JP2005096078A - 低反射層を有する転写材及びこれを用いた成型品の製造方法 - Google Patents

低反射層を有する転写材及びこれを用いた成型品の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】製品の成型と同時に機能層を転写することにより、製造工程の簡略化及び製造コストの抑制を図りながら、簡易かつ確実・強力に、成型品の表面に反射防止性、耐擦傷性、耐光性、帯電防止性、電磁波遮蔽性等の高機能及び多機能化を付与することができる低反射層を有する転写材、これを用いた成型品の製造方法を提供することを目的とする。
【手段】離型性を有する基体シート上に、透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されてなる低反射層を有する転写材及びこの低反射層を有する転写材を射出成型金型内に挟み込み、接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成型品を形成するのと同時に、該樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させ、その後離型性を有する基体シートを剥離することからなる低反射層を有する成型品の製造方法。
【選択図】 なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は低反射層を有する転写材及びこれを用いた成型品の製造方法に関し、より詳細には、表面反射防止性に優れた低反射層を有する転写材、これを用いた成型品の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年、プラスチック成型技術の進歩に伴い、成型品の多様化が進められるなかで、これらのプラスチック成型品には、より一層の高品質化が要求されている。例えば、プラスチック成型品の表面に絵付けを施すことにより、プラスチック成型品の高級意匠化を図る方法がある。絵付け方法としては、熱転写法、水転写法、スクリーン印刷法、パッド印刷法等の成型後に行う方法、インサート成型法等の成型と同時に行う方法がある（例えば、特開平６−２４７０５８号公報、合成樹脂、ＶＯＬ．３７、Ｎｏ．５（１９９１．５．）等）。
【０００３】
また、プラスチック成型品の用途によっては、耐擦傷性、帯電防止、ハードコート、反射防止等の各機能を必要とするものがある。これらの要求に対しては、上記各機能を有する層を成型品の上に順次接着させる方法等が提案されている（例えば、特開平７−１４８８８１号公報、特開平１０−２３５７７０号公報、特開平１１−３２６６０２号公報等）。
【０００４】
しかし、成型品の表面に絵付けを施したり、各機能層を形成する方法では、各工程自体が煩雑で、生産効率が悪くなるとともに、製造コストが増大して安価な最終製品を得ることができない。また、製品の成型後に各機能層を接着させる場合には、成型品の３次元の曲面や微細な凹凸を有する面への絵付けや各機能層の強力な接着が困難であり、各層のはがれ等の物理的な損傷が生じやすくなる。
一方、製品の成型と同時に絵付けを行う方法では、製造工程を簡略化することができるが、各機能をさらに付与するためには、やはり絵付けした成型品の表面に、別途各機能層を接着させざるを得ず、製造コストの低減及び各機能層の物理的な損傷を防止するには至っていないのが現状である。
【０００５】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、製品の成型と同時に機能層を転写することにより、製造工程の簡略化及び製造コストの抑制を図りながら、簡易かつ確実・強力に、成型品の表面に反射防止性、耐擦傷性、耐光性、帯電防止性、電磁波遮蔽性等の高機能及び多機能化を付与することができる低反射層を有する転写材、これを用いた成型品の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、離型性を有する基体シート上に透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されてなる低反射層を有する転写材が提供される。
