JP2003084421A - Confirmation device for pattern data for plotting device in mask data for plotting device - Google Patents
Confirmation device for pattern data for plotting device in mask data for plotting deviceInfo
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、描画装置用のマス
クデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装
置に関し、特に、描画装置用のマスクデータについて、
表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画
装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描
画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置
用のパターンデータを強調表示して、目視確認するため
の確認装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for confirming pattern data for a drawing device in mask data for the drawing device, and more particularly to mask data for the drawing device.
While pattern-displaying the pattern data for the drawing device that constitutes the mask data for the drawing device by the display means, the pattern data for the target drawing device in the pattern data for the drawing device is highlighted. , A confirmation device for visually confirming.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の
傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ま
すます高集積化、高機能化が求められるようになってき
た。上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路
設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作
製用の図形データを作製し、これを用いてフォトマスク
を作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小
投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセス
を行うという数々の工程を経て作製されるものである。2. Description of the Related Art In recent years, due to the trend toward higher functionality, lightness, thinness, shortness, and smallness of electronic equipment, various LS1s represented by ASICs are required to have higher integration and higher functionality. The LSI such as the ASIC described above undergoes functions, logic design, circuit design, layout design, etc. to prepare graphic data for producing a photomask pattern, and after producing a photomask using this, the photomask pattern is produced on a wafer. It is manufactured through a number of steps in which a semiconductor element is manufactured by transferring it by reduction projection exposure or the like.
【０００３】このような中、ＬＳＩ産業界では、一般的
に、ＬＳＩ設計工程及びフォトマスク製造工程におけ
る、ＬＳＩレイアウトデータのファイルフォーマットと
し、ストリームフォーマット（Ｓｔｒｅａｍ Ｆｏｒｍ
ａｔ）を使用しているが、更に、このストリームフォー
マットからなるＬＳＩレイアウトデータをデータフォー
マット変換して、描画装置用のフォトマスクデータとし
て、各描画装置に供されている。描画装置用のフォトマ
スクデータとしては、例えば、ラスター型の電子線描画
装置用ではＭＥＢＥＳフォーマット（パーキンエルマー
社製描画装置用）やＥＢＭフォーマット（東芝製描画装
置用）等があり、ベクター型の電子線描画装置用として
は、Ｊｅｏｌフォーマット（日本電子株式会社製描画装
置用）等があるが、他にも種々ある。Under such circumstances, generally in the LSI industry, the file format of the LSI layout data in the LSI design process and the photomask manufacturing process is used as a stream format (Stream Form).
(at) is used, the LSI layout data having the stream format is further converted into a data format and provided as photomask data for the drawing apparatus to each drawing apparatus. Examples of photomask data for drawing devices include MEBES format (for drawing devices manufactured by Perkin Elmer Co.) and EBM format (for drawing devices manufactured by Toshiba) for raster type electron beam drawing devices, and vector type electronic devices. For a line drawing device, there is a Jeol format (for a drawing device manufactured by JEOL Ltd.) and the like, but there are various others.
【０００４】そして、ウエハ上の回路が所定の複数のフ
ォトマスクを用いて投影転写され作製されることより、
例えば、ラスター型の電子線描画装置に対しては、その
描画用のデータを、１つ以上のセルデータとも呼ばれる
描画装置用のパターンデータにて構成される描画装置用
のマスクのデータ（これを、レイヤーデータとも言う）
を複数有する構造の、ＪＯＢファイルとして管理してい
る。尚、ＪＯＢファイルは、階層構造を表すもので、１
つのマスクデータは、ＪＯＢファイルの中の１つの作製
するマスクに対するレイヤーとして、それを構成する描
画装置用パターンデータ名や配置座標情報や他の描画条
件等が組み込まれたものとして記述され、描画装置用の
パターンデータとは別ファイルとして管理されるのが一
般的である。ここでは、ＪＯＢデータ、マスクデータと
言う場合、それぞれ、１枚以上の複数のマスクを作製す
るためのデータ、マスクを１枚作製するためのデータを
意味し、階層構造や描画装置用パターンデータや配置座
標情報や他の描画条件等を含めたデータを意味する。こ
の場合、セルデータともよばれる描画装置用のパターン
データ、描画装置用のマスクデータ、ＪＯＢデータと
が、図５に示すように、階層構造になっており、通常、
マスクデータはそれを構成する各パターンデータを所定
の位置に配置して表され、ＪＯＢデータは、このような
マスクデータを１つ以上持つ形態で表される。図５中、
ＪＯＢはＪＯＢファイル、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３・・は描画
装置用のマスクデータ、Ｐ11、Ｐ12、・・、Ｐ21、Ｐ2
2、・・、Ｐ31、Ｐ32、・・は描画装置用のパターンデ
ータである。ここでは、同じ描画装置用のパターンデー
タが複数のマスクデータのパターンデータとなる場合も
ある。描画装置用のマスクデータは１枚のフォトマスク
を作成するための、パターンデータ群からなるデータ
で、ＪＯＢデータは複数枚のフォトマスクを作成するた
めデータである。Then, the circuits on the wafer are projected and transferred using a plurality of predetermined photomasks to produce:
For example, for a raster-type electron beam drawing apparatus, the drawing data is set as mask data for the drawing apparatus that is composed of pattern data for the drawing apparatus, which is also called one or more cell data. , Also called layer data)
It is managed as a JOB file having a structure having a plurality of. In addition, the JOB file represents a hierarchical structure.
One mask data is described as a layer for one mask to be produced in the JOB file, and the pattern data name for the drawing device, the arrangement coordinate information, and other drawing conditions forming the layer are included in the mask data. Generally, it is managed as a separate file from the pattern data for use. Here, JOB data and mask data mean data for producing one or more masks and data for producing one mask, respectively. It means data including arrangement coordinate information and other drawing conditions. In this case, the pattern data for the drawing apparatus, which is also called cell data, the mask data for the drawing apparatus, and the JOB data have a hierarchical structure as shown in FIG.
