JP2003094279A - 被加工物供給装置、及び被加工物供給方法 - Google Patents

被加工物供給装置、及び被加工物供給方法

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JP2003094279A
JP2003094279A JP2001295315A JP2001295315A JP2003094279A JP 2003094279 A JP2003094279 A JP 2003094279A JP 2001295315 A JP2001295315 A JP 2001295315A JP 2001295315 A JP2001295315 A JP 2001295315A JP 2003094279 A JP2003094279 A JP 2003094279A
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moving
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wave
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Application number
JP2001295315A
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English (en)
Inventor
Tokuo Sato
徳夫 佐藤
Mitsuhiro Hiranuma
光宏 平沼
Wataru Ishii
済 石井
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MITO FUJI KOKI KK
Fujinon Corp
Original Assignee
MITO FUJI KOKI KK
Fuji Photo Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ティーチングが不要で被加工物の移送を自動
的に行うことができる被加工物供給装置、及び被加工物
供給方法を提供する。 【解決手段】 木箱41内の任意位置に載置されている
芯取り前レンズを取り上げ、レンズに芯取り加工を施す
ための位置であり位置座標が既知な中間位置P3へレン
ズを移送して供給し、芯取り加工が完了したレンズを中
間位置P3から取り上げ、レンズに他の加工を施すため
に収納するヤトイ51に移送し、ヤトイ51に設けられ
たヤトイ穴の上に載置させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ等の被加工
物をある位置から他の位置へ移送して供給するための被
加工物供給装置、及び被加工物供給方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、光学素材の加工において、例えば
レンズを作製する場合には、クラウン系ガラス、フリン
ト系ガラス等の光学ガラスを含む光学材料からなる光学
素材に、素材取り、レンズ面加工、レンズ外径加
工の順で加工を施す。素材取り加工は、レンズ1個分の
光学材料を粗成形し、加工を施すべき光学素材を得る工
程である。また、レンズ面加工は、粗加工、スムー
ジング、磨き(ポリッシング)の順で行われる。
【0003】レンズ外径加工は、「芯取り加工」とも呼
ばれ、上記したレンズ面加工の最後の磨き工程が終了
し、レンズ状に研磨加工された光学素材(以下、「芯取
り前レンズ」という。)を「芯取機」と呼ばれる円筒研
削機の所定位置まで移送した後、所定の治具に装着し、
芯取機における円筒状の研削加工の中心軸とレンズの光
軸とを一致させる「心出し」を行い、心出しされたレン
ズの外径部分のうちの不要部分を砥石等によって削除し
所定の直径のレンズを得るための工程である。したがっ
て、レンズ加工の第1段階である素材取りでは、設計上
の直径値に芯取りのための余裕しろを見込んだ大きな直
径に加工されている。上記の芯取り工程では、レンズの
外径形状を適正な形状に削り出すほか、レンズ外径部の
面取り、正面取りなども併せて行われる。
【0004】従来は、レンズ面加工の最後の磨き工程が
終了した芯取り前レンズは、木箱等の中の任意の位置
(以下、「第1位置」という。)にランダムな状態で載
置されていた。この状態の芯取り前レンズは、吸着パッ
ド等を有するレンズ供給装置により吸着され、芯取機の
所定位置(以下、「中間位置」という。)に移送され、
芯取機に供給されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の供給装置におい
ては、中間位置の位置座標は、あらかじめ計測され既知
である。しかし、木箱等の中における芯取り前レンズの
第1位置は、その都度異なり、未知である。したがっ
て、従来は、木箱の中の芯取り前レンズの個々につい
て、その位置座標を計測し、レンズ供給装置のデータ入
力装置等に入力して内部の記憶装置等に記憶させる作業
(以下、「ティーチング」という。)を行っていた。し
かし、このティーチング作業は、煩雑であり、手間と時
間のかかる作業であり、レンズの製造コストの低減のた
めにもその改善が望まれていた。
【0006】本発明は上記した問題を解決するためにな
されたものであり、本発明の解決しようとする課題は、
ティーチングが不要で被加工物の移送を自動的に行うこ
とができる被加工物供給装置、及び被加工物供給方法を
提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る被加工物供給装置は、供給用容器内の
任意位置に載置されている前記被加工物を保持し又は離
脱可能な保持手段と、前記供給用容器内の前記被加工物
の位置である第1位置の座標である第1位置座標を計測
可能な第1測位手段と、前記被加工物に第1加工を施す
第1加工装置の位置である中間位置の位置座標を記憶す
る記憶手段と、前記被加工物に第2加工を施すために収
納する収納用部材に設けられるとともに前記被加工物の
外径よりも小さな内径を有する載置用凹部の位置である
第2位置の座標である第2位置座標を計測可能な第2測
位手段と、前記保持手段又は第1測位手段若しくは第2
測位手段を移動可能な移動手段と、前記移動手段により
前記第1測位手段を前記供給用容器内の前記第1位置の
近傍に移動させて前記第1位置座標を計測させ、前記移
動手段により前記保持手段を前記第1位置に移動させて
前記被加工物を保持させ、前記移動手段により前記保持
手段を前記中間位置に移動させた後に前記被加工物を離
脱させることにより前記被加工物を前記中間位置に載置
させ、前記第1加工が完了した被加工物が前記中間位置
に戻った場合には、前記移動手段により前記第2測位手
段を前記第2位置の近傍に移動させて前記第2位置座標
を計測させ、前記移動手段により前記保持手段を前記中
間位置に移動させて前記被加工物を保持させ、前記移動
手段により前記保持手段を前記第2位置に移動させて前
記被加工物を離脱させることにより前記被加工物を前記
載置用凹部の上に載置させるように制御する制御手段を
備えたことを特徴とする。
【0008】上記の被加工物供給装置において、好まし
くは、位置座標が既知な位置決め位置に設置され、載置
された前記被加工物の中心位置を前記位置決め位置に一
致させる位置決め手段を備え、前記記憶手段は、前記位
置決め位置の位置座標を記憶し、前記制御手段は、前記
第1加工が完了した被加工物を前記中間位置から前記載
置用凹部へ移動させるに先立ち、前記被加工物を前記移
動手段により前記中間位置から前記位置決め手段の上に
移動させて載置させ、前記位置決め手段により前記被加
工物の中心位置を前記位置決め位置に一致させた後に、
前記載置用凹部へ移動させるよう制御する。
【0009】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記保持手段は、吸気により負圧を発生さ
せて前記被加工物を吸着し、又は排気により前記負圧を
解消させて前記被加工物を離脱させる吸着手段である。
【0010】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記保持手段は、駆動源により駆動される
把持部材により前記被加工物を把持又は離脱させるチャ
ッキング手段である。
【0011】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記第1測位手段は、光波又は音波を含む
第1計測用波を送出する第1送波手段と、前記第1計測
用波が反射されて戻ってきた第1反射波を受けて検出す
る第1受波手段を有し、前記制御手段は、前記移動手段
により前記第1測位手段を前記供給用容器内の前記第1
位置の近傍に移動させた後、前記移動手段により前記第
1測位手段を第1走査線に沿って移動させつつ前記第1
計測用波の送出と前記第1反射波の検出を行う第1走査
を行わせ、前記第1反射波を検出した反射位置と前記第
1反射波を検出しなかった無反射波位置を検出し、次い
で、前記移動手段により前記第1測位手段を前記第1走
査線に直角な方向となる第2走査線に沿って移動させつ
つ前記第1計測用波の送出と前記第1反射波の検出を行
う第2走査を行わせ、前記反射位置と無反射位置を検出
し、これらの位置座標に基づき前記第1位置座標を演算
する。
【0012】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記被加工物が凸レンズ状の形状を有する
場合には、前記制御手段は、前記第1走査時には、前記
反射波を検出するまで走査を行い、次いで前記反射波が
検出されなくなった位置を第1無反射位置とし、次いで
前記第1走査線を逆方向に走査し前記反射波が検出され
なくなった位置を第2無反射位置とし、前記第1走査線
上で前記第1無反射位置と前記第2無反射位置の中点で
ある第1中点を求め、前記第2走査時には、前記第1中
