JP2003098307A - プラスチック光学基板への反射防止膜とその成膜方法 - Google Patents
プラスチック光学基板への反射防止膜とその成膜方法Info
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- JP2003098307A JP2003098307A JP2001286630A JP2001286630A JP2003098307A JP 2003098307 A JP2003098307 A JP 2003098307A JP 2001286630 A JP2001286630 A JP 2001286630A JP 2001286630 A JP2001286630 A JP 2001286630A JP 2003098307 A JP2003098307 A JP 2003098307A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 アクリル等の密着性を確保しにくいプラスチ
ック基板に光学的な低反射防止膜を密着性良く成膜する
ことを目的としたものである。 【構成】 プラスチック基板を用いた光学部品への反射
防止膜の成膜にあって、極薄い選択された光学基板を用
いて成膜された第一層、ほぼ１／４λ０に近い光学膜厚
で成膜された第二層、及び若しくはこれに加えトップコ
ートとして極薄い第三層からなる。
ック基板に光学的な低反射防止膜を密着性良く成膜する
ことを目的としたものである。 【構成】 プラスチック基板を用いた光学部品への反射
防止膜の成膜にあって、極薄い選択された光学基板を用
いて成膜された第一層、ほぼ１／４λ０に近い光学膜厚
で成膜された第二層、及び若しくはこれに加えトップコ
ートとして極薄い第三層からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は携帯電話，パーソナ
ル デジタル アシスタント（ＰＤＡ），パソコン，ワー
プロ等に用いる導光板もしくはカメラ，複写機，ファク
シミリ，レーザビームプリンタなど光学機器等のレン
ズ，プリズム等のプラスチック光学部品に用いる反射防
止膜に関する。
ル デジタル アシスタント（ＰＤＡ），パソコン，ワー
プロ等に用いる導光板もしくはカメラ，複写機，ファク
シミリ，レーザビームプリンタなど光学機器等のレン
ズ，プリズム等のプラスチック光学部品に用いる反射防
止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラスチック基板はガラス同様に
光学的特性に優れたものがあり、その加工性の良さ，コ
ストメリット，軽量化等の理由で利用されることが多く
なってきた。
光学的特性に優れたものがあり、その加工性の良さ，コ
ストメリット，軽量化等の理由で利用されることが多く
なってきた。
【０００３】それは近年、カメラ，レーザビームプリン
タ，複写機，ファクシミリなどの光学機械の軽量化や低
コスト化が進み、従来はガラスで作られていたレンズ等
の光学部品をプラスチックで製作することが多くなって
きたこと、プラスチックは極めて軽量であり、かつ成形
が容易であるために製造コストが低いという長所がある
ためである。
タ，複写機，ファクシミリなどの光学機械の軽量化や低
コスト化が進み、従来はガラスで作られていたレンズ等
の光学部品をプラスチックで製作することが多くなって
きたこと、プラスチックは極めて軽量であり、かつ成形
が容易であるために製造コストが低いという長所がある
ためである。
【０００４】このプラスチック基板としては例えばアク
リル（ＰＭＭＡ），ポリカーボネート（ＰＣ），アクリ
ルブタジエンスチレン合成体（ＡＢＳ），ポリエチレン
（ＰＥ）などがあり、光学部品として一般的である。
リル（ＰＭＭＡ），ポリカーボネート（ＰＣ），アクリ
ルブタジエンスチレン合成体（ＡＢＳ），ポリエチレン
（ＰＥ）などがあり、光学部品として一般的である。