The mask data is represented by arranging each pattern data constituting the mask data at a predetermined position, and the JOB data is represented by a form having one or more such mask data. In FIG.
JOB is a JOB file, M1, M2, M3 ... Is mask data for the drawing device, P11, P12, ..., P21, P2
.., P31, P32, ... are pattern data for the drawing device. Here, the pattern data for the same drawing device may be the pattern data for a plurality of mask data. The mask data for the drawing apparatus is data including a pattern data group for creating one photomask, and the JOB data is data for creating a plurality of photomasks.
【０００５】このようなＪＯＢファイルを作成する際、
所望の位置に指定したパターンがあるか否かを確認する
場合がある。また、ＪＯＢファイル中の描画装置用のパ
ターンデータに誤りがあり、フォトマスクに不良が発生
した際に、それがＪＯＢのどこにあるかを確認する場合
がある。従来、このような作業を簡単に行なえ、且つ、
容易に確認ができる装置は無かった。従来のものとして
は、例えば、データ表示画面にて対象とするパターンデ
ータを認識する手段として、パターンデータの表示色を
変更する、又は、対象のパターンデータを非表示とする
などの方法はあった。When creating such a JOB file,
It may be checked whether or not there is a designated pattern at a desired position. Further, when there is an error in the pattern data for the drawing device in the JOB file and a defect occurs in the photomask, it may be confirmed where the JOB is. Conventionally, such work can be easily performed, and
There was no device that could be easily checked. Conventionally, for example, as a means for recognizing the target pattern data on the data display screen, there is a method of changing the display color of the pattern data or hiding the target pattern data. .
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、近年、
描画装置用のフォトマスクデータの大規模化がますます
進む中、図５に示すように、階層構造になっているマス
クデータ（レイヤーデータ）、ＪＯＢデータについて
は、マスクデータ、ＪＯＢデータの作成の際の確認作
業、あるいは不良部の確認作業が簡単にでき、且つ、確
認が容易な確認方法が求められていた。本発明は、これ
対応するもので、描画装置用のマスクデータについて、
表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画
装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描
画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置
用のパターンデータを容易に目視確認することができる
確認装置を提供しようとするものである。As mentioned above, in recent years,
As the scale of photomask data for drawing devices continues to increase, as shown in FIG. 5, for mask data (layer data) and JOB data that have a hierarchical structure, mask data and JOB data can be created. There has been a demand for a confirmation method that can easily perform the confirmation work at the time or the confirmation work of the defective portion and that can be easily confirmed. The present invention corresponds to this, and regarding the mask data for the drawing device,
While visually displaying the pattern data for the drawing apparatus that constitutes the mask data for the drawing apparatus on the display means, it is possible to easily visually check the pattern data for the target drawing apparatus in the pattern data for the drawing apparatus. It is intended to provide a confirmation device capable of doing so.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の描画装置用のマ
スクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認
装置は、描画装置用のマスクデータについて、表示手段
にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用の
パターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用
のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパタ
ーンデータを強調表示して、目視確認するための確認装
置であって、パターンデータ群からなる描画装置用のマ
スクデータをあるいは描画装置用のマスクデータを１つ
以上有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成する各
パターンデータに対応したキャッシュファイルとを記憶
蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置
用のパターンデータを指定して、該当する描画装置用の
パターンデータを検索し、検索した描画装置用のパター
ンデータを記憶手段から抽出する、あるいは、強調表示
を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応する
キャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の
描画装置用のパターンデータ内の領域パターンを抽出す
るパターンデータ検索手段と、パターンデータ検索手段
により抽出された、強調表示を行なう対象の描画装置用
のパターンデータに対して、あるいは、前記四角形領域
パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パ
ターンデータを作成する強調処理部と、描画装置用のパ
ターンデータおよび／または強調処理パターンデータを
受けとり、表示するための表示パターンデータを作成す
る図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを
備えていることを特徴とするものである。そして、上記
において、領域パターンを記憶手段から抽出するパター
ンデータ検索手段は、強調表示を行なう対象の描画装置
用のパターンデータの全の図形を含むそのデータサイズ
以下の四角形領域パターンを抽出するものであることを
特徴とするものである。そしてまた、上記において、パ
ターンデータ検索手段は、表示画面上に各描画装置用の
パターンデータの名前を配列した設定画面にて、パター
ンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリック等に
より指定して、強調する描画装置用のパターンデータを
指定するものであることを特徴とするものであり、パタ
ーンデータ検索手段は、表示する描画装置用のパターン
データを選別指定する表示選別部を有するものであるこ
とを特徴とするものである。また、上記において、強調
処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の
際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態
のハッチング表示となるための処理を行なうものである
ことを特徴とするものであり、強調処理部は、処理対象
のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビット
に対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を
付与するものであることを特徴とするものである。A device for confirming pattern data for a drawing device in mask data for a drawing device according to the present invention constructs mask data for the drawing device by means of display means for the mask data for the drawing device. While visually displaying the pattern data for the drawing device to be displayed, among the pattern data for the drawing device, by highlighting the pattern data for the target drawing device, a confirmation device for visually confirming, A storage unit for storing and storing mask data for a drawing device formed of a pattern data group, or JOB data having a structure having one or more mask data for the drawing device, and a cache file corresponding to each pattern data forming these. , Specify the pattern data for the drawing device to be highlighted and specify the pattern data for the corresponding drawing device. The pattern data for the drawing device searched and searched is extracted from the storage means, or the cache file corresponding to the pattern data for the drawing device to be highlighted is searched and the drawing device to be highlighted is searched. Pattern data search means for extracting a region pattern in the pattern data of the pattern data, and the pattern data extracted by the pattern data search device for the drawing device to be highlighted, or for the rectangular region pattern. An emphasizing processing unit that performs emphasizing processing and creates corresponding emphasizing processing pattern data; and a graphic display control unit that receives pattern data and / or emphasizing processing pattern data for a drawing device and creates display pattern data for displaying. , Having display means for displaying a graphic That. Then, in the above, the pattern data search means for extracting the area pattern from the storage means extracts a rectangular area pattern having a data size or less including all figures of the pattern data for the drawing apparatus to be highlighted. It is characterized by being. Further, in the above, the pattern data search means specifies the name of the pattern data by double-clicking with a mouse on the setting screen in which the names of the pattern data for each drawing device are arranged on the display screen. The pattern data search means has a display selection unit for selecting and designating pattern data for the drawing device to be displayed. It is characterized by that. Further, in the above, the emphasis processing unit performs processing for displaying the pattern data to be processed so that each figure becomes a hatched display in which each figure is filled with a predetermined display attribute. The emphasis processing unit is characterized in that the pattern data to be processed is converted into a bitmap and a predetermined display attribute is given to each pixel of the display means corresponding to the bit. is there.