点を通る垂直線を前記第2走査線として走査を行い、次
いで前記反射波が検出されなくなった位置を第3無反射
位置とし、次いで前記第2走査線を逆方向に走査し前記
反射波が検出されなくなった位置を第4無反射位置と
し、前記第2走査線上で前記第3無反射位置と前記第4
無反射位置の中点である第2中点を求め、前記第1中点
の位置座標と前記第2中点の位置座標に基づき前記第1
位置座標を設定する。
【0013】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記被加工物が凹レンズ状の形状を有する
場合には、前記制御手段は、前記第1走査時には、前記
反射位置と前記無反射位置の組み合わせにより、前記第
1走査線上の前記凹レンズの2つの外縁の位置を検出
し、前記第1走査線上で前記2つの外縁の位置の中点で
ある第3中点を求め、前記第2走査時には、前記第3中
点を通る垂直線を前記第2走査線として走査を行い、次
いで前記反射位置と前記無反射位置の組み合わせによ
り、前記第2走査線上の前記凹レンズの2つの外縁の位
置を検出し、前記第2走査線上で前記2つの外縁の位置
の中点である第4中点を求め、前記第3中点の位置座標
と前記第4中点の位置座標に基づき前記第1位置座標を
設定する。
【0014】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記位置決め手段は、前記被加工物の外縁
を拘束可能な拘束用縁を有する1対の移動部材を接近さ
せ前記被加工物を拘束することにより、前記被加工物の
中心位置を前記位置決め位置に一致させる。
【0015】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記第2測位手段は、光波又は音波を含む
第2計測用波を送出する第2送波手段と、前記第2計測
用波が反射されて戻ってきた第2反射波を受けて検出す
る第2受波手段を有する凹部検出手段を備え、前記制御
手段は、前記移動手段により前記凹部検出手段を前記収
納用部材の前記載置用凹部の近傍に移動させた後、前記
移動手段により前記凹部検出手段を第3走査線に沿って
移動させつつ前記第2計測用波の送出と前記第2反射波
の検出を行う第3走査を行わせ、前記第2反射波の検出
の有無の境界位置を前記載置用凹部の内縁位置であると
第1次近似判別を行い、2つの内縁位置に基づき前記第
2位置の第1近似位置を演算する。
【0016】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記第2測位手段は、前記載置用凹部の中
に挿入可能な押圧部を有して圧力が検出可能であるとと
もに前記移動手段により移動可能な構成を有する圧力検
出手段を備え、前記制御手段は、前記第1次近似判別の
後、前記移動手段により前記圧力検出手段を前記第2位
置の第1近似位置に移動させた後、前記押圧部により前
記第1近似位置を押圧させ、圧力が検出されない場合に
は、当該位置は凹部であると第2次近似判別を行う。
【0017】また、上記の被加工物供給装置において、
好ましくは、前記第2測位手段は、円柱状に形成される
とともに、前記載置用凹部の上部で係止可能な円錐部が
前記円柱の下端に形成され、かつ支持部材により支持さ
れる検出部材を有する誤差検出手段と、第1光波を送出
する第1発光部と、前記第1光波を受けて検出する第1
受光部を有する第1光センサと、第2光波を送出する第
2発光部と、前記第2光波を受けて検出する第2受光部
を有するとともに、前記第1光センサに対し前記円柱の
直径より第1微少距離だけ大きな距離だけ離れた位置に
配置されて第1検出対を構成する第2光センサと、第3
光波を送出する第3発光部と、前記第3光波を受けて検
出する第3受光部を有するとともに、前記第1光センサ
の光軸に対し垂直な光軸を有する第3光センサと、第4
光波を送出する第4発光部と、前記第4光波を受けて検
出する第4受光部を有するとともに、前記第3光センサ
に対し前記円柱の直径より第2微少距離だけ大きな距離
だけ離れた位置に配置されて第2検出対を構成する第4
光センサを有する第2位置検出手段を備え、前記制御手
段は、前記第2次近似判別の後、前記移動手段により前
記誤差検出手段を前記第2位置の第1近似位置に移動さ
せた後、前記円錐部を前記載置用凹部の上部で係止さ
せ、前記各検出対のうち、一方の光センサで光波が検出
され他方の光センサで光波が検出されなかった場合に
は、光波が検出されなかった光センサから光波が検出さ
れた光センサに向かう方向に、前記誤差検出手段を第3
微少距離だけ移動させる手順を繰り返し、4つの光セン
サすべてにおいて光波が検出された場合には、当該状態
での誤差検出手段の中心位置の位置座標を前記第2位置
座標と設定する。
【0018】また、本発明に係る被加工物供給方法は、
供給用容器内の任意位置に載置されている前記被加工物
を保持し又は離脱可能な保持手段と、前記供給用容器内
の前記被加工物の位置である第1位置の座標である第1
位置座標を計測可能な第1測位手段と、前記被加工物に
第1加工を施す第1加工装置の位置である中間位置の位
置座標を記憶する記憶手段と、前記被加工物に第2加工
を施すために収納する収納用部材に設けられるとともに
前記被加工物の外径よりも小さな内径を有する載置用凹
部の位置である第2位置の座標である第2位置座標を計
測可能な第2測位手段と、前記保持手段又は第1測位手
段若しくは第2測位手段を移動可能な移動手段と、制御
手段を設け、前記制御手段を用いて、前記移動手段によ
り前記第1測位手段を前記供給用容器内の前記第1位置
の近傍に移動させて前記第1位置座標を計測させ、前記
移動手段により前記保持手段を前記第1位置に移動させ
て前記被加工物を保持させ、前記移動手段により前記保
持手段を前記中間位置に移動させた後に前記被加工物を
離脱させることにより前記被加工物を前記中間位置に載
置させ、前記第1加工が完了した被加工物が前記中間位
置に戻った場合には、前記移動手段により前記第2測位
手段を前記第2位置の近傍に移動させて前記第2位置座
標を計測させ、前記移動手段により前記保持手段を前記
中間位置に移動させて前記被加工物を保持させ、前記移
動手段により前記保持手段を前記第2位置に移動させて
前記被加工物を離脱させることにより前記被加工物を前
記載置用凹部の上に載置させるように制御することを特
徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発
明の一実施形態であるレンズ供給装置の全体構成を示す
ブロック図である。
【0020】図1に示すように、このレンズ供給装置1
00は、制御部1と、移動部2と、保持・センサ部3
と、レンズ供給部4と、レンズ収納部5と、位置決め部
6を備えて構成されている。レンズ供給装置100は、
特許請求の範囲における被加工物供給装置に相当してい
る。また、このレンズ供給装置100の近傍には、芯取
機200が配置されている。
【0021】このレンズ供給装置100は、レンズ供給
部4内の任意位置である第1位置P1に載置されている
芯取り前レンズ(L1、後述。)を保持・センサ部3の
吸着部(31、後述。)で取り上げ、この芯取り前レン
ズに芯取り加工を施す芯取機200の既知の位置である
中間位置P3へ芯取り前レンズを移送して供給し、芯取
り加工が完了した芯取り後レンズ(L2、後述。)を、
芯取機200の中間位置P3から取り上げ、位置決め部
6に移送して位置決め位置P4に位置決めし、次いで、
位置決め位置P4から取り上げ、芯取り後レンズ(L
2、後述。)にコーティング等の加工を施すために収納
するヤトイ(51、後述。)の第2位置P2に設けられ
たヤトイ穴(51a、後述。)へ移送し、ヤトイ穴の上
に載置させるための装置である。
【0022】ここに、芯取り前レンズ(L1、後述。)
と芯取り後レンズ(L2、後述。)は、特許請求の範囲
における被加工物に相当している。また、芯取り加工
は、特許請求の範囲における第1加工に相当している。
また、コーティング等の加工は、特許請求の範囲におけ
る第2加工に相当している。また、ヤトイ(51、後
述。)は、特許請求の範囲における収納用部材に相当し
ている。また、ヤトイ穴(51a、後述。)は、特許請
求の範囲における載置用凹部に相当している。
【0023】以下、本装置100のさらに詳細な構成と
作用について説明する。図2は、このレンズ供給装置1
00における平面的位置関係を示す図である。図2に示
すように、レンズ供給部4には、木箱41が納められて
いる。木箱41は、上部が開放された箱形に形成された
部材である。木箱41の内部の底面上の任意の位置であ
る第1位置P1には、芯取り前レンズL1が載置されて
いる。この第1位置P1の位置座標は未知である。木箱
41は、特許請求の範囲における供給用容器に相当して
いる。また、図2において図示はされていないが、レン
ズ供給部4の下方には、レンズ収納部(5、後述。)が
配置されている。
【0024】芯取機200は、レンズ供給装置100に
隣接する位置に配置されており、コンベア201が設け
られている。コンベア201の上には、搬送用部材20
2が複数個載置されており、コンベア201に駆動され
図の矢印方向に移動するようになっている。搬送用部材
202は、例えば、皿状の部材であり、その上に芯取り
前レンズL1を載せ、芯取り加工の位置まで搬送するた
めの部材である。図2における位置P3は、中間位置で
あり、その位置座標は、測定等によって既知となってい
る。また、レンズ供給部4と芯取機200の近傍位置に
は、位置決め部6が配置されている。位置決め部6の詳
細な構成と作用については後述する。位置決め部6にお
ける位置P4は、位置決め位置である。
【0025】なお、レンズ供給部4と芯取機200の中
間には、移動部2によって駆動される保持・センサ部3
が設けられているが、図2においては、図示が省略され
ている。保持・センサ部3は、移動部2の駆動により、
図2におけるX方向又はその逆方向、あるいはY方向又
