JP2003081425A - 材料供給装置 - Google Patents

材料供給装置

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JP2003081425A
JP2003081425A JP2001281188A JP2001281188A JP2003081425A JP 2003081425 A JP2003081425 A JP 2003081425A JP 2001281188 A JP2001281188 A JP 2001281188A JP 2001281188 A JP2001281188 A JP 2001281188A JP 2003081425 A JP2003081425 A JP 2003081425A
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passage
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Kenji Iwami
健二 石見
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 所定量の材料を間欠的に供給するのに適した
材料供給装置を提供する。 【解決手段】 材料Mを第1室1Cから第2室2Cを経
て第3室3Cに供給する材料供給装置に関する。第1室
1Cと第2室2Cとの間に位置し、閉状態で第1室1C
と第2室2Cとの間の気密を保つ第1弁1Vと、第2室
2Cと第3室3Cとの間に位置し、閉状態で第2室2C
と第3室3Cとの間の気密を保つ第2弁2Vと、第1弁
1Vが第1室1Cと第2室2Cとの間の気密を保つ前
に、材料が第1室1Cから第2室2Cに移動するのを妨
げる第3弁3Vとを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、材料供給装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術および発明の目的】特公昭52−2086
6号には、粒状や粉状の材料の質量流量を計測する質量
流量計が開示されている。しかし、前記刊行物には、エ
アを用いて粉粒状物を間欠的に搬送することは開示され
ていない。したがって、本発明の目的は、所定量の材料
を間欠的に供給するのに適した材料供給装置を提供する
ことである。
【0003】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、材料を第1室から第2室を経て第3室に
供給する材料供給装置であって、前記第1室と前記第2
室との間に位置し閉状態で前記第1室と前記第2室との
間の気密を保つ第1弁と、前記第2室と前記第3室との
間に位置し閉状態で前記第2室と前記第3室との間の気
密を保つ第2弁と、前記第1弁が前記第1室と前記第2
室との間の気密を保つ前に、材料が前記第1室から前記
第2室に移動するのを妨げる第3弁とを備えている。
【0004】本発明において、材料は第1室から第2室
に移動した後第3室に移動する。材料が第1室から第2
室に移送された後に、第1弁が閉弁するが、この第1弁
の閉弁の直前に第3弁が閉弁して第1室から第2室に材
料が移動するのを妨げる。そのため、第1弁とその弁座
との間には材料が噛み込むおそれがない。
【0005】本発明において、材料は流動性を備えた固
定の集合で、粉状もしくは粒状、もしくは片状(紛砕物
など)、あるいは、これらの2以上の混合物であっても
よい。材料としては、たとえば、高吸水性ポリマー(高
分子吸収体)の粒子、パルプを解繊機(粉砕機)で繊維
状に解繊(紛砕)したフラッフパルプや該フラップパル
プに前記高吸水性ポリマー粒子を混入したものでもよ
い。
【0006】本発明においては、圧力源から圧送される
気体が流れる通路を更に備え、前記通路の側部に前記第
3室が開口しており、前記気体の流れにより前記第3室
内の材料が前記通路内に導入されて前記気体と共に前記
通路内を搬送されるようにするのが好ましい。この場
合、「気体」としては、空気の他に不溶性ガスなどを採
用してもよい。
【0007】また、本発明においては、第3弁を第1弁
に向って付勢するスプリングなどの弾性部材を設けるの
が好ましい。これにより、第3弁のための駆動装置を別
途設ける必要がないからである。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
したがって説明する。図1〜図4は第1実施形態を示
