JP2003086949A - Method for manufacturing printed substrate and printed substrate formed thereby - Google Patents

Method for manufacturing printed substrate and printed substrate formed thereby

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JP2003086949A
JP2003086949A JP2002062394A JP2002062394A JP2003086949A JP 2003086949 A JP2003086949 A JP 2003086949A JP 2002062394 A JP2002062394 A JP 2002062394A JP 2002062394 A JP2002062394 A JP 2002062394A JP 2003086949 A JP2003086949 A JP 2003086949A
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resin film
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智宏 横地
Toshihiro Miyake
敏広 三宅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a printed substrate easy to position contained electric elements and to provide the printed substrate formed by the method. SOLUTION: The method for manufacturing the printed substrate comprises the steps of forming a through hole 35 having substantially the same dimension as that of a profile of each of the electric elements 41 corresponding to positions to contain the elements 41 of one-side conductor pattern films 21, 31, laminating the films 21, 31, disposing the elements 41 in the hole 35 (Fig. (e)), and hot pressing the laminate from both sides to obtain the printed substrate 100 (Fig. (f)). Then, the electrodes 42 of the elements 41 are respectively electrically connected to conductor patterns 22, and a resin film 23 made of a thermoplastic resin of the base of each of the films 21, 31 is plastically deformed while being fusion-bonded to each other to seal the elements 41.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁基材内に電気
素子が内蔵されたプリント基板の製造方法およびその製
造方法によって形成されるプリント基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a printed board in which an electric element is incorporated in an insulating base material and a printed board formed by the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電気素子の高密度実装化に対
応して電気素子を絶縁基材中に内蔵したプリント基板が
知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a printed circuit board in which an electric element is built in an insulating base material in response to high density mounting of the electric element.

【0003】例えば特開平11−312868号公報に
開示された技術がある。この技術は、ビアや導体パター
ンが形成されたBステージ状態の熱硬化性樹脂を含む複
数の絶縁層(絶縁基材となる樹脂フィルム)を作製した
後、これらの絶縁層間に、例えば樹脂封止された電気素
子を搭載した樹脂フィルムを挟持して積層し、加圧して
一体化する。その後、この積層体を加熱して絶縁層を硬
化させ電気素子を内蔵したプリント基板を製造するもの
である。
For example, there is a technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-31868. In this technique, after forming a plurality of insulating layers (resin film serving as an insulating base material) containing a thermosetting resin in a B stage state in which vias and conductor patterns are formed, for example, resin sealing is performed between these insulating layers. The resin films on which the electric elements are mounted are sandwiched and laminated, and pressure is applied to integrate them. After that, the laminated body is heated to cure the insulating layer to manufacture a printed circuit board containing an electric element.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術では、絶縁層間に電気素子を搭載した樹脂フィ
ルムを挟持して積層するため、絶縁基材に対し電気素子
の位置決めが行ない難いという問題がある。絶縁基材内
において電気素子の位置ずれが発生すると、電気素子と
ビアとの接続不良という不具合を引き起こす場合があ
る。
However, in the above-mentioned conventional technique, since the resin film having the electric element mounted thereon is sandwiched and laminated between the insulating layers, it is difficult to position the electric element with respect to the insulating base material. is there. When the displacement of the electric element occurs in the insulating base material, there may be a problem that the electric element and the via are not properly connected.

【0005】本発明は上記点に鑑みてなされたもので、
絶縁基材に対する電気素子の位置決めを行なうことが容
易なプリント基板の製造方法およびその製造方法によっ
て形成されるプリント基板を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above points,
It is an object of the present invention to provide a printed circuit board manufacturing method in which an electric element can be easily positioned with respect to an insulating base material, and a printed circuit board formed by the manufacturing method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明のプリント基板の製造方法で
は、絶縁基材(39)となる樹脂フィルム(23)を積
層する積層工程と、樹脂フィルム(23)の間に電気素
子(41)を配置する配置工程と、積層工程および配置
工程後に、積層した樹脂フィルム(23)の積層体を両
面から加圧しつつ加熱することにより、各樹脂フィルム
(23)相互の接着を行なう接着工程とを備え、電気素
子(41)を内蔵するプリント基板の製造方法におい
て、積層工程を行なう前に、電気素子(41)を配置す
る位置に対応して、樹脂フィルム(23)に電気素子
(41)の外形と略同一寸法の貫通孔(35)を形成す
る孔形成工程を有し、配置工程では、電気素子(41)
を貫通孔(35)内に挿設することを特徴としている。
In order to achieve the above object, in the method for producing a printed circuit board according to the present invention as set forth in claim 1, a laminating step of laminating a resin film (23) to be an insulating base material (39) is provided. , A disposing step of disposing the electric element (41) between the resin films (23), and a laminating step and after the disposing step, by heating the laminated body of the laminated resin film (23) while applying pressure from both sides, In a method for manufacturing a printed circuit board having a built-in electric element (41), which comprises a step of adhering the resin films (23) to each other, corresponding to the position where the electric element (41) is arranged before performing the laminating step. And a hole forming step of forming a through hole (35) having substantially the same size as the outer shape of the electric element (41) in the resin film (23).
Is inserted into the through hole (35).

【0007】これによると、電気素子(41)は、樹脂
フィルム(23)に形成された電気素子(41)の外形
と略同一寸法の貫通孔(35)により位置決め保持され
る。従って、絶縁基材(39)に対する電気素子(4
1)の位置決めが容易である。
According to this, the electric element (41) is positioned and held by the through hole (35) formed in the resin film (23) and having substantially the same size as the outer shape of the electric element (41). Therefore, the electric element (4
Positioning in 1) is easy.

【0008】また、請求項2に記載の発明のプリント基
板の製造方法では、電気素子(41)の厚さが樹脂フィ
ルム(23)の厚さより厚い場合には、孔形成工程にお
いて、貫通孔(35)内に挿設される電気素子(41)
の厚さに応じて、複数の樹脂フィルム(23)の同じ位
置に貫通孔(35)を形成することを特徴としている。
In the method for manufacturing a printed circuit board according to the second aspect of the present invention, when the electric element (41) is thicker than the resin film (23), the through hole ( 35) Electric element (41) inserted in
The through holes (35) are formed at the same positions of the plurality of resin films (23) according to the thickness of the through holes (35).

【0009】これによると、1枚の樹脂フィルム(2
3)の厚さより厚い電気素子(41)であっても容易に
位置決めすることができる。
According to this, one resin film (2
Even an electric element (41) thicker than the thickness of 3) can be easily positioned.

【0010】また、請求項3に記載の発明のプリント基
板の製造方法では、同じ位置に貫通孔(35)を形成す
る樹脂フィルム(23)の厚さの総和は、貫通孔(3
5)内に挿設される電気素子(41)の厚さに対し略同
等以下であることを特徴としている。
Further, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the third aspect of the present invention, the total thickness of the resin film (23) forming the through holes (35) at the same position is the through holes (3).
5) It is characterized in that the thickness is substantially equal to or less than the thickness of the electric element (41) inserted inside.

【0011】これによると、プリント基板(100)に
内蔵した電気素子(41)上下方向(樹脂フィルム等の
積層方向)の絶縁基材(39)との界面(41a)にお
いて、電気素子(41)と絶縁基材(39)との剥離が
発生し難い。
According to this, at the interface (41a) with the insulating base material (39) in the vertical direction (the laminating direction of resin films, etc.) of the electric element (41) built in the printed circuit board (100), the electric element (41). It is difficult for the insulating base material (39) to be peeled off.

【0012】また、請求項4に記載の発明のプリント基
板の製造方法では、電気素子(41)には、樹脂フィル
ム(23)の積層方向に電極(42)が形成され、樹脂
フィルム(23)には、積層工程を行なう前に、貫通孔
(35)に挿設される電気素子(41)の電極(42)
の位置に対応して、接続材料(50)が充填されるとと
もに導体パターン(22)を底部とする有底ビアホール
(24)が形成され、接着工程において加圧しつつ加熱
することにより、接続材料(50)を介して、電気素子
(41)の電極(42)と導体パターン(22)とを電
気的に接続することを特徴としている。
Further, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the electrode (42) is formed on the electric element (41) in the laminating direction of the resin film (23), and the resin film (23) is formed. The electrode (42) of the electric element (41) inserted into the through hole (35) before performing the stacking step.
Corresponding to the position of, the connecting material (50) is filled and the bottomed via hole (24) having the conductor pattern (22) at the bottom is formed, and the connecting material ( It is characterized by electrically connecting the electrode (42) of the electric element (41) and the conductor pattern (22) via 50).

【0013】これによると、接着工程で加圧しつつ加熱
することによって絶縁基材(39)となる各樹脂フィル
ム(23)相互の接着を行ない基板(100)を形成す
るときに、内蔵される電気素子(41)と導体パターン
(22)との電気的接続を行なうことができる。従っ
て、内蔵される電気素子(41)と導体パターン(2
2)との電気的接続を接着工程前に行なう必要がないの
で、製造工程をシンプルにすることができる。
According to this, when the resin film (23) serving as the insulating base material (39) is adhered to each other by heating while applying pressure in the adhering step to form the substrate (100), the electricity contained therein is formed. The element (41) and the conductor pattern (22) can be electrically connected. Therefore, the built-in electric element (41) and the conductor pattern (2
Since it is not necessary to make electrical connection with 2) before the bonding step, the manufacturing process can be simplified.

【0014】また、請求項5に記載の発明のプリント基
板の製造方法では、樹脂フィルム(23)には、積層工
程を行なう前に、導体パターン(22)が形成され、配
置工程を行う前に、導体パターン(22)と電気素子
(41)の電極(42)とを電気的に接続することを特
徴としている。
In the method of manufacturing a printed circuit board according to the fifth aspect of the present invention, the conductor pattern (22) is formed on the resin film (23) before the laminating step and before the arranging step. The electrically conductive pattern (22) and the electrode (42) of the electric element (41) are electrically connected.

【0015】これによると、配置工程を行なう前に、導
体パターン(22)と電気素子(41)の電極(42)
とが電気的に接続した樹脂フィルム(23)を得ること
ができる。従って、電気素子(41)の電極(42)と
接続した導体パターン(22)を利用して電気素子(4
1)の検査を容易に行なうことができる。
According to this, the conductor pattern (22) and the electrode (42) of the electric element (41) are subjected to the arrangement step.
A resin film (23) electrically connected to and can be obtained. Therefore, by using the conductor pattern (22) connected to the electrode (42) of the electric element (41), the electric element (4)
The inspection of 1) can be easily performed.

【0016】また、請求項6に記載の発明のプリント基
板の製造方法のように、電気素子(41)には、樹脂フ
ィルム(23)の積層方向に電極(42)が形成され、
樹脂フィルム(23)には、積層工程を行なう前に、貫
通孔(35)に挿設される電気素子(41)の電極(4
2)の位置に対応して、接続材料(50)が充填される
とともに導体パターン(22)を底部とする有底ビアホ
ール(24)が形成され、配置工程を行う前に、接続材
料(50)を介して、電気素子(41)の電極(42)
と導体パターン(22)とを電気的に接続することがで
きる。
Further, as in the method for manufacturing a printed circuit board according to the sixth aspect of the present invention, the electrode (42) is formed on the electric element (41) in the laminating direction of the resin film (23),
The electrode (4) of the electric element (41) inserted into the through hole (35) is formed on the resin film (23) before the laminating step.
Corresponding to the position of 2), the connecting material (50) is filled and the bottomed via hole (24) having the conductor pattern (22) at the bottom is formed, and the connecting material (50) is formed before the arranging step. Through the electrode (42) of the electric element (41)
And the conductor pattern (22) can be electrically connected.