【０００８】[0008]
【作用】本発明の描画装置用のマスクデータにおける描
画装置用のパターンデータの確認装置は、このような構
成にすることにより、描画装置用のマスクデータについ
て、表示手段にて描画装置用のマスクデータを図形表示
させながら、前記のマスクデータを構成する描画装置用
のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパタ
ーンデータを容易に目視確認することができる確認装置
の提供を可能としている。即ち、目的とする描画装置用
のパターンデータを強調して図形表示ができ、パターン
データの配置位置、サイズ等の目視確認を容易にできる
ものとしている。具体的には、パターンデータ群からな
る描画装置用のマスクデータをあるいは描画装置用のマ
スクデータを１つ以上有する構造のＪＯＢデータと、こ
れらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュ
ファイルとを記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行な
う対象の描画装置用のパターンデータを指定して、該当
する描画装置用のパターンデータを検索し、検索した描
画装置用のパターンデータを記憶手段から抽出する、あ
るいは、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターン
データに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表
示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の領域
パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、パター
ンデータ検索手段により抽出された、強調表示を行なう
対象の描画装置用のパターンデータに対して、あるい
は、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し
対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部
と、描画装置用のパターンデータおよび／または強調処
理パターンデータを受けとり、表示するための表示パタ
ーンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を
行なう表示手段とを備えていることにより、これを達成
している。With the above arrangement, the device for confirming the pattern data for the drawing device in the mask data for the drawing device according to the present invention makes it possible for the mask data for the drawing device to be masked by the display means. (EN) It is possible to provide a confirmation device capable of easily visually confirming the pattern data for a target drawing device among the pattern data for the drawing device that constitutes the mask data while displaying the data graphically. . That is, the target pattern data for the drawing apparatus can be emphasized and displayed graphically, and the visual confirmation of the arrangement position, size, etc. of the pattern data can be facilitated. Specifically, it stores mask data for a drawing device formed of a pattern data group or JOB data having a structure having one or more mask data for the drawing device, and a cache file corresponding to each pattern data forming these. By designating the storage means for accumulating and the pattern data for the drawing apparatus to be highlighted, the pattern data for the corresponding drawing apparatus is searched, and the searched pattern data for the drawing apparatus is extracted from the storage means. Alternatively, a pattern data search unit that searches a cache file corresponding to the pattern data for the drawing apparatus to be highlighted and extracts a region pattern in the pattern data for the drawing apparatus to be highlighted, and the pattern data. Pattern data extracted by the search means for the drawing device to be highlighted On the other hand, or for receiving and displaying the emphasis processing unit for applying emphasis processing to the rectangular area pattern to create corresponding emphasis processing pattern data and the pattern data and / or the emphasis processing pattern data for the drawing device. This is achieved by including the graphic display control means for creating the display pattern data and the display means for performing the graphic display.
【０００９】パターンデータ検索手段としては、表示画
面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した
設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用い
たダブルクリック等により指定して、強調する描画装置
用のパターンデータを指定するものが挙げられる。ま
た、強調処理部としては、処理対象のパターンデータに
ついて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗り
つぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行
なうものが挙げられる。例えば、処理対象のパターンデ
ータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表
示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておく
ことにより、表示手段にて、ビットマップ化されたパタ
ーンデータ領域に対し、ベタ等のハッチング表示ができ
る。そして、表示手段において、このビットマップ化さ
れたパターンデータ領域のベタ等のハッチング表示を、
描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパタ
ーンデータのデータの表示に重ねて表示して、重なった
部分が強調された表示状態となるのである。As the pattern data retrieval means, the name of the pattern data is specified by double-clicking with a mouse on the setting screen in which the names of the pattern data for each drawing device are arranged on the display screen and highlighted. There is a method of designating pattern data for a drawing device to be used. Further, as the emphasizing processing unit, there is a unit that performs processing for displaying the pattern data to be processed in a hatching display in which each figure is filled with a predetermined display attribute. For example, the pattern data to be processed is converted into a bitmap, and a predetermined display attribute is given to each pixel of the display unit corresponding to the bit, so that the display unit displays a bitmapped pattern data area. On the other hand, it is possible to display a solid pattern with hatching. Then, in the display means, the hatching display of the solid pattern or the like of the bit-mapped pattern data area is displayed.