また、本発明によれば、上記転写材を射出成型金型内に挟み込み、接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成型品を形成するのと同時に、該樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させ、その後離型性を有する基体シートを剥離するか、あるいは、上記転写材の接着層側を樹脂成型品に重ね、基体シート上から熱圧をかけることにより樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させ、その後離型性を有する基体シートを剥離することからなる低反射層を有する成型品の製造方法が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の低反射層を有する転写材（以下、単に「転写材」と記す）は、主として、剥離性を有する基体シート上に、透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されて構成される。
【０００８】
本発明に用いることができる基体シートの材料は特に限定されるものではないが、変形又は屈曲可能なプラスチックによるフィルムが適当である。例えば、ポリエステル、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の延伸又は未延伸の透明プラスチックフィルム等が挙げられる。基体シートの厚みは特に限定されるものではなく、例えば、３〜５００μｍ程度が挙げられる。
上記の基体シート自体は、後述する透明低反射層を基体シートから剥離した際に基体シート側に透明低反射層が全く移らないような離型性を有しているか、付与されたもの（例えば、ワックス類、高級脂肪酸の塩又はエステル類、フッ化アルキル化化合物、ポリビニルアルコール、低分子量ポリエチレン等の離型剤が添加される等）であれば、離型性を有する基体シートとして使用することができる。
【０００９】
また、上記基体シートが、透明低反射層に対して、十分な離型性を有しないものであれば、基体シート上であって、透明低反射層との間に、離型層を形成することが適当である。
離型層は、例えば、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシメラミン系樹脂、アミノアルキッド系樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、オレフィン系樹脂又はこれらの複合型樹脂等により形成することができる。
離型層は、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、スプレーコート法、リップコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法、押出しコート法、スクリーンコート法等のそれ自体公知の方法により、上記材料を基体シート上に塗布し、乾燥して形成することができる。この場合の離型層の厚みは、例えば、０．１〜１０μｍ程度が挙げられる。
【００１０】
透明低反射層は、被転写物（例えば、樹脂成型品等）、後述する保護層及び／又は接着層等の屈折率を低減させることができる層、例えば、入射光の２０％程度以下、好ましくは１０％程度以下、さらに好ましくは５％程度以下に反射光を抑える機能を有する層であれば、どのような材料から構成されていてもよい。このような機能を付与するためには、例えば、表面に微細な凹凸を有した層とする方法、所定の屈折率を有する層とする方法、２以上の異なる屈折率を有する膜の積層構造とする方法等種々の方法が挙げられる。この場合の屈折率としては、例えば、１．２〜２．０程度、好ましくは１．３〜１．９程度の範囲が挙げられる。特に、透明低反射層が１層で形成される場合には、１．３〜１．５程度の屈折率を有することが好ましい。また、２種の異なる屈折率を有する積層構造である場合には、その屈折率の組み合わせは特に限定されるものではないが、例えば、一方の層が１．３〜１．５程度の屈折率、他方の層が１．６〜１．９の屈折率を有するように形成されていることが好ましい。この場合、低屈折率の層が離型性を有する基体シートに接触するように、言い換えると、後に本発明の転写材が成型品に転写された場合に最表面に配置するように積層されることが好ましい。
【００１１】
屈折率が低い（例えば、屈折率が１．５程度以下）層は、単層で形成されても、屈折率が異なる層とともに積層構造で形成されていても、例えば、フルオロオレフィン系共重合体、含フッ素脂肪族環構造を有するポリマー、パーフルオロアルキルエーテル系コポリマー、含フッ素メタクリレートポリマーの１種又は２種以上の混合物等により形成することができる。
【００１２】
屈折率が高い（例えば、屈折率が１．５程度以上）層は、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルナフタレン、ポリビニルカルバゾール等の１種又は２種以上の混合物等により形成することができる。
