JP2003089723A - 硬化性組成物及びその被膜形成方法 - Google Patents
硬化性組成物及びその被膜形成方法Info
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- JP2003089723A JP2003089723A JP2001282657A JP2001282657A JP2003089723A JP 2003089723 A JP2003089723 A JP 2003089723A JP 2001282657 A JP2001282657 A JP 2001282657A JP 2001282657 A JP2001282657 A JP 2001282657A JP 2003089723 A JP2003089723 A JP 2003089723A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塗膜の表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及
び耐候性に優れた被膜を形成できる硬化性組成物を提供
すること。 【解決手段】（Ａ）（ａ）特定の構造を有するイソシア
ネート基含有シラン化合物と、（ｂ）１分子中に平均２
個以上の水酸基を有する化合物とを反応させて得られる
シリル基含有反応生成物、（Ｃ）カチオン反応開始剤、
さらに必要に応じて、カチオン硬化性組成物（Ｂ）、ラ
ジカル硬化性組成物（Ｄ）及びラジカル重合開始剤
（Ｅ）を配合してなることを特徴とする硬化性組成物、
及び該硬化性組成物を用いた被膜形成方法。
び耐候性に優れた被膜を形成できる硬化性組成物を提供
すること。 【解決手段】（Ａ）（ａ）特定の構造を有するイソシア
ネート基含有シラン化合物と、（ｂ）１分子中に平均２
個以上の水酸基を有する化合物とを反応させて得られる
シリル基含有反応生成物、（Ｃ）カチオン反応開始剤、
さらに必要に応じて、カチオン硬化性組成物（Ｂ）、ラ
ジカル硬化性組成物（Ｄ）及びラジカル重合開始剤
（Ｅ）を配合してなることを特徴とする硬化性組成物、
及び該硬化性組成物を用いた被膜形成方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カチオン反応性組
成物、カチオン／ラジカルハイブリッド反応性組成物に
関し、さらに詳細には、低粘度で塗装作業性に優れ、表
面乾燥性のよい高硬度の塗膜を形成する硬化性組成物、
及び、該硬化性組成物を用いた被膜形成方法に関するも
のである。
成物、カチオン／ラジカルハイブリッド反応性組成物に
関し、さらに詳細には、低粘度で塗装作業性に優れ、表
面乾燥性のよい高硬度の塗膜を形成する硬化性組成物、
及び、該硬化性組成物を用いた被膜形成方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】従来、紫外線や電子線な
どの活性エネルギー線または熱により硬化する硬化性組
成物は、例えば、塗料、インキ、接着剤などの用途に幅
広く利用されている。
どの活性エネルギー線または熱により硬化する硬化性組
成物は、例えば、塗料、インキ、接着剤などの用途に幅
広く利用されている。
【０００３】活性エネルギー線で硬化するタイプには、
通常ラジカル重合タイプとカチオン反応タイプ及びカチ
オン／ラジカル反応ハイブリッドタイプが、一般に使用
されている。
通常ラジカル重合タイプとカチオン反応タイプ及びカチ
オン／ラジカル反応ハイブリッドタイプが、一般に使用
されている。
【０００４】ラジカル重合タイプについては、一般に硬
化反応は速いが、空気中の酸素の影響を受け、塗膜の表
面の硬化性が劣り、硬度が出にくい欠点がある。また、
硬化の収縮率が大きく、付着性が劣る。
化反応は速いが、空気中の酸素の影響を受け、塗膜の表
面の硬化性が劣り、硬度が出にくい欠点がある。また、
硬化の収縮率が大きく、付着性が劣る。
【０００５】一方、カチオン反応タイプは被膜表面の硬
化性及び被膜の素材に対する付着性は良好であるが、硬
化性はラジカル重合タイプに比べて遅く、厚膜の硬化が
難しい、水やイオンなどのコンタミの影響を受けやすい
などの欠点がある。これらの欠点は、加熱により硬化さ
せる場合でも同じである。
化性及び被膜の素材に対する付着性は良好であるが、硬
化性はラジカル重合タイプに比べて遅く、厚膜の硬化が
難しい、水やイオンなどのコンタミの影響を受けやすい
などの欠点がある。これらの欠点は、加熱により硬化さ
せる場合でも同じである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗膜
の表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及び耐候性に優れ
た被膜を形成できる硬化性組成物を提供することであ
る。
の表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及び耐候性に優れ
た被膜を形成できる硬化性組成物を提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のシリル基
含有反応生成物を配合してなる硬化性組成物が、被膜硬
度が高く、付着性、耐薬品性、耐候性に優れた硬化被膜
を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のシリル基
含有反応生成物を配合してなる硬化性組成物が、被膜硬
度が高く、付着性、耐薬品性、耐候性に優れた硬化被膜
を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、
１、（Ａ）下記一般式（１）で表わされる化合物（ａ）
と、１分子中に平均２個以上の水酸基を含有する数平均
分子量６０〜２０，０００の水酸基含有化合物（ｂ）と
を、化合物（ａ）中のイソシアネート基と水酸基含有化
合物（ｂ）中の水酸基のモル比が（ａ）／（ｂ）＝０．
６〜１．２の範囲内になるようにして反応させたシリル
基含有反応生成物 ５〜１００重量部、
と、１分子中に平均２個以上の水酸基を含有する数平均
分子量６０〜２０，０００の水酸基含有化合物（ｂ）と
を、化合物（ａ）中のイソシアネート基と水酸基含有化
合物（ｂ）中の水酸基のモル比が（ａ）／（ｂ）＝０．
６〜１．２の範囲内になるようにして反応させたシリル
基含有反応生成物 ５〜１００重量部、
【０００９】
【化２】
【００１０】（式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ同一
又は異なって、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であ
って、Ｒ １、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも１つは炭素
数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であり、Ｒ４
は炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。）（Ｂ）カチ
オン反応性化合物 ０〜９５重量部、及び（Ｃ）カチオ
ン反応開始剤 ０．０５〜２０重量部を配合してなるこ
とを特徴とする硬化性組成物、 ２、上記１に記載のシリル基含有反応生成物（Ａ）５〜
９９．５重量部、（Ｄ）ラジカル重合性化合物 ０〜９
０重量部（Ｃ）カチオン反応開始剤 ０．０５〜２０重
量部、及び（Ｅ）ラジカル重合開始剤 ０．０５〜２０
重量部を配合してなることを特徴とする硬化性組成物、 ３、上記１に記載のシリル基含有反応生成物（Ａ）１０
〜９８重量部、（Ｂ）カチオン反応性化合物 １〜９５
重量部、（Ｄ）ラジカル重合性化合物 １〜９０重量
部、（Ｃ）カチオン反応開始剤 ０．０５〜２０重量
部、及び（Ｅ）ラジカル重合開始剤 ０．０５〜２０重
量部を配合してなることを特徴とする硬化性組成物、 ４、ラジカル重合性化合物（Ｄ）が、１分子中に１個以
上のアクリロイル基及び又はメタクリロイル基を含有す
る化合物である上記２又は３記載の硬化性組成物、 ５、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、常温で湿気硬化させ、硬化塗膜を得る
ことを特徴とする被膜形成方法、 ６、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、加熱して硬化塗膜を得ることを特徴と
する被膜形成方法、 ７、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化塗膜
を得ることを特徴とする被膜形成方法、 ８、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、活性エネルギー線を照射中又は照射後
加熱して硬化塗膜を得ることを特徴とする被膜形成方
法、 ９、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、加熱した後、活性エネルギー線を照射
して硬化塗膜を得ることを特徴とする被膜形成方法、 に関する。
又は異なって、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であ
って、Ｒ １、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも１つは炭素
数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であり、Ｒ４
は炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。）（Ｂ）カチ
オン反応性化合物 ０〜９５重量部、及び（Ｃ）カチオ
ン反応開始剤 ０．０５〜２０重量部を配合してなるこ
とを特徴とする硬化性組成物、 ２、上記１に記載のシリル基含有反応生成物（Ａ）５〜
９９．５重量部、（Ｄ）ラジカル重合性化合物 ０〜９
０重量部（Ｃ）カチオン反応開始剤 ０．０５〜２０重
量部、及び（Ｅ）ラジカル重合開始剤 ０．０５〜２０
重量部を配合してなることを特徴とする硬化性組成物、 ３、上記１に記載のシリル基含有反応生成物（Ａ）１０
〜９８重量部、（Ｂ）カチオン反応性化合物 １〜９５
重量部、（Ｄ）ラジカル重合性化合物 １〜９０重量
部、（Ｃ）カチオン反応開始剤 ０．０５〜２０重量
部、及び（Ｅ）ラジカル重合開始剤 ０．０５〜２０重
量部を配合してなることを特徴とする硬化性組成物、 ４、ラジカル重合性化合物（Ｄ）が、１分子中に１個以
上のアクリロイル基及び又はメタクリロイル基を含有す
る化合物である上記２又は３記載の硬化性組成物、 ５、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、常温で湿気硬化させ、硬化塗膜を得る