【０００５】しかし、光学部品同様に光学特性を向上さ
せる為その表面又は、内側に反射防止膜を設ける事が要
求されるようになってきた。
せる為その表面又は、内側に反射防止膜を設ける事が要
求されるようになってきた。
【０００６】而して従来ガラス基板の反射防止膜として
は一般に、真空蒸着法，スパッタリング法，イオンプレ
ーティング法等の乾式プロセスが用いられ、膜の密着
性，密度等の改善を目的として、２００〜３５０℃程度
の加熱をしながら成膜している。
は一般に、真空蒸着法，スパッタリング法，イオンプレ
ーティング法等の乾式プロセスが用いられ、膜の密着
性，密度等の改善を目的として、２００〜３５０℃程度
の加熱をしながら成膜している。
【０００７】しかしながら、プラスチック基材では、軟
化点が低く（８０℃〜１５０℃）到底加熱が出来ない
為、プラスチック基材との密着性が十分でなく、光学的
基板の選択は限られたものとなり、必ずしも光学的特
性，加工特性を生かしきれていない欠点があった。
化点が低く（８０℃〜１５０℃）到底加熱が出来ない
為、プラスチック基材との密着性が十分でなく、光学的
基板の選択は限られたものとなり、必ずしも光学的特
性，加工特性を生かしきれていない欠点があった。
【０００８】またこの為一般的には、密着強度を得る為
にＳｉＯ２系の湿式法によるアンダーコートが必要であ
り、このようなアンダーコートを成膜する手段や方法は
過去多数案出されており、たとえばアクリル樹脂製のレ
ンズ等の素材の表面にたとえば屈折率１．４８、光学膜
厚２３６．８ｎｍの不飽和珪素酸化物のアンダーコート
を成膜するなどの手段は最もポピュラーなものである
が、この種のアンダーコート法では『厚さ』が不均一で
ピンホールの発生やゴミの付着の可能性があり光学部品
の歩留を著しく悪くするなどの問題があった。
にＳｉＯ２系の湿式法によるアンダーコートが必要であ
り、このようなアンダーコートを成膜する手段や方法は
過去多数案出されており、たとえばアクリル樹脂製のレ
ンズ等の素材の表面にたとえば屈折率１．４８、光学膜
厚２３６．８ｎｍの不飽和珪素酸化物のアンダーコート
を成膜するなどの手段は最もポピュラーなものである
が、この種のアンダーコート法では『厚さ』が不均一で
ピンホールの発生やゴミの付着の可能性があり光学部品
の歩留を著しく悪くするなどの問題があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】一般的に、ポリカーボ
ネートもしくはアクリルが光学基板として用いられてい
る光学特性や加工特性として最適なのはアクリルである
が、前記の手法では膜の密着性が得られない問題があ
り、やむなく複屈折があり加工特性にやや問題のあるポ
リカーボネートがコンパクトディスク（ＣＤ）やデジタ
ルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）等の記録媒体に用い
られている所以であり、特に最近急激な発展を示してい
る携帯電話用の照明光学部品である導光板では、表面に
詳細なグレーティングを設けており加工性光学特性の優
れたアクリルが注目されているのではあるが、現状にお
いてアクリルに所望の光学膜を密着強度を持たせて成膜
することが出来ないとされていた。
ネートもしくはアクリルが光学基板として用いられてい
る光学特性や加工特性として最適なのはアクリルである
が、前記の手法では膜の密着性が得られない問題があ
り、やむなく複屈折があり加工特性にやや問題のあるポ
リカーボネートがコンパクトディスク（ＣＤ）やデジタ
ルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）等の記録媒体に用い
られている所以であり、特に最近急激な発展を示してい
る携帯電話用の照明光学部品である導光板では、表面に
詳細なグレーティングを設けており加工性光学特性の優
れたアクリルが注目されているのではあるが、現状にお
いてアクリルに所望の光学膜を密着強度を持たせて成膜