透明低反射層の厚みは、例えば、０．０１〜０．５μｍ程度が挙げられる。なかでも、所定の屈折率を有する単層の低反射層の場合には、０．０５〜０．２μｍ程度、好ましくは０．０８〜０．１２μｍ程度、２種の異なる屈折率を有する膜の積層構造で形成されている場合には、低／高屈折率層の厚みはいずれも、例えば、０．０５〜０．２μｍ程度、好ましくは０．０８〜０．１２μｍ程度が挙げられる。なお、低屈折率層と高屈折率層との厚みは必ずしも同じでなくてもよい。
【００１３】
透明低反射層は、離型層と同様に、それ自体公知の方法で形成することができる。
保護層は、被転写物、後述する接着層、絵柄層等を擦傷、湿度、酸素、光等から保護する機能を有しているものであれば、どのような層であってもよい。保護層を形成する材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、透明樹脂層が挙げられる。保護層は、透明低反射層の上に、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、スプレーコート法、リップコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法、押出しコート法、スクリーンコート法等のそれ自体公知の方法により塗布し、乾燥して形成することができる。この場合の厚みは、例えば、１〜５０μｍ程度が挙げられる。
【００１４】
本発明においては、保護層は、ハードコート機能を有しているものが好ましく、ハードコート機能に加えてさらに帯電防止機能、電磁波遮蔽機能及び耐光性機能のうちの少なくとも１つ以上を有しているものがより好ましい。
「ハードコート機能」とは、被転写物等にそれよりも高硬度を付与し得るものであればよく、例えば、ＪＩＳ−Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験で２Ｈ以上の硬度を付与しうるもの、スチールウール摩耗において＃０００スチールウールに３００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ、可動距離２ｃｍ、２往復／秒で５０往復後の表面に傷がつかない機能を付与しうるもの又はテーバー摩耗においてＣＳ−１０Ｆ輪で荷重５００ｇで１００回転後、ΔＨが１０以下となる機能を付与しうるもの等が挙げられる。
【００１５】
ハードコート機能は、保護層を、紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等により形成することにより付与することができる。
活性エネルギー線照射硬化型樹脂としては、例えば、塗膜形成要素である重合性二重結合を有するオリゴマー又はプレポリマーに反応性希釈剤を加え、任意に（紫外線硬化型樹脂の場合）光重合開始剤を加えたものを用いることができる。重合性二重結合を有するオリゴマー又はプレポリマーとしては、ポリエステル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエーテル系、アクリル系等が挙げられる。これらは１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１６】
反応性希釈剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレート、エタントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等のビニル化合物等が挙げられる。これらは１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１７】
光開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、イソブチルベンゾインエーテル等のベンゾインエーテル系、ベンジルジメチルケタール等のベンジルケタール系、ベンゾフェノン等のケトン系等が用いられる。これらは1種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
熱硬化型樹脂としては、多官能アクリルオリゴマー系、シリカゾル系、ウレタン系、エポキシ系、メラミン系及びこれらの複合系等が挙げられる。
【００１８】
「帯電防止機能」とは、例えば、保護層自体が、１０9〜１０12Ω・ｃｍ2程度の抵抗率を有しているものが挙げられる。保護層に帯電防止機能を付与する方法としては、例えば、保護層を構成する材料に、界面活性剤、導電性フィラー及び／又は導電性ポリマー等を1種又は２種以上組み合わせて添加する方法が挙げられる。これらの物質は、保護層の総重量に対して、例えば、界面活性剤、導電性ポリマーの場合には５〜５０重量％程度、導電性フィラーの場合には１００〜４００重量％程度の範囲で適宜増減して添加することが適当である。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、イオン系、非イオン系のいずれもの界面活性剤が挙げられる。なかでも、カチオン界面活性剤が多く利用される。