す。本材料供給装置は、第1室1C内の材料Mを所定量
だけ第2室2Cを介して第3室3Cに送り、更に材料M
を通路51の下流に向って搬送するものである。
【0009】第1室1Cと第2室2Cとは第1弁1Vに
より区画されている。第1弁1Vが開弁方向Aに移動す
ると、第1室1Cの材料Mが第2室2Cに移動する。ま
た、第1弁1Vが開弁方向Aとは反対の閉弁方向Bに移
動すると、第1弁1Vが閉じて、第1室1Cから第2室
2Cへの材料の供給が停止される。
【0010】第1弁1Vは閉状態において第3弁3Vお
よび第1の弁座1Rに当接する。この閉状態から、図2
のように第1弁1Vが開弁方向Aに移動すると、第1弁
1Vと第1の弁座1Rとの間に隙間S1が生じた後、こ
の隙間S1が徐々に広がり、その後、第1弁1Vと第3
弁3Vの間にも別の隙間S3が生じる。これら2つの隙
間S1,S3が保持された開状態から、第1弁1Vが閉
弁方向Bに移動すると、第1弁1Vはまず第3弁3Vに
当接する。この当接により、材料Mが第1弁1Vと第1
の弁座1Rとの間を移動しなくなる。その後、図3のよ
うに、第1弁1Vが第1の弁座1Rに当接し、第1弁1
Vと第1の弁座1Rとの間の気密が保持される。
【0011】前記構造について更に詳しく述べる。第1
弁1Vは、傾きを持つ斜面10と下面11を有する。第
1弁1Vは、たとえば、円錐形や半球や放物線を回転さ
せた形状であってもよい。第1弁1Vと第1の弁座1R
との気密が保たれた状態で、リング状の第3弁3Vが斜
面10と当接し、材料Mが第1の弁座1Rに移動するの
を妨げる。
【0012】第3弁3Vは、ばね等の弾性部材30によ
り、矢印A方向に付勢されている。第1弁1Vが開弁方
向Aに移動すると、第1弁1Vと第1の弁座1Rとの気
密が破られるが、前記第3弁3Vは所定の期間、前記弾
性部材30により下方に押されて第1弁1Vに追従して
移動し、第3弁3Vは斜面10と当接し続ける。その
後、第1弁1Vが所定の距離だけ開弁方向Aに移動する
と、図2に示すように、第3弁3Vと斜面10との間に
隙間S3ができ、この隙間S3を通過し材料が第2室2
Cに移動する。一方、図2に示す第1弁1Vが開状態か
ら閉弁方向Bに所定量だけ移動すると、第1弁1Vが第
1の弁座1Rに当接する前に、第1弁1Vの斜面10が
第3弁3Vに当接する。なお、第3弁3Vのストローク
を規制するストッパを設けてもよい。
【0013】前記第1弁1Vおよび第3弁3Vは、それ
ぞれ、所定の時間開いた後に閉弁するように制御しても
よいし、あるいは、第2室2Cに設けた第1センサ41
により材料Mの流出量を検出し、材料Mが所定量流下し
た後に閉じるように制御してもよい。図3のように、第
2室2Cに移動した材料Mは、第2室2Cに一時的に溜
まるが、図4のように、第2弁2Vが開弁方向Aに移動
することにより、材料Mは第3室3Cに移動する。材料
Mが第3室3Cに移動した後、第2弁2Vが閉弁方向B
に移動し、第2弁2Vが第2の弁座2Rに当接し、第2
弁2Vと第2の弁座2Rとの間の気密が保たれる。ここ
で、材料が「移動した後」とは、第2室2Cにある材料
Mが全て第3室3Cに移動した後のことをいう。
【0014】なお、第3室3Cに設けた第2のセンサ4
2が材料の移動終了を検知した後に、第3弁3Vが開状
態から閉じるようにしてもよい。また、第3弁3Vが開
となるタイミングは、第2室2Cの大きさや第1弁1V
が開となったタイミング、あるいは、第1センサ41が
材料Mを検知したタイミングなどに基づいて決定されて
もよい。
【0015】前記第3室3Cの下端は、搬送用の通路5
1の側部に開口している。前記通路51の上流にはコン
プレッサのような圧力源50が設けてある。該圧力源5
0はエアのような気体Gを圧送する。
【0016】第2弁2Vが第2の弁座2Rに当接し、第
2弁2Vと第2の弁座2Rとの間の気密が保たれると、
第3室3Cの材料Mが圧力源50から圧送される気体G
と共に、通路51内を搬送される。なお、前記通路51
はエアナイフ52を備えていてもよい。エアナイフ52
は通路51を横切る方向にエアを吹き付けるもので、該
エアナイフ52を設ければ材料Mを所定の塊に分けるこ
とができ、材料Mを効率良く搬送することが可能とな
る。また、通路51は複数の細い通路から形成するのが
好ましい。通路51の断面積と、細い通路の総断面積が
同じである場合には、細い通路の方が広い通路51に比
べて脈動が少なくなるからである。しかし、費用対効果
の面から必ずしも通路は複数なくてもよい。
【0017】つぎに、本装置の動作の一例について説明
する。まず、図1のように、第1室1Cに材料が供給さ