はその逆方向に移動可能な構成となっている。
【0026】図3は、このレンズ供給装置100におけ
る移動部2の構成を示す図である。図3の左右方向は、
図2におけるY方向となっている。また、図3の紙面の
手前から奥に向かう方向又はその逆方向は、図2におけ
るX方向となっている。
【0027】図3に示すように、移動部2は、レンズ供
給部4とレンズ収納部5の近傍に配置されており、板状
又は骨組状の底部フレーム20と、底部フレーム20の
4隅角部に立設された支柱部材21と、支柱部材21の
上部を水平に連結する水平部材22と、2つの水平部材
の上に架設されたビーム部材23と、ビーム部材23に
組み込まれてビーム部材23の長手方向(Y方向)に沿
って移動可能に構成されたアーム部25を有して構成さ
れている。また、アーム部25の先端付近には、保持・
センサ部3が取り付けられているが、図3においては図
示が省略されている。
【0028】ビーム部材23の図3における左右両端付
近の底部には、走行車輪24が設けられている。これに
より、ビーム部材23は、水平部材22の上をX方向
(図3の紙面の手前から奥に向かう方向又はその逆方
向)に走行可能となっている。また、ビーム部材23を
駆動する駆動源としては、図示はしていないが、走行車
輪24の車軸を回転駆動可能な電動モータや伝動機構、
ビーム部材23をX方向に直線移動させる直線的移動機
構等が採用可能である。伝動機構としては、歯車機構、
チェーン車機構、ベルト車機構等や、これらの適宜の組
み合わせ等が採用可能である。また、直線的移動機構と
しては、油圧シリンダ、空気圧シリンダ、電磁ソレノイ
ド、リニアモーター、ラック・ピニオン機構、スライダ
・クランク機構、多重ねじ機構等が採用可能である。上
記のような構成により、アーム部25は、図3における
Y方向の直角方向(X方向)に移動可能となっている。
【0029】図4は、このレンズ供給装置100におけ
るアーム部25と保持・センサ部3の構成を示す図であ
る。図4(A)に示すように、アーム部25は、センサ
類取付部25aと、スリット挿通部25bと、走行部2
5cを有している。
【0030】センサ類取付部25aは、アーム部25の
先端付近であり、後述する保持・センサ部3が取り付け
られる部分である。また、スリット挿通部25bは、セ
ンサ類取付部25aと後述する走行部25cを連結する
部分であり、ビーム部材23に設けられたスリット(細
長い開口)23bに挿通されている。また、走行部25
cは、ビーム部材23の内部に設けられた空洞部23a
に収容可能な断面形状を有する部分である。空洞部23
aは、ビーム部材23の長手方向(Y方向)に沿って延
びる空洞である。また、スリット23bは、ビーム部材
23の長手方向(Y方向)に沿って延びる開口であり、
空洞部23aと連通している。
【0031】また、走行部25cの底部には、走行車輪
25dが設けられている。これにより、走行部25c
は、空洞部23aの底面の上をY方向(図4(A)の紙
面の手前から奥に向かう方向又はその逆方向)に走行可
能となっている。この走行部25cを駆動する駆動源と
しては、図示はしていないが、走行車輪25dの車軸を
回転駆動可能な電動モータや伝動機構、走行部25cを
Y方向に直線移動させる直線的移動機構等が採用可能で
ある。伝動機構、直線的移動機構としては、ビーム部材
23において説明したものが採用可能である。
【0032】上記のような構成により、アーム部25
は、図3におけるY方向に移動可能となっている。上記
した移動部2は、特許請求の範囲における移動手段に相
当している。なお、移動部2において、走行車輪24や
25dを設けず、単に摺動させるだけの構成としてもよ
い。
【0033】図4(B)は、図4(A)におけるA−A
方向から見た図である。図4(B)に示すように、アー
ム部25の先端付近のセンサ類取付部25aには、保持
・センサ部3が取り付けられている。保持・センサ部3
は、吸着部31と、第2位置検出部32と、ヤトイ穴検
出部33と、圧力検出部34と、第1位置用光センサ部
35と、第1位置用超音波センサ部36を有している。
【0034】上記した吸着部31と、第2位置検出部3
2と、ヤトイ穴検出部33と、圧力検出部34と、第1
位置用光センサ部35と、第1位置用超音波センサ部3
6は、図5に示すセンサ類移動機構37を介してアーム
部25のセンサ類取付部25aに取り付けられている。
【0035】センサ類移動機構37は、図5に示すよう
に、移動機構本体37aと取付部37bを有している。
移動機構本体37aには、上記した直線的移動機構と同
様な機構が内蔵されている。取付部37bは、移動機構
本体37aをセンサ類取付部25aに固定する部分であ
る。
【0036】上記のような構成により、保持・センサ部
3の吸着部31と、第2位置検出部32と、ヤトイ穴検
出部33と、圧力検出部34と、第1位置用光センサ部
35と、第1位置用超音波センサ部36は、センサ類移
動機構37により、レンズ供給部4の上方からレンズ供
給部4に接近し、又は遠ざかるような上下移動ができる
ようになっている。
【0037】図6は、上記のレンズ供給装置100にお
ける制御部1の構成を示す図である。図6に示すよう
に、制御部1は、CPU(Central Proce
ssing Unit:中央演算処理装置)11と、R
OM(Read Only Memory:読出し専用
メモリ)12と、RAM(Random Access
Memory:随時書込み読出しメモリ)13と、イン
タフェース14及び15と、入力部16と、出力部17
を有している。
【0038】上記したCPU11は、このレンズ供給装
置100の各部と信号線(図示せず)で接続され、これ
らを統括制御し、各種演算やプログラム実行等の処理を
行う部分であり、特許請求の範囲における制御手段に相
当している。また、ROM12は、CPU11の実行す
るプログラムや既知データ等を格納した記憶装置であ
る。上述した既知の中間位置P3の位置座標、例えばX
Y座標系での座標(X3,Y3)や、位置決め位置P4
の位置座標、例えばXY座標系での座標(X4,Y
4)、あるいは、移動部2の座標原点の位置座標、移動
部2における各センサ類等の位置座標等は、ROM12
に記憶されている。このROM12のかわりにハードデ
ィスク又は他の形式の記憶装置(図示せず)を用いても
よく、これらの記憶装置は読出し専用のものだけでなく
1回又は複数回書込み可能なものであってもよい。さら
に他の形態の記憶装置、例えば、他の半導体記憶装置、
磁気ディスク、光ディスク等を記憶装置として用いても
よい。
【0039】また、RAM13は、CPU11により演
算されたデータ等を一時記憶する記憶装置である。上述
した未知の第1位置P1の位置座標、例えばXY座標系
での座標(X1,Y1)や、第2位置P2の位置座標、
例えばXY座標系での座標(X2,Y2)は、後述する
センサ類によって計測され、RAM13にデータとして
記憶される。このRAM13のかわりにハードディスク
又は他の形式の記憶装置を用いてもよい。ROM図6に
おける符号S1〜S4は、制御部1における信号の流れ
を示している。上記したROM12とRAM13は、特
許請求の範囲における記憶手段に相当している。
【0040】入力部16としては、各種スイッチ、キー
ボード、マウス等が採用可能である。また、出力部17
としては、CRT(陰極線管)や液晶表示装置等の画像
表示装置、出力端子等が採用可能である。
【0041】また、上記した制御部1は、ハードウェ
ア、又はプログラム内のソフトウェアで構成された図示
しないタイマー(計時手段)を有しており、処理のため
の所定期間が経過したか否かを判別することができるよ
うに構成されている。
【0042】次に、第1位置用光センサ部35の構成と
作用について説明する。図7は、保持・センサ部3にお
ける第1位置用光センサ部35の構成と作用を説明する
図である。図7(A)に示すように、第1位置用光セン
サ部35は、発光部35aと受光部35bを有してい
る。発光部35aは、発光ダイオード(LED)等を有
しており、レーザ光W1を発射する。レーザ光W1は、
例えば芯取り前レンズL1によって反射され、レーザ光
W2となって戻る。受光部35bは、フォト・ダイオー
ド等の光検出器を有しており、受光した光によって電気
信号(以下、「光検出信号」という。)を出力する。こ
こに、第1位置用光センサ35は、特許請求の範囲にお
ける第1測位手段に相当しており、発光部35aは、特
許請求の範囲における第1送波手段に相当しており、受
光部35bは、特許請求の範囲における第1受波手段に
相当している。また、レーザ光W1は、特許請求の範囲
における第1計測用波に相当しており、レーザ光W2
は、特許請求の範囲における第1反射波に相当してい
る。
【0043】次に、第1位置用光センサ部35を用い
て、芯取り前レンズL1のY方向の中心位置、すなわ
ち、第1位置のY座標Y1を求める方法について、図7
(B)を参照しながら詳細に説明する。この場合は、芯
取り前レンズL1が凸レンズ状の形状をしている場合に
ついて説明している。
【0044】まず、CPU11は、移動部2に制御信号
を出力して、アーム部25(図3参照)をY方向のある
直線(以下、「第1走査線」という。)に沿って移動さ
せながら、第1位置用光センサ部35に制御信号を出力
し、レーザ光W1を発射させる(図7(B)における
参照)。これにより、レーザ光W1の照射点が芯取り前
レンズL1の中央付近(図7(B)における点P1付
近)になると、レンズ表面は、ほぼ平面状となるので、
反射光が受光部35bに戻るため、受光部35bは光検
出信号を出力する。CPU11は、この光検出信号が出
力されたことを判別すると、「現在位置付近に芯取り前
レンズが存在する」と判別する。
【0045】次に、CPU11は、移動部2に制御信号
を出力して、アーム部25(図3参照)を第1走査線に
沿って、同じ方向にさらに移動させる(図7(B)にお