ことを特徴とする被膜形成方法、 ６、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、加熱して硬化塗膜を得ることを特徴と
する被膜形成方法、 ７、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化塗膜
を得ることを特徴とする被膜形成方法、 ８、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、活性エネルギー線を照射中又は照射後
加熱して硬化塗膜を得ることを特徴とする被膜形成方
法、 ９、上記１〜４のいずれか１項に記載の硬化性組成物を
被塗物に塗布し、加熱した後、活性エネルギー線を照射
して硬化塗膜を得ることを特徴とする被膜形成方法、 に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の硬化性組成物は、原料と
して特定のシリル基含有反応生成物（Ａ）及びカチオン
反応開始剤（Ｃ）を用い、さらに必要に応じて、カチオ
ン硬化性組成物（Ｂ）、ラジカル硬化性組成物（Ｄ）及
びラジカル重合開始剤（Ｅ）を組み合わせたものであ
り、湿気硬化、熱硬化、活性エネルギー線硬化、又は、
熱硬化と活性エネルギー線硬化とを組み合わせること
で、表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及び耐候性に優
れた被膜を形成できるものである。
して特定のシリル基含有反応生成物（Ａ）及びカチオン
反応開始剤（Ｃ）を用い、さらに必要に応じて、カチオ
ン硬化性組成物（Ｂ）、ラジカル硬化性組成物（Ｄ）及
びラジカル重合開始剤（Ｅ）を組み合わせたものであ
り、湿気硬化、熱硬化、活性エネルギー線硬化、又は、
熱硬化と活性エネルギー線硬化とを組み合わせること
で、表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及び耐候性に優
れた被膜を形成できるものである。
【００１２】シリル基含有反応生成物（Ａ）
本発明の硬化性組成物の（Ａ）成分であるシリル基含有
反応生成物は、下記一般式（１）で表わされる化合物
（ａ）と、
反応生成物は、下記一般式（１）で表わされる化合物
（ａ）と、
【００１３】
【化３】
【００１４】（式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ同一
又は異なって、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であ
って、Ｒ １、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも１つは炭素
数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であり、Ｒ４
は炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。）１分子中に
平均２個以上の水酸基を含有する平均分子量６０〜２
０，０００の水酸基含有化合物（ｂ）とを常法により反
応させることにより得ることができる。
又は異なって、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であ
って、Ｒ １、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも１つは炭素
数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であり、Ｒ４
は炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。）１分子中に
平均２個以上の水酸基を含有する平均分子量６０〜２
０，０００の水酸基含有化合物（ｂ）とを常法により反
応させることにより得ることができる。
【００１５】上記化合物（ａ）としては、上記一般式
（１）で表わされる化合物であれば特に制限なしに使用
できる。化合物（ａ）としては、具体的には、例えば、
γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−
イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソ
シアネートプロピルトリブトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−イソシ
アネートプロピルメチルジブトキシシラン、２−イソシ
アネートエチルトリメトキシシラン、２−イソシアネー
トエチルトリエトキシシラン、２−イソシアネートエチ
ルメチルジメトキシシラン、２−イソシアネートエチル
メチルジエトキシシランなどが挙げられる。
（１）で表わされる化合物であれば特に制限なしに使用
できる。化合物（ａ）としては、具体的には、例えば、
γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−
イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソ
シアネートプロピルトリブトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−イソシ
アネートプロピルメチルジブトキシシラン、２−イソシ
アネートエチルトリメトキシシラン、２−イソシアネー
トエチルトリエトキシシラン、２−イソシアネートエチ
ルメチルジメトキシシラン、２−イソシアネートエチル
メチルジエトキシシランなどが挙げられる。
【００１６】上記水酸基含有化合物（ｂ）としては、例
えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、トルプロピレングリコール、テトラ
プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオー
ル、デカンジオール、ドデカンジオール、ポリエステル
ポリオール{市販品：ＦＲＥＸＯＲＥＺ １８８、同１
４８、１７１−９０（以上、Ｋｉｎｇ ＩＮＤＵＳＴＲ
ＩＥＳ社製）}、ポリカプロカクタンジオール{市販品：
プラクセル２００、同２０５、同２０８、同２１０、同
２１２、同２２０、同２３０、同２４０（以上、ダイセ
ル化学工業社製）}、ポリカプロラクトントリオール{市
販品：プラクセル３０３、同３０５、同３０８、同３１
２、同３２０、同３３０（以上、ダイセル化学工業社
製）}、ポリカーボネートジオール{市販品：ＣＤ２０
５、ＣＤ２０８、ＣＤ２１０、ＣＤ２２０、ＣＤ２２１
（以上、ダイセル化学工業社製）}、ポリウレタンポリ
オール{市販品：ＦＲＥＸＯＲＥＺ ＵＤ−３２０、同
ＵＤ−３５０Ｄ、同ＵＤ−３２０−１００（以上、Ｋｉ
ｎｇ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）}、ネオペンチルグ
リコール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロール
プロパン、グリセリン、ジグリセリン、ペンタエリスリ
トール、ジペンタエリスリトール、水酸基含有アクリル
樹脂、水酸基含有アクリルオリゴマー、水酸基含有エポ
キシ樹脂、水酸基含有ウレタン樹脂、水酸基含有ポリエ
ステル樹脂、水酸基含有シリコーン樹脂などが挙げられ
る。
えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、トルプロピレングリコール、テトラ
プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオー
ル、デカンジオール、ドデカンジオール、ポリエステル
ポリオール{市販品：ＦＲＥＸＯＲＥＺ １８８、同１
４８、１７１−９０（以上、Ｋｉｎｇ ＩＮＤＵＳＴＲ
ＩＥＳ社製）}、ポリカプロカクタンジオール{市販品：
プラクセル２００、同２０５、同２０８、同２１０、同
２１２、同２２０、同２３０、同２４０（以上、ダイセ
ル化学工業社製）}、ポリカプロラクトントリオール{市
販品：プラクセル３０３、同３０５、同３０８、同３１
２、同３２０、同３３０（以上、ダイセル化学工業社
製）}、ポリカーボネートジオール{市販品：ＣＤ２０
５、ＣＤ２０８、ＣＤ２１０、ＣＤ２２０、ＣＤ２２１
（以上、ダイセル化学工業社製）}、ポリウレタンポリ
オール{市販品：ＦＲＥＸＯＲＥＺ ＵＤ−３２０、同
ＵＤ−３５０Ｄ、同ＵＤ−３２０−１００（以上、Ｋｉ
ｎｇ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）}、ネオペンチルグ
リコール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロール
プロパン、グリセリン、ジグリセリン、ペンタエリスリ
トール、ジペンタエリスリトール、水酸基含有アクリル
樹脂、水酸基含有アクリルオリゴマー、水酸基含有エポ
キシ樹脂、水酸基含有ウレタン樹脂、水酸基含有ポリエ
ステル樹脂、水酸基含有シリコーン樹脂などが挙げられ
る。
【００１７】シリル基含有反応生成物（Ａ）は、上記化
合物（ａ）と上記水酸基含有化合物（ｂ）とを、化合物
（ａ）の含有するイソシアネート基と水酸基含有化合物
（ｂ）が含有する水酸基をイソシアネート基／水酸基の
モル比が、０．６〜１．２、好ましくは０．８〜１．０
の割合になるように反応させることが表面硬化性及び耐
薬品性の点から適している。
合物（ａ）と上記水酸基含有化合物（ｂ）とを、化合物
（ａ）の含有するイソシアネート基と水酸基含有化合物
（ｂ）が含有する水酸基をイソシアネート基／水酸基の
モル比が、０．６〜１．２、好ましくは０．８〜１．０
の割合になるように反応させることが表面硬化性及び耐
薬品性の点から適している。
【００１８】また、上記した反応は従来から公知の方法
で反応を行うことができ、例えば、酸素雰囲気で約５０
〜１２０℃、好ましくは、６０〜１００℃の温度範囲で
約２０分〜１０時間、好ましくは、３０分〜３時間反応
させることにより得ることができる。
で反応を行うことができ、例えば、酸素雰囲気で約５０
〜１２０℃、好ましくは、６０〜１００℃の温度範囲で
約２０分〜１０時間、好ましくは、３０分〜３時間反応
させることにより得ることができる。
【００１９】カチオン反応性化合物（Ｂ）
本発明組成物において使用できるカチオン反応性化合物
（Ｂ）としては、従来から公知のものを使用することが
できる。該化合物（Ｂ）は熱または活性エネルギー線を
照射して、架橋または重合反応によって高分子化する化
合物である。具体的には、例えば、エポキシ化合物、オ
キセタン化合物、環状エーテル類、スチレン類、ビニル
化合物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、
ビシクロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート
類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリジン類、シク
ロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水物類、ラクタ
ム類、アルコキシシラン化合物類およびアリールジアル
デヒド類などが挙げられる。
（Ｂ）としては、従来から公知のものを使用することが
できる。該化合物（Ｂ）は熱または活性エネルギー線を
照射して、架橋または重合反応によって高分子化する化
合物である。具体的には、例えば、エポキシ化合物、オ
キセタン化合物、環状エーテル類、スチレン類、ビニル
化合物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、
ビシクロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート
類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリジン類、シク
ロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水物類、ラクタ
ム類、アルコキシシラン化合物類およびアリールジアル
デヒド類などが挙げられる。
【００２０】カチオン反応開始剤（Ｃ）
本発明で使用するカチオン反応開始剤（Ｃ）は、光、
熱、レーザー、電子線などにより反応を起こす化合物で
ある。例えば、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩、オキソニ
ウム塩、アンモニウム塩等が好ましいものとして挙げら
れる。
熱、レーザー、電子線などにより反応を起こす化合物で
ある。例えば、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩、オキソニ
ウム塩、アンモニウム塩等が好ましいものとして挙げら
れる。
【００２１】具体的には、加熱によりカチオンを発生す
るカチオン反応開始剤では、商品名として例えば、サン
エイドＳＩ−４５、同ＳＩ−４７、同ＳＩ−６０、同Ｓ
Ｉ−６０Ｌ、同ＳＩ−８０、同ＳＩ−８０Ｌ、同ＳＩ−
１００、同ＳＩ−１００Ｌ、同ＳＩ−１４５、同ＳＩ−
１５０、同ＳＩ−１６０、同ＳＩ−１１０Ｌ、同ＳＩ−
１８０Ｌ（以上、三新化学工業社製）、ＣＩ−２９２
１、ＣＩ−２９２０、ＣＩ−２９４６、ＣＩ−３１２
８、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４
（以上、日本曹達社製）、ＣＰ−６６、ＣＰ−７７（以
上、旭電化工業社製）、ＦＣ−５２０（３Ｍ社製）など
が挙げられる。また、アルコキシアルミニウム化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸金属塩などを使用するこ
ともできる。
るカチオン反応開始剤では、商品名として例えば、サン
エイドＳＩ−４５、同ＳＩ−４７、同ＳＩ−６０、同Ｓ
Ｉ−６０Ｌ、同ＳＩ−８０、同ＳＩ−８０Ｌ、同ＳＩ−
１００、同ＳＩ−１００Ｌ、同ＳＩ−１４５、同ＳＩ−
１５０、同ＳＩ−１６０、同ＳＩ−１１０Ｌ、同ＳＩ−
１８０Ｌ（以上、三新化学工業社製）、ＣＩ−２９２
１、ＣＩ−２９２０、ＣＩ−２９４６、ＣＩ−３１２
８、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４
（以上、日本曹達社製）、ＣＰ−６６、ＣＰ−７７（以
上、旭電化工業社製）、ＦＣ−５２０（３Ｍ社製）など
が挙げられる。また、アルコキシアルミニウム化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸金属塩などを使用するこ
ともできる。
【００２２】光によりカチオンを発生する反応開始剤と
しては、具体的には商品名として例えば、サイラキュア
ＵＶＩ−６９７０、同ＵＶＩ−６９７４、同ＵＶＩ−６
９９０、同ＵＶＩ−６９５０（以上、米国ユニオンカー
バイド社製）、イルガキュア２６１（チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ社製）、ＳＰ−１５０、ＳＰ−１７０
（以上、旭電化工業社製）、ＣＧ−２４−６１（チバ・
スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＤＡＩＣＡＴII
（ダイセル化学工業社製）、ＵＶＡＣ１５９１（ダイセ
ル・ユーシービー社製）、ＣＩ−２７３４、ＣＩ−２８
５５、ＣＩ−２８２３、ＣＩ−２７５８（以上、日本曹
達社製）、ＰＩ−２０７４（ロージャー社製、ペンタフ
ルオロフェニルボレートトルイルクミルヨードニウム
塩）、ＦＦＣ５０９（３Ｍ社製）、ＢＢＩ−１０２、Ｂ
ＢＩ−１０１（以上、ミドリ化学社製）、ＣＤ−１０１
２（米国、Sartomer社製）などが挙げられる。
しては、具体的には商品名として例えば、サイラキュア
ＵＶＩ−６９７０、同ＵＶＩ−６９７４、同ＵＶＩ−６
９９０、同ＵＶＩ−６９５０（以上、米国ユニオンカー
バイド社製）、イルガキュア２６１（チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ社製）、ＳＰ−１５０、ＳＰ−１７０
（以上、旭電化工業社製）、ＣＧ−２４−６１（チバ・
スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＤＡＩＣＡＴII
（ダイセル化学工業社製）、ＵＶＡＣ１５９１（ダイセ
ル・ユーシービー社製）、ＣＩ−２７３４、ＣＩ−２８
５５、ＣＩ−２８２３、ＣＩ−２７５８（以上、日本曹
達社製）、ＰＩ−２０７４（ロージャー社製、ペンタフ
ルオロフェニルボレートトルイルクミルヨードニウム
塩）、ＦＦＣ５０９（３Ｍ社製）、ＢＢＩ−１０２、Ｂ
ＢＩ−１０１（以上、ミドリ化学社製）、ＣＤ−１０１
２（米国、Sartomer社製）などが挙げられる。
【００２３】ラジカル重合性化合物（Ｄ）
本発明で使用されるラジカル重合性化合物（Ｄ）として
は、従来から公知のものを使用することができるが、中
でも１分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有
する分子量１９０〜１０，０００、好ましくは２５０〜
２，０００のアクリル系化合物であることが臭気、塗膜
物性、塗装作業性などの点から適している。
は、従来から公知のものを使用することができるが、中
でも１分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有
する分子量１９０〜１０，０００、好ましくは２５０〜
２，０００のアクリル系化合物であることが臭気、塗膜
物性、塗装作業性などの点から適している。
【００２４】該化合物（Ｄ）としては、例えば、フェノ
ールポリエトキシレート（メタ）アクリレート、フェノ
ールポリプロポキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェ
ノールモノエトキシレートアクリレート、２エチルヘキ
シルカービトールアクリレート、パラクミルフェノール
ＥＯ変性（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオール
ジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
トリシクロデカンジメチロイルジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＦ・ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡ・ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、グリセ
リンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性ト
リ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロ
ポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソシアヌー
ル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ポリエステルジアクリ
レート、ビスフェノールＡのジエポキシアクリル酸付加
物、アクリルアクリレートなどが挙げられる。
ールポリエトキシレート（メタ）アクリレート、フェノ
ールポリプロポキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェ
ノールモノエトキシレートアクリレート、２エチルヘキ
シルカービトールアクリレート、パラクミルフェノール
ＥＯ変性（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオール
ジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
トリシクロデカンジメチロイルジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＦ・ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡ・ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、グリセ
リンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性ト
リ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロ
ポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソシアヌー
ル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ポリエステルジアクリ
レート、ビスフェノールＡのジエポキシアクリル酸付加
物、アクリルアクリレートなどが挙げられる。
【００２５】また、ウレタンアクリレート、ポリエステ
ルアクリレート、アクリル共重合体アクリレートなど、
ポリマーに不飽和結合が入った化合物も使用することが
できる。
ルアクリレート、アクリル共重合体アクリレートなど、
ポリマーに不飽和結合が入った化合物も使用することが
できる。
【００２６】なお、「（メタ）アクリレート」はアクリ
レート又はメタアクリレートを、「ＥＯ変性」はエチレ
ンオキサイド変性を、又「ＰＯ変性」はプロピレンオキ
サイド変性を意味する。
レート又はメタアクリレートを、「ＥＯ変性」はエチレ
