JP2003075601A - 反射防止用転写材とその製造方法及びそれを用いた成形品並びにその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各種ディスプレイに用いられる基板、あるい
は成形品の表面に、加工コスト、生産性に優れ、反射防
止性、外観性、耐久性にも優れた反射防止膜を形成する
ことのできる反射防止用転写材とその製造方法、この反
射防止用転写材を用いた成形品並びにその製造方法を提
供する。 【解決手段】 本発明の反射防止用転写材は、離型性を
有するシート１の表面に、シリコンアルコキシドの部分
加水分解物を含む透明低屈折率層２、金属酸化物微粒子
とシリコンアルコキシドの部分加水分解物を含む透明高
屈折率層３、接着層４が順次形成され、シリコンアルコ
キシドは、次の式 Ｓｉ（ＯＲ¹）_mＲ² _n ………（１） （ただし、Ｒ¹、Ｒ²はアルキル基であり、ｍは１〜４の
整数、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎ＝４であ
る）で表される化合物であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止用転写材
とその製造方法及びそれを用いた成形品並びにその製造
方法に関し、更に詳しくは、プラスチック製、ガラス製
等の成形品に反射防止膜を形成することのできる反射防
止用転写材とその製造方法及びそれを用いた成形品並び
にその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ブラウン管（Cathode-Ray Tube：
ＣＲＴ）をはじめ、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal
Display：ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Pl
asmaDisplay Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイパネル（Electroluminescent Display
Panel：ＥＬＰ）、エレクトロクロミックディスプレイ
（Electrochemical Chromic Display：ＥＣＤ）等、デ
ィスプレイ分野、特にフラットパネル型ディスプレイの
分野においては、その進歩は目ざましく、屋内のみなら
ず携帯電話、携帯用情報端末等の移動端末の普及に伴
い、屋外でも使用されるようになってきた。これらのデ
ィスプレイにおいては、特に屋外で使用する場合の表示
画面の視認性を高めるために、従来よりもさらに優れた
反射防止効果を持ち、耐久性にも優れた反射防止膜を各
種ディスプレイの表面に設けることが必要とされてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のディ
スプレイ分野、特にフラットパネル型ディスプレイの分
野においては、反射防止膜をディスプレイの表面に設け
る方法として、ガラス板、あるいはアクリル板等からな
るプラスチック板の前面に反射防止膜を形成する方法と
して、その前面に直接反射防止材料をコーティングする
方法がある。しかしながら、この方法では、１枚ずつコ
ーティングを行うこととなり、また、反射防止層を得る
ためには複数の層を順次形成していくため、工程数が多
くなり、したがって、生産性、歩留りが悪く、加工コス
トが高くなるという問題点があった。さらに、良好な外
観を得ることが困難であるという問題点もあった。

【０００４】また、成形品に反射防止機能を付与する方
法として、プラスチックフィルムにあらかじめ反射防止
膜をコーティングし、このプラスチックフィルムを各種
成形品の前面に貼る方法があるが、この方法では、成形
品の３次元の曲面や微細な凹凸を有する面への強力な接
着は困難である。また、長時間使用、保管することによ
りプラスチックフィルムが剥離する等の問題も発生す
る。そのため、離型性のプラスチックフィルム等の上に
反射防止層と接着層を形成し、成形品と反射防止層を接
着層を介して接着した後、離形性のプラスチックフィル
ムを取り除く、いわゆる転写による方法も考えられてい
る。しかし、転写による方法の場合、反射防止膜を形成
する複数の層間の密着性が問題となり、転写の際、剥離
する、変形する、耐久性に劣る等の問題点があった。

【０００５】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、各種ディスプレイに用いられる基
板、あるいは成形品の表面に、加工コスト、生産性に優
れ、反射防止性、外観性、耐久性にも優れた反射防止膜
を形成することのできる反射防止用転写材とその製造方
法、この反射防止用転写材を用いた成形品並びにその製
造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次の様な反射防止用転写材とその製造方法
及びそれを用いた成形品並びにその製造方法を採用し
た。すなわち、本発明の請求項１記載の反射防止用転写
材は、離型性を有するシート状の基体の一主面に、シリ
コンアルコキシドの部分加水分解物を含む第１の塗布液
により透明低屈折率層が形成され、この透明低屈折率層
の上に金属酸化物微粒子とシリコンアルコキシドの部分
加水分解物を含む第２の塗布液により透明高屈折率層が
形成され、この透明高屈折率層の上に接着層が形成さ
れ、前記シリコンアルコキシドは、下記の一般式 Ｓｉ（ＯＲ¹）_mＲ² _n ………（１） （ただし、Ｒ¹、Ｒ²はアルキル基であり、ｍは１〜４の
整数、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎ＝４であ
る）で表される化合物であることを特徴とする。

【０００７】請求項２記載の反射防止用転写材は、シー
ト状の基体の一主面に、剥離性を有する樹脂層が形成さ
れ、この樹脂層の上にシリコンアルコキシドの部分加水
分解物を含む第１の塗布液により透明低屈折率層が形成
され、この透明低屈折率層の上に金属酸化物微粒子とシ
リコンアルコキシドの部分加水分解物を含む第２の塗布
液により透明高屈折率層が形成され、この透明高屈折率
層の上に接着層が形成され、前記シリコンアルコキシド
は、下記の一般式 Ｓｉ（ＯＲ¹）_mＲ² _n ………（１） （ただし、Ｒ¹、Ｒ²はアルキル基であり、ｍは１〜４の
整数、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎ＝４であ
る）で表される化合物であることを特徴とする。

【０００８】請求項３記載の反射防止用転写材は、請求
項１または２記載の反射防止用転写材において、前記シ
リコンアルコキシドの部分加水分解物の分子量は、１０
０〜３０００であることを特徴とする。

【０００９】請求項４記載の反射防止用転写材は、請求
項１、２または３記載の反射防止用転写材において、前
記シリコンアルコキシドは、Ｒ¹がメチル基またはエチ
ル基であり、Ｒ²が有機官能基であることを特徴とす
る。

【００１０】請求項５記載の反射防止用転写材は、請求
項１ないし４のいずれか１項記載の反射防止用転写材に
おいて、前記金属酸化物は、酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化セリ
ウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化スズ、酸化ルテ
ニウム、酸化インジウムから選択された少なくとも１種
であることを特徴とする。