The pattern data for the drawing device forming the mask data for the drawing device is overlaid and displayed, and the overlapped portion is highlighted.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態例を挙げ、図
に基づいて説明する。図１は本発明の描画装置用のマス
クデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装
置の実施の形態の１例の構成図で、図２は図１に示す装
置の動作の１例を説明するためのフロー図で、図３
（ａ）はパターンデータ検索手段の設定画面の１例で、
図３（ｂ）はパターンデータを反転表示した図で、図４
（ａ）はマスクデータの表示状態を示した図で、図４
（ｂ）はその実行画面において強調表示された図で、図
４（ｂ１）、図４（ｂ２）は強調処理されたパターンデ
ータに対応する表示図形の一部を示した図である。図
１、図３、図４において、１１０は記憶手段、１２０は
パターンデータ検索手段、１３０は強調処理部、１４０
は図形表示制御手段、１５０は表示手段（ディスプレ
イ）、１６０は制御部、１６５は入力部、１７０は強調
処理対象の描画装置用パターンデータ、１７１は強調処
理パタンデータ、１８０は強調処理対象でない描画装置
用パターンデータ、１７１は強調処理パタンデータ、１
９０は表示パターンデータ、２１０は設定画面、２１１
は描画装置用パターンデータ名、２１２は表示色指定
部、２２１、２２２、２２３は表示画面、２３１、２３
２、２３３は表示されたマスクデータ、２４０は強調処
理パターンデータ、２４１は（強調処理パターンデータ
の）強調処理図形である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of an example of an embodiment of a device for confirming pattern data for a drawing device in mask data for the drawing device of the present invention, and FIG. 2 illustrates an example of the operation of the device shown in FIG. 3 is a flow chart for
(A) is an example of the setting screen of the pattern data search means,
FIG. 3B is a diagram in which the pattern data is displayed in reverse.
FIG. 4A is a diagram showing a display state of mask data.
4B is a diagram highlighted on the execution screen, and FIGS. 4B1 and 4B2 are diagrams showing a part of the display graphic corresponding to the pattern data subjected to the enhancement processing. 1, FIG. 3, and FIG. 4, 110 is a storage unit, 120 is a pattern data search unit, 130 is an emphasis processing unit, and 140.
Is a graphic display control unit, 150 is a display unit (display), 160 is a control unit, 165 is an input unit, 170 is pattern data for a drawing device that is an emphasis processing target, 171 is emphasis processing pattern data, and 180 is a drawing that is not an emphasis processing target. Device pattern data, 171 is emphasis processing pattern data, 1
90 is display pattern data, 210 is a setting screen, 211
Is a pattern data name for a drawing device, 212 is a display color designation part, 221, 222, and 223 are display screens, 231 and 23.
Reference numerals 2 and 233 are the mask data displayed, 240 is the emphasis processing pattern data, and 241 is the emphasis processing figure (of the emphasis processing pattern data).
【００１１】本発明の描画装置用のマスクデータにおけ
る描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態
の１例を、図１に基づいて説明する。本例は、描画装置
用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用の
マスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを
図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータ
の中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調
表示して、目視確認するための確認装置で、記憶手段１
１０、パターンデータ検索手段１２０、強調処理部１３
０、図形表示制御手段１４０、表示手段１５０とこれら
各部を制御し全体を制御する制御部１６０と制御部への
入力手段１６５とを備えている。記憶手段１１０は、パ
ターンデータ群からなる描画装置用のマスクデータある
いは描画装置用のマスクデータを１つ以上有する構造の
ＪＯＢデータと、これらを構成する各パターンデータに
対応したキャッシュファイルとを記憶蓄積するものであ
る。尚、本例では、１つの記憶手段１１０にこれらを蓄
積するが、複数の記憶手段を用いても良いことは言うま
でもない。本例におけるパターンデータ検索手段１２０
は、強調表示を行なう描画装置用のパターンデータを指
定し、記憶手段１１０から該当する描画装置用のパター
ンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調
表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の
図形を含むそのデータサイズ以下の四角形領域パターン
を抽出するものである。ここでのキャッシュファイル
は、簡単には、パターンデータ毎に、記憶装置１１０に
格納されているアドレスに対応したシークアドレスを持
たせたもので、キャッシュファイルを用いることによ
り、ＪＯＢファイルサイズが大規模化した場合でも、サ
イズに依存せず、描画装置用パターンデータの検索を容
易とする。更に、ここでのキャッシュファイルには、強
調処理を行なうため、このパターンデータの領域である
データサイズ（チップサイズとも言う）以下の、このパ
ターンデータの全の図形を含む四角領域であるフィット
ゾーンを指定する領域情報を備えている。フィットゾー
ン領域に対応したパターンが前述の四角形領域パターン
である。尚、パターンデータ検索手段１２０は、表示す
る描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別
部（図示していないが、図３（ａ）の表示ＯＮ／ＯＦＦ
にて判断する）を有するものである。強調処理部１３０
は、パターンデータ検索手段１２０により抽出された四
角形領域パターンに対して、強調処理を施し、対応する
強調処理パターンデータ１７１を作成するものである。
本例の強調処理部１３０は、パターンデータ検索手段１
２０にて得られたフィットゾーン領域に対応した四角形
領域パターンを処理対象のパターンデータとして、処理
対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形
が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表
示となるための処理を行なうもので、処理対象のパター
ンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応す
る表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与して
おくものである。これにより、表示手段にて、ビットマ
ップ化されたパターンデータ領域に対し、ベタ等のハッ
チング表示ができる。図形表示制御手段１４０は、パタ
ーンデータ検索手段１２０により抽出された強調処理対
象でない描画装置用のパターンデータ１８０、あるい
は、強調処理が施された強調処理パターンデータ１７１
を受けとり、表示するための表示パターンデータ１９０
を作成するものである。表示手段１５０は、図形表示制
御手段１４０により作製された表示パターンデータ１９
０の図形表示を、指示された表示属性にしたがい行なう
ものである。An example of an embodiment of an apparatus for checking pattern data for a drawing apparatus in mask data for the drawing apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, with respect to the mask data for the drawing apparatus, while displaying the pattern data for the drawing apparatus constituting the mask data for the drawing apparatus by the display means, the purpose of the pattern data for the drawing apparatus The storage device 1 is a confirmation device for highlighting pattern data for a drawing device to be visually confirmed.