ンオキサイド変性を、又「ＰＯ変性」はプロピレンオキ
サイド変性を意味する。
【００２７】ラジカル重合開始剤（Ｅ）
本発明で使用するラジカル重合開始剤（Ｅ）としては、
従来から公知のものを使用することができる。具体的に
は、例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、アゾ系の
重合開始剤、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、過
酸化物系の化合物としては、例えば、イソブチリルパー
オキサイド、α，α′ビス（ネオデカノイルパーオキ
シ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデ
カノエート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、１，
１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノ
エート、ビス（４−ブチルシクロヘキシル）パーオキシ
ジカーボネート、１−シクロヘキシル−メチルエチルパ
ーオキシネオデカノエート、ジ−２−エトキシエチルパ
ーオキシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシルパー
オキシ）ジカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオ
デカネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチルパー
オキシ）ジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデ
カネート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブ
チルパーオキシピバレート、３，５，５−トリメチルヘ
キサノイルパーオキサイド、オクタノニルパーオキサイ
ド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキ
サイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキ
シ２−エチルヘキサノエート、スクシニックパーオキサ
イド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキ
サノイルパーオキシ）ヘキサン、１−シクロヘキシル−
１−メチルエチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト、ｔ−ヘキシルパーオキシ２−エチルヘキサノエー
ト、４−メチルベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチル
パーオキシ２−エチルヘキサノエート、ｍ−トルオイル
andベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサ
イド（ナイパーＢＷ）、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ
−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）
シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキ
シ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，
２−ビス（４，４−ジブチルパーオキシシクロヘキシ
ル）プロパン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）
シクロデカン、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモ
ノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ
−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノ
エート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジ
メチル−２，５−ジ（ｍ−トルオイルパーオキシ）ヘキ
サン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキシルモノカ
ーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキ
シ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，
２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチル
パーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル−４，４−ビス
（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−ｔ−ブチル
パーオキシイソフタレート、α，α′ビス（ｔ−ブチル
パーオキシ）ジイソプロフィベンゼン、ジクミルパーオ
キサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチル
パーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−メンタンハイ
ドロパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ
（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジイソプロピ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルトリメ
チルシリルパーオキサイド（パーブチルＳＭ）、１，
１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイ
ドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、２，３−ジ−メチル−２，３−ジフェニルブタンな
どが挙げられる。
従来から公知のものを使用することができる。具体的に
は、例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、アゾ系の
重合開始剤、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、過
酸化物系の化合物としては、例えば、イソブチリルパー
オキサイド、α，α′ビス（ネオデカノイルパーオキ
シ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデ
カノエート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、１，
１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノ
エート、ビス（４−ブチルシクロヘキシル）パーオキシ
ジカーボネート、１−シクロヘキシル−メチルエチルパ
ーオキシネオデカノエート、ジ−２−エトキシエチルパ
ーオキシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシルパー
オキシ）ジカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオ
デカネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチルパー
オキシ）ジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデ
カネート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブ
チルパーオキシピバレート、３，５，５−トリメチルヘ
キサノイルパーオキサイド、オクタノニルパーオキサイ
ド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキ
サイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキ
シ２−エチルヘキサノエート、スクシニックパーオキサ
イド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキ
サノイルパーオキシ）ヘキサン、１−シクロヘキシル−
１−メチルエチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト、ｔ−ヘキシルパーオキシ２−エチルヘキサノエー
ト、４−メチルベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチル
パーオキシ２−エチルヘキサノエート、ｍ−トルオイル
andベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサ
イド（ナイパーＢＷ）、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ
−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）
シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキ
シ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，
２−ビス（４，４−ジブチルパーオキシシクロヘキシ
ル）プロパン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）
シクロデカン、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモ
ノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ
−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノ
エート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジ
メチル−２，５−ジ（ｍ−トルオイルパーオキシ）ヘキ
サン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキシルモノカ
ーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキ
シ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，
２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチル
パーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル−４，４−ビス
（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−ｔ−ブチル
パーオキシイソフタレート、α，α′ビス（ｔ−ブチル
パーオキシ）ジイソプロフィベンゼン、ジクミルパーオ
キサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチル
パーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−メンタンハイ
ドロパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ
（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジイソプロピ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルトリメ
チルシリルパーオキサイド（パーブチルＳＭ）、１，
１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイ
ドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、２，３−ジ−メチル−２，３−ジフェニルブタンな
どが挙げられる。
【００２８】また光ラジカル重合開始剤としては、例え
ば、２，４−トリクロロメチル−（４′−メトキシフェ
ニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−
（４′−メトキシナフチル）−６−トリアジン、２，４
−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジ
ン、２，４−トリクロロメチル−（４′−メトキシスチ
リル）−６−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラ
ン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−
イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−Ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジメチルアミノ−
２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−〔２−ジメチル
アミノエチル）アミノ〕−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−Ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメト
キシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメ
チル）−Ｓ−トリアジン、トリス（クロロメチル）トリ
アジンなどのトリアジン系化合物、４−フェノキシジク
ロロアセトフェノン、４−tert−ブチル−ジクロロアセ
トフェノン、４−tert−ブチル−トリクロロアセトフェ
ノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４
−（２−ヒドロキシフェノキシ）−フェニル（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メ
チルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１な
どのアセトフェノン系化合物、チオキサントン、２−ク
ロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，
４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキ
サントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジク
ロロチオキサントンなどのチオキサントン系化合物、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなどのベンゾイン
系化合物、ジメチルベンジルケタール、アシルホスフィ
ンオキサイドなどが挙げられる。アシルホスオキサイド
としては、ルシリンＴＰＯ（ＳＡＳＦ社製、商品名）、
イルガキュア１７００、同１４９、同１８００、同１８
５０、同８１９（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製、商品名）などが挙げられる。
ば、２，４−トリクロロメチル−（４′−メトキシフェ
ニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−
（４′−メトキシナフチル）−６−トリアジン、２，４
−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジ
ン、２，４−トリクロロメチル−（４′−メトキシスチ
リル）−６−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラ
ン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−
イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−Ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジメチルアミノ−
２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−〔２−ジメチル
アミノエチル）アミノ〕−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−Ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメト
キシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメ
チル）−Ｓ−トリアジン、トリス（クロロメチル）トリ
アジンなどのトリアジン系化合物、４−フェノキシジク
ロロアセトフェノン、４−tert−ブチル−ジクロロアセ
トフェノン、４−tert−ブチル−トリクロロアセトフェ
ノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４
−（２−ヒドロキシフェノキシ）−フェニル（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メ
チルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１な
どのアセトフェノン系化合物、チオキサントン、２−ク
ロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，
４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキ
サントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジク
ロロチオキサントンなどのチオキサントン系化合物、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなどのベンゾイン
系化合物、ジメチルベンジルケタール、アシルホスフィ
ンオキサイドなどが挙げられる。アシルホスオキサイド
としては、ルシリンＴＰＯ（ＳＡＳＦ社製、商品名）、
イルガキュア１７００、同１４９、同１８００、同１８
５０、同８１９（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製、商品名）などが挙げられる。
【００２９】本発明組成物において、請求項１に記載の
発明は、シリル基含有反応生成物（Ａ）５〜１００重量
部、好ましくは２０〜８０重量部、カチオン反応性化合
物（Ｂ）０〜９０重量部、好ましくは２０〜７０重量
部、カチオン反応開始剤（Ｃ）０．０５〜２０重量部、
好ましくは０．５〜１０重量部を配合してなる硬化性組
成物である。
発明は、シリル基含有反応生成物（Ａ）５〜１００重量
部、好ましくは２０〜８０重量部、カチオン反応性化合
物（Ｂ）０〜９０重量部、好ましくは２０〜７０重量
部、カチオン反応開始剤（Ｃ）０．０５〜２０重量部、
好ましくは０．５〜１０重量部を配合してなる硬化性組
成物である。
【００３０】本発明組成物において、請求項２に記載の
発明は、シリル基含有反応生成物（Ａ）５〜９９．５重
量部、好ましくは２０〜８０重量部、ラジカル重合性化
合物（Ｄ）０〜９０重量部、好ましくは２０〜７０重量
部、カチオン反応開始剤（Ｃ）０．０５〜２０重量部、
好ましくは０．５〜１０重量部、ラジカル重合開始剤
（Ｅ）０．０５〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０
重量部を配合してなる硬化性組成物である。
発明は、シリル基含有反応生成物（Ａ）５〜９９．５重
量部、好ましくは２０〜８０重量部、ラジカル重合性化
合物（Ｄ）０〜９０重量部、好ましくは２０〜７０重量
部、カチオン反応開始剤（Ｃ）０．０５〜２０重量部、
好ましくは０．５〜１０重量部、ラジカル重合開始剤
（Ｅ）０．０５〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０
重量部を配合してなる硬化性組成物である。
【００３１】また、本発明組成物において、請求項３に
記載の発明は、シリル基含有反応生成物（Ａ）１０〜９
８重量部、好ましくは２０〜８０重量部、カチオン反応
性化合物（Ｂ）１〜９０重量部、好ましくは２０〜７０
重量部、ラジカル重合性化合物（Ｄ）１〜９０重量部、
好ましくは２０〜７０重量部、カチオン反応開始剤
（Ｃ）０．０５〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０
重量部、ラジカル重合開始剤（Ｅ）０．０５〜２０重量
部、好ましくは０．５〜１０重量部を配合してなる硬化
性組成物である。
記載の発明は、シリル基含有反応生成物（Ａ）１０〜９
８重量部、好ましくは２０〜８０重量部、カチオン反応
性化合物（Ｂ）１〜９０重量部、好ましくは２０〜７０
重量部、ラジカル重合性化合物（Ｄ）１〜９０重量部、