【００１１】請求項６記載の反射防止用転写材は、請求
項１ないし５のいずれか１項記載の反射防止用転写材に
おいて、前記シリコンアルコキシドは、複数種のシリコ
ンアルコキシドを含むことを特徴とする。

【００１２】請求項７記載の反射防止用転写材は、請求
項１ないし６のいずれか１項記載の反射防止用転写材に
おいて、前記透明高屈折率層と前記接着層との間には、
中間屈折率層が形成されていることを特徴とする。

【００１３】請求項８記載の成形品は、成形体の表面に
請求項１ないし７のいずれか１項記載の反射防止用転写
材を転写することにより、前記成形体の表面に反射防止
膜が形成されたことを特徴とする。

【００１４】請求項９記載の反射防止用転写材の製造方
法は、離型性を有するシート状の基体の一主面に、シリ
コンアルコキシドを触媒下で部分加水分解することによ
り得られたシリコンアルコキシドの部分加水分解物を含
有する第１の塗布液を塗布することにより透明低屈折率
層を形成し、この透明低屈折率層の上にシリコンアルコ
キシドを触媒下で部分加水分解することにより得られた
シリコンアルコキシドの部分加水分解物と金属酸化物を
含有する第２の塗布液を塗布することにより透明高屈折
率層を形成し、この透明高屈折率層の上に接着層を形成
することを特徴とする。

【００１５】請求項１０記載の反射防止用転写材の製造
方法は、シート状の基体の一主面に、剥離性を有する樹
脂層を形成し、この樹脂層の上にシリコンアルコキシド
を触媒下で部分加水分解することにより得られたシリコ
ンアルコキシドの部分加水分解物を含有する第１の塗布
液を塗布することにより透明低屈折率層を形成し、この
透明低屈折率層の上にシリコンアルコキシドを触媒下で
部分加水分解することにより得られたシリコンアルコキ
シドの部分加水分解物と金属酸化物を含有する第２の塗
布液を塗布することにより透明高屈折率層を形成し、こ
の透明高屈折率層の上に接着層を形成することを特徴と
する。

【００１６】請求項１１記載の反射防止用転写材の製造
方法は、請求項９または１０記載の反射防止用転写材の
製造方法において、前記触媒は酸性触媒であることを特
徴とする。

【００１７】請求項１２記載の反射防止用転写材の製造
方法は、請求項９、１０または１１記載の反射防止用転
写材の製造方法において、前記シリコンアルコキシドの
部分加水分解物の分子量は１００〜３０００であること
を特徴とする。

【００１８】請求項１３記載の成形品の製造方法は、請
求項１ないし７のいずれか１項記載の反射防止用転写材
を射出成形金型内に挟み込み、前記反射防止用転写材の
接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成形体を
形成すると同時に、該樹脂成形体の表面に前記転写材を
接着させ、その後、離型性を有する基体シートまたは剥
離性を有する樹脂層を剥離することを特徴とする。

【００１９】請求項１４記載の成形品の製造方法は、請
求項１ないし７のいずれか１項記載の反射防止用転写材
の接着層側を樹脂成形体に重ね、基体シート上から熱圧
をかけることにより樹脂成形体の表面に前記反射防止用
転写材を接着させ、その後、離型性を有する基体シート
または剥離性を有する樹脂層を剥離することを特徴とす
る。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止用転写材とその
製造方法及びそれを用いた成形品並びにその製造方法の
各実施の形態について説明する。なお、これらの実施の
形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的
に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を
限定するものではない。

【００２１】「第１の実施形態」図１は、本発明の第１
の実施形態の反射防止用転写材を示す断面図であり、図
において、符号１は離型性を有するシート（シート状の
基体）、２はシート１の表面（一主面）に形成されたシ
リコンアルコキシドの部分加水分解物を含む第１の塗布
液を塗布してなる透明低屈折率層、３は透明低屈折率層
２の上に形成された金属酸化物微粒子とシリコンアルコ
キシドの部分加水分解物を含む第２の塗布液を塗布して
なる透明高屈折率層、４は透明高屈折率層３の上に形成
された接着層である。これら透明低屈折率層２〜接着層
４により反射防止膜５が構成されている。

【００２２】シート１は、その材料は特に限定されるも
のではないが、変形又は屈曲可能なプラスチックによる
フィルムが適当である。例えば、ポリエステル、セルロ
ースアセテート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ
アミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスル
ホン、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリル酸メ
チル、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポ
リウレタン等の延伸又は未延伸の透明プラスチックフィ
ルム等が挙げられる。

【００２３】このシート１自体は、透明低屈折率層２を
シート１から剥離した際にシート１側に透明低屈折率層
２が全く残らないような離型性を有しているか、離型性
が付与されたものであれば、離型性を有するシート１と
して使用することができる。付与されたものは、例え
ば、ワックス類、高級脂肪酸の塩又はエステル類、フッ
化アルキル化化合物、ポリビニルアルコール、低分子量
ポリエチレン等の離型剤が添加される等である。シート
１の厚さは、特に限定されるものではないが、通常４〜
１５０μｍの範囲、好ましくは１２〜１００μｍの範
囲、さらに好ましくは２０〜５０μｍの範囲のものを用
いるのが、しわや亀裂などのない反射防止用転写材の製
造が容易となる点から好ましい。

【００２４】上記の第１の塗布液の主成分となるシリコ
ンアルコキシドとは、下記の一般式 Ｓｉ（ＯＲ¹）_mＲ² _n ………（１） （ただし、Ｒ¹、Ｒ²はアルキル基であり、ｍは１〜４の
整数、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎ＝４であ
る）で表される化合物である。ここで、Ｒ¹、Ｒ²はアル
キル基であればよく、特に限定されるものではないが、
転写後の反射防止膜の強度および硬度の点から、Ｒ¹は
メチル基あるいはエチル基が好ましく、Ｒ²は、メチル
基、エチル基、エポキシ基、フェニル基、ビニル基、ア
ミノ基のいずれかが好ましい。

【００２５】上記の一般式（１）で表されるシリコンア
ルコキシドにたいして部分加水分解を行なうことによ
り、シリコンアルコキシドの部分加水分解物を得る。こ
のシリコンアルコキシドの部分加水分解物の分子量は、
１００〜３０００が好ましく、さらには、３００〜２０
００が好ましい。その理由は、シリコンアルコキシドの
部分加水分解物の分子量が１００より小さいと、加水分
解反応が十分に進んでおらず、シート１への塗布時にハ
ジキが発生し易くなるからであり、また、シリコンアル
コキシドの部分加水分解物の分子量が３０００より大き
いと、部分加水分解物間の反応性が低くなるため、生成
する膜の強度が低くなるからである。