することが出来ないとされていた。
【００１０】即ちそのプラスチックも密着性が得られな
い原因としては、アクリル樹脂のように成膜時における
蒸発源の放射熱による表面からのガス発生、被膜の積層
歪の発生等の原因が考えられているが、未だこれを解決
に至る発明はなされていないのが現状である。
い原因としては、アクリル樹脂のように成膜時における
蒸発源の放射熱による表面からのガス発生、被膜の積層
歪の発生等の原因が考えられているが、未だこれを解決
に至る発明はなされていないのが現状である。
【００１１】而して本発明は、上記従来の技術を有する
問題点に鑑みてなされたものであり、可視光域および近
赤外光域を含む広い波長領域の光に対してすぐれた反射
防止特性を有するプラスチック光学基板の反射防止膜を
提供すること及びその成膜方法を提唱することを目的と
するものである。
問題点に鑑みてなされたものであり、可視光域および近
赤外光域を含む広い波長領域の光に対してすぐれた反射
防止特性を有するプラスチック光学基板の反射防止膜を
提供すること及びその成膜方法を提唱することを目的と
するものである。
【００１２】他に本発明は、アクリル等の密着性を確保
しにくいプラスチック基板に光学的な低反射防止膜を密
着性良く成膜することを目的としたものである。
しにくいプラスチック基板に光学的な低反射防止膜を密
着性良く成膜することを目的としたものである。
【００１３】また本発明は上記プラスチック基板への被
膜の密着強度を得るための度重なる研究開発を行い、そ
の結果密着強度を向上させ低反射特性に優れた膜の構成
及びその成膜方法を提唱することができたことである。
膜の密着強度を得るための度重なる研究開発を行い、そ
の結果密着強度を向上させ低反射特性に優れた膜の構成
及びその成膜方法を提唱することができたことである。
【００１４】
【本発明を解決する手段】本発明の特徴は、上記の諸問
題を解決するために従来の光学膜の積層方法と異なり、
第一層に極薄い選択された光学基板を用い、第二層にほ
ぼ１／４λ０に近い光学膜厚の反射防止膜を得ること及
びその成膜方法を提唱したことである。
題を解決するために従来の光学膜の積層方法と異なり、
第一層に極薄い選択された光学基板を用い、第二層にほ
ぼ１／４λ０に近い光学膜厚の反射防止膜を得ること及
びその成膜方法を提唱したことである。
【００１５】具体的に、かかる第一層はＴｉＯ２，Ｓｉ
Ｏ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ２Ｏ３の酸化物もしくは、これら
の混合物の一種もしくは、二種以上の基板を用いること
で、充分なプラスチック基板との密着性を確保したこと
である。
Ｏ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ２Ｏ３の酸化物もしくは、これら
の混合物の一種もしくは、二種以上の基板を用いること
で、充分なプラスチック基板との密着性を確保したこと
である。
【００１６】さらに他の本発明の特徴は、上記第一及び
第二層に加え、ＳｉＯ２又はＭｇＦ２で構成されその膜
厚は５０Å〜３００Åの範囲にある第三層を有する構成
及びその成膜方法を提唱したことである。即ちこの第三
層を設けることの構成と成膜方法により、より剥離しな
い密着強度をもつ低反射防止膜を得ることが出来たので
ある。
第二層に加え、ＳｉＯ２又はＭｇＦ２で構成されその膜
厚は５０Å〜３００Åの範囲にある第三層を有する構成
及びその成膜方法を提唱したことである。即ちこの第三
層を設けることの構成と成膜方法により、より剥離しな
い密着強度をもつ低反射防止膜を得ることが出来たので
ある。
【００１７】また本発明では上記の第一層と第二層とを
重ね合せ第１の光学基板本体をさらに１乃至幾重にも、
重ね合せたこともその特徴である。
重ね合せ第１の光学基板本体をさらに１乃至幾重にも、
重ね合せたこともその特徴である。
【００１８】さらに上記、第一層と第二層と第三層とを
重ね合せ第２の光学基板本体をさらに１乃至幾重にも、
