paper is Oji Paper 44g / m 2Tomakomai, blanket is gold
Printed 100,000 copies using Yosha MP-75R, 2.07mm
And evaluated. Sense of performing the plate-making running process on the 28th day
Neither the material nor the discarded plate is soiled at all, and the printing durability is NG.
I did not remake the version. Throw away as a comparative example
When the plate is processed with the same replenishment as the photosensitive material, the waste liquid is about 6%.
The pH of the developer finally increased to 12.4.
Rose. As a result, 2% highlight when printing 100,000 copies
A flying jump occurred. [0084] The plate-making method according to the present invention is a separate development.
Economical without preparing a treatment line, reducing the replenishment amount
By reducing the waste liquid, we are dealing with environmental issues.
Stable current status for both photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates and discarded plates
Image quality is obtained, printing stains do not occur, and sufficient printing durability
A lithographic printing plate can be obtained with
It can be suitably used for a printing plate.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明で使用される自動現像機の一形態を示す
説明図である。 【符号の説明】 1 自動現像機 11 加熱部 12 プレ水洗槽 13 現像槽 14 水洗槽 15 ガム槽 16 乾燥部
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of an automatic processor used in the present invention. [Explanation of Symbols] 1 Automatic processor 11 Heating unit 12 Pre-washing tank 13 Developing tank 14 Washing tank 15 Gum tank 16 Drying unit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 親水性表面を有するアルミニウム支持体
上に、順次、光重合性感光層、酸素遮断層が設けられて
いる光重合性感光性平版印刷版と、親水性表面を有する
アルミニウム支持体上に非感光性樹脂層が設けられてい
る捨て版を、同じ自動現像機で現像処理する製版方法に
おいて、処理する版材により該自動現像機のプレ水洗槽
及び現像槽の補充量を自動的に変更することを特徴とす
る製版方法。
What is claimed is: 1. A photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate comprising a photopolymerizable photosensitive layer and an oxygen-blocking layer provided on an aluminum support having a hydrophilic surface, and a hydrophilic property. In a plate making method in which a waste plate having a non-photosensitive resin layer provided on an aluminum support having a surface is developed with the same automatic processor, a pre-water washing tank and a developing tank of the automatic processor depending on the plate material to be processed A plate-making method characterized by automatically changing the replenishment amount.
JP2001273785A 2001-09-10 2001-09-10 Plate making method Pending JP2003084450A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001273785A JP2003084450A (en) 2001-09-10 2001-09-10 Plate making method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001273785A JP2003084450A (en) 2001-09-10 2001-09-10 Plate making method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003084450A true JP2003084450A (en) 2003-03-19

Family

ID=19098950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001273785A Pending JP2003084450A (en) 2001-09-10 2001-09-10 Plate making method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003084450A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7611824B2 (en) 2004-01-09 2009-11-03 Fujifilm Corporation Dummy plate precursor for planographic printing and method for producing printed plate and dummy plate
JP2011502844A (en) * 2007-11-20 2011-01-27 イーストマン コダック カンパニー Processing of lithographic printing plates with hydrophilic polymers in finishing solutions

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7611824B2 (en) 2004-01-09 2009-11-03 Fujifilm Corporation Dummy plate precursor for planographic printing and method for producing printed plate and dummy plate
JP2011502844A (en) * 2007-11-20 2011-01-27 イーストマン コダック カンパニー Processing of lithographic printing plates with hydrophilic polymers in finishing solutions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002040652A (en) Negative photosensitive planographic printing plate
JP2002162741A (en) Negative photosensitive planography printing plate
JP2003021908A (en) Plate making method for lithographic printing plate
JP4150494B2 (en) Planographic printing plate making method
JP3756664B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
JP2002229187A (en) Photosensitive planographic printing plate and photomechanical process for the same
JP2005084092A (en) Photosensitive planographic printing plate
JP2000035673A (en) Production of planographic printing plate
JPWO2006095535A1 (en) Photosensitive lithographic printing plate material
JP2003084450A (en) Plate making method
JP2000267292A (en) Photosensitive planographic printing plate
JP4040476B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH1165096A (en) Photosensitive planographic plate and its manufacture
JP5170953B2 (en) Image forming element and image forming method
JP2003094233A (en) Method for manufacturing photopolymerization type photosensitive lithography printing plate
JP2002091015A (en) Method for producing planographic printing plate
JP2004117981A (en) Developing solution for photosensitive planographic printing plate
JP2003043703A (en) Method for processing planographic printing plate
JP2000081711A (en) Manufacture of planographic printing plate
JP2003063161A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP2003140358A (en) Method for making photosensitive lithographic printing plate
JP3893446B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JP2003098673A (en) Photosensitive planographic printing plate and method for making planographic printing plate
JP2002091014A (en) Method for producing planographic printing plate
JP2003098653A (en) Photopolymerizable photosensitive planographic printing plate