れる。第1弁1Vが開弁方向Aに移動することにより、
図2のように、第1弁1Vと第1の弁座1Rとの間に隙
間S1ができ、続いて、第1弁1Vと第3弁3Vとの間
に隙間S3ができ、所定の期間または所定の量だけ、材
料Mが第2室2Cに移動する。所定の期間または所定の
量だけ、材料Mが第2室2Cに移動した後、第1弁1V
が閉弁方向Bに移動すると、第3弁3Vにより第2室2
Cへ材料Mの供給が停止され、つづいて、図3に示すよ
うに第1弁1Vと第1の弁座1Rとの気密が保たれる。
その後、図4のように、第2弁2Vが開弁方向Aに移動
すると、第2室2Cの材料Mが第3室3Cに移動する。
このとき、第2室2Cは第3室3Cおよび通路51など
と連通するので第2室2Cの気圧は、第3室3Cと同じ
になり、第1室1Cの気圧よりも高くなる。
【0018】前記第3弁3Vを設けていないと、図2の
状態から第1弁1Vが閉弁する際に、第1弁1Vと第1
の弁座1Rとの間に材料Mが噛み込む。このように、材
料Mが噛み込むと、第1弁1Vと第1の弁座1Rとの気
密が保たれない。そのため、エアが第1室1Cに漏れ、
第1室1Cの材料Mが噴き上がったり、エアが通路51
の開口53から逃げるので、材料Mの搬送効率が低下す
るなどの不具合が生じる。
【0019】これに対し、本装置では前記第3弁3Vを
設けているので、第1弁1Vが完全に閉弁する間際(直
前)に第1室1Cから第2室2Cへの材料Mの流れが停
止する。したがって、隙間S1に材料Mが噛み込むおそ
れがないので、前述の不具合を防止し得る。
【0020】図4において、第2のセンサ42が第2室
2Cから第3室3Cへの材料Mの移動終了を検知する
と、第2弁2Vが閉弁方向Bに移動し、第2弁2Vと第
2の弁座2Rとの気密が保たれ、第3室3Cの材料Mが
圧力源50により通路51内を気体Gと共に搬送され
る。図1の第1室1Cの気圧は外気圧と略同じであり、
第2室2Cの気圧を外気圧と同じにするため、圧力調整
弁43を開く。第2室2Cの気圧が第1室1Cの気圧と
同程度になった後に、第1弁1Vを開弁方向Aに移動す
る。前記圧力調整弁43は、第2弁2Vが開弁方向Aに
移動する前に閉じればよい。なお、前記第1弁〜第3弁
1V〜3Vおよび圧力調整弁43などは、所定の制御手
段により駆動制御される。
【0021】前記第1弁1Vおよび第2弁2Vの移動
は、エアシリンダ又は油圧シリンダによって行われても
よい。また、第1弁1Vおよび第2弁2Vは、ケース6
の中央部に位置する部材7によって支持されていてもよ
い。その部材7は、ケースの中心を貫く、固定棒8によ
りケース6に支持されていてもよい。固定棒8は、第1
弁1Vおよび第2弁2Vを開閉駆動するためのエアを送
る通路を有していてもよい。固定棒8を複数設け、それ
らをケース6の中心付近で交差するように配置してもよ
い。
【0022】図5は第2実施形態を示す。本第2実施形
態において、第1室1Cは、第3弁3Vにより上下に区
画された上室1Caと下室1Cbとを有する。
【0023】図5(a)の上室1Caに収容された材料
Mは、図5(b)のように第3弁3Vが開いた後、閉じ
て、所定量だけ下室1Cbに落下して移送される。この
下室1Cbに移送された材料Mは、図5(c)のよう
に、第1弁1Vが開いた後、第1弁1Vが図5(d)の
ように閉じて第2室2Cに移送される。なお、第1弁1
Vが閉じる前に第3弁3Vを閉じればよい。その後、図
5(d)の状態から第2弁2Vを開弁すると、第2室2
C内の材料Mが第3室3Cに落下し、第2弁2Vを閉弁
すると圧力源50からの気体Gと共に第3室3Cの材料
Mが通路51内を搬送される。
【0024】ここで、図5(d)のように、前記第3弁
3Vと第3の弁座3Rとの間は材料Mが噛み込むので気
密が不完全になる。しかし、下室1Cbには所定量の材
料Mが予め供給されているので、該所定量の材料Mを下
室1Cbから第2室2Cに落下させることで、第1弁1
Vと第1の弁座1Rとの間に材料Mが噛み込むのを防止
できる。そのため、第1弁1Vと第1の弁座1Rとの間
は十分な気密性が保持されるので、前記第1実施形態と
同様な効果が得られる。なお、本第2実施形態では第1
実施形態に比べ第3弁3Vが大型になったり、第3弁3
Vの開閉制御を行う必要がある分だけ第1実施形態に比
べ制御のシーケンスが複雑になる。
【0025】なお、前記各実施形態では弁をコーン状
で、かつ、自動式としたが、弁は板状で、かつ、揺動式
にしたり、仕切弁のような形状とすることもできる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1弁の閉弁前に第3弁が閉弁して第1室から第2室に