ける参照)。この結果、ある照射点R11に到達する
と、レンズ表面は平面状から離れてくるので、反射光は
受光部35bにほとんど戻らなくなる。このため、受光
部35bは光検出信号を出力しなくなる。CPU11
は、光検出信号が出力されないことを判別すると、「現
在位置は第1無反射位置である」と判別し、現在の照射
位置R11のY座標Y11を演算し、RAM13に記憶
させる。CPU11は、次に、移動部2に制御信号を出
力して、アーム部25(図3参照)を、第1走査線の逆
方向に移動させる(図7(B)における参照)。
【0046】この結果、点P1を通過し、さらに戻った
ある照射点R12に到達すると、レンズ表面は再び平面
状から離れてくるので、反射光は受光部35bにほとん
ど戻らなくなる。このため、受光部35bは光検出信号
を出力しなくなる。CPU11は、光検出信号が出力さ
れないことを判別すると、「現在位置は第2無反射位置
である」と判別し、現在の照射位置R12のY座標Y1
2を演算し、RAM13に記憶させる。その後、CPU
11は、第1無反射位置R11と第2無反射位置R12
の中点(以下、「第1中点」という。)の位置座標、す
なわち、Y座標Y1=(Y11+Y12)/2を、RA
M13に記憶させる。上記した、、の一連の走査
は、特許請求の範囲における第1走査に相当している。
【0047】次に、第1位置用超音波センサ部36の構
成と作用について説明する。図8は、保持・センサ部3
における第1位置用超音波センサ部36の構成と作用を
説明する図である。図8(A)に示すように、第1位置
用超音波センサ部36は、送信部36aと受信部36b
を有している。送信部36aは、水晶振動子等を有して
おり、超音波W3を発射する。超音波W3は、例えば芯
取り前レンズL1によって反射され、超音波W4となっ
て戻る。受信部36bは、水晶振動子等の検出器を有し
ており、受信した超音波によって電気信号(以下、「超
音波検出信号」という。)を出力する。ここに、第1位
置用超音波センサ36は、特許請求の範囲における第1
測位手段に相当しており、発信部36aは、特許請求の
範囲における第1送波手段に相当しており、受信部36
bは、特許請求の範囲における第1受波手段に相当して
いる。また、超音波W3は、特許請求の範囲における第
1計測用波に相当しており、超音波W4は、特許請求の
範囲における第1反射波に相当している。
【0048】次に、第1位置用超音波センサ部36を用
いて、芯取り前レンズL1のX方向の中心位置、すなわ
ち、第1位置のX座標X1を求める方法について、図8
(B)を参照しながら詳細に説明する。この場合は、芯
取り前レンズL1が凸レンズ状の形状をしている場合に
ついて説明している。
【0049】まず、CPU11は、移動部2に制御信号
を出力して、アーム部25(図3参照)を移動させ、第
1位置用超音波センサ部36の超音波照射位置のY座標
がY1となるようにする。次に、移動部2に制御信号を
出力して、アーム部25(図3参照)を、座標Y1の点
からX方向に向かう直線(以下、「第2走査線」とい
う。)に沿って移動させながら、第1位置用超音波セン
サ部36に制御信号を出力し、超音波W3を発射させる
(図8(B)における´参照)。これにより、超音波
W3の照射点が芯取り前レンズL1の中央付近(図8
(B)における点P1付近)になると、レンズ表面は、
ほぼ平面状となるので、反射した超音波が受信部36b
に戻るため、受信部36bは超音波検出信号を出力す
る。
【0050】次に、CPU11は、移動部2に制御信号
を出力して、アーム部25(図3参照)を第2走査線に
沿って、同じ方向にさらに移動させる(図8(B)にお
ける´参照)。この結果、ある照射点R13に到達す
ると、レンズ表面は平面状から離れてくるので、反射し
た超音波は受信部36bにほとんど戻らなくなる。この
ため、受信部36bは超音波検出信号を出力しなくな
る。CPU11は、超音波検出信号が出力されないこと
を判別すると、「現在位置は第3無反射位置である」と
判別し、現在の照射位置R13のX座標X13を演算
し、RAM13に記憶させる。CPU11は、次に、移
動部2に制御信号を出力して、アーム部25(図3参
照)を、第2走査線の逆方向に移動させる(図8(B)
における´参照)。
【0051】この結果、点P1を通過し、さらに戻った
ある照射点R14に到達すると、レンズ表面は再び平面
状から離れてくるので、反射した超音波は受信部36b
にほとんど戻らなくなる。このため、受信部36bは超
音波検出信号を出力しなくなる。CPU11は、超音波
検出信号が出力されないことを判別すると、「現在位置
は第4無反射位置である」と判別し、現在の照射位置R
14のX座標Y14を演算し、RAM13に記憶させ
る。その後、CPU11は、第3無反射位置R13と第
4無反射位置R14の中点(以下、「第2中点」とい
う。)の位置座標、すなわち、X座標X1=(X13+
X14)/2を、RAM13に記憶させる。上記した
´、´、´の一連の走査は、特許請求の範囲におけ
る第2走査に相当している。
【0052】上記の結果、CPU11は、第1位置P1
の位置座標、例えばXY座標系での座標(X1,Y1)
を求め、RAM13に記憶させる。
【0053】次に、上記した第1位置用光センサ部35
と第1位置用超音波センサ部36を用いて、凹レンズ状
の芯取り前レンズL1´の中心位置、すなわち、第1位
置の位置座標を求める方法について、図9を参照しなが
ら詳細に説明する。
【0054】この場合には、CPU11は、第1走査時
には、図9(A)に示すように、反射位置と無反射位置
の組み合わせにより、第1走査線上の凹レンズL1´の
2つの外縁の位置E1とE2を検出し、第1走査線上で
2つの外縁の位置E1とE2の中点である第3中点CY
を求める。図示はしていないが、第2走査時には、第1
走査の場合と同様にして、CPU11は、第3中点CY
を通る垂直線を第2走査線として走査を行い、次いで反
射位置と無反射位置の組み合わせにより、第2走査線上
の凹レンズL1´の2つの外縁の位置を検出し、第2走
査線上で2つの外縁の位置の中点である第4中点を求
め、第3中点の位置座標と第4中点の位置座標に基づき
第1位置座標を設定し、RAM13に記憶させる。
【0055】図9(B)は、凹レンズL1´の外縁位置
E1を検出する方法を説明する図である。CPU11
は、反射波を検出するまで走査を行い(図9(B)にお
ける″参照)、次いで同一方向にさらに走査を行い
(図9(B)における″参照)、反射波が検出されな
くなった位置を第1無反射位置R11″とし、次いで第
1走査線を逆方向に走査し(図9(B)における″参
照)、反射波が検出されなくなった位置を第2無反射位
置R12″とし、第1走査線上で第1無反射位置R1
1″と第2無反射位置R12″の中点として一方の外縁
位置E1の位置座標を求め、RAM13に記憶させるの
である。
【0056】上記において、第1位置用光センサ部35
と第1位置用超音波センサ部36は、第1測位手段に相
当している。
【0057】上記のようにして、木箱41内の芯取り前
レンズL1の第1位置が得られれば、芯取機200の中
間位置P3は既知であるから、CPU11は、吸着部3
1を用いて芯取り前レンズL1を第1位置から取り上
げ、中間位置まで保持した後に離脱させ、中間位置P3
に載置するように制御する。
【0058】図10は、保持・センサ部3における吸着
部31の構成を示す図である。図10(A)に示すよう
に、吸着部31は、真空ポンプ31aと、制御弁31b
と、配管31c1及び31c2と、パイプ部31dと、
パッド31eと、負圧センサ31fを有している。パッ
ド31eは、図10(B)に示すように、シリコンゴム
等からなる漏斗状部材で、中央に開口が設けられてお
り、この開口はパイプ部31dと配管31c2の内部空
間と連通している。真空ポンプ31aは、CPU11に
より制御される電動モータ(図示せず)等の駆動源と、
排気弁(図示せず)を有している。また、制御弁31b
は、図示しないアクチュエータを有しており、CPU1
1によるアクチュエータの駆動制御により、内部の弁が
開閉制御されるように構成されている。負圧センサ31
fは、圧力を検出する圧力センサであり、CPU11に
接続されている。また、吸着部31のパイプ部31d
は、センサ類移動機構37を介してアーム部25の先端
のセンサ類取付部25aに取り付けられている。
【0059】上記のような構成により、CPU11は、
制御弁31bを閉じた状態にしておき、真空ポンプ31
aの駆動源(図示せず)に制御信号を出力して作動さ
せ、配管31c1の内部の空気を吸気して負圧状態を発
生させる。この状態で、CPU11は、移動部2に制御
信号を出力して、アーム部25(図3参照)を移動さ
せ、センサ類取付部25aを第1位置P1の上に到達さ
せ、さらにセンサ類移動機構37の移動機構本体37a
に制御信号を出力して吸着部31を下降させ、パッド3
1eが芯取り前レンズL1の直上の微少距離離れた位置
となるように設定する。次に、CPU11は、制御弁3
1bのアクチュエータ(図示せず)に制御信号を出力し
て弁を開かせる。これにより、配管31c2、パイプ部
31d、パッド31eの内部が負圧状態となり、芯取り
前レンズL1はパッド31eにより吸着され保持され
る。
【0060】この状態で、CPU11は、移動部2に制
御信号を出力して、センサ類移動機構37を上昇させ、
アーム部25(図3参照)を移動させ、センサ類取付部
25aを中間位置P3の上に到達させ、さらにセンサ類
移動機構37の移動機構本体37aに制御信号を出力し
て下降させ、パッド31eに吸着された芯取り前レンズ
L1が中間位置P3の位置に停止している搬送用部材2
02(図2参照)の直上の微少距離離れた位置となるよ
うに設定する。次に、CPU11は、排気弁(図示せ
ず)に制御信号を出力して弁を開かせる。これにより、
排気が行われ、配管31c2、パイプ部31d、パッド
31eの内部の負圧状態が解消され、芯取り前レンズL