【００２６】このシリコンアルコキシドの部分加水分解
物は、シリコンアルコキシドと、水と、加水分解を促進
する触媒とを有機溶媒中で混合することにより得られ
る。上記触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、り
ん酸等の酸や、アンモニア、水酸化ナトリウムのアルカ
リが挙げられるが、薄膜形成性および形成される膜の強
度の点から塩酸、硝酸、硫酸、リン酸等の酸性触媒が好
ましい。有機溶媒としては、例えば、アルコール類、エ
チレングリコール（二価アルコール）類、酢酸エステル
類、ケトン類等が挙げられる。

【００２７】こうして得られた液状のシリコンアルコキ
シドの部分加水分解物を、アルコール類、エチレングリ
コール類、酢酸エステル類、ケトン類等の有機溶媒中に
分散させ、透明低屈折率層２形成用の（第１の）塗料を
得る。この塗料をシート１上に塗布し、８０〜１２０
℃、３０秒〜２分乾燥することにより、透明低屈折率層
２が形成される。塗布方法としては、スピンコート法、
スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、
スリットコーター法、ロールコーター法、ダイコータ
法、リバースコータ法等から適宜選択できるが、薄膜塗
工性および経済性の点からグラビアコート法あるいはリ
バースコート法が好ましい。

【００２８】透明低屈折率層２の膜厚は５０〜１５０ｎ
ｍが好ましい。その理由は、膜厚が１５０ｎｍを超える
か、あるいは５０ｎｍ未満の場合、必要とする反射防止
効果が得られなくなるからである。透明低屈折率層２の
屈折率は、１．４０〜１．５０が好ましい。

【００２９】透明高屈折率層３中に含まれる金属酸化物
微粒子としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化イッ
トリウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化チタ
ン、酸化スズ、酸化ルテニウム、酸化インジウム、酸化
セリウム、酸化タンタル等からなる微粒子、または、こ
れらの金属酸化物微粒子から選択された２種以上の金属
酸化物微粒子の混合物を用いることができる。金属酸化
物微粒子の平均１次粒子径は、５〜１００ｎｍが好まし
く、さらに好ましくは１０〜５０ｎｍである。その理由
は、金属酸化物微粒子の平均１次粒子径が５ｎｍより小
さいと、結晶化度が低いため粒子の屈折率が低くなり、
また、１００ｎｍより大きいと、ミー散乱のため膜の白
化が起こるからである。

【００３０】透明高屈折率層３形成用の（第２の）塗料
は、上記の一般式（１）で表されるシリコンアルコキシ
ドと、上記の金属酸化物微粒子と、水と、加水分解を促
進する触媒と、分散剤とを、超音波分散機、ホモジナイ
ザー、サンドミル等を用いた通常の方法で有機溶媒中に
混合分散させることで得られる。上記の触媒としては、
例えば、塩酸、硝酸、硫酸、りん酸等の酸や、アンモニ
ア、水酸化ナトリウム等のアルカリが挙げられるが、薄
膜形成性および形成される膜の強度の点から塩酸、硝
酸、硫酸、リン酸等の酸性触媒が好ましい。有機溶媒と
しては、例えば、アルコール類、エチレングリコール
（二価アルコール）類、酢酸エステル類、ケトン類等が
挙げられる。

【００３１】こうして得られた透明高屈折率層３形成用
の塗料を、透明低屈折率層２の上に塗布し、８０〜１２
０ ℃、３０秒〜２分乾燥することにより透明高屈折率
層３が形成される。この透明高屈折率層３中の金属酸化
物微粒子の含有量は、５０ｗｔ％〜９０ｗｔ％が好まし
い。塗布方法としては、スピンコート法、スプレーコー
ト法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコー
ター法、ロールコーター法、ダイコータ法、リバースコ
ータ法等から適宜選択できるが、薄膜塗工性、経済性か
ら、グラビアコート法、リバースロール法が好ましい。

【００３２】透明高屈折率層３の膜厚としては、好まし
くは５０〜１５０ｎｍである。その理由は、膜厚が１５
０ｎｍを超えるか、あるいは５０ｎｍ未満とした場合、
必要とする反射防止効果が得られなくなるからである。
透明高屈折率層３の屈折率は、透明低屈折率層２の屈折
率（１．４０〜１．５０）より高いものであればよく、
好ましくは１．６５〜２．００である。

【００３３】透明低屈折率層２または透明高屈折率層３
を形成する際、２種類以上のシリコンアルコキシドを用
いることもできる。２種類以上のシリコンアルコキシド
を組み合わせることにより、シリカおよびシリケートの
骨格を有機物で修飾することになり、透明低屈折率層２
と透明高屈折率層３との密着性が向上するだけではな
く、柔軟性も向上し、転写材を作成する際の各層間の剥
離がさらに起き難くなる。

【００３４】組合せとしては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、テトラエトキシシラン（Ｒ¹：エチル
基、ｍ＝４、ｎ＝０）とメチルトリメトキシシラン（Ｒ
¹：メチル基、ｍ＝３、ｎ＝１）、テトラメトキシシラ
ン（Ｒ¹：メチル基、ｍ＝４、ｎ＝０）とビニルトリメ
トキシシラン（Ｒ¹：メチル基、Ｒ²：ビニル基、ｍ＝
３、ｎ＝１）、テトラメトキシシラン（Ｒ¹：メチル
基、ｍ＝４、ｎ＝０）とフェニルトリエトキシシラン
（Ｒ¹：エチル基、Ｒ²：フェニル基、ｍ＝３、ｎ＝
１）、テトラメトキシシラン（Ｒ¹：メチル基、ｍ＝
４、ｎ＝０）とジフェニルトリエトキシシラン（Ｒ¹：
エチル基、Ｒ²：フェニル基、ｍ＝２、ｎ＝２）等の組
合わせが好適である。

【００３５】接着層４の材料としては、例えば、アクリ
ル系樹脂、塩素化オレフィン系樹脂、塩化ビニルー酢酸
ビニル共重合体樹脂、マレイン酸系樹脂、塩化ゴム系樹
脂、環化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、クマロンイン
デン系樹脂、エチレンー酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、
塩化ビニル系樹脂等が挙げられる。接着層４の膜厚は、
例えば０．５〜５．０μｍ程度が好適である。接着層４
は、公知の方法により形成することができる。