【００１９】
導電性フィラーとしては、カーボンブラック、銅、ニッケル、銀、鉄又はこれらの複合粉等の金属粉；酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタン等の金属酸化物粉等が挙げられる。
導電性ポリマーとしては、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン等が挙げられる。
「電磁波遮蔽機能」とは、例えば、シールド力６０ｄＢ程度以上の機能を有することが挙げられる。保護層に電磁波遮蔽機能を付与する方法としては、例えば、導電性フィラー又は磁性フィラーを添加する方法が挙げられる。これらの物質は、保護層の総重量に対して、例えば、１００〜４００重量％程度の範囲で適宜増減して添加することが適当である。
【００２０】
導電性フィラーは上記と同様のものが挙げられ、磁性フィラーとしてはグラファイト、カーボン、鉄等が挙げられる。
「耐光性機能」とは、室内又は車内の場合はフェードメータ試験１００〜４００時間程度の後、屋外の場合はウェザーメータ試験８００〜１０００時間程度の後に、被転写物に変化が認められないことが挙げられる。保護層に耐光性機能を付与する方法としては、保護層に、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止安定剤等を添加する方法が挙げられる。これらの物質は、保護層の総重量に対して、例えば、５〜２０重量％程度の範囲で適宜増減して添加することが適当である。
【００２１】
紫外線吸収剤としては、例えば、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系、ヒドロキシフェニル−Ｓ−トリアジン等のトリアジン系等が挙げられる。
酸化防止安定剤としては、例えば、ハルスといわれるヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。
なお、保護層に、上記４機能のうち、２、３又は４機能を同時に付与する場合においても、上記の範囲内で、各機能を付与しうる物質を添加するのみでよい。
【００２２】
接着層としては、例えば、アクリル系樹脂、塩素化オレフィン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、マレイン酸系樹脂、塩化ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、クマロンインデン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。接着層の厚みは、例えば０．１〜１０μｍ程度が挙げられる。接着層の形成は、離型層と同様に、それ自体公知の方法により形成することができる。
【００２３】
本発明においては、保護層と接着層との間に絵柄層が形成されていてもよい。絵柄層は、文字、模様等のいわゆる絵柄を、公知の顔料や染料等の着色材を含んだ各種印刷インキにて形成された層を意味する。絵柄層は、保護層と接着層をの間に均一に形成されている必要はなく、絵柄、色彩等に応じて、例えば、０〜５０μｍ程度の範囲の厚みで形成することができる。
【００２４】
なお、本発明においては、基体シートと透明低反射層との間、透明低反射層と保護層との間及び／又は保護層と絵柄層との間にアンカー層が形成されていてもよい。アンカー層は、一種の接着剤層を意味し、例えば、ウレタン系、チタネート系、イソシアネート系、ポリエチレンイミン系等の接着剤により形成することができる。アンカー層の厚みは、例えば０．１〜５μｍ程度が挙げられる。
【００２５】
また、本発明の成型品の製造方法によれば、上記転写材を、射出成型金型内に挟み込み、接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成型品を形成する。これにより、成型品の表面に転写材を接着させることができ、その後離型性を有する基体シートを剥離することにより、成型品表面に、低反射機能と保護機能（ハードコート、帯電防止、電磁波遮蔽及び／又は耐光性機能等）とを付与することができる。
【００２６】
ここで、成型品としては、特に限定されるものではないが、例えば、ワープロ、コンピュータ、テレビ、ディスプレイパネル、携帯電話等の各種のディスプレイ、液晶表示装置等に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度つきめがねレンズ、カメラのファインダーレンズ等の光学レンズ、各種計器の表示部、自動車、電車等の窓ガラス等が挙げられる。なお、これらの成型品は、樹脂以外の材料、例えば、ガラス等により形成されている場合であっても樹脂と同様の効果を発揮することができる。