10, pattern data search means 120, emphasis processing unit 13
0, a graphic display control unit 140, a display unit 150, a control unit 160 for controlling each of these units and the entire unit, and an input unit 165 for the control unit. The storage unit 110 stores and accumulates mask data for a drawing device composed of a pattern data group or JOB data having a structure having one or more mask data for the drawing device, and a cache file corresponding to each pattern data forming these. To do. Incidentally, in the present example, these are stored in one storage means 110, but it goes without saying that a plurality of storage means may be used. Pattern data search means 120 in this example
Specifies the pattern data for the drawing device to be highlighted, retrieves the cache file corresponding to the pattern data for the corresponding drawing device from the storage means 110, and reads the pattern data for the drawing device to be highlighted. A rectangular area pattern including all figures and having a size equal to or smaller than the data size is extracted. The cache file here is simply a seek address corresponding to the address stored in the storage device 110 for each pattern data. By using the cache file, the JOB file size is large. Even if it is realized, the pattern data for the drawing apparatus can be easily searched without depending on the size. Further, in this cache file, in order to perform the emphasizing process, a fit zone, which is a square area including all figures of this pattern data, which is equal to or smaller than the data size (also called chip size) which is the area of this pattern data, is added. It has area information to specify. The pattern corresponding to the fit zone area is the above-mentioned rectangular area pattern. The pattern data search means 120 is a display selection unit (not shown, but the display ON / OFF of FIG. 3A is used to select and specify the pattern data for the drawing apparatus to be displayed.
Judgment in). Enhancement processing unit 130
Is to perform emphasis processing on the rectangular area pattern extracted by the pattern data search means 120 to create corresponding emphasis processing pattern data 171.
The emphasis processing unit 130 of this example is the pattern data search means 1
The rectangular area pattern corresponding to the fit zone area obtained in 20 is used as pattern data to be processed, and when the pattern data to be processed is displayed, each figure is hatched with a predetermined display attribute. The pattern data to be processed is bitmapped and a predetermined display attribute is given to each pixel of the display means corresponding to the bit. As a result, the display means can display a solid pattern or the like in the bitmapped pattern data area. The graphic display control means 140 includes the pattern data 180 for the drawing apparatus that is not the target of the emphasis processing extracted by the pattern data search means 120 or the emphasis processing pattern data 171 that has been subjected to the emphasis processing.
Display pattern data 190 for receiving and displaying
Is to create. The display unit 150 uses the display pattern data 19 created by the graphic display control unit 140.
The graphic display of 0 is performed according to the designated display attribute.
【００１２】次いで、図２を基に、図１、図３、図４を
参照にしながら、本例の描画装置用のマスクデータにお
ける描画装置用のパターンデータの確認装置の動作の１
例を説明する。尚、図２中、Ｓ１１〜Ｓ２２は処理ステ
ップを示す。先ず、入力手段１６５にて処理対象とする
ＪＯＢファイルをオープンする。（Ｓ１１）
ここでは、対象のマスクデータについて、検索を容易と
するため、予め、キャッシュファイルを用意しておく。
また、ＪＯＢファイルについての階層情報を抽出し、こ
れをデータとして保管しておく。尚、抽出されたＪＯＢ
ファイルについての階層情報は、通常、記憶手段１１０
とはことなる所定のメモリーに蓄積しておく。また、こ
こでのキャッシュファイルは、先にも述べた通り、シー
クアドレスと強調処理を行なうためのフィットゾーンデ
ータとを備えている。次いで、表示レイヤーを指定し
（Ｓ１２）、マスクデータ毎に画面表示する。（Ｓ１
３）
ここでは、表示するマスクパターンデータを１つ以上指
定し、マスクパターンデータ毎に表示画面を持たせる。
勿論、実行画面は指定された１つである。先に抽出し、
保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ
単位で、これを構成する表示対象のパターンデータが図
形表示制御手段１４０を介して表示手段１５０へ送られ
る。図４（ａ）に示すように１つの表示手段の表示部に
複数の表示画面（ウインドウとも言う）を持たす。尚、
パターンデータ検索手段１２０にて、表示する描画装置
用のパターンデータを選別指定し、不要のパターンデー
タの図形表示はしないようにしても良い。Next, referring to FIG. 1, FIG. 3 and FIG. 4 based on FIG. 2, the operation 1 of the checking device for the pattern data for the drawing device in the mask data for the drawing device of this example will be described.
An example will be described. In FIG. 2, S11 to S22 indicate processing steps. First, the JOB file to be processed is opened by the input means 165. (S11) Here, in order to facilitate the search for the target mask data, a cache file is prepared in advance.
Also, the hierarchical information about the JOB file is extracted and stored as data. The extracted JOB
Hierarchical information about a file is usually stored in the storage means 110.
It is stored in a predetermined memory different from. Further, the cache file here includes the seek address and the fit zone data for performing the emphasis process, as described above. Next, a display layer is designated (S12), and screen display is performed for each mask data. (S1
3) Here, one or more mask pattern data to be displayed are designated, and a display screen is provided for each mask pattern data.
Of course, the execution screen is the designated one. Extracted first,
Based on the stored hierarchical structure information, the pattern data of the display object which constitutes the mask data unit is sent to the display unit 150 via the graphic display control unit 140. As shown in FIG. 4A, the display unit of one display unit has a plurality of display screens (also referred to as windows). still,
The pattern data search unit 120 may select and specify the pattern data for the drawing device to be displayed, and may not display the unnecessary pattern data as a graphic.
【００１３】次に、パターンデータ検索手段１２０の設
定画面を表示する。（Ｓ１４）
設定画面は、例えば図３（ａ）にようになっており、表
示されているパターンデータ名毎に表示色指定や、表示
のＯＦＦもできる。次いで、強調処理対象のパターンデ
ータ名をダブルクリックすると（Ｓ１５）、そのパター
ンデータ名が反転表示される。（Ｓ１６）
これにより、ダブルクリックされたパターンデータ名の
パターンデータが強調処理対象に指定される。例えば、
図３（ａ）のパターンデータ名「・・・ＰＡＴ１１」の
部分Ｃ１がダブルクリックされると、その部分Ｃ１は図
３（ｂ）のように反転表示され、これにより、パターン
データ名「・・・ＰＡＴ１１」が強調表示に指定された
ことが分かる。Next, the setting screen of the pattern data search means 120 is displayed. (S14) The setting screen is, for example, as shown in FIG. 3A, and the display color can be designated and the display can be turned off for each displayed pattern data name. Next, when the pattern data name to be emphasized is double-clicked (S15), the pattern data name is highlighted. (S16) As a result, the pattern data having the pattern data name double-clicked is designated as the emphasis processing target. For example,
When the part C1 of the pattern data name "... PAT11" in FIG. 3A is double-clicked, the part C1 is highlighted as shown in FIG. 3B, and the pattern data name "... -It can be seen that "PAT11" has been designated for highlighting.