【0017】また、請求項7に記載の発明のプリント基
板の製造方法のように、電気素子(41a)には、樹脂
フィルム(23)の積層方向に電極(42a)が形成さ
れ、樹脂フィルム(23)には、積層工程を行なう前
に、貫通孔(35)に挿設される電気素子(41a)の
電極(42a)の位置に対応して、導体パターン(2
2)がランド部(22a)として形成され、配置工程を
行う前に、電気素子(41a)の電極(42a)と導体
パターン(22)のランド部(22a)とを電気的に接
続することができる。
Further, as in the method for manufacturing a printed circuit board according to the seventh aspect of the present invention, the electrode (42a) is formed in the electric element (41a) in the laminating direction of the resin film (23), and the resin film ( 23), the conductor pattern (2) corresponding to the position of the electrode (42a) of the electric element (41a) inserted into the through hole (35) before the lamination step.
2) is formed as a land portion (22a), and the electrode (42a) of the electric element (41a) and the land portion (22a) of the conductor pattern (22) can be electrically connected before performing the arrangement step. it can.

【0018】また、請求項8に記載の発明のプリント基
板の製造方法のように、電気素子(41a)には、樹脂
フィルム(23)の積層方向に電極(42a)が形成さ
れ、樹脂フィルム(23)には、積層工程を行なう前
に、導体パターン(22)がランド部(22a)として
形成され、配置工程を行う前に、電気素子(41a)の
電極(42a)と導体パターン(22)のランド部(2
2a)とを電気的にワイヤボンド接続することができ
る。
Further, as in the printed circuit board manufacturing method of the invention described in claim 8, the electrode (42a) is formed on the electric element (41a) in the laminating direction of the resin film (23), and the resin film ( In (23), the conductor pattern (22) is formed as a land portion (22a) before performing the laminating step, and the electrode (42a) of the electric element (41a) and the conductor pattern (22) are formed before performing the arranging step. Land part (2
2a) can be electrically connected by wire bond.

【0019】また、請求項9に記載の発明のプリント基
板の製造方法では、積層される樹脂フィルム(23)
は、熱可塑性樹脂からなることを特徴としている。
In the method of manufacturing a printed circuit board according to the ninth aspect of the invention, the resin film (23) to be laminated is used.
Is characterized by being made of a thermoplastic resin.

【0020】これによると、接着工程において加圧しつ
つ加熱するときに、電気素子(41)が挿設された貫通
孔(35)方向に樹脂フィルム(23)を塑性変形さ
せ、電気素子(41)を容易に封止することができる。
According to this, when heating while applying pressure in the bonding step, the resin film (23) is plastically deformed in the direction of the through hole (35) in which the electric element (41) is inserted, and the electric element (41). Can be easily sealed.

【0021】また、請求項10に記載の発明のプリント
基板の製造方法では、積層される樹脂フィルム(23)
は、同一の材料からなることを特徴としている。
In the method for manufacturing a printed circuit board according to the tenth aspect of the invention, the resin film (23) to be laminated is used.
Are made of the same material.

【0022】これによると、各樹脂フィルム(23)相
互を接着し易い。従って、各樹脂フィルム(23)間を
確実に接着した絶縁基材を備えるプリント基板を得るこ
とができる。
According to this, the resin films (23) are easily bonded to each other. Therefore, it is possible to obtain a printed board provided with an insulating base material in which the resin films (23) are securely bonded to each other.

【0023】また、請求項11に記載の発明のプリント
基板の製造方法では、樹脂フィルム(23)は、接着工
程の加熱温度において、弾性率が1〜1000MPaで
あることを特徴としている。
Further, in the method for manufacturing a printed circuit board according to the invention as set forth in claim 11, the resin film (23) has a modulus of elasticity of 1 to 1000 MPa at a heating temperature in the bonding step.

【0024】これによると、接着工程において、樹脂フ
ィルム(23)の弾性率を1〜1000MPaと充分に
低下させた状態で加圧することにより各樹脂フィルム
(23)相互を確実に接着することができる。また、電
気素子(41)が挿設された貫通孔(35)方向に樹脂
フィルム(23)を容易に塑性変形させ、電気素子(4
1)を確実に封止することができる。
According to this, in the bonding step, the resin films (23) can be reliably bonded to each other by applying pressure while the elastic modulus of the resin films (23) is sufficiently reduced to 1 to 1000 MPa. . Further, the resin film (23) is easily plastically deformed in the direction of the through hole (35) in which the electric element (41) is inserted, and the electric element (4
1) can be reliably sealed.

【0025】また、請求項12に記載の発明のプリント
基板の製造方法では、積層された樹脂フィルム(23)
において、最も外側に位置する前記樹脂フィルム(2
3)の外側面に金属ベース部材(46)を形成するベー
ス部材形成工程を備えることを特徴としている。
Further, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the invention of claim 12, the laminated resin film (23) is used.
In the above, the resin film (2
It is characterized by including a base member forming step of forming a metal base member (46) on the outer side surface of 3).

【0026】これによると、最外面に金属ベース部材
(46)を備えるプリント基板(100)を得ることが
できる。例えば、プリント基板からの放熱等を目的とし
てプリント基板の表面に金属ベース部材を設ける必要が
ある場合には、金属ベース部材を設けた部分には電気素
子を表面に実装することができず、実装可能な面積が減
少する。従って、高密度実装化に対応するために電気素
子(41)を内蔵するとともに、最外面に金属ベース部
材(46)を備えるプリント基板が得られる効果は大き
い。
According to this, it is possible to obtain the printed circuit board (100) having the metal base member (46) on the outermost surface. For example, when it is necessary to provide a metal base member on the surface of the printed circuit board for the purpose of heat dissipation from the printed circuit board, the electric element cannot be mounted on the surface where the metal base member is provided. Possible area is reduced. Therefore, the printed circuit board having the electric element (41) built-in for high-density mounting and the metal base member (46) on the outermost surface can be effectively obtained.

【0027】また、請求項13に記載の発明のプリント
基板の製造方法では、積層工程およびベース部材形成工
程後に、樹脂フィルム(23)と金属ベース部材(4
6)との積層体を両面から加圧しつつ加熱することによ
り、各樹脂フィルム(23)および金属ベース部材(4
6)相互の接着を行なうことを特徴としている。
In the method for manufacturing a printed circuit board according to the thirteenth aspect of the present invention, the resin film (23) and the metal base member (4) are formed after the laminating step and the base member forming step.
The resin film (23) and the metal base member (4) are heated by pressurizing the laminate with 6) from both sides.
6) The feature is that they are adhered to each other.

【0028】これによると、各樹脂フィルム(23)お
よび金属ベース部材(46)の接着を一括して行なうこ
とができる。従って、金属ベース部材(46)を備える
プリント基板(100)であっても、製造工程をシンプ
ルにすることができる。
According to this, each resin film (23) and the metal base member (46) can be bonded together. Therefore, even in the printed circuit board (100) including the metal base member (46), the manufacturing process can be simplified.

【0029】また、請求項1〜4、請求項1ないし請求
項4における請求項9、および請求項10に記載のプリ
ント基板の製造方法によって、請求項14に記載の発明
のように、同一の熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルム
(23)を積層後加圧しつつ加熱して相互に接着した絶
縁基材(39)と、樹脂フィルム(23)に貫通孔(3
5)を設けることによって絶縁基材(39)中に形成さ
れた空間部(36)に配置されるとともに、樹脂フィル
ム(23)の積層方向に形成された電極(42)がビア
(24、51)を介して導体パターン(22)と接続し
た電気素子(41)とを備え、この電気素子(41)
は、加圧しつつ加熱されることにより空間部(36)方
向に押し出された樹脂フィルム(23)により封止さ
れ、電気素子(41)を絶縁基材(39)中に内蔵して
いることを特徴とするプリント基板(100)が形成で
きる。
Further, according to the method for manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 1 to 4, claim 1 to claim 4, and claim 10, the same method as in the invention according to claim 14 is obtained. After the resin film (23) made of a thermoplastic resin is laminated, the insulating base material (39) adhered to each other by heating while applying pressure, and the through hole (3) in the resin film (23).
5) is arranged in the space (36) formed in the insulating base material (39) by providing 5), and the electrode (42) formed in the laminating direction of the resin film (23) has vias (24, 51). And an electric element (41) connected to the conductor pattern (22) via the electric element (41).
Is sealed by the resin film (23) extruded toward the space (36) by being heated while being pressurized, and the electric element (41) is incorporated in the insulating base material (39). A characteristic printed circuit board (100) can be formed.

【0030】これは、内蔵された電気素子(41)が、
各樹脂フィルム(23)相互が確実に接着して形成され
た絶縁基材(39)に対し位置決めされ導体パターン
(22)と確実に電気的接続されるとともに、絶縁基材
(39)中に確実に封止されたプリント基板(100)
である。
This is because the built-in electric element (41)
The resin films (23) are positioned with respect to the insulating base material (39) formed by surely adhering to each other, and are surely electrically connected to the conductor pattern (22), and also securely in the insulating base material (39). Printed circuit board sealed in (100)
Is.

【0031】また、請求項1〜3、請求項5、請求項1
〜3ないし請求項5における請求項9、および請求項1
0に記載のプリント基板の製造方法によって、請求項1
5に記載の発明のように、同一の熱可塑性樹脂からなる
樹脂フィルム(23)を積層後加圧しつつ加熱して相互
に接着した絶縁基材(39)と、樹脂フィルム(23)
に貫通孔(35)を設けることによって絶縁基材(3
9)中に形成された空間部(36)に配置されるととも
に、電極(42)が導体パターン(22)と接続した電
気素子(41)とを備え、この電気素子(41)は、加
圧しつつ加熱されることにより空間部(36)方向に押
し出された樹脂フィルム(23)により封止され、電気
素子(41)を絶縁基材(39)中に内蔵していること
を特徴とするプリント基板が形成できる。
Further, claims 1 to 3, claim 5, claim 1
~ Claims 3 to 5 and claim 1
The printed circuit board manufacturing method according to claim 1,
As in the invention described in 5, the resin film (23) made of the same thermoplastic resin is laminated and then heated under pressure while being adhered to each other, and the resin film (23).
By providing a through hole (35) in the insulating substrate (3
9) an electric element (41) which is arranged in a space (36) formed in the electrode and has an electrode (42) connected to the conductor pattern (22), the electric element (41) being pressurized. A print characterized in that it is sealed by a resin film (23) extruded in the direction of the space (36) by being heated while being enclosed, and an electric element (41) is built in an insulating base material (39). A substrate can be formed.

【0032】これは、内蔵された電気素子(41)が、
各樹脂フィルム(23)相互が確実に接着して形成され
た絶縁基材(39)に対し位置決めされ導体パターン
(22)と確実に電気的接続されるとともに、絶縁基材
(39)中に確実に封止されたプリント基板(100)
である。
This is because the built-in electric element (41)
The resin films (23) are positioned with respect to the insulating base material (39) formed by surely adhering to each other, and are surely electrically connected to the conductor pattern (22), and also securely in the insulating base material (39). Printed circuit board sealed in (100)
Is.

【0033】また、請求項16に記載の発明のプリント
基板では、樹脂フィルム(23)は、加圧しつつ加熱さ
れるときの加熱温度において、弾性率が1〜1000M
Paであることを特徴としている。
Further, in the printed circuit board according to the sixteenth aspect of the present invention, the resin film (23) has an elastic modulus of 1 to 1000 M at a heating temperature when heated under pressure.
It is characterized by being Pa.

【0034】これによると、加圧しつつ加熱するとき
に、樹脂フィルム(23)の弾性率を1〜1000MP
aと充分に低下させた状態で加圧することにより各樹脂
フィルム(23)相互を確実に接着した絶縁基材(3
9)となる。また、電気素子(41)が配置された空間
部(36)方向に樹脂フィルム(23)を容易に塑性変
形させ、押し出された樹脂フィルム(23)により、電
気素子(41)は確実に封止される。
According to this, when the resin film (23) is heated while being pressurized, the elastic modulus of the resin film (23) is 1 to 1000 MP.
Insulating substrate (3) in which each resin film (23) is surely adhered to each other by applying pressure in a state sufficiently reduced with a.
9). Further, the resin film (23) is easily plastically deformed in the direction of the space portion (36) in which the electric element (41) is arranged, and the extruded resin film (23) surely seals the electric element (41). To be done.