【００２７】
溶融樹脂としては、上記偏光板の表面、光学レンズ、各種計器の表示部、自動車、電車等の窓ガラス等を構成し得るものであれば、その材料は特に限定されるものではなく、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂（ＡＢＳ、ＡＳ、ポリフェニレンオキシドスチレン共重合体等）、ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネート樹脂等の溶融状態のものが挙げられる。
【００２８】
なお、射出成型金型は、樹脂成型品を製造する際に、通常使用されるものであれば、どのようなものでも利用することができる。
また、本発明の別の成型品の製造方法によれば、上記転写材の接着層側を成型品に重ね、基体シート上から熱圧をかけることにより成型品の表面に転写材を接着させることができ、その後離型性を有する基体シートを剥離することにより、成型品表面に、低反射機能と保護機能（ハードコート、帯電防止、電磁波遮蔽及び／又は耐光性機能等）とを付与することができる。
例えば、基体シート上からの熱圧は、例えば、シリコンゴムロールを用いて行うことができる。この場合、シリコンゴムロール表面は１５０〜２５０℃程度の温度、５〜２０ｋｇ／ｃｍ2程度の圧力が適当である。
以下に、本発明の低反射層を有する転写材、これを用いた成型品の製造方法について説明する。
【００２９】
実施例１
膜厚３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レＦ−３９）上に、エポキシメラミン樹脂系離型剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚さに塗布して、離型性を有する基体シートを得た。
この基体シートの上に、屈折率１．３４の非晶質透明フッ素系樹脂（旭硝子株式会社製、サイトップＣＴＸ−８０７ＡＰ）を用いて低反射層を、グラビアコート法にて塗布した。低反射層の厚さは０．１μｍとし、その後、１００℃、６０秒間、乾燥して透明低反射層を形成した。
【００３０】
透明低反射層上に、保護層として、下記配合のＵＶ樹脂を、厚さ５μｍで塗布した。
・ウレタンアクリレート系オリゴマー（荒川化学社製ビームセット５７５ＣＢ）１５重量％、
・ウレタンアクリレート系ポリマー（荒川化学社製ビームセットＮＫ−３）３０重量％、
・光開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４）４重量％、
・反応型紫外線吸収剤（大塚化学社製ＲＵＶＡ−２０６）６重量％、
・メチルエチルケトン２５重量％、
・アノン２０重量％
続いて、１５０℃、２０秒間、溶剤乾燥を行い、その後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、ハードコート及び耐光性機能を有する保護層を形成した。保護層の上に、絵柄層としてアクリル系インキにより所定の柄を、さらにその上に、接着剤層としてアクリル系樹脂層をグラビアコート法によって、順次印刷形成して、転写材を形成した。
【００３１】
実施例２
実施例１で得られた透明低反射層を有する転写材を、射出成型金型に挟み込み、この金型を５５℃に加熱した。成型同時転写法を利用して、２４０℃程度の温度で溶融させたアクリル樹脂（三菱レーヨン社製、アクリペットＶＨ）を、樹脂圧力３００ｋｇ／ｃｍ2にて、金型に注入し、放冷した。
その後、基体シートをはがすことにより、表面に低反射層を有し、ハードコート及び耐光性機能を有する携帯電話用のディスプレイカバーを得た。
【００３２】
実施例３
膜厚３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂Ｄ−１２０Ｅ）上に、エポキシメラミン樹脂系離型剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚さに塗布して、離型性を有する基体シートを得た。
この基体シートの上に、屈折率１．４１の透明フッ素系樹脂（ＪＳＲ株式会社製オプスタ−ＪＮ７２１５）からなる低屈折率層をグラビアコート法にて厚さ０．０９μｍで形成し、１４０℃、６０秒間、乾燥した。
この上に、屈折率１．６８のアクリル樹脂（ＪＳＲ株式会社製オプスタ−ＪＮ７１０２）からなる高屈折率層をグラビアコート法にて厚さ０．１２μｍで形成し、１４０℃、６０秒間、乾燥した。
【００３３】