材料が移動するのを妨げる。そのため、第1弁とその弁
座との間には材料が噛み込むおそれがないので、第1室
と第2室との間を気密状態に保持し得る。したがって、
気体を圧送する通路に第3室が開口している場合には、
前記通路内の圧力気体が第1室に逃げないので、エアに
よる仕事の効率が高まると共に、第1室内の材料が噴き
上がるおそれがない。
【0027】なお、第3弁を弾性部材により第1弁に向
って付勢するようにすれば、第3弁を駆動するための駆
動装置が不必要になる上、第3弁の電気的な制御も不必
要になるので、構造が簡易になる。更に、第1弁と第3
弁との連動が機械的に連動するので、材料供給のサイク
ルタイムも短くなり得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態にかかる材料供給装置の
初期状態を示す概略縦断面図である。
【図2】第1弁が開弁した状態の材料供給装置を示す概
略縦断面図である。
【図3】第1弁〜第3弁が閉弁した状態の材料供給装置
を示す概略縦断面図である。
【図4】第2弁が開弁した状態の材料供給装置を示す概
略縦断面図である。
【図5】第2実施形態にかかる材料供給装置による材料
供給の各工程を示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
1C:第1室 2C:第2室 3C:第3室 1V:第1弁 2V:第2弁 3V:第3弁 M:材料

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 材料を第1室から第2室を経て第3室に
    供給する材料供給装置であって、 前記第1室と前記第2室との間に位置し、閉状態で前記
    第1室と前記第2室との間の気密を保つ第1弁と、 前記第2室と前記第3室との間に位置し、閉状態で前記
    第2室と前記第3室との間の気密を保つ第2弁と、 前記第1弁が前記第1室と前記第2室との間の気密を保
    つ前に、材料が前記第1室から前記第2室に移動するの
    を妨げる第3弁とを備えた材料供給装置。
  2. 【請求項2】 材料を第1室から第2室を経て第3室に
    供給する材料供給装置であって、 前記第1室と前記第2室との間に位置し、閉状態で前記
    第1室と前記第2室との間の気密を保つ第1弁と、 前記第2室と前記第3室との間に位置し、閉状態で前記
    第2室と前記第3室との間の気密を保つ第2弁と、 前記第1弁が開弁して前記第1室から前記第2室に前記
    材料が移動し始めた後において、前記第1弁が前記第1
    室と前記第2室との間の気密を保つ前に、材料が前記第
    1室から前記第2室に移動するのを妨げる第3弁とを備
    えた材料供給装置。
  3. 【請求項3】 請求項1もしくは2において、 圧力源から圧送される気体が流れる通路を更に備え、前
    記通路の側部に前記第3室が開口しており、前記気体の
    流れにより前記第3室内の材料が前記通路内に導入され
    て前記気体と共に前記通路内を搬送される材料供給装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項1,2もしくは3において、 前記第3室の上方に前記第2室が設けられ、前記第2室
    の上方に前記第1室が設けられ、前記第1弁が弁座に接
    触する前に前記弁座よりも上方の位置において前記第3
    弁が閉弁する材料供給装置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、 前記第3弁を前記第1弁に向って付勢する弾性部材を更
    に備え、 前記第1弁が開弁状態から上昇して、前記第1弁が第3
    弁に近接ないし接触して前記材料が第1室から落下する
    のを防止し、その後、更に前記第1弁が上昇して、前記
    弾性部材が圧縮されながら前記第1弁および第3弁が上
    昇して前記第1弁が前記弁座に接触して閉弁状態となる
    材料供給装置。
  6. 【請求項6】 請求項5において、 前記第1弁が閉弁状態から下降して、前記第1室と弁座
    との間に隙間が生じた後、前記第1弁が更に下降して前
    記第1弁が前記第3弁から離れると共に前記隙間が大き
    くなって開弁状態となる材料供給装置。
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