重ね合せたこともその特徴である。
重ね合せ第２の光学基板本体をさらに１乃至幾重にも、
重ね合せたこともその特徴である。
【００１９】総じて本発明の特徴は、上記のように多層
膜にすることで反射防止膜の反射防止特性を広域化し、
可視光域および近赤外光域を含む広い波長領域の光に対
する反射防止特性を大幅に改善することができたことで
ある。
膜にすることで反射防止膜の反射防止特性を広域化し、
可視光域および近赤外光域を含む広い波長領域の光に対
する反射防止特性を大幅に改善することができたことで
ある。
【００２０】加えて本発明の他の特徴として上記第二層
はＳｉＯ２又はＭｇＦ２１／４λ０の光学膜厚により構
成されていることであって、これにより特に防止膜の耐
久性を向上させ得たことである。なお、上記のプラスチ
ック基板は、アクリルのようなメタクリル系樹脂が良い
が、これに限定されることなくポリカーボネートのよう
な環状ポレオレフィン系樹脂であれば、いずれの基板で
も本発明の範疇にあるものである。
はＳｉＯ２又はＭｇＦ２１／４λ０の光学膜厚により構
成されていることであって、これにより特に防止膜の耐
久性を向上させ得たことである。なお、上記のプラスチ
ック基板は、アクリルのようなメタクリル系樹脂が良い
が、これに限定されることなくポリカーボネートのよう
な環状ポレオレフィン系樹脂であれば、いずれの基板で
も本発明の範疇にあるものである。
【００２１】なお本発明は他に秀れた作用，効果を有す
るが以下の実施例でこれを詳述する。
るが以下の実施例でこれを詳述する。
【００２２】
【実施の態様】本発明を実施するに当って光学膜の積層
方法は従来の構成及び方法と異なり、上記のように第一
層に極薄い選択された光学基板を用い、第二層にほぼ１
／４λ ０に近い光学膜厚の成膜をさせるものである。
方法は従来の構成及び方法と異なり、上記のように第一
層に極薄い選択された光学基板を用い、第二層にほぼ１
／４λ ０に近い光学膜厚の成膜をさせるものである。
【００２３】さらにはトップコートとして極薄い第三層
を設けることにより通常のスコッチテープテスト（ＪＩ
Ｓ規格Ｎｏ．Ｋ−５４００）では剥離しない密着強度を
もつ低反射防止膜を得ることが出来たのである。
を設けることにより通常のスコッチテープテスト（ＪＩ
Ｓ規格Ｎｏ．Ｋ−５４００）では剥離しない密着強度を
もつ低反射防止膜を得ることが出来たのである。
【００２４】即ち詳しく説明すると、第一層はＴｉＯ
２，ＳｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ２Ｏ３の酸化物もしく
は、これらの混合物の一種もしくは、二種以上の基板を
用いることでプラスチック基板との密着性を確保させた
ものである。
２，ＳｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ２Ｏ３の酸化物もしく
は、これらの混合物の一種もしくは、二種以上の基板を
用いることでプラスチック基板との密着性を確保させた
ものである。
【００２５】より具体的に公知の光学膜は、一般的に１
／４λ０，１／２λ０，１／８λ０等の膜厚を設定しな
いと、光学設計が実現できず低反射膜構成が出来ないと
されている。
／４λ０，１／２λ０，１／８λ０等の膜厚を設定しな
いと、光学設計が実現できず低反射膜構成が出来ないと
されている。
【００２６】この点本願発明者らの研究によれば第一層
の膜厚が７００Åより厚くなると膜の歪が大きくなりア
クリル基板との剥離が生じるようになることを見出し
た。
の膜厚が７００Åより厚くなると膜の歪が大きくなりア
クリル基板との剥離が生じるようになることを見出し
た。
【００２７】従って望ましくは、５０Å〜３００Åの厚
さが最適であり、この厚さでは、一般的な光学理論に
『低反射膜』にならないとされていても、上記第一層が
５０Å〜３００Åであっては十分に低反射膜が構成され
ることを発明実施したのであって、これにより密着性お