さらにこの上に、ハードコート機能と帯電防止機能とを併せもつ保護層を、グラビアコート法にて形成した。
保護層は、下記配合のＵＶ樹脂を、厚さ５μｍで塗布した。
・ウレタンアクリレート系オリゴマー（荒川化学社製ビームセット５７５ＣＢ）４重量％、
・ウレタンアクリレート系ポリマー（荒川化学社製ビームセットＮＫ−３）８重量％、
・光開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４）０．４重量％、
・溶媒分散型酸化錫系導電フィラー（石原テック社製ＳＮ−１００Ｐ）７０重量％、
・メチルエチルケトン９．６重量％、
・アノン８重量％
続いて、１５０℃、２０秒間、溶剤乾燥を行い、その後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ2で照射し、保護層を形成した。
保護層の上に、絵柄層としてアクリル系インキにより所定の柄を、さらにその上に、接着剤層としてアクリル系樹脂層をグラビアコート法によって、順次印刷形成して、転写材を形成した。
【００３４】
実施例４
実施例２で得られた透明低反射層を有する転写材を、射出成型金型に挟み込み、この金型を５５℃に加熱した。成型同時転写法を利用して、２４０℃程度の温度で溶融させたアクリル樹脂（三菱レーヨン社製、アクリペットＶＨ）を、樹脂圧力３００ｋｇ／ｃｍ2にて、金型に注入し、放冷した。
その後、基体シートをはがすことにより、表面に低反射層を有し、ハードコート及び帯電防止機能を有する携帯電話用のディスプレイカバーを得た。
【００３５】
実施例５
膜厚３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レＦ−３９）上に、エポキシメラミン樹脂系離型剤を、グラビア印刷法にて１μｍの厚さに塗布して、離型性を有する基体シートを得た。
この基体シートの上に、屈折率１．４１の透明フッ素系樹脂（ＪＳＲ株式会社製オプスタ−ＪＭ５０１０）からなる低屈折率層をグラビアコート法にて厚さ０．１μｍで形成し、１４０℃、６０秒間、乾燥した。溶媒乾燥後、窒素パージをしながら紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ2で照射した。
この上に、屈折率１．６８のアクリル樹脂（ＪＳＲ株式会社製オプスタ−ＪＮ７１０２）からなる高屈折率層をグラビアコート法にて厚さ０．１２μｍで形成し、１４０℃、６０秒間、乾燥した。
【００３６】
さらにこの上に、ハードコート機能と電磁遮蔽機能とを併せもつ保護層を、グラビアコート法にて形成した。
保護層は、下記配合のＵＶ樹脂を、厚さ５μｍで塗布した。
・アクリレート系ＵＶ樹脂（中国塗料製オーレックスＮｏ．３４０）３０重量％、
・光開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４）４重量％、
・導電性フィラー（三井金属社製パストラン）２６重量％、
・メチルエチルケトン２０重量％、
・アノン３０重量％
続いて、１５０℃、２０秒間、溶剤乾燥を行い、その後、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ2で照射し、保護層を形成した。
保護層の上に、絵柄層としてアクリル系インキにより所定の柄を、さらにその上に、接着剤層としてアクリル系樹脂層をグラビアコート法によって、順次印刷形成して、転写材を形成した。
【００３７】
実施例６
実施例５で得られた透明低反射層を有する転写材を、射出成型金型に挟み込み、この金型を５５℃に加熱した。成型同時転写法を利用して、２４０℃程度の温度で溶融させたアクリル樹脂（三菱レーヨン社製、アクリペットＶＨ）を、樹脂圧力３００ｋｇ／ｃｍ2にて、金型に注入し、放冷した。
その後、基体シートをはがすことにより、表面に低反射層を有し、ハードコート及び電磁遮蔽機能を有する携帯電話用のディスプレイカバーを得た。
【００３８】
実施例７
実施例２、４及び６で得られた透明低反射層を有する転写材の接着層に、射出成型によってアクリル樹脂（三菱レーヨン社製、アクリペットＶＨ）で形成された成型品を重ね合わせ、基体シート側から硬度８０度のシリコンラバーのロールで加熱及び加圧して、転写材を成型品に接着させた。加熱条件は、シリコンラバーの表面温度が２３０℃であり、加圧は１０ｋｇ／ｃｍ2とした。
その後、基体シートをはがすことにより、表面に低反射層を有し、ハードコート機能と、耐光性機能、帯電防止機能又は電磁波遮蔽機能とを有する携帯電話用のディスプレイカバーを得た。
【００３９】
上記実施例で得られた成型品は、いずれも、表面が低反射性を有していた。また、ハードコート機能を有する層と、耐光性機能、帯電防止機能又は電磁波遮蔽機能を有する層とを別々の層で形成したものよりも、各機能を有効に発揮させることができた。