【００１４】次いで、実行画面である、マスクデータ表
示画面をクリックし（Ｓ１７）、強調表示対象のパター
ンデータを検索する。（Ｓ１８）
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有るか否か
を確認する。（Ｓ１９）
先に抽出し、保管されている階層構造の情報に基づき、
マスクデータ単位で行なう。実行画面に強調表示対象の
パターンデータが有る場合には、パターンデータ検索手
段１２０は、記憶手段１１０から該当する描画装置用の
パターンデータに対応するキャッシュファイルを検索
し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデー
タのフィットゾーンに対応する四角形領域パターンを抽
出し、抽出された四角形領域パターンを強調処理対象パ
ターンデータ１７０とする。次いで、強調処理部１３０
にて強調対象パターンデータ１７０に強調処理を施し、
強調処理された強調処理パターンデータ１７１とし、図
形表示制御手段１４０に送り、対応した表示パターンデ
ータ１９０を作成し、実行画面にこれをあわせて表示す
ることにより、強調対象パターンデータの強調表示を行
ない（Ｓ２０）、所望の確認をすることができる。この
場合、強調処理されたパターンデータに対応する表示図
形は、例えば図４（ｂ１）のようになる。そして、更
に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面とし
て、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し（Ｓ２
１）、必要がある場合には、同様にＳ１７〜Ｓ２０の処
理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。Then, the mask data display screen, which is an execution screen, is clicked (S17) to search for pattern data to be highlighted. (S18) It is confirmed whether or not there is pattern data to be highlighted on the execution screen. (S19) Based on the information of the hierarchical structure extracted and stored earlier,
Performed in mask data units. When there is pattern data to be highlighted on the execution screen, the pattern data searching unit 120 searches the storage unit 110 for a cache file corresponding to the pattern data for the corresponding drawing device, and draws the target to be highlighted. A rectangular area pattern corresponding to the fit zone of the pattern data for the apparatus is extracted, and the extracted rectangular area pattern is set as the emphasis processing target pattern data 170. Next, the emphasis processing unit 130
In order to emphasize the pattern data 170 to be emphasized,
The emphasized pattern data 171 subjected to the emphasis process is sent to the graphic display control means 140, the corresponding display pattern data 190 is created, and this is also displayed on the execution screen to emphasize the pattern data to be emphasized. (S20), desired confirmation can be performed. In this case, the display graphic corresponding to the emphasized pattern data is, for example, as shown in FIG. Then, it is further determined whether or not it is necessary to highlight the screen of the mask data of another layer as the execution screen (S2).
1) If necessary, the process steps S17 to S20 are similarly performed, and if not necessary, the process ends.
【００１５】実行画面に強調表示対象のパターンデータ
が無い場合には、更に、別のレイヤーのマスクデータの
画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか
否かを判断し（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様に
Ｓ１７〜Ｓ２０の処理ステップを行ない、必要が無い場
合には終了する。このようにして、マスクデータ毎に、
強調対象パターンデータの強調表示を行ない、所望の確
認をすることができる。When there is no pattern data to be highlighted on the execution screen, it is further determined whether or not it is necessary to perform highlighting with the screen of the mask data of another layer as the execution screen (S21). When it is necessary, the processing steps of S17 to S20 are similarly performed, and when it is not necessary, the processing ends. In this way, for each mask data,
The desired pattern data can be confirmed by highlighting the pattern data to be emphasized.
【００１６】本例においては、強調処理として、描画装
置用パターンデータのフィットゾーンをビットマップ化
し、塗りつぶしを行ったが、塗りつぶす領域はフィット
ゾーンに限定されるものでない。In this example, as the emphasizing process, the fitting zone of the pattern data for the drawing apparatus is bitmapped and filled, but the area to be filled is not limited to the fitting zone.
【００１７】別の実施の形態例としては、フィットゾー
ンに代え、強調処理の対象の描画装置用パターンデータ
の各図形をビットマップ化し、ビットに対応する表示手
段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくもの
も挙げられる。この例の場合も、同様、パターンデータ
群からなる描画装置用のマスクデータをあるいは描画装
置用のマスクデータを１つ以上有する構造のＪＯＢデー
タと、これらを構成する各パターンデータに対応したキ
ャッシュファイルとを記憶蓄積する記憶手段と、強調表
示を行なう対象の描画装置用のパターンデータを指定し
て、該当する描画装置用のパターンデータを検索し、検
索した描画装置用のパターンデータを記憶手段から抽出
する、パターンデータ検索手段と、パターンデータ検索
手段により抽出された、強調表示を行なう対象の描画装
置用のパターンデータに対して、強調処理を施し対応す
る強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、描
画装置用のパターンデータおよび／または強調処理パタ
ーンデータを受けとり、表示するための表示パターンデ
ータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう
表示手段とを備えていることが必要であるが、キャッシ
ュファイルには、フィットゾーン情報を持たせておく必
要はない。As another embodiment, instead of the fit zone, each figure of the pattern data for the drawing apparatus to be emphasized is bit-mapped, and a predetermined display attribute is set for each pixel of the display means corresponding to the bit. It is also possible to give a. In the case of this example as well, similarly, JOB data having a structure having mask data for a drawing device composed of a pattern data group or one or more mask data for the drawing device, and a cache file corresponding to each pattern data forming these And the pattern data for the drawing device to be highlighted, the pattern data for the corresponding drawing device is searched, and the searched pattern data for the drawing device is retrieved from the storage device. A pattern data search unit to be extracted, and a highlight processing unit that performs a highlight process on the pattern data extracted by the pattern data search unit and used for the drawing device to be highlighted to create a corresponding highlighted process pattern data. And the pattern data and / or the emphasis processing pattern data for the drawing device are received and displayed. A graphic display control means for generating display pattern data of the eye, it is necessary to and a display means for performing graphic display, in the cache file does not need to be made to have a fit zone information.