よび低反射膜の両特性を満足しかつ耐湿性，耐摩耗性の
向上を行うことができた反射防止膜とその成膜方法を提
唱できたのである。
さが最適であり、この厚さでは、一般的な光学理論に
『低反射膜』にならないとされていても、上記第一層が
５０Å〜３００Åであっては十分に低反射膜が構成され
ることを発明実施したのであって、これにより密着性お
よび低反射膜の両特性を満足しかつ耐湿性，耐摩耗性の
向上を行うことができた反射防止膜とその成膜方法を提
唱できたのである。
【００２８】
【実施例１】図１で洗浄されたアクリル基板（１）に第
一層（２）真空蒸着法でＴｉＯ２膜を約１５０Å成膜
し、又必要により５０Å〜３００Å程度のトップ層を設
けることにより、第二層（３）としてＭｇＦ２を約１／
４λ０成膜した。
一層（２）真空蒸着法でＴｉＯ２膜を約１５０Å成膜
し、又必要により５０Å〜３００Å程度のトップ層を設
けることにより、第二層（３）としてＭｇＦ２を約１／
４λ０成膜した。
【００２９】
【実施例２】次いで第一実施例で成膜された反射防止膜
上に、図２の様に第三層（４）の保護膜として約１５０
ÅのＳｉＯ２膜を成膜した。この結果かかる反射防止膜
は 表１ のとおり、中心波長５５０ｎｍで反射率０．２％以下と
なった。
上に、図２の様に第三層（４）の保護膜として約１５０
ÅのＳｉＯ２膜を成膜した。この結果かかる反射防止膜
は 表１ のとおり、中心波長５５０ｎｍで反射率０．２％以下と
なった。
【００３０】またクロスカットによるスコッチテープ剥
離テストでもアクリル基板（１）と、上記第一層（２）
との密着性は確実で、脱落数は０であった。
離テストでもアクリル基板（１）と、上記第一層（２）
との密着性は確実で、脱落数は０であった。
【００３１】
【実施例４】洗浄されたアクリル基板（１）に実施例１
と同様にＴｉＯ２膜を約１５０Åを成膜し第二層（３）
としてＳｉＯ２膜を約１／４λ０成膜した。この結果成
膜された反射防止膜は、 表２ のように中心波長５５０ｎｍで反射率０．２％以下とな
った。
と同様にＴｉＯ２膜を約１５０Åを成膜し第二層（３）
としてＳｉＯ２膜を約１／４λ０成膜した。この結果成
膜された反射防止膜は、 表２ のように中心波長５５０ｎｍで反射率０．２％以下とな
った。
【００３２】
【実施例５】続いて上記図１に示した第一層（２）と第
二層（３）を第１の光学基板本体（Ａ）とし、図３に示
すようにこの光学基板本体（Ａ１）（Ａ２）を上記アク
リル基板（１）に適宜の手段で重ね合せたところ、単に
第一層（２）と第二層（３）とをアクリル基板（1）に
重ね合せただけの図４のグラフのような特性に比較して
図５のグラフに示すように秀れた特性があることが判明
した。
二層（３）を第１の光学基板本体（Ａ）とし、図３に示
すようにこの光学基板本体（Ａ１）（Ａ２）を上記アク
リル基板（１）に適宜の手段で重ね合せたところ、単に
第一層（２）と第二層（３）とをアクリル基板（1）に
重ね合せただけの図４のグラフのような特性に比較して
図５のグラフに示すように秀れた特性があることが判明
した。
【００３３】その結果上記基板本体（Ａ１）にさらに同
一の基板本体（Ａ２）及び基板本体（ＡＮ）を重ね合せ
ることにより、単層に比し複数の基板本体（Ａ１）乃至
（ＡＮ）を設けた相乗作用分の特性を得ることができ
た。
一の基板本体（Ａ２）及び基板本体（ＡＮ）を重ね合せ
ることにより、単層に比し複数の基板本体（Ａ１）乃至
（ＡＮ）を設けた相乗作用分の特性を得ることができ
た。
【００３４】
【実施例６】同様に上記図２に示した第一層（２）と第
二層（３）と第三層（４）を第１の光学基板本体（Ｂ）
とし、図４に示すようにこの光学基板本体（Ｂ１）（Ｂ
２）を上記アクリル基板（１）に適宜の手段で重ね合せ
たところ、単に第一層（２）と第二層（３）及び第三層
（４）とをアクリル基板（１）に重ね合せただけの特性
に比較してさらに秀れた特性があることが判明した。
二層（３）と第三層（４）を第１の光学基板本体（Ｂ）