【００３６】本実施形態では、透明低屈折率層２と透明
高屈折率層３とが、上記の一般式（１）で表されるシリ
コンアルコキシドの部分加水分解物を含むため、シート
１と透明低屈折率層２との離型性に優れるとともに、透
明低屈折率層２と透明高屈折率層３との密着性に非常に
優れたものとなり、転写時においても透明低屈折率層２
と透明高屈折率層３との剥離や変形がおきない。この反
射防止用転写材を成形体の表面に転写すると、この成形
体の表面に優れた反射防止膜を形成することができる。
特に、シリコンアルコキシドの部分加水分解物の分子量
が１００〜３０００のものを用いると、部分加水分解物
間の高い反応性により特に優れた密着性を得ることがで
きる。

【００３７】このように、本実施形態では、透明高屈折
率層３を、シリコンアルコキシドの部分加水分解物と金
属酸化物微粒子を含む塗料により形成するため、強度に
優れたものとなる。また、透明高屈折率層３の厚みは５
０〜１５０ｎｍで充分であるから、透明性等の光学特性
に優れた反射防止膜を得ることができる。また、膜厚が
薄いため、外観性にも優れたものとなる。従来、透明高
屈折率層を金属酸化物とアクリル樹脂等の有機樹脂で形
成した転写材料があるが、これらは、透明低屈折率層と
の密着性に劣るだけではなく、透明高屈折率層自体の硬
度を確保するためには、例えば０．５μｍ以上といった
厚みが必要であり、したがって、透明性等の光学特性が
劣ったものであった。本実施形態の反射防止用転写材
は、従来の転写材料の有する欠点を解消するばかりでは
なく、強度、透明性等の光学特性、外観性に優れた反射
防止膜を得ることができるものである。

【００３８】また、本実施形態では、転写後に外層とな
る透明低屈折率層２をシリコンアルコキシドの部分加水
分解物を含む塗料を用いて形成しているため、強度に優
れた膜となり、別にハードコート層を設ける必要もな
い。さらに、本実施形態では、離型性を有するシート１
の上に、透明低屈折率層２、透明高屈折率層３を、蒸着
法やスパッタ法などの気相法ではなく、塗布法により形
成するため、低コストでの転写材の製造が可能となる。

【００３９】また、本実施形態では、図２に示すよう
に、さらに、必要に応じて、透明高屈折率層３の上に透
明中間屈折率層１１を形成することで、４層構造の反射
防止膜１２としてもよい。この場合、透明中間屈折率層
１１は、金属酸化物微粒子とシリコンアルコキシドの加
水分解物を含む塗料により形成され、その屈折率は、
１．５０〜１．６５が好ましい。シリコンアルコキシド
の加水分解物は、透明高屈折率層３の場合と同様に作製
される。また、使用する金属酸化物微粒子は、例えば、
酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化スズ、酸化ルテニウ
ム、酸化インジウム、酸化セリウム、酸化タンタルの１
種または２種以上の混合物を用いることができる。透明
中間屈折率層中における金属酸化物微粒子の含有量は、
５０ｗｔ％〜９０ｗｔ％が好ましい。

【００４０】また、本実施形態では、透明低屈折率層２
と透明高屈折率層３、あるいはそれに加えて透明中間屈
折率層１１とで構成される反射防止層と、接着層４との
間に図柄層を設けてもよい。さらに、必要に応じて、透
明高屈折率層３または透明中間屈折率層１１に帯電防止
機能、電磁波遮蔽機能を付加するために、導電性フィラ
ーを含有させてもよく、また、カーボン、染料、顔料等
の着色料を含有させてもよい。

【００４１】「第２の実施形態」図３は、本発明の第２
の実施形態の反射防止用転写材を示す断面図であり、本
実施形態の反射防止用転写材が、上述した第１の実施形
態の反射防止用転写材と異なる点は、第１の実施形態の
反射防止用転写材では、離型性を有するシート１の表面
に直接、透明低屈折率層２を形成したのに対し、本実施
形態の反射防止用転写材では、透明低屈折率層２に対し
て十分な剥離性を有しないシート（シート状の基体）２
１の表面（一主面）に、剥離性を有する樹脂層２２を形
成し、この樹脂層２２の上に透明低屈折率層２を形成し
た点である。これら透明低屈折率層２〜接着層４により
反射防止膜５とされ、シート２１及び剥離性を有する樹
脂層２２により剥離性を有するシート２３とされてい
る。

【００４２】剥離性を有する樹脂層２２の材料として
は、例えば、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキ
シメラミン系樹脂、アミノアルキッド系樹脂、シリコン
系樹脂、フッ素系樹脂、オレフィン系樹脂、ウレタン系
樹脂、アクリル樹脂、または、これらの樹脂から選択さ
れた２種以上の樹脂を含む複合型樹脂等の材料が好適に
用いられる。

【００４３】この樹脂層２２は、例えば、グラビアコー
ト法、ロールコート法、スプレーコート法、リップコー
ト法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート
法、押出しコート法、スクリーンコート法等の公知の方
法により、上記材料をシート２１上に塗布し、乾燥して
形成することができる。この場合の樹脂層２２の厚みは
特に限定されるものではないが、透明低屈折率層２に対
して十分な剥離効果及び表面平滑性が得られる最少膜厚
の点から、０．５〜５．０μｍ程度が好ましい。

【００４４】本実施形態の反射防止用転写材において
も、第１の実施形態の反射防止用転写材と全く同様の作
用・効果を奏することができる。しかも、シート２１
が、透明低屈折率層２に対して十分な剥離性を有しない
材質であっても、その表面に剥離性を有する樹脂層２２
を形成することで、第１の実施形態のシート１と全く同
様の効果が得られるので、その適用範囲が大幅に広ま
る。

【００４５】「第３の実施形態」図４は、本発明の第３
の実施形態の成形品を示す断面図であり、プラスチック
製の成形体３１の表面に第１の実施形態の接着層４〜透
明低屈折率層２からなる反射防止膜５が形成されてい
る。この成形品は、第１の実施形態の反射防止用転写材
を射出成形金型内に挟み込み、この反射防止用転写材の
接着層４側に溶融樹脂を射出することにより、樹脂成形
体を形成すると同時に、この樹脂成形体の表面に前記反
射防止用転写材の接着層４を接着させ、その後、シート
１を剥離することにより、その表面に反射防止膜５を形
成することができる。