【００１８】この例の場合の処理の１例も、図２に基づ
いて簡単に説明する。図２に示すＳ１１〜Ｓ１７までを
行った後、実行画面である、強調表示対象のパターンデ
ータを検索し（Ｓ１８）、実行画面に強調表示対象のパ
ターンデータが有るか否かを確認する。（Ｓ１９）
この場合も、保管されている階層構造の情報に基づき、
マスクデータ単位で行なう。実行画面に強調表示対象の
パターンデータが有る場合には、パターンデータ検索手
段１２０は、記憶手段１１０から該当する描画装置用の
パターンデータを検索し、強調表示を行なう対象の描画
装置用のパターンデータを抽出し、これを強調処理対象
パターンデータ１７０とする。次いで、強調処理部１３
０にて強調対象パターンデータ１７０に強調処理を施
し、強調処理された強調処理パターンデータ１７１と
し、図形表示制御手段１４０に送り、対応した表示パタ
ーンデータ１９０を作成し、実行画面にこれをあわせて
表示することにより、強調対象パターンデータの強調表
示を行ない（Ｓ２０）、所望の確認をすることができ
る。この場合、強調処理されたパターンデータに対応す
る表示図形は、例えば図４（ｂ２）のようになる。そし
て、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画
面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し
（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様にＳ１７〜Ｓ２
０の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了す
る。An example of the processing in the case of this example will be briefly described with reference to FIG. After performing S11 to S17 shown in FIG. 2, pattern data to be highlighted, which is an execution screen, is searched (S18), and it is confirmed whether or not there is pattern data to be highlighted on the execution screen. (S19) Also in this case, based on the stored hierarchical structure information,
Performed in mask data units. If there is pattern data to be highlighted on the execution screen, the pattern data search unit 120 searches the pattern data for the corresponding drawing device from the storage unit 110, and the pattern data for the drawing device to be highlighted. Is extracted and used as the emphasis processing target pattern data 170. Next, the emphasis processing unit 13
At 0, the emphasizing target pattern data 170 is emphasized to form emphasizing emphasizing processing pattern data 171, which is sent to the graphic display control means 140 to create the corresponding display pattern data 190, which is also displayed on the execution screen. By displaying, the emphasis target pattern data is highlighted (S20), and desired confirmation can be performed. In this case, the display figure corresponding to the emphasized pattern data is, for example, as shown in FIG. Then, it is further determined whether or not it is necessary to perform highlighting with the screen of the mask data of another layer as the execution screen (S21), and if it is necessary, similarly, S17 to S2.
The processing step of 0 is performed, and when there is no need, the processing ends.
【００１９】実行画面に強調表示対象のパターンデータ
が無い場合には、更に、別のレイヤーのマスクデータの
画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか
否かを判断し（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様に
Ｓ１７〜Ｓ２０の処理ステップを行ない、必要が無い場
合には終了する。このようにして、この例の場合も、マ
スクデータ毎に、強調対象パターンデータの強調表示を
行ない、所望の確認をすることができる。If there is no pattern data to be highlighted on the execution screen, it is further determined whether or not it is necessary to perform highlighting with the screen of the mask data of another layer as the execution screen (S21). When it is necessary, the processing steps of S17 to S20 are similarly performed, and when it is not necessary, the processing ends. In this way, in the case of this example as well, the highlighting target pattern data can be highlighted for each mask data and desired confirmation can be performed.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明は、上記のように、描画装置用の
マスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマス
クデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形
表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中
の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目
視確認することができる確認装置の提供を可能とした。
これにより、実用レベルでＪＯＢファイル作成が容易に
なり、データの誤りがＪＯＢファイルのどこにあるかを
容易に確認できる。As described above, according to the present invention, with respect to the mask data for the drawing apparatus, while the pattern data for the drawing apparatus constituting the mask data for the drawing apparatus is graphically displayed on the display means, the drawing apparatus is provided. It has become possible to provide a confirmation device capable of easily visually confirming the pattern data for a target drawing device among the pattern data for use.
This makes it easy to create a JOB file at a practical level, and easily confirms where in the JOB file the data error is.
【図１】図１は本発明の描画装置用のマスクデータにお
ける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形
態の１例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an example of an embodiment of a confirmation device of pattern data for a drawing device in mask data for the drawing device of the present invention.
【図２】図１に示す装置の動作の１例を説明するための
フロー図である。FIG. 2 is a flowchart for explaining an example of the operation of the device shown in FIG.
【図３】図３（ａ）はパターンデータ検索手段の設定画
面の１例で、図３（ｂ）はパターンデータを反転表示し
た図である。FIG. 3A is an example of a setting screen of a pattern data search means, and FIG. 3B is a diagram in which pattern data is displayed in reverse video.
【図４】図４（ａ）はマスクデータの表示状態を示した
図で、図４（ｂ）はその実行画面において強調表示され
た図で、図４（ｂ１）、図４（ｂ２）は強調処理された
パターンデータに対応する表示図形の一部を示した図で
ある。FIG. 4 (a) is a diagram showing a display state of mask data, FIG. 4 (b) is a diagram highlighted on its execution screen, and FIGS. 4 (b1) and 4 (b2) are It is the figure which showed a part of display figure corresponding to the pattern data by which the emphasis process was carried out.
【図５】ＪＯＢファイルのデータの階層構造を説明する
ための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a hierarchical structure of data of a JOB file.