好ましくは２０〜７０重量部、カチオン反応開始剤
（Ｃ）０．０５〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０
重量部、ラジカル重合開始剤（Ｅ）０．０５〜２０重量
部、好ましくは０．５〜１０重量部を配合してなる硬化
性組成物である。
【００３２】成分（Ａ）が少なくなると被膜硬度が低下
する傾向にあり、成分（Ｂ）又は成分（Ｄ）が多くなる
か、または成分（Ｃ）又は成分（Ｅ）が少なくなると硬
化性が劣る傾向にあり、成分（Ｃ）又は成分（Ｅ）が多
くなると耐候性が低下する傾向にあるため、用途及び硬
化方法に応じた配合を選定することが好ましい。
する傾向にあり、成分（Ｂ）又は成分（Ｄ）が多くなる
か、または成分（Ｃ）又は成分（Ｅ）が少なくなると硬
化性が劣る傾向にあり、成分（Ｃ）又は成分（Ｅ）が多
くなると耐候性が低下する傾向にあるため、用途及び硬
化方法に応じた配合を選定することが好ましい。
【００３３】本発明組成物は、無溶剤または上記した各
成分を有機溶剤に溶解もしくは分散させることにより使
用できる。有機溶剤としては、本発明組成物の各成分を
溶解または分散できるものが使用でき、例えば、ヘプタ
ン、トルエン、キシレン、オクタン、ミネラルスピリッ
ト等の炭化水素系溶剤；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、
酢酸イソブチル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、
sec−ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶
剤；ｎ−ブチルエーテル、ジオキサン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等のエーテル系；スワゾール３１０、同１０
００、同１５００（以上、いずれもコスモ石油社製、商
品名）、ＳＨＥＬＬＳＯＬＡ（シェルゾールＡ、シェル
化学社製、商品名）等の芳香族石油系溶剤等を挙げるこ
とができる。これらの有機溶剤は１種でまたは２種以上
を組合せて使用することができる。
成分を有機溶剤に溶解もしくは分散させることにより使
用できる。有機溶剤としては、本発明組成物の各成分を
溶解または分散できるものが使用でき、例えば、ヘプタ
ン、トルエン、キシレン、オクタン、ミネラルスピリッ
ト等の炭化水素系溶剤；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、
酢酸イソブチル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、
sec−ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶
剤；ｎ−ブチルエーテル、ジオキサン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等のエーテル系；スワゾール３１０、同１０
００、同１５００（以上、いずれもコスモ石油社製、商
品名）、ＳＨＥＬＬＳＯＬＡ（シェルゾールＡ、シェル
化学社製、商品名）等の芳香族石油系溶剤等を挙げるこ
とができる。これらの有機溶剤は１種でまたは２種以上
を組合せて使用することができる。
【００３４】本発明の組成物は必要に応じて、上記以外
の樹脂、光増感剤（例えば、アントラセン系化合物、ア
ントラキノン系化合物、フルオレフィン系化合物、ナフ
タレン系化合物、ピレン系化合物等）、充填剤、着色
剤、顔料、顔料分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消
泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、ゲル粒
子、微粒子粉などを配合しても一向に差し支えない。
の樹脂、光増感剤（例えば、アントラセン系化合物、ア
ントラキノン系化合物、フルオレフィン系化合物、ナフ
タレン系化合物、ピレン系化合物等）、充填剤、着色
剤、顔料、顔料分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消
泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、ゲル粒
子、微粒子粉などを配合しても一向に差し支えない。
【００３５】本発明組成物に必要に応じて配合される顔
料としては、例えば、チタン白、カーボンブラック、ベ
ンガラ、チタン黄などの無機着色顔料；キナクリドンレ
ッド、アゾレッド、フタロシアニンブルー、フタロシア
ニングリーン、有機黄色顔料などの有機着色顔料；アル
ミニウム粉、光輝性マイカ粉、光輝性グラファイトなど
の光輝性顔料などの着色顔料；シリカ粉末、炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、マイカ、クレー、タルクなどの体
質顔料；カルシウムイオン交換シリカ、リン酸塩系防錆
顔料、クロム酸塩系顔料などの防錆顔料などを挙げるこ
とができる。顔料の配合量は、硬化反応を阻害しない範
囲内で使用することができ、クリヤーフィルムの成分の
合計量１００重量部に基づいて、通常２００重量部以
下、特に１００重量部以下の範囲内であることが適して
いる。
料としては、例えば、チタン白、カーボンブラック、ベ
ンガラ、チタン黄などの無機着色顔料；キナクリドンレ
ッド、アゾレッド、フタロシアニンブルー、フタロシア
ニングリーン、有機黄色顔料などの有機着色顔料；アル
ミニウム粉、光輝性マイカ粉、光輝性グラファイトなど
の光輝性顔料などの着色顔料；シリカ粉末、炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、マイカ、クレー、タルクなどの体
質顔料；カルシウムイオン交換シリカ、リン酸塩系防錆
顔料、クロム酸塩系顔料などの防錆顔料などを挙げるこ
とができる。顔料の配合量は、硬化反応を阻害しない範
囲内で使用することができ、クリヤーフィルムの成分の
合計量１００重量部に基づいて、通常２００重量部以
下、特に１００重量部以下の範囲内であることが適して
いる。
【００３６】流動性調整剤としては、塗料分野におい
て、それ自体既知の流動性調整剤を使用することがで
き、例えば、シリカ系微粉末、ベントナイト系調整剤、
ポリアミド系調整剤、ジウレア系調整剤、水系乳化重合
または非水分散重合により製造した有機樹脂微粒子等を
挙げることができる。上記有機樹脂微粒子は各樹脂微粒
子が架橋されていてもよい。
て、それ自体既知の流動性調整剤を使用することがで
き、例えば、シリカ系微粉末、ベントナイト系調整剤、
ポリアミド系調整剤、ジウレア系調整剤、水系乳化重合
または非水分散重合により製造した有機樹脂微粒子等を
挙げることができる。上記有機樹脂微粒子は各樹脂微粒
子が架橋されていてもよい。
【００３７】本発明の組成物は、金属、缶、プラスチッ
ク、紙、木質材、無機質材、電着塗装板、焼付塗装板、
ラミネート板、ＰＥＴなどのフィルムおよびこれらの組
合せなどの基材に塗料材、インキ材として適用すること
ができる。
ク、紙、木質材、無機質材、電着塗装板、焼付塗装板、
ラミネート板、ＰＥＴなどのフィルムおよびこれらの組
合せなどの基材に塗料材、インキ材として適用すること
ができる。
【００３８】塗布手段は、従来から公知の方法、例え
ば、スプレー、ロールコーター、グラビアコーター、ス
クリーン、スピンコーター、フローコーター、静電塗
装、ディッピング、インクジェット等で行うことができ
る。
ば、スプレー、ロールコーター、グラビアコーター、ス
クリーン、スピンコーター、フローコーター、静電塗
装、ディッピング、インクジェット等で行うことができ
る。
【００３９】本発明の塗膜形成方法は、上記した基材の
表面に、上記硬化性組成物を塗布量が０．５〜１００μ
ｍとなるように塗布して、ついで湿気、加熱あるいは活
性エネルギー線を照射することにより硬化させることが
できる。また、上記硬化方法を組み合わせて硬化させる
こともでき、例えば、活性エネルギー線を照射中又は照
射後に加熱する、あるいは加熱後に活性エネルギー線を
照射する等の方法が挙げられる。
表面に、上記硬化性組成物を塗布量が０．５〜１００μ
ｍとなるように塗布して、ついで湿気、加熱あるいは活
性エネルギー線を照射することにより硬化させることが
できる。また、上記硬化方法を組み合わせて硬化させる
こともでき、例えば、活性エネルギー線を照射中又は照
射後に加熱する、あるいは加熱後に活性エネルギー線を
照射する等の方法が挙げられる。
【００４０】本発明でいう加熱とは、例えば、熱風炉、
電気炉、赤外線、誘導加熱方法などが適用でき、特に限
定するものではない。加熱温度は４０℃から２６０℃の
範囲が適用でき、好ましくは７０℃から２００℃の範囲
である。
電気炉、赤外線、誘導加熱方法などが適用でき、特に限
定するものではない。加熱温度は４０℃から２６０℃の
範囲が適用でき、好ましくは７０℃から２００℃の範囲
である。
【００４１】また、活性エネルギー線としては、例え
ば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、白熱電球、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メ
タルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガ
リウムランプ、エキシマー、レーザー、電子線、β線、
γ線などが使用できる。
ば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、白熱電球、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メ
タルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガ
リウムランプ、エキシマー、レーザー、電子線、β線、
γ線などが使用できる。
【００４２】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を
より具体的に説明する。なお、以下、「部」及び「％」
はいずれも重量基準によるものとする。
より具体的に説明する。なお、以下、「部」及び「％」
はいずれも重量基準によるものとする。
【００４３】実施例１
ヘキサンジオール１１８部、γ−イソシアネートプロピ
ルトリメトキシシラン４１０部及びメチルエチルケトン
１００部を８０℃で反応させてクリヤー組成物を得た。
該クリヤー組成物 １００部にＣＩ−２６３９（日本曹
達社製、カチオン反応開始剤）４部を添加してクリヤー
硬化性組成物（１）を得た。
ルトリメトキシシラン４１０部及びメチルエチルケトン
１００部を８０℃で反応させてクリヤー組成物を得た。