1はパッド31eから離脱し、中間位置P3に位置する
搬送用部材202(図2参照)の上に載置される。
【0061】上記において、吸着部31は、特許請求の
範囲における保持手段に相当している。なお、負圧セン
サ31fは、負圧状態の有無を検出するものであり、負
圧の有無によって、レンズを吸着したか否かを確認して
いる。負圧センサは、配管31c2の部分にも設けても
よい。
【0062】中間位置P3の搬送用部材202の上に載
置された芯取り前レンズL1は、図2に示すように、コ
ンベア201に駆動され図の矢印方向に移動し、芯取り
加工の位置まで搬送され、芯取り加工が行われる。芯取
り加工が終了すると、芯取り加工後のレンズは、再びコ
ンベア201と搬送用部材202によって搬送され、中
間位置P3へ戻ってくる。芯取り後レンズが中間位置P
3に戻った場合は、他のセンサ等(図示せず)により検
出され、CPU11に出力される。
【0063】芯取り後レンズが中間位置P3に戻れば、
中間位置P3と位置決め位置P4は既知であるから、C
PU11は、吸着部31を用いて芯取り後レンズを中間
位置P3から取り上げ、位置決め位置P4まで保持した
後に離脱させ、位置決め位置P4に載置するように制御
することができる。
【0064】図11は、このレンズ供給装置100にお
ける位置決め部6の構成を示す図である。図11に示す
ように、この位置決め装置6は、レンズ支持部60と、
第1移動部材61と、第2移動部材62と、移動機構6
3及び64と、駆動用部材65及び66を有している。
移動機構63、64は、ビーム部材23や走行部25c
において説明した直線的移動機構が採用可能であり、C
PU11により駆動制御されるように構成されている。
また、第1移動部材61と、第2移動部材62には、芯
取り後レンズの外縁を拘束可能なレンズ拘束用縁61a
と62a、例えば三角形状の切欠が設けられている。
【0065】上記のような構成により、まず最初は、C
PU11は、移動機構63及び64を作動させて、第1
移動部材61と第2移動部材62が離れた状態としてお
き、レンズ拘束用縁61aと62aとが形成する空間に
芯取り後レンズが収容可能としておく。次に、CPU1
1は、吸着部31を用いて芯取り後レンズを中間位置P
3から取り上げ、位置決め位置P4まで保持した後に離
脱させる。これにより、芯取り後レンズは、レンズ拘束
用縁61aと62aとが形成する空間の中に収容され
る。
【0066】次に、CPU11は、移動機構63及び6
4を逆方向に作動させ、第1移動部材61と第2移動部
材62が互いに接近するように移動させる。これによ
り、図11(C)に示すように、芯取り後レンズL2
は、レンズ拘束用縁61aと62aにより拘束される。
この際、芯取り後レンズL2の中心位置は、位置決め位
置P4と一致する。なお、この場合には、芯取り後レン
ズL2に過大な力が加わることを防止するための手段、
例えば第1移動部材61と第2移動部材62の間の隙間
距離が所定値になった場合に駆動機構63及び64を停
止させる、等の制御がCPU11によって行われる。こ
こに、位置決め部6は、特許請求の範囲における位置決
め手段に相当している。また、レンズ拘束用縁61a及
び62aは、特許請求の範囲における拘束用縁に相当し
ている。
【0067】上記のようにして、芯取り後レンズL2の
位置が位置決め位置P4と一致すれば、次に、ヤトイ穴
の位置である第2位置P2が得られれば、位置決め位置
P4は既知であるから、CPU11は、吸着部31を用
いて芯取り後レンズを位置決め位置P4から取り上げ、
第2位置P2まで保持した後に離脱させ、第2位置P2
に載置するように制御することができる。
【0068】図12は、このレンズ供給装置100にお
けるレンズ供給部4及びレンズ収納部5の構成を示す図
である。図12(A)に示すように、このレンズ供給装
置100では、レンズ供給部4とレンズ収納部5が、鉛
直上下方向に積層された2段構造に構成されている。
【0069】また、レンズ供給部4は、上記した木箱4
1を支持する移動台部材42と、移動台部材42に設け
られた走行車輪43と、走行車輪43が走行するととも
にレンズ供給部4全体を支えるフレーム44を有してい
る。
【0070】走行車輪43は、移動台部材42の図12
(A)における左右両端付近の底部に設けられている。
これにより、移動台部材42は、フレーム44の上をX
方向(図12(A)の紙面の手前から奥に向かう方向又
はその逆方向)に走行可能となっている。移動台部材4
2を駆動する駆動源としては、上記したビーム部材23
等で説明した直線的移動機構等が採用可能である。この
直線的移動機構は、CPU11により制御されるように
構成されている。
【0071】また、図12(A)に示すように、レンズ
収納部5は、ヤトイ51と、ヤトイ51を支持する移動
台部材52と、ヤトイ51を移動台部材52に固定する
固定用部材53a及び53bと、移動台部材52に設け
られた走行車輪54と、走行車輪54が走行するととも
にレンズ収納部5全体を支えるフレーム55を有してい
る。固定用部材53a及び53bとしては、ボルトとナ
ット等が採用可能である。
【0072】走行車輪54は、移動台部材52の図12
(A)における左右両端付近の底部に設けられている。
これにより、移動台部材52は、フレーム55の上をX
方向(図12(A)の紙面の手前から奥に向かう方向又
はその逆方向)に走行可能となっている。移動台部材5
2を駆動する駆動源としては、上記したビーム部材23
等で説明した直線的移動機構等が採用可能である。この
直線的移動機構は、CPU11により制御されるように
構成されている。
【0073】上記のような構成により、レンズ収納部5
の上段に位置するレンズ供給部4は、下段に位置するレ
ンズ収納部5にレンズが出入される場合(第2位置の測
定時も含む)には、その出入作業の障害とならないよう
に退避移動することができるようになっている。なお、
レンズ供給部4の直線的移動機構は、移動部2の移動機
構の駆動源、例えばビーム部材23(図3参照)の駆動
源と兼用させてもよい。また、同様に、レンズ収納部5
の直線的移動機構は、移動部2の移動機構の駆動源、例
えばビーム部材23(図3参照)の駆動源と兼用させて
もよい。また、走行車輪43や54を設けず、単に摺動
させるだけの構成としてもよい。
【0074】また、図12(A)に示すように、ヤトイ
51は、ヤトイ穴51aが設けられた板状の部材であ
る。芯取り後レンズL2は、その中心位置が、ヤトイ穴
51の中心位置(第2位置P2)と一致する状態となる
ようにして、ヤトイ穴51の上に載置される。その後、
芯取り後レンズが複数個載置されたヤトイ51は、コー
ティング、洗浄等の他の加工(第2加工)の場所へ運ば
れて加工が行われる。
【0075】上記において、ヤトイ51は、特許請求の
範囲における収納用部材に相当している。また、ヤトイ
穴51aの上部の凹部は、特許請求の範囲における載置
用凹部に相当している。
【0076】次に、ヤトイ穴の位置である第2位置P2
を検出する方法について説明する。本実施形態のレンズ
供給装置100においては、まず、保持・センサ部3の
ヤトイ穴検出部33によりヤトイ穴と考えられるものを
粗い精度で検出する。その後、圧力検出部34を用い
て、検出されたものが確実に凹部であるか否かを、押圧
時の圧力の有無によって判別する。最後に、第2位置検
出部32を用いて、ヤトイ穴の中心位置を検出する。こ
こに、ヤトイ穴検出部33と、圧力検出部34と、第2
位置検出部32は、特許請求の範囲における第2測位手
段に相当している。以下、それぞれの方法について、詳
細に説明する。
【0077】図13は、保持・センサ部3におけるヤト
イ穴検出部33と圧力検出部34の構成を示す図であ
る。図13(A)に示すように、ヤトイ穴検出部33
は、発光部33aと受光部33bを有しており、その構
成と作用は、上記した第1位置用光センサ部35と同様
である。ここに、ヤトイ穴検出部33は、特許請求の範
囲における凹部検出手段に相当しており、発光部33a
は、特許請求の範囲における第2送波手段に相当してお
り、受光部33bは、特許請求の範囲における第2受波
手段に相当している。また、発光部33aの発射するレ
ーザ光W5は、特許請求の範囲における第2計測用波に
相当しており、レーザ光W5の反射光は、特許請求の範
囲における第2反射波に相当している。
【0078】上記のような構成により、CPU11は、
移動部2を制御して移動させ、ヤトイ穴検出部33をヤ
トイ51のヤトイ穴51aの近傍に移動させる。その
後、CPU11は、移動部2により、ヤトイ穴検出部3
3をある直線(以下、「第3走査線」という。)に沿っ
て移動させながら、レーザ光W5の送出と反射光の検出
を行う走査(以下、「第3走査」という。)を行わせ
る。これにより、反射光が検出された後に、この反射光
が検出されなくなった場合には、CPU11は、「当該
位置はヤトイ穴51aの一方の内縁位置である」と判別
する。この判別を、以下、「第1次近似判別」という。
そして、同じ方向に第3走査を続けた場合に、再度反射
光が検出された場合には、CPU11は、「当該位置は
ヤトイ穴51aの他方の内縁位置である」と判別する第
1近似判別を行う。すなわち、CPU11は、レーザ光
W5の反射光(第2反射波)の検出の有無の境界位置を
ヤトイ穴51aの内縁位置であると第1次近似判別を行
う。これにより、CPU11は、2つの内縁位置に基づ
き、その中点を第2位置とし、その位置座標を演算した
後、RAM13に記憶させる。この中点の位置は、特許
請求の範囲における第1近似位置に相当する。
【0079】また、図13(B)は、圧力検出部34の
構成を示している。この圧力検出部34は、押圧部34
aにおける圧力を検出し電気信号(圧力検出信号)とし
て出力するセンサであり、半導体圧力センサ、ストレイ
ンゲージを利用した圧力センサ等、各種のものが採用可
能である。圧力検出部34は、センサ類移動機構37に