さらに、得られた成型品は、いずれも、耐擦傷性に優れ、各層のはがれ等の物理的な損傷はほとんど生じなかった。
【００４０】
【発明の効果】
本発明によれば、離型性を有する基体シート上に、透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されてなるため、低反射機能と保護機能との多機能を有する転写材を提供することができる。
【００４１】
特に、透明低反射層が有機ポリマーからなり、屈折率が１．３〜１．５、膜厚が０．０８〜０．１２μｍである場合、あるいは透明低反射層が有機ポリマーからなり、屈折率が異なる２層から構成され、一方の層の屈折率が１．３〜１．５、他方の層の屈折率が１．６〜１．９、各層の膜厚が０．０８〜０．１２μｍであり、屈折率が低い層が離型性を有する基体シートに接触するように積層されてなる場合には、より低反射機能を付与することができる。
【００４２】
また、保護層が、ハードコート機能を有する場合、さらに、帯電防止機能、電磁波遮蔽機能及び耐光性機能のうちの少なくとも１つ以上を有する場合には、多層構造となることなく、多機能を有することができ、物理的なはがれ等を防止することができるとともに、各機能層を有する層を、最終的により外周に配置させることができるため、より一層各機能を確実に発揮させることができる。
【００４３】
さらに、保護層と接着層との間に絵柄層が設けられてなる場合には、高級意匠化という付加価値をより一層向上させることができる。
【００４４】
また、低反射層を有する転写材を射出成型金型内に挟み込み、接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成型品を形成するのと同時に、該樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させるか、あるいは低反射層を有する転写材の接着層側を樹脂成型品に重ね、基体シート上から熱圧をかけることにより樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させて、その後離型性を有する基体シートを剥離する場合には、成型品の表面に反射防止機能と、保護機能（例えば、耐擦傷性、耐光性、帯電防止性、電磁遮蔽性等）等の高機能及び多機能化を、簡易に、かつ強力に付与することができ、製造工程の簡略化、製造コストの低減を実現し、ひいては成型品の付加価値を向上させながら、価格の低減を図ることができる。

Claims (8)

  1. 離型性を有する基体シート上に、透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されてなることを特徴とする低反射層を有する転写材。
  2. 透明低反射層が、有機ポリマーからなり、屈折率が１．３〜１．５、膜厚が０．０８〜０．１２μｍである請求項１に記載の低反射層を有する転写材。
  3. 透明低反射層が、有機ポリマーからなり、屈折率が異なる２層から構成され、一方の層の屈折率が１．３〜１．５、他方の層の屈折率が１．６〜１．９、各層の膜厚が０．０８〜０．１２μｍであり、屈折率が低い層が離型性を有する基体シートに接触するように積層されてなる請求項１に記載の低反射層を有する転写材。
  4. 保護層が、ハードコート機能を有する請求項１〜３のいずれか１つに記載の低反射層を有する転写材。
  5. 保護層が、さらに帯電防止機能、電磁波遮蔽機能及び耐光性機能のうちの少なくとも１つ以上を有する請求項４に記載の低反射層を有する転写材。
  6. 保護層と接着層との間に絵柄層が設けられてなる請求項１〜５のいずれか１つに記載の低反射層を有する転写材。
  7. 請求項１〜６のいずれか１つに記載の低反射層を有する転写材を射出成型金型内に挟み込み、接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成型品を形成するのと同時に、該樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させ、その後離型性を有する基体シートを剥離することからなる低反射層を有する成型品の製造方法。
  8. 請求項１〜６のいずれか１つに記載の低反射層を有する転写材の接着層側を樹脂成型品に重ね、基体シート上から熱圧をかけることにより樹脂成型品の表面に前記転写材を接着させ、その後離型性を有する基体シートを剥離することからなる低反射層を有する成型品の製造方法。
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