【0035】また、請求項17に記載の発明のプリント
基板では、絶縁基材(39)の表面に金属ベース部材
(46)が接着されていることを特徴としている。
The printed circuit board according to the seventeenth aspect of the present invention is characterized in that the metal base member (46) is adhered to the surface of the insulating base material (39).

【0036】例えば、プリント基板からの放熱等を目的
としてプリント基板の表面に金属ベース部材を設ける必
要がある場合には、金属ベース部材を設けた部分には電
気素子を表面に実装することができず、実装可能な面積
が減少する。従って、本発明のように、高密度実装化に
対応するために電気素子(41)を内蔵するとともに、
表面に金属ベース部材(46)を備える効果は大きい。
For example, when it is necessary to provide a metal base member on the surface of the printed circuit board for the purpose of heat dissipation from the printed circuit board, an electric element can be mounted on the surface where the metal base member is provided. Therefore, the mountable area is reduced. Therefore, as in the present invention, in addition to incorporating the electric element (41) to cope with high-density mounting,
The effect of providing the metal base member (46) on the surface is great.

【0037】なお、上記各手段に付した括弧内の符号
は、後述する実施形態記載の具体的手段との対応関係を
示す。
The reference numerals in parentheses attached to the above-mentioned means indicate the correspondence with the specific means described in the embodiments to be described later.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0039】(第1の実施形態)図1は、本実施形態に
おけるプリント基板の製造工程を示す工程別断面図であ
る。
(First Embodiment) FIGS. 1A to 1C are cross-sectional views showing the steps of manufacturing a printed circuit board according to this embodiment.

【0040】図1(a)において、21は絶縁基材であ
る樹脂フィルム23の片面に貼着された導体箔(本例で
は厚さ18μmの銅箔)をエッチングによりパターン形
成した導体パターン22を有する片面導体パターンフィ
ルムである。本例では、樹脂フィルム23としてポリエ
ーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエー
テルイミド樹脂35〜65重量%とからなる厚さ75μ
mの熱可塑性樹脂フィルムを用いている。
In FIG. 1A, reference numeral 21 denotes a conductor pattern 22 formed by etching a conductor foil (a copper foil having a thickness of 18 μm in this example) attached to one surface of a resin film 23 which is an insulating base material. It is a single-sided conductor pattern film having. In this example, the resin film 23 has a thickness of 75 [mu] m composed of 65 to 35% by weight of polyetheretherketone resin and 35 to 65% by weight of polyetherimide resin.
m thermoplastic resin film is used.

【0041】図1(a)に示すように、導体パターン2
2の形成が完了すると、次に、図1(b)に示すよう
に、樹脂フィルム23側から炭酸ガスレーザを照射し
て、導体パターン22を底面とする有底ビアホールであ
るビアホール24を形成する。ビアホールの形成は、炭
酸ガスレーザの出力と照射時間等を調整することで、導
体パターン22に穴を開けないようにしている。
As shown in FIG. 1A, the conductor pattern 2
When the formation of 2 is completed, next, as shown in FIG. 1B, a carbon dioxide laser is irradiated from the resin film 23 side to form a via hole 24 which is a bottomed via hole having the conductor pattern 22 as a bottom surface. The via holes are formed by adjusting the output of the carbon dioxide gas laser, the irradiation time, and the like so that holes are not formed in the conductor pattern 22.

【0042】ビアホール24の形成には、炭酸ガスレー
ザ以外にエキシマレーザ等が使用可能である。レーザ以
外のドリル加工等のビアホール形成方法も可能である
が、レーザビームで穴あけ加工すると、微細な径で穴あ
けでき、導体パターン22にダメージを与えることが少
ないため好ましい。
In order to form the via hole 24, an excimer laser or the like can be used in addition to the carbon dioxide gas laser. A via hole forming method such as drilling other than laser is also possible, but drilling with a laser beam is preferable because the hole can be formed with a fine diameter and the conductor pattern 22 is less damaged.

【0043】図1(b)に示すように、ビアホール24
の形成が完了すると、次に、図1(c)に示すように、
ビアホール24内に電気的な接続材料である導電ペース
ト50を充填する。導電ペースト50は、平均粒径5μ
m、比表面積0.5m2/gの錫粒子300gと、平均
粒径1μm、比表面積1.2m2/gの銀粒子300g
とに、有機溶剤であるテルピネオール60gにエチルセ
ルロース樹脂6gを溶解したものを加え、これをミキサ
ーによって混練しペースト化したものである。
As shown in FIG. 1B, the via hole 24
When the formation of is completed, next, as shown in FIG.
The via hole 24 is filled with a conductive paste 50 which is an electrical connection material. The conductive paste 50 has an average particle size of 5μ.
m, 300 g of tin particles having a specific surface area of 0.5 m 2 / g, and 300 g of silver particles having an average particle diameter of 1 μm and a specific surface area of 1.2 m 2 / g.
In addition, a solution prepared by dissolving 6 g of ethyl cellulose resin in 60 g of terpineol, which is an organic solvent, was added and kneaded with a mixer to form a paste.

【0044】ここで、エチルセルロース樹脂は、導電ペ
ースト50に保形性を付与するために添加されており、
保形性付与剤としてはアクリル樹脂等を採用することも
できる。
Here, the ethyl cellulose resin is added to the conductive paste 50 in order to impart shape retention,
An acrylic resin or the like can be used as the shape-retaining agent.

【0045】導電ペースト50は、メタルマスクを用い
たスクリーン印刷機により、片面導体パターンフィルム
21のビアホール24内に印刷充填された後、140〜
160℃で約30分間テルピネオールを乾燥させる。ビ
アホール24内への導電ペースト50の充填は、本例で
はスクリーン印刷機を用いたが、確実に充填ができるの
であれば、ディスペンサ等を用いる他の方法も可能であ
る。
The conductive paste 50 is printed and filled in the via holes 24 of the one-sided conductor pattern film 21 by a screen printing machine using a metal mask, and then 140 to
Dry the terpineol at 160 ° C. for about 30 minutes. The conductive paste 50 is filled in the via holes 24 by using a screen printing machine in this example, but other methods using a dispenser or the like are also possible as long as the filling can be surely performed.

【0046】ここで、ペースト化のために添加する有機
溶剤として、テルピネオール以外を用いることも可能で
あるが、沸点が150〜300℃の有機溶剤を用いるこ
とが好ましい。沸点が150℃未満の有機溶剤では、導
電ペースト50の粘度の経時変化が大きくなるという不
具合を発生し易い。一方、沸点が300℃を超える有機
溶剤では、乾燥に要する時間が長くなり好ましくない。
Although it is possible to use other than terpineol as the organic solvent added for forming the paste, it is preferable to use an organic solvent having a boiling point of 150 to 300 ° C. An organic solvent having a boiling point of lower than 150 ° C. is likely to cause a problem that the viscosity of the conductive paste 50 changes greatly with time. On the other hand, an organic solvent having a boiling point of higher than 300 ° C. is not preferable because it takes a long time to dry.

【0047】また、本例では、導電ペースト50を構成
する金属粒子として、平均粒径5μm、比表面積0.5
2/gの錫粒子と、平均粒径1μm、比表面積1.2
2/gの銀粒子とを用いたが、これらの金属粒子は、
平均粒径が0.5〜20μmであるとともに、比表面積
が0.1〜1.5m2/gであることが好ましい。
In this example, the metal particles forming the conductive paste 50 have an average particle size of 5 μm and a specific surface area of 0.5.
m 2 / g tin particles, average particle size 1 μm, specific surface area 1.2
m 2 / g of silver particles were used.
It is preferable that the average particle size is 0.5 to 20 μm and the specific surface area is 0.1 to 1.5 m 2 / g.

【0048】金属粒子の平均粒径が0.5μm未満であ
ったり、比表面積が1.5m2/gを超える場合には、
ビアホール充填に適した粘度にペースト化するために多
量の有機溶剤を必要とする。多量の有機溶剤を含んだ導
電ペーストは乾燥に時間を要し、乾燥が不充分である
と、層間接続時の加熱により多量のガスを発生するた
め、ビアホール24内にボイドが発生し易く、層間接続
信頼性を低下させる。
When the average particle size of the metal particles is less than 0.5 μm or the specific surface area exceeds 1.5 m 2 / g,
A large amount of organic solvent is required to form a paste having a viscosity suitable for filling via holes. A conductive paste containing a large amount of an organic solvent requires a long time to dry, and if the drying is insufficient, a large amount of gas is generated by heating during interlayer connection, so that voids are easily generated in the via hole 24, and Reduce connection reliability.

【0049】一方、金属粒子の平均粒径が20μmを超
えたり、比表面積が0.1m2/g未満の場合には、ビ
アホール24内に充填し難くなるとともに、金属粒子が
偏在し易くなり、加熱しても均一な合金からなる後述す
る導電性組成物51を形成し難く、層間接続信頼性を確
保し難いという問題があり好ましくない。
On the other hand, when the average particle diameter of the metal particles exceeds 20 μm or the specific surface area is less than 0.1 m 2 / g, it becomes difficult to fill the via holes 24 and the metal particles are apt to be unevenly distributed. There is a problem that it is difficult to form a conductive composition 51, which will be described later, made of a uniform alloy even when heated, and it is difficult to secure interlayer connection reliability, which is not preferable.

【0050】また、ビアホール24内へ導電ペースト5
0を充填する前に、導体パターン22のビアホール24
に面する部位を薄くエッチング処理したり還元処理して
もよい。これによると、後述するビア接続が一層良好に
行なわれる。
Further, the conductive paste 5 is placed in the via hole 24.
Before filling 0 with the via hole 24 of the conductor pattern 22.
The part facing the surface may be thinly etched or reduced. According to this, the via connection described later is more favorably performed.

【0051】一方、図1(d)において、31は、片面
導体パターンフィルム21と同様に、図1(a)〜
(c)に示した工程により、絶縁基材である樹脂フィル
ム23に導体パターン22の形成、ビアホール24の形
成および導電ペースト50の充填を行なった片面導体パ
ターンフィルムである。
On the other hand, in FIG. 1 (d), 31 is similar to the one-sided conductor pattern film 21 shown in FIGS.
A single-sided conductor pattern film in which the conductor pattern 22 is formed, the via holes 24 are formed, and the conductive paste 50 is filled in the resin film 23 which is the insulating base material by the process shown in (c).

【0052】なお、片面導体パターンフィルム31に
は、図1(b)に示すビアホール24の形成時に、後述
する内蔵される電気素子41の配置位置に対応した位置
に、レーザ加工により電気素子41の外形と略同一寸法
の貫通孔35を形成している。貫通孔35の寸法は、貫
通孔35内に電気素子41を挿設したときに、電気素子
41と樹脂フィルム23とのクリアランスが、電気素子
41の全周に渡って20μm以上でかつ樹脂フィルム2
3の厚さ(本例では75μm)以下となる寸法であるこ
とが好ましい。
When the via hole 24 shown in FIG. 1B is formed in the single-sided conductor pattern film 31, the electric element 41 is laser-processed at a position corresponding to the arrangement position of the electric element 41 to be incorporated, which will be described later. A through hole 35 having substantially the same size as the outer shape is formed. The size of the through hole 35 is such that when the electric element 41 is inserted into the through hole 35, the clearance between the electric element 41 and the resin film 23 is 20 μm or more over the entire circumference of the electric element 41 and the resin film 2
It is preferable that the thickness is 3 (75 μm in this example) or less.

【0053】貫通孔35の形成は、ビアホール24形成
時にレーザ加工により行なったが、ビアホール24の形
成時とは別に、パンチ加工やルータ加工等により形成す
ることも可能である。
The through hole 35 is formed by laser processing when forming the via hole 24, but it may be formed by punching or router processing separately from the formation of the via hole 24.

【0054】ここで、片面導体パターンフィルム31の
樹脂フィルム23として、本例では、片面導体パターン
フィルム21の樹脂フィルム23と同様に、ポリエーテ
ルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテル
イミド樹脂35〜65重量%とからなる厚さ75μmの
熱可塑性樹脂フィルムを用いている。
Here, as the resin film 23 of the one-sided conductor pattern film 31, in this example, in the same manner as the resin film 23 of the one-sided conductor pattern film 21, the polyether ether ketone resin 65 to 35 wt% and the polyether imide resin 35 are used. A thermoplastic resin film having a thickness of 75 wt.