１１０ 記憶手段
１２０ パターンデータ検索手段
１３０ 強調処理部
１４０ 図形表示制御手段
１５０ 表示手段（ディスプレイ）
１６０ 制御部
１６５ 入力部
１７０ 強調処理対象の描画装置用パタ
ーンデータ
１７１ 強調処理パタンデータ
１８０ 強調処理対象でない描画装置用
パターンデータ
１７１ 強調処理パタンデータ
１９０ 表示パターンデータ
２１０ 設定画面
２１１ 描画装置用パターンデータ名
２１２ 表示色指定部
２２１、２２２、２２３ 表示画面
２３１、２３２、２３３ 表示されたマスクデータ
２４０ 強調処理パターンデータ
２４１ （強調処理パターンデータの）強
調処理図形110 Storage Means 120 Pattern Data Searching Means 130 Emphasizing Processing Unit 140 Graphic Display Control Means 150 Displaying Means (Display) 160 Controlling Unit 165 Input Unit 170 Pattern Data 171 for Drawing Device to be Emphasized Processing Emphasizing Pattern Data 180 Drawing not to be Emphasized Processing Device pattern data 171 Emphasizing pattern data 190 Display pattern data 210 Setting screen 211 Drawing device pattern data name 212 Display color designating parts 221, 222, 223 Display screens 231, 232, 233 Mask data 240 displayed Emphasis processing pattern data 241 Emphasis processing figure (of emphasis processing pattern data)
Claims (6)
示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装
置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画
装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用
のパターンデータを強調表示して、目視確認するための
確認装置であって、パターンデータ群からなる描画装置
用のマスクデータをあるいは描画装置用のマスクデータ
を１つ以上有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成
する各パターンデータに対応したキャッシュファイルと
を記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描
画装置用のパターンデータを指定して、該当する描画装
置用のパターンデータを検索し、検索した描画装置用の
パターンデータを記憶手段から抽出する、あるいは、強
調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対
応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう
対象の描画装置用のパターンデータ内の領域パターンを
抽出するパターンデータ検索手段と、パターンデータ検
索手段により抽出された、強調表示を行なう対象の描画
装置用のパターンデータに対して、あるいは、前記四角
形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調
処理パターンデータを作成する強調処理部と、描画装置
用のパターンデータおよび／または強調処理パターンデ
ータを受けとり、表示するための表示パターンデータを
作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手
段とを備えていることを特徴とする描画装置用のマスク
データにおける描画装置用のパターンデータの確認装
置。1. The mask data for a drawing device, the pattern data for the drawing device constituting the mask data for the drawing device being graphically displayed on the display means, and the purpose of the pattern data for the drawing device. A confirmation device for highlighting and visually confirming pattern data for a drawing device, which has mask data for the drawing device consisting of pattern data groups or one or more mask data for the drawing device. JOB data and storage means for storing and storing the cache files corresponding to the respective pattern data forming them, and the pattern data for the drawing device to be highlighted, and the pattern for the corresponding drawing device is specified. Object for which data is searched and the searched pattern data for the drawing device is extracted from the storage means or is highlighted Pattern data retrieving means for retrieving the cache file corresponding to the pattern data for the drawing device and extracting the area pattern in the pattern data for the drawing device to be highlighted, and extracted by the pattern data retrieving means, An emphasizing processing unit for emphasizing the pattern data for the drawing device to be highlighted or for the rectangular area pattern to create corresponding embossing pattern data, and the pattern data for the drawing device. Drawing in mask data for a drawing apparatus, which is provided with graphic display control means for receiving and / or highlighting pattern data and creating display pattern data for displaying, and display means for performing graphic display. A device for checking pattern data for devices.
手段から抽出するパターンデータ検索手段は、強調表示
を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形
を含むそのデータサイズ以下の四角形領域パターンを抽
出するものであることを特徴とする描画装置用のマスク
データにおける描画装置用のパターンデータの確認装
置。2. The pattern data search means for extracting an area pattern from a storage means according to claim 1, including a rectangular area pattern having a size equal to or smaller than a data size including all figures of pattern data for a drawing device to be highlighted. An apparatus for checking pattern data for a drawing device in mask data for the drawing device, wherein
ータ検索手段は、表示画面上に各描画装置用のパターン
データの名前を配列した設定画面にて、パターンデータ
の名前を、マウスを用いたダブルクリック等により指定
して、強調する描画装置用のパターンデータを指定する
ものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータ
における描画装置用のパターンデータの確認装置。3. The pattern data search means according to claim 1, wherein the pattern data name is doubled using a mouse on a setting screen in which the names of the pattern data for each drawing device are arranged on the display screen. A device for confirming pattern data for a drawing device in mask data for a drawing device, wherein pattern data for the drawing device to be emphasized is specified by clicking.
手段は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指
定する表示選別部を有するものであることを特徴とする
描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパター
ンデータの確認装置。4. The drawing device in mask data for a drawing device according to claim 3, wherein the pattern data search means has a display selection unit for selecting and designating pattern data for the drawing device to be displayed. Confirmation device for pattern data.
は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、そ
の各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッ
チング表示となるための処理を行なうものであることを
特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置
用のパターンデータの確認装置。5. The emphasis processing unit according to claim 1, wherein the pattern data to be processed is displayed in a hatched state in which each figure is filled with a predetermined display attribute when displaying the pattern data. A device for checking pattern data for a drawing device in mask data for the drawing device, which is characterized by being performed.
対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビ
ットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属
性を付与するものであることを特徴とする描画装置用の
マスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確
認装置。6. The enhancement processing unit according to claim 5, wherein the pattern data to be processed is converted into a bitmap and a predetermined display attribute is given to each pixel of the display means corresponding to the bit. A device for confirming pattern data for a drawing device in mask data for the drawing device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001277351A JP5181405B2 (en) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | Pattern data confirmation device for drawing device in mask data for drawing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001277351A JP5181405B2 (en) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | Pattern data confirmation device for drawing device in mask data for drawing device |
Publications (2)
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|---|---|
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| JP (1) | JP5181405B2 (en) |
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