【００４６】このように、成形体３１の表面に、反射防
止機能を付与することができる。この際、本発明の転写
材を使用することにより、溶融樹脂が金型内に射出され
ても熱により反射防止膜５が変形することがなく、ま
た、透明高屈折率層３と透明低屈折率層２との密着性が
高いため剥離することもなく、優れた反射防止膜５を成
形体３１の表面に形成することができる。

【００４７】ここで、成形品としては、特に限定される
ものではないが、例えば、ワープロ、コンピュータ、テ
レビ、ディスプレイパネル、携帯電話等の各種のディス
プレイの前面板、液晶表示装置等に用いる導光板の表
面、透明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度
付きめがねレンズ、カメラのファインダーレンズ等の光
学レンズ、各種計器の表示部、自動車、電車等の窓ガラ
ス等が挙げられる。なお、これらの成形品は、樹脂以外
の材料、例えば、ガラス等により形成されている場合で
あっても、樹脂と同様の効果を発揮することができる。

【００４８】射出成形用の樹脂としては、上記導光板の
表面、光学レンズ、各種計器の表示部、自動車、電車等
の窓ガラス等を構成し得るものであれば、その材料は特
に限定されるものではなく、例えば、アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂（ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリフェニレ
ンオキシドスチレン共重合体等）、ポリオレフィン系樹
脂（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネ
ート樹脂等が挙げられる。

【００４９】なお、射出成形金型は、樹脂成形品を製造
する際に、通常使用されるものであれば、どのようなも
のでも利用することができる。また、本実施形態の成形
品では、成形体３１の表面に第１の実施形態の反射防止
膜５を形成したが、第２の実施形態（または第３の実施
形態）の反射防止膜１２（５）を形成した構成としても
よい。

【００５０】「第４の実施形態」本発明の第４の実施形
態の成形品の製造方法について説明する。この成形品の
製造方法は、第１の実施形態の反射防止用転写材の接着
層４側を樹脂成形体に重ね、この重ねた状態で、シート
１上から熱圧をかけることにより樹脂成形体の表面に反
射防止用転写材の接着層４を接着させ、その後、シート
１を剥離する。

【００５１】このようにして、樹脂成形体の表面に反射
防止機能を付与することができる。シート１上からの熱
圧は、例えば、シリコンゴムロールを用いて行うことが
できる。この場合、シリコンゴムロール表面は１５０〜
２５０℃程度の温度、５〜２０ｋｇ／ｃｍ²程度の圧力
が適当である。本発明の転写材を使用することにより、
熱により反射防止膜５が変形することがなく、また、透
明高屈折率層３と透明低屈折率層２との密着性が高いた
め、剥離することもなく、優れた反射防止膜５を成形体
の表面に形成することができる。

【００５２】本実施形態の成形品では、樹脂成形体の表
面に第１の実施形態の反射防止膜５を形成したが、第２
の実施形態（または第３の実施形態）の反射防止膜１２
（５）を形成した構成としてもよい。

【００５３】

【実施例】以下、本発明の反射防止用転写材とその製造
方法及びそれを用いた成形品並びにその製造方法につい
て、実施例及び比較例により具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例によって限定されるものではない。

【００５４】（実施例１）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、ウ
レタン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚
さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得た。また、
透明低屈折率層２形成用塗料を作製した。ここでは、テ
トラエトキシシラン８．６７ｇを、１規定の硝酸０．７
９ｇ、純水７．５１ｇおよびエチルアルコール８３．０
３ｇを含有する混合液で加水分解させ、ゲル・パーミェ
ーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）による測定で分
子量が１２００になるように調製し、その後、エチルア
ルコールで２ｗｔ％に希釈して塗料とした。

【００５５】次いで、この塗料を、前記シート２３上に
グラビア印刷法にて塗布した。塗布膜の厚さは１００ｎ
ｍとし、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明低屈
折率層２とした。

【００５６】次いで、この透明低屈折率層２の上に透明
高屈折率層３を形成するために、超微粒子分散型の透明
高屈折率層３形成用塗料（塗布液）を作製した。ここで
は、テトラメトキシシラン０．４２ｇと、１規定の硝酸
０．０４ｇと、純水０．３６ｇと、エチルアルコール
９．１８ｇを混合して加水分解反応を行った溶液に、酸
化チタン微粉末（テイカ社製：ＭＴ−１５０Ｗ、粒径１
５ｎｍ）１．５ｇと、プロピレングリコールモノエチル
エーテル１０ｇと、エチルアルコール７８．５ｇを混合
し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで１０分
間分散させて均一化し、塗料とした。

【００５７】次いで、この塗料を、透明低屈折率層２の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１２０ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明高
屈折率層３とした。その後、この透明高屈折率層３の上
に、接着層４をグラビア印刷法にて、膜厚が２μｍとな
るように塗工し、反射防止用転写材を得た。その後、こ
の反射防止用転写材をアクリル板の片面に転写し、特性
評価を行った。

【００５８】（実施例２）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、ウ
レタン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚
さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得た。また、
透明低屈折率層２形成用塗料を作製した。ここでは、テ
トラエトキシシラン８．６７ｇを、１規定の硝酸０．７
９ｇ、純水７．５１ｇおよびエチルアルコール８３．０
３ｇを含有する混合液で加水分解させ、ゲル・パーミェ
ーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）による測定で分
子量が１５００になるように調製し、その後、エチルア
ルコールで２ｗｔ％に希釈して塗料とした。

【００５９】次いで、この塗料を、前記シート２３上に
グラビア印刷法にて塗布した。塗布膜の厚さは１００ｎ
ｍとし、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明低屈
折率層２とした。

【００６０】次いで、この透明低屈折率層２の上に透明
高屈折率層３を形成するために、超微粒子分散型の透明
高屈折率層３形成用塗料（塗布液）を作製した。ここで
は、テトラメトキシシラン０．４２ｇと、１規定の硝酸
０．０４ｇと、純水０．３６ｇと、エチルアルコール
９．１８ｇを混合して加水分解反応を行った溶液に、酸
化チタン微粉末（テイカ社製：ＭＴ−１５０Ｗ、粒径１
５ｎｍ）１．５ｇと、プロピレングリコールモノエチル
エーテル１０ｇと、エチルアルコール７８．５ｇを混合
し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで１０分
間分散させて均一化し、塗料とした。