よって鉛直上下方向に移動可能な構成となっている。ま
た、押圧部34aは、例えばテーパー状(コーン状)に
形成されており、ヤトイ穴51aの中に挿入可能な構成
となっている。圧力検出部34は、特許請求の範囲にお
ける圧力検出手段に相当している。
【0080】上記のような構成により、CPU11は、
上記の第1次近似判別の後、移動部2を駆動制御し、圧
力検出部34を、上記した第2位置の第1近似位置の直
上に移動させる。次に、CPU11は、センサ類移動以
降37を制御し、圧力検出部34の全体を下降させる。
これにより、押圧部34aが何かに当たれば圧力が発生
し、圧力検出信号が出力される。一方、圧力検出信号が
出力されない場合には、CPU11は、「当該位置は凹
部である」とする判別(以下、「第2次近似判別」とい
う。)を行う。
【0081】次に、第2位置検出部32を用いて、ヤト
イ穴の中心位置を検出する方法について詳細に説明す
る。図14は、保持・センサ部3における第2位置検出
部32の構成を示す図である。また、図15は、第2位
置検出部32の作用を説明する図である。
【0082】図14に示すように、第2位置検出部32
は、誤差検出部38(図14(A))と、光センサ部3
9(図14(B))を有している。誤差検出部38は、
支持部材38aと、検出部材38bを有している。検出
部材38bは、全体としては円柱状に形成されている。
検出部材38bは、先端(下端)に円錐部38cが設け
られ、その上方に円柱状の検出軸部38dが接続し、検
出軸部38dの上方には、円錐台形状で外周に向かって
鍔状に突出した円錐台部38eが接続している。また、
円錐台部38eの上方には、円柱状の支持軸部38fが
接続している。検出部材38bの下端の円錐部38c
は、ヤトイ穴51aの上部で係止可能な構成となってい
る。
【0083】一方、支持部材38aは、中空箱状に形成
され、下部に円形の第1開口38gが設けられている。
この第1開口38gの上部の内縁である第1支持縁38
iによって、検出部材38bの円錐台部38eが支持さ
れるようになっている。また、支持部材38aの上部に
は、円錐形状の第2開口38hが設けられている。この
第2開口38hの下部の内縁である第2支持縁38kに
よって、検出部材38bの支持軸部38fの周囲が押さ
えられるようになっている。また、支持部材38aは、
図示はしていないが、センサ類移動機構37を介してア
ーム部25のセンサ類取付部25aに取り付けられてい
る。したがって、支持部材38a全体は、CPU11の
制御により、このレンズ供給装置100のX方向、Y方
向、及び鉛直上下方向(Z方向)に移動可能となってい
る。誤差検出部38は、特許請求の範囲における誤差検
出手段に相当している。
【0084】次に、光センサ部39については、検出軸
部38dの近傍に4つの光センサ、すなわち、第1光セ
ンサ39aと、第2光センサ39bと、第3光センサ3
9cと、第4光センサ39dが配置されている。第1光
センサ39aは、第1発光部39a1と第1受光部39
a2を有している。また、第2光センサ39bは、第2
発光部39b1と第2受光部39b2を有している。ま
た、第3光センサ39cは、第3発光部39c1と第3
受光部39c2を有している。また、第4光センサ39
dは、第4発光部39d1と第4受光部39d2を有し
ている。これらの光センサの作用は、上記した第1位置
用光センサ部35等の場合と同様である。異なる点は、
反射光を検出するのではなく、発光部で発射したレーザ
光がそのまま受光部で検出されるか否か、すなわち検出
軸部38dによる光の遮断の有無を検出する点である。
【0085】検出部材38bの中心軸線が、第1機構3
8gの中心軸線と、第2開口38hの中心軸線と一致す
る場合、上記の第1光センサ39aの光軸A1は、検出
軸部38dの側面の非常に近傍位置を通り、検出軸部3
8dによって遮断されないように設定されている。ま
た、第2光センサ39bの光軸A2は、光軸A1の場合
に対して反対側となる検出軸部38dの側面の非常に近
傍位置を通り、検出軸部38dによって遮断されないよ
うに設定されている。したがって、光軸A1とA2との
距離は、検出軸部38dの直径よりわずかに大きな値と
なっている。光軸A1とA2との距離と、検出軸部38
dの直径との差は、特許請求の範囲における第1微少距
離に相当している。また、第1光センサ39aと第2光
センサ39bは、特許請求の範囲における第1検出対を
構成している。
【0086】また、検出部材38bの中心軸線が、第1
機構38gの中心軸線と、第2開口38hの中心軸線と
一致する場合、上記の第3光センサ39cの光軸A3
は、検出軸部38dの側面の非常に近傍位置を通り、検
出軸部38dによって遮断されないように設定されてお
り、かつ、光軸A3は、上記した光軸A1、A2に対し
て垂直になっている。また、第4光センサ39dの光軸
A4は、光軸A3の場合に対して反対側となる検出軸部
38dの側面の非常に近傍位置を通り、検出軸部38d
によって遮断されないように設定されており、かつ、光
軸A4は、上記した光軸A1、A2に対して垂直になっ
ている。したがって、光軸A3とA4との距離は、検出
軸部38dの直径よりわずかに大きな値となっている。
光軸A3とA4との距離と、検出軸部38dの直径との
差は、特許請求の範囲における第2微少距離に相当して
いる。また、第3光センサ39cと第4光センサ39d
は、特許請求の範囲における第2検出対を構成してい
る。
【0087】このような構成により、この第2位置検出
部32を用いれば、ヤトイ穴51aの中心位置である第
2位置P2を測定することができる。以下、その方法に
ついて説明する。
【0088】まず、CPU11は、上記した第2次近似
判別の後、移動部2を駆動制御し、誤差検出部38全体
を第2位置の第1近似位置に移動させる。その後、移動
部2を駆動制御するとともに、センサ類移動機構37を
駆動制御し、円錐部38cを、ヤトイ穴51aの上部に
当接する。この状態で、支持部材38aを正確に鉛直上
方に上昇させる。これにより、図15(A)に示すよう
に、円錐部38cがヤトイ穴51aの上部で係止された
状態となる。この場合、検出部材38bの上部の支持軸
部38fの周囲は、第2開口38hの下部の内縁である
第2支持縁38kによって押さえられている。
【0089】次に、CPU11は、上記の状態で、光セ
ンサ部の4つの光センサ39a〜39dにより光の発光
と検出を行う。図15(B)及び図15(C)は、第1
検出対、すなわち第1光センサ39aと第2光センサ3
9bの場合の例を示したものである。図15(B)は、
検出軸部38dが図の右方へ倒れるように傾斜している
場合を示した図である。この場合には、図15(B)に
おいて光軸A1で示すように、第1光センサのレーザ光
は、検出軸部38dによって遮断されることはなく、そ
のまま受光される。一方、図15(B)において光軸A
2で示すように、第2光センサのレーザ光は、検出軸部
38dが傾斜しているため、検出軸部38dによって遮
断され、受光されない。
【0090】このような場合には、CPU11は、移動
部2を駆動制御し、光波が検出されなかった第2光セン
サから、光波が検出された第1光センサに向かう方向、
すなわち右から左へ向かう方向に、誤差検出部38全体
をわずかな距離だけ移動させる。この移動距離は、特許
請求の範囲における第3微少距離に相当している。第2
検出対についても同様である。このようにして、光波が
検出されなかった光センサから光波が検出された光セン
サに向かう方向に誤差検出部38全体を微少移動させる
手順を繰り返す。
【0091】その結果、図15(B)に示すように、す
べての光センサのレーザ光が検出軸部38dによって遮
断されることがない状態となった場合には、検出部材3
8bの中心軸線Bが、ヤトイ穴51aの中心を通るとと
もに、ヤトイ51の平面に対して検出部材38bの中心
軸線Bが垂直となっている状態であることを示してい
る。この場合には、CPU11は、、当該状態での誤差
検出部38の中心位置の位置座標を第2位置座標と設定
し、RAM13に記憶させる。
【0092】上記のようにして、第2位置P2が検出さ
れる。位置決め位置P4は既知であるから、これによ
り、CPU11は、吸着部31を用いて芯取り後レンズ
を位置決め位置P4から取り上げ、第2位置P2まで保
持した後に離脱させ、第2位置P2に載置するように制
御することができる。
【0093】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0094】例えば、上記実施形態においては、被加工
物として、レンズを例に挙げて説明したが、本発明はこ
れには限定されず、他の被加工物、例えば、凸面鏡、又
は凹面鏡等のミラー(鏡)用の素材であってもよい。
【0095】また、載置用凹部は、上記実施形態のよう
なヤトイ穴(貫通孔)でなくてもよく、少なくとも上部
が凹部状となっていればよい。
【0096】また、第1加工、第2加工については、上
記した実施形態における芯取り加工、コーティング、洗
浄以外の他の加工、あるいは処理であってもよい。
【0097】また、保持手段は、上記した吸着部以外
に、駆動源により駆動される把持部材により被加工物を
把持又は離脱させるようなチャッキング手段を用いても
よい。
【0098】また、移動手段は、上記実施形態のよう
に、X方向に移動する機構と、Y方向に移動する機構を
組み合わせたものに限定されず、他の構成の機構であっ
てもよい。例えば、旋回するロボットアームの先端が伸
縮する構造を有するものなどであってもよい。この場合
には、位置座標は、極座標系となる。
【0099】また、供給用容器(例えば木箱41)と、
収納用部材(例えばヤトイ51)は、上下2段構造では
なく、平面的に並んだ構成であってもよい。また、供給
用容器(例えば木箱41)と、収納用部材(例えばヤト
イ51)が、上下2段構造の場合、レンズ収納部5は移
