JP2003075617A5 - - Google Patents

Description

【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、高光学品質の反射性素子例えばミラーを短時間かつ安価に製造する方法である。具体的に説明すると本発明によれば、広い温度範囲にさらされても反射性素子が正確な形状を維持できる。本発明の一態様によれば、反射性素子はシキソトロピック合金（チキソトロピック金属合金、thixotropic metal alloy）製基板上に形成された反射性層を含む。本発明の目的のためには、溶融状態以下かつ固体状態以上の特定の温度でシキソトロッピク合金は、スラリー形態（例えば半固体状、あるいは軟質状態）をとる。具体的に説明すると、シキソトロッピク合金製基板は、キャスティングステップ、モールディングステップ、又は注入−モールディングステップを用いて形成され、さらに又例えばモールド内でシキソトロッピク合金を冷却する、すなわち固体状にして整形するステップを含む。

Claims (10)

1. 整形したチキソトロピック合金製基板と、
   前記基板上に形成され、電磁エネルギーを反射する反射層と
   を有することを特徴とする反射性素子。
2. 前記基板と反射層との間に形成された重合体インターフェース層をさらに有し、基板の表面の平滑さを向上させる
   ことを特徴とする請求項１記載の反射性素子。
3. 前記基板の表面は、反射される電磁エネルギーの波長λの±１／４以上の凹凸がないことを特徴とする請求項２記載の反射性素子。
4. 前記重合体インターフェース層は熱硬化性材料を含むことを特徴とする請求項２記載の反射性素子。
5. 前記チキソトロピック合金は、Ｚｎ、Ａｌ，Ｍｇの内の少なくとも一種類を含み、
   前記反射層の材料は、Ａｕ，Ａｇ、Ａｌの内の少なくとも一種類を含むことを特徴とする請求項１記載反射性素子。
6. 前記反射層は、表面保護層を含むことを特徴とする請求項１記載の反射性素子。
7. 前記基板は、基板の完全性を向上させる支持手段を含むことを特徴とする請求項１記載の反射性素子。
8. 少なくとも一つのチキソトロピック合金を含む、注入−モールドで形成された基板と、
   前記基板上に形成され光学エネルギーを反射する反射層と、から成ることを特徴とするミラー。
9. 前記基板と反射層との間に形成され、基板の表面の平滑さを向上させる重合体インターフェース層をさらに有し、
   前記基板の表面の平滑さは、反射された光学エネルギーの波長の±１／４以上の凹凸がなく、
   前記少なくとも一つのチキソトロピック合金は、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇの内の少なくとも一種類を含み、
   前記重合体インターフェース表面は、熱硬化材料をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のミラー。
10. Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇの少なくとも一つからなる少なくとも一つチキソトロピック合金のスラリーをモールド内に注入することにより基板を形成するステップと、
    重合体インターフェース層を形成するステップとを有し、
    前記重合体インターフェース層を形成するステップは、
    基板のカーブした表面に熱硬化性材料を含むプレポリマーを塗布するステップと、
    前記カーブした表面の半径とほぼ同じ半径を持つインターフェースモールドを前記プレポリマーの上に押しつけるステップと、
    前記プレポリマーを硬化して、重合体インターフェース層を形成するステップと
    反射材料を蒸発することによって反射層を形成するステップであって、ここで、前記反射材料はＡｕ，ＡｇおよびＡｌの少なくとも一つを含み、前記反射層は前記重合体インターフェースの表面に形成され、前記重合体の表面は前記反射層によって反射される電磁エネルギーの波長λ±１／４以上の凹凸がないステップと、
    を有することを特徴とする方法。