【００６１】次いで、この塗料を、透明低屈折率層２の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１２０ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明高
屈折率層３とした。

【００６２】次いで、この透明高屈折率層３の上に透明
中間屈折率層１１を形成するために、超微粒子分散型の
透明中間屈折率層１１形成用塗料（塗布液）を作製し
た。ここでは、テトラメトキシシラン０．４２ｇと、１
規定の硝酸０．０４ｇと、純水０．３６ｇと、エチルア
ルコール９．１８ｇを混合して加水分解反応を行った溶
液に、酸化スズ微粉末（住友大阪セメント社製：粒径１
０〜２０ｎｍ）１．５ｇと、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル１０ｇと、エチルアルコール７８．５ｇ
を添加し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで
１０分間分散させて均一化し、塗料とした。

【００６３】次いで、この塗料を、透明高屈折率層３の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１００ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明中
間屈折率層１１とした。その後、この透明中間屈折率層
１１の上に、接着層４をグラビア印刷法にて、膜厚が２
μｍとなるように塗工し、反射防止用転写材を得た。そ
の後、この反射防止用転写材をアクリル板の片面に転写
し、特性評価を行った。

【００６４】（実施例３）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、ウ
レタン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚
さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得た。また、
透明低屈折率層２形成用塗料を作製した。ここでは、テ
トラエトキシシラン５．２０ｇとビニルトリメトキシシ
ラン１．８７ｇの混合液を、１規定の硝酸０．６５ｇ、
純水６．２０ｇおよびエチルアルコール８６．０８ｇを
含有する混合液で加水分解させ、ゲル・パーミェーショ
ン・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）による測定で分子量が
１８００になるように調製し、その後、エチルアルコー
ルで２ｗｔ％に希釈して塗料とした。

【００６５】次いで、この塗料を、前記シート２３上に
グラビア印刷法にて塗布した。塗布膜の厚さは１００ｎ
ｍとし、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明低屈
折率層２とした。

【００６６】次いで、この透明低屈折率層２の上に透明
高屈折率層３を形成するために、超微粒子分散型の透明
高屈折率層３形成用塗料（塗布液）を作製した。ここで
は、テトラメトキシシラン０．４２ｇと、１規定の硝酸
０．０４ｇと、純水０．３６ｇと、エチルアルコール
９．１８ｇを混合して加水分解反応を行った溶液に、酸
化チタン微粉末（テイカ社製：ＭＴ−１５０Ｗ、粒径１
５ｎｍ）１．５ｇと、プロピレングリコールモノエチル
エーテル１０ｇと、エチルアルコール７８．５ｇを混合
し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで１０分
間分散させて均一化し、塗料とした。

【００６７】次いで、この塗料を、透明低屈折率層２の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１２０ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明高
屈折率層３とした。その後、この透明高屈折率層３の上
に、接着層４をグラビア印刷法にて、膜厚が２μｍとな
るように塗工し、反射防止用転写材を得た。その後、こ
の反射防止用転写材をアクリル板の片面に転写し、特性
評価を行った。

【００６８】（比較例１）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、ウ
レタン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚
さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得た。次い
で、このシート２３上に、実施例１で用いた低屈折率層
形成用塗料を、同じ条件で塗布、乾燥し、透明低屈折率
層２を形成した。

【００６９】次いで、この透明低屈折率層２の上に透明
高屈折率層３を形成するために、超微粒子分散型の透明
高屈折率層３形成用塗料（塗布液）を作製した。ここで
は、アクリル樹脂（大日本インキ化学社製：アクリディ
ック ＤＬ−９６７）２２．２２ｇと、エチルアルコー
ル５７．７８ｇと、ブチルアルコール２０．００ｇを混
合した溶液４．５０ｇに、酸化チタン微粉末（テイカ社
製：ＭＴ−１５０Ｗ）２．５５ｇとプロピレングリコー
ル１０．００ｇと、エチルアルコール８２．９５ｇを混
合し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで１０
分間分散させて均一化し、塗料とした。

【００７０】次いで、この塗料を、透明低屈折率層２の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１２０ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明高
屈折率層３とした。その後、この透明高屈折率層３の上
に、接着層４をグラビア印刷法にて、膜厚が２μｍとな
るように塗工し、反射防止用転写材を得た。その後、こ
の反射防止用転写材をアクリル板の片面に転写し、特性
評価を行った。

【００７１】（比較例２）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、ウ
レタン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚
さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得た。次い
で、このシート２３上に、実施例１で用いた低屈折率層
形成用塗料を、同じ条件で塗布、乾燥し、透明低屈折率
層２を形成した。

【００７２】次いで、この透明低屈折率層２の上に透明
高屈折率層３を形成するために、透明高屈折率層３形成
用塗料（塗布液）を作製した。ここでは、アクリル系紫
外線（ＵＶ）硬化性樹脂（東亜合成社製：アロニックス
ＵＶ−３７０１）１０．００ｇと、エチルアルコール
５０．００ｇと、ブチルセロソルブ４０．００ｇを混合
した溶液４．５０ｇに、酸化チタン微粉末（テイカ社
製：ＭＴ−１５０Ｗ）２．５５ｇとプロピレングリコー
ル２０．００ｇと、エチルアルコール７２．９５ｇを混
合し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで１０
分間分散させて均一化し、塗料とした。

【００７３】次いで、この塗料を、透明低屈折率層２の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１２０ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明高
屈折率層３とした。その後、この透明高屈折率層３の上
に、接着層４をグラビア印刷法にて、膜厚が２μｍとな
るように塗工し、反射防止用転写材を得た。その後、こ
の反射防止用転写材をアクリル板の片面に転写し、特性
評価を行った。

【００７４】（比較例３）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、ウ
レタン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚
さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得た。次い
で、このシート２３上に、フッ素系低屈折率ポリマー材
料（ＪＳＲ社製：ＪＮ７２１５）を、グラビア印刷法に
て厚さが１００ｎｍとなるように塗工し、その後、１２
０℃で６０秒間乾燥し、透明低屈折率層２とした。

【００７５】次いで、この透明低屈折率層２上に、実施
例２と同様の方法により透明高屈折率層３を形成した。
その後、この透明高屈折率層３の上に、接着層４をグラ
ビア印刷法にて、膜厚が２μｍとなるように塗工し、反
射防止用転写材を得た。その後、この反射防止用転写材
をアクリル板の片面に転写し、特性評価を行った。