該クリヤー組成物 １００部にＣＩ−２６３９（日本曹
達社製、カチオン反応開始剤）４部を添加してクリヤー
硬化性組成物（１）を得た。
【００４４】このクリヤー硬化性組成物（１）をガラス
板に乾燥膜厚２０μｍとなるように塗装し、１４０℃で
３０分間焼付け乾燥を行なった。得られた塗膜の鉛筆硬
度は８Ｈであり、塗膜の付着性、仕上がり外観は良好で
あった。
板に乾燥膜厚２０μｍとなるように塗装し、１４０℃で
３０分間焼付け乾燥を行なった。得られた塗膜の鉛筆硬
度は８Ｈであり、塗膜の付着性、仕上がり外観は良好で
あった。
【００４５】実施例２
トリメチロールプロパン１３４部及びγ−イソシアネー
トプロピルトリエトキシシラン７４１部に錫化合物０．
８部を添加して常法により付加反応を行ない、クリヤー
組成物を得た。該クリヤー組成物１００部にＡＬＣＨ
（川研ファインケミカル社製、エチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレート）５部を添加混合して
クリヤー硬化性組成物（２）を得た。
トプロピルトリエトキシシラン７４１部に錫化合物０．
８部を添加して常法により付加反応を行ない、クリヤー
組成物を得た。該クリヤー組成物１００部にＡＬＣＨ
（川研ファインケミカル社製、エチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレート）５部を添加混合して
クリヤー硬化性組成物（２）を得た。
【００４６】このクリヤー硬化性組成物（２）を電着塗
装した塗板の上に厚さ１５μｍとなるように塗装して、
１４０℃で３０分間焼付け硬化を行なった。得られた塗
膜の鉛筆硬度は８Ｈで、塗膜の付着性、仕上がり外観は
良好であった。
装した塗板の上に厚さ１５μｍとなるように塗装して、
１４０℃で３０分間焼付け硬化を行なった。得られた塗
膜の鉛筆硬度は８Ｈで、塗膜の付着性、仕上がり外観は
良好であった。
【００４７】実施例３
ネオペンチルグリコール１０４部及びγ−イソシアネー
トプロピルトリメトキシシラン４１０部に錫化合物０．
５部を添加して常法により付加反応を行ないクリヤー組
成物を得た。該クリヤー組成物１００部にＣＩ−２７５
８（日本曹達社製、光カチオン反応開始剤）４部を添加
混合、溶解してクリヤー硬化性組成物（３）を得た。
トプロピルトリメトキシシラン４１０部に錫化合物０．
５部を添加して常法により付加反応を行ないクリヤー組
成物を得た。該クリヤー組成物１００部にＣＩ−２７５
８（日本曹達社製、光カチオン反応開始剤）４部を添加
混合、溶解してクリヤー硬化性組成物（３）を得た。
【００４８】このクリヤー硬化性組成物（３）をプライ
マー処理したアルミニウム板の上に厚さ１０μｍとなる
ように塗装し、メタルハライドランプにより５００ｍＪ
／ｃｍ２の紫外線を照射して塗膜を硬化させた。得られ
た塗膜の鉛筆硬度は６Ｈで、塗膜の付着性は良好であっ
た。
マー処理したアルミニウム板の上に厚さ１０μｍとなる
ように塗装し、メタルハライドランプにより５００ｍＪ
／ｃｍ２の紫外線を照射して塗膜を硬化させた。得られ
た塗膜の鉛筆硬度は６Ｈで、塗膜の付着性は良好であっ
た。
【００４９】実施例４
ノナンジオール１６０部、プロパンジオール７６部及び
γ―イソシアネートプロピルトリメトキシシラン８２０
部に錫化合物０．５部を添加して常法により付加反応さ
せてクリヤー組成物を得た。該クリヤー組成物１００部
に二酸化チタン３０部を配合して分散し、白エナメルを
得た。この白エナメル１００部にトリフルオロスルホン
酸イッテリビウム０．５部、ＡＬＣＨ１部及びチヌビン
４００（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、紫外
線吸収剤）２部を添加混合して、白色硬化性組成物
（４）を得た。
γ―イソシアネートプロピルトリメトキシシラン８２０
部に錫化合物０．５部を添加して常法により付加反応さ
せてクリヤー組成物を得た。該クリヤー組成物１００部
に二酸化チタン３０部を配合して分散し、白エナメルを
得た。この白エナメル１００部にトリフルオロスルホン
酸イッテリビウム０．５部、ＡＬＣＨ１部及びチヌビン
４００（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、紫外
線吸収剤）２部を添加混合して、白色硬化性組成物
（４）を得た。
【００５０】この白色硬化性組成物（４）を電着、中塗
り塗装した塗板の上に３５μｍとなるように塗装し、１
４０℃で３０分間焼付けを行ない硬化塗膜を得た。
り塗装した塗板の上に３５μｍとなるように塗装し、１
４０℃で３０分間焼付けを行ない硬化塗膜を得た。
【００５１】得られた塗膜の光沢は６０度グロスで９３
あり、仕上がりは良好であった。鉛筆硬度は７Ｈで、塗
膜の付着性も良好であった。
あり、仕上がりは良好であった。鉛筆硬度は７Ｈで、塗
膜の付着性も良好であった。
【００５２】実施例５
固形分６０％の水酸基含有アクリル樹脂溶液（樹脂の数
平均分子量４，５００、水酸基含有量平均約２個／分子
量１，０００）１，６７０部、γ−イソシアネートプロ
ピルトリメトキシシラン４６９部及びメチルエチルケト
ン３１３部に錫化合物１．５部を添加して常法により付
加反応を行ない固形分６０％のクリヤー組成物溶液を得
た。該クリヤー組成物溶液１００部に二酸化チタン４０
部、フタロシアニンブルー２部及びトリプロピレングリ
コールジアクリレート３０部を混合分散して青色エナメ
ルを得た。この青色エナメル１００部に、ＣＩ−２６３
９（日本曹達社製、熱カチオン反応開始剤）３部、１，
４−ジ−ｐ−トルエンスルホニルオキシシクロヘキサン
１．５部及びパーブチルＺ（日本油脂社製、過酸化物触
媒）３部を添加混合して、青色硬化性組成物（５）を得
た。
平均分子量４，５００、水酸基含有量平均約２個／分子
量１，０００）１，６７０部、γ−イソシアネートプロ
ピルトリメトキシシラン４６９部及びメチルエチルケト
ン３１３部に錫化合物１．５部を添加して常法により付
加反応を行ない固形分６０％のクリヤー組成物溶液を得
た。該クリヤー組成物溶液１００部に二酸化チタン４０
部、フタロシアニンブルー２部及びトリプロピレングリ
コールジアクリレート３０部を混合分散して青色エナメ
ルを得た。この青色エナメル１００部に、ＣＩ−２６３
９（日本曹達社製、熱カチオン反応開始剤）３部、１，
４−ジ−ｐ−トルエンスルホニルオキシシクロヘキサン
１．５部及びパーブチルＺ（日本油脂社製、過酸化物触
媒）３部を添加混合して、青色硬化性組成物（５）を得
た。
【００５３】この青色硬化性組成物（５）を、ポリカー
ボネート板に乾燥膜厚２０μｍとなるように塗装し、１
３０℃で１５分間加熱乾燥を行なった。得られた塗膜の
硬度は５Ｈで、塗膜の付着性、仕上がり性は良好であっ
た。
ボネート板に乾燥膜厚２０μｍとなるように塗装し、１
３０℃で１５分間加熱乾燥を行なった。得られた塗膜の
硬度は５Ｈで、塗膜の付着性、仕上がり性は良好であっ
た。
【００５４】実施例６
ＦＲＥＸＯＲＥＺ １４８（Ｋｉｎｇ ＩＮＤＵＳＴＲ
ＩＥＳ社製、ポリエステルポリオール）４７０部及びγ
―イソシアネートプロピルトリメトキシシラン４１０部
を常法により付加反応を行ないクリヤー組成物を得た。
該クリヤー組成物１００部にＡＬＣＨ１０部を添加し
て、下地処理したパーテクルボードに厚さ４０μｍとな
るように塗装した。２４時間放置後に硬度と付着性を調
べた。鉛筆硬度は３Ｈで、付着性は良好であった。
ＩＥＳ社製、ポリエステルポリオール）４７０部及びγ
―イソシアネートプロピルトリメトキシシラン４１０部
を常法により付加反応を行ないクリヤー組成物を得た。
該クリヤー組成物１００部にＡＬＣＨ１０部を添加し
て、下地処理したパーテクルボードに厚さ４０μｍとな
るように塗装した。２４時間放置後に硬度と付着性を調
べた。鉛筆硬度は３Ｈで、付着性は良好であった。
【００５５】実施例７
プラクセルＣＤ２０５（ダイセル化学工業社製、ポリカ
ーボネートジオール、数平均分子量５００）５００部及
びγ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン４９
４部に錫化合物１．０部を添加して常法により付加反応
を行ないクリヤー組成物を得た。該クリヤー組成物７０
部、ノナンジオールジアクリレート２０部、アロニック
スＭ４０８（東亜合成社製、不飽和オリゴマー）１０
部、ＰＩ−２０７４（ロージャー社製、光カチオン反応
開始剤）２部、イルガキュア１８４（チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ社製、光ラジカル重合開始剤）４部及
びチヌビン３８４−２（チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製、紫外線吸収剤）２部を添加混合、溶解して、
硬化性組成物（７）を得た。
ーボネートジオール、数平均分子量５００）５００部及
びγ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン４９
４部に錫化合物１．０部を添加して常法により付加反応
を行ないクリヤー組成物を得た。該クリヤー組成物７０
部、ノナンジオールジアクリレート２０部、アロニック
スＭ４０８（東亜合成社製、不飽和オリゴマー）１０
部、ＰＩ−２０７４（ロージャー社製、光カチオン反応
開始剤）２部、イルガキュア１８４（チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ社製、光ラジカル重合開始剤）４部及
びチヌビン３８４−２（チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製、紫外線吸収剤）２部を添加混合、溶解して、
硬化性組成物（７）を得た。
【００５６】この硬化性組成物（７）を上塗り焼付け塗
装した塗板の上に厚さ２０μｍとなるように塗布して、
メタルハライドランプにより２Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照
射して硬化塗膜を得た。得られた塗膜の仕上がりは良好
で、促進耐候性、サンシャインウェザオメーター１，０
００時間の光沢保持率は９９％であった。
装した塗板の上に厚さ２０μｍとなるように塗布して、
メタルハライドランプにより２Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照
射して硬化塗膜を得た。得られた塗膜の仕上がりは良好
で、促進耐候性、サンシャインウェザオメーター１，０
００時間の光沢保持率は９９％であった。
【００５７】実施例８
不飽和アクリル樹脂（数平均分子量５，０００、不飽和
度１．６／分子量１，０００）１，０００部及びイソシ
アネートプロピルトリメトキシシラン３０８部に錫化合
物１．０部を添加して常法により付加反応を行ないクリ