動可能な構成ではなくてもよい。
【0100】また、光センサ部39は、検出軸部38d
の近傍だけでなく、支持軸部38f、又は円錐台部38
eの近傍に配置されてもよい。
【0101】また、上記実施形態において、位置決め部
6は、必ずしも設けなくてもよく、制御手段(例えば、
CPU11)は、第1加工が完了した被加工物(例え
ば、芯取り後レンズL2)が中間位置(例えば、P3)
に戻った場合には、移動手段(例えば、移動部2)によ
り第2測位手段(第2位置検出部32)を第2位置(P
2)の近傍に移動させて第2位置座標を計測させ、移動
手段により保持手段(例えば、吸着部31)を中間位置
に移動させて被加工物を保持させ、移動手段により保持
手段を第2位置に移動させて被加工物を離脱させること
により被加工物を載置用凹部(例えば、ヤトイ穴51
a)の上に載置させるように制御してもよい。また、こ
の場合には、記憶手段(例えば、ROM12)は、位置
決め位置(P4)の位置座標を記憶しておく必要はな
く、中間位置の位置座標、移動部2の座標原点の位置座
標、移動部2における各センサ類等の位置座標等を記憶
しておけばよい。
【0102】また、上記実施形態では、芯取り前レンズ
L1のY方向の中心位置、すなわち、第1位置のY座標
Y1を求める場合に、第1計測用波としてレーザ光を用
いる例について説明したが、この場合の第1計測用波と
しては超音波を用いてもよい。また、上記実施形態で
は、芯取り前レンズL1のX方向の中心位置、すなわ
ち、第1位置のX座標X1を求める場合に、第1計測用
波として超音波を用いる例について説明したが、この場
合の第1計測用波としてはレーザ光を用いてもよい。
【0103】また、上記実施形態では、凹部検出手段で
あるヤトイ穴検出部33が、第2計測用波としてレーザ
光を用いる例について説明したが、この場合の第2計測
用波としては超音波を用いてもよい。
【0104】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
供給用容器内の任意位置に載置されている被加工物を取
り上げ、被加工物に第1加工を施すための位置であると
ともに位置座標が既知な中間位置へ被加工物を移送して
供給し、第1加工が完了した被加工物を中間位置から取
り上げ、被加工物に第2加工を施すために収納する収納
用部材に移送し、収納用部材に設けられた載置用凹部の
上に載置させるように構成したので、ティーチングが不
要で被加工物の移送を自動的に行うことができる、とい
う利点を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態であるレンズ供給装置の全
体構成を示すブロック図である。
【図2】図1に示すレンズ供給装置における平面的位置
関係を示す図である。
【図3】図1に示すレンズ供給装置における移動部の構
成を示す図である。
【図4】図1に示すレンズ供給装置におけるアーム部と
保持・センサ部の構成を示す図である。
【図5】図4に示す保持・センサ部におけるセンサ類移
動機構の構成を示す図である。
【図6】図1に示すレンズ供給装置における制御部の構
成を示す図である。
【図7】図4に示す保持・センサ部における第1位置用
光センサ部の構成と作用を説明する図である。
【図8】図4に示す保持・センサ部における第1位置用
超音波センサ部の構成と作用を説明する図である。
【図9】凹レンズの場合の第1位置用光センサ部と第1
位置用超音波センサ部の作用を説明する図である。
【図10】図4に示す保持・センサ部における吸着部の
構成を示す図である。
【図11】図1に示すレンズ供給装置における位置決め
部の構成を示す図である。
【図12】図1に示すレンズ供給装置におけるレンズ供
給部及びレンズ収納部の構成を示す図である。
【図13】図4に示す保持・センサ部におけるヤトイ穴
検出部と圧力検出部の構成を示す図である。
【図14】図4に示す保持・センサ部における第2位置
検出部の構成を示す図である。
【図15】図14に示す第2位置検出部の作用を説明す
る図である。
【符号の説明】
1 制御部 2 移動部 3 保持・センサ部 4 レンズ供給部 5 レンズ収納部 6 位置決め部 11 CPU 12 ROM 13 RAM 14、15 インタフェース 16 入力部 17 出力部 20 底部フレーム 21 支柱部材 22 水平部材 23 ビーム部材 23a 空洞部 23b スリット 24 走行車輪 25 アーム部 25a センサ類取付部 25b スリット挿通部 25c 走行部 25d 走行車輪 31 吸着部 31a 真空ポンプ 31b 制御弁 31c1、31c2 配管 31d パイプ部 31e パッド 31f 負圧センサ 32 第2位置検出部 33 ヤトイ穴検出部 33a 発光部 33b 受光部 34 圧力検出部 34a 押圧部 35 第1位置用光センサ部 35a 発光部 35b 受光部 36 第1位置用超音波センサ部 36a 送信部 36b 受信部 37 センサ類移動機構 37a 移動機構本体 37b 取付部 38 誤差検出部 38a 支持部材 38b 検出部材 38c 円錐部 38d 検出軸部 38e 円錐台部 38f 支持軸部 38g 第1開口 38h 第2開口 38i 第1支持縁 38k 第2支持縁 39 光センサ部 39a 第1光センサ 39a1 第1発光部 39a2 第1受光部 39b 第2光センサ 39b1 第2発光部 39b2 第2受光部 39c 第3光センサ 39c1 第3発光部 39c2 第3受光部 39d 第4光センサ 39d1 第4発光部 39d2 第4受光部 41 木箱 42 移動台部材 43 走行車輪 44 フレーム 51 ヤトイ 51a ヤトイ穴 52 移動台部材 53a、53b 固定用部材 54 走行車輪 55 フレーム 60 レンズ支持部 61 第1移動部材 61a レンズ拘束用縁 62 第1移動部材 62a レンズ拘束用縁 63、64 移動機構 65、66 駆動用部材 100 レンズ供給装置 200 芯取機 201 コンベア 202 搬送用部材 A1〜A4 光軸 B 検出部材中心軸線 CX レンズX方向中心 CY レンズY方向中心 E1、E2 レンズ外縁位置 L1、L1´ 芯取り前レンズ L2 芯取り後レンズ P1 第1位置 P2 第2位置 P3 中間位置 P4 位置決め位置 S1〜S4 信号 W1、W2 レーザ光 W3、W4 超音波 W5 レーザ光
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B24B 9/14 B24B 9/14 K 13/00 13/00 D G02B 3/00 G02B 3/00 Z (72)発明者 平沼 光宏 茨城県那珂郡大宮町東町字泉4112番地 水 戸富士光機株式会社内 (72)発明者 石井 済 茨城県那珂郡大宮町東町字泉4112番地 水 戸富士光機株式会社内 Fターム(参考) 3C029 AA02 AA40 3C033 BB04 BB10 HH12 HH26 HH30 MM01 3C049 AB03 AC02 BA07

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 供給用容器内の任意位置に載置されてい
    る前記被加工物を保持し又は離脱可能な保持手段と、 前記供給用容器内の前記被加工物の位置である第1位置
    の座標である第1位置座標を計測可能な第1測位手段
    と、 前記被加工物に第1加工を施す第1加工装置の位置であ
    る中間位置の位置座標を記憶する記憶手段と、 前記被加工物に第2加工を施すために収納する収納用部
    材に設けられるとともに前記被加工物の外径よりも小さ
    な内径を有する載置用凹部の位置である第2位置の座標
    である第2位置座標を計測可能な第2測位手段と、 前記保持手段又は第1測位手段若しくは第2測位手段を
    移動可能な移動手段と、 前記移動手段により前記第1測位手段を前記供給用容器
    内の前記第1位置の近傍に移動させて前記第1位置座標
    を計測させ、前記移動手段により前記保持手段を前記第
    1位置に移動させて前記被加工物を保持させ、前記移動
    手段により前記保持手段を前記中間位置に移動させた後
    に前記被加工物を離脱させることにより前記被加工物を
    前記中間位置に載置させ、前記第1加工が完了した被加
    工物が前記中間位置に戻った場合には、前記移動手段に
    より前記第2測位手段を前記第2位置の近傍に移動させ
    て前記第2位置座標を計測させ、前記移動手段により前
    記保持手段を前記中間位置に移動させて前記被加工物を
    保持させ、前記移動手段により前記保持手段を前記第2
    位置に移動させて前記被加工物を離脱させることにより
    前記被加工物を前記載置用凹部の上に載置させるように
    制御する制御手段を備えたことを特徴とする被加工物供
    給装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の被加工物供給装置におい
    て、 位置座標が既知な位置決め位置に設置され、載置された
    前記被加工物の中心位置を前記位置決め位置に一致させ
    る位置決め手段を備え、 前記記憶手段は、前記位置決め位置の位置座標を記憶
    し、 前記制御手段は、前記第1加工が完了した被加工物を前
    記中間位置から前記載置用凹部へ移動させるに先立ち、
    前記被加工物を前記移動手段により前記中間位置から前
    記位置決め手段の上に移動させて載置させ、前記位置決
    め手段により前記被加工物の中心位置を前記位置決め位
    置に一致させた後に、前記載置用凹部へ移動させるよう
    制御することを特徴とする被加工物供給装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記保持手段は、 吸気により負圧を発生させて前記被加工物を吸着し、又