【００７６】（比較例４）膜厚３８μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ製：Ｆ−３９）上に、エ
ポキシメラミン樹脂系剥離剤を、グラビア印刷法にて１
μｍの厚さに塗布し、剥離性を有するシート２３を得
た。

【００７７】また、透明低屈折率層２形成用塗料を作製
した。ここでは、テトラエトキシシラン８．６７ｇを、
１規定の硝酸０．７９ｇ、純水７．５１ｇおよびエチル
アルコール８３．０３ｇを含有する混合液で加水分解さ
せ、ゲル・パーミェーション・クロマトグラフィ（ＧＰ
Ｃ）による測定で分子量が３５００になるように調製
し、その後、エチルアルコールで２ｗｔ％に希釈して塗
料とした。

【００７８】次いで、この塗料を、前記シート２３上に
グラビア印刷法にて塗布した。塗布膜の厚さは１００ｎ
ｍとし、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明低屈
折率層２とした。

【００７９】次いで、この透明低屈折率層２の上に透明
高屈折率層３を形成するために、超微粒子分散型の透明
高屈折率層３形成用塗料（塗布液）を作製した。ここで
は、テトラメトキシシラン４．１６ｇと、０．１規定の
硝酸０．０９ｇと、純水３．６ｇと、エチルアルコール
８．１５ｇを混合して加水分解反応を行った溶液に、酸
化チタン微粉末（テイカ社製：ＭＴ−１５０Ｗ 粒径１
５ｎｍ）１．５ｇと、プロピレングリコールモノエチル
エーテル１０ｇと、エチルアルコール７９．９ｇを混合
し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーで１０分
間分散させて均一化し、塗料とした。

【００８０】次いで、この塗料を、透明低屈折率層２の
上にグラビア印刷法にて、厚さが１２０ｎｍとなるよう
に塗工し、その後、１００℃で６０秒間乾燥し、透明高
屈折率層３とした。その後、この透明高屈折率層３の上
に、接着層４をグラビア印刷法にて、膜厚が５μｍとな
るように塗工し、反射防止用転写材を得た。その後、こ
の反射防止用転写材をアクリル板の片面に転写し、特性
評価を行った。

【００８１】実施例１〜３及び比較例１〜４の評価結果
を表１に示す。各特性の評価は、下記に示す日本工業規
格に準拠して行った。 全光線透過率 ：日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５ ヘイズ値 ：日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５ クロスカット試験 ：日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５４００ セロハンテープ試験：日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５４００ 鉛筆硬度 ：日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５４００ 上記のクロスカット試験の評価結果は、試験後に残った
膜の数／試験前の膜の数（１００枚）で表してある。

【００８２】

【表１】

【００８３】この表１によれば、実施例１〜３の反射防
止膜は、全光線透過率が高く、反射防止性能に優れ、ヘ
イズ値も０．１％であり、比較例１〜４に比べ透明性に
優れていることが分かる。また、クロスカット試験、セ
ロハンテープ試験、鉛筆硬度の各試験項目においても、
比較例１〜４に比べて非常に優れたものとなっており、
各層間の密着性が高く、耐久性、機械的強度が優れてい
ることが分かる。

【００８４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の反射防止
用転写材によれば、離型性を有するシート状の基体の一
主面に、シリコンアルコキシドの部分加水分解物を含む
透明低屈折率層、金属酸化物微粒子とシリコンアルコキ
シドの部分加水分解物を含む透明高屈折率層を順次形成
したので、対象物に反射防止用転写材を転写することに
より、この対象物の表面に反射防止性、外観性、耐久性
に優れた反射防止膜を形成することができる。しかも、
反射防止用転写材を転写する際には、シート状の基体を
剥離するだけでよいので、加工性に優れるとともに、製
造コストの低減、作業効率の向上を期待することがで
き、生産性の向上に対して極めて有用である。

【００８５】本発明の他の反射防止用転写材によれば、
シート状の基体の一主面に、剥離性を有する樹脂層を形
成し、この樹脂層の上に、シリコンアルコキシドの部分
加水分解物を含む透明低屈折率層、金属酸化物微粒子と
シリコンアルコキシドの部分加水分解物を含む透明高屈
折率層を順次形成したので、対象物に反射防止用転写材
を転写することにより、この対象物の表面に反射防止
性、外観性、耐久性に優れた反射防止膜を形成すること
ができる。しかも、反射防止用転写材を転写する際に
は、シート状の基体を剥離するだけでよいので、加工性
に優れるとともに、製造コストの低減、作業効率の向上
を期待することができ、生産性の向上に対して極めて有
用である。さらに、シート状の基体の一主面に剥離性を
有する樹脂層を形成することで、シート状の基体の離型
性が不十分なものであっても、このシート状の基体に十
分な離型性を付与することができ、シート状の基体の選
択性の幅を広げることができる。

【００８６】本発明の成形品によれば、成形体の表面に
本発明の反射防止用転写材を転写することにより、前記
成形体の表面に反射防止膜を形成したので、この成形品
の表面の反射防止膜の反射防止性能を高めることがで
き、外観性、耐久性に優れたものとすることができる。

【００８７】本発明の反射防止用転写材の製造方法によ
れば、離型性を有するシート状の基体の一主面に、シリ
コンアルコキシドの部分加水分解物を含有する透明低屈
折率層、シリコンアルコキシドの部分加水分解物と金属
酸化物を含有する透明高屈折率層を順次形成するので、
反射防止性、外観性、耐久性に優れた反射防止膜を有す
る反射防止用転写材を容易に製造することができる。

【００８８】本発明の他の反射防止用転写材の製造方法
によれば、シート状の基体の一主面に、剥離性を有する
樹脂層、シリコンアルコキシドの部分加水分解物を含有
する透明低屈折率層、シリコンアルコキシドの部分加水
分解物と金属酸化物を含有する透明高屈折率層を順次形
成するので、反射防止性、外観性、耐久性に優れた反射
防止膜を有する反射防止用転写材を容易に製造すること
ができる。また、離型性が不十分な材質のシート状の基
体を用いることができるので、シート状の基体の選択性
の幅を広げることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態の反射防止用転写
材を示す断面図である。