ヤー組成物を得た。該クリヤー組成物８０部、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート２０部、イルガキュア
８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、光重
合開始剤）２部、ＣＩ−２７５８（日本曹達社製、光カ
チオン反応開始剤）３部及びチヌビン４００（チバ・ス
ペシャルティ・ケミカルズ社製、紫外線吸収剤）２部を
混合、溶解して、光硬化性組成物（８）を得た。
度１．６／分子量１，０００）１，０００部及びイソシ
アネートプロピルトリメトキシシラン３０８部に錫化合
物１．０部を添加して常法により付加反応を行ないクリ
ヤー組成物を得た。該クリヤー組成物８０部、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート２０部、イルガキュア
８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、光重
合開始剤）２部、ＣＩ−２７５８（日本曹達社製、光カ
チオン反応開始剤）３部及びチヌビン４００（チバ・ス
ペシャルティ・ケミカルズ社製、紫外線吸収剤）２部を
混合、溶解して、光硬化性組成物（８）を得た。
【００５８】この光硬化性組成物（８）を下塗り処理し
た無機材質に厚さ３０μｍとなるように塗装し、太陽光
に１時間あてた。得られた塗膜の仕上がりは良好で、鉛
筆硬度は７Ｈで、付着性は良好であった。
た無機材質に厚さ３０μｍとなるように塗装し、太陽光
に１時間あてた。得られた塗膜の仕上がりは良好で、鉛
筆硬度は７Ｈで、付着性は良好であった。
【００５９】実施例９
トリエチレングリコール１５０部、ヒドロキシエチルア
クリレート１１６部及びγ−イソシアネートプロピルト
リメトキシシラン６１５部に錫化合物０．８部を添加し
て常法により付加反応を行ないクリヤー組成物を得た。
該クリヤー組成物９０部にヘキサンジオールジアクリレ
ート１０部、イルガキュア１８４を４部、エチルアセテ
ートアルミニウムジイソプロピレート５部及びサンエイ
ドＳＩ−１００（三新化学工業社製、カチオン反応開始
剤）２部を添加、混合して硬化性組成物を得た。該硬化
性組成物をガラス板に膜厚２０μｍとなるように塗装
し、高圧水銀灯で４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し
て、その後１４０℃で２０分間加熱して硬化塗膜を得
た。得られた塗膜の鉛筆硬度は６Ｈであり、塗膜の付着
性、仕上がり外観は良好であった。
クリレート１１６部及びγ−イソシアネートプロピルト
リメトキシシラン６１５部に錫化合物０．８部を添加し
て常法により付加反応を行ないクリヤー組成物を得た。
該クリヤー組成物９０部にヘキサンジオールジアクリレ
ート１０部、イルガキュア１８４を４部、エチルアセテ
ートアルミニウムジイソプロピレート５部及びサンエイ
ドＳＩ−１００（三新化学工業社製、カチオン反応開始
剤）２部を添加、混合して硬化性組成物を得た。該硬化
性組成物をガラス板に膜厚２０μｍとなるように塗装
し、高圧水銀灯で４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し
て、その後１４０℃で２０分間加熱して硬化塗膜を得
た。得られた塗膜の鉛筆硬度は６Ｈであり、塗膜の付着
性、仕上がり外観は良好であった。
【００６０】
【発明の効果】本発明の硬化性組成物は、湿気、加熱及
び／又は活性エネルギー線により硬化させることがで
き、表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及び耐候性に優
れた塗膜を形成することができる。
び／又は活性エネルギー線により硬化させることがで
き、表面硬度が高く、付着性、耐薬品性及び耐候性に優
れた塗膜を形成することができる。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０９Ｄ 201/00 Ｃ０９Ｄ 201/00
201/10 201/10
Ｆターム(参考） 4J031 CA83 CB01 CB02 CB06
4J035 BA04 BA14 CA00N GA07
GA08 HA03 LA03 LB01
4J038 CG001 CG002 DB001 DB002
DD001 DD002 DE001 DE002
DF001 DF002 DG001 DG002
DJ011 DJ012 DL001 DL002
DL031 DL032 FA011 FA012
FA041 FA042 FA111 FA112
FA231 FA232 FA241 FA242
GA15 JA02 JA29 JA32 JA42
JA66 JA68 JB16 JB36 JC17
JC18 JC29 JC38 KA03 NA02
NA03 NA04 NA11 NA12 NA17
NA23 PA17 PA19 PA20 PB04
PC01 PC05
Claims (9)
- 【請求項１】 （Ａ）下記一般式（１）で表わされる化
合物（ａ）と、１分子中に平均２個以上の水酸基を含有
する数平均分子量６０〜２０，０００の水酸基含有化合
物（ｂ）とを、化合物（ａ）中のイソシアネート基と水
酸基含有化合物（ｂ）中の水酸基のモル比が（ａ）／
（ｂ）＝０．６〜１．２の範囲内になるようにして反応
させたシリル基含有反応生成物 ５〜１００重量部、 【化１】 （式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ同一又は異なっ
て、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、炭素数１
〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であって、Ｒ １、
Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも１つは炭素数１〜４のア
ルコキシ基又はフェノキシ基であり、Ｒ４は炭素数１〜
１０のアルキレン基を示す。）（Ｂ）カチオン反応性化
合物 ０〜９５重量部、及び（Ｃ）カチオン反応開始剤
０．０５〜２０重量部を配合してなることを特徴とす
る硬化性組成物。 - 【請求項２】 請求項１に記載のシリル基含有反応生成
物（Ａ）５〜９９．５重量部、（Ｄ）ラジカル重合性化
合物 ０〜９０重量部（Ｃ）カチオン反応開始剤 ０．
０５〜２０重量部、及び（Ｅ）ラジカル重合開始剤
０．０５〜２０重量部を配合してなることを特徴とする
硬化性組成物。 - 【請求項３】 請求項１に記載のシリル基含有反応生成
物（Ａ）１０〜９８重量部、（Ｂ）カチオン反応性化合
物 １〜９５重量部、（Ｄ）ラジカル重合性化合物 １
〜９０重量部、（Ｃ）カチオン反応開始剤 ０．０５〜
２０重量部、及び（Ｅ）ラジカル重合開始剤 ０．０５
〜２０重量部を配合してなることを特徴とする硬化性組
成物。 - 【請求項４】 ラジカル重合性化合物（Ｄ）が、１分子
中に１個以上のアクリロイル基及び又はメタクリロイル
基を含有する化合物である請求項２又は３記載の硬化性
組成物。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬
化性組成物を被塗物に塗布し、常温で湿気硬化させ、硬
化塗膜を得ることを特徴とする被膜形成方法。 - 【請求項６】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬
化性組成物を被塗物に塗布し、加熱して硬化塗膜を得る
ことを特徴とする被膜形成方法。 - 【請求項７】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬
化性組成物を被塗物に塗布し、活性エネルギー線を照射
して硬化塗膜を得ることを特徴とする被膜形成方法。 - 【請求項８】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬
化性組成物を被塗物に塗布し、活性エネルギー線を照射
中又は照射後加熱して硬化塗膜を得ることを特徴とする
被膜形成方法。 - 【請求項９】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬
化性組成物を被塗物に塗布し、加熱した後、活性エネル
ギー線を照射して硬化塗膜を得ることを特徴とする被膜
形成方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001282657A JP2003089723A (ja) | 2001-09-18 | 2001-09-18 | 硬化性組成物及びその被膜形成方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001282657A JP2003089723A (ja) | 2001-09-18 | 2001-09-18 | 硬化性組成物及びその被膜形成方法 |
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|---|---|
| JP2003089723A true JP2003089723A (ja) | 2003-03-28 |
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ID=19106281
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|---|---|---|---|
| JP2001282657A Pending JP2003089723A (ja) | 2001-09-18 | 2001-09-18 | 硬化性組成物及びその被膜形成方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003089723A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008126902A1 (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 組成物、保護被膜形成方法及び積層体とその製法 |
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| JP2016041774A (ja) * | 2014-08-14 | 2016-03-31 | 信越化学工業株式会社 | 表面処理された無機粒子及び硬化性樹脂組成物 |
-
2001
- 2001-09-18 JP JP2001282657A patent/JP2003089723A/ja active Pending
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