【0055】片面導体パターンフィルム31への貫通孔
35の形成、片面導体パターンフィルム21、31のビ
アホール24内への導電ペースト50の充填および乾燥
が完了すると、図1(e)に示すように、片面導体パタ
ーンフィルム21、31を複数枚(本例では5枚)積層
する。
When the formation of the through holes 35 in the single-sided conductor pattern film 31, the filling of the conductive paste 50 in the via holes 24 of the single-sided conductor pattern films 21, 31 and the drying are completed, as shown in FIG. 1 (e). A plurality of single-sided conductor pattern films 21 and 31 (five in this example) are laminated.

【0056】このとき、片面導体パターンフィルム2
1、31は導体パターン22が設けられた側を上側とし
て積層する。すなわち、片面導体パターンフィルム2
1、31は、導体パターン22が形成された面と導体パ
ターン22が形成されていない面とが向かい合うように
積層する。
At this time, the single-sided conductor pattern film 2
1 and 31 are laminated with the side on which the conductor pattern 22 is provided as the upper side. That is, the single-sided conductor pattern film 2
The layers 1 and 31 are laminated so that the surface on which the conductor pattern 22 is formed faces the surface on which the conductor pattern 22 is not formed.

【0057】ここで、貫通孔35により形成された空間
部36の厚さが後述する電気素子41の厚さに対し略同
等以下となるように、同じ位置に貫通孔35を設けた片
面導体パターンフィルム31を複数枚(本例では2枚)
隣接して積層している。本例では、電気素子41の厚さ
が160μmであるため、空間部36の厚さがこれに対
し略同等以下となるように、厚さ方向の寸法が75μm
の貫通孔35が2つ隣接するように(すなわち空間部3
6の厚さが150μmとなるように)片面導体パターン
フィルム31を積層した。
Here, the single-sided conductor pattern in which the through hole 35 is provided at the same position so that the thickness of the space portion 36 formed by the through hole 35 is substantially equal to or less than the thickness of the electric element 41 described later. Multiple sheets of film 31 (two sheets in this example)
Adjacent and stacked. In this example, since the thickness of the electric element 41 is 160 μm, the dimension in the thickness direction is 75 μm so that the thickness of the space 36 is substantially equal to or less than this.
So that the two through holes 35 are adjacent to each other (that is, the space 3
The single-sided conductor pattern film 31 was laminated so that 6 had a thickness of 150 μm).

【0058】また、片面導体パターンフィルム21、3
1を積層するときに、貫通孔35により形成される空間
部36内には、例えば、抵抗体、コンデンサ、フィル
タ、IC等の電気素子41が挿設される。電気素子41
には、片面導体パターンフィルム21、31の積層方向
の面を含む両端部に電極42が形成されている。
Further, the single-sided conductor pattern films 21, 3
When laminating the 1's, an electric element 41 such as a resistor, a capacitor, a filter or an IC is inserted in the space 36 formed by the through hole 35. Electric element 41
The electrodes 42 are formed on both ends of the single-sided conductor pattern films 21, 31 including the surfaces in the stacking direction.

【0059】そして、電気素子41が挿設される空間部
36の上側に積層配置される片面導体パターンフィルム
21には、導体パターン22と電極42とを電気的に接
続できる位置に、導電ペースト50が充填されたビアホ
ール24が配置されている。
Then, in the single-sided conductor pattern film 21 laminated on the upper side of the space 36 in which the electric element 41 is inserted, the conductive paste 50 is provided at a position where the conductor pattern 22 and the electrode 42 can be electrically connected. A via hole 24 filled with is arranged.

【0060】そしてさらに、積層された複数層の片面導
体パターンフィルム21、31の下方側には、アルミニ
ウム製のヒートシンク46を積層する。ヒートシンク4
6は本実施形態における金属ベース部材である。ちなみ
に、ヒートシンク46と接する最下層の樹脂フィルム2
3にはビアホール24は形成していない。
Further, a heat sink 46 made of aluminum is laminated on the lower side of the laminated single-sided conductor pattern films 21, 31. Heat sink 4
6 is a metal base member in the present embodiment. By the way, the lowermost resin film 2 that contacts the heat sink 46
The via hole 24 is not formed in No. 3.

【0061】図1(e)に示すように片面導体パターン
フィルム21、31およびヒートシンク46を積層した
ら、これらの上下両面から真空加熱プレス機により加熱
しながら加圧する。本例では、250〜350℃の温度
に加熱し1〜10MPaの圧力で10〜20分間加圧し
た。
After laminating the single-sided conductor pattern films 21 and 31 and the heat sink 46 as shown in FIG. 1 (e), pressure is applied from above and below on both sides by heating with a vacuum heating press. In this example, it was heated to a temperature of 250 to 350 ° C. and pressurized at a pressure of 1 to 10 MPa for 10 to 20 minutes.

【0062】これにより、図1(f)に示すように、各
片面導体フィルムパターン21、31およびヒートシン
ク46相互が接着される。樹脂フィルム23は全て同じ
熱可塑性樹脂材料によって形成されているので、容易に
熱融着して一体化した絶縁基材39となる。
As a result, as shown in FIG. 1F, the single-sided conductor film patterns 21, 31 and the heat sink 46 are adhered to each other. Since the resin films 23 are all made of the same thermoplastic resin material, the insulating film 39 can be easily heat-sealed and integrated.

【0063】さらに、ビアホール24内の導電ペースト
50が焼結して一体化した導電性組成物51により隣接
する導体パターン22の層間接続が行なわれるととも
に、電気素子41の電極42と導体パターン22との接
続が行なわれ、電気素子41を内蔵した多層のプリント
基板100が得られる。ここで、導電性組成物51は電
気的な接続材料であり、ビアホール24と導電性組成物
51とで、本実施形態のビアを構成している。
Further, the conductive paste 50 in the via hole 24 is sintered and integrated with the conductive composition 51 to connect the adjacent conductor patterns 22 to each other, and the electrodes 42 of the electric element 41 and the conductor pattern 22 are connected to each other. Are connected, and a multilayer printed circuit board 100 having the electric element 41 built therein is obtained. Here, the conductive composition 51 is an electrical connection material, and the via hole 24 and the conductive composition 51 form the via of the present embodiment.

【0064】ここで、導体パターン22の層間接続のメ
カニズムを簡単に説明する。ビアホール24内に充填さ
れ乾燥された導電ペースト50は、錫粒子と銀粒子とが
混合された状態にある。そして、このペースト50が2
50〜350℃に加熱されると、錫粒子の融点は232
℃であり、銀粒子の融点は961℃であるため、錫粒子
は融解し、銀粒子の外周を覆うように付着する。
Here, the mechanism of interlayer connection of the conductor pattern 22 will be briefly described. The conductive paste 50 filled in the via holes 24 and dried is in a state in which tin particles and silver particles are mixed. And this paste 50 is 2
When heated to 50 to 350 ° C, the melting point of tin particles is 232.
Since the melting point of the silver particles is 961 ° C., the tin particles melt and adhere to cover the outer circumference of the silver particles.

【0065】この状態で加熱が継続すると、融解した錫
は、銀粒子の表面から拡散を始め、錫と銀との合金(融
点480℃)を形成する。このとき、導電ペースト50
には1〜10MPaの圧力が加えられているため、錫と
銀との合金形成に伴い、ビアホール24内には、焼結に
より一体化した合金からなる導電性組成物51が形成さ
れる。
When heating is continued in this state, the molten tin begins to diffuse from the surface of the silver particles and forms an alloy of tin and silver (melting point 480 ° C.). At this time, the conductive paste 50
Since a pressure of 1 to 10 MPa is applied to, the conductive composition 51 made of an alloy integrated by sintering is formed in the via hole 24 with the formation of the alloy of tin and silver.

【0066】ビアホール24内で導電性組成物51が形
成されているときには、この導電性組成物51は加圧さ
れているため、導体パターン22のビアホール24の底
部を構成している面に圧接される。これにより、導電性
組成物51中の錫成分と、導体パターン22を構成する
銅箔の銅成分とが相互に固相拡散し、導電性組成物51
と導体パターン22との界面に固相拡散層を形成して電
気的に接続する。
When the conductive composition 51 is formed in the via hole 24, since the conductive composition 51 is pressurized, it is pressed against the surface of the conductor pattern 22 constituting the bottom portion of the via hole 24. It Thereby, the tin component in the conductive composition 51 and the copper component of the copper foil forming the conductor pattern 22 are solid-phase diffused with each other, and the conductive composition 51 is formed.
A solid phase diffusion layer is formed at the interface between the conductor pattern 22 and the conductor pattern 22 to electrically connect them.

【0067】また、電気素子41の電極42は、銅やニ
ッケル等の金属部材の表面に錫めっき層等を形成したも
のであり、上述の導体パターン22の層間接続とほぼ同
様のメカニズムにより、ビアホール24内で形成された
導電性組成物51と、導電性組成物51と導体パターン
22との界面および導電性組成物51と電極42との界
面に形成された固相拡散層とを介して導体パターン22
と電気的に接続する。
Further, the electrode 42 of the electric element 41 is formed by forming a tin plating layer or the like on the surface of a metal member such as copper or nickel, and by the mechanism similar to the above-mentioned interlayer connection of the conductor pattern 22, a via hole is formed. A conductive composition 51 formed in the conductive layer 24 and a solid phase diffusion layer formed at the interface between the conductive composition 51 and the conductor pattern 22 and at the interface between the conductive composition 51 and the electrode 42; Pattern 22
To be electrically connected to.

【0068】真空加熱プレス機により加圧しつつ加熱さ
れているとき、樹脂フィルム23の弾性率は約5〜40
MPaに低下している。従って、貫通孔35の周囲の樹
脂フィルム23は貫通孔35内に押し出されるように変
形しようとする。また、貫通孔35のフィルム積層方向
に位置する樹脂フィルム23も貫通孔35内に押し出さ
れるように変形しようとする。すなわち、空間部36の
周囲の樹脂フィルム23は空間部36方向に押し出され
る。
The elastic modulus of the resin film 23 is about 5 to 40 when being heated while being pressurized by a vacuum heating press.
It has fallen to MPa. Therefore, the resin film 23 around the through hole 35 tends to be deformed so as to be pushed into the through hole 35. Further, the resin film 23 located in the film stacking direction of the through holes 35 also tries to be deformed so as to be pushed into the through holes 35. That is, the resin film 23 around the space 36 is extruded toward the space 36.

【0069】これにより、電気素子41は、樹脂フィル
ム23が変形しながら一体化した絶縁基材39により封
止される。なお、加熱プレス時の樹脂フィルム23の弾
性率は1〜1000MPaであることが好ましい。弾性
率が1000MPaより大きいと樹脂フィルム23間が
熱融着し難いとともに、樹脂フィルム23を変形させ難
い。また、弾性率が1MPaより小さいと加圧により樹
脂フィルムが流れ易くプリント基板100を形成し難
い。
As a result, the electric element 41 is sealed by the insulating base material 39 which is integrated while the resin film 23 is deformed. The elastic modulus of the resin film 23 during hot pressing is preferably 1 to 1000 MPa. When the elastic modulus is greater than 1000 MPa, it is difficult for the resin films 23 to be heat-sealed together and the resin film 23 is not easily deformed. Further, when the elastic modulus is less than 1 MPa, the resin film easily flows under pressure, and it is difficult to form the printed board 100.