とし、図４に示すようにこの光学基板本体（Ｂ１）（Ｂ
２）を上記アクリル基板（１）に適宜の手段で重ね合せ
たところ、単に第一層（２）と第二層（３）及び第三層
（４）とをアクリル基板（１）に重ね合せただけの特性
に比較してさらに秀れた特性があることが判明した。
【００３５】その結果上記基板本体（Ｂ１）にさらに同
一の基板本体（Ｂ２）及び基板本体（ＢＮ）を重ね合せ
ることにより、単層に比し複数の基板本体（Ｂ１）乃至
（ＢＮ）を設けた相乗作用分の特性を得ることができ
た。
一の基板本体（Ｂ２）及び基板本体（ＢＮ）を重ね合せ
ることにより、単層に比し複数の基板本体（Ｂ１）乃至
（ＢＮ）を設けた相乗作用分の特性を得ることができ
た。
【００３６】なおそれぞれの実施例でクロスカットによ
るスコッチテープ剥離テストでも脱落者は０であり、そ
の密着性が確実であることが立証された。
るスコッチテープ剥離テストでも脱落者は０であり、そ
の密着性が確実であることが立証された。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば前記のように従来密着力
のある成膜が不可能とされたアクリル基板であっても、
光学特性の優れた、かかるアクリルのようなプラスチッ
ク基板に光学多層膜を設けることが可能となり、導光
板，レンズ，プリズム，ＬＣＤ基板等への応用が出来る
ようになった。特に携帯電話，ノートパソコン用の光学
部品のプラスチック化による軽量化、コスト低減を可能
としたものである。
のある成膜が不可能とされたアクリル基板であっても、
光学特性の優れた、かかるアクリルのようなプラスチッ
ク基板に光学多層膜を設けることが可能となり、導光
板，レンズ，プリズム，ＬＣＤ基板等への応用が出来る
ようになった。特に携帯電話，ノートパソコン用の光学
部品のプラスチック化による軽量化、コスト低減を可能
としたものである。
【００３８】また従来技術は、５層以上の成膜構成を必
要としたが、本発明はその膜厚が薄いため大幅に成膜時
間を短縮することが可能となった。
要としたが、本発明はその膜厚が薄いため大幅に成膜時
間を短縮することが可能となった。
【図１】本発明に於ける二層状態の反射防止膜を説明す
るための断面拡大説明図
るための断面拡大説明図
【図２】同三層状態の反射防止膜を説明するための断面
拡大説明図
拡大説明図
【図３】図１の二層状態を２乃至N層重ね合せた反射防
止膜を説明するための断面拡大説明図
止膜を説明するための断面拡大説明図
【図４】図２により成膜された反射防止膜の特性を示す
グラフであり、図中下方の特性曲線は上方の特性曲線を
拡大したものである。
グラフであり、図中下方の特性曲線は上方の特性曲線を
拡大したものである。
【図５】図２の三層状態を２乃至N層重ね合せた反射防
止膜を説明するための断面拡大説明図
止膜を説明するための断面拡大説明図
【図６】図３により成膜された反射防止膜の特性を示す
グラフであり、図中下方の特性曲線は上方の特性曲線を
拡大したものである。
グラフであり、図中下方の特性曲線は上方の特性曲線を
拡大したものである。
１ アクリル基板
２ 第一層
３ 第二層
４ 第三層
Ａ 基板本体
Ｂ 基板本体
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｃ２３Ｃ 14/10
14/10 14/20 Ａ
14/20 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA05 AA06 BB11 BB14
BB24 CC03 CC06
4F100 AA05C AA05D AA20B AA20C
AA20D AA21B AA22B AA27B
AK01A AK02A AK25A AK45A
BA03 BA04 BA07 BA10A
BA10C BA10D EH66 GB90
JN01B JN30 YY00B YY00D
4K029 AA11 BA43 BA46 BA48 BB02
BC08 BD00 CA01
Claims (6)