【図２】 本発明の第１の実施の形態の反射防止用転写
材の変形例を示す断面図である。

【図３】 本発明の第２の実施の形態の反射防止用転写
材を示す断面図である。

【図４】 本発明の第３の実施の形態の成形品を示す断
面図である。

【符号の説明】

１ 離型性を有するシート ２ 透明低屈折率層 ３ 透明高屈折率層 ４ 接着層 ５ 反射防止膜 １１ 透明中間屈折率層 １２ 反射防止膜 ２１ シート ２２ 剥離性を有する樹脂層 ２３ 剥離性を有するシート ３１ 成形体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正木 克彦 東京都千代田区六番町６番地28 住友大阪 セメント株式会社内 (72)発明者 井沢 一 東京都千代田区六番町６番地28 住友大阪 セメント株式会社内 (72)発明者 中村 祐三 京都府城陽市平川広田87−５ 中島工業株 式会社内 (72)発明者 山本 誠一 京都府城陽市平川広田87−５ 中島工業株 式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA06 AA07 BB02 BB11 BB14 CC03 CC09 CC42 DD01 DD02 DD06 4F100 AA17C AA19C AA21C AA27C AA28C AH06B AH06C AK01A AK42 AT00D BA03 BA04 BA10A BA10C BA10D CA23C CC00B DE01C EH46B EH46C JK06A JN01B JN01C JN18 JN18B JN18C

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 離型性を有するシート状の基体の一主面
   に、シリコンアルコキシドの部分加水分解物を含む第１
   の塗布液により透明低屈折率層が形成され、この透明低
   屈折率層の上に金属酸化物微粒子とシリコンアルコキシ
   ドの部分加水分解物を含む第２の塗布液により透明高屈
   折率層が形成され、この透明高屈折率層の上に接着層が
   形成され、 前記シリコンアルコキシドは、下記の一般式 Ｓｉ（ＯＲ¹）_mＲ² _n ………（１） （ただし、Ｒ¹、Ｒ²はアルキル基であり、ｍは１〜４の
   整数、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎ＝４であ
   る）で表される化合物であることを特徴とする反射防止
   用転写材。
2. 【請求項２】 シート状の基体の一主面に、剥離性を有
   する樹脂層が形成され、この樹脂層の上にシリコンアル
   コキシドの部分加水分解物を含む第１の塗布液により透
   明低屈折率層が形成され、この透明低屈折率層の上に金
   属酸化物微粒子とシリコンアルコキシドの部分加水分解
   物を含む第２の塗布液により透明高屈折率層が形成さ
   れ、この透明高屈折率層の上に接着層が形成され、 前記シリコンアルコキシドは、下記の一般式 Ｓｉ（ＯＲ¹）_mＲ² _n ………（１） （ただし、Ｒ¹、Ｒ²はアルキル基であり、ｍは１〜４の
   整数、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎ＝４であ
   る）で表される化合物であることを特徴とする反射防止
   用転写材。
3. 【請求項３】 前記シリコンアルコキシドの部分加水分
   解物の分子量は、１００〜３０００であることを特徴と
   する請求項１または２記載の反射防止用転写材。
4. 【請求項４】 前記シリコンアルコキシドは、Ｒ¹がメ
   チル基またはエチル基であり、Ｒ²が有機官能基である
   ことを特徴とする請求項１、２または３記載の反射防止
   用転写材。
5. 【請求項５】 前記金属酸化物は、酸化チタン、酸化ア
   ルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸
   化セリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化スズ、酸
   化ルテニウム、酸化インジウムから選択された少なくと
   も１種であることを特徴とする請求項１ないし４のいず
   れか１項記載の反射防止用転写材。
6. 【請求項６】 前記シリコンアルコキシドは、複数種の
   シリコンアルコキシドを含むことを特徴とする請求項１
   ないし５のいずれか１項記載の反射防止用転写材。
7. 【請求項７】 前記透明高屈折率層と前記接着層との間
   には、中間屈折率層が形成されていることを特徴とする
   請求項１ないし６のいずれか１項記載の反射防止用転写
   材。
8. 【請求項８】 成形体の表面に請求項１ないし７のいず
   れか１項記載の反射防止用転写材を転写することによ
   り、前記成形体の表面に反射防止膜が形成されたことを
   特徴とする成形品。
9. 【請求項９】 離型性を有するシート状の基体の一主面
   に、シリコンアルコキシドを触媒下で部分加水分解する
   ことにより得られたシリコンアルコキシドの部分加水分
   解物を含有する第１の塗布液を塗布することにより透明
   低屈折率層を形成し、この透明低屈折率層の上にシリコ
   ンアルコキシドを触媒下で部分加水分解することにより
   得られたシリコンアルコキシドの部分加水分解物と金属
   酸化物を含有する第２の塗布液を塗布することにより透
   明高屈折率層を形成し、この透明高屈折率層の上に接着
   層を形成することを特徴とする反射防止用転写材の製造
   方法。
10. 【請求項１０】 シート状の基体の一主面に、剥離性を
    有する樹脂層を形成し、この樹脂層の上にシリコンアル
    コキシドを触媒下で部分加水分解することにより得られ
    たシリコンアルコキシドの部分加水分解物を含有する第
    １の塗布液を塗布することにより透明低屈折率層を形成
    し、この透明低屈折率層の上にシリコンアルコキシドを
    触媒下で部分加水分解することにより得られたシリコン
    アルコキシドの部分加水分解物と金属酸化物を含有する
    第２の塗布液を塗布することにより透明高屈折率層を形
    成し、この透明高屈折率層の上に接着層を形成すること
    を特徴とする反射防止用転写材の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記触媒は酸性触媒であることを特徴
    とする請求項９または１０記載の反射防止用転写材の製
    造方法。
12. 【請求項１２】 前記シリコンアルコキシドの部分加水
    分解物の分子量は１００〜３０００であることを特徴と
    する請求項９、１０または１１記載の反射防止用転写材
    の製造方法。
13. 【請求項１３】 請求項１ないし７のいずれか１項記載
    の反射防止用転写材を射出成形金型内に挟み込み、前記
    反射防止用転写材の接着層側に溶融樹脂を射出すること
    により樹脂成形体を形成すると同時に、該樹脂成形体の
    表面に前記転写材を接着させ、その後、離型性を有する
    基体シートまたは剥離性を有する樹脂層を剥離すること
    を特徴とする成形品の製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項１ないし７のいずれか１項記載
    の反射防止用転写材の接着層側を樹脂成形体に重ね、基
    体シート上から熱圧をかけることにより樹脂成形体の表
    面に前記反射防止用転写材を接着させ、その後、離型性
    を有する基体シートまたは剥離性を有する樹脂層を剥離
    することを特徴とする成形品の製造方法。