【0070】また、前述したように、樹脂フィルム23
に形成した貫通孔35は、電気素子41と樹脂フィルム
23とのクリアランスが、電気素子41の全周に渡って
20μm以上でかつ樹脂フィルム23の厚さ(本例では
75μm)以下となる寸法とした。これは、クリアラン
スが20μm未満では貫通孔35内へ電気素子41を挿
設し難く、クリアランスが樹脂フィルム23の厚さより
大きいと加熱プレスにより樹脂フィルム23が変形して
も電気素子41を完全に封止することが難しいためであ
る。
Further, as described above, the resin film 23
The size of the through hole 35 formed in the above is such that the clearance between the electric element 41 and the resin film 23 is 20 μm or more over the entire circumference of the electric element 41 and the thickness of the resin film 23 (75 μm in this example) or less. did. This is because it is difficult to insert the electric element 41 into the through hole 35 when the clearance is less than 20 μm, and when the clearance is larger than the thickness of the resin film 23, the electric element 41 is completely sealed even if the resin film 23 is deformed by heating press. This is because it is difficult to stop.

【0071】また、前述したように、片面導体パターン
フィルム21、31積層時に、空間部36の厚さ(すな
わち、貫通孔35を形成した樹脂フィルム23の厚さの
総和)が電気素子41の厚さに対し略同等以下となるよ
うに、貫通孔35を有する片面導体パターンフィルム3
1の積層枚数を決定した。
Further, as described above, when the single-sided conductor pattern films 21 and 31 are laminated, the thickness of the space portion 36 (that is, the total thickness of the resin film 23 in which the through holes 35 are formed) is the thickness of the electric element 41. The single-sided conductor pattern film 3 having the through holes 35 so as to be substantially equal to or less than
The number of laminated sheets of 1 was determined.

【0072】これは、空間部36の厚さが電気素子41
の厚さより大きい場合、加熱プレスにより電気素子41
を封止内蔵したプリント基板100の表面において、電
気素子41を内蔵した部位の上下面は図2(a)に示す
ように凹形状となる。この状態のプリント基板100
が、例えば高温環境下等に置かれると、電気素子41の
上下面方向(樹脂フィルム23の積層方向)に位置する
絶縁基材39は平坦状に戻ろうとする。
This is because the thickness of the space 36 is equal to that of the electric element 41.
If the thickness of the electric element 41 is greater than
2A, the upper and lower surfaces of the portion of the printed circuit board 100 in which the electric elements 41 are embedded have a concave shape. Printed circuit board 100 in this state
However, when placed in, for example, a high temperature environment, the insulating base material 39 located in the upper and lower surface directions of the electric element 41 (the laminating direction of the resin films 23) tends to return to a flat shape.

【0073】これに伴い、電気素子41上下方向の絶縁
基材39との界面41aには剥離方向の応力が発生し、
電気素子41の絶縁封止信頼性を低下させるという不都
合が発生し易い。
As a result, stress in the peeling direction is generated at the interface 41a with the insulating base material 39 in the vertical direction of the electric element 41,
The inconvenience of lowering the reliability of insulation and sealing of the electric element 41 is likely to occur.

【0074】空間部36の厚さが電気素子41の厚さに
対し同等以下であると、電気素子41を内蔵した部位の
上下面は平坦状もしくは図2(b)に示すように凸形状
となる。凸形状となった場合に、プリント基板100が
例えば高温環境下等に置かれ、絶縁基材39が平坦状に
戻ろうとすると、電気素子41上下方向の絶縁基材39
との界面41aには、押圧が発生し剥離方向の応力は発
生し難い。
When the thickness of the space portion 36 is equal to or less than the thickness of the electric element 41, the upper and lower surfaces of the portion containing the electric element 41 are flat or convex as shown in FIG. 2 (b). Become. When the printed circuit board 100 is placed in, for example, a high temperature environment and the insulating base material 39 tries to return to a flat shape when it has a convex shape, the insulating base material 39 in the vertical direction of the electric element 41 is formed.
At the interface 41a with and, pressure is generated and stress in the peeling direction is unlikely to occur.

【0075】なお、空間部36の厚さは電気素子41の
厚さ以下であることが好ましいが、剥離方向の応力が問
題にならない程度に小さければ、空間部36の厚さが電
気素子41の厚さより若干大きくてもよい。また、空間
部36の厚さが電気素子41の厚さより極めて小さい
と、プリント基板100の表面において凸形状部位が大
きくなり、この部位が電気素子の表面実装部位となった
ときに電気素子を接続し難い等の不都合が発生する場合
がある。
The thickness of the space 36 is preferably equal to or less than the thickness of the electric element 41. However, if the stress in the peeling direction is small enough to cause no problem, the thickness of the space 36 is smaller than that of the electric element 41. It may be slightly larger than the thickness. If the thickness of the space 36 is much smaller than the thickness of the electric element 41, the convex portion on the surface of the printed circuit board 100 becomes large, and the electric element is connected when this portion becomes the surface mounting portion of the electric element. Inconveniences such as difficulty in performing may occur.

【0076】なお、上述の製造工程において、図1
(d)に示す貫通孔35を形成する工程が本実施形態に
おける孔形成工程であり、図1(e)に示す工程が本実
施形態における積層工程、配置工程およびベース部材形
成工程である。また、図1(e)に示す積層体を加熱プ
レスして図1(f)に示すプリント基板100を形成す
る工程が本実施形態における接着工程である。
In the manufacturing process described above,
The step of forming the through hole 35 shown in (d) is the hole forming step in the present embodiment, and the step shown in FIG. 1 (e) is the laminating step, the arranging step and the base member forming step in the present embodiment. The step of forming the printed board 100 shown in FIG. 1 (f) by hot pressing the laminated body shown in FIG. 1 (e) is the bonding step in this embodiment.

【0077】上述の製造方法およびその製造方法により
得られる構成によれば、内蔵された電気素子41が、各
樹脂フィルム23相互が確実に接着された絶縁基材39
に対し位置決めされ、導体パターン22と確実に電気的
接続されるとともに、絶縁基材39中に確実に封止され
たプリント基板100が得られる。
According to the above-described manufacturing method and the structure obtained by the manufacturing method, the built-in electric element 41 has the insulating base material 39 in which the resin films 23 are securely bonded to each other.
A printed circuit board 100 that is positioned relative to the conductive pattern 22 and is surely electrically connected to the conductor pattern 22 and that is surely sealed in the insulating base material 39 is obtained.

【0078】また、プリント基板100は下面にヒート
シンク46を備える基板であるが、図1(f)に示すよ
うに、プリント基板100の上面に電気素子61を表面
実装するとともに、電気素子41を内蔵することによ
り、良好な放熱性を有しつつ高密度実装に対応すること
ができる。
The printed circuit board 100 is a substrate having a heat sink 46 on the lower surface. As shown in FIG. 1F, the electric element 61 is surface-mounted on the upper surface of the printed circuit board 100 and the electric element 41 is built in. By doing so, it is possible to cope with high-density mounting while having good heat dissipation.

【0079】また、片面導体パターンフィルム21、3
1およびヒートシンク46の積層一体化、導体パターン
22層間の層間接続および電気素子41の導体パターン
22への接続を、加圧しつつ加熱することにより、同時
に行なうことができる。従って、プリント基板100の
加工工数が低減でき、製造コストを低減することができ
る。
Further, the single-sided conductor pattern films 21, 3
1 and the heat sink 46 are integrally laminated, the interlayer connection between the conductor patterns 22 and the connection between the electric element 41 and the conductor pattern 22 can be simultaneously performed by heating while applying pressure. Therefore, the number of processing steps of the printed circuit board 100 can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【0080】(第2の実施形態)次に、第2の実施形態
について図に基づいて説明する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described with reference to the drawings.

【0081】第2の実施形態は、第1の実施形態に対
し、電気素子41と導電パターン22とを接続する工程
が異なる。なお、第1の実施形態と同様の部分について
は、同一の符号をつけ、その説明を省略する。
The second embodiment differs from the first embodiment in the step of connecting the electric element 41 and the conductive pattern 22. The same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0082】図1(a)〜(c)に示す第1の実施形態
と同様に、導体パターン22形成、ビアホール24形成
および導電ペースト50充填が完了すると、図3に示す
ように、後述する積層工程において空間部36の上側に
積層配置される片面導体パターンフィルム21の導体パ
ターン22が形成されていない面に電気素子41を配置
した後、両面から加熱しながら加圧する。
Similar to the first embodiment shown in FIGS. 1A to 1C, when the formation of the conductor pattern 22, the formation of the via holes 24, and the filling of the conductive paste 50 are completed, as shown in FIG. After the electric element 41 is arranged on the surface of the single-sided conductor pattern film 21 laminated on the upper side of the space portion 36 in the process, on which the conductor pattern 22 is not formed, pressure is applied from both sides while heating.

【0083】この片面導体パターンフィルム21には、
電気素子41の電極42の位置に対応して、導電ペース
ト50が充填された有底ビアホールであるビアホール2
4が形成されている。そして、上述の加熱プレスによっ
てビアホール24内の導電ペースト50が焼結して一体
化した導電性組成物51となり、図3に示すように、電
気素子41の電極42と導体パターン22とが電気的に
接続される。
The single-sided conductor pattern film 21 includes
Via hole 2 which is a bottomed via hole filled with conductive paste 50 corresponding to the position of electrode 42 of electric element 41.
4 are formed. Then, the conductive paste 50 in the via hole 24 is sintered by the above-mentioned heat pressing to form an integrated conductive composition 51, and as shown in FIG. 3, the electrode 42 of the electric element 41 and the conductor pattern 22 are electrically connected. Connected to.

【0084】一方、図1(d)に示す第1の実施形態と
同様に、貫通孔35を備える片面導体パターンフィルム
31を形成する。片面導体パターンフィルム31への貫
通孔35の形成、片面導体パターンフィルム21、31
のビアホール24内への導電ペースト50の充填および
乾燥、片面導体パターンフィルム21への電気素子41
の接続が完了すると、本第2の実施形態では、図4に示
すように、片面導体パターンフィルム21、31を複数
枚(本例では5枚)ヒートシンク46とともに積層す
る。
On the other hand, similar to the first embodiment shown in FIG. 1D, the single-sided conductor pattern film 31 having the through holes 35 is formed. Formation of through-hole 35 in single-sided conductor pattern film 31, single-sided conductor pattern films 21, 31
Filling and drying the conductive paste 50 in the via holes 24 of the electric element 41 on the single-sided conductor pattern film 21.
When the connection is completed, in the second embodiment, as shown in FIG. 4, the single-sided conductor pattern films 21 and 31 are laminated together with a plurality of (five in this example) heat sinks 46.

【0085】図4に示す工程が本実施形態における積層
工程、配置工程およびベース部材形成工程である。これ
らの工程において本実施形態が第1の実施形態と異なる
点は、電気素子41の電極42が片面導体パターンフィ
ルム21の導体パターン22に既に電気的に接続してい
る点と、電気素子41が接続した片面導体パターンフィ
ルム21のビアホール24内の導電ペーストが導電性組
成物51になっている点である。
The steps shown in FIG. 4 are the stacking step, the arranging step and the base member forming step in this embodiment. In these steps, the present embodiment is different from the first embodiment in that the electrode 42 of the electric element 41 is already electrically connected to the conductor pattern 22 of the single-sided conductor pattern film 21. This is that the conductive paste in the via holes 24 of the connected single-sided conductor pattern film 21 is the conductive composition 51.

【0086】なお、ここで、片面導体パターンフィルム
31に形成された貫通孔35や、貫通孔35により形成
された空間部36の、電気素子41に対する寸法関係
は、第1の実施形態と同様である。
The dimensional relationship of the through-hole 35 formed in the single-sided conductor pattern film 31 and the space 36 formed by the through-hole 35 with respect to the electric element 41 is the same as in the first embodiment. is there.