- 【請求項１】プラスチック基板を用いた光学部品への反
射防止膜であって、少なくとも第一層の素材がＴｉＯ
２，ＳｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ２Ｏ３から選ばれる一種
もしくは二種以上の合成された透明膜で構成され、かつ
その実質膜厚が１０Å〜５００Åの範囲にあり、 第二層がＭｇＦ２又はＳｉＯ２で構成され、中心波長λ
０とするとともに光学膜厚が１／８λ０〜１／２λ０で
の構成を含んでいる成膜で構成されることが特徴のプラ
スチック光学基板への反射防止膜とその成膜方法。 - 【請求項２】上記請求項１に示す、第一層と第二層とを
重ね合せ第１の光学基板本体をさらに１乃至幾重にも、
重ね合せたことを特徴とするプラスチック光学基板への
反射防止膜とその成膜方法。 - 【請求項３】プラスチック基板を用いた光学部品への反
射防止膜であって、 少なくとも第一層の素材がＴｉＯ２，ＳｉＯ２，ＺｒＯ
２，Ｃｒ２Ｏ３から選ばれた一種もしくは二種以上の合
成された透明膜で構成され、 かつその実質膜厚が１０Å〜５００Åの範囲にあり、 第二層がＭｇＦ２又はＳｉＯ２で構成され、 中心波長λ０とするとともに光学膜厚が１／８λ０〜１
／２λ０であり、 第三層がＳｉＯ２又はＭｇＦ２で構成され、 その膜厚は５０Å〜３００Åの範囲にあることを特徴と
したプラスチック光学基板への反射防止膜とその成膜方
法。 - 【請求項４】上記、請求項３に示す、第一層と第二層と
第三層とを重ね合せ第２の光学基板本体をさらに１乃至
幾重にも、重ね合せたことを特徴とするプラスチック光
学基板への反射防止膜とその成膜方法。 - 【請求項５】上記請求項１乃至４における第二層は、Ｓ
ｉＯ２又はＭｇＦ２／４λ０の光学膜厚により構成され
ることを特徴とするプラスチック光学基板への反射防止
膜とその成膜方法。 - 【請求項６】上記請求項１又は請求項５におけるプラス
チック板は、アクリルなどメタクリル系樹脂もしくはポ
リカーボネートのような環状ポリオレフィン系樹脂であ
ることを特徴とするプラスチック光学板への反射防止膜
とその成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001286630A JP2003098307A (ja) | 2001-09-20 | 2001-09-20 | プラスチック光学基板への反射防止膜とその成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001286630A JP2003098307A (ja) | 2001-09-20 | 2001-09-20 | プラスチック光学基板への反射防止膜とその成膜方法 |
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|---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-09-20 JP JP2001286630A patent/JP2003098307A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014080726A1 (ja) * | 2012-11-21 | 2014-05-30 | 株式会社 村上開明堂 | 親水性部材およびその製造方法 |
| JP2014100871A (ja) * | 2012-11-21 | 2014-06-05 | Murakami Corp | 親水性部材およびその製造方法 |
| US10042090B2 (en) | 2012-11-21 | 2018-08-07 | Murakami Corporation | Hydrophilic member and method for manufacturing same |
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