    は排気により前記負圧を解消させて前記被加工物を離脱
    させる吸着手段であることを特徴とする被加工物供給装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記保持手段は、 駆動源により駆動される把持部材により前記被加工物を
    把持又は離脱させるチャッキング手段であることを特徴
    とする被加工物供給装置。
  5. 【請求項5】 請求項1記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記第1測位手段は、光波又は音波を含む第1計測用波
    を送出する第1送波手段と、前記第1計測用波が反射さ
    れて戻ってきた第1反射波を受けて検出する第1受波手
    段を有し、 前記制御手段は、前記移動手段により前記第1測位手段
    を前記供給用容器内の前記第1位置の近傍に移動させた
    後、前記移動手段により前記第1測位手段を第1走査線
    に沿って移動させつつ前記第1計測用波の送出と前記第
    1反射波の検出を行う第1走査を行わせ、前記第1反射
    波を検出した反射位置と前記第1反射波を検出しなかっ
    た無反射波位置を検出し、次いで、前記移動手段により
    前記第1測位手段を前記第1走査線に直角な方向となる
    第2走査線に沿って移動させつつ前記第1計測用波の送
    出と前記第1反射波の検出を行う第2走査を行わせ、前
    記反射位置と無反射位置を検出し、これらの位置座標に
    基づき前記第1位置座標を演算することを特徴とする被
    加工物供給装置。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記被加工物が凸レンズ状の形状を有する場合には、 前記制御手段は、前記第1走査時には、前記反射波を検
    出するまで走査を行い、次いで前記反射波が検出されな
    くなった位置を第1無反射位置とし、次いで前記第1走
    査線を逆方向に走査し前記反射波が検出されなくなった
    位置を第2無反射位置とし、前記第1走査線上で前記第
    1無反射位置と前記第2無反射位置の中点である第1中
    点を求め、前記第2走査時には、前記第1中点を通る垂
    直線を前記第2走査線として走査を行い、次いで前記反
    射波が検出されなくなった位置を第3無反射位置とし、
    次いで前記第2走査線を逆方向に走査し前記反射波が検
    出されなくなった位置を第4無反射位置とし、前記第2
    走査線上で前記第3無反射位置と前記第4無反射位置の
    中点である第2中点を求め、前記第1中点の位置座標と
    前記第2中点の位置座標に基づき前記第1位置座標を設
    定することを特徴とする被加工物供給装置。
  7. 【請求項7】 請求項5記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記被加工物が凹レンズ状の形状を有する場合には、 前記制御手段は、前記第1走査時には、前記反射位置と
    前記無反射位置の組み合わせにより、前記第1走査線上
    の前記凹レンズの2つの外縁の位置を検出し、前記第1
    走査線上で前記2つの外縁の位置の中点である第3中点
    を求め、前記第2走査時には、前記第3中点を通る垂直
    線を前記第2走査線として走査を行い、次いで前記反射
    位置と前記無反射位置の組み合わせにより、前記第2走
    査線上の前記凹レンズの2つの外縁の位置を検出し、前
    記第2走査線上で前記2つの外縁の位置の中点である第
    4中点を求め、前記第3中点の位置座標と前記第4中点
    の位置座標に基づき前記第1位置座標を設定することを
    特徴とする被加工物供給装置。
  8. 【請求項8】 請求項2記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記位置決め手段は、前記被加工物の外縁を拘束可能な
    拘束用縁を有する1対の移動部材を接近させ前記被加工
    物を拘束することにより、前記被加工物の中心位置を前
    記位置決め位置に一致させることを特徴とする被加工物
    供給装置。
  9. 【請求項9】 請求項1記載の被加工物供給装置におい
    て、 前記第2測位手段は、光波又は音波を含む第2計測用波
    を送出する第2送波手段と、前記第2計測用波が反射さ
    れて戻ってきた第2反射波を受けて検出する第2受波手
    段を有する凹部検出手段を備え、 前記制御手段は、前記移動手段により前記凹部検出手段
    を前記収納用部材の前記載置用凹部の近傍に移動させた
    後、前記移動手段により前記凹部検出手段を第3走査線
    に沿って移動させつつ前記第2計測用波の送出と前記第
    2反射波の検出を行う第3走査を行わせ、前記第2反射
    波の検出の有無の境界位置を前記載置用凹部の内縁位置
    であると第1次近似判別を行い、2つの内縁位置に基づ
    き前記第2位置の第1近似位置を演算することを特徴と
    する被加工物供給装置。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の被加工物供給装置にお
    いて、 前記第2測位手段は、前記載置用凹部の中に挿入可能な
    押圧部を有して圧力が検出可能であるとともに前記移動
    手段により移動可能な構成を有する圧力検出手段を備
    え、 前記制御手段は、前記第1次近似判別の後、前記移動手
    段により前記圧力検出手段を前記第2位置の第1近似位
    置に移動させた後、前記押圧部により前記第1近似位置
    を押圧させ、圧力が検出されない場合には、当該位置は
    凹部であると第2次近似判別を行うことを特徴とする被
    加工物供給装置。
  11. 【請求項11】 請求項10記載の被加工物供給装置に
    おいて、 前記第2測位手段は、 円柱状に形成されるとともに、前記載置用凹部の上部で
    係止可能な円錐部が前記円柱の下端に形成され、かつ支
    持部材により支持される検出部材を有する誤差検出手段
    と、 第1光波を送出する第1発光部と、前記第1光波を受け
    て検出する第1受光部を有する第1光センサと、 第2光波を送出する第2発光部と、前記第2光波を受け
    て検出する第2受光部を有するとともに、前記第1光セ
    ンサに対し前記円柱の直径より第1微少距離だけ大きな
    距離だけ離れた位置に配置されて第1検出対を構成する
    第2光センサと、 第3光波を送出する第3発光部と、前記第3光波を受け
    て検出する第3受光部を有するとともに、前記第1光セ
    ンサの光軸に対し垂直な光軸を有する第3光センサと、 第4光波を送出する第4発光部と、前記第4光波を受け
    て検出する第4受光部を有するとともに、前記第3光セ
    ンサに対し前記円柱の直径より第2微少距離だけ大きな
    距離だけ離れた位置に配置されて第2検出対を構成する
    第4光センサを有する第2位置検出手段を備え、 前記制御手段は、前記第2次近似判別の後、前記移動手
    段により前記誤差検出手段を前記第2位置の第1近似位
    置に移動させた後、前記円錐部を前記載置用凹部の上部
    で係止させ、前記各検出対のうち、一方の光センサで光
    波が検出され他方の光センサで光波が検出されなかった
    場合には、光波が検出されなかった光センサから光波が
    検出された光センサに向かう方向に、前記誤差検出手段
    を第3微少距離だけ移動させる手順を繰り返し、4つの
    光センサすべてにおいて光波が検出された場合には、当
    該状態での誤差検出手段の中心位置の位置座標を前記第
    2位置座標と設定することを特徴とする被加工物供給装
    置。
  12. 【請求項12】 供給用容器内の任意位置に載置されて
    いる前記被加工物を保持し又は離脱可能な保持手段と、 前記供給用容器内の前記被加工物の位置である第1位置
    の座標である第1位置座標を計測可能な第1測位手段
    と、 前記被加工物に第1加工を施す第1加工装置の位置であ
    る中間位置の位置座標を記憶する記憶手段と、 前記被加工物に第2加工を施すために収納する収納用部
    材に設けられるとともに前記被加工物の外径よりも小さ
    な内径を有する載置用凹部の位置である第2位置の座標
    である第2位置座標を計測可能な第2測位手段と、 前記保持手段又は第1測位手段若しくは第2測位手段を
    移動可能な移動手段と、 制御手段を設け、 前記制御手段を用いて、 前記移動手段により前記第1測位手段を前記供給用容器
    内の前記第1位置の近傍に移動させて前記第1位置座標
    を計測させ、前記移動手段により前記保持手段を前記第
    1位置に移動させて前記被加工物を保持させ、前記移動
    手段により前記保持手段を前記中間位置に移動させた後
    に前記被加工物を離脱させることにより前記被加工物を
    前記中間位置に載置させ、前記第1加工が完了した被加
    工物が前記中間位置に戻った場合には、前記移動手段に
    より前記第2測位手段を前記第2位置の近傍に移動させ
    て前記第2位置座標を計測させ、前記移動手段により前
    記保持手段を前記中間位置に移動させて前記被加工物を
    保持させ、前記移動手段により前記保持手段を前記第2
    位置に移動させて前記被加工物を離脱させることにより
    前記被加工物を前記載置用凹部の上に載置させるように
    制御することを特徴とする被加工物供給方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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