【0087】図4に示すように、片面導体パターンフィ
ルム21、31およびヒートシンク46を積層したら、
第1の実施形態と同様に加熱しながら加圧し、図1
(f)に示すような電気素子41を内蔵した多層のプリ
ント基板100を得る。なお、加熱プレス前に、片面導
体パターンフィルム21のビアホール24内に既に導電
性組成物51が形成されていても、加熱プレス時に、導
電性組成物51中の錫成分と、導体パターン22を構成
する銅箔の銅成分とが相互に固相拡散し、導電性組成物
51と導体パターン22との界面に固相拡散層を形成し
て電気的に接続する。
As shown in FIG. 4, when the single-sided conductor pattern films 21, 31 and the heat sink 46 are laminated,
As in the first embodiment, pressure is applied while heating, and as shown in FIG.
A multilayer printed circuit board 100 including the electric element 41 as shown in (f) is obtained. Even if the conductive composition 51 is already formed in the via hole 24 of the single-sided conductor pattern film 21 before hot pressing, the tin component in the conductive composition 51 and the conductive pattern 22 are formed at the time of hot pressing. The copper components of the copper foil to be solid-phase diffused with each other, forming a solid-phase diffusion layer at the interface between the conductive composition 51 and the conductor pattern 22 to electrically connect.

【0088】上述の製造方法およびその製造方法により
得られる構成によれば、第1の実施形態と同様に、内蔵
された電気素子41が、各樹脂フィルム23相互が確実
に接着された絶縁基材39に対し位置決めされ、導体パ
ターン22と確実に電気的接続されるとともに、絶縁基
材39中に確実に封止されたプリント基板100が得ら
れる。
According to the above-described manufacturing method and the structure obtained by the manufacturing method, as in the first embodiment, the built-in electric element 41 has the insulating base material in which the resin films 23 are securely bonded to each other. It is possible to obtain the printed circuit board 100 that is positioned with respect to 39, is surely electrically connected to the conductor pattern 22, and is surely sealed in the insulating base material 39.

【0089】また、プリント基板100は下面にヒート
シンク46を備える基板であるが、図1(f)に示すよ
うに、プリント基板100の上面に電気素子61を表面
実装するとともに、電気素子41を内蔵することによ
り、良好な放熱性を有しつつ高密度実装に対応すること
ができる。
The printed board 100 is a board having a heat sink 46 on the lower surface. As shown in FIG. 1F, the electric element 61 is surface-mounted on the upper surface of the printed board 100 and the electric element 41 is built in. By doing so, it is possible to cope with high-density mounting while having good heat dissipation.

【0090】また、片面導体パターンフィルム21、3
1およびヒートシンク46の積層一体化および導体パタ
ーン22層間の層間接続を、加圧しつつ加熱することに
より、同時に行なうことができる。
Further, the single-sided conductor pattern films 21, 3
1 and the heat sink 46 can be integrated at the same time and the interlayer connection between the conductor patterns 22 can be simultaneously performed by heating while applying pressure.

【0091】また、本実施形態では、各片面導体パター
ンフィルム21等を積層する前に、片面導体パターンフ
ィルム21の導体パターン22に電気素子41を接続し
ている。したがって、電気素子41を内蔵する前に、電
気素子41が接続した片面導体パターンフィルム21の
導体パターン22を利用して電気素子41の検査を容易
に行なうことができる。
Further, in this embodiment, the electric element 41 is connected to the conductor pattern 22 of the single-sided conductor pattern film 21 before laminating the respective one-sided conductor pattern films 21 and the like. Therefore, before incorporating the electric element 41, the electric element 41 can be easily inspected by utilizing the conductor pattern 22 of the single-sided conductor pattern film 21 to which the electric element 41 is connected.

【0092】これは、電気素子41を単体で検査する場
合には、電気素子41の電極42と導通をとる必要があ
る。したがって、特に電気素子41が極めて小型である
ときには、導体パターン22が利用できる効果は大き
い。また、電気素子41を内蔵する前に検査が行なえる
ので、電気素子41に不良があったとしても、プリント
基板100が不良品となることを防止することが可能で
ある。
This is because when the electric element 41 is inspected by itself, it is necessary to establish electrical connection with the electrode 42 of the electric element 41. Therefore, especially when the electric element 41 is extremely small, the effect of utilizing the conductor pattern 22 is great. Further, since the inspection can be performed before the electric element 41 is built in, it is possible to prevent the printed circuit board 100 from being a defective product even if the electric element 41 has a defect.

【0093】(他の実施形態)上記各実施形態におい
て、プリント基板製造時に、図1(e)もしくは図4に
示すように片面導体パターンフィルム21、31を積層
したが、この積層パターンに限定されるものではない。
両面導体パターンフィルム、片面導体パターンフィルム
および導体パターンを形成していない樹脂フィルムを適
宜組み合わせ積層するものであってもよい。ただし、上
記一実施形態のように片面導体パターンフィルムのみの
積層によれば、製造工程をシンプルにすることが可能で
ある。
(Other Embodiments) In each of the above embodiments, the single-sided conductor pattern films 21 and 31 are laminated as shown in FIG. 1 (e) or FIG. 4 at the time of manufacturing a printed circuit board, but the laminated pattern is not limited thereto. Not something.
A double-sided conductor pattern film, a single-sided conductor pattern film, and a resin film on which no conductor pattern is formed may be appropriately combined and laminated. However, by laminating only the single-sided conductor pattern film as in the above embodiment, the manufacturing process can be simplified.

【0094】片面導体パターンフィルム21、31およ
び導体パターンを形成していない樹脂フィルム23を組
み合わせ積層するものとしては、例えば、図5〜図9に
示す積層パターンがある。このなかで、特に図7〜図9
に示すように、電気素子41を挿設する貫通孔35を導
体パターンを形成していない樹脂フィルム23のみに設
ける場合には、基板内における回路設計の自由度が向上
するという利点がある。
As a combination of the single-sided conductor pattern films 21 and 31 and the resin film 23 on which the conductor pattern is not formed and laminated, there are, for example, laminated patterns shown in FIGS. Among these, especially in FIGS.
As shown in FIG. 6, when the through hole 35 for inserting the electric element 41 is provided only in the resin film 23 in which the conductor pattern is not formed, there is an advantage that the degree of freedom in circuit design in the substrate is improved.

【0095】また、上記第2の実施形態において、図3
に示すように、片面導体パターンフィルム21の導体パ
ターン22と電気素子41の電極42とを、ビアホール
24内に充填した導電ペースト50が焼結した導電性組
成物51により接続したが、ビアホール24内の導電性
組成物51を介さずに接続するものであってもよい。
In addition, in the second embodiment, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the conductor pattern 22 of the single-sided conductor pattern film 21 and the electrode 42 of the electric element 41 were connected by the conductive composition 51 obtained by sintering the conductive paste 50 filled in the via hole 24. The connection may be made without the conductive composition 51.

【0096】例えば、図10に示すように、電気素子4
1aのフィルム積層方向に電極42aが形成され、この
電極42aの表面に金バンプが形成されている場合に
は、導体パターン22のランド部22aの表面にニッケ
ル金めっき層22bを形成した後に、電極42aとラン
ド部22aとを圧着加工や超音波加工等により接合する
ものであってもよい。
For example, as shown in FIG.
When the electrode 42a is formed in the film laminating direction of 1a and the gold bump is formed on the surface of the electrode 42a, after the nickel gold plating layer 22b is formed on the surface of the land portion 22a of the conductor pattern 22, the electrode 42a is formed. 42a and the land portion 22a may be joined by pressure bonding processing, ultrasonic processing, or the like.

【0097】また、例えば、図11に示すように、電気
素子41aのフィルム積層方向にアルミニウムからなる
電極42aが形成されている場合には、導体パターン2
2のランド部22aの表面に形成したニッケル金めっき
層22b上に金バンプ22cを形成した後に、電極42
aとランド部22aとを圧着加工や超音波加工等により
接合するものであってもよい。
Further, for example, as shown in FIG. 11, when the electrode 42a made of aluminum is formed in the film laminating direction of the electric element 41a, the conductor pattern 2 is formed.
After the gold bump 22c is formed on the nickel gold plating layer 22b formed on the surface of the second land portion 22a, the electrode 42
The a and the land portion 22a may be joined by pressure bonding processing, ultrasonic processing, or the like.

【0098】また、例えば、図12に示すように、電気
素子41aのフィルム積層方向にアルミニウムからなる
電極42aが形成されている場合には、導体パターン2
2のランド部22aの表面にニッケル金めっき層22b
を形成した後に、電極42aとランド部22aとをワイ
ヤボンド加工し接続するものであってもよい。
Further, for example, as shown in FIG. 12, when the electrode 42a made of aluminum is formed in the film laminating direction of the electric element 41a, the conductor pattern 2 is formed.
No. 2 land portion 22a has a nickel gold plating layer 22b on the surface.
After forming, the electrode 42a and the land portion 22a may be wire-bonded and connected.

【0099】なお、上記各例では、電気素子の電極は、
電気素子のフィルム積層方向に形成されていたが、導体
パターンとの電気的接続が可能であれば、電極がフィル
ム積層方向以外の方向に形成されているものであっても
よい。
In each of the above examples, the electrode of the electric element is
Although it is formed in the film laminating direction of the electric element, the electrode may be formed in a direction other than the film laminating direction as long as it can be electrically connected to the conductor pattern.

【0100】また、上記各実施形態において、樹脂フィ
ルム23としてポリエーテルエーテルケトン樹脂65〜
35重量%とポリエーテルイミド樹脂35〜65重量%
とからなる樹脂フィルムを用いたが、これに限らず、ポ
リエーテルエーテルケトン樹脂とポリエーテルイミド樹
脂に非導電性フィラを充填したフィルムであってもよい
し、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)もしくは
ポリエーテルイミド(PEI)を単独で使用することも
可能である。
In each of the above embodiments, the resin film 23 is made of polyetheretherketone resin 65 to 65.
35 wt% and polyetherimide resin 35-65 wt%
Although a resin film made of is used, the film is not limited to this, and may be a film in which a non-conductive filler is filled in a polyetheretherketone resin and a polyetherimide resin, or a polyetheretherketone (PEEK) or a polyetheretherketone. It is also possible to use ether imide (PEI) alone.

【0101】さらに、ポリフェニレンサルファイド(P
PS)、熱可塑性ポリイミド、または所謂液晶ポリマー
等の熱可塑性樹脂を用いてもよい。加熱プレス時の加熱
温度において弾性率が1〜1000MPaであり、後工
程である半田付け工程等で必要な耐熱性を有する樹脂フ
ィルムであれば好適に用いることができる。
Furthermore, polyphenylene sulfide (P
A thermoplastic resin such as PS), a thermoplastic polyimide, or a so-called liquid crystal polymer may be used. A resin film having an elastic modulus of 1 to 1000 MPa at the heating temperature at the time of hot pressing and having heat resistance necessary for a soldering step which is a post-step can be preferably used.

【0102】また、上記各実施形態において、貫通孔3
5内に挿設する電気素子41の表面には何ら処理を行な
っていなかったが、樹脂フィルム23との密着力を向上
させるための表面処理や接着剤のコーティング等を行な
うものであってもよい。
In each of the above embodiments, the through hole 3
Although the surface of the electric element 41 inserted in the member 5 is not subjected to any treatment, it may be subjected to a surface treatment for improving the adhesion with the resin film 23, an adhesive coating, or the like. .

【0103】また、上記各実施形態において、ヒートシ
ンク46をプリント基板100の片面の全面に設けるも
のであったが、片面の一部に設けるものであってもよい
し、両面に設けるものであってもよい。また、放熱性向
上等の要求がなければ、ヒートシンク46を設けないプ
リント基板であってもよいことはもちろんである。
Further, in each of the above embodiments, the heat sink 46 is provided on the entire surface of one side of the printed circuit board 100, but it may be provided on a part of one side or on both sides. Good. Further, it is needless to say that a printed circuit board without the heat sink 46 may be used if there is no demand for improvement of heat dissipation.

【0104】なお、ヒートシンク46を設ける場合に
は、ヒートシンク46の絶縁基材39への接着面に、接
着性や熱伝導性の向上を目的として、例えばポリエーテ
ルイミドシート、熱伝導性フィラーを含有した熱硬化性
樹脂シートもしくは熱伝導性フィラーを含有した熱可塑
性樹脂シート等の所謂ボンディングシートを形成したも
のであってもよい。
When the heat sink 46 is provided, the adhesive surface of the heat sink 46 to the insulating substrate 39 contains, for example, a polyetherimide sheet or a heat conductive filler for the purpose of improving the adhesiveness and the thermal conductivity. A so-called bonding sheet such as a thermosetting resin sheet or a thermoplastic resin sheet containing a thermally conductive filler may be formed.

【0105】また、上記各実施形態において、プリント
基板100は5層基板であったが、層数が限定されるも
のではないことは言うまでもない。
In each of the above embodiments, the printed circuit board 100 is a five-layer board, but it goes without saying that the number of layers is not limited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における第1の実施形態のプリント基板
の概略の製造工程を示す工程別断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view for each process showing a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.

【図2】プリント基板の表面が凹凸形状となった場合の
状態を示す説明図であり、(a)は本実施形態によらず
凹形状となった状態、(b)は本実施形態により凸形状
となった状態を示す。
2A and 2B are explanatory views showing a state where the surface of the printed circuit board has an uneven shape, where FIG. 2A is a concave shape regardless of the present embodiment, and FIG. 2B is a convex shape according to the present embodiment. The shape is shown.

【図3】本発明における第2の実施形態のプリント基板
の概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process for a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明における第2の実施形態のプリント基板
の概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明における他の実施形態のプリント基板の
概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図6】本発明における他の実施形態のプリント基板の
概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図7】本発明における他の実施形態のプリント基板の
概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図8】本発明における他の実施形態のプリント基板の
概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図9】本発明における他の実施形態のプリント基板の
概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図10】本発明における他の実施形態のプリント基板
の概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図11】本発明における他の実施形態のプリント基板
の概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図12】本発明における他の実施形態のプリント基板
の概略の製造工程の一部を示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a part of a schematic manufacturing process of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21、31 片面導体パターンフィルム 22 導体パターン 22a ランド部 23 樹脂フィルム 24 ビアホール(有底ビアホール、ビアの一部) 35 貫通孔 36 空間部 39 絶縁基材 41 電気素子 41a 界面 42 電極 46 ヒートシンク(金属ベース部材) 50 導電ペースト(接続材料) 51 導電性組成物(接続材料、ビアの一部) 100 プリント基板 21, 31 Single-sided conductor pattern film 22 Conductor pattern 22a Land part 23 Resin film 24 Via holes (bottomed via holes, part of vias) 35 through hole 36 Space Department 39 Insulating material 41 Electric element 41a Interface 42 electrodes 46 Heat sink (metal base member) 50 Conductive paste (connection material) 51 Conductive composition (connecting material, part of via) 100 printed circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 敏広 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 竹内 聡 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 5E346 AA05 AA12 AA15 AA22 AA32 AA43 AA51 BB16 CC02 CC08 DD02 DD12 DD32 EE09 EE13 EE15 FF01 FF18 FF45 GG15 GG19 GG22 GG28 HH17 HH31   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshihiro Miyake             1-1, Showa-cho, Kariya city, Aichi stock market             Inside the company DENSO (72) Inventor Satoshi Takeuchi             1-1, Showa-cho, Kariya city, Aichi stock market             Inside the company DENSO F term (reference) 5E346 AA05 AA12 AA15 AA22 AA32                       AA43 AA51 BB16 CC02 CC08                       DD02 DD12 DD32 EE09 EE13                       EE15 FF01 FF18 FF45 GG15                       GG19 GG22 GG28 HH17 HH31

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基材(39)となる樹脂フィルム
(23)を積層する積層工程と、 前記樹脂フィルム(23)の間に電気素子(41)を配
置する配置工程と、 前記積層工程および前記配置工程後に、積層した前記樹
脂フィルム(23)の積層体を両面から加圧しつつ加熱
することにより、各樹脂フィルム(23)相互の接着を
行なう接着工程とを備え、 前記電気素子(41)を内蔵するプリント基板の製造方
法において、 前記積層工程を行なう前に、前記電気素子(41)を配
置する位置に対応して、前記樹脂フィルム(23)に前
記電気素子(41)の外形と略同一寸法の貫通孔(3
5)を形成する孔形成工程を有し、 前記配置工程では、前記電気素子(41)を前記貫通孔
(35)内に挿設することを特徴とするプリント基板の
製造方法。
1. A laminating step of laminating a resin film (23) to be an insulating base material (39), an arranging step of arranging an electric element (41) between the resin films (23), the laminating step and After the arranging step, a bonding step of bonding the resin films (23) to each other by heating the laminated body of the resin films (23) while applying pressure from both sides, the electric element (41) In the method for manufacturing a printed circuit board having a built-in board, before the stacking step, the outer shape of the electric element (41) is substantially formed on the resin film (23) at a position where the electric element (41) is arranged. Through holes of the same size (3
5) The hole forming step of forming 5), wherein in the arranging step, the electric element (41) is inserted into the through hole (35).
【請求項2】 前記電気素子(41)の厚さが前記樹脂
フィルム(23)の厚さより厚い場合には、前記孔形成
工程において、前記貫通孔(35)内に挿設される前記
電気素子(41)の厚さに応じて、複数の前記樹脂フィ
ルム(23)の同じ位置に前記貫通孔(35)を形成す
ることを特徴とする請求項1に記載のプリント基板の製
造方法。
2. The electric element inserted into the through hole (35) in the hole forming step when the electric element (41) is thicker than the resin film (23). The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the through holes (35) are formed at the same positions of the plurality of resin films (23) according to the thickness of the (41).
【請求項3】 前記同じ位置に貫通孔(35)を形成す
る前記樹脂フィルム(23)の厚さの総和は、前記貫通
孔(35)内に挿設される前記電気素子(41)の厚さ
に対し略同等以下であること特徴とする請求項2に記載
のプリント基板の製造方法。
3. The total thickness of the resin film (23) forming the through hole (35) at the same position is the thickness of the electric element (41) inserted in the through hole (35). 3. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 2, which is substantially equal to or less than the above.
【請求項4】 前記電気素子(41)には、前記樹脂フ
ィルム(23)の積層方向に電極(42)が形成され、 前記樹脂フィルム(23)には、前記積層工程を行なう
前に、前記貫通孔(35)に挿設される前記電気素子
(41)の前記電極(42)の位置に対応して、 接続材料(50)が充填されるとともに導体パターン
(22)を底部とする有底ビアホール(24)が形成さ
れ、 前記接着工程において加圧しつつ加熱することにより、
前記接続材料(50)を介して、前記電気素子(41)
の前記電極(42)と前記導体パターン(22)とを電
気的に接続することを特徴とする請求項1ないし請求項
3のいずれか1つに記載のプリント基板の製造方法。
4. An electrode (42) is formed on the electric element (41) in a laminating direction of the resin film (23), and the electric film (23) is formed on the resin film (23) before the laminating step. Corresponding to the position of the electrode (42) of the electric element (41) inserted into the through hole (35), the connecting material (50) is filled and the conductor pattern (22) is the bottomed bottom. A via hole (24) is formed, and by heating while applying pressure in the bonding step,
The electric element (41) through the connection material (50)
The method for producing a printed circuit board according to claim 1, wherein the electrode (42) and the conductor pattern (22) are electrically connected.
【請求項5】 前記樹脂フィルム(23)には、前記積
層工程を行なう前に、導体パターン(22)が形成さ
れ、 前記配置工程を行う前に、前記導体パターン(22)と
前記電気素子(41)の電極(42)とを電気的に接続
することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれ
か1つに記載のプリント基板の製造方法。
5. The conductor pattern (22) is formed on the resin film (23) before performing the laminating step, and the conductor pattern (22) and the electric element (before the arranging step are performed. The method for producing a printed circuit board according to any one of claims 1 to 3, wherein the electrode (42) of 41) is electrically connected.
【請求項6】 前記電気素子(41)には、前記樹脂フ
ィルム(23)の積層方向に前記電極(42)が形成さ
れ、 前記樹脂フィルム(23)には、前記積層工程を行なう
前に、前記貫通孔(35)に挿設される前記電気素子
(41)の前記電極(42)の位置に対応して、接続材
料(50)が充填されるとともに前記導体パターン(2
2)を底部とする有底ビアホール(24)が形成され、 前記配置工程を行う前に、前記接続材料(50)を介し
て、前記電気素子(41)の前記電極(42)と前記導
体パターン(22)とを電気的に接続することを特徴と
する請求項5に記載のプリント基板の製造方法。
6. The electric element (41) is provided with the electrode (42) in the laminating direction of the resin film (23), and the resin film (23) is provided with the electrode (42) before the laminating step. Corresponding to the position of the electrode (42) of the electric element (41) inserted into the through hole (35), the connecting material (50) is filled and the conductor pattern (2) is filled.
2) a bottomed via hole (24) is formed as a bottom portion, and the electrode (42) of the electric element (41) and the conductor pattern are connected via the connection material (50) before performing the arrangement step. 6. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 5, wherein (22) is electrically connected.
【請求項7】 前記電気素子(41a)には、前記樹脂
フィルム(23)の積層方向に前記電極(42a)が形
成され、 前記樹脂フィルム(23)には、前記積層工程を行なう
前に、前記貫通孔(35)に挿設される前記電気素子
(41a)の前記電極(42a)の位置に対応して、前
記導体パターン(22)がランド部(22a)として形
成され、 前記配置工程を行う前に、前記電気素子(41a)の前
記電極(42a)と前記導体パターン(22)の前記ラ
ンド部(22a)とを電気的に接続することを特徴とす
る請求項5に記載のプリント基板の製造方法。
7. The electric element (41a) is provided with the electrode (42a) in the laminating direction of the resin film (23), and the resin film (23) is provided with the electrode (42a) before the laminating step. The conductor pattern (22) is formed as a land portion (22a) corresponding to the position of the electrode (42a) of the electric element (41a) inserted into the through hole (35). The printed circuit board according to claim 5, wherein the electrode (42a) of the electric element (41a) and the land portion (22a) of the conductor pattern (22) are electrically connected to each other before performing. Manufacturing method.
【請求項8】 前記電気素子(41a)には、前記樹脂
フィルム(23)の積層方向に前記電極(42a)が形
成され、 前記樹脂フィルム(23)には、前記積層工程を行なう
前に、前記導体パターン(22)がランド部(22a)
として形成され、 前記配置工程を行う前に、前記電気素子(41a)の前
記電極(42a)と前記導体パターン(22)の前記ラ
ンド部(22a)とを電気的にワイヤボンド接続するこ
とを特徴とする請求項5に記載のプリント基板の製造方
法。
8. The electrode (42a) is formed on the electric element (41a) in the laminating direction of the resin film (23), and the resin film (23) is formed on the resin film (23) before the laminating step. The conductor pattern (22) is a land portion (22a)
Characterized in that the electrode (42a) of the electric element (41a) and the land portion (22a) of the conductor pattern (22) are electrically wire-bonded to each other before the arrangement step. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 5.
【請求項9】 前記積層される樹脂フィルム(23)
は、熱可塑性樹脂からなることを特徴とする請求項1な
いし請求項8のいずれか1つに記載のプリント基板の製
造方法。
9. The laminated resin film (23)
9. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is a thermoplastic resin.
【請求項10】 前記積層される樹脂フィルム(23)
は、同一の材料からなることを特徴とする請求項9に記
載のプリント基板の製造方法。
10. The laminated resin film (23)
10. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 9, wherein is made of the same material.
【請求項11】 前記樹脂フィルム(23)は、前記接
着工程の加熱温度において、弾性率が1〜1000MP
aであることを特徴とする請求項9または請求項10に
記載のプリント基板の製造方法。
11. The resin film (23) has an elastic modulus of 1 to 1000 MP at a heating temperature in the bonding step.
11. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 9, wherein the printed circuit board is a.
【請求項12】 前記積層された樹脂フィルム(23)
において、最も外側に位置する前記樹脂フィルム(2
3)の外側面に金属ベース部材(46)を形成するベー
ス部材形成工程を備えることを特徴とする請求項1ない
し請求項11のいずれか1つに記載のプリント基板の製
造方法。
12. The laminated resin film (23)
In the above, the resin film (2
The method for manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 1 to 11, further comprising a base member forming step of forming a metal base member (46) on the outer surface of (3).
【請求項13】 前記積層工程および前記ベース部材形
成工程後に、前記樹脂フィルム(23)と前記金属ベー
ス部材(46)との積層体を両面から加圧しつつ加熱す
ることにより、各樹脂フィルム(23)および前記金属
ベース部材(46)相互の接着を行なうことを特徴とす
る請求項12に記載のプリント基板の製造方法。
13. After each of the laminating step and the base member forming step, each resin film (23) is heated by applying pressure to both sides of the laminated body of the resin film (23) and the metal base member (46). ) And the metal base member (46) are adhered to each other.
【請求項14】 同一の熱可塑性樹脂からなる樹脂フィ
ルム(23)を積層後加圧しつつ加熱して相互に接着し
た絶縁基材(39)と、 前記樹脂フィルム(23)に貫通孔(35)を設けるこ
とによって前記絶縁基材(39)中に形成された空間部
(36)に配置されるとともに、前記樹脂フィルム(2
3)の積層方向に形成された電極(42)がビア(2
4、51)を介して導体パターン(22)と接続した電
気素子(41)とを備え、 この電気素子(41)は、加圧しつつ加熱されることに
より前記空間部(36)方向に押し出された前記樹脂フ
ィルム(23)により封止され、前記電気素子(41)
を前記絶縁基材(39)中に内蔵していることを特徴と
するプリント基板。
14. An insulating substrate (39) in which resin films (23) made of the same thermoplastic resin are laminated and then heated under pressure while being adhered to each other, and through holes (35) in the resin film (23). Is provided in the space (36) formed in the insulating base material (39) and the resin film (2
The electrode (42) formed in the stacking direction of (3) has a via (2).
4, 51) and an electric element (41) connected to the conductor pattern (22), and the electric element (41) is extruded toward the space portion (36) by being heated while being pressurized. And the electric element (41) sealed by the resin film (23)
A printed circuit board characterized in that the insulating base material (39) is incorporated therein.
【請求項15】 同一の熱可塑性樹脂からなる樹脂フィ
ルム(23)を積層後加圧しつつ加熱して相互に接着し
た絶縁基材(39)と、 前記樹脂フィルム(23)に貫通孔(35)を設けるこ
とによって前記絶縁基材(39)中に形成された空間部
(36)に配置されるとともに、電極(42)が導体パ
ターン(22)と接続した電気素子(41)とを備え、 この電気素子(41)は、加圧しつつ加熱されることに
より前記空間部(36)方向に押し出された前記樹脂フ
ィルム(23)により封止され、前記電気素子(41)
を前記絶縁基材(39)中に内蔵していることを特徴と
するプリント基板。
15. An insulating base material (39) in which a resin film (23) made of the same thermoplastic resin is laminated and then heated under pressure while being adhered to each other, and a through hole (35) in the resin film (23). Is provided in the space portion (36) formed in the insulating base material (39) by providing an electric element (41) in which the electrode (42) is connected to the conductor pattern (22), The electric element (41) is sealed by the resin film (23) extruded toward the space (36) by being heated while being pressurized, and the electric element (41)
A printed circuit board characterized in that the insulating base material (39) is incorporated therein.
【請求項16】 前記樹脂フィルム(23)は、前記加
圧しつつ加熱されるときの加熱温度において、弾性率が
1〜1000MPaであることを特徴とする請求項14
または請求項15に記載のプリント基板。
16. The resin film (23) has an elastic modulus of 1 to 1000 MPa at a heating temperature when being heated while being pressurized.
Alternatively, the printed circuit board according to claim 15.
【請求項17】 前記絶縁基材(39)の表面に金属ベ
ース部材(46)が接着されていることを特徴とする請
求項14ないし請求項16のいずれか1つに記載のプリ
ント基板。
17. The printed circuit board according to claim 14, wherein a metal base member (46) is adhered to a surface of the insulating base material (39).
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Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006156432A (en) * 2004-11-25 2006-06-15 Matsushita Electric Works Ltd Method for manufacturing multilayer printed wiring board
JP2006310541A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Ngk Spark Plug Co Ltd Multilayer wiring board and its production process, multilayer wiring board structure and its production process
JP2006310544A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Ngk Spark Plug Co Ltd Multilayer wiring board and its production process, multilayer wiring board structure
JP2007305674A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Denso Corp Part built-in substrate, and method of inspecting failure of its wiring
JP2007329452A (en) * 2006-05-09 2007-12-20 Canon Inc Wiring module, and manufacturing apparatus and method of wiring module
US7317621B2 (en) 2003-11-20 2008-01-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laminated circuit board and its manufacturing method, and manufacturing method for module using the laminated circuit board and its manufacturing apparatus
JP2008141007A (en) * 2006-12-01 2008-06-19 Denso Corp Method for manufacturing multilayer substrate
EP1589797A3 (en) * 2004-04-19 2008-07-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Manufacturing method of laminated substrate, and manufacturing apparatus of semiconductor device for module and laminated substrate for use therein
JP2008224413A (en) * 2007-03-13 2008-09-25 Denso Corp Printed board manufacturing device and printed board manufacturing method
JP2009277784A (en) * 2008-05-13 2009-11-26 Toshiba Corp Component-embedded printed circuit board, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
US7694415B2 (en) 2005-05-20 2010-04-13 Panasonic Corporation Method of manufacturing component-embedded printed wiring board
JP2012089568A (en) * 2010-10-15 2012-05-10 Murata Mfg Co Ltd Organic multilayer substrate and manufacturing method therefor
WO2012117872A1 (en) * 2011-02-28 2012-09-07 株式会社村田製作所 Resin substrate with built-in electronic component
JP2012186279A (en) * 2011-03-04 2012-09-27 Fujikura Ltd Laminated print circuit board incorporating electronic component and manufacturing method of the same
JP2014086535A (en) * 2012-10-23 2014-05-12 Denso Corp Heat dissipation structure of multilayer substrate and manufacturing method therefor
JP2014170904A (en) * 2013-03-05 2014-09-18 Murata Mfg Co Ltd Resin multilayer component and manufacturing method thereof
JPWO2015198870A1 (en) * 2014-06-23 2017-04-20 株式会社村田製作所 Component built-in substrate and method for manufacturing component built-in substrate
JPWO2015194373A1 (en) * 2014-06-18 2017-04-20 株式会社村田製作所 Multi-layer board with built-in components
JPWO2016080141A1 (en) * 2014-11-17 2017-04-27 株式会社村田製作所 Component built-in substrate and method for manufacturing component built-in substrate
JPWO2016035631A1 (en) * 2014-09-04 2017-04-27 株式会社村田製作所 Component built-in board
JPWO2016047446A1 (en) * 2014-09-26 2017-04-27 株式会社村田製作所 LAMINATED MODULE AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED MODULE
JP6191808B1 (en) * 2016-04-20 2017-09-06 株式会社村田製作所 Multilayer substrate and electronic equipment
WO2017199825A1 (en) * 2016-05-18 2017-11-23 株式会社村田製作所 Substrate including built-in part and method for manufacturing substrate including built-in part
WO2017208713A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 株式会社村田製作所 Resin multilayer substrate
JPWO2017026208A1 (en) * 2015-08-10 2017-12-14 株式会社村田製作所 Resin multilayer substrate and manufacturing method thereof
US10237978B2 (en) 2013-05-17 2019-03-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Component built-in multilayer substrate fabricating method
JPWO2020162473A1 (en) * 2019-02-05 2021-12-02 株式会社村田製作所 Manufacturing method of resin multilayer board and resin multilayer board

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1534054A3 (en) * 2003-11-20 2008-07-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laminated circuit board and its manufacturing method, and manufacturing method for module using the laminated circuit board and its manufacturing apparatus
US7317621B2 (en) 2003-11-20 2008-01-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laminated circuit board and its manufacturing method, and manufacturing method for module using the laminated circuit board and its manufacturing apparatus
EP1589797A3 (en) * 2004-04-19 2008-07-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Manufacturing method of laminated substrate, and manufacturing apparatus of semiconductor device for module and laminated substrate for use therein
JP2006156432A (en) * 2004-11-25 2006-06-15 Matsushita Electric Works Ltd Method for manufacturing multilayer printed wiring board
JP2006310541A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Ngk Spark Plug Co Ltd Multilayer wiring board and its production process, multilayer wiring board structure and its production process
JP2006310544A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Ngk Spark Plug Co Ltd Multilayer wiring board and its production process, multilayer wiring board structure
US7694415B2 (en) 2005-05-20 2010-04-13 Panasonic Corporation Method of manufacturing component-embedded printed wiring board
JP2007329452A (en) * 2006-05-09 2007-12-20 Canon Inc Wiring module, and manufacturing apparatus and method of wiring module
JP2007305674A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Denso Corp Part built-in substrate, and method of inspecting failure of its wiring
JP4697037B2 (en) * 2006-05-09 2011-06-08 株式会社デンソー Component built-in board and wiring defect inspection method thereof
JP2008141007A (en) * 2006-12-01 2008-06-19 Denso Corp Method for manufacturing multilayer substrate
JP2008224413A (en) * 2007-03-13 2008-09-25 Denso Corp Printed board manufacturing device and printed board manufacturing method
JP2009277784A (en) * 2008-05-13 2009-11-26 Toshiba Corp Component-embedded printed circuit board, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
JP2012089568A (en) * 2010-10-15 2012-05-10 Murata Mfg Co Ltd Organic multilayer substrate and manufacturing method therefor
WO2012117872A1 (en) * 2011-02-28 2012-09-07 株式会社村田製作所 Resin substrate with built-in electronic component
JP2012186279A (en) * 2011-03-04 2012-09-27 Fujikura Ltd Laminated print circuit board incorporating electronic component and manufacturing method of the same
JP2014086535A (en) * 2012-10-23 2014-05-12 Denso Corp Heat dissipation structure of multilayer substrate and manufacturing method therefor
JP2014170904A (en) * 2013-03-05 2014-09-18 Murata Mfg Co Ltd Resin multilayer component and manufacturing method thereof
US10237978B2 (en) 2013-05-17 2019-03-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Component built-in multilayer substrate fabricating method
JPWO2015194373A1 (en) * 2014-06-18 2017-04-20 株式会社村田製作所 Multi-layer board with built-in components
JPWO2015198870A1 (en) * 2014-06-23 2017-04-20 株式会社村田製作所 Component built-in substrate and method for manufacturing component built-in substrate
JPWO2016035631A1 (en) * 2014-09-04 2017-04-27 株式会社村田製作所 Component built-in board
JPWO2016047446A1 (en) * 2014-09-26 2017-04-27 株式会社村田製作所 LAMINATED MODULE AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED MODULE
US9922918B2 (en) 2014-09-26 2018-03-20 Murata Manufacturing Co., Ltd. Substrate for stacked module, stacked module, and method for manufacturing stacked module
JPWO2016080141A1 (en) * 2014-11-17 2017-04-27 株式会社村田製作所 Component built-in substrate and method for manufacturing component built-in substrate
JPWO2017026208A1 (en) * 2015-08-10 2017-12-14 株式会社村田製作所 Resin multilayer substrate and manufacturing method thereof
JP6191808B1 (en) * 2016-04-20 2017-09-06 株式会社村田製作所 Multilayer substrate and electronic equipment
WO2017199825A1 (en) * 2016-05-18 2017-11-23 株式会社村田製作所 Substrate including built-in part and method for manufacturing substrate including built-in part
JPWO2017199825A1 (en) * 2016-05-18 2018-09-13 株式会社村田製作所 Manufacturing method of component-embedded substrate
US10709020B2 (en) 2016-05-18 2020-07-07 Murata Manufacturing Co., Ltd. Component-embedded substrate and method for manufacturing component-embedded substrate
WO2017208713A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 株式会社村田製作所 Resin multilayer substrate
US10524352B2 (en) 2016-06-02 2019-12-31 Murata Manufacturing Co., Ltd. Resin multilayer substrate
JPWO2020162473A1 (en) * 2019-02-05 2021-12-02 株式会社村田製作所 Manufacturing method of resin multilayer board and